JP2000040809A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置、特に
ゲートアレイなどのセミカスタムLSIの不正な回路コ
ピーを防止することが可能な半導体装置に関するもので
ある。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device capable of preventing an illegal circuit copy of a semi-custom LSI such as a gate array.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の半導体装置では、チップ上に配置
された複数のトランジスタ間を配線することにより回路
を構成しているが、特に回路コピーが容易なゲートアレ
イの場合について説明する。従来のゲートアレイの基本
セルの回路およびレイアウトパターンの一例を図9,図
10に示す。2. Description of the Related Art In a conventional semiconductor device, a circuit is formed by wiring a plurality of transistors arranged on a chip. A case of a gate array, which can easily copy a circuit, will be described. FIGS. 9 and 10 show an example of a circuit and a layout pattern of a basic cell of a conventional gate array.
【0003】図9において、N1,N2はN型MOSト
ランジスタ(以下N型トランジスタと記す。)、P1,
P2はP型MOSトランジスタ(以下P型トランジスタ
と記す。)である。図10において、N+はN型トラン
ジスタN1,N2のソース,ドレインを形成するN+拡
散領域、P+はP型トランジスタP1,P2のソース,
ドレインを形成するP+拡散領域、PLYは各トランジ
スタのゲートを形成するポリシリコンである。この基本
セルはN型トランジスタN1,N2およびP型トランジ
スタP1,P2によって構成され、図9の回路図の○印
が基本セルから配線引き出し可能な端子であり、アレイ
状に配置された基本セルの端子間を配線することによっ
て希望する回路を構成する。In FIG. 9, N1 and N2 are N-type MOS transistors (hereinafter referred to as N-type transistors), P1 and P1.
P2 is a P-type MOS transistor (hereinafter referred to as a P-type transistor). In FIG. 10, N + is an N + diffusion region forming sources and drains of N-type transistors N1 and N2, P + is a source of P-type transistors P1 and P2,
The P + diffusion region forming the drain and PLY are polysilicon forming the gate of each transistor. This basic cell is composed of N-type transistors N1 and N2 and P-type transistors P1 and P2. In the circuit diagram of FIG. 9, the circles indicate terminals that can be drawn out of the basic cell. A desired circuit is formed by wiring between terminals.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の半
導体装置では、第3者が実チップのレイアウトパターン
よりトランジスタの構造やトランジスタ間の配線を解析
することにより、回路をコピーすることが可能である。
特に従来のゲートアレイでは、アレイ状に規則的に配置
された基本セルと配線によって回路が構成されており、
レイアウトパターンが非常に単純であるため、第3者が
実チップのレイアウトパターンより基本セルの構造や基
本セル間の配線を解析することにより、ゲートアレイに
搭載された回路を容易にコピーすることが可能であると
いう問題点を有していた。However, in the conventional semiconductor device, it is possible for a third party to copy a circuit by analyzing the structure of the transistor and the wiring between the transistors based on the layout pattern of the actual chip.
In particular, in a conventional gate array, a circuit is configured by basic cells and wiring arranged regularly in an array,
Since the layout pattern is very simple, a third party can easily copy the circuit mounted on the gate array by analyzing the structure of the basic cell and the wiring between the basic cells from the layout pattern of the actual chip. There was a problem that it was possible.
【0005】本発明は以上の点に鑑み、不正な回路コピ
ーが困難な半導体装置を提供することを目的としてい
る。[0005] In view of the above, it is an object of the present invention to provide a semiconductor device in which illegal circuit copying is difficult.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は以上の課題を解
決するため、論理回路を構成するトランジスタにおい
て、常時オン型および常時オフ型トランジスタを組み込
んだ、実チップの見かけ上のレイアウトパターンと論理
動作が異なるダミー回路を有することを特徴とした半導
体装置である。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an apparent layout pattern and logic of a real chip in which a transistor constituting a logic circuit incorporates always-on and always-off transistors. A semiconductor device including a dummy circuit that operates differently.
【0007】[0007]
【作用】本発明の半導体装置では、常時オン型および常
時オフ型トランジスタを組み込んだダミー回路を混在さ
せることにより、実チップのレイアウトパターンより解
析される回路は、本来の回路と論理動作が異なり正常に
動作しないため、不正な回路コピーを防止することがで
きる。また常時オン型および常時オフ型トランジスタ
は、不純物濃度などのプロセスパラメータが異なるが、
通常のトランジスタと形成方法が同一のため、実チップ
のレイアウトパターンより常時オン型,常時オフ型トラ
ンジスタを判別してダミー回路を判別することは困難で
ある。In the semiconductor device of the present invention, the circuit analyzed from the layout pattern of the actual chip differs from the original circuit in the logical operation by mixing the dummy circuits incorporating the always-on and always-off transistors. In this case, illegal circuit copying can be prevented. The always-on and always-off transistors have different process parameters such as impurity concentration.
Since the formation method is the same as that of a normal transistor, it is difficult to determine the always-on type and always-off type transistor from the layout pattern of the actual chip to determine the dummy circuit.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図1,図2を用
いて説明する。図1,図2はゲートアレイにおいてダミ
ー回路を構成するダミー回路用基本セルの回路およびレ
イアウトパターンの一例を示すものである。図1におい
て、N1,N2はN型トランジスタ、P1,P2はP型
トランジスタであり、破線で囲んだトランジスタN1,
P1はしきい値電圧が通常と異なり常時オン型または常
時オフ型となるトランジスタである。このダミー回路用
基本セルを1ないし複数個用い、各セルのトランジスタ
間を回路に応じて配線することにより、ダミー回路を構
成することができる。またダミー回路用基本セルと通常
の基本セルを併用してダミー回路を構成することもでき
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 and FIG. 2 show an example of a circuit and layout pattern of a dummy circuit basic cell constituting a dummy circuit in a gate array. In FIG. 1, N1 and N2 are N-type transistors and P1 and P2 are P-type transistors.
P1 is a transistor whose threshold voltage is always on or off, which is different from normal. A dummy circuit can be formed by using one or more dummy circuit basic cells and wiring the transistors of each cell according to the circuit. Further, a dummy circuit can be formed by using a dummy circuit basic cell and a normal basic cell together.
【0009】図2において、N1+,N2+はN型トラ
ンジスタN1,N2のソース,ドレインを形成するN+
拡散領域、P1+,P2+はP型トランジスタP1,P
2のソース,ドレインを形成するP+拡散領域、PLY
は各トランジスタのゲートを形成するポリシリコンであ
る。破線で示したN1+,P1+は通常と不純物濃度が
異なるN+,P+拡散領域であり、しきい値電圧が通常
と異なり、常時オン型または常時オフ型となるトランジ
スタN1,P1を形成しており、N2+,P2+は通常
のトランジスタN2,P2を形成するN+,P+拡散領
域である。また通常の基本セルでは拡散領域N1+,P
1+はN2+,P2+と同じ、通常の拡散領域として形
成される。常時オン型または常時オフ型トランジスタの
拡散領域N1+,P1+は、不純物濃度が異なるが、通
常の拡散領域と形成方法が同一のため、実チップのレイ
アウトパターンよりN1+,P1+が通常と不純物濃度
が異なる拡散領域であることを判別することは困難であ
る。従って実チップのレイアウトパターンより常時オン
型,常時オフ型トランジスタを判別して、通常の基本セ
ルとダミー回路用基本セルを判別することは困難であ
る。In FIG. 2, N1 + and N2 + are N + forming sources and drains of N-type transistors N1 and N2.
The diffusion regions P1 + and P2 + are P-type transistors P1 and P2.
P + diffusion region forming the source and drain of P2, PLY
Is polysilicon forming the gate of each transistor. N1 + and P1 + indicated by broken lines are N + and P + diffusion regions having different impurity concentrations from those of the normal region, and form transistors N1 and P1 that have a threshold voltage different from the normal and are always on or always off. N2 + and P2 + are N + and P + diffusion regions forming normal transistors N2 and P2. In a normal basic cell, diffusion regions N1 +, P
1+ is the same as N2 + and P2 +, and is formed as a normal diffusion region. The diffusion regions N1 + and P1 + of the always-on or always-off transistor have different impurity concentrations, but since the formation method is the same as that of a normal diffusion region, N1 + and P1 + have different impurity concentrations from the normal layout pattern of the actual chip. It is difficult to determine that the region is a diffusion region. Therefore, it is difficult to distinguish between the always-on type transistor and the always-off type transistor based on the layout pattern of the real chip to determine the normal basic cell and the dummy circuit basic cell.
【0010】また、図2ではN+拡散領域N1+とN2
+およびP+拡散領域P1+とP2+を分離した領域と
して形成しているが、図3に示すようにN1+とN2+
およびP1+とP2+を連続した領域として形成すれ
ば、実チップの見かけ上のレイアウトパターンを従来例
で示した図10と同様なパターンとすることもできる。
この場合、ダミー回路用基本セルの回路は、N型トラン
ジスタN1とN2およびP型トランジスタP1とP2の
ソースないしドレインが接続された、図9と同様な回路
となる。In FIG. 2, N + diffusion regions N1 + and N2 +
+ And P + diffusion regions P1 + and P2 + are formed as separate regions, but as shown in FIG. 3, N1 + and N2 +
If P1 + and P2 + are formed as continuous regions, the apparent layout pattern of the actual chip can be the same as that shown in FIG. 10 shown in the conventional example.
In this case, the circuit of the dummy circuit basic cell is a circuit similar to that of FIG. 9 in which the sources or drains of the N-type transistors N1 and N2 and the P-type transistors P1 and P2 are connected.
【0011】ダミー回路用基本セルにおける常時オン
型,常時オフ型トランジスタの配置パターンは、図1,
図2で示した例に限らず任意であり、各トランジスタに
ついて常時オン型,常時オフ型または通常のトランジス
タのいずれかのタイプを選択してダミー回路用基本セル
を構成することができる。例えば図2の拡散領域N2
+,P2+も通常と不純物濃度の異なる拡散領域とし、
トランジスタN1,N2は常時オン型、トランジスタP
1,P2は常時オフ型としてダミー回路用基本セルを構
成することもできる。なお、このようにトランジスタN
1とN2およびP1とP2を同一タイプのトランジスタ
で構成すれば、拡散領域N1+とN2+および拡散領域
P1+とP2+は同じ不純物濃度を持つ拡散領域とな
り、図3に示したように連続的に拡散領域を形成する場
合、連続した一つの拡散領域として形成することがで
き、拡散領域の形成が容易となる。また図1,図2の4
個のトランジスタのうち、1個ないし3個のトランジス
タを常時オン型または常時オフ型トランジスタとして、
ダミー回路用基本セルを構成することもできる。The arrangement pattern of always-on and always-off transistors in the dummy circuit basic cell is shown in FIG.
The present invention is not limited to the example shown in FIG. 2, and may be any type. For each transistor, any one of an always-on type, an always-off type, and a normal transistor can be selected to configure a dummy circuit basic cell. For example, the diffusion region N2 in FIG.
+ And P2 + are also diffusion regions having different impurity concentrations from normal,
Transistors N1 and N2 are always on, transistor P
1 and P2 may be of the always-off type to constitute a dummy circuit basic cell. Note that the transistor N
If N1 and N2 and P1 and P2 are formed of the same type of transistor, the diffusion regions N1 + and N2 + and the diffusion regions P1 + and P2 + become diffusion regions having the same impurity concentration, and as shown in FIG. Can be formed as one continuous diffusion region, which facilitates the formation of the diffusion region. 1 and 2 of FIG.
One to three transistors are always on or always off transistors.
A basic cell for a dummy circuit can also be configured.
【0012】図1,図2に示したダミー回路用基本セル
では、トランジスタN1,P1およびN2,P2のゲー
トを同一ポリシリコンで形成した共通ゲートとしている
が、ポリシリコンを分離して形成し、各ゲートを分離し
た構造でもよい。また図1,図2のダミー回路用基本セ
ルは4トランジスタで構成されているが、6トランジス
タ構成など他のトランジスタ構成でも同様にしてダミー
回路用基本セルを構成することができる。In the basic cell for a dummy circuit shown in FIGS. 1 and 2, the gates of the transistors N1, P1 and N2, P2 are common gates formed of the same polysilicon. A structure in which each gate is separated may be used. Although the dummy circuit basic cell shown in FIGS. 1 and 2 is composed of four transistors, the dummy circuit basic cell can also be composed in a similar manner with other transistor configurations such as a six-transistor configuration.
【0013】以上で説明したダミー回路用基本セルを用
いたダミー回路の構成例を図4〜図8に示す。なお、以
下の説明において、常時オン型のP型トランジスタのし
きい値電圧は、通常のP型トランジスタのしきい値電圧
よりプラス方向の値を持つため“通常より高い”と説明
し、常時オフ型のP型トランジスタのしきい値電圧は、
通常のP型トランジスタのしきい値電圧よりマイナス方
向の値を持つため“通常より低い”と説明した。また、
図4〜図8において、常時オン型および常時オフ型トラ
ンジスタを破線で囲んで示した。FIGS. 4 to 8 show examples of the configuration of a dummy circuit using the basic cell for a dummy circuit described above. In the following description, the threshold voltage of a normally-on P-type transistor is described as “higher than normal” because it has a positive value than the threshold voltage of a normal P-type transistor. The threshold voltage of a p-type transistor is
It has been described as "lower than normal" because it has a value in the minus direction from the threshold voltage of a normal P-type transistor. Also,
In FIGS. 4 to 8, the always-on and always-off transistors are surrounded by broken lines.
【0014】NANDゲートのダミー回路の一例を図4
に示す。図4において、N1,N2はN型トランジス
タ、P1,P2はP型トランジスタであり、通常は入力
A,B、出力CのNANDゲートを構成する回路であ
る。図4の回路においてN型トランジスタN1のしきい
値電圧を通常より低く設定して常時オン型、P型トラン
ジスタP1のしきい値電圧を通常より低く設定して常時
オフ型とすることにより、入力Aの値にかかわらず入力
Bを反転した値が出力Cより得られる。従って、図4の
回路により実チップの見かけ上のレイアウトパターンで
は入力A,B、出力CのNANDゲートとなるが、実際
は入力B、出力Cのインバータとして動作するダミー回
路を構成することができる。このダミー回路の入力Aに
誤動作を招く適当なダミー信号を接続しておけば、実チ
ップの見かけ上のレイアウトパターンより解析された回
路は正常な動作が困難となる。FIG. 4 shows an example of a dummy circuit of a NAND gate.
Shown in In FIG. 4, N1 and N2 are N-type transistors, and P1 and P2 are P-type transistors, which are circuits that usually constitute NAND gates for inputs A, B and output C. In the circuit of FIG. 4, the threshold voltage of the N-type transistor N1 is set to be lower than normal and the threshold voltage of the P-type transistor P1 is set to be lower than normal to be always off so that the input is always off. Regardless of the value of A, a value obtained by inverting the input B is obtained from the output C. Therefore, the circuit of FIG. 4 becomes a NAND gate of inputs A, B and output C in the apparent layout pattern of the real chip, but can actually constitute a dummy circuit which operates as an inverter of input B and output C. If an appropriate dummy signal that causes a malfunction is connected to the input A of the dummy circuit, it becomes difficult for the circuit analyzed from the apparent layout pattern of the real chip to operate normally.
【0015】NANDゲートのダミー回路の他の例を図
5に示す。図5において、N1,N2,N3はN型トラ
ンジスタ、P1,P2,P3はP型トランジスタであ
り、通常は入力A,B,C、出力Dの3入力NANDゲ
ートを構成する回路である。図5の回路においてN型ト
ランジスタN1を常時オン型、P型トランジスタP1を
常時オフ型とすることにより、実際は入力Aの値にかか
わらず入力B,C、出力DのNANDゲートとして動作
するダミー回路を構成することができる。また図5の回
路においてN型トランジスタN1,N2を常時オン型、
P型トランジスタP1,P2を常時オフ型とすれば、入
力A,Bの値にかかわらず入力C、出力Dのインバータ
として動作するダミー回路を構成することができる。以
上のダミー回路において入力Aまたは入力A,Bに誤動
作を招くダミー信号を接続しておけば、実チップより解
析された回路は正常な動作が困難となる。また、同様に
してさらに多入力のNANDゲートのダミー回路を構成
することもできる。FIG. 5 shows another example of the dummy circuit of the NAND gate. In FIG. 5, N1, N2, and N3 are N-type transistors, and P1, P2, and P3 are P-type transistors, which are circuits that normally form a three-input NAND gate of inputs A, B, C, and output D. In the circuit shown in FIG. 5, the N-type transistor N1 is always on and the P-type transistor P1 is always off, so that the dummy circuit actually operates as a NAND gate for inputs B, C and output D regardless of the value of input A. Can be configured. In the circuit of FIG. 5, the N-type transistors N1 and N2 are always on,
If the P-type transistors P1 and P2 are always off, a dummy circuit that operates as an input C and output D inverter can be configured regardless of the values of the inputs A and B. In the above dummy circuit, if a dummy signal causing a malfunction is connected to the input A or the inputs A and B, it becomes difficult for the circuit analyzed from the real chip to operate normally. Similarly, a dummy circuit of a multi-input NAND gate can be formed.
【0016】NORゲートのダミー回路の一例を図6に
示す。図6において、N1,N2はN型トランジスタ、
P1,P2はP型トランジスタであり、通常は入力A,
B、出力CのNORゲートを構成する回路である。図6
の回路においてN型トランジスタN1のしきい値電圧を
通常より高く設定して常時オフ型、P型トランジスタP
1のしきい値電圧を通常より高く設定して常時オン型と
することにより、入力Aの値にかかわらず入力Bを反転
した値が出力Cより得られる。従って、図6の回路によ
り実チップの見かけ上のレイアウトパターンでは入力
A,B、出力CのNORゲートとなるが、実際は入力
B、出力Cのインバータとして動作するダミー回路を構
成することができる。このダミー回路の入力Aに誤動作
を招くダミー信号を接続しておけば、実チップより解析
された回路は正常な動作が困難となる。FIG. 6 shows an example of a NOR gate dummy circuit. In FIG. 6, N1 and N2 are N-type transistors,
P1 and P2 are P-type transistors.
This circuit constitutes a NOR gate of B and output C. FIG.
In this circuit, the threshold voltage of the N-type transistor N1 is set higher than usual so that the normally-off type and the P-type transistor
By setting the threshold voltage of 1 higher than usual and making it always on, a value obtained by inverting input B is obtained from output C regardless of the value of input A. Therefore, the circuit shown in FIG. 6 serves as a NOR gate for the inputs A and B and the output C in the apparent layout pattern of the real chip, but can actually constitute a dummy circuit which operates as an inverter for the input B and the output C. If a dummy signal that causes a malfunction is connected to the input A of the dummy circuit, it becomes difficult for the circuit analyzed from the actual chip to operate normally.
【0017】NORゲートのダミー回路の他の例を図7
に示す。図7において、N1,N2,N3はN型トラン
ジスタ、P1,P2,P3はP型トランジスタであり、
通常は入力A,B,C、出力Dの3入力NORゲートを
構成する回路である。図7の回路においてN型トランジ
スタN1を常時オフ型、P型トランジスタP1を常時オ
ン型とすることにより、実際は入力Aの値にかかわらず
入力B,C、出力DのNORゲートとして動作するダミ
ー回路を構成することができる。また図7の回路におい
てN型トランジスタN1,N2を常時オフ型、P型トラ
ンジスタP1,P2を常時オン型とすれば、入力A,B
の値にかかわらず入力C、出力Dのインバータとして動
作するダミー回路を構成することができる。以上のダミ
ー回路において入力Aまたは入力A,Bに誤動作を招く
ダミー信号を接続しておけば、実チップより解析された
回路は正常な動作が困難となる。また、同様にしてさら
に多入力のNORゲートのダミー回路を構成することも
できる。FIG. 7 shows another example of a NOR gate dummy circuit.
Shown in In FIG. 7, N1, N2 and N3 are N-type transistors, P1, P2 and P3 are P-type transistors,
Usually, it is a circuit constituting a three-input NOR gate of inputs A, B, C and output D. In the circuit of FIG. 7, the N-type transistor N1 is always off and the P-type transistor P1 is always on, so that the dummy circuit actually operates as a NOR gate for the inputs B and C and the output D regardless of the value of the input A. Can be configured. If the N-type transistors N1 and N2 are always off and the P-type transistors P1 and P2 are always on in the circuit of FIG.
, A dummy circuit that operates as an input C and output D inverter can be configured. In the above dummy circuit, if a dummy signal causing a malfunction is connected to the input A or the inputs A and B, it becomes difficult for the circuit analyzed from the real chip to operate normally. Further, similarly, a dummy circuit of a multi-input NOR gate can be formed.
【0018】インバータのダミー回路の一例を図8に示
す。図8において、N1はN型トランジスタ、P1はP
型トランジスタであり、通常は入力A、出力Bのインバ
ータを構成する回路である。図8の回路においてN型ト
ランジスタN1を常時オン型、P型トランジスタP1を
常時オフ型とすることにより、入力Aの値にかかわらず
出力Bは常時ローとなる。従って、図8の回路により実
チップの見かけ上のレイアウトパターンでは入力A、出
力Bのインバータとなるが、実際は出力Bが常時ローと
なるダミー回路を構成することができる。また図8の回
路においてN型トランジスタN1を常時オフ型、P型ト
ランジスタP1を常時オン型とすれば、入力Aの値にか
かわらず出力Bが常時ハイとなるダミー回路を構成する
ことができる。以上のダミー回路において入力Aに誤動
作を招くダミー信号を接続しておけば、実チップより解
析された回路は正常な動作が困難となる。FIG. 8 shows an example of a dummy circuit of the inverter. In FIG. 8, N1 is an N-type transistor, P1 is P-type transistor.
This is a type transistor, and is a circuit that normally forms an input A and output B inverter. In the circuit of FIG. 8, the N-type transistor N1 is always on and the P-type transistor P1 is always off, so that the output B is always low regardless of the value of the input A. Therefore, the circuit shown in FIG. 8 can be used as an inverter for input A and output B in an apparent layout pattern of a real chip, but can actually constitute a dummy circuit in which output B is always low. Also, if the N-type transistor N1 is always off and the P-type transistor P1 is always on in the circuit of FIG. 8, a dummy circuit in which the output B is always high regardless of the value of the input A can be configured. If a dummy signal causing a malfunction is connected to the input A in the above dummy circuit, it becomes difficult for the circuit analyzed from the real chip to operate normally.
【0019】以上に示したダミー回路をダミー回路用基
本セルを用いて構成し、例えば組み合わせ回路にダミー
回路を混在させたり、ダミー回路の出力をフリップフロ
ップのクロック端子やセット,リセット端子に入力する
ことにより、実チップのレイアウトパターンより解析さ
れた回路は、本来の回路と論理動作が異なり正常に動作
しないため、ゲートアレイに搭載された回路の不正な回
路コピーを防止することができる。また、ゲートアレイ
に常時オン型,常時オフ型トランジスタの配置パターン
が異なる複数種のダミー回路用基本セルを搭載し、複数
種のダミー回路を混在させて回路を構成することによ
り、不正な回路コピーをさらに困難にすることができ
る。The above-described dummy circuit is constituted by using a dummy circuit basic cell. For example, a dummy circuit is mixed in a combinational circuit, or an output of the dummy circuit is input to a clock terminal, a set, and a reset terminal of a flip-flop. As a result, the circuit analyzed from the layout pattern of the actual chip has a different logical operation from the original circuit and does not operate normally. Therefore, it is possible to prevent the circuit mounted on the gate array from being illegally copied. In addition, by mounting multiple types of dummy circuit basic cells with different arrangement patterns of always-on and always-off transistors in the gate array and configuring the circuit by mixing multiple types of dummy circuits, illegal circuit copy Can be made more difficult.
【0020】さらに、本発明はゲートアレイに限らずス
タンダードセルやフルカスタムLSIにおいても実施す
ることでき、スタンダードセルのマクロセルやフルカス
タムLSIの論理回路に常時オン型,常時オフ型トラン
ジスタを組み込んで上記のダミー回路を構成し、ダミー
回路を混在させて回路を構成することにより、不正な回
路コピーを防止することができる。Further, the present invention can be applied not only to a gate array but also to a standard cell or a full-custom LSI. By constructing the dummy circuit described above, and configuring the circuit by mixing the dummy circuits, illegal circuit copy can be prevented.
【0021】[0021]
【発明の効果】以上で説明したように本発明によれば、
半導体装置、特にゲートアレイなどのセミカスタムLS
Iにおいて、常時オン型または常時オフ型トランジスタ
を組み込み、実チップの見かけ上のレイアウトパターン
と論理動作が異なるダミー回路を混在させることによ
り、不正な回路コピーを防止することができ、その実用
的効果は大きい。According to the present invention as described above,
Semi-custom LS for semiconductor devices, especially gate arrays
In I, by incorporating always-on or always-off transistors and mixing dummy circuits having different logic operations from the apparent layout pattern of the actual chip, illegal circuit copying can be prevented, and its practical effects can be prevented. Is big.
【図1】本発明の実施例におけるダミー回路用基本セル
の回路の一例を示す回路図。FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a circuit of a dummy circuit basic cell according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施例におけるダミー回路用基本セル
のレイアウトパターンの一例を示すレイアウト図。FIG. 2 is a layout diagram showing an example of a layout pattern of a basic cell for a dummy circuit according to the embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施例におけるダミー回路用基本セル
のレイアウトパターンの一例を示すレイアウト図。FIG. 3 is a layout diagram showing an example of a layout pattern of a basic cell for a dummy circuit according to the embodiment of the present invention.
【図4】本発明のダミー回路の一例を示す回路図。FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a dummy circuit according to the present invention.
【図5】本発明のダミー回路の一例を示す回路図。FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a dummy circuit according to the present invention.
【図6】本発明のダミー回路の一例を示す回路図。FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a dummy circuit according to the present invention.
【図7】本発明のダミー回路の一例を示す回路図。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a dummy circuit according to the present invention.
【図8】本発明のダミー回路の一例を示す回路図。FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of a dummy circuit according to the present invention.
【図9】従来のゲートアレイの基本セルの回路図。FIG. 9 is a circuit diagram of a basic cell of a conventional gate array.
【図10】従来のゲートアレイの基本セルのレイアウト
図。FIG. 10 is a layout diagram of a basic cell of a conventional gate array.
N1,N2・・・N型トランジスタ P1,P2・・・P型トランジスタ N+,N1+,N2+・・・N+拡散領域 P+,P1+,P2+・・・P+拡散領域 PLY・・・ポリシリコン N1, N2... N-type transistor P1, P2... P-type transistor N +, N1 +, N2 +... N + diffusion region P +, P1 +, P2 +.
Claims (3)
て、常時オン型および常時オフ型トランジスタを組み込
んだ、実チップの見かけ上のレイアウトパターンと論理
動作が異なるダミー回路を有することを特徴とした半導
体装置。1. A semiconductor device comprising a dummy circuit which incorporates always-on and always-off transistors in a logic circuit and has a different logic operation from an apparent layout pattern of a real chip.
トアレイの基本セルに常時オン型および常時オフ型トラ
ンジスタを組み込んだダミー回路用基本セルを有するこ
とを特徴とした半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a dummy circuit basic cell in which a normally-on and always-off transistor is incorporated in the basic cell of the gate array.
オン型および常時オフ型トランジスタを組み込んだ複数
種のダミー回路を有することを特徴とした半導体装置。3. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a plurality of types of dummy circuits each including a normally-on type transistor and a normally-off type transistor.
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ID=16555867
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JP10208415A Withdrawn JP2000040809A (en) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | Semiconductor device |
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JP (1) | JP2000040809A (en) |
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-
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- 1998-07-23 JP JP10208415A patent/JP2000040809A/en not_active Withdrawn
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