JP2000036191A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2000036191A JP10202307A JP20230798A JP2000036191A JP 2000036191 A JP2000036191 A JP 2000036191A JP 10202307 A JP10202307 A JP 10202307A JP 20230798 A JP20230798 A JP 20230798A JP 2000036191 A JP2000036191 A JP 2000036191A
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聡 江渡
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俊和 中村
Masatomo Hasegawa
正智 長谷川
Ayako Kitamoto
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邦範 川畑
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 セルアレイ内のメモリセルを活性化状態から
スタンバイ状態に復帰させるために、メモリセルに接続
されたワード線を駆動してリセット動作を行う機能を有
する半導体装置に関し、ワード線をリセットするために
ワード線をマイナス電位に設定する場合でも、消費電力
の増加を極力抑えることを目的とする。 【解決手段】 メモリセルに接続されたワード線を駆動
してワード線をリセットするワード線駆動回路を備え、
ワード線のリセット動作を行う際に設定されるワード線
駆動回路のリセットレベルを、接地電位等の第1の電位
と、マイナス電位等の第2の電位との間で切り替えるよ
うに構成される。好ましくは、リセットレベルの第2の
電位への切り替えは、リセット動作が開始され、ワード
線のレベルが低下した後に行うようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体メモリのセ
ルアレイ内の特定のメモリセルを活性化状態からスタン
バイ状態に復帰させるために、上記メモリセルに接続さ
れたワード線を駆動して同ワード線のリセット動作を行
う機能を有する半導体装置に関する。近年、ランダム・
アクセス・メモリ(以後、DRAMと略記する)等の半
導体メモリからなる半導体装置には、バッテリー駆動を
見据えた低消費電力への対応が要求されている。このた
め、上記のようなリセット動作を行うための回路にて消
費される電力も可能な限り節減していく必要がある。
【0002】
【従来の技術】一般に、DRAM内のセルアレイを構成
する複数のメモリセルの各々は、データの書き込みまた
は読み出しを行うための1個のセルトランジスタと、こ
のセルトランジスタのソースに接続された1個のセルキ
ャパシタとを有している。このセルキャパシタは、メモ
リセルに書き込まれるデータの“1”または“0”の状
態に応じて電荷を蓄積するものである。さらに、各々の
セルトランジスタのゲートには、このセルトランジスタ
を動作状態(活性化状態)にするために必要な電圧を供
給するワード線が接続されている。
【0003】さらに、各々のメモリセル内のセルトラン
ジスタとしてNチャネル型トランジスタを使用している
場合、このNチャネル型トランジスタのゲート−ソース
間のしきい値電圧を考慮する必要がある。すなわち、複
数のメモリセル内の特定のメモリセルを選択してデータ
の書き込みまたは読み出しを行う場合、当該メモリセル
内のセルトランジスタを確実にスタンバイ状態から活性
化状態にするために、Nチャネル型トランジスタのゲー
ト−ソース間のしきい値電圧の分以上に高くした昇圧電
圧を、ワード線からNチャネル型トランジスタのゲート
へ供給するようにしている。さらに、DRAMの高速化
を実現するために、選択されたメモリセルに対しデータ
の書き込みまたは読み出しを実行した後に、当該メモリ
セル内のセルトランジスタを活性化状態からスタンバイ
状態に速やかに復帰させなければならない。
【0004】このように、活性化状態のセルトランジス
タをスタンバイ状態に復帰させるために、ワード線から
上記セルトランジスタへ所定のレベルのリセット信号を
供給する動作は、通常、ワード線のリセット動作とよば
れている。このリセット動作においては、セルキャパシ
タに蓄積された蓄積電荷のリークをできる限り低減させ
るために、ワード線駆動回路から出力されるリセット信
号のレベル(リセットレベル、すなわちリセット電位)
を、接地電位ではなく負の電圧レベルの電位(負電位、
すなわち、マイナス電位)に設定する技術が採用されて
きている。
【0005】ここで、DRAM内のメモリセルに対する
リセット動作を行う際に、ワード線のリセット電位を負
電位に設定する場合の問題点を分かり易くするために、
添付の図面(図16および図17)を参照しながら、従
来のリセット動作を行う機能を有するDRAM等の半導
体装置の構成および動作を説明する。図16は、従来の
リセット電位を負電位に設定する機能を備えた半導体装
置の構成を示す回路図であり、図17は、図16の従来
技術の動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。ただし、この場合は、説明を簡単にするために、半
導体装置内でワード線を駆動するための回路構成を図示
することとする。
【0006】図16においては、メモリセル内のセルト
ランジスタのゲートに接続されたワード線に対し、所定
の電圧レベルの駆動信号SWLを供給するためのワード
線駆動回路200が設けられている。このワード線駆動
回路200は、選択信号MWLに基づいて駆動信号SW
Lを出力するためのPチャネル型トランジスタ210お
よびNチャネル型トランジスタ220からなるインバー
タと、リセット制御信号SWDXに基づいてワード線を
所定のリセットレベル(リセット電位)にクランプする
ためのNチャネル型トランジスタ230とを有してい
る。Nチャネル型トランジスタ220、230のソース
は、ワード線をリセットするための負の電圧Vnwl の電
源(マイナス電源)に接続されている。ワード線のリセ
ット動作時には、Nチャネル型トランジスタ230が動
作状態(オン状態)になり、ワード線駆動回路から出力
される駆動信号SWLの出力レベルがマイナス電源の電
位にほぼ等しくなる。
【0007】さらに、図16においては、ワード線駆動
回路200のPチャネル型トランジスタ210のソース
に対し、高電圧側電源供給信号SWDZを供給して駆動
信号SWLの電圧レベルを制御するためのワード線駆動
制御回路100が設けられている。このワード線駆動制
御回路100は、Pチャネル型トランジスタ110およ
びNチャネル型トランジスタ120からなるインバータ
を有している。Pチャネル型トランジスタ110のソー
スは、昇圧電圧Vppの電源(昇圧電源)に接続され、N
チャネル型トランジスタ120のソースは、負の電圧V
nwl のマイナス電源に接続される。ここでは、上記イン
バータの入力側のノードn01から入力される制御信号
に基づいて、ワード線駆動回路200の高電圧側電源に
対し、昇圧電圧Vppまたは負の電圧Vnwl の高電圧側電
源供給信号SWDZが供給されることになる。
【0008】図16の半導体装置の動作は図17のタイ
ミングチャートに示すとおりである。図17から明らか
なように、まず、メモリセルがスタンバイ状態にある場
合、ノードn01での信号のレベル、および各部の信号
のレベルは、次のようになっている。ノードn01での
信号のレベル=Vpp(高電圧レベル(“H(High)”レ
ベル)、高電圧側電源供給信号SWDZ=Vnwl (低電
圧レベル(“L(Low )”レベル)、選択信号MWL=
Vpp、リセット制御信号SWDX=Vii(“H”レベ
ル)、これにより、駆動信号SWL=Vnwl となる。こ
こで、Viiは、DRAM内部の降圧電源の電圧を表して
おり、昇圧電圧Vppの“H”レベルよりも低い“H”レ
ベルを意味する。
【0009】つぎに、メモリセルがアクティブ動作を開
始して活性化状態になった場合、ノードn01での信号
のレベルが負の電圧Vnwl に等しくなり、高電圧側電源
供給信号SWDZのレベルが昇圧電圧Vppになるように
駆動される。これと同じタイミングで、リセット制御信
号SWDX=Vnwl になるように制御される。さらに、
選択信号MWLのレベルを負の電圧Vnwl に設定するこ
とによって、駆動信号SWLが昇圧電圧Vppにまで立ち
上がる。
【0010】また、上記メモリセルの活性化状態をスタ
ンバイ状態に戻すときに、ワード線のリセット動作が行
われる。この場合、まず、ノードn01を昇圧電圧Vpp
にすることにより、高電圧側電源供給信号SWDZのレ
ベルが電圧Vnwl になるように駆動される。このとき、
選択信号MWLのレベルは負の電圧Vnwl のままなの
で、Pチャネル型トランジスタ210が動作状態になっ
て同Pチャネル型トランジスタ210のソースがノード
SWLに接続された状態になり、ワード線に充電されて
いた電荷が、Pチャネル型トランジスタ210を通じて
マイナス電源に吸収され、駆動信号SWLが出力される
ノード(ワード線)の電位が低下する。このノードの電
位が低下していくと、Pチャネル型トランジスタ210
のしきい値が見えてくるため、適切なタイミングによ
り、選択信号MWL=Vppとなるよう制御する。さら
に、Nチャネル型トランジスタ220を通じて、駆動信
号SWLが出力されるノードをリセットし、負の電圧V
nwl にクランプする。このようにしてクランプされる負
の電圧Vnwl が、ワード線のリセット電位に相当する。
【0011】この場合、駆動信号SWLが出力されるノ
ードに充電されていた電荷Qの全て(Q=(Vpp−Vnw
l )×Cswl )を、負の電圧Vnwl のマイナス電源にて
吸収しなければならない。ここで、Cswl は、上記ノー
ドが持つ全容量を示している。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなワード線
のリセット動作にて使用される負の電圧Vnwl に相当す
る負の電位は、DRAMの外部から印加されないため
に、DRAMの内部で発生させなければならない。この
ような負の電位を発生させるための負電位発生回路(詳
細な回路構成は図6にて後述する)としては、接地電位
を基準にして、発振回路部とポンプ回路部により構成さ
れる回路が一般に知られている。しかしながら、一般的
にいって、上記の発振回路部およびポンプ回路部により
負の電位を発生させるようなマイナス電源は、電源の効
率が悪く、消費電力が比較的大きい。
【0013】このために、セルトランジスタが活性化状
態のときに昇圧電圧に充電されたワード線の電荷をマイ
ナス電源にて吸収するような従来の半導体装置の構成
は、接地電位の電源にて吸収する構成と比較して、大幅
に消費電力が増大してしまうという問題が生じる。また
一方で、セルキャパシタに蓄積された蓄積電荷のリーク
をできる限り低減させるために、ワード線のリセット動
作時の電位を、できる限り低い電圧レベルに設定するこ
とが不可欠である。
【0014】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
であり、ワード線をリセットするために同ワード線をマ
イナス電位に設定する場合でも、消費電力の増加を極力
少なくすることが可能な半導体装置を提供することを目
的とするものである。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明の半導体装置は、複数のメモリセルを含む
セルアレイ内の特定のメモリセルを活性化状態からスタ
ンバイ状態に復帰させる場合に、この特定のメモリセル
に接続されたワード線を駆動して上記ワード線をリセッ
トする機能を有するワード線駆動回路を備えており、上
記ワード線のリセット動作を行う際に設定される上記ワ
ード線駆動回路のリセットレベルを、第1の電位と第2
の電位との間で切り替えるように構成される。
【0016】好ましくは、本発明の半導体装置において
は、上記ワード線駆動回路内に、上記リセットレベルの
上記第1の電位と上記第2の電位との切り替えを行うリ
セットレベル切替スイッチ回路部を設けるようにしてい
る。さらに、好ましくは、本発明の半導体装置において
は、上記リセットレベルの上記第1の電位と上記第2の
電位との切り替えを行うリセットレベル切替スイッチ回
路を、上記ワード線駆動回路とは別に設けるようにして
いる。
【0017】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
は、複数のメモリセルを含むセルアレイ内の特定のメモ
リセルを活性化状態からスタンバイ状態に復帰させる場
合に、この特定のメモリセルに接続されたワード線を駆
動して該ワード線をリセットする機能を有する複数のワ
ード線駆動回路を備え、さらに、上記ワード線のリセッ
ト動作を行う際に設定される上記複数のワード線駆動回
路のリセットレベルを、第1の電位と第2の電位との間
で切り替えるリセットレベル切替スイッチ回路を、上記
複数のワード線駆動ドライバ回路とは別に設けており、
これらの複数のワード線駆動回路に対し、上記リセット
レベル切替スイッチ回路による上記リセットレベルの上
記第1の電位と上記第2の電位との切り替えを一括して
行うようにしている。
【0018】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
においては、上記第2の電位が、上記第1の電位よりも
低いレベルに設定される。さらに、好ましくは、本発明
の半導体装置においては、上記リセットレベルの上記第
1の電位が接地電位であり、上記第2の電位が負の電圧
レベルの電位であるように設定される。
【0019】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
においては、上記リセットレベルの上記第1の電位への
切り替えは、上記ワード線のリセット動作を開始する前
に行うようになっている。さらに、好ましくは、本発明
の半導体装置においては、上記リセットレベルの上記第
2の電位への切り替えは、上記リセット動作が開始さ
れ、上記ワード線のレベルが低下した後に行うようにな
っている。
【0020】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
は、上記リセット動作が開始されてから上記ワード線の
レベルが所定のレベルに低下するまでの時間を予め設定
し、上記リセット動作の開始のタイミングから上記時間
が経過した後に、上記リセットレベルの上記第1の電位
と上記第2の電位との切り替えを行うためのリセットレ
ベル切替制御タイミング回路を有する。
【0021】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
は、上記ワード線の電位を監視して上記ワード線の電位
が所定のレベルより低下したことを検出したときに、上
記リセットレベルの上記第1の電位と上記第2の電位と
の切り替えを行うためのワード線電位判定回路を有す
る。さらに、好ましくは、本発明の半導体装置において
は、上記リセットレベルの上記第1の電位と上記第2の
電位との切り替えは、上記セルアレイに設けられたセン
スアンプを活性化したり非活性化したりするための活性
化信号および非活性化信号を用いて行うようになってい
る。
【0022】前述のような半導体装置内部での消費電力
が増大するという問題点は、そもそも、“H”レベル、
特に昇圧電圧のレベルに充電された電荷を、全て半導体
装置内部の発生電源であるマイナス電源にて吸収するこ
とに起因するものと考えられる。そこで、本発明の半導
体装置では、ワード線のリセット動作の最初の期間で
は、“H”レベルに充電された電荷を第1の電位(例え
ば、接地電位)の電源に吸収させ、ワード線のレベルが
充分低下した後に、第1の電位よりも低い第2の電位
(例えば、負の電圧レベルの電位)の電源(例えば、マ
イナス電源)に残りの電荷を吸収させるようにしてい
る。
【0023】このようにすれば、ワード線のリセット動
作を行う前に“H”レベルに充電されていたワード線の
ノードが有する電荷の大部分をまず、接地電位の電源へ
逃がしてやることで、電源効率の悪いマイナス電源へ逃
がす電荷量が大幅に減少する。かくして、本発明では、
従来技術に比べて、半導体装置内部での消費電力を大幅
に節減することが可能になる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、添付図面(図1〜図15)
を参照しながら、本発明の好ましい実施例を説明するこ
ととする。図1は、本発明の第1の実施例の構成を示す
回路図であり、図2は、図1の実施例の動作を説明する
ためのタイミングチャートである。ただし、この場合
も、説明を簡単にするために、半導体装置内でワード線
を駆動するための回路構成を図示することとする。
【0025】図1に示す第1の実施例においては、メモ
リセル内のセルトランジスタのゲートに接続されたワー
ド線に対し、所定の電圧レベルの駆動信号SWLを供給
するためのワード線駆動回路2が設けられている。この
ワード線駆動回路2は、選択信号MWLに基づいて駆動
信号SWLを出力するためのPチャネル型トランジスタ
21およびNチャネル型トランジスタ22からなるイン
バータと、リセット制御信号SWDXに基づいてワード
線をリセット電位にクランプするためのNチャネル型ト
ランジスタ23とを有している。
【0026】上記ワード線駆動回路2内のPチャネル型
トランジスタ21、Nチャネル型トランジスタ22、お
よびNチャネル型トランジスタ23は、それぞれ、前述
の従来例(図16参照)のワード線駆動回路200内の
Pチャネル型トランジスタ210、Nチャネル型トラン
ジスタ220、およびNチャネル型トランジスタ230
にほぼ対応するものである。
【0027】さらに、図1の実施例においては、ワード
線駆動回路2のPチャネル型トランジスタ21のソース
に対し、高電圧側電源供給信号SWDZを供給して駆動
信号SWLの電圧レベルを制御するためのワード線駆動
制御回路1が設けられている。このワード線駆動制御回
路1は、Pチャネル型トランジスタ11およびNチャネ
ル型トランジスタ12からなるインバータを有してい
る。Pチャネル型トランジスタ11のソースは、昇圧電
圧Vppの電源(昇圧電源)に接続され、Nチャネル型ト
ランジスタ12のソースは、負の電圧Vnwl のマイナス
電源に接続される。ここでは、上記インバータの入力側
のノードn01から入力される制御信号に基づいて、ワ
ード線駆動回路2の高電圧側電源に対し、昇圧電圧Vpp
または負の電圧Vnwl の高電圧側電源供給信号SWDZ
が供給されることになる。
【0028】上記ワード線駆動制御回路1内のPチャネ
ル型トランジスタ11およびNチャネル型トランジスタ
12は、それぞれ、前述の従来例(図16参照)のワー
ド線駆動制御回路100内のPチャネル型トランジスタ
110およびNチャネル型トランジスタ120にほぼ対
応するものである。さらに、図1の実施例においては、
上記ワード線駆動回路2の内部に、リセットレベルの接
地電圧Vssの電位と、負の電圧Vnwl の電位との切り替
え(すなわち、リセット電位の切り替え)を行うリセッ
トレベル切替スイッチ回路部3を設けている。このリセ
ットレベル切替スイッチ回路部3は、接地電圧Vssと負
の電圧Vnwl の間で、ワード線のノードに接続されたN
チャネル型トランジスタ22のソースの電位を切り替え
るためのNチャネル型トランジスタ31、32と、Nチ
ャネル型トランジスタ31のゲートとNチャネル型トラ
ンジスタ32のゲートとの間に接続されるインバータ3
3とを有している。さらに、上記のリセットレベル切替
スイッチ回路部3は、接地電圧Vssと負の電圧Vnwl の
間で、ワード線のノードに接続されたNチャネル型トラ
ンジスタ23のソースの電位を切り替えるためのNチャ
ネル型トランジスタ34、35とを有している。
【0029】ワード線のリセット動作を行う場合、ワー
ド線駆動回路2のNチャネル型トランジスタ22のノー
ドn03のレベル(すなわち、リセットレベル)は、ノ
ードn02からNチャネル型トランジスタ31、32の
ゲートに供給されるリセット電位切替用制御信号に応じ
て、接地電圧Vssの電位(第1の電位)、または負の電
圧Vnwl の電位(第2の電位)に設定される。ワード線
のリセット動作が開始されたときに、まず、ノードn0
2から“L”レベルの制御信号が供給されてNチャネル
型トランジスタ32が動作状態になり、リセットレベル
が接地電圧Vssの電位になる。さらに、上記ワード線の
レベル(すなわち、駆動信号SWLのレベル)が充分低
下した後に、ノードn02から“H”レベルの制御信号
が供給されてNチャネル型トランジスタ31が動作状態
になり、リセットレベルが負の電圧Vnwl の電位に切り
替わる。
【0030】図1の実施例の動作は図2のタイミングチ
ャートに示すとおりである。図1から明らかなように、
まず、メモリセルがスタンバイ状態にある場合、ノード
n01、n02およびn03、ならびに各部の信号のレ
ベルは、次の状態になっている。ノードn01での信号
のレベル=Vpp(“H”レベル)、ノードn02での信
号のレベル=Vii(“H”レベル)、高電圧側電源供給
信号SWDZ=Vnwl (低電圧レベル(“L”レベ
ル)、選択信号MWL=Vpp、リセット制御信号SWD
X=Vii(“H”レベル)、これにより、駆動信号SW
L=Vnwl となる。ここで、Viiは、前述したように、
DRAM内部の降圧電源の電圧を表している。
【0031】つぎに、メモリセルがアクティブ動作を開
始して活性化状態になった場合、ノードn01での信号
のレベルが負の電圧Vnwl に等しくなり、高電圧側電源
供給信号SWDZのレベルが昇圧電圧Vppになるように
駆動される。これと同じタイミングで、リセット制御信
号SWDX=Vnwl になるように制御される。さらに、
選択信号MWLのレベルを負の電圧Vnwl に設定するこ
とによって、駆動信号SWLが昇圧電圧Vppにまで立ち
上がる。
【0032】さらに、上記メモリセルの活性化状態をス
タンバイ状態に戻すために、ワード線のリセット動作が
行われる。この場合、ワード線のリセット動作は、選択
信号MWL=Vppに設定し、ワード線駆動回路2のNチ
ャネル型トランジスタ22、32を通じて接地電圧Vss
の電源に電荷を引き抜くことによって行われる。このと
きに、ノードn02での信号のレベルは、既に負の電圧
Vnwl になっている。このようなノードn02でのレベ
ル変化は、ワード線の電位が昇圧電圧Vppになるように
立ち上がって活性化状態の期間中になるように制御する
ことにより実現される。
【0033】このようにして、ワード線駆動回路2のN
チャネル型トランジスタ22、32を介して、ワード線
に充電された電荷を接地電圧Vssの電源に吸収させる
(駆動信号SWLの波形参照)。その後、駆動信号SW
Lのレベルに相当するワード線の電位が充分低下した後
に、ノードn02=“Vii”になるように制御し、Nチ
ャネル型トランジスタ32を非動作状態(オフ状態)に
すると共に、Nチャネル型トランジスタ31を動作状態
にして、負の電圧Vnwl のマイナス電源へ電荷吸収の経
路を切り替え、ワード線のリセット電位を上記マイナス
電源にクランプする。上記ワード線の電位が充分低下し
た後に、ノードn02=“Vii”になるように制御する
方法として、ワード線の電位が充分低下する時間を、
タイミング回路で模倣し制御する方法、および、ワー
ド線の電位を半導体装置内部で監視し、ノードn02の
電位を自動的に変化させる方法が考えられる。これらの
制御方法を実現するための具体的な回路構成は、図12
〜図15にて後述する。
【0034】上記第1の実施例において、ワード線のリ
セット動作を行う場合の電荷の流れに関していえば、リ
セット動作の開始時は、ワード線→Nチャネル型トラン
ジスタ22→Nチャネル型トランジスタ32→接地電圧
Vssの電源のようになっており、ワード線の電位が充分
低下したときは、ワード線→Nチャネル型トランジスタ
22→Nチャネル型トランジスタ31→負の電圧Vnwl
の電源のようになっている。換言すれば、ワード線のリ
セット動作の開始時にワード線のノードが持っている電
荷の大部分をまず、接地電圧Vssの電源へ逃がしてやる
ことにより、電源効率の悪いマイナス電源へ逃がす電荷
量が大幅に減少する。それゆえに、半導体装置内部での
消費電力を大幅に節減することが可能になる。
【0035】図3は、本発明の第2の実施例の構成を示
す回路図、図4は、図3の実施例におけるリセット電位
発生回路の詳細な構成を示す回路図、そして、図5は、
図3の実施例の動作を説明するためのタイミングチャー
トである。ただし、この場合も、説明を簡単にするため
に、半導体装置内でワード線を駆動するための回路構成
を図示することとする。なお、これ以降、前述した構成
要素と同様のものについては、同一の参照番号を付して
表すこととする。
【0036】図3に示す第2の実施例においては、メモ
リセル内のセルトランジスタのゲートに接続されたワー
ド線に対し、所定の電圧レベルの駆動信号SWLを供給
するためのワード線駆動回路2aが設けられている。こ
のワード線駆動回路2aは、選択信号MWLに基づいて
駆動信号SWLを出力するためのPチャネル型トランジ
スタ24およびNチャネル型トランジスタ25からなる
インバータと、リセット制御信号SWDXに基づいてワ
ード線を所定のリセット電位にクランプするためのNチ
ャネル型トランジスタ26とを有している。Nチャネル
型トランジスタ25、26のソースは、ワード線をリセ
ットするための負の電圧Vnwl の電源(マイナス電源)
に接続されている。
【0037】上記ワード線駆動回路2a内のPチャネル
型トランジスタ24、Nチャネル型トランジスタ25、
およびNチャネル型トランジスタ26は、それぞれ、前
述の従来例(図16参照)のワード線駆動回路200内
のPチャネル型トランジスタ210、Nチャネル型トラ
ンジスタ220、およびNチャネル型トランジスタ23
0にほぼ対応するものである。
【0038】さらに、図3の実施例においては、前述の
第1の実施例(図1参照)の場合と同じように、ワード
線駆動回路2aのPチャネル型トランジスタ24のソー
スに対し、高電圧側電源供給信号SWDZを供給して駆
動信号SWLの電圧レベルを制御するためのワード線駆
動制御回路1が設けられている。このワード線駆動制御
回路1は、前述の第1の実施例の場合と同じように、P
チャネル型トランジスタ11およびNチャネル型トラン
ジスタ12からなるインバータを有している。Pチャネ
ル型トランジスタ11のソースは、昇圧電圧Vppの電源
(昇圧電源)に接続され、Nチャネル型トランジスタ1
2のソースは、リセット電位発生回路4の出力端子に接
続される。このリセット電位発生回路4の出力端子から
Nチャネル型トランジスタ12のソースに対し、ワード
線のリセット電源供給信号VRSTが供給される。
【0039】この場合、リセット電位発生回路4は、ワ
ード線駆動回路2aのリセットレベルの第1の電位と第
2の電位との切り替えを行うリセットレベル切替スイッ
チ回路の機能を有しており、ワード線駆動回路2aとは
別個に設けられる。上記のリセット電位発生回路4の詳
細な構成を図4に示す。ここでは、リセット電位発生回
路4は、2個のNチャネル型トランジスタ41、42
と、一方のNチャネル型トランジスタ41のゲートと他
方のNチャネル型トランジスタ42のゲートとの間に接
続されるインバータ43とを有している。ワード線のリ
セット動作を行う場合、リセット電源供給信号VRST
のレベル(すなわち、リセットレベル)は、ノードn0
2からNチャネル型トランジスタ41、42のゲートに
供給されるリセット電位切替用制御信号に応じて、接地
電圧Vssの電位、または負の電圧Vnwl の電位に設定さ
れる。ワード線のリセット動作が開始されたときに、ま
ず、ノードn02から“L”レベルの制御信号が供給さ
れてNチャネル型トランジスタ42が動作状態になり、
リセットレベルが接地電圧Vssの電位になる。さらに、
ワード線のレベル(すなわち、駆動信号SWLのレベ
ル)が充分低下した後に、ノードn02から“H”レベ
ルの制御信号が供給されてNチャネル型トランジスタ4
1が動作状態になり、リセットレベルが負の電圧Vnwl
の電位に切り替わる。
【0040】図3および図4の実施例の動作は図5のタ
イミングチャートに示すとおりである。図3から明らか
なように、まず、メモリセルがスタンバイ状態にある場
合、ノードn01、n02、および各部の信号のレベル
は、次の状態になっている。ノードn01での信号のレ
ベル=Vpp(“H”レベル)、ノードn02での信号の
レベル=Vii(“H”レベル)、高電圧側電源供給信号
SWDZ=Vnwl (低電圧レベル(“L”レベル)、選
択信号MWL=Vpp、リセット制御信号SWDX=Vi
i、これにより、駆動信号SWL=Vnwl となる。
【0041】つぎに、メモリセルがアクティブ動作を開
始して活性化状態になった場合、ノードn01での信号
のレベルが負の電圧Vnwl に等しくなり、高電圧側電源
供給信号SWDZのレベルが昇圧電圧Vppになるように
駆動される。これと同じタイミングで、リセット制御信
号SWDX=Vnwl になるように制御される。さらに、
選択信号MWLのレベルを負の電圧Vnwl に設定するこ
とによって、駆動信号SWLが昇圧電圧Vppにまで立ち
上がる。
【0042】また、上記メモリセルの活性化状態をスタ
ンバイ状態に戻すときに、ワード線のリセット動作が行
われる。この場合、ワード線のリセット動作は、ノード
n01での信号のレベルを昇圧電圧Vppに設定し、ワー
ド線駆動回路2aのPチャネル型トランジスタ24を通
じて、リセット電位発生回路4内の接地電圧Vssの電源
に電荷を引き抜くことによって行われる。このときに、
ノードn02での信号のレベルは、既に負の電圧Vnwl
になっている。このようなノードn02でのレベル変化
は、ワード線の電位が昇圧電圧Vppになるように立ち上
がって活性化状態の期間中になるように制御することに
より実現される。
【0043】このようにして、ワード線駆動制御回路1
のNチャネル型トランジスタ12とリセット電位発生回
路4のNチャネル型トランジスタ42を介して、ワード
線に充電された電荷を接地電圧Vssの電源に吸収させる
(駆動信号SWLの波形参照)。その後、駆動信号SW
Lのレベルに相当するワード線の電位が充分低下した後
に、ノードn02=“Vii”になるように制御し、Nチ
ャネル型トランジスタ42を非動作状態にすると共に、
Nチャネル型トランジスタ41を動作状態にして、負の
電圧Vnwl のマイナス電源へ電荷吸収の経路を切り替
え、ワード線のリセット電位を上記マイナス電源にクラ
ンプする。
【0044】この経路には、ワード線駆動回路2aのP
チャネル型トランジスタ24が介在しているので、Pチ
ャネル型トランジスタのしきい値電圧が見えてしまうこ
とになり、負の電圧Vnwl のマイナス電源へ電荷を充分
に吸収させることができない。このような事態を回避す
るために、適切なタイミングにて選択信号MWLおよび
リセット制御信号SWDXを“H”レベルにし、ワード
線のリセット電位を上記マイナス電源にクランプする。
【0045】このような構成にすることによって、ワー
ド線のリセット動作時にマイナス電源(負の電圧Vnwl
)で吸収しなければならない電荷Qの量は、従来の場
合と比べて格段に小さくなる〔Q={(Vnwl +Vthp
)−Vnwl }×Cswl 〕。ここで、Cswl は、ワード
線のノードが持つ全容量を示しており、Vthp は、ワー
ド線駆動回路2aのPチャネル型トランジスタ24のゲ
ート−ソース間のしきい値電圧を示している。この場
合、Pチャネル型トランジスタ24のソースの電位は、
Vnwl +Vthp しか下がらない。
【0046】上記ワード線の電位が十分低下した後に、
ノードn02=“Vii”になるように制御する方法とし
ては、前述の第1の実施例の場合と同じように、ワー
ド線の電位が充分低下する時間を、タイミング回路で模
倣し制御する方法、および、ワード線の電位を半導体
装置内部で監視し、ノードn02の電位を自動的に変化
させる方法が考えられる。
【0047】上記第2の実施例において、ワード線のリ
セット動作を行う場合の電荷の流れに関していえば、リ
セット動作の開始時は、ワード線→Nチャネル型トラン
ジスタ24→Nチャネル型トランジスタ12→リセット
電源供給信号VRSTの信号ライン→Nチャネル型トラ
ンジスタ42→接地電圧Vssの電源のようになってお
り、ワード線の電位が充分低下したときは、ワード線→
Nチャネル型トランジスタ24→Nチャネル型トランジ
スタ12→リセット電源供給信号VRSTの信号ライン
→Nチャネル型トランジスタ41→負の電圧Vnwl の電
源のようになっている。前述の第1の実施例では、ワー
ド線駆動回路からなるワードデコーダのNチャネル型ト
ランジスタから直接電荷を引き抜いていたが、上記第2
の実施例では、Pチャネル型トランジスタを介して電荷
を引き抜くことになる。
【0048】さらに、前述の第1の実施例では、ワード
デコーダの内部にリセットレベル切替スイッチ回路部を
設けていたが、上記第2の実施例では、リセットレベル
切替スイッチ回路(例えば、リセット電位発生回路4)
のみをワードデコーダから独立させて配置している。一
般に、ワードデコーダの図面では、メモリセルに接続さ
れたワード線のピッチに対応している幅が決まってしま
うため、リセットレベル切替スイッチ回路部等の構成素
子の増加は、ワードデコーダの長さの増加を招く結果に
なる。さらに、最近では、ワード線の抵抗の影響を小さ
くするために、ワードデコーダを複数配置してワード線
を短く分割するといった手法も多く用いられている。こ
のため、ワードデコーダを構成する素子の数が多くなる
ことは、チップ面積の増加につながる。
【0049】このような不都合を解消するために、上記
第2の実施例では、制約の多いワードデコーダの部分か
らリセットレベル切替スイッチ回路を分離し、制約の少
ない箇所に配置することによって、半導体チップの面積
の増加を防止している。また一方で、リセットレベルの
切り替えを行う際に、切り替えのための特別な制御信号
を用いることなく、センスアンプの非活性化信号を用い
ることが可能である。センスアンプの活性化および非活
性化のタイミングは、次のようになっている。すなわ
ち、ワード線が立ち上がり、セルキャパシタに蓄積され
た電荷がビット線を伝搬し、ビット線対に電位差がつく
頃合いで活性化が行われ、また一方で、メモリセルへの
再書き込みを行い、ワード線の電位を下げ、セルトラン
ジスタが非動作状態になった頃合いで非活性化が行われ
る。このため、本発明の半導体装置にて所望される制御
信号の動作タイミングと、既存のセンスアンプの活性化
信号および非活性化信号の制御タイミングが一致するこ
とになる。制御信号の増加は、制御回路を増加させるこ
とになり、このことは回路動作による消費電力増加につ
ながるため、好ましくない。
【0050】図6は、本発明の実施例に使用される負電
位発生回路の詳細な構成を示す回路図であり、図7は、
図6の負電位発生回路の動作を説明するためのタイミン
グチャートである。リセットレベルの負の電位への切り
替えのときに使用される負電位発生回路としては、図6
に示すように、接地電圧Vssの電位を基準にして、発振
回路部5aとポンプ回路部5bにより構成された回路が
一般的に知られている。発振回路部5aは、3つのイン
バータ50〜52をリング状に接続して形成される。ポ
ンプ回路部5bは、ポンピングキャパシタ53と、2個
のNチャネル型トランジスタ54、55とを有してい
る。発振回路部5aから出力された矩形波の発振信号
は、ポンピングキャパシタ53とNチャネル型トランジ
スタ54、55によるポンピング動作によって、負の電
位が生成される。
【0051】図6の負電位発生回路の動作は図7に示す
とおりである。図7から明らかなように、発振回路部5
aの最終段目のインバータ52(ノードA)から、電圧
Vddの矩形波の発振信号が出力される。さらに、ポンピ
ングキャパシタ53のノードBから、3つの電圧Vdd、
VT1、および−VT2を含むパルス状の電圧波形が得
られる。さらに、Nチャネル型トランジスタ54、55
によるポンピング動作に従って上記の3つの電圧を重畳
することにより、−Vdd+VT1+VT2の電圧レベル
を有する負の電位が生成される。一般的にいって、上記
のような負電位発生回路にて生成されるマイナス電源
は、電源効率が悪く、消費電力が大きい。
【0052】本発明の実施例では、ワード線のリセット
動作の開始時にワード線のノードが持っている電荷の大
部分をまず、接地電圧Vssの電源へ逃がし、電源効率の
悪いマイナス電源へ逃がす電荷量を大幅に減少させるこ
とによって、消費電力をできる限り節減するようにして
いる。図8は、本発明の実施例に使用される半導体メモ
リの概略的構成を示す平面図である。DRAM等の半導
体メモリ6においては、図8に示すように、マトリクス
状に配置された複数のメモリセルを含むセルアレイ60
に対し、複数のワード線61と、これらのワード線61
と直交する複数のビット線対62が設けられている。複
数のワード線61には、ワード線駆動回路からなるワー
ドデコーダ63が接続されており、複数のビット線対6
2には、データの読み出し動作時に使用されるセンスア
ンプ64が接続されている。上記ワードデコーダ63か
ら複数のワード線61に対し、選択されたメモリセルを
活性化状態にしたりスタンバイ状態に戻したりするため
の駆動信号が供給される。さらに、最近では、ワード線
の抵抗の影響を小さくするために、複数のワードデコー
ダを配置してワード線を短く分割するといった手法が用
いられる傾向にある。
【0053】図9は、本発明の第1の実施例に係る半導
体メモリの主要部の構成を示す回路ブロック図である。
ここでは、図1に示したワード線駆動制御回路1、ワー
ド線駆動回路2およびリセットレベル切替スイッチ回路
部3を組み込んで形成した半導体メモリの構成を例示す
る。図9の第1の実施例に係る半導体メモリにおいて
は、複数のワードデコーダ2−1〜2−n(nは2以上
の任意の正の整数)の内部に、複数のリセットレベル切
替スイッチ回路部3−1〜3−nがそれぞれ設けられて
いる。この場合、各々のワードデコーダに対し、一つの
リセットレベル切替スイッチ回路部を持つことになる。
さらに、複数のワードデコーダ2−1〜2−nとは独立
して、これらのワードデコーダの高電圧側電源供給信号
を供給するための複数の制御回路1−1〜1−nがそれ
ぞれ設けられている。これらの制御回路1−1〜1−n
は、複数のワードデコーダ2−1〜2−nとセンスアン
プ64が配置されていない場所に配置される。
【0054】図9の半導体メモリにおける複数のワード
デコーダ2−1〜2−nの各々(例えば、第1のワード
デコーダ2−1)の構成は、前述の図1のワード線駆動
回路2の構成と同じである。さらに詳しく説明すると、
第1のワードデコーダ2−1は、選択信号MWLに基づ
いて駆動信号SWLを出力するためのPチャネル型トラ
ンジスタ21−1およびNチャネル型トランジスタ22
−1からなるNAND回路部と、リセット制御信号SW
DXに基づいてワード線61をリセット電位にクランプ
するためのNチャネル型トランジスタ23−1とを有し
ている。
【0055】さらに、図9の半導体メモリにおいては、
第1のワードデコーダ2−1のPチャネル型トランジス
タ21−1のソースに対し、高電圧側電源供給信号SW
DZを供給して駆動信号SWLの電圧レベルを制御する
ための第1の制御回路1−1が設けられている。この第
1の制御回路1−1は、Pチャネル型トランジスタ11
−1およびNチャネル型トランジスタ12−1からなる
インバータを有している。Pチャネル型トランジスタ1
1−1のソースは、昇圧電圧Vppの電源に接続され、N
チャネル型トランジスタ12−1のソースは、負の電圧
Vnwl のマイナス電源に接続される。ここでは、上記イ
ンバータの入力側のノードn01から入力される制御信
号に基づいて、第1のワードデコーダ2−1の高電圧側
電源に対し、昇圧電圧Vppまたは負の電圧Vnwl の高電
圧側電源供給信号SWDZが供給されることになる。
【0056】さらに、図9の半導体メモリにおいては、
上記ワード線駆動回路2の内部に、リセットレベルの接
地電圧Vssの電位と、負の電圧Vnwl の電位との切り替
えを行う第1のリセットレベル切替スイッチ回路部3−
1を設けている。この第1のリセットレベル切替スイッ
チ回路部3−1は、接地電圧Vssと負の電圧Vnwl の間
で、ワード線61のノードに接続されたNチャネル型ト
ランジスタ22−1のソースの電位を切り替えるための
Nチャネル型トランジスタ31−1、32−1と、Nチ
ャネル型トランジスタ31−1のゲートとNチャネル型
トランジスタ32−1のゲートとの間に接続されるイン
バータ33−1とを有している。さらに、上記第1のリ
セットレベル切替スイッチ回路部3−1は、接地電圧V
ssと負の電圧Vnwl の間で、ワード線61のノードに接
続されたNチャネル型トランジスタ23−1のソースの
電位を切り替えるためのNチャネル型トランジスタ34
−1、35−1とを有している。
【0057】図10は、本発明の第2の実施例に係る半
導体メモリの主要部の構成を示す回路ブロック図であ
る。ここでは、図3に示したワード線駆動回路1、ワー
ド線駆動回路2aおよびリセット電位発生回路(すなわ
ち、リセットレベル切替スイッチ回路)4を組み込んで
形成した半導体メモリの構成を例示する。図10の第2
の実施例に係る半導体メモリにおいては、複数のワード
デコーダ2a−1〜2a−n(nは2以上の任意の正の
整数)から複数のリセット電位発生回路4−1〜4−n
を切り離し、複数の制御回路1−1〜1−nと同じ場所
に配置している。この場合も、各々のワードデコーダに
対し、一つのリセット電位発生回路、すなわち、リセッ
トレベル切替スイッチ回路を持つことになる。
【0058】図10の半導体メモリにおける複数のワー
ドデコーダ2a−1〜2a−nの各々(例えば、第1の
ワードデコーダ2a−1)の構成は、前述の図3のワー
ド線駆動回路2aの構成と同じである。さらに詳しく説
明すると、第1のワードデコーダ2a−1は、選択信号
MWLに基づいて駆動信号SWLを出力するためのPチ
ャネル型トランジスタ24−1およびNチャネル型トラ
ンジスタ25−1からなるインバータと、リセット制御
信号SWDXに基づいてワード線を所定のリセット電位
にクランプするためのNチャネル型トランジスタ26−
1とを有している。Nチャネル型トランジスタ25−
1、26−1のソースは、ワード線をリセットするため
の負の電圧Vnwl の電源に接続されている。
【0059】さらに、図10の半導体メモリにおいて
は、前述の図9の場合と同じように、第1のワードデコ
ーダ2a−1のPチャネル型トランジスタ24−1のソ
ースに対し、高電圧側電源供給信号SWDZを供給して
駆動信号SWLの電圧レベルを制御するための第1の制
御回路1−1が設けられている。この第1の制御回路1
−1は、前述の図9の場合と同じように、Pチャネル型
トランジスタ11−1およびNチャネル型トランジスタ
12−1からなるインバータを有している。Pチャネル
型トランジスタ11−1のソースは、昇圧電圧Vppの電
源に接続され、Nチャネル型トランジスタ12−1のソ
ースは、第1のリセット電位発生回路4−1の出力端子
に接続される。この第1のリセット電位発生回路4−1
の出力端子からNチャネル型トランジスタ12−1のソ
ースに対し、ワード線のリセット電源供給信号VRST
が供給される。
【0060】この場合、第1のリセット電位発生回路4
−1は、第1のワードデコーダ2a−1のリセットレベ
ルの切り替えを行うリセットレベル切替スイッチ回路の
機能を有している。上記第1のリセット電位発生回路4
−1は、第1のワードデコーダ2aとは別個に設けら
れ、かつ、第1のリセット電位発生回路4−1と同じ場
所に配置される。
【0061】図11は、本発明の第3の実施例に係る半
導体メモリの主要部の構成を示す回路ブロック図であ
る。図11の第3の実施例に係る半導体メモリにおいて
は、複数のワードデコーダ2a−1〜2a−nから複数
のリセット電位発生回路(すなわち、リセットレベル切
替スイッチ回路)4b−1〜4b−n/2を切り離し、
複数の制御回路1b−1〜1b−n/2と同じ場所に配
置している。基本的な回路構成や動作は、図10の半導
体メモリと同じである。ただし、この場合は、ある単位
の複数のワードデコーダ(例えば、2つのワードデコー
ダ)が、一つのリセットレベル切替スイッチ回路を共有
し、上記の単位に基づいてリセットレベル切替スイッチ
回路によるリセットレベルの切り替えを一括して行うよ
うにしている。ここで、共有するワードデコーダの選択
は、選択信号MWL等により他の系列から行うようにし
ている。
【0062】図11の半導体メモリにおける複数のワー
ドデコーダ2a−1〜2a−nの各々(例えば、第1の
ワードデコーダ2a−1)の構成は、前述の図10のワ
ードデコーダの構成と同じである。さらに、複数の制御
回路1b−1〜1b−n/2の各々(例えば、第1の制
御回路1b−1)の構成は、前述の図10の制御回路1
−1の構成と同じであり、複数のリセットレベル切替ス
イッチ回路4b−1〜4b−n/2の各々(例えば、第
1のリセットレベル切替スイッチ回路4b−1)の構成
は、前述の図10のリセットレベル切替スイッチ回路4
−1の構成と同じである。したがって、ここでは、ワー
ドデコーダ、制御回路およびリセットレベル切替スイッ
チ回路の詳細な説明は省略することとする。
【0063】本発明の第3の実施例に係る半導体メモリ
によれば、複数のワードデコーダに対し、リセットレベ
ル切替スイッチ回路によるリセットレベルの切り替えを
一括して行っているので、リセットレベル切替スイッチ
回路の数が少なくなって無駄な消費電力を抑えることが
可能になる。図12は、本発明の実施例に使用されるリ
セットレベル切替制御タイミング回路の構成を示す回路
ブロック図であり、図13は、図12のリセットレベル
切替制御タイミング回路の動作を説明するためのタイミ
ングチャートである。
【0064】図12においては、ワード線のリセット動
作時に同ワード線の電位が充分低下した後に、ノードn
02=“Vii”になるように制御するための第1の方法
として、ワード線の電位が充分低下する時間を、リセッ
トレベル切替制御タイミング回路で模倣し制御する方法
を実行するためのリセットレベル切替制御タイミング回
路の構成を図示し、図13においては、図12のリセッ
トレベル切替制御タイミング回路の各部の信号波形を図
示することとする。
【0065】さらに、図12において、半導体装置がリ
セットコマンドを受けた際に出力される信号をRESE
Tとし、本発明にて注目されるワード線駆動回路をリセ
ットするためのトリガとなる信号(図1であれば選択信
号MWL、図3であればノードn01での信号)をRS
Tとし、リセットレベルの切り替え信号をSWとする。
図12のリセットレベル切替制御タイミング回路は、信
号RESETが入力されるロジック部7と、このロジッ
ク部のノードsw00から出力される制御信号に所定の
遅延を与える制御信号ディレイ部8とを有している。こ
の制御信号ディレイ部8は、キャパシタ81〜83と抵
抗84〜86との組み合せにより、制御信号に対し所望
の遅延量を付与する。
【0066】図13のタイミングチャートから明らかな
ように、図12のロジック部7に信号RESETが入力
されると、ロジック部7にて各種論理がとられ、信号R
STが出力されてワード線のリセットが開始される。こ
れと同時に、ロジック部7のノードsw00から制御信
号が出力され、ワード線のレベルが充分低下するまでの
時間に予め設定された制御信号ディレイ部8を通過す
る。この制御信号ディレイ部8を伝搬した制御信号は、
リセットレベル切替スイッチ回路の切替信号SWとして
出力される。このようにして出力された切替信号SW
は、リセット電位切替用制御信号として、図1または図
3のノードn02に供給される。
【0067】図14は、本発明の実施例に使用されるワ
ード線電位判定回路の構成を示す回路ブロック図であ
り、図15は、図14のワード線電位判定回路の動作を
説明するためのタイミングチャートである。図14にお
いては、ワード線のリセット動作時に同ワード線の電位
が充分低下した後に、ノードn02=“Vii”になるよ
うに制御するための第2の方法として、ワード線の電位
を半導体装置内部で監視し、ノードn02の電位を自動
的に変化させる方法を実行するためのワード線電位判定
回路の構成を図示し、図15においては、図14のワー
ド線電位判定回路の各部の信号波形を図示することとす
る。
【0068】さらに、図14に示すワード線電位判定回
路は、信号RESETが入力されるロジック部7と、こ
のロジック部のノードsw00から出力される制御信号
を分圧して所定のレベルの信号を得るための分圧回路部
と、ワード線の電位判定の基準となる抵抗92と、3個
のPチャネル型トランジスタ91、93および95と、
2個のNチャネル型トランジスタ94、96とを有して
いる。上記の分圧回路部は、4つの分圧用抵抗74〜7
7と、Pチャネル型トランジスタ72と、Nチャネル型
トランジスタ73と、Pチャネル型トランジスタ72の
ゲートとNチャネル型トランジスタ73のゲートとの間
に接続されるインバータ71とを含む。
【0069】図15のタイミングチャートから明らかな
ように、図14のロジック部7に信号RESETが入力
されると、ロジック部7にて各種論理がとられ、信号R
STが出力されてワード線のリセットが開始される。こ
れと同時に、ロジック部7のノードsw00から制御信
号が出力され、ワード線の電位を監視しはじめる。この
場合、4つの分圧用抵抗74〜77の抵抗比によって分
圧された電位が、ノードsw01にて得られる。
【0070】ノードsw01のレベルによって制御され
るPチャネル型トランジスタ91のオン抵抗と、抵抗9
2(抵抗値r10)の抵抗比によってノードsw02の
電位が得られ、このノードsw02電位が次段のインバ
ータを動作させている。ここで、ワード線の電位が高い
状態では、ノードsw01が“H”であると認識される
レベルにいるので、ノードsw02が“L”、切替信号
SWが“L”となっている。つぎに、ワード線の電位が
充分低下すると、ノードsw01は“L”であると認識
されるレベルにまで低下し、次段のPチャネル型トラン
ジスタ91を動作状態にする。このとき、Pチャネル型
トランジスタ91のオン抵抗が抵抗92の抵抗値r10
よりも充分に小さくなって、ノードsw02が“H”と
なり、この結果として切替信号SWは“H”となる。こ
のようにして“L”から“H”に変化した切替信号SW
は、リセット電位切替用制御信号として図1または図3
のノードn02に供給される。
【0071】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置によれば、第1に、メモリセルに接続されたワード線
のリセット動作を行う際のリセットレベルを、接地電位
等の第1の電位と、マイナス電位等の第2の電位との間
で切り替えているので、ワード線のノードが有する電荷
の大部分を接地電位の電源へ逃がしてやることができる
ようになり、電源効率の悪いマイナス電位の電源へ逃が
す電荷量が大幅に減少し、消費電力を大幅に節減するこ
とが可能になる。
【0072】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
2に、ワード線駆動回路内に、リセットレベルの第1の
電位と第2の電位との切り替えを行うリセットレベル切
替スイッチ回路部を設けているので、ワード線のノード
が有する電荷の大部分を接地電位の電源へ直接引き抜く
ことができるようになり、トランジスタのしきい値電圧
に影響されることなくリセット動作が安定に行われる。
【0073】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
3に、リセットレベルの第1の電位と第2の電位との切
り替えを行うリセットレベル切替スイッチ回路を、ワー
ド線駆動回路とは別に設けているので、半導体チップ上
の空いている空間を有効に利用することができるように
なり、半導体チップの面積を最小限に抑えることが可能
になる。
【0074】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
4に、複数のワード線駆動回路に対しリセットレベル切
替スイッチ回路を共有し、リセットレベルの第1の電位
と第2の電位との切り替えを一括して行うようにしてい
るので、リセットレベル切替スイッチ回路による無駄な
消費電力を抑えることが可能になる。さらに、本発明の
半導体装置によれば、第5に、リセットレベルの接地電
位への切り替えを、ワード線のリセット動作を開始する
前に行うようにしているので、ワード線のノードが有す
る電荷の大部分を接地電位の電源へ逃がしてやることが
できるので、消費電力を大幅に節減することが可能にな
る。
【0075】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
6に、リセットレベルのマイナス電位への切り替えを、
ワード線のレベルが充分低下した後に行うようにしてい
るので、電源効率の悪いマイナス電源へ逃がす電荷量が
大幅に減少し、消費電力を大幅に節減することが可能に
なる。さらに、本発明の半導体装置によれば、第7に、
リセットレベルの第1の電位と第2の電位との切り替え
を、セルアレイに設けられたセンスアンプの活性化信号
および非活性化信号を用いて行えるので、リセットレベ
ル切り替えのための制御信号を付加する必要がなくな
り、このような制御信号による余計な回路動作に起因し
た消費電力の増加が抑制される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の構成を示す回路図であ
る。
【図2】図1の実施例の動作を説明するためのタイミン
グチャートである。
【図3】本発明の第2の実施例の構成を示す回路図であ
る。
【図4】図3の実施例におけるリセット電位発生回路の
詳細な構成を示す回路図である。
【図5】図3の実施例の動作を説明するためのタイミン
グチャートである。
【図6】本発明の実施例に使用される負電位発生回路の
詳細な構成を示す回路図である。
【図7】図6の負電位発生回路の動作を説明するための
タイミングチャートである。
【図8】本発明の実施例に使用される半導体メモリの概
略的構成を示す平面図である。
【図9】本発明の第1の実施例に係る半導体メモリの主
要部の構成を示す回路ブロック図である。
【図10】本発明の第2の実施例に係る半導体メモリの
主要部の構成を示す回路ブロック図である。
【図11】本発明の第3の実施例に係る半導体メモリの
主要部の構成を示す回路ブロック図である。
【図12】本発明の実施例に使用されるリセットレベル
切替制御タイミング回路の構成を示す回路ブロック図で
ある。
【図13】図12のリセットレベル切替制御タイミング
回路の動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。
【図14】本発明の実施例に使用されるワード線電位判
定回路の構成を示す回路ブロック図である。
【図15】図14のワード線電位判定回路の動作を説明
するためのタイミングチャートである。
【図16】従来のリセット電位を負電位に設定する機能
を備えた半導体装置の構成を示す回路図である。
【図17】図16の従来技術の動作を説明するためのタ
イミングチャートである。
【符号の説明】
1…ワード線駆動制御回路 2…ワード線駆動回路 2a…ワード線駆動回路 3…リセットレベル切替スイッチ回路部 4…リセット電位発生回路 5a…発振回路部 5b…ポンプ回路部 6…半導体メモリ 7…ロジック部 8…制御信号ディレイ部 11…Pチャネル型トランジスタ 12…Nチャネル型トランジスタ 21…Pチャネル型トランジスタ 22、23…Nチャネル型トランジスタ 24…Pチャネル型トランジスタ 25、26…Nチャネル型トランジスタ 31、32…Nチャネル型トランジスタ 33…インバータ 34、35…Nチャネル型トランジスタ 41、42…Nチャネル型トランジスタ 43…インバータ 50、51および52…インバータ 53…ポンピングキャパシタ 54、55…Nチャネル型トランジスタ 60…セルアレイ 61…ワード線 62…ビット線対 63…ワードデコーダ 64…センスアンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江渡 聡 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 中村 俊和 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 長谷川 正智 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 北本 綾子 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 川畑 邦範 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 加納 英樹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 古賀 徹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 石井 祐樹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 5B015 HH01 HH03 JJ03 KA23 KA28 KB62 KB82 KB91 PP07 5B024 AA01 BA13 BA21 BA27 BA29 CA07 CA11

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のメモリセルを含むセルアレイ内の
    特定のメモリセルを活性化状態からスタンバイ状態に復
    帰させる場合に、該特定のメモリセルに接続されたワー
    ド線を駆動して該ワード線をリセットする機能を有する
    ワード線駆動回路を備えた半導体装置において、 前記ワード線のリセット動作を行う際に設定される前記
    ワード線駆動回路のリセットレベルを、第1の電位と第
    2の電位との間で切り替えるように構成されることを特
    徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記ワード線駆動回路内に、前記リセッ
    トレベルの前記第1の電位と前記第2の電位との切り替
    えを行うリセットレベル切替スイッチ回路部を設ける請
    求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記リセットレベルの前記第1の電位と
    前記第2の電位との切り替えを行うリセットレベル切替
    スイッチ回路を、前記ワード線駆動回路とは別に設ける
    請求項1記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 複数のメモリセルを含むセルアレイ内の
    特定のメモリセルを活性化状態からスタンバイ状態に復
    帰させる場合に、該特定のメモリセルに接続されたワー
    ド線を駆動して該ワード線をリセットする機能を有する
    複数のワード線駆動回路を備えた半導体装置において、 前記ワード線のリセット動作を行う際に設定される前記
    複数のワード線駆動回路のリセットレベルを、第1の電
    位と第2の電位との間で切り替えるリセットレベル切替
    スイッチ回路を、前記複数のワード線駆動ドライバ回路
    とは別に設け、 該複数のワード線駆動回路に対し、前記リセットレベル
    切替スッチ回路による前記リセットレベルの前記第1の
    電位と前記第2の電位との切り替えを一括して行うこと
    を特徴とする半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記第2の電位が、前記第1の電位より
    も低いレベルに設定される請求項1から4のいずれか一
    項に記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記リセットレベルの前記第1の電位が
    接地電位であり、前記第2の電位が負の電圧レベルの電
    位である請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体
    装置。
  7. 【請求項7】 前記リセットレベルの前記第1の電位へ
    の切り替えは、前記ワード線のリセット動作を開始する
    前に行う請求項1から6のいずれか一項に記載の半導体
    装置。
  8. 【請求項8】 前記リセットレベルの前記第2の電位へ
    の切り替えは、前記リセット動作が開始され、前記ワー
    ド線のレベルが低下した後に行う請求項1から6のいず
    れか一項に記載の半導体装置。
  9. 【請求項9】 前記半導体装置が、前記リセット動作が
    開始されてから前記ワード線のレベルが所定のレベルに
    低下するまでの時間を予め設定し、前記リセット動作の
    開始のタイミングから該時間が経過した後に、前記リセ
    ットレベルの前記第1の電位から前記第2の電位への切
    り替えを行うためのリセットレベル切替制御タイミング
    回路を有する請求項1から8のいずれか一項に記載の半
    導体装置。
  10. 【請求項10】 前記半導体装置が、前記ワード線の電
    位を監視し、該ワード線の電位が所定のレベルに低下し
    たことを検出したときに、前記リセットレベルの前記第
    1の電位から前記第2の電位への切り替えを行うための
    ワード線電位判定回路を有する請求項1から8のいずれ
    か一項に記載の半導体装置。
  11. 【請求項11】 前記リセットレベルの前記第1の電位
    と前記第2の電位との切り替えは、前記セルアレイに設
    けられたセンスアンプを活性化したり非活性化したりす
    るための活性化信号および非活性化信号を用いて行う請
    求項1から10のいずれか一項に記載の半導体装置。
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