JP2000033266A - 炭化水素含有排ガスの浄化用触媒および炭化水素含有排ガスの浄化方法 - Google Patents
炭化水素含有排ガスの浄化用触媒および炭化水素含有排ガスの浄化方法Info
- Publication number
- JP2000033266A JP2000033266A JP10201668A JP20166898A JP2000033266A JP 2000033266 A JP2000033266 A JP 2000033266A JP 10201668 A JP10201668 A JP 10201668A JP 20166898 A JP20166898 A JP 20166898A JP 2000033266 A JP2000033266 A JP 2000033266A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- exhaust gas
- palladium
- tin oxide
- hydrocarbons
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
に対しても高い浄化率を発揮し、かつ硫黄酸化物の共存
下でも長期にわたって安定した触媒活性を発揮し得る、
酸素過剰な排ガス中の低濃度炭化水素の浄化用触媒およ
びその様な排ガスの浄化方法を提供することを主な目的
とする。 【解決手段】炭化水素を含有しかつ還元性物質の完全酸
化に必要な量以上の酸素を含む排ガス中の炭化水素の浄
化用触媒であって、酸化スズ担体にPdまたはPdとPtとを
担持してなる触媒。
Description
還元性物質の完全酸化に必要な量以上の酸素を含む排ガ
ス中の炭化水素の浄化触媒および該排ガスの浄化方法に
関する。この様な排ガスは、エンジン、タービン、ボイ
ラなどの燃焼器から排出され、メタン、プロパン、プロ
ピレン、ブタン、ブチレンなどの炭化水素を低濃度で含
有している。
以外の炭化水素の酸化除去に際して、白金、パラジウム
などの白金族金属を担持した触媒が高い性能を示すこと
が、知られている。例えば、特開昭51-106691号公報
は、アルミナ担体に白金或いはパラジウムを担持した排
ガス浄化用触媒を開示している。しかしながら、天然ガ
スの燃焼排ガスの様に、炭化水素の主成分がメタンであ
る場合には、この様な触媒を用いても、メタンの化学的
安定性が高いために、十分な浄化効果が達成されないと
いう問題がある。
などの阻害物質が共存しているので、触媒活性が、経時
的に著しく劣化することは避けられない。灯油、軽油な
どの石油系燃料が、含硫黄化合物を含むことはむしろ当
然といえる。しかしながら、本来硫黄化合物をほとんど
含まない天然ガス由来の燃料、例えばわが国で供給され
ている都市ガスには、付臭剤として硫黄を含む化合物が
添加されているので、燃焼排ガス中には、燃焼によって
生成した硫黄酸化物が必然的に含まれる。
ス中の低濃度炭化水素用酸化触媒として、ハニカム基材
にアルミナ担体を介してパラジウムを7g/l以上且つ白金
を3〜20g/l担持した触媒を開示している。しかしなが
ら、この触媒も、硫黄成分の共存下においては、長期の
耐久性が十分ではなく、触媒活性の経時的な劣化は避け
られない。
ンなどの炭化水素の除去率が低い、さらに硫黄酸化物が
共存する条件下では、短時間内に触媒活性の大きな低下
が生じるという重大な問題点が存在する。
中のメタンの含有割合が高い排ガスに対しても高い浄化
率を発揮し、かつ硫黄酸化物の共存下でも長期にわたっ
て安定した触媒活性を発揮し得る、酸素過剰な排ガス中
の低濃度炭化水素の浄化用触媒およびその様な排ガスの
浄化方法を提供することを主な目的とする。
題点に鑑みて研究を重ねた結果、酸化スズ担体にパラジ
ウムを担持させた触媒が、硫黄酸化物による触媒活性の
阻害に対して高い抵抗性を示すので、燃焼排ガスの処理
条件下においても、長期にわたり安定して高いメタン酸
化能を維持することを見出した。また、酸化スズ担体に
パラジウムとともに白金を担持する場合には、より低い
排ガス処理温度においても、高いメタン酸化能が得られ
ることを見出した。
れたものであり、下記の炭化水素含有排ガスの浄化用触
媒、およびそれを用いる炭化水素含有排ガス浄化方法を
提供する。
全酸化に必要な量以上の酸素を含む排ガス中の炭化水素
の浄化用触媒であって、酸化スズにパラジウムを担持し
てなる触媒。
準として、1〜10重量%である上記項1に記載の触媒。
全酸化に必要な量以上の酸素を含む排ガス中の炭化水素
の浄化用触媒であって、酸化スズにパラジウムおよび白
金を担持してなる触媒。
準として、1〜10重量%である上記項3に記載の触媒。
して、5〜50重量である上記項3または4に記載の触
媒。
を用いることを特徴とする、炭化水素を含有しかつ還元
性物質の完全酸化に必要な量以上の酸素を含む排ガス中
の炭化水素の浄化方法。
150℃以下の条件で行う上記項6に記載の排ガス中の炭
化水素の浄化方法。
00000h-1以下の条件で行う上記項6または7に記載の排
ガス中の炭化水素の浄化方法。
パラジウムイオンあるいはパラジウムイオンと白金イオ
ンとを含む溶液を含浸し、乾燥し、次いで焼成すること
により得られる。
いはパラジウムと白金とを高分散に保つために重要な要
素であり、5m2/g以上であることが好ましく、10〜50m2/
g程度であることがより好ましい。この様な酸化スズ担
体としては、市販品を使用することができる。
は、好ましくは酸化スズの重量を基準として、1〜20%
程度、より好ましくは2〜10%程度である。パラジウム
の担持量が少な過ぎる場合には、触媒活性が低くなるの
に対し、多過ぎる場合には、パラジウムの粒径が大きく
なってパラジウムが有効に使われなくなる。
には、パラジウムの担持量は、上記と同様であり、白金
の担持量は、好ましくはパラジウムの量を基準として、
5〜50%程度、より好ましくは10〜50%程度である。白
金の担持量が少な過ぎる場合には、併用による効果の改
善が十分でなくなるのに対し、多過ぎる場合には、パラ
ジウムの機能を阻害するおそれがある。
使用するパラジウムイオン含有溶液或いはパラジウムイ
オンと白金イオンとを含有する溶液としては、これら金
属の硝酸塩、アンミン錯体などの溶液を用いればよい。
溶液形態としては、水溶液が好ましいが、アセトン、エ
タノールなどの水溶性の有機溶媒を加えた混合溶媒溶液
であってもよい。
ズ担体を乾燥した後、空気中で焼成することにより、所
望の触媒が得られる。焼成は、長期にわたる安定した高
い触媒活性を得るために、好ましくは450℃〜650℃程度
の範囲内で、より好ましくは500〜600℃程度の範囲内で
行う。焼成温度が高過ぎる場合には、担持金属の粒成長
の進行に伴い比表面積が減少して、触媒活性が低下する
ことがあるのに対し、低過ぎる場合には、触媒の使用中
にパラジウムあるいはパラジウムと白金の粒成長が進む
ので、やはり触媒特性が低下して、安定性が損なわれ
る。
ることができる。例えば、常法に従って、耐火性ハニカ
ム上にウオッシュコートした形態、ペレット状に打錠成
型した形態などの任意の形態で使用することができる。
本発明触媒は、耐火性ハニカム上にウオッシュコートし
て用いることがより好ましい。耐火性ハニカム上にウオ
ッシュコートする場合には、上記の方法で調製した触媒
をスラリー状にしてウオッシュコートしてもよく、或い
は担体となるべき酸化スズを耐火性ハニカム上に予めウ
オッシュコートした後、上記と同様の方法により、担体
にパラジウムまたはパラジウムと白金とを担持させても
よい。
ガス中の炭化水素浄化方法では、上記で得られた触媒を
使用する。炭化水素の浄化に際して、触媒量が少な過ぎ
る場合には、所定の浄化率が得られないので、排ガス時
間当たり空間速度(GHSV)で200000h-1以下となる量を使
用することが望ましい。ガス時間当たり空間速度(GHSV)
を低くするほど触媒量が多くなるので、浄化率は向上し
て有利であるが、その反面、例えば10000h-1以下となる
量で使用する場合には、経済的に不利となり、かつ触媒
層での圧力損失が大きくなる。従って、触媒の使用量
は、GHSV200000h-1以下となる条件下で、適切に選択す
れば良い。
は、反応速度が低下するので、ガス中の酸素濃度は、2
体積%以上でかつガス中の炭化水素などの還元性成分の
少なくとも酸化当量以上、より好ましくは5倍以上の酸
素が存在することが望ましい。排ガス中の酸素濃度が低
すぎる場合には、処理に先立ちあるいは処理中に排ガス
に所要量の空気を混ぜてもよい。
素含有排ガスの浄化用触媒は、高い活性を有している
が、浄化処理温度が低過ぎる場合には、活性が十分に発
揮されないため、所望の炭化水素転化率が得られ難い。
これに対し、浄化処理温度が高過ぎる場合には、触媒の
耐久性が悪化する恐れがある。また、排ガス中の炭化水
素濃度が著しく高い場合には、触媒層で急激な反応が起
こって、触媒の耐久性に影響を及ぼす危険性がある。こ
れらの点を考慮して、触媒層温度が400〜600℃の範囲に
維持され、かつ触媒層中での温度上昇(触媒層出口温度
と入口温度との差)が150℃以下となる様に反応条件を調
整しつつ、排ガスの浄化処理を行うことが好ましい。
下させる硫黄酸化物を通常含んでいるが、本発明による
触媒は、硫黄成分による活性低下に対して高い抵抗性を
示す。従って、排ガスが、体積基準で10ppm程度までの
硫黄酸化物を含んでいる場合であっても、炭化水素の高
い浄化率は、実質的に影響を受けない。
の水蒸気を含んでいるが、本発明方法によれば、このよ
うに水蒸気を含む排ガスも、何らの支障なく、浄化する
ことができる。
が達成される。
燃焼排ガスの様に水蒸気を大量に含む排ガスに対して、
メタンなどの炭化水素に対する酸化活性を長期にわたり
安定して示す。
対する抵抗性にも優れている。
の触媒では特に処理困難であったメタンを大量に含有す
る排ガスを長期間安定して浄化処理することが可能とな
った。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
L”、比表面積36m2/g)5gをパラジウム0.10gを含有する
硝酸パラジウム水溶液10mlに0℃で15時間含浸した後、
乾燥し、次いで空気中550℃で2時間焼成して、酸化スズ
担体にPdを2重量%担持する触媒を得た。
る硝酸パラジウム水溶液20mlに0℃で15時間含浸した
後、乾燥し、次いで550℃で2時間空気中で焼成して、酸
化スズ担体にPdを5重量%担持する触媒を得た。
る硝酸パラジウム水溶液20mlに0℃で15時間含浸した
後、乾燥し、次いで550℃で2時間空気中で焼成して、酸
化スズ担体にPdを10重量%担持する触媒を得た。
ニトロジアンミン白金0.083gを69%硝酸1mlに加熱溶解
した液とを混合し、さらに純水を加えて、Pd-Pt含有混
合溶液20mlを調製した。実施例1と同じ酸化スズ5gをこ
の混合溶液に0℃で15時間含浸した後、乾燥し、次いで5
50℃で2時間空気中で焼成して、酸化スズ担体にPd5%と
Pt1%とを担持する触媒を得た。
ニトロジアンミン白金0.042gを69%硝酸1mlに加熱溶解
した液とを混合し、さらに純水を加えて、Pd-Pt含有混
合溶液20mlを調製した。実施例1と同じ酸化スズ5gをこ
の混合溶液に0℃で15時間含浸した後、乾燥し、次いで5
50℃で2時間空気中で焼成して、酸化スズ担体にPd5%と
Pt0.5%とを担持する触媒を得た。
ニトロジアンミン白金0.021gを69%硝酸1mlに加熱溶解
した液とを混合し、さらに純水を加えて、Pd-Pt含有混
合溶液20mlを調製した。実施例1と同じ酸化スズ5gをこ
の混合溶液に0℃で15時間含浸した後、乾燥し、次いで5
50℃で2時間空気中で焼成して、酸化スズ担体にPd2%と
Pt0.25%とを担持する触媒を得た。
ニトロジアンミン白金0.042gを69%硝酸1mlに加熱溶解
した液とを混合し、さらに純水を加えて、Pd-Pt含有混
合溶液20mlを調製した。実施例1と同じ酸化スズ5gをこ
の混合溶液に0℃で15時間含浸した後、乾燥し、次いで5
50℃で2時間空気中で焼成して、酸化スズ担体にPd2%と
Pt0.5%とを担持する触媒を得た。
ニトロジアンミン白金0.083gを69%硝酸1mlに加熱溶解
した液とを混合し、さらに純水を加えて、Pd-Pt含有混
合溶液20mlを調製した。実施例1と同じ酸化スズ5gをこ
の混合溶液に0℃で15時間含浸した後、乾燥し、次いで5
50℃で2時間空気中で焼成して、酸化スズ担体にPd2%と
Pt1%とを担持する触媒を得た。
ジウム0.25gを含有する硝酸パラジウム水溶液10mlに0℃
で15時間含浸し、乾燥し、さらに550℃で2時間空気中で
焼成して、アルミナ担体にPd5%を担持する触媒を得
た。
ニトロジアンミン白金0.083gを69%硝酸1mlに加熱溶解
した液とを混合し、さらに純水を加えて、Pd-Pt含有混
合溶液20mlを調製した。比較例1と同じアルミナ5gをこ
の混合溶液に0℃で15時間含浸した後、乾燥し、次いで5
50℃で2時間空気中で焼成して、アルミナ担体にPd5%と
Pt1%とを担持する触媒を得た。
打錠成型し、粒径1〜2mmに整粒した。次いで、各成型体
0.75mlを触媒層として、メタン1000ppm、酸素10%、二
酸化炭素6%、水蒸気10%、二酸化炭素6ppmおよび残部
ヘリウムからなる組成のガスをGHSV(ガス時間当たり空
間速度)40000の条件にて流通させ、触媒層温度を約450
℃に保ってメタン転化率(初期触媒活性)を測定した。反
応層前後のガス組成は水素炎イオン化検知器を有するガ
スクロマトグラフにより測定した。
素10%、二酸化炭素6%、水蒸気10%、二酸化炭素6pp
m、二酸化硫黄60ppmおよび残部ヘリウムからなる組成の
ガスをGHSV(ガス時間当たり空間速度)40000の条件に
て流通させ、触媒層温度を約400℃に保って2時間流通さ
せ、予め触媒を加速的に硫黄被毒させた後、上記と同様
の条件下にメタン転化率(被毒後触媒活性)を測定した。
下の式によって求められる値である。
媒層入口CH4濃度}×100
実施例で得られた触媒は、触媒活性を著しく阻害する二
酸化硫黄の共存下においいても、安定した触媒活性(メ
タン転化率)を発揮する。
ぞれ打錠成型し、粒径1〜2mmに整粒した。次いで、各成
型体1.5mlを触媒層として、メタン2000ppm、一酸化炭素
1000ppm、酸素10%、二酸化炭素6%、水蒸気10%、二酸
化硫黄0.3ppmおよび残部窒素からなる組成のガスをGHSV
(ガス時間当たり空間速度)80000の条件で流通させ、
触媒層温度を約450℃に保ってメタン転化率の経時変化
(触媒としての耐久性)を測定した。反応層前後のガス組
成は、水素炎イオン化検知器を有するガスクロマトグラ
フにより測定した。メタン転化率(%)の経時変化を図
1に示す。
触媒は、試験開始直後には、実施例2、4の触媒と同等
かそれ以上のメタン転化活性を示すものの、二酸化硫黄
の存在により、急速に劣化して短時間内に実質的に活性
を失ってしまう。これに対し、実施例2、4の触媒は、
二酸化硫黄の共存下においても長期にわたり安定したメ
タン転化活性を保持し続けている。
おいて、実施例2、4と比較例1、2でそれぞれ得られ
た触媒のメタン転化率の経時変化を示すグラフである。
Claims (8)
- 【請求項1】炭化水素を含有しかつ還元性物質の完全酸
化に必要な量以上の酸素を含む排ガス中の炭化水素の浄
化用触媒であって、酸化スズにパラジウムを担持してな
る触媒。 - 【請求項2】パラジウムの担持量が、酸化スズを基準と
して、1〜10重量%である請求項1に記載の触媒。 - 【請求項3】炭化水素を含有しかつ還元性物質の完全酸
化に必要な量以上の酸素を含む排ガス中の炭化水素の浄
化用触媒であって、酸化スズにパラジウムおよび白金を
担持してなる触媒。 - 【請求項4】パラジウムの担持量が、酸化スズを基準と
して、1〜10重量%である請求項3に記載の触媒。 - 【請求項5】白金の担持量が、パラジウムを基準とし
て、5〜50重量である請求項3または4に記載の触媒。 - 【請求項6】請求項1〜5のいずれかに記載の触媒を用
いることを特徴とする、炭化水素を含有しかつ還元性物
質の完全酸化に必要な量以上の酸素を含む排ガス中の炭
化水素の浄化方法。 - 【請求項7】触媒層前と後での排ガスの温度差が、150
℃以下の条件で行う請求項6に記載の排ガス中の炭化水
素の浄化方法。 - 【請求項8】ガスの時間当たり空間速度が、GHSV=20000
0h-1以下の条件で行う請求項6または7に記載の排ガス
中の炭化水素の浄化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20166898A JP4171849B2 (ja) | 1998-07-16 | 1998-07-16 | 炭化水素含有排ガスの浄化用触媒および炭化水素含有排ガスの浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20166898A JP4171849B2 (ja) | 1998-07-16 | 1998-07-16 | 炭化水素含有排ガスの浄化用触媒および炭化水素含有排ガスの浄化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000033266A true JP2000033266A (ja) | 2000-02-02 |
JP4171849B2 JP4171849B2 (ja) | 2008-10-29 |
Family
ID=16444926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20166898A Expired - Fee Related JP4171849B2 (ja) | 1998-07-16 | 1998-07-16 | 炭化水素含有排ガスの浄化用触媒および炭化水素含有排ガスの浄化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4171849B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004103554A1 (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-02 | Tokyo Gas Company Limited | 排ガス中のメタンの酸化除去用触媒及び排ガス浄化方法 |
US7618255B2 (en) | 2003-01-21 | 2009-11-17 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Apparatus and method for catalytic combustion |
CN115595625A (zh) * | 2021-07-07 | 2023-01-13 | 天津大学(Cn) | 一种钯催化剂及制备方法及在肉桂醇电合成中的应用 |
-
1998
- 1998-07-16 JP JP20166898A patent/JP4171849B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7618255B2 (en) | 2003-01-21 | 2009-11-17 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Apparatus and method for catalytic combustion |
WO2004103554A1 (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-02 | Tokyo Gas Company Limited | 排ガス中のメタンの酸化除去用触媒及び排ガス浄化方法 |
CN115595625A (zh) * | 2021-07-07 | 2023-01-13 | 天津大学(Cn) | 一种钯催化剂及制备方法及在肉桂醇电合成中的应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4171849B2 (ja) | 2008-10-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI776842B (zh) | 用於voc(揮發性有機物)之低成本氧化催化劑及鹵化voc排放控制 | |
JP4096176B2 (ja) | メタン含有排ガスの浄化用触媒およびメタン含有排ガスの浄化方法 | |
RU2631814C2 (ru) | Нанесенный катализатор на основе благородного металла для обработки выхлопного газа | |
JP4429950B2 (ja) | 燃焼排ガス中のメタンの酸化除去用触媒及び排ガス浄化方法 | |
WO1999046040A1 (fr) | Catalyseur pour l'extraction d'hydrocarbures de gaz d'echappement et procede de clarification de gaz d'echappement | |
JP2008246473A (ja) | 排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法 | |
JP4688646B2 (ja) | 三元触媒及びこれを用いたメタン含有ガスの浄化方法 | |
JP4025945B2 (ja) | メタン含有排ガスの浄化用触媒およびメタン含有排ガスの浄化方法 | |
JP4901366B2 (ja) | 排ガス中のメタンの酸化除去用触媒および排ガス中のメタンの酸化除去方法 | |
JP2006521203A (ja) | メタンの低温酸化用触媒 | |
JP2009262132A (ja) | 排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法 | |
JP2000033266A (ja) | 炭化水素含有排ガスの浄化用触媒および炭化水素含有排ガスの浄化方法 | |
JP4568640B2 (ja) | メタン含有排ガスの浄化方法、メタン含有排ガス浄化用三元触媒の前処理方法及びこれを用いた三元触媒 | |
JP2002253969A (ja) | 排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法 | |
JP3779793B2 (ja) | メタンを含有する燃焼排ガスの浄化用触媒および浄化方法 | |
JP4052866B2 (ja) | 排ガス中の炭化水素の酸化用触媒および排ガス中の炭化水素の酸化除去方法 | |
JP2013215718A (ja) | メタンの酸化除去用触媒及びメタンの酸化除去方法 | |
JP4014266B2 (ja) | メタン含有排ガスの浄化触媒および該触媒を使用する排ガス中のメタンの浄化方法 | |
JP4171852B2 (ja) | 排ガス中の炭化水素の浄化用触媒および排ガス中の炭化水素の浄化方法 | |
JP4822049B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒、及びそれを用いた排ガス浄化方法 | |
JP5610805B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法 | |
JP5541873B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法 | |
JP2001190931A (ja) | メタン含有排ガスの浄化方法 | |
JP2000254501A (ja) | メタン含有排ガス中の炭化水素除去用触媒の製造法 | |
JP2004057868A (ja) | 排ガス中の炭化水素の酸化用触媒および排ガス中の炭化水素の酸化除去方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040511 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061018 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061206 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20061206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070829 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071016 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080709 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080729 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110822 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110822 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140822 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |