JP2000030475A - 半導体メモリ装置 - Google Patents
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- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
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- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/06—Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
- G11C7/062—Differential amplifiers of non-latching type, e.g. comparators, long-tailed pairs
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- G—PHYSICS
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- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/26—Sensing or reading circuits; Data output circuits
- G11C16/28—Sensing or reading circuits; Data output circuits using differential sensing or reference cells, e.g. dummy cells
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- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/14—Dummy cell management; Sense reference voltage generators
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数のセンスアンプを有するにもかかわらず
チップサイズの面積が増加せず、かつ複数の基準セルを
有し信頼性のある読み出し動作を行う半導体メモリ装置
を提供する。 【解決手段】 複数のメモリセルを有する複数のメモリ
セルブロック100と、これら複数のメモリセルブロッ
ク100に連結される複数のセンスアンプ300と、基
準値を生成し、生成した基準値をセンスアンプ300に
供給するための基準ブロック500とを有し、各々のセ
ンスアンプ300は、各々のメモリセルブロック100
に結合され、基準ブロック500は所定の基準値を保持
するための基準セル520と、この基準セルの状態に反
応する電流回路510とを含む。
チップサイズの面積が増加せず、かつ複数の基準セルを
有し信頼性のある読み出し動作を行う半導体メモリ装置
を提供する。 【解決手段】 複数のメモリセルを有する複数のメモリ
セルブロック100と、これら複数のメモリセルブロッ
ク100に連結される複数のセンスアンプ300と、基
準値を生成し、生成した基準値をセンスアンプ300に
供給するための基準ブロック500とを有し、各々のセ
ンスアンプ300は、各々のメモリセルブロック100
に結合され、基準ブロック500は所定の基準値を保持
するための基準セル520と、この基準セルの状態に反
応する電流回路510とを含む。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体メモリ装置
に係り、より詳しくは、1つの基準メモリセルブロック
と複数のセンスアンプとを連結させた半導体メモリ装置
に関する。
に係り、より詳しくは、1つの基準メモリセルブロック
と複数のセンスアンプとを連結させた半導体メモリ装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】パーソナルコンピュータ、飛行機自動調
節システム、携帯電話、ディジタルカメラ、そして携帯
通信装置のような多くのコンピューティングシステム
は、データとコードのいずれか、あるいはデータとコー
ドの両方を記憶するため不揮発性書き込み専用メモリを
利用する。不揮発性書き込み専用メモリ装置は、フラッ
シュEEPROMs(Electrically Pr
ogrammable and Erasable R
ead−Only−Memories;以下‘フラッシ
ュメモリ' と称する)を含む。不揮発性メモリは、コン
ピューティングシステムの電源が切られた後も、それら
コード及びデータをコンピューティングシステムに保存
または維持するという利点がある。このように、システ
ムが遮断されたり、電源が切られてもコード及びデータ
は失われない。
節システム、携帯電話、ディジタルカメラ、そして携帯
通信装置のような多くのコンピューティングシステム
は、データとコードのいずれか、あるいはデータとコー
ドの両方を記憶するため不揮発性書き込み専用メモリを
利用する。不揮発性書き込み専用メモリ装置は、フラッ
シュEEPROMs(Electrically Pr
ogrammable and Erasable R
ead−Only−Memories;以下‘フラッシ
ュメモリ' と称する)を含む。不揮発性メモリは、コン
ピューティングシステムの電源が切られた後も、それら
コード及びデータをコンピューティングシステムに保存
または維持するという利点がある。このように、システ
ムが遮断されたり、電源が切られてもコード及びデータ
は失われない。
【0003】フラッシュメモリは、読み出し及び書き込
み(又はプログラミング)用のEEPROMのような他
の不揮発性メモリと比べ、データアクセス処理の遂行速
度が速い。フラッシュメモリの高速動作の長所は、上述
のような分野で非常に有用である。一般に2種類のフラ
ッシュメモリがあり、1つはメモリセルがビット線から
直列に連結されるナンド(NAND)タイプであり、も
う1つはメモリセルがビット線に並列に連結されるノア
(NOR)タイプである。よく知られているように、ノ
アタイプのフラッシュメモリは、データ処理速度が速
く、ノアタイプの方がナンドタイプより高周波メモリシ
ステムで用いる場合には利点が多い。ノアタイプフラッ
シュメモリにおいて、メモリセルのデータ状態は、所定
の基準セルと比較することによりセンスアンプによって
検証される。検証動作の安定化は、ノアタイプフラッシ
ュメモリで一番重要な要素となる。
み(又はプログラミング)用のEEPROMのような他
の不揮発性メモリと比べ、データアクセス処理の遂行速
度が速い。フラッシュメモリの高速動作の長所は、上述
のような分野で非常に有用である。一般に2種類のフラ
ッシュメモリがあり、1つはメモリセルがビット線から
直列に連結されるナンド(NAND)タイプであり、も
う1つはメモリセルがビット線に並列に連結されるノア
(NOR)タイプである。よく知られているように、ノ
アタイプのフラッシュメモリは、データ処理速度が速
く、ノアタイプの方がナンドタイプより高周波メモリシ
ステムで用いる場合には利点が多い。ノアタイプフラッ
シュメモリにおいて、メモリセルのデータ状態は、所定
の基準セルと比較することによりセンスアンプによって
検証される。検証動作の安定化は、ノアタイプフラッシ
ュメモリで一番重要な要素となる。
【0004】図3に示すフラッシュメモリは、フラッシ
ュメモリ装置のメモリセルアレイを構成している複数の
メモリブロックと、周辺回路ブロックとから形成されて
おり、メモリブロック100、第1制御回路110、基
準セルブロック200、第2制御回路210、センスア
ンプ300及び、高電圧発生回路400を備えている。
第1制御回路110は、メモリブロック100に対して
消去、書き込み、あるいは検証を行ったり、プログラム
・オペレーションの駆動及び制御を行うための回路で構
成される。基準セルブロック200は、セル電流(基準
電流ともいう)を生成し、センスアンプ300に送り込
み、メモリブロック100より選択されたメモリセルか
らの電流と比較検証する。第2制御回路210は、基準
セルブロック200から選択された基準セルに対して、
消去、書き込み、検証を行ったり、プログラム・オペレ
ーションを行ったりする。センスアンプ300は、メモ
リブロック100から検出されたセル電流と、基準セル
ブロック200から検出されたセル電流とを受け取り、
それらの差を比較してセル状態を示すロジックレベルを
判定する。
ュメモリ装置のメモリセルアレイを構成している複数の
メモリブロックと、周辺回路ブロックとから形成されて
おり、メモリブロック100、第1制御回路110、基
準セルブロック200、第2制御回路210、センスア
ンプ300及び、高電圧発生回路400を備えている。
第1制御回路110は、メモリブロック100に対して
消去、書き込み、あるいは検証を行ったり、プログラム
・オペレーションの駆動及び制御を行うための回路で構
成される。基準セルブロック200は、セル電流(基準
電流ともいう)を生成し、センスアンプ300に送り込
み、メモリブロック100より選択されたメモリセルか
らの電流と比較検証する。第2制御回路210は、基準
セルブロック200から選択された基準セルに対して、
消去、書き込み、検証を行ったり、プログラム・オペレ
ーションを行ったりする。センスアンプ300は、メモ
リブロック100から検出されたセル電流と、基準セル
ブロック200から検出されたセル電流とを受け取り、
それらの差を比較してセル状態を示すロジックレベルを
判定する。
【0005】各々のセンスアンプ300は、1つのメモ
リセルブロック100と1つの基準セルブロック200
とに連結される。フラッシュメモリは、複数のメモリブ
ロック100と基準セルブロック200とを含み、それ
によって複数のセンスアンプ300は、メモリブロック
100からデータをアクセスするように配置されなけれ
ばならない。一般に、センスアンプ300の数は、読み
取り1サイクル時間におけるデータ出力伝達容量によっ
て決定され、基準セルブロック200と第2制御回路2
10の数も同一である。たとえば、フラッシュメモリ装
置において、16個のセンスアンプ300に対して、1
6個の基準セルブロック200と第2制御回路210と
を必要とする。基準セル数の増加に比例して、その装置
のセルサイズも増加する。
リセルブロック100と1つの基準セルブロック200
とに連結される。フラッシュメモリは、複数のメモリブ
ロック100と基準セルブロック200とを含み、それ
によって複数のセンスアンプ300は、メモリブロック
100からデータをアクセスするように配置されなけれ
ばならない。一般に、センスアンプ300の数は、読み
取り1サイクル時間におけるデータ出力伝達容量によっ
て決定され、基準セルブロック200と第2制御回路2
10の数も同一である。たとえば、フラッシュメモリ装
置において、16個のセンスアンプ300に対して、1
6個の基準セルブロック200と第2制御回路210と
を必要とする。基準セル数の増加に比例して、その装置
のセルサイズも増加する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、各セン
スアンプに対応する基準ブロックは、別々の基準ブロッ
クの基準セルの差が原因で、メモリセルのデータを読み
出すための一定基準値から外れる場合がある。そのた
め、基準値を一定な値に維持することはセルデータを検
証する上で重要なことである。
スアンプに対応する基準ブロックは、別々の基準ブロッ
クの基準セルの差が原因で、メモリセルのデータを読み
出すための一定基準値から外れる場合がある。そのた
め、基準値を一定な値に維持することはセルデータを検
証する上で重要なことである。
【0007】また、メモリセルは、プログラミングまた
は消去後、オフ−セルまたはオン−セルの状態で保持さ
れており、基準セルブロックの基準セルから供給される
電位と選択されたメモリセルの電位とを比較することに
よって、選択されたメモリセルがオフ−セルであるかオ
ン−セルであるか区別する。それゆえ、基準セルブロッ
クの基準値が他の基準値と違うと、読み取り動作のとき
に誤りが発生する。
は消去後、オフ−セルまたはオン−セルの状態で保持さ
れており、基準セルブロックの基準セルから供給される
電位と選択されたメモリセルの電位とを比較することに
よって、選択されたメモリセルがオフ−セルであるかオ
ン−セルであるか区別する。それゆえ、基準セルブロッ
クの基準値が他の基準値と違うと、読み取り動作のとき
に誤りが発生する。
【0008】本発明は上記問題点を解決するため、下記
のことを目的とする。
のことを目的とする。
【0009】まず、第一の目的は、複数のセンスアンプ
を有するにもかかわらずチップサイズの面積が増加しな
い半導体メモリ装置を提供することである。
を有するにもかかわらずチップサイズの面積が増加しな
い半導体メモリ装置を提供することである。
【0010】第二の目的は、複数の基準セルを有し信頼
性のある読み出し動作を行う半導体メモリ装置を提供す
ることである。
性のある読み出し動作を行う半導体メモリ装置を提供す
ることである。
【0011】第三の目的は、複数のセンスアンプを有す
るにもかかわらずチップサイズの面積が増加しない不揮
発性半導体メモリ装置を提供することである。
るにもかかわらずチップサイズの面積が増加しない不揮
発性半導体メモリ装置を提供することである。
【0012】第四の目的は、複数の基準セルを有し信頼
性のある読み出し動作を行う不揮発性半導体メモリ装置
を提供することである。
性のある読み出し動作を行う不揮発性半導体メモリ装置
を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、複数のメモリセルを有する複数のメモリセ
ルブロックと、メモリセルブロックに個々に連結される
複数のセンスアンプと、基準値を生成し、生成した基準
値をセンスアンプへ供給する基準ブロックとを具備し、
基準ブロックは所定の基準値を保持するための基準セル
と、基準セルの状態に反応する電流回路とを有すること
を特徴とする半導体メモリ装置を提供する。
するために、複数のメモリセルを有する複数のメモリセ
ルブロックと、メモリセルブロックに個々に連結される
複数のセンスアンプと、基準値を生成し、生成した基準
値をセンスアンプへ供給する基準ブロックとを具備し、
基準ブロックは所定の基準値を保持するための基準セル
と、基準セルの状態に反応する電流回路とを有すること
を特徴とする半導体メモリ装置を提供する。
【0014】本発明によるこの半導体メモリ装置の電流
回路は、入力端で基準セルと接続している電流ミラー回
路である。さらに、基準セルはメモリセルブロックのメ
モリセルに対応する。
回路は、入力端で基準セルと接続している電流ミラー回
路である。さらに、基準セルはメモリセルブロックのメ
モリセルに対応する。
【0015】また本発明によれば、複数のメモリセルを
有する複数のメモリセルブロックと、メモリセルブロッ
クに個々に連結される複数のセンスアンプと、基準値を
生成し、生成した基準値をセンスアンプへ供給する基準
ブロックと、センスアンプに基準値を伝達するための複
数の基準駆動回路とを具備し、基準ブロックは、所定の
基準値を保持するための基準セルと、基準セルの状態に
反応する電流回路とを有し、基準駆動回路は、複数のセ
ンスアンプの入力端に個々に接続されることを特徴とす
る半導体メモリ装置を提供する。本発明によるこの半導
体メモリ装置の電流回路は、入力端が基準セルに連結さ
れる電流ミラー回路である。また、基準セルは、メモリ
セルブロックのメモリセルに対応し、フローティングゲ
ートを有する。また、基準駆動回路は、ソース・ドレイ
ンがセンスアンプの入力端と電源電圧にそれぞれ接続さ
れ、ゲートが基準ブロックの出力端に接続されるNMO
Sトランジスタからなる。
有する複数のメモリセルブロックと、メモリセルブロッ
クに個々に連結される複数のセンスアンプと、基準値を
生成し、生成した基準値をセンスアンプへ供給する基準
ブロックと、センスアンプに基準値を伝達するための複
数の基準駆動回路とを具備し、基準ブロックは、所定の
基準値を保持するための基準セルと、基準セルの状態に
反応する電流回路とを有し、基準駆動回路は、複数のセ
ンスアンプの入力端に個々に接続されることを特徴とす
る半導体メモリ装置を提供する。本発明によるこの半導
体メモリ装置の電流回路は、入力端が基準セルに連結さ
れる電流ミラー回路である。また、基準セルは、メモリ
セルブロックのメモリセルに対応し、フローティングゲ
ートを有する。また、基準駆動回路は、ソース・ドレイ
ンがセンスアンプの入力端と電源電圧にそれぞれ接続さ
れ、ゲートが基準ブロックの出力端に接続されるNMO
Sトランジスタからなる。
【0016】また本発明によれば、複数のメモリセルを
有するN個のメモリセルブロックと、メモリセルブロッ
クに個々に連結されるN個のセンスアンプと、基準値を
生成し、生成した基準値をN個のセンスアンプに共通に
供給する基準ブロックとを具備し、基準ブロックは所定
の基準値を保持するための基準セルと、基準セルの状態
に反応する電流回路とを有することを特徴とする半導体
メモリ装置を提供する。本発明によるこの半導体メモリ
装置の電流回路は、入力端が基準セルと接続している電
流ミラー回路である。また、本発明によるこの半導体メ
モリ装置の基準セルは、メモリセルブロックのメモリセ
ルに対応する。
有するN個のメモリセルブロックと、メモリセルブロッ
クに個々に連結されるN個のセンスアンプと、基準値を
生成し、生成した基準値をN個のセンスアンプに共通に
供給する基準ブロックとを具備し、基準ブロックは所定
の基準値を保持するための基準セルと、基準セルの状態
に反応する電流回路とを有することを特徴とする半導体
メモリ装置を提供する。本発明によるこの半導体メモリ
装置の電流回路は、入力端が基準セルと接続している電
流ミラー回路である。また、本発明によるこの半導体メ
モリ装置の基準セルは、メモリセルブロックのメモリセ
ルに対応する。
【0017】また本発明によれば、複数のメモリセルを
有するN個のメモリセルブロックと、メモリセルブロッ
クに個々に連結されるN個のセンスアンプと、基準値を
生成し、生成した基準値をセンスアンプに供給する少な
くとも1つの基準ブロックと、センスアンプに基準値を
伝達するためのN個の基準駆動回路とを具備し、基準駆
動回路はN個のセンスアンプの入力端に個々に接続さ
れ、N個のセンスアンプは、1つの基準ブロックから供
給される基準値を共有することを特徴とする半導体メモ
リ装置を提供する。
有するN個のメモリセルブロックと、メモリセルブロッ
クに個々に連結されるN個のセンスアンプと、基準値を
生成し、生成した基準値をセンスアンプに供給する少な
くとも1つの基準ブロックと、センスアンプに基準値を
伝達するためのN個の基準駆動回路とを具備し、基準駆
動回路はN個のセンスアンプの入力端に個々に接続さ
れ、N個のセンスアンプは、1つの基準ブロックから供
給される基準値を共有することを特徴とする半導体メモ
リ装置を提供する。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態を説明する。
の実施の形態を説明する。
【0019】図1は、本発明によるフラッシュメモリ装
置を示しており、複数あるメモリセルブロックのうちの
1つと、それに連結されたセンスアンプとを示してい
る。図2には、図1のメモリブロック100、センスア
ンプ300、基準駆動回路250及び基準ブロック50
0と同一のものが示されている。図1の基準駆動回路2
50は、センスアンプ300の入力端に接続され、基準
セルブロック520から供給された電位を転送してい
る。基準駆動回路250は、例えば、センスアンプ30
0の入力端と接地との間に接続されるNMOSトランジ
スタNM2で形成され、そのゲートは、基準ブロック5
00に配置されている電流ミラー回路510の出力ノー
ド514に接続されている。
置を示しており、複数あるメモリセルブロックのうちの
1つと、それに連結されたセンスアンプとを示してい
る。図2には、図1のメモリブロック100、センスア
ンプ300、基準駆動回路250及び基準ブロック50
0と同一のものが示されている。図1の基準駆動回路2
50は、センスアンプ300の入力端に接続され、基準
セルブロック520から供給された電位を転送してい
る。基準駆動回路250は、例えば、センスアンプ30
0の入力端と接地との間に接続されるNMOSトランジ
スタNM2で形成され、そのゲートは、基準ブロック5
00に配置されている電流ミラー回路510の出力ノー
ド514に接続されている。
【0020】基準ブロック500は、電流ミラー回路5
10、基準セルブロック520及び基準制御回路530
を有している。1つのメモリブロックが、複数のセンス
アンプ300に対応し、一方、個々のセンスアンプには
基準駆動回路250がそれぞれ1つずつ提供されてい
る。
10、基準セルブロック520及び基準制御回路530
を有している。1つのメモリブロックが、複数のセンス
アンプ300に対応し、一方、個々のセンスアンプには
基準駆動回路250がそれぞれ1つずつ提供されてい
る。
【0021】電流ミラー回路510は、基準セルブロッ
ク520の基準セルの状態と、メモリブロック100の
中から選択されたメモリセルに対応する基準セルの状態
とを、基準駆動回路250のNMOSトランジスタNM
2のゲートに伝送する。電流ミラー回路510の出力ノ
ード514は、ソースが接地(又は基板)に連結される
NMOSトランジスタNM1のゲートとドレインとに接
続され、ゲートが入力ノードに接続されるPMOSトラ
ンジスタPM2を介して電源電圧と結合される。また、
入力ノード512は、ソースが電源電圧に結合されるP
MOSトランジスタPM1のゲートとドレインとに接続
される。
ク520の基準セルの状態と、メモリブロック100の
中から選択されたメモリセルに対応する基準セルの状態
とを、基準駆動回路250のNMOSトランジスタNM
2のゲートに伝送する。電流ミラー回路510の出力ノ
ード514は、ソースが接地(又は基板)に連結される
NMOSトランジスタNM1のゲートとドレインとに接
続され、ゲートが入力ノードに接続されるPMOSトラ
ンジスタPM2を介して電源電圧と結合される。また、
入力ノード512は、ソースが電源電圧に結合されるP
MOSトランジスタPM1のゲートとドレインとに接続
される。
【0022】電流ミラー回路510の入力ノード512
は、実際にはフローティングゲートを有する基準セルに
連結しているビット線(未図示)に接続している。フロ
ーティングゲート型の基準セルは、一定な電位を維持し
ており、電流ミラー回路510の入力ノード512は、
基準セルブロック520の基準セル状態に応じて、電流
ミラー回路510の入力ノード512から基準セルブロ
ック520の基準セルを通し、基準セル電流を接地に流
す。基準セル電流は基準セルブロック520の基準セル
のフローティングゲートに充電されている電気の量に依
存する。さらに、PMOSトランジスタPM1は、入力
ノード512から流れる電流量に比例してチャンネル電
流が流れるようになる。入力ノード512におけるプル
ダウン率(rate of pulling−dow
n)は、PMOSトランジスタの電流駆動力を決定す
る。PMOSトランジスタPM2が入力ノード512の
プルダウン率に応じて出力ノード514に一定電流を供
給することによってゲートが電流ミラー回路510の出
力ノード514に連結されているNMOSトランジスタ
NM2もそれに応じる。その結果、基準駆動回路250
にあるNMOSトランジスタNM2は基準セルによって
設定された基準値をセンスアンプ300に伝達する。そ
れゆえ、センスアンプ300は、メモリブロック100
の中から選択されたメモリセルから検証された値と、基
準セルから得られた基準値とを、駆動回路250のNM
OSトランジスタNM2を介して受け取り、メモリブロ
ック100から選択されたメモリセルの状態、即ちオン
−セルであるかオフ−セルであるかを示すためのセンス
データ信号を発生する。
は、実際にはフローティングゲートを有する基準セルに
連結しているビット線(未図示)に接続している。フロ
ーティングゲート型の基準セルは、一定な電位を維持し
ており、電流ミラー回路510の入力ノード512は、
基準セルブロック520の基準セル状態に応じて、電流
ミラー回路510の入力ノード512から基準セルブロ
ック520の基準セルを通し、基準セル電流を接地に流
す。基準セル電流は基準セルブロック520の基準セル
のフローティングゲートに充電されている電気の量に依
存する。さらに、PMOSトランジスタPM1は、入力
ノード512から流れる電流量に比例してチャンネル電
流が流れるようになる。入力ノード512におけるプル
ダウン率(rate of pulling−dow
n)は、PMOSトランジスタの電流駆動力を決定す
る。PMOSトランジスタPM2が入力ノード512の
プルダウン率に応じて出力ノード514に一定電流を供
給することによってゲートが電流ミラー回路510の出
力ノード514に連結されているNMOSトランジスタ
NM2もそれに応じる。その結果、基準駆動回路250
にあるNMOSトランジスタNM2は基準セルによって
設定された基準値をセンスアンプ300に伝達する。そ
れゆえ、センスアンプ300は、メモリブロック100
の中から選択されたメモリセルから検証された値と、基
準セルから得られた基準値とを、駆動回路250のNM
OSトランジスタNM2を介して受け取り、メモリブロ
ック100から選択されたメモリセルの状態、即ちオン
−セルであるかオフ−セルであるかを示すためのセンス
データ信号を発生する。
【0023】図2は、複数のメモリセルブロックBLK
0−BLKiとセンスアンプSA0−SAiとを有する
メモリ装置の構成を概略的に示している。メモリセルブ
ロックは、図1のメモリセルブロック100と同一であ
り、センスアンプも図1のセンスアンプと同一である。
そして図1の基準駆動回路250と同じく、NMOSト
ランジスタで構成された複数の基準駆動回路RD0−R
Diは、センスアンプSA0−SAiにそれぞれ結合さ
れている。メモリセルブロックBLK0−BLKi各々
に対応するセンスアンプSA0−SAi、そして基準駆
動回路RD0−RDiは、1つの基準ブロック500に
共通に連結される。また、図2の基準ブロック500
は、図1に示すように電流ミラー回路510、基準セル
ブロック520、そして基準制御回路530を含む(い
ずれも図示せず)。図2と図3の構造を比較すると、従
来の装置は複数の基準セルブロックと基準制御ブロック
を必要とするのに対し、本発明におけるメモリ装置は、
電流ミラー回路、基準セルブロック及び基準制御回路を
それぞれ1つずつ含む、基準ブロックを1つだけ必要と
する。
0−BLKiとセンスアンプSA0−SAiとを有する
メモリ装置の構成を概略的に示している。メモリセルブ
ロックは、図1のメモリセルブロック100と同一であ
り、センスアンプも図1のセンスアンプと同一である。
そして図1の基準駆動回路250と同じく、NMOSト
ランジスタで構成された複数の基準駆動回路RD0−R
Diは、センスアンプSA0−SAiにそれぞれ結合さ
れている。メモリセルブロックBLK0−BLKi各々
に対応するセンスアンプSA0−SAi、そして基準駆
動回路RD0−RDiは、1つの基準ブロック500に
共通に連結される。また、図2の基準ブロック500
は、図1に示すように電流ミラー回路510、基準セル
ブロック520、そして基準制御回路530を含む(い
ずれも図示せず)。図2と図3の構造を比較すると、従
来の装置は複数の基準セルブロックと基準制御ブロック
を必要とするのに対し、本発明におけるメモリ装置は、
電流ミラー回路、基準セルブロック及び基準制御回路を
それぞれ1つずつ含む、基準ブロックを1つだけ必要と
する。
【0024】したがって、複数ある全てのセンスアンプ
が同一の基準値を受け取り、メモリセルからくる様々な
データ値と比較することになる。よって少なくとも、従
来のように、基準セル間の差が原因でセルの状態を検証
するときに誤った結果を発生することがなくなる。
が同一の基準値を受け取り、メモリセルからくる様々な
データ値と比較することになる。よって少なくとも、従
来のように、基準セル間の差が原因でセルの状態を検証
するときに誤った結果を発生することがなくなる。
【0025】以上、本発明による不揮発性半導体メモリ
装置の実施の形態を詳細に説明したが、本発明は前述の
実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲で変更可能である。
装置の実施の形態を詳細に説明したが、本発明は前述の
実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲で変更可能である。
【0026】
【発明の効果】このように本発明によれば、第一の目的
である複数のセンスアンプを有するにもかかわらずチッ
プサイズの面積が増加しない半導体メモリ装置と、第二
の目的である複数の基準セルを有し信頼性のある読み出
し動作を行う半導体メモリ装置と、第三の目的である複
数のセンスアンプを有するにもかかわらずチップサイズ
の面積が増加しない不揮発性半導体メモリ装置と、第四
の目的である複数の基準セルを有し信頼性のある読み出
し動作を行う不揮発性半導体メモリ装置とを提供するこ
とができる。
である複数のセンスアンプを有するにもかかわらずチッ
プサイズの面積が増加しない半導体メモリ装置と、第二
の目的である複数の基準セルを有し信頼性のある読み出
し動作を行う半導体メモリ装置と、第三の目的である複
数のセンスアンプを有するにもかかわらずチップサイズ
の面積が増加しない不揮発性半導体メモリ装置と、第四
の目的である複数の基準セルを有し信頼性のある読み出
し動作を行う不揮発性半導体メモリ装置とを提供するこ
とができる。
【図1】本発明による半導体メモリ装置の機能構造を示
すブロック図。
すブロック図。
【図2】本発明によるメモリブロック、センスアンプ、
制御回路を含む機能的配列を示す部分図。
制御回路を含む機能的配列を示す部分図。
【図3】従来の不揮発性半導体メモリ装置のブロック
図。
図。
100:メモリブロック 110:制御回路 200:基準セルブロック 210:第2制御回路 250:基準駆動回路 300:センスアンプ 310:第1制御回路 400:高電圧発生回路 500:基準ブロック 510:電流ミラー回路 520:基準セルブロック 530:基準制御回路
Claims (12)
- 【請求項1】 複数のメモリセルを有する複数のメモリ
セルブロックと、 前記メモリセルブロックに個々に連結される複数のセン
スアンプと、 基準値を生成し、生成した前記基準値を前記センスアン
プへ供給する基準ブロックと、を具備し、 前記基準ブロックは所定の基準値を保持するための基準
セルと、前記基準セルの状態に反応する電流回路とを有
することを特徴とする半導体メモリ装置。 - 【請求項2】 前記電流回路は、入力端で前記基準セル
と接続している電流ミラー回路であることを特徴とする
請求項1に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項3】 前記基準セルは、前記メモリセルブロッ
クのメモリセルに対応することを特徴とする請求項1に
記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項4】 複数のメモリセルを有する複数のメモリ
セルブロックと、 前記メモリセルブロックに個々に連結される複数のセン
スアンプと、 基準値を生成し、生成した前記基準値を前記センスアン
プへ供給する基準ブロックと、 前記センスアンプに前記基準値を伝達するための複数の
基準駆動回路と、を具備し、 前記基準ブロックは、所定の基準値を保持するための基
準セルと、前記基準セルの状態に反応する電流回路とを
有し、 前記基準駆動回路は、前記複数のセンスアンプの入力端
に個々に接続されることを特徴とする半導体メモリ装
置。 - 【請求項5】 前記電流回路は、入力端が前記基準セル
に連結される電流ミラー回路であることを特徴とする請
求項4に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項6】 前記基準セルは、前記メモリセルブロッ
クのメモリセルに対応することを特徴とする請求項4に
記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項7】 前記基準セルは、フローティングゲート
を有することを特徴とする請求項4に記載の半導体メモ
リ装置。 - 【請求項8】 前記基準駆動回路は、ソース・ドレイン
が前記センスアンプの入力端と電源電圧にそれぞれ接続
され、ゲートが前記基準ブロックの出力端に接続される
NMOSトランジスタからなることを特徴とする請求項
4に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項9】 複数のメモリセルを有するN個のメモリ
セルブロックと、 前記メモリセルブロックに個々に連結されるN個のセン
スアンプと、 基準値を生成し、生成した前記基準値を前記N個のセン
スアンプに共通に供給する基準ブロックと、を具備し、 前記基準ブロックは所定の基準値を保持するための基準
セルと、前記基準セルの状態に反応する電流回路とを有
することを特徴とする半導体メモリ装置。 - 【請求項10】 前記電流回路は、入力端が前記基準セ
ルと接続している電流ミラー回路であることを特徴とす
る請求項9に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項11】 前記基準セルは、前記メモリセルブロ
ックのメモリセルに対応することを特徴とする請求項9
に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項12】 複数のメモリセルを有するN個のメモ
リセルブロックと、 前記メモリセルブロックに個々に連結されるN個のセン
スアンプと、 基準値を生成し、生成した前記基準値を前記センスアン
プに供給する少なくとも1つの基準ブロックと、 前記センスアンプに前記基準値を伝達するためのN個の
基準駆動回路と、を具備し、 前記基準駆動回路は前記N個のセンスアンプの入力端に
個々に接続され、前記N個のセンスアンプは、1つの前
記基準ブロックから供給される前記基準値を共有するこ
とを特徴とする半導体メモリ装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002367386A (ja) * | 2001-06-07 | 2002-12-20 | Toshiba Corp | 半導体メモリ装置 |
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US6366497B1 (en) * | 2000-03-30 | 2002-04-02 | Intel Corporation | Method and apparatus for low voltage sensing in flash memories |
US6269040B1 (en) * | 2000-06-26 | 2001-07-31 | International Business Machines Corporation | Interconnection network for connecting memory cells to sense amplifiers |
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US6690602B1 (en) * | 2002-04-08 | 2004-02-10 | Advanced Micro Devices, Inc. | Algorithm dynamic reference programming |
JP4163473B2 (ja) * | 2002-09-13 | 2008-10-08 | スパンション エルエルシー | 不揮発性半導体記憶装置 |
ITTO20030132A1 (it) * | 2003-02-25 | 2004-08-26 | Atmel Corp | Amplificatore di rilevamento rapido a specchio, di tipo configurabile e procedimento per configurare un tale amplificatore. |
WO2004077439A2 (en) * | 2003-02-25 | 2004-09-10 | Atmel Corporation | An apparatus an method for a configurable mirror fast sense amplifier |
KR100517561B1 (ko) * | 2003-08-19 | 2005-09-28 | 삼성전자주식회사 | 불 휘발성 반도체 메모리 장치 |
JP2005116065A (ja) * | 2003-10-08 | 2005-04-28 | Oki Electric Ind Co Ltd | 不揮発性半導体記憶装置及び読出方法 |
US7259993B2 (en) * | 2005-06-03 | 2007-08-21 | Infineon Technologies Ag | Reference scheme for a non-volatile semiconductor memory device |
US7190621B2 (en) * | 2005-06-03 | 2007-03-13 | Infineon Technologies Ag | Sensing scheme for a non-volatile semiconductor memory cell |
US20070019480A1 (en) * | 2005-07-20 | 2007-01-25 | Micron Technology, Inc. | Test circuitry and testing methods |
US7663926B2 (en) * | 2007-07-27 | 2010-02-16 | Micron Technology, Inc. | Cell deterioration warning apparatus and method |
Family Cites Families (4)
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---|---|---|---|---|
JPH0713858B2 (ja) * | 1988-08-30 | 1995-02-15 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
DE69524572T2 (de) * | 1995-04-28 | 2002-08-22 | St Microelectronics Srl | Leseverstärkerschaltung für Halbleiterspeicheranordnungen |
WO1997050089A1 (en) * | 1996-06-24 | 1997-12-31 | Advanced Micro Devices, Inc. | A method for a multiple bits-per-cell flash eeprom with page mode program and read |
JP3127953B2 (ja) * | 1996-08-09 | 2001-01-29 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
-
1998
- 1998-06-12 KR KR1019980022100A patent/KR100285065B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-04-23 TW TW088106495A patent/TW594758B/zh active
- 1999-06-10 JP JP16438599A patent/JP2000030475A/ja active Pending
- 1999-06-14 US US09/333,524 patent/US6108259A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6707725B2 (en) | 2001-03-01 | 2004-03-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Reference voltage generation circuit for semiconductor memory device, memory reading circuit including same, and electronic information device including the same |
JP2002367386A (ja) * | 2001-06-07 | 2002-12-20 | Toshiba Corp | 半導体メモリ装置 |
JP2009129470A (ja) * | 2007-11-20 | 2009-06-11 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
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