JP2000030409A - 研摩装置 - Google Patents
研摩装置Info
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- JP2000030409A JP2000030409A JP10205778A JP20577898A JP2000030409A JP 2000030409 A JP2000030409 A JP 2000030409A JP 10205778 A JP10205778 A JP 10205778A JP 20577898 A JP20577898 A JP 20577898A JP 2000030409 A JP2000030409 A JP 2000030409A
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- abrasive
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Abstract
(57)【要約】
【課題】従来見られなかった新規な構成を有する研摩装
置により良好な研摩面を得る。 【解決手段】 回転軸８Ａを有しその回転軸の回りに回
転可能な第１の円筒形状の研摩体８と、回転軸を有しそ
の回転軸の回りに回転可能な第２の円筒形状の研摩体
と、第１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転
軸が交差するように保持する研摩体ホルダ１０とを有す
る研摩体組立体１００と、被加工物６を回転可能に保持
する被加工物受台４とを備え、第１及び第２の研摩体の
周面を被加工物と接触させることにより、被加工物を研
摩し、第１及び第２の円筒形状の研摩体の回転軸の交差
する点を被加工物受台の回転中心Ｄとをずらして配置す
ることにより、第１及び第２の研摩体による研摩軌跡２
６，２８が交差することを特徴とする研摩装置。
置により良好な研摩面を得る。 【解決手段】 回転軸８Ａを有しその回転軸の回りに回
転可能な第１の円筒形状の研摩体８と、回転軸を有しそ
の回転軸の回りに回転可能な第２の円筒形状の研摩体
と、第１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転
軸が交差するように保持する研摩体ホルダ１０とを有す
る研摩体組立体１００と、被加工物６を回転可能に保持
する被加工物受台４とを備え、第１及び第２の研摩体の
周面を被加工物と接触させることにより、被加工物を研
摩し、第１及び第２の円筒形状の研摩体の回転軸の交差
する点を被加工物受台の回転中心Ｄとをずらして配置す
ることにより、第１及び第２の研摩体による研摩軌跡２
６，２８が交差することを特徴とする研摩装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は研摩装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】加工物の表面を研削あるいは研摩する装
置は従来から各種用いられている。
置は従来から各種用いられている。
【０００３】例えば、コンパクトディスクのようにレー
ザー光により再生可能な記録媒体としての光ディスク
は、その表面に傷が付くと、その傷の深さや位置によっ
て再生不可能となることがある。このため、表面を研摩
することにより傷を除去するディスククリーナー装置が
従来から用いられている。
ザー光により再生可能な記録媒体としての光ディスク
は、その表面に傷が付くと、その傷の深さや位置によっ
て再生不可能となることがある。このため、表面を研摩
することにより傷を除去するディスククリーナー装置が
従来から用いられている。
【０００４】また、工作機械として一般的な研削盤とし
て、円筒研削盤、内面研削盤、平面研削盤、心なし研削
盤、その他多様な装置が知られている。
て、円筒研削盤、内面研削盤、平面研削盤、心なし研削
盤、その他多様な装置が知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の一般的な目的
は、従来見られなかった新規な構成を有する研摩装置を
提供することにある。本発明の目的は、特に平面研削盤
として用いることが可能な新規な構造の研摩装置を提供
することにある。
は、従来見られなかった新規な構成を有する研摩装置を
提供することにある。本発明の目的は、特に平面研削盤
として用いることが可能な新規な構造の研摩装置を提供
することにある。
【０００６】また、例えばディスククリーナー装置の場
合、コンパクトディスクの研摩を一度終えただけでは傷
が消えず、十分な研摩面が得られない場合が多く、この
ため一般的には複数回研摩を行う必要がある。しかも従
来のディスククリーナー装置はコンパクトディスクを１
枚ずつ研摩するため、大量のコンパクトディスクを研摩
する場合には作業時間が非常に長くなる。本発明の他の
目的は、大量の被加工物を短時間に研摩することができ
る研摩装置を提供することにある。本発明の他の目的
は、良好な研摩面を得ることができる研摩装置を提供す
ることにある。
合、コンパクトディスクの研摩を一度終えただけでは傷
が消えず、十分な研摩面が得られない場合が多く、この
ため一般的には複数回研摩を行う必要がある。しかも従
来のディスククリーナー装置はコンパクトディスクを１
枚ずつ研摩するため、大量のコンパクトディスクを研摩
する場合には作業時間が非常に長くなる。本発明の他の
目的は、大量の被加工物を短時間に研摩することができ
る研摩装置を提供することにある。本発明の他の目的
は、良好な研摩面を得ることができる研摩装置を提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明によれば、回転軸を有しその回転軸の回りに回
転可能な第１の円筒形状の研摩体と、回転軸を有しその
回転軸の回りに回転可能な第２の円筒形状の研摩体と、
前記第１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転
軸が交差するように保持する研摩体ホルダとを有する研
摩体組立体と、被加工物を回転可能に保持する被加工物
受台とを備え、前記第１及び第２の研摩体の周面を前記
被加工物と接触させることにより、被加工物を研摩し、
前記第１及び第２の円筒形状の研摩体の回転軸の交差す
る点を前記被加工物受台の回転中心とをずらして配置す
ることにより、第１及び第２の研摩体による研摩軌跡が
交差することを特徴とする研摩装置が提供される。
に本発明によれば、回転軸を有しその回転軸の回りに回
転可能な第１の円筒形状の研摩体と、回転軸を有しその
回転軸の回りに回転可能な第２の円筒形状の研摩体と、
前記第１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転
軸が交差するように保持する研摩体ホルダとを有する研
摩体組立体と、被加工物を回転可能に保持する被加工物
受台とを備え、前記第１及び第２の研摩体の周面を前記
被加工物と接触させることにより、被加工物を研摩し、
前記第１及び第２の円筒形状の研摩体の回転軸の交差す
る点を前記被加工物受台の回転中心とをずらして配置す
ることにより、第１及び第２の研摩体による研摩軌跡が
交差することを特徴とする研摩装置が提供される。
【０００８】また、本発明によれば、回転軸を有しその
回転軸の回りに回転可能な第１の円筒形状の研摩体と、
回転軸を有しその回転軸の回りに回転可能な第２の円筒
形状の研摩体と、前記第１及び第２の円筒形状の研摩体
をそれぞれの回転軸が交差するように保持する研摩体ホ
ルダとを有する研摩体組立体と、被加工物を回転可能に
保持する被加工物受台とを備え、前記第１及び第２の研
摩体の周面を前記被加工物と接触させることにより、被
加工物を研摩し、被加工物の回転によって第１及び第２
の研摩体に加わる力が各研摩体の回転軸に対して直交す
る方向の力に加えて該回転軸の方向の力も加わることに
より、第１及び第２の研摩体による研摩軌跡が交差する
ことを特徴とする研摩装置が提供される。
回転軸の回りに回転可能な第１の円筒形状の研摩体と、
回転軸を有しその回転軸の回りに回転可能な第２の円筒
形状の研摩体と、前記第１及び第２の円筒形状の研摩体
をそれぞれの回転軸が交差するように保持する研摩体ホ
ルダとを有する研摩体組立体と、被加工物を回転可能に
保持する被加工物受台とを備え、前記第１及び第２の研
摩体の周面を前記被加工物と接触させることにより、被
加工物を研摩し、被加工物の回転によって第１及び第２
の研摩体に加わる力が各研摩体の回転軸に対して直交す
る方向の力に加えて該回転軸の方向の力も加わることに
より、第１及び第２の研摩体による研摩軌跡が交差する
ことを特徴とする研摩装置が提供される。
【０００９】前記研摩体組立体は更に前記研摩体ホルダ
へ固定された揺動アームを備え、該揺動アームにより、
２個の研摩体が水平方向に揺動されるように構成するこ
とが好ましい。前記被加工物は例えばコンパクトディス
クである。
へ固定された揺動アームを備え、該揺動アームにより、
２個の研摩体が水平方向に揺動されるように構成するこ
とが好ましい。前記被加工物は例えばコンパクトディス
クである。
【００１０】更に本発明によれば、被加工物脱着ステー
ションを含み、円周状に等間隔に配置された複数の作業
ステーションと、前記作業ステーションのうち被加工物
脱着ステーションを除く各ステーションへ配置された請
求項１ないし４に記載の研摩体組立体と、複数の被加工
物受台を等間隔に作業ステーションと同数且つ各作業ス
テーションに対応して取り付けた回転テーブルとを備
え、各ステーションでの研摩精度を段階的に向上させる
ことを特徴とする研摩装置が提供される。
ションを含み、円周状に等間隔に配置された複数の作業
ステーションと、前記作業ステーションのうち被加工物
脱着ステーションを除く各ステーションへ配置された請
求項１ないし４に記載の研摩体組立体と、複数の被加工
物受台を等間隔に作業ステーションと同数且つ各作業ス
テーションに対応して取り付けた回転テーブルとを備
え、各ステーションでの研摩精度を段階的に向上させる
ことを特徴とする研摩装置が提供される。
【００１１】更に本発明によれば、回転軸を有しその回
転軸の回りに回転可能な第１の円筒形状の研摩体と、回
転軸を有しその回転軸の回りに回転可能な第２の円筒形
状の研摩体と、前記第１及び第２の円筒形状の研摩体を
それぞれの回転軸が交差するように保持する研摩体ホル
ダと、前記研摩体ホルダへ固定された回転アームであっ
て、該研摩体ホルダを水平方向に回転させる回転アーム
とを備え、被加工物を保持し、前記研摩体ホルダに対し
て相対的に水平方向に直線往復運動可能な被加工物支持
テーブルとを備え、前記第１及び第２の研摩体の周面を
前記被加工物と接触させることにより、被加工物を研摩
することを特徴とする研摩装置が提供される。
転軸の回りに回転可能な第１の円筒形状の研摩体と、回
転軸を有しその回転軸の回りに回転可能な第２の円筒形
状の研摩体と、前記第１及び第２の円筒形状の研摩体を
それぞれの回転軸が交差するように保持する研摩体ホル
ダと、前記研摩体ホルダへ固定された回転アームであっ
て、該研摩体ホルダを水平方向に回転させる回転アーム
とを備え、被加工物を保持し、前記研摩体ホルダに対し
て相対的に水平方向に直線往復運動可能な被加工物支持
テーブルとを備え、前記第１及び第２の研摩体の周面を
前記被加工物と接触させることにより、被加工物を研摩
することを特徴とする研摩装置が提供される。
【００１２】更に本発明によれば、回転軸を有しその回
転軸の回りに回転可能な第１の円筒形状の研摩体と、回
転軸を有しその回転軸の回りに回転可能な第２の円筒形
状の研摩体と、前記第１及び第２の円筒形状の研摩体を
それぞれの回転軸が交差するように保持する研摩体ホル
ダであって、２個の研摩体を水平方向に回転させる回転
アームとを備え、被加工物を保持し、前記研摩体ホルダ
に対して相対的に水平方向に直線往復運動可能な被加工
物支持テーブルとを備え、前記第１及び第２の研摩体の
周面を前記被加工物と接触させることにより、被加工物
を研摩することを特徴とする研摩装置が提供される。
転軸の回りに回転可能な第１の円筒形状の研摩体と、回
転軸を有しその回転軸の回りに回転可能な第２の円筒形
状の研摩体と、前記第１及び第２の円筒形状の研摩体を
それぞれの回転軸が交差するように保持する研摩体ホル
ダであって、２個の研摩体を水平方向に回転させる回転
アームとを備え、被加工物を保持し、前記研摩体ホルダ
に対して相対的に水平方向に直線往復運動可能な被加工
物支持テーブルとを備え、前記第１及び第２の研摩体の
周面を前記被加工物と接触させることにより、被加工物
を研摩することを特徴とする研摩装置が提供される。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の発
明の実施の形態を説明する。
明の実施の形態を説明する。
【００１４】図１〜図４は本発明による研摩装置をコン
パクトディスククリーナー装置に応用した実施の形態の
主要部を示し、図１は平面図、図２は正面図、図３は図
１の要部の平面図、図４は図１のＡ−Ａ断面図である。
パクトディスククリーナー装置に応用した実施の形態の
主要部を示し、図１は平面図、図２は正面図、図３は図
１の要部の平面図、図４は図１のＡ−Ａ断面図である。
【００１５】これらの図において、モータ２により回転
されるコンパクトディスク受台４上にコンパクトディス
ク６が載置されている。コンパクトディスク受台４の上
方に２個の円筒形状の研摩体８を保持する研摩体ホルダ
１０が配置されている。研摩体ホルダ１０は揺動アーム
１２へ固定されている。揺動アーム１２は揺動軸１４の
回りを図示しない駆動源により揺動運動をする。この揺
動運動は、揺動アーム１２の先端部が例えば１０〜１６
ｍｍだけ、１分間２０ストロークの往復動を行うもので
ある。
されるコンパクトディスク受台４上にコンパクトディス
ク６が載置されている。コンパクトディスク受台４の上
方に２個の円筒形状の研摩体８を保持する研摩体ホルダ
１０が配置されている。研摩体ホルダ１０は揺動アーム
１２へ固定されている。揺動アーム１２は揺動軸１４の
回りを図示しない駆動源により揺動運動をする。この揺
動運動は、揺動アーム１２の先端部が例えば１０〜１６
ｍｍだけ、１分間２０ストロークの往復動を行うもので
ある。
【００１６】図３に示すように研摩体ホルダ１０はその
中心Ｃから左右へ対称に延びる２つのアーム１０Ａ，１
０Ｂからなり、２つのアーム１０Ａ，１０Ｂは互いに傾
斜し、ている。このため、研摩体ホルダ１０の対称軸を
Ｖ、対称軸Ｖに対して垂直の水平軸をＨとし、一方のア
ーム１０Ａが水平軸Ｈに対して角度αだけ傾斜している
とすれば、他方のアーム１０Ｂは水平線Ｈに対して同角
度αだけ逆方向に傾斜している。
中心Ｃから左右へ対称に延びる２つのアーム１０Ａ，１
０Ｂからなり、２つのアーム１０Ａ，１０Ｂは互いに傾
斜し、ている。このため、研摩体ホルダ１０の対称軸を
Ｖ、対称軸Ｖに対して垂直の水平軸をＨとし、一方のア
ーム１０Ａが水平軸Ｈに対して角度αだけ傾斜している
とすれば、他方のアーム１０Ｂは水平線Ｈに対して同角
度αだけ逆方向に傾斜している。
【００１７】図４に示すように研摩体８の回転軸には中
空の円筒軸１６が嵌入されていると共に、両側面に側板
１８，１８が設けられており、円筒軸１６の両端面が側
板１８，１８へかしめられることによりこれら研摩体
８、円筒軸１６及び側板１８，１８が組み立てられてい
る。研摩体ホルダ１０の両端（一端のみが図示されてい
る）にはフレーム２０が固定され、このフレーム２０は
研摩体８の両側面に対向する２枚のプレート２０Ａ，２
０Ｂを有し、各プレート２０Ａ，２０Ｂの下端近くに設
けられた貫通孔にピボット軸１９，１９が挿入されてい
る。ピボット軸１９，１９はプレート２０Ａ，２０Ｂの
下方から螺合されるねじ２１，２１によりプレート２０
Ａ，２０Ｂへ固定されている。研摩体８の円筒軸１６の
両端にはフランジ付のミニチュアベアリング１７，１７
が挿入され、このミニチュアベアリング１７，１７はピ
ボット軸１９，１９を介してフレーム２０へ固定されて
いる。このようにして揺動軸１４、揺動アーム１２、研
摩体ホルダ１０、２つの研摩体８，８が連結されて研摩
体組立体を構成する。、研摩体８，８の回転軸８Ａ，８
Ａはアーム１０Ａ，１０Ｂと平行であり、従って互いに
傾斜している。また、研摩体ホルダ１０の中心Ｃは研摩
体８，８の回転軸８Ａ，８Ａの交点でもある。
空の円筒軸１６が嵌入されていると共に、両側面に側板
１８，１８が設けられており、円筒軸１６の両端面が側
板１８，１８へかしめられることによりこれら研摩体
８、円筒軸１６及び側板１８，１８が組み立てられてい
る。研摩体ホルダ１０の両端（一端のみが図示されてい
る）にはフレーム２０が固定され、このフレーム２０は
研摩体８の両側面に対向する２枚のプレート２０Ａ，２
０Ｂを有し、各プレート２０Ａ，２０Ｂの下端近くに設
けられた貫通孔にピボット軸１９，１９が挿入されてい
る。ピボット軸１９，１９はプレート２０Ａ，２０Ｂの
下方から螺合されるねじ２１，２１によりプレート２０
Ａ，２０Ｂへ固定されている。研摩体８の円筒軸１６の
両端にはフランジ付のミニチュアベアリング１７，１７
が挿入され、このミニチュアベアリング１７，１７はピ
ボット軸１９，１９を介してフレーム２０へ固定されて
いる。このようにして揺動軸１４、揺動アーム１２、研
摩体ホルダ１０、２つの研摩体８，８が連結されて研摩
体組立体を構成する。、研摩体８，８の回転軸８Ａ，８
Ａはアーム１０Ａ，１０Ｂと平行であり、従って互いに
傾斜している。また、研摩体ホルダ１０の中心Ｃは研摩
体８，８の回転軸８Ａ，８Ａの交点でもある。
【００１８】研摩体ホルダ１０には上方へ突出する圧力
調整軸２２が固定されており、図４に示すように、この
圧力調整軸２２にはリング状のおもり２４を通すことが
できる。このようにおもり２４を通すことにより、研摩
体８とコンパクトディスク６との接触圧力を調整するこ
とができる。この調整は２つの研摩体８，８のそれぞれ
について独立に行うことが出来、図３では、２つの圧力
調整軸２２のうちの左方にのみおもり２４を通した例を
示している。
調整軸２２が固定されており、図４に示すように、この
圧力調整軸２２にはリング状のおもり２４を通すことが
できる。このようにおもり２４を通すことにより、研摩
体８とコンパクトディスク６との接触圧力を調整するこ
とができる。この調整は２つの研摩体８，８のそれぞれ
について独立に行うことが出来、図３では、２つの圧力
調整軸２２のうちの左方にのみおもり２４を通した例を
示している。
【００１９】研摩体ホルダ１０はその中心Ｃをコンパク
トディスク受台４あるいはコンパクトディスク６の中心
Ｄからずらしてコンパクトディスク受台４の上へ配置さ
れる。コンパクトディスク６の表面へ研摩砥粒が混入さ
れたペースト状の研摩剤を塗布し、モータ２によりコン
パクトディスク受台４を例えば毎分８００回転で駆動
し、コンパクトディスク受台４を上昇あるいは研摩体
８，８を下降させて研摩体８，８をコンパクトディスク
６と接触させると、研摩体８，８が回転軸８Ａ，８Ａを
中心として従動回転をする。このときのコンパクトディ
スク６と研摩体８，８との接触によりコンパクトディス
ク６の研摩が行われる。
トディスク受台４あるいはコンパクトディスク６の中心
Ｄからずらしてコンパクトディスク受台４の上へ配置さ
れる。コンパクトディスク６の表面へ研摩砥粒が混入さ
れたペースト状の研摩剤を塗布し、モータ２によりコン
パクトディスク受台４を例えば毎分８００回転で駆動
し、コンパクトディスク受台４を上昇あるいは研摩体
８，８を下降させて研摩体８，８をコンパクトディスク
６と接触させると、研摩体８，８が回転軸８Ａ，８Ａを
中心として従動回転をする。このときのコンパクトディ
スク６と研摩体８，８との接触によりコンパクトディス
ク６の研摩が行われる。
【００２０】研摩体８がその回転軸８Ａの廻りに回転す
るのは、コンパクトディスク６との接触により、その回
転軸８Ａに対して垂直の方向への力Ｆ１が加わるからで
あり、回転軸８Ａがコンパクトディスク６の中心Ｄを通
るようにすると、この力Ｆ１のみが加わる。本実施の形
態のように研摩体８，８の回転軸８Ａ，８Ａがコンパク
トディスク６の回転中心Ｄの上を通らないようにする
と、回転軸８Ａ，８Ａの方向への力Ｆ２も加わる。
るのは、コンパクトディスク６との接触により、その回
転軸８Ａに対して垂直の方向への力Ｆ１が加わるからで
あり、回転軸８Ａがコンパクトディスク６の中心Ｄを通
るようにすると、この力Ｆ１のみが加わる。本実施の形
態のように研摩体８，８の回転軸８Ａ，８Ａがコンパク
トディスク６の回転中心Ｄの上を通らないようにする
と、回転軸８Ａ，８Ａの方向への力Ｆ２も加わる。
【００２１】図５及び図６はコンパクトディスク６の研
摩軌跡を模式的に示したもので、図５（Ａ）は本実施の
形態における一方の研摩体８（例えば図１の左方の研摩
体８）による研摩軌跡、図５（Ｂ）は他方の研摩体８に
よる研摩軌跡、図６はこれらの研摩軌跡を合成したもの
である。
摩軌跡を模式的に示したもので、図５（Ａ）は本実施の
形態における一方の研摩体８（例えば図１の左方の研摩
体８）による研摩軌跡、図５（Ｂ）は他方の研摩体８に
よる研摩軌跡、図６はこれらの研摩軌跡を合成したもの
である。
【００２２】図５（Ａ）あるいは図５（Ｂ）に示すよう
に研摩軌跡２６、２８はスパイラル状となり、しかもそ
のスパイラル軌跡２６，２８のねじれ方向が２つの研摩
体８，８でそれぞれ逆方向となることにより、合成軌跡
が図６に示すように互いに交差する。このように研摩軌
跡２６，２８が交差することにより、良質の研摩面が得
られる。
に研摩軌跡２６、２８はスパイラル状となり、しかもそ
のスパイラル軌跡２６，２８のねじれ方向が２つの研摩
体８，８でそれぞれ逆方向となることにより、合成軌跡
が図６に示すように互いに交差する。このように研摩軌
跡２６，２８が交差することにより、良質の研摩面が得
られる。
【００２３】研摩体８を、その回転軸８Ａがコンパクト
ディスク６の中心Ｄを通るように配置し、その回転軸８
Ａに対して垂直の方向への力Ｆ１のみが加わるようにす
ると、図５（Ａ），（Ｂ）のようなスパイラル状の研摩
軌跡２６，２８は得られず、放射方向にほぼ直線状に延
びる研摩軌跡となる。このため、研摩体８を２個用いて
研摩を行っても図６に示すように交差する研摩軌跡は得
られない。
ディスク６の中心Ｄを通るように配置し、その回転軸８
Ａに対して垂直の方向への力Ｆ１のみが加わるようにす
ると、図５（Ａ），（Ｂ）のようなスパイラル状の研摩
軌跡２６，２８は得られず、放射方向にほぼ直線状に延
びる研摩軌跡となる。このため、研摩体８を２個用いて
研摩を行っても図６に示すように交差する研摩軌跡は得
られない。
【００２４】本実施の形態のように研摩体８，８の回転
軸８Ａ，８Ａがコンパクトディスク６の回転中心Ｄの上
を通らないようにして、力Ｆ１の他に回転軸８Ａ，８Ａ
の方向への力Ｆ２も加わるようにすることにより、図６
の研摩軌跡が得られる。この力Ｆ２は、研摩体８，８の
回転軸の交点Ｃとコンパクトディスク受台４の回転中心
Ｄとの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。Ｆ２
が大きくなりすぎると、スパイラル状の研摩軌跡２６，
２８はそれぞれ同心円に近い形状となってゆき、特にコ
ンパクトディスク６の外周付近はコンパクトディスク６
の外径円に近い形状となってゆくため、図６のような好
ましい合成研摩軌跡は得られない。
軸８Ａ，８Ａがコンパクトディスク６の回転中心Ｄの上
を通らないようにして、力Ｆ１の他に回転軸８Ａ，８Ａ
の方向への力Ｆ２も加わるようにすることにより、図６
の研摩軌跡が得られる。この力Ｆ２は、研摩体８，８の
回転軸の交点Ｃとコンパクトディスク受台４の回転中心
Ｄとの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。Ｆ２
が大きくなりすぎると、スパイラル状の研摩軌跡２６，
２８はそれぞれ同心円に近い形状となってゆき、特にコ
ンパクトディスク６の外周付近はコンパクトディスク６
の外径円に近い形状となってゆくため、図６のような好
ましい合成研摩軌跡は得られない。
【００２５】逆に研摩体８，８の回転軸の交点Ｃとコン
パクトディスク受台４の回転中心Ｄとの距離が小さくに
なるにしたがってＦ２が小さくなるが、小さくなりすぎ
るとスパイラル状の研摩軌跡２６，２８は放射方向に延
びる直線に近くなってゆくため、やはり図６のような好
ましい合成研摩軌跡は得られない。従って、研摩体８，
８の回転軸の交点Ｃとコンパクトディスク受台４の回転
中心Ｄとの距離を種々変化させて研摩軌跡を観察し、最
も好ましい合成研摩軌跡が得られるような距離を採用す
ることが望ましい。
パクトディスク受台４の回転中心Ｄとの距離が小さくに
なるにしたがってＦ２が小さくなるが、小さくなりすぎ
るとスパイラル状の研摩軌跡２６，２８は放射方向に延
びる直線に近くなってゆくため、やはり図６のような好
ましい合成研摩軌跡は得られない。従って、研摩体８，
８の回転軸の交点Ｃとコンパクトディスク受台４の回転
中心Ｄとの距離を種々変化させて研摩軌跡を観察し、最
も好ましい合成研摩軌跡が得られるような距離を採用す
ることが望ましい。
【００２６】研摩体８は例えば綿あるいはポリエステル
製のものを用いることができる。なお、揺動アーム１２
により研摩体８，８を揺動させるのは、一般にこの種の
研摩装置においては、コンパクトディスク６の外周部が
内周部よりも研摩量が不足になる傾向にあるための対応
策であり、このように揺動させることにより、コンパク
トディスク６の外周部の研摩量を増やすことができる。
製のものを用いることができる。なお、揺動アーム１２
により研摩体８，８を揺動させるのは、一般にこの種の
研摩装置においては、コンパクトディスク６の外周部が
内周部よりも研摩量が不足になる傾向にあるための対応
策であり、このように揺動させることにより、コンパク
トディスク６の外周部の研摩量を増やすことができる。
【００２７】以上の説明においては、本発明による研摩
装置をコンパクトディスククリーナー装置に応用した実
施の形態を示したが、本実施の形態はコンパクトディス
クの研摩に限定されず、被加工物が回転し、研摩体８が
被加工物の回転に伴って従動することにより研摩が行わ
れるものであれば何に対しても適用可能である。例えば
半導体材料となるウエハの研摩に対して適用可能であ
る。
装置をコンパクトディスククリーナー装置に応用した実
施の形態を示したが、本実施の形態はコンパクトディス
クの研摩に限定されず、被加工物が回転し、研摩体８が
被加工物の回転に伴って従動することにより研摩が行わ
れるものであれば何に対しても適用可能である。例えば
半導体材料となるウエハの研摩に対して適用可能であ
る。
【００２８】図７及び図８は本発明による研摩装置の他
の実施の形態の主要部を示し、図７は平面図、図８は正
面図である。
の実施の形態の主要部を示し、図７は平面図、図８は正
面図である。
【００２９】この実施の形態が図１〜図４の実施の形態
と異なるのは、被加工物３０または研摩体８，８が水平
方向に直線往復運動を行うことと、揺動アーム１２に代
えて回転アーム１１２が用いられ、この回転アーム１１
２が回転軸１１４を中心として回転運動を行う点であ
る。研摩体８と被加工物３０は相対的に図７のＸＹ両方
向に往復移動可能である。被加工物３０は被加工物支持
テーブル１３２の上に固定され、この被加工物支持テー
ブル１３２が水平方向に直線往復運動することにより被
加工物３０も往復運動する。研摩体８，８が水平方向に
直線往復運動を行う場合には図示しない駆動装置により
研摩体ホルダ１０が駆動される。
と異なるのは、被加工物３０または研摩体８，８が水平
方向に直線往復運動を行うことと、揺動アーム１２に代
えて回転アーム１１２が用いられ、この回転アーム１１
２が回転軸１１４を中心として回転運動を行う点であ
る。研摩体８と被加工物３０は相対的に図７のＸＹ両方
向に往復移動可能である。被加工物３０は被加工物支持
テーブル１３２の上に固定され、この被加工物支持テー
ブル１３２が水平方向に直線往復運動することにより被
加工物３０も往復運動する。研摩体８，８が水平方向に
直線往復運動を行う場合には図示しない駆動装置により
研摩体ホルダ１０が駆動される。
【００３０】また、研摩体８，８として綿あるいはポリ
エステル製のものを用いることができるが、通常の砥石
を用いることもできる。通常の砥石を用いる場合、研摩
装置全体の剛性を高め、砥石をダイヤモンドで２つの砥
石の研削面の高さを一定に成形することにより、寸法精
度の高い仕上げ面を得ることができる。なお、砥石を用
いる場合には、圧力調整軸２２は設けなくてもよい。
エステル製のものを用いることができるが、通常の砥石
を用いることもできる。通常の砥石を用いる場合、研摩
装置全体の剛性を高め、砥石をダイヤモンドで２つの砥
石の研削面の高さを一定に成形することにより、寸法精
度の高い仕上げ面を得ることができる。なお、砥石を用
いる場合には、圧力調整軸２２は設けなくてもよい。
【００３１】なお、本実施の形態の場合の回転アーム１
１２及び回転軸１１４を省略し、研摩体ホルダ１０の中
心Ｃの廻りに回転させることもできる。この場合、十分
な研摩量を得るためには、被加工物３０または研摩体
８，８の直線往復運動を高速にしなければならない。図
９は本発明による研摩装置の他の実施の形態の主要部を
示す平面図である。
１２及び回転軸１１４を省略し、研摩体ホルダ１０の中
心Ｃの廻りに回転させることもできる。この場合、十分
な研摩量を得るためには、被加工物３０または研摩体
８，８の直線往復運動を高速にしなければならない。図
９は本発明による研摩装置の他の実施の形態の主要部を
示す平面図である。
【００３２】この実施の形態は、回転テーブル３２の上
へ図１〜図４に示したコンパクトディスク受台４を６個
等間隔に取付け、後述する各種作業のために図示のよう
に６つのステーションＳ１〜Ｓ６を円周状に等間隔で設
け、更にステーションＳ２〜Ｓ６のそれぞれ対応して図
１〜図４に示した研摩体８，８、研摩体ホルダ１０、揺
動アーム１２及び揺動軸１４から構成される研摩体組立
体１００を５個設けたものである。コンパクトディスク
受台４は回転テーブル３２の回転に伴って各ステーショ
ン間を順に移動するが、各研摩体組立体１００は図示し
ない据付台へ取付けることにより静止している。
へ図１〜図４に示したコンパクトディスク受台４を６個
等間隔に取付け、後述する各種作業のために図示のよう
に６つのステーションＳ１〜Ｓ６を円周状に等間隔で設
け、更にステーションＳ２〜Ｓ６のそれぞれ対応して図
１〜図４に示した研摩体８，８、研摩体ホルダ１０、揺
動アーム１２及び揺動軸１４から構成される研摩体組立
体１００を５個設けたものである。コンパクトディスク
受台４は回転テーブル３２の回転に伴って各ステーショ
ン間を順に移動するが、各研摩体組立体１００は図示し
ない据付台へ取付けることにより静止している。
【００３３】回転テーブル３２は図示した矢印Ｒ方向へ
回転可能なものとすると、６０度回転した後、停止して
各ステーションで作業を行い、所定の時間（１．５〜３
分、例えば２分）経過後、再び６０度回転し、以下同様
の繰り返しとなる。
回転可能なものとすると、６０度回転した後、停止して
各ステーションで作業を行い、所定の時間（１．５〜３
分、例えば２分）経過後、再び６０度回転し、以下同様
の繰り返しとなる。
【００３４】第１ステーションＳ１はＣＤの脱着のため
のステーション（脱着ステーション）であり、第２〜第
６の各ステーションで順次砥粒を小さくしてゆく。例え
ば、第２ステーションＳ２は傷除去の第１段階の研摩作
業を行い、使用する研摩体８の材質は綿、使用する砥粒
の粒度は＃４００〜＃８００、第３ステーションＳ３は
傷除去の第２段階の研摩作業を行い、使用する研摩体８
の材質は綿、使用する砥粒の粒度は＃８００〜＃１２０
０、第４ステーションＳ４は中研摩作業を行い、使用す
る研摩体８の材質は綿又はポリエステル、使用する砥粒
の粒度は＃２０００〜＃４０００、第５ステーションＳ
５は仕上前の作業であり、使用する研摩体８はポリエス
テル、砥粒の粒度は＃４０００以上、第６ステーション
Ｓ６は仕上作業であり、使用する研摩体８はポリエステ
ル、砥粒の粒度は＃４０００以上とすることができる。
のステーション（脱着ステーション）であり、第２〜第
６の各ステーションで順次砥粒を小さくしてゆく。例え
ば、第２ステーションＳ２は傷除去の第１段階の研摩作
業を行い、使用する研摩体８の材質は綿、使用する砥粒
の粒度は＃４００〜＃８００、第３ステーションＳ３は
傷除去の第２段階の研摩作業を行い、使用する研摩体８
の材質は綿、使用する砥粒の粒度は＃８００〜＃１２０
０、第４ステーションＳ４は中研摩作業を行い、使用す
る研摩体８の材質は綿又はポリエステル、使用する砥粒
の粒度は＃２０００〜＃４０００、第５ステーションＳ
５は仕上前の作業であり、使用する研摩体８はポリエス
テル、砥粒の粒度は＃４０００以上、第６ステーション
Ｓ６は仕上作業であり、使用する研摩体８はポリエステ
ル、砥粒の粒度は＃４０００以上とすることができる。
【００３５】ステーションＳ２〜Ｓ６には図示しないペ
ースト自動供給装置が設けられ、研摩砥粒が混入された
ペースト状の研摩剤はそのペースト自動供給装置により
コンパクトディスク６の上に塗布される。図１０は本発
明による研摩装置の他の実施の形態の主要部を示す平面
図である。
ースト自動供給装置が設けられ、研摩砥粒が混入された
ペースト状の研摩剤はそのペースト自動供給装置により
コンパクトディスク６の上に塗布される。図１０は本発
明による研摩装置の他の実施の形態の主要部を示す平面
図である。
【００３６】この実施の形態は、図９の実施の形態の変
形例であり、回転テーブル３２の上へ４個のステーショ
ンＳ１１〜Ｓ１４を設けている。ステーション１１は脱
着ステーションであり、ステーションＳ１４で仕上げ作
業を行う。ステーションＳ１２、Ｓ１３で傷除去、仕上
げ前作業等を行う。図１１は本発明による研摩装置の他
の実施の形態の主要部を示す平面図である。
形例であり、回転テーブル３２の上へ４個のステーショ
ンＳ１１〜Ｓ１４を設けている。ステーション１１は脱
着ステーションであり、ステーションＳ１４で仕上げ作
業を行う。ステーションＳ１２、Ｓ１３で傷除去、仕上
げ前作業等を行う。図１１は本発明による研摩装置の他
の実施の形態の主要部を示す平面図である。
【００３７】この実施の形態も、図９の実施の形態の変
形例であり、回転テーブル３２の上へ３個のステーショ
ンＳ２１〜Ｓ２３を設けている。ステーション２１は脱
着ステーションであり、ステーションＳ２２は傷除去の
作業を行い、ステーションＳ２３で仕上げ作業を行う。
この実施の形態の場合、ペースト自動供給装置を設けな
くとも特に不都合はない。すなわち、本実施例の場合、
脱着ステーションＳ２１で作業者がコンパクトディスク
６をコンパクトディスク受台４上に配置すると共に、コ
ンパクトディスク６上にステーションＳ２２で使用され
る研摩剤を塗布する。仕上げ用の研摩剤はワックスが混
入されたものを用いるが、この研摩剤は研摩体８に染み
込みやすく且つ保持されやすいため、連続してコンパク
トディスク６を数十枚程度仕上げるまで新たに研摩剤を
塗布する必要がない。従って、ステーションＳ２３では
コンパクトディスク６数十枚につき１度だけ作業者が研
摩剤を塗布するだけで良い。
形例であり、回転テーブル３２の上へ３個のステーショ
ンＳ２１〜Ｓ２３を設けている。ステーション２１は脱
着ステーションであり、ステーションＳ２２は傷除去の
作業を行い、ステーションＳ２３で仕上げ作業を行う。
この実施の形態の場合、ペースト自動供給装置を設けな
くとも特に不都合はない。すなわち、本実施例の場合、
脱着ステーションＳ２１で作業者がコンパクトディスク
６をコンパクトディスク受台４上に配置すると共に、コ
ンパクトディスク６上にステーションＳ２２で使用され
る研摩剤を塗布する。仕上げ用の研摩剤はワックスが混
入されたものを用いるが、この研摩剤は研摩体８に染み
込みやすく且つ保持されやすいため、連続してコンパク
トディスク６を数十枚程度仕上げるまで新たに研摩剤を
塗布する必要がない。従って、ステーションＳ２３では
コンパクトディスク６数十枚につき１度だけ作業者が研
摩剤を塗布するだけで良い。
【００３８】
【発明の効果】本発明によれば、２つの円筒形状の研摩
体を用いその２つの円筒形状の研摩体の回転軸の交差す
る点を前記被加工物受台の回転中心とをずらして配置す
ることにより、第１及び第２の研摩体による研摩軌跡を
交差させたことにより、良好な研摩面を得ることができ
る研摩装置を提供することができる。
体を用いその２つの円筒形状の研摩体の回転軸の交差す
る点を前記被加工物受台の回転中心とをずらして配置す
ることにより、第１及び第２の研摩体による研摩軌跡を
交差させたことにより、良好な研摩面を得ることができ
る研摩装置を提供することができる。
【００３９】また、本発明によれば、被加工物の回転に
よって第１及び第２の研摩体に加わる力が各研摩体の回
転軸に対して直交する方向の力に加えて該回転軸の方向
の力も加わることにより、第１及び第２の研摩体による
研摩軌跡を交差させたことにより、前記と同様に良好な
研摩面を得ることができる研摩装置を提供することがで
きる。
よって第１及び第２の研摩体に加わる力が各研摩体の回
転軸に対して直交する方向の力に加えて該回転軸の方向
の力も加わることにより、第１及び第２の研摩体による
研摩軌跡を交差させたことにより、前記と同様に良好な
研摩面を得ることができる研摩装置を提供することがで
きる。
【００４０】研摩体組立体として更に前記研摩体ホルダ
へ固定された揺動アームを設け、該揺動アームにより、
２個の研摩体が水平方向に揺動されるように構成するこ
とにより、被加工物の外周部の研摩量を増やすことがで
きる。
へ固定された揺動アームを設け、該揺動アームにより、
２個の研摩体が水平方向に揺動されるように構成するこ
とにより、被加工物の外周部の研摩量を増やすことがで
きる。
【００４１】更に本発明によれば、被加工物脱着ステー
ションを含み、円周状に等間隔に配置された複数の作業
ステーションと、前記作業ステーションのうち被加工物
脱着ステーションを除く各ステーションへ配置された研
摩体組立体と、複数の被加工物受台を等間隔に作業ステ
ーションと同数且つ各作業ステーションに対応して取り
付けた回転テーブルとを備え、各ステーションでの研摩
精度を段階的に向上させることにより、被加工物の研摩
作業を荒研摩、仕上げ研摩等、複数回行う必要がある場
合であっても、大量の被加工物を短時間に研摩すること
ができる。
ションを含み、円周状に等間隔に配置された複数の作業
ステーションと、前記作業ステーションのうち被加工物
脱着ステーションを除く各ステーションへ配置された研
摩体組立体と、複数の被加工物受台を等間隔に作業ステ
ーションと同数且つ各作業ステーションに対応して取り
付けた回転テーブルとを備え、各ステーションでの研摩
精度を段階的に向上させることにより、被加工物の研摩
作業を荒研摩、仕上げ研摩等、複数回行う必要がある場
合であっても、大量の被加工物を短時間に研摩すること
ができる。
【００４２】更に本発明によれば、２つの円筒形状の研
摩体を用いこの２つの円筒形状の研摩体をそれぞれの回
転軸が交差するように保持する研摩体ホルダと、前記研
摩体ホルダへ固定された回転アームであって、該研摩体
ホルダを水平方向に回転させる回転アームとを備え、被
加工物を保持し、前記研摩体ホルダに対して相対的に水
平方向に直線往復運動可能な被加工物支持テーブルとを
備えることにより、従来見られない新規な構成を有する
研摩装置が提供される。この研摩装置は特に平面研削盤
として用いることが可能である。
摩体を用いこの２つの円筒形状の研摩体をそれぞれの回
転軸が交差するように保持する研摩体ホルダと、前記研
摩体ホルダへ固定された回転アームであって、該研摩体
ホルダを水平方向に回転させる回転アームとを備え、被
加工物を保持し、前記研摩体ホルダに対して相対的に水
平方向に直線往復運動可能な被加工物支持テーブルとを
備えることにより、従来見られない新規な構成を有する
研摩装置が提供される。この研摩装置は特に平面研削盤
として用いることが可能である。
【００４３】更に本発明によれば、２つの円筒形状の研
摩体を用いこの２つの円筒形状の研摩体をそれぞれの回
転軸が交差するように保持する研摩体ホルダと、前記第
１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転軸が交
差するように保持する研摩体ホルダであって、２個の研
摩体を水平方向に回転させる回転アームとを備え、被加
工物を保持し、前記研摩体ホルダに対して相対的に水平
方向に直線往復運動可能な被加工物支持テーブルとを備
えることにより、前記と同様に平面研削盤として用いる
ことが可能な新規な構成を有する研摩装置が提供され
る。
摩体を用いこの２つの円筒形状の研摩体をそれぞれの回
転軸が交差するように保持する研摩体ホルダと、前記第
１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転軸が交
差するように保持する研摩体ホルダであって、２個の研
摩体を水平方向に回転させる回転アームとを備え、被加
工物を保持し、前記研摩体ホルダに対して相対的に水平
方向に直線往復運動可能な被加工物支持テーブルとを備
えることにより、前記と同様に平面研削盤として用いる
ことが可能な新規な構成を有する研摩装置が提供され
る。
【図１】 本発明による研摩装置をコンパクトディスク
クリーナー装置に応用した実施の形態の主要部の平面図
である。
クリーナー装置に応用した実施の形態の主要部の平面図
である。
【図２】 図１の正面図である。
【図３】 図１の要部の平面図である。
【図４】 図１のＡ−Ａ断面図である。
【図５】 コンパクトディスクの研摩軌跡を模式的に示
したもので、（Ａ）は本実施の形態における一方の研摩
体による研摩軌跡、（Ｂ）は他方の研摩体による研摩軌
跡である。
したもので、（Ａ）は本実施の形態における一方の研摩
体による研摩軌跡、（Ｂ）は他方の研摩体による研摩軌
跡である。
【図６】 図５（Ａ）及び（Ｂ）の研摩軌跡を合成した
研摩軌跡である。
研摩軌跡である。
【図７】 本発明による研摩装置の他の実施の形態の主
要部の平面図である。
要部の平面図である。
【図８】 図８の正面図である。
【図９】 本発明による研摩装置の他の実施の形態の主
要部を示す平面図である。
要部を示す平面図である。
【図１０】 本発明による研摩装置の他の実施の形態の
主要部を示す平面図である。
主要部を示す平面図である。
【図１１】 本発明による研摩装置の他の実施の形態の
主要部を示す平面図である。
主要部を示す平面図である。
Ｃ 研摩体ホルダの中心（２つの研摩体の回転軸の交
点） Ｄ コンパクトディスク受台の回転中心 Ｆ１ 研摩体がその回転軸に対して垂直の方向に受ける
力 Ｆ２ 研摩体がその回転軸の方向に受ける力 Ｖ 研摩体ホルダの対称軸 Ｈ 対称軸Ｖに対して垂直の水平軸を Ｒ 回転テーブルの回転方向 ２ モータ ４ コンパクトディスク受台（被加工物受台） ６ コンパクトディスク（被加工物） ８，８ 研摩体 ８Ａ，８Ａ 回転軸 １０ 研摩体ホルダ １０Ａ，１０Ｂ アーム １１ ステーション １２ 揺動アーム １４ 揺動軸 １６ 円筒軸 １７，１７ ミニチュアベアリング １８，１８ 側板 １９，１９ ピボット軸 ２０ フレーム ２０Ａ，２０Ｂ プレート ２１ ステーション ２１，２１ ねじ ２２ 圧力調整軸 ２６，２８ 研摩軌跡 ３０ 被加工物 ３２ 回転テーブル １００ 研摩体組立体 １１２ 回転アーム １１４ 回転軸 １３２ 被加工物支持テーブル
点） Ｄ コンパクトディスク受台の回転中心 Ｆ１ 研摩体がその回転軸に対して垂直の方向に受ける
力 Ｆ２ 研摩体がその回転軸の方向に受ける力 Ｖ 研摩体ホルダの対称軸 Ｈ 対称軸Ｖに対して垂直の水平軸を Ｒ 回転テーブルの回転方向 ２ モータ ４ コンパクトディスク受台（被加工物受台） ６ コンパクトディスク（被加工物） ８，８ 研摩体 ８Ａ，８Ａ 回転軸 １０ 研摩体ホルダ １０Ａ，１０Ｂ アーム １１ ステーション １２ 揺動アーム １４ 揺動軸 １６ 円筒軸 １７，１７ ミニチュアベアリング １８，１８ 側板 １９，１９ ピボット軸 ２０ フレーム ２０Ａ，２０Ｂ プレート ２１ ステーション ２１，２１ ねじ ２２ 圧力調整軸 ２６，２８ 研摩軌跡 ３０ 被加工物 ３２ 回転テーブル １００ 研摩体組立体 １１２ 回転アーム １１４ 回転軸 １３２ 被加工物支持テーブル
Claims (7)
- 【請求項１】 回転軸を有しその回転軸の回りに回転可
能な第１の円筒形状の研摩体と、回転軸を有しその回転
軸の回りに回転可能な第２の円筒形状の研摩体と、前記
第１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転軸が
交差するように保持する研摩体ホルダとを有する研摩体
組立体と、 被加工物を回転可能に保持する被加工物受台とを備え、 前記第１及び第２の研摩体の周面を前記被加工物と接触
させることにより、被加工物を研摩し、 前記第１及び第２の円筒形状の研摩体の回転軸の交差す
る点を前記被加工物受台の回転中心とをずらして配置す
ることにより、第１及び第２の研摩体による研摩軌跡が
交差することを特徴とする研摩装置。 - 【請求項２】 回転軸を有しその回転軸の回りに回転可
能な第１の円筒形状の研摩体と、回転軸を有しその回転
軸の回りに回転可能な第２の円筒形状の研摩体と、前記
第１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転軸が
交差するように保持する研摩体ホルダとを有する研摩体
組立体と、 被加工物を回転可能に保持する被加工物受台とを備え、 前記第１及び第２の研摩体の周面を前記被加工物と接触
させることにより、被加工物を研摩し、 被加工物の回転によって第１及び第２の研摩体に加わる
力が各研摩体の回転軸に対して直交する方向の力に加え
て該回転軸の方向の力も加わることにより、第１及び第
２の研摩体による研摩軌跡が交差することを特徴とする
研摩装置。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の研摩装置にお
いて、前記研摩体組立体は更に前記研摩体ホルダへ固定
された揺動アームを備え、該揺動アームにより、２個の
研摩体が水平方向に揺動されることを特徴とする研摩装
置。 - 【請求項４】 請求項１ないし３に記載の研摩装置にお
いて、前記被加工物はコンパクトディスクであることを
特徴とする研摩装置。 - 【請求項５】 被加工物脱着ステーションを含み、円周
状に等間隔に配置された複数の作業ステーションと、 前記作業ステーションのうち被加工物脱着ステーション
を除く各ステーションへ配置された請求項１ないし４に
記載の研摩体組立体と、 複数の被加工物受台を等間隔に作業ステーションと同数
且つ各作業ステーションに対応して取り付けた回転テー
ブルとを備え、各ステーションでの研摩精度を段階的に
向上させることを特徴とする、研摩装置。 - 【請求項６】 回転軸を有しその回転軸の回りに回転可
能な第１の円筒形状の研摩体と、 回転軸を有しその回転軸の回りに回転可能な第２の円筒
形状の研摩体と、 前記第１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転
軸が交差するように保持する研摩体ホルダと、 前記研摩体ホルダへ固定された回転アームであって、該
研摩体ホルダを水平方向に回転させる回転アームとを備
え、 被加工物を保持し、前記研摩体ホルダに対して相対的に
水平方向に直線往復運動可能な被加工物支持テーブルと
を備え、 前記第１及び第２の研摩体の周面を前記被加工物と接触
させることにより、被加工物を研摩することを特徴とす
る研摩装置。 - 【請求項７】 回転軸を有しその回転軸の回りに回転可
能な第１の円筒形状の研摩体と、 回転軸を有しその回転軸の回りに回転可能な第２の円筒
形状の研摩体と、 前記第１及び第２の円筒形状の研摩体をそれぞれの回転
軸が交差するように保持する研摩体ホルダであって、２
個の研摩体を水平方向に回転させる回転アームとを備
え、 被加工物を保持し、前記研摩体ホルダに対して相対的に
水平方向に直線往復運動可能な被加工物支持テーブルと
を備え、 前記第１及び第２の研摩体の周面を前記被加工物と接触
させることにより、被加工物を研摩することを特徴とす
る研摩装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10205778A JP2000030409A (ja) | 1998-07-07 | 1998-07-07 | 研摩装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10205778A JP2000030409A (ja) | 1998-07-07 | 1998-07-07 | 研摩装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000030409A true JP2000030409A (ja) | 2000-01-28 |
Family
ID=16512523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10205778A Pending JP2000030409A (ja) | 1998-07-07 | 1998-07-07 | 研摩装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000030409A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8473475B2 (en) | 2004-09-15 | 2013-06-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Information storage medium for storing metadata supporting multiple languages, and systems and methods of processing metadata |
| CN113618605A (zh) * | 2021-10-12 | 2021-11-09 | 南通高敦汽车部件科技有限公司 | 一种汽车金属部件自由曲面精抛设备 |
-
1998
- 1998-07-07 JP JP10205778A patent/JP2000030409A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8473475B2 (en) | 2004-09-15 | 2013-06-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Information storage medium for storing metadata supporting multiple languages, and systems and methods of processing metadata |
| CN113618605A (zh) * | 2021-10-12 | 2021-11-09 | 南通高敦汽车部件科技有限公司 | 一种汽车金属部件自由曲面精抛设备 |
| CN113618605B (zh) * | 2021-10-12 | 2021-12-21 | 南通高敦汽车部件科技有限公司 | 一种汽车金属部件自由曲面精抛设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040427 |