JP2000022013A - 電子部品の製造方法 - Google Patents

電子部品の製造方法

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JP2000022013A
JP2000022013A JP10183968A JP18396898A JP2000022013A JP 2000022013 A JP2000022013 A JP 2000022013A JP 10183968 A JP10183968 A JP 10183968A JP 18396898 A JP18396898 A JP 18396898A JP 2000022013 A JP2000022013 A JP 2000022013A
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welding
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Haruto Ide
治人 井手
Yuji Tamura
裕司 田村
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Kyocera Corp
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Kyocera Corp
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    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
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    • H01L2924/1615Shape
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  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、シーム溶接の構造の改善により、
金属製蓋体の熱膨張の影響を小さくして、よって、電子
部品素子の特性変動を有効に抑える電子部品の製造方法
である。 【解決手段】 本発明は、一面が開口した筺体状セラミ
ックパッケージ1内に、電子部品素子4を収容するとと
もに、前記セラミックパッケージ1の開口周囲に配置し
たシールリング3を介して、矩形状金属製蓋体2を被覆
し、該金属製蓋体2と前記セラミックパッケージ3とを
シーム溶接を行ったにおいて、前記金属製蓋体2の一辺
とセラミックパッケージ1との接合が、一辺の一端部の
シーム溶接Y31を行い、その後、一辺の他端部のシーム
溶接Y32を行う電子部品の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミックパッケ
ージ内に、電子部品素子(水晶振動子片、弾性表面波素
子、ICチップなどのチップ部材)を収容し、金属製蓋
体を封止した電子部品の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、内部に電子部品素子を収容し、表
面実装用セラミックパッケージを蓋体で封止する構造と
しては種々知られている。例えば、表面実装用セラミッ
クパッケージと蓋体とを低融点封止ガラスで接合する構
造、半田を介して接合する構造、さらに、金属製シール
リングを介してシーム溶接する構造などがある。
【0003】これらの封止構造において、セラミックパ
ッケージ内に収容した電子部品素子に特性を変動させる
ような過度の熱を与えず、しかも、表面実装する際のリ
フロー半田にも充分に耐ええる構造として、シーム溶接
による封止構造が挙げられる。
【0004】従来のシーム溶接は、一面が開口した筺体
状セラミックパッケージの開口周囲に、タングステンや
モリブデンを下地層、Niメッキ被覆層などの封止用導
体膜を形成し、また、前記シール用導体膜上に、42ア
ロイ、コバールなどのシールリングを銀ロウ付けなどで
接合しておき、さらに、このセラミックパッケージ内に
電極部品を収納しておく。
【0005】その後、セラミックパッケージの開口に、
シールリングと同一の金属材料から成る矩形状金属製蓋
体を載置し、仮付けした後、シールリングと矩形状金属
製蓋体との接合する4辺に、金属製蓋体側からローラー
電極を押圧しながら、通電して回転させ、金属製蓋体と
シールリングとの間に大きな電流を印加して溶接するも
のである(例えば、特開平6−224315号参照)。
【0006】尚、上述の特開平6−224315号参照
は、金属製蓋体の一辺端部でシーム溶接するにあたり、
ローラー電極を、溶接開始端から溶接終了端にかけて一
連に回転・接触させながら溶接を行い、溶接終了端にお
いて、微小距離だけ溶接開始端側に逆回転させて、ロー
ラー電極を金属製蓋体から離間する。これによって、セ
ラミックパッケージの浮き上がりを防止するものであ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述のシーム溶接で
は、ローラー電極の押圧・通電による溶接時に、溶接部
分で発熱が発生してしまう。この発生する熱によりセラ
ミックパッケージ側と金属製シールリングまたは金属製
蓋体の熱膨張係数の差に起因する膨張・収縮応力が発生
してしまう。特に、特開平6−224315号のよう
に、溶接すべき金属製蓋体の一辺端部の一方端部から他
方端部にかけて一連に溶接していくと、金属製蓋体自身
が膨張しながら溶接されることになる。このため、金属
製蓋体の溶接終端部付近では、熱膨張による変位が最大
となった状態で溶接される。従って、シーム溶接後、金
属製蓋体の熱膨張が収縮する時に、この収縮応力がセラ
ミックパッケージ側に伝わることになる。
【0008】この収縮応力は、溶接方向(ローラー電極
の回転進行方向)とは逆向きに働き、しかも、セラミッ
クパッケージに伝わり、セラミックパッケージ内に内在
してしまう。
【0009】結局、セラミックパッケージ内に収容した
電子部品素子にその応力が伝わり、電子部品素子の特性
が、セラミックパッケージ収容後に変動してしまう。
【0010】このような応力による特性の変動は、特
に、機械的条件に依存する弾性表面波素子や水晶振動素
子などの周波数特性の変動として顕著に現れる。
【0011】本発明は、上述の問題点に鑑みて案出され
たものであり、その目的は、金属製蓋体の熱膨張の影響
を小さくし、よって、セラミックパッケージに収容した
電子部品素子の特性変動を有効に抑えることができる電
子部品の製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、一面が開口し
た筺体状セラミックパッケージ内に、電子部品素子を収
容するとともに、前記セラミックパッケージの開口周囲
に配置された方形環状のシールリングに矩形状金属製蓋
体をシーム溶接により接合させることによって内部に電
子部品素子を気密に封止して成る電子部品の製造方法に
おいて、前記金属製蓋体と前記シールリングの各辺の接
合を、少なくとも一辺の一端部をシーム溶接を行い、そ
の後、それ以外の箇所をシーム溶接を施すことを特徴と
する電子部品の製造方法である。
【0013】即ち、前記金属製蓋体と前記シールリング
との少なくとも一辺の接合においては、当該一辺の一端
部側のシーム溶接を行った後、その後、当該一辺の他端
部側のシーム溶接が行われている。
【0014】また、好ましくは、金属製蓋体の一辺にお
ける一端部におけるシーム溶接のローラー電極の回転に
よる溶接進行方向と、他端部におけるシーム溶接のロー
ラー電極の回転による溶接進行方向とが互いに逆方向と
なるように行っていることである。
【0015】
【作用】以上のように、金属製蓋体とセラミックパッケ
ージに配置された方形環状のシールリングとの一辺、例
えば長辺におけるシーム溶接が、ローラー電極の回転に
よる溶接が、複数回に分けられている。即ち、当該一辺
の一端部側をシーム溶接を行い、その後、当該一辺の他
端部側をシーム溶接を行っている。
【0016】この複数回のシーム溶接によって、金属製
蓋体とセラミックパッケージに配置された方形環状のシ
ールリングの一辺の接合が達成されるため、その間に溶
接休止時間が発生する。このため、休止時間で溶接時に
発生する熱の放熱されるため、複数回に分けることによ
り、夫々のシーム溶接における金属製蓋体の熱膨張の絶
対量を小さくすることができ、これにより、セラミック
パッケージに係る応力を小さくすることができる。
【0017】また、金属製蓋体の一辺の一端部側が接合
されにことにより、金属製蓋体の一端部が完全に位置決
めされて接合されるため、その後、第2回目以降のシー
ム溶接を行っても、機械的に金属製蓋体の熱膨張を小さ
くでき、これによってもセラミックパッケージに係る応
力を小さくすることができる。
【0018】また、金属製蓋体の一辺の一端部側でのシ
ーム溶接時の溶接進行方向と、金属製蓋体の一辺の他端
部側でのシーム溶接時の溶接進行方向とを互いに逆方向
にすることにより、金属製蓋体の熱収縮力の発生方向が
互いに相殺することができる。これより、金属製蓋体に
よって封止したセラミックパッケージに内在する応力歪
みを小さくでき、収容した電子部品素子にかかる応力を
低減でき、これにより、特性の安定化を図ることができ
る。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の電子部品の製造方
法を図面に基づいて詳説する。
【0020】図1は、本発明に係る電子部品の金属製蓋
体を省略した状態の平面図であり、図2はその断面図で
あり、図3〜図5は本発明の電子部品の製造方法を説明
するシーム溶接による封止工程時における電子部品の概
略平面図及び側面図である。
【0021】図において、電子部品10は、セラミック
パッケージ1、金属製蓋体2、シールリング3、電子部
品素子4から主に構成されている。
【0022】セラミックパッケージ1は、例えば複数の
セラミック層が積層されてなり、一面が開口した電子部
品素子4を収容するキャビティ部11が形成されてい
る。即ち、セラミックパッケージ1の一面には、電子部
品素子4を収容するための開口が形成されている。
【0023】そして、セラミックパッケージ1のキャビ
ティ部11開口周囲には、タングステンやモリブデンな
どから成る下地導体層及びNiメッキ表面層からなるシ
ール導体膜12が形成されている。
【0024】また、セラミックパッケージ1のキャビテ
ィ部11の底面には、電子部品素子4を配置し、また、
電気的に接続する配線導体が形成されている。また、セ
ラミックパッケージ1を構成する各セラミック層の層間
には、底部の導体膜を外部に引き出し、また、所定回路
を形成する導体膜が形成されている。また、セラミック
パッケージ1の外周部には、内部導体膜と接続する外部
端子電極が形成されている。
【0025】このようなセラミックパッケージ1は、例
えば、周知の多層配線基板と同様にして製造されてい
る。
【0026】例えば、セラミックパッケージ1の底とな
るセラミックグリーンシート上に底面配線導体となる導
体膜を、また、他のセラミックグリーンシートにキャビ
ティ部11となる貫通孔及び内部配線となる導体膜、シ
ール導体膜12の下地導体層となる導体膜を含む内部配
線や底面配線導体となる導体膜を、タングステンやモリ
ブデンの導電性ペーストを用いて印刷・乾燥する。
【0027】そして、このようなセラミックグリーンシ
ートを積層圧着を行い、所定雰囲気で焼成する。その
後、必要に応じて、内部配線と接続する外部端子電極を
形成する。その後、シール導体膜の下地導体層上に、N
iメッキなどにより、表面メッキ層を形成する。これに
より、セラミックパッケージ1が達成されることにな
る。尚、上述の形成方法は、グリーンシートの積層によ
る製造方法であるが、例えば、セラミック粉末によるプ
レス成型で形成することができる。
【0028】尚、上述のように、シール用導体膜12及
び各配線導体は、焼成温度条件によって種々変えること
ができ、例えば、850〜1050℃で焼成可能なセラ
ミック材料(ガラス−セラミック)を用いた場合には、
AgやCuなどでシール用導体膜12の下地導体層や配
線導体を形成することができる。
【0029】このようなセラミックパッケージ1のキャ
ビティ部11内部に、弾性表面波素子や水晶振動子やI
Cチップなどの電子部品素子4が収容されている。
【0030】弾性表面波素子は、キャビティ部11の底
面に接着材などを介して機械的に接合され、同時に、キ
ャビティ部11に露出する所定配線導体にボンディング
ワイヤwなどを介して電気的に接続される。尚、ICチ
ップの場合にも、弾性表面波素子と同様であり、必要に
応じて半田バンプを用いてフリップチップ接合しても構
わない。
【0031】また、必要に応じて、キャビティ部11内
部に、弾性表面波素子や水晶振動子やICチップなどの
電子部品素子4とともに、所定回路を構成する各種チッ
プ状電子部品も収容配置される。
【0032】金属製蓋体2は、42アロイやコバールな
どから成る平板状蓋体であり、セラミックパッケージ1
のキャビティ部11の開口を気密的に封止を行うもので
ある。このような金属製蓋体2の形状は、概略シールリ
ング3の形状を外周形状とする矩形状となっており、そ
の厚みは、例えば0.1mm程度である。
【0033】シールリング3は、42アロイやコバール
などから成り、セラミックパッケージ1の上面にシール
用導体膜12と実質的に同一の形状、例えば、4角形状
のリング体となっている。そして、このシールリング3
は、シール用導体膜12にAgロウ材によって強固に接
合されている。
【0034】このような、シールリング3が接合され、
且つ内部に電子部品素子4が収容されたセラミックパッ
ケージ1と金属製蓋体2との接合封止は、次のようなシ
ーム溶接によって行われる。
【0035】即ち、金属製蓋体2をシールリング3上に
配置した時、シールリング3に対応する金属製蓋体2の
4辺部分に、通電可能なローラー電極を押し当てなが
ら、金属製蓋体2とシール用導体膜12間に所定電流を
供給する。尚、金属製蓋体2とシール用導体膜12間に
所定電流は、例えば、80〜150Vで1kAの電流を
流して、これにより、コバール又は42アロイの金属製
蓋体2とシールリング3及びシール用導体膜12とを一
体的に溶接接合する。尚、ローラー電極は、矩形状金属
製蓋体2の一対の端辺部分を同時に溶接することがで
き、例えば、まず、矩形状金属製蓋体2の一対の長辺側
端辺部分又は一対の短辺側端辺部分を溶接し、続いて、
矩形状金属製蓋体2の一対の短辺側端辺部分又は一対の
長辺側端辺部分を溶接する。
【0036】本発明の特徴的なことは、金属製蓋体2の
少なくとも一辺、例えば長辺の端部をシーム溶接するに
あたり、少なくとも2回のシーム溶接によって行われて
いる。即ち、第1回目のシーム溶接により、当該一辺の
一端部が接合される。その後、第2回目以降のシーム溶
接により、当該一辺の他端部が接合される。これによ
り、金属製蓋体2とセラミックパッケージ1とが接合封
止されている。
【0037】好ましくは、前記金属製蓋体2の少なくと
も一辺の一端部におけるシーム溶接の進行方向(ローラ
ー電極の回転方向)と、他端部におけるシーム溶接の進
行方向(ローラー電極の回転方向)とが夫々逆方向とな
っている。
【0038】図3は、本発明のシーム溶接時の溶接順序
を説明する平面概略図及び側面図である。このシーム溶
接による接合構造は、複数回のシーム溶接による溶接構
造及び溶接の進行方向が第1回目のシーム溶接と第2回
目のシーム溶接とが互い逆方向となっている。
【0039】まず、図3(a)(b)に示すよう、セラ
ミックパッケージ1の上部に載置した金属製蓋体2を仮
付けするために、例えば、矩形状金属製蓋体2の長辺側
端部の中央部に、ローラー電極31を押し当てながら通
電し、スッポット的に溶接する。
【0040】図3(b)に示す示すローラー電極31に
おいて、点線は初期状態のローラー電極31であり、実
線は矢印方向に変位された後のローラー電極31であ
る。
【0041】これより、図3(a)に示すように、金属
製蓋体2の一対の長辺側端部の中央部にスッポット溶接
30される。尚、この仮付けのスポット溶接Y30は、本
発明でいう第1回目のシーム溶接(縫い合わせ溶接)に
含めない。
【0042】次に、図3(c)(d)に示すように、第
1回目のシーム溶接行う。即ち、金属製蓋体2の一対の
長辺側端部の中央部にローラー電極31に押し当てなが
ら、所定電流を供給し、矢印に示す方向、即ち、長辺側
端部の一端部側にかけて変位(ローラー電極31の回転
進行)させながら、シーム溶接Y31を行う。
【0043】次に、図3(e)(f)に示すように、第
2回目のシーム溶接行う。即ち、金属製蓋体2の一対の
長辺側端部の中央部にローラー電極31に押し当てなが
ら、所定電流を供給し、矢印に示す方向、即ち、長辺側
端部の他端部側にかけて変位させながら、シーム溶接Y
32を行う。
【0044】その後、図示していないが、金属製蓋体2
の一対の短辺側端部を1回または2回に分けてシーム溶
接を行う。
【0045】このように、金属製蓋体2の一辺端部、特
に、長辺側における溶接が、ローラー電極31の溶接進
行方向が、2回に分けられている。従って、第1回目の
シーム溶接と第2回目のシーム溶接との間で、溶接休止
時間ができる。これより、第1回目のシーム溶接により
発生した熱による金属製蓋体2の熱膨張を初期状態に戻
すことができる。しかも、溶接回数を分けたことによ
り、1回のシーム溶接によって発生する金属製蓋体2の
膨張量を小さくすることができるため、応力を細かく分
割することができる。
【0046】その結果、全体として、金属製蓋体2とセ
ラミックパッケージ1との間に発生する内部応力を小さ
くすることができる。
【0047】また、第1回目(一辺の一端部の接合)の
シーム溶接Y31の溶接進行方向と第2回目(一辺の他端
部の接合)の溶接Y32の溶接進行方向とを互いに逆方向
とすることにより、第1回目による金属製蓋体2の熱収
縮力の発生方向と、第2回目による金属製蓋体2の熱収
縮力の発生方向を夫々相殺することができ、これによっ
て、第1回目の溶接により、セラミックパッケージの内
部に内在する応力を、第2回目の溶接により発生する応
力により、相殺することができる。
【0048】これらにより、セラミックパッケージ1に
発生する金属製蓋体2とセラミックパッケージ1との熱
膨張係数の差によるセラミックパッケージ1内に内在す
る応力歪みを小さくでき、封止後の収容した電子部品素
子4にかかる応力を低減できる。その結果、電子部品素
子4の動作にあたり、機械的な応力による特性、特に、
弾性表面波素子や水晶振動振子においては、周波数特性
などの変動を有効に抑えることができる。
【0049】また、シーム溶接により、局部的に熱が発
生するだけであり、電子部品素子4に影響するような熱
にはならないため、これによっても電子部品素子4の安
定した特性を容易に導出することができる。
【0050】また、根本的にシーム溶接で金属製蓋体2
とセラミックパッケージ1とを封止しているため、この
電子部品を、プリント配線基板上にリフロー方式によっ
て実装しても、金属製蓋体2とセラミックパッケージ1
との封止部分が安定して維持することができる。
【0051】尚、図3(c)〜(e)の工程において、
逆方向にローラー電極13を変位されてもよい。即ち、
第1回目の一端部の接合であるシーム溶接Y31を、金属
製蓋体2の一辺の一端部から中央部に行い、第2回目の
他端部の接合であるシーム溶接Y32を、金属製蓋体2の
他端部から中央部に行っても構わない。
【0052】図4(a)〜(h)は、図3の変形例であ
る。図3(a)〜図3(f)との相違部分は、溶接回数
が3回であり、また、第1回目の溶接及び第2回目の溶
接の距離が短いことである。
【0053】図に示すように、図4(a)(b)のよう
に、金属製蓋体2をセラミックパッケージ1に仮付けを
行う。
【0054】次に、図4(c)(d)のように、一辺の
一端部の接合を第1回目のシーム溶接で行う。即ち、金
属製蓋体2の一辺側端部の中央部から一端部よりの位置
にローラー電極31に押し当てながら、所定電流を供給
し、矢印に示す方向に変位させながら、シーム溶接Y41
を行う。
【0055】次に、図4(e)(f)のように、一辺の
他端部の接合を第2回目のシーム溶接で行う。即ち、金
属製蓋体2の一辺側端部の中央部から他端部よりの位置
にローラー電極31に押し当てながら、所定電流を供給
し、矢印に示す方向に変位させながら、シーム溶接Y42
を行う。
【0056】次に、図4(g)(h)に示すように、第
3回のシーム溶接を行う。即ち、金属製蓋体2の一辺の
中央部付近の非溶接部分をシーム溶接Y43を行う。具体
的には、第1回目の溶接Y41又は第2回目の溶接Y42
中央部寄りの一部にローラー電極31に押し当てなが
ら、所定電流を供給し、矢印に示す方向に向かって変位
させながらシーム溶接Y43を行う。図では、第3回目の
溶接の進行方向を、第1回目の溶接Y41と同じ方向でシ
ーム溶接を行っている。
【0057】この図4の溶接構造であっても、一辺端部
のシーム溶接が3回に分けて溶接されているため、上述
のように、図4では3回のシーム溶接によって封止され
ることになるため、1回あたりの金属製蓋体2による応
力がさらに小さくでき、これにより、金属製蓋体2から
セラミックパッケージ1に加わる応力を極小化する事が
てきる。
【0058】また、第1回目及び第2回目のシーム溶接
により、金属製蓋体2の一辺端部の両端部での位置決め
が行われることになり、その間の溶接を行う第3回目の
シーム溶接では、金属製蓋体の熱膨張による変形を抑え
ることができ、これにより、金属製蓋体2からセラミッ
クパッケージ1にかかる応力を緩和する事ができる。
【0059】また、第1回目の溶接Y41の溶接方向と第
2回目の溶接Y42の溶接方向とを夫々逆方向にすること
により、図3 と同様に、セラミックパッケージの内部に
内在する応力をこれによって小さくすることができる。
【0060】図5は、図3の別の変形接合構造である。
この工程では、2回のシーム溶接Y51、Y52が夫々同一
方向に溶接している。
【0061】図5(c)、(d)に示す第1回目のシー
ム溶接Y51では、金属製蓋体2の一端部の溶接により位
置決め(固定)を行い、図5(e)(f)に示すよう
に、第2回目のシーム溶接Y52では、金属製蓋体2の他
端部側から、固定した一端部に向かってシーム溶接を行
っている。
【0062】このようにすれば、金属製蓋体2に対する
セラミックパッケージ1の封止位置が結果として所定位
置に接合することができ、これにより、金属製蓋体2か
らセラミックパッケージ1に及ぼす熱膨張・収縮による
応力を実質的に緩和することができる。
【0063】尚、図4、図5において、金属製蓋体2の
位置決め的な作用の大きい、シーム溶接Y41、Y42、Y
51の溶接長さは、溶接する一辺の長さLに対して、10
〜30%となるようにすればよい。仮に、シーム溶接Y
41、Y42、Y51の溶接長さが、0.1×L未満では、金
属製蓋体2の位置決め・固定としての作用が低下してし
まい、例えば、その後に行うシーム溶接時の機械的な衝
撃によって、溶接部分で剥離が発生してしまうためであ
る。また、シーム溶接Y41、Y42、Y51の溶接長さが、
0.3×Lを越えると、このシーム溶接による金属製蓋
体の熱膨張の延び量が大きくなり、その結果、収縮時の
応力が同様に大きくなり、セラミックパッケージ1にか
かる応力が大きくなってしまう。
【0064】また、既に、シーム溶接した箇所と、その
後にシーム溶接される部分の接合部分は、少なくとも、
溶接する一辺の長さLに対して、5%以上の長さで重な
りあうように溶接されるようにする。これは、複数回に
分けて行ったシーム溶接部分の継ぎ目で封止漏れの発生
することがないようにするためである。
【0065】尚、上述の図3〜図5は、いずれも金属製
蓋体2の一対の長辺側端部での溶接について説明してい
る。この長辺側のシーム溶接が完了したら、次の工程と
して、金属製蓋体の一対の短辺側端部のシーム溶接を行
う。この時、既に、両端部側固定されていることから、
短辺側端部のシーム溶接は一連のシーム溶接によって行
うこともできる。
【0066】尚、一対の短辺側端部でのシーム溶接を行
い、続いて、一対の長辺側端部のシーム溶接を行う場合
には、この一対の短辺側端部でのシーム溶接で、複数回
に分けてシーム溶接を行う。尚、その後に行う長辺側端
部のシーム溶接に関しては、上述のように、複数回に分
けてシーム溶接を行うことが好ましい。
【0067】また、金属製蓋体2の各々4辺を、ローラ
ー電極でシーム溶接を行う場合には、少なくとも、最初
にシーム溶接を行う一辺端部で、上述のように複数回に
分けてシーム溶接を行う。
【0068】上述のように、一辺端部のシーム溶接によ
るセラミックパッケージ1と金属製蓋体2との接合が、
複数回の溶接に分けて行われるため、シーム溶接によっ
て発生する熱の影響及びセラミックパッケージ1と金属
製蓋体2との熱膨張係数の差による膨張・収縮の応力を
小さくすることができるため、セラミックパッケージ1
に内在するパッケージを変形させようとする応力を小さ
くすることができる。
【0069】これによって、セラミックパッケージ1内
に収容された電子部品素子4を安定した特性で動作させ
ることができ、しかも、安定しかも、封止にあたり、電
子部品素子4にまで極度の温度上昇を与えることなく、
また、安定した封止が達成できる電子部品となる。
【0070】尚、本発明は、本発明の要旨を逸脱しない
限りの種々の変形することができる。
【0071】
【発明の効果】以上のように、金属製蓋体の一辺とセラ
ミックパッケージに配置された方形環状の一辺とのシー
ム溶接が、まず、当該一辺の一端部側のシーム溶接がお
こなわれ、その後、他端部側のシーム溶接が行われる。
従って、シーム溶接によって発生する熱の影響及びセラ
ミックパッケージと金属製蓋体との熱膨張係数の差によ
る膨張・収縮の応力を小さくすることができる。これに
より、セラミックパッケージに内在するパッケージを変
形させようとする応力を小さくすることができる。
【0072】特に、一辺の一端部でのシーム溶接進行方
向と、他端部でのシーム溶接進行方向とを互いに逆方向
にすることにより、熱膨張係数の差による膨張・収縮の
応力の発生方向が互いに逆方向とすることができ、これ
により、これらの応力を相殺することができ、一層応力
を小さくすることができる。
【0073】これによって、セラミックパッケージ内に
収容された電子部品素子の動作が安定するとともに、安
定した封止が達成できる電子部品となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電子部品の金属製蓋体を省略した
状態の平面図である。
【図2】本発明に係る電子部品の断面図である。
【図3】本発明の電子部品の製造方法、特に、金属製蓋
体のシーム溶接工程を説明する図であり、(a)、
(c)、(e)は、電子部品の平面概略図であり、
(b)、(d)、(f)は、電子部品の側面図である。
【図4】本発明の別の電子部品の製造方法、特に、金属
製蓋体のシーム溶接工程を説明する図であり、(a)、
(c)、(e)、(g)は、溶接工程を示す電子部品の
平面概略図であり、(b)、(d)、(f)、(h)
は、溶接工程を示す電子部品の側面図である。
【図5】本発明のさらに別の電子部品の製造方法、特
に、金属製蓋体のシーム溶接工程を説明する図であり、
(a)、(c)、(e)は、溶接工程を示す電子部品の
平面概略図であり、(b)、(d)、(f)は、溶接工
程を示す電子部品の側面図である。
【符号の説明】
10・・・電子部品 1・・・・セラミックパッケージ 11・・・キャビティ部 12・・・シール用導体膜 2・・・・金属製蓋体 3・・・・シールリング

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一面が開口した筺体状セラミックパッケ
    ージ内に、電子部品素子を収容するとともに、前記セラ
    ミックパッケージの開口周囲に配置された方形環状のシ
    ールリングに矩形状金属製蓋体をシーム溶接により接合
    させることによって内部に電子部品素子を気密に封止し
    て成る電子部品の製造方法において、 前記金属製蓋体と前記シールリングの各辺の接合を、少
    なくとも一辺の一端部をシーム溶接を行い、その後、そ
    れ以外の箇所をシーム溶接を施すことを特徴とする電子
    部品の製造方法。
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