JP2000021167A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP2000021167A
JP2000021167A JP10185098A JP18509898A JP2000021167A JP 2000021167 A JP2000021167 A JP 2000021167A JP 10185098 A JP10185098 A JP 10185098A JP 18509898 A JP18509898 A JP 18509898A JP 2000021167 A JP2000021167 A JP 2000021167A
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transistor
memory device
semiconductor memory
power supply
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Hideki Kano
英樹 加納
Masato Matsumiya
正人 松宮
Yuki Ishii
祐樹 石井
Ayako Kitamoto
綾子 北本
Shinichi Yamada
伸一 山田
Iku Mori
郁 森
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、ビット線プリチャージ電圧を安定化
し、ハイレベルデータに対するセンスアンプのマージン
を確保し、ハイレベルデータを正確に読み出すことので
きる低消費電力の半導体記憶装置を提供することを課題
とする。 【解決手段】Nチャネルトランジスタ4を電圧レギュレ
ータとして用いて、DRAMコア101a内のセンスア
ンプa1、a2、・・・axの電源電圧を供給するセン
スアンプ専用の電源回路110を有するSDRAMは、
センスアンプa1、a2、・・・、axの電源電圧の上
昇を防ぎ、該電源電圧を所定値viicに保つリーク回
路11aを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、より特定すれば、半導体記憶装置が有するセンス
アンプの電源電圧を所定値に保持するリーク回路を設け
た半導体記憶装置に関する。近年、半導体記憶装置に対
する低消費電力化の要求に伴い、データの確実な書き込
み及び読み出し動作と低電圧化が可能な半導体記憶装置
が望まれている。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体記憶装置には、低消費電力
化を達成するためにチップの周辺部とコア部の電源を別
にして、コア部に低電圧の電源を用いるものがある。ま
た、センスアンプの電源電圧の低電圧化によるセンスア
ンプの増幅速度の低下を防止するために、センスアンプ
専用の電源を別に設け、センスアンプの信号増幅期間の
みセンスアンプ専用の電源でセンスアンプの電源電圧を
昇圧する構成の半導体記憶装置もある。このコア部やセ
ンスアンプ専用の電源の電圧レギュレータとしては、発
振せず且つ分散配置が可能であり、半導体記憶装置の大
容量化に適したNチャネルトランジスタが用いられる場
合がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の半導体記憶装置において、メモリセルアレイ内の
ワード線が選択される状態が長く続く時は、コア部又は
センスアンプ専用の電源は他に電流を流す経路が無いた
め、Nチャネルトランジスタを電圧レギュレータとして
用いたコア部やセンスアンプ専用の電源が、活性化され
たセンスアンプの電源電圧レベルを所定値viicより
大きな値にしてしまう。
【0004】そして、活性化したセンスアンプの電源電
圧レベルが所定値viicより大きくなることで、この
センスアンプによりハイレベルに増幅・保持されるビッ
ト線電位レベルもviicより大きくなる。従って、こ
のビット線がリセットショートされると、ビット線のプ
リチャージレベルが1/2viicより大きな値になっ
てしまう。
【0005】一方、半導体記憶装置内のメモリセルに書
き込まれるデータの電位は、そのメモリセルに接続する
ワード線の電位レベルで決定し、メモリセルに充電され
る電荷は一定である。ここで、ビット線の容量をCb、
メモリセルの容量をCs、ビット線プリチャージレベル
をVprとすると、ハイレベルのデータ(電位vii)
が書き込まれたメモリセルが選択された場合のビット線
の電圧変化量ΔVhは、 ΔVh={(CbVpr+CsVii)/(Cs+Cb)}−Vpr =Cs(Vii−Vpr)/(Cs+Cb) である。一方、ロウレベルのデータ(電位0)が書き込
まれたメモリセルが選択された場合のビット線の
【0006】
【数1】
【0007】である。上記2式より、ビット線のプリチ
ャージレベルVprが上昇すると、ハイレベルデータを
読み出した時のビット線の電圧変化量は小さくなり、ロ
ウレベルデータを読みだした時のビット線の電圧変化量
は大きくなる。従って、ハイレベルデータが書き込まれ
たメモリセルが読み出される時に、ビット線に現れる電
圧変化が小さいため、ハイレベルデータに対するセンス
アンプのマージンが小さくなるという問題があった。場
合によっては、ハイレベルデータが正確に読み出せない
ことがあった。
【0008】上記問題点を鑑みて、本発明は、Nチャネ
ルトランジスタを電圧レギュレータとして用いたコア部
やセンスアンプ専用の電源を有する半導体記憶装置にお
いて、ビット線ショート後のビット線プリチャージレベ
ルVprを一定にして、ハイレベルデータに対するセン
スアンプのマージンを確保し、ハイレベルデータを正確
に読み出すことのできる低消費電力の半導体記憶装置を
提供することを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴と
するものである。請求項1記載の発明では、Nチャネル
トランジスタである第1のトランジスタを電圧レギュレ
ータとして用いて、センスアンプの電源電圧を供給する
センスアンプ専用の電源回路を有する半導体記憶装置に
おいて、前記センスアンプの電源電圧の上昇を防ぎ、該
電源電圧を所定値に保つために電流を流すリーク回路を
有することを特徴とするものである。
【0010】また、請求項2記載の発明では、請求項1
記載の半導体記憶装置において、前記リーク回路は、前
記センスアンプの動作時に電流を流して該センスアンプ
の電源電圧の上昇を防ぎ、該電源電圧を前記所定値に保
つことを特徴とするものである。また、請求項3記載の
発明では、請求項2記載の半導体記憶装置において、前
記リーク回路は、第2のトランジスタを有し、前記セン
スアンプの動作時に前記第2のトランジスタがオンとな
ることで、前記センスアンプの電源から電流を流して前
記電源電圧の上昇を防ぎ、該電源電圧を前記所定値に保
つことを特徴とするものである。
【0011】また、請求項4記載の発明では、請求項3
記載の半導体記憶装置において、前記センスアンプが設
けられたバンクを活性化させるバンク活性化信号がゲー
ト端子に入力することで、前記第2のトランジスタはオ
ンとなることを特徴とするものである。また、請求項5
記載の発明では、請求項3記載の半導体記憶装置におい
て、前記センスアンプが設けられたバンクを活性化させ
るバンク活性化信号及び前記第2のトランジスタの動作
タイミングを制御するタイミング信号がゲート端子に入
力することで、前記第2のトランジスタはオンとなるこ
とを特徴とするものである。
【0012】また、請求項6記載の発明では、請求項4
記載の半導体記憶装置において、前記リーク回路は、前
記バンク活性化信号が入力してから所定時間後に前記第
2のトランジスタをオンにするタイマを有することを特
徴とするものである。また、請求項7記載の発明では、
請求項6記載の半導体記憶装置において、前記タイマ
は、オシレータ回路で構成されることを特徴とするもの
である。
【0013】また、請求項8記載の発明では、請求項6
記載の半導体記憶装置において、前記タイマは、オシレ
ータ回路及びカウンタ回路で構成されることを特徴とす
るものである。また、請求項9記載の発明では、請求項
3記載の半導体記憶装置において、前記リーク回路は、
前記センスアンプの電源電圧を監視し、該電源電圧が前
記所定値より高くなったことを検出すると、前記第2の
トランジスタをオンにする検出回路を有することを特徴
とするものである。
【0014】また、請求項10記載の発明では、請求項
3乃至9何れか1項記載の半導体記憶装置において、第
2のトランジスタは、Nチャネルトランジスタであるこ
とを特徴とするものである。更に、請求項11記載の発
明では、請求項3乃至9何れか1項記載の半導体記憶装
置において、第2のトランジスタは、Pチャネルトラン
ジスタであることを特徴とするものである。
【0015】上記各手段は、次のように作用する。請求
項1記載の発明によれば、リーク回路がセンスアンプの
電源電圧の上昇を防ぎ、該電源電圧を所定値に保つの
で、ハイレベルのビット線の電圧も上昇しない。従っ
て、ビット線ショート後のビット線プリチャージレベル
も所定値の約1/2であり、ハイレベルデータに対する
センスアンプのマージンが確保され、セルに書き込まれ
たハイレベルデータを正確に読みだすことができる。
【0016】また、請求項2記載の発明によれば、リー
ク回路によるセンスアンプの電源電圧からの電流リーク
をセンスアンプの動作時だけ行うことで、低消費電力化
することができる。また、請求項3記載の発明によれ
ば、リーク回路を第2のトランジスタで構成すること
で、第2のトランジスタのゲート端子に信号を与えてリ
ーク回路を動作させることができる。
【0017】また、請求項4記載の発明によれば、半導
体記憶装置で使用するバンク活性化信号を第2のトラン
ジスタに与えることで、リーク回路を動作させることが
できる。ここで、本発明の半導体記憶装置が複数のバン
クを有する場合、各バンクに設けられたリーク回路に
は、各バンク用のバンク活性化信号のみが入力される構
成としても良いし、全てのバンク活性化信号が入力可能
な構成としても良い。
【0018】また、請求項5記載の発明によれば、タイ
ミング信号を用いて、バンク活性化信号により活性化し
たバンクのリーク回路を動作させ、センスアンプの電源
電圧を所定値に保つことができる。このような半導体記
憶装置では、タイミング信号により、リーク回路を動作
させるタイミングを制御することができる。また、請求
項6〜8記載の発明によれば、タイマを設けることによ
り、バンク活性化信号がリーク回路に入力してから、所
定時間後にリーク回路が動作して、センスアンプの電源
電圧の上昇を防ぐことができる。このタイマは、例え
ば、オシレータ回路やカウンタ回路で容易に実現でき、
タイマの構成により上記所定時間が決定される。
【0019】また、請求項9記載の発明によれば、検出
回路がセンスアンプの電源電圧が所定値より高くなった
ことを検出すると、第2のトランジスタがオンとなるの
で、最適なタイミングでリーク回路を動作させることが
できる。また、請求項10記載の発明によれば、第2の
トランジスタをNチャネルトランジスタで構成し、Nチ
ャネルトランジスタのゲート端子にハイレベルの信号を
与えてリーク回路を動作させることができる。
【0020】更に、請求項11記載の発明によれば、第
2のトランジスタをPチャネルトランジスタで構成し、
Pチャネルトランジスタのゲート端子にロウレベルの信
号を与えてリーク回路を動作させることができる。
【0021】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の半導体記憶装置
であるSDRAM(Synchronous Dynamic RAM) 100の
全体構成図である。図1に示すように、SDRAM10
0は、DRAMコア101、制御信号発生回路102、
モードレジスタ103、コラムアドレスカウンタ10
4、クロックバッファ105、コマンドデコーダ10
6、アドレスバッファ107、バンクセレクト108、
I/Oデータバッファ109、電源回路110等から構
成される。
【0022】クロックバッファ105には、外部からク
ロック信号CLK、クロックイネーブル信号CKEが入
力し、コマンドデコーダ106には、外部からチップセ
レクト信号/CS、ロウアドレスストローブ信号/RA
S、コラムアドレスストローブ信号/CAS、ライトイ
ネーブル信号/WEが入力する。また、アドレスバッフ
ァ107及びバンクセレクト108には、外部からアド
レス信号Addが入力し、I/Oデータバッファ109
には、外部からデータ信号DQMが入力する。また、入
力データ信号DQは、I/Oデータバッファ109から
入力され、読みだされた出力データ信号DQは、I/O
データバッファ109から外部に出力される。
【0023】コマンドデコーダ106、アドレスバッフ
ァ107、バンクセレクト108、I/Oデータバッフ
ァ109は、クロックバッファ105からのクロック信
号に同期して動作する。DRAMコア101は、複数の
バンク0、1、・・・からなり、各バンクは、メモリセ
ルアレイと後述するリーク回路及びセンスアンプを有す
る。バンク0、1、・・・には、制御信号発生回路10
2からバンク活性化信号bras0z、bras1z、
・・・、センスアンプ活性化(ラッチイネーブル)信号
LEが入力する。バンク活性化信号bras0z、br
as1z、・・・は対応するバンクを活性化する。
【0024】バンクセレクト108がバンク0を示して
いる時は、制御信号発生回路102は、バンクアドレス
とRAS信号から発生するバンク活性化信号bras0
zを出力する。この制御信号発生回路102から活性化
したバンクに入力するバンク活性化信号信号bras0
z、bras1zは、アドレスバッファ107において
取り込んだロウアドレスに対応するワード線を選択す
る。そして、選択されたワード線に係るセンスアンプが
活性化される。一方、コラムアドレスカウンタ104か
ら与えられるコラムアドレスに対応するビット線とデー
タI/O線は、接続される。ビット線とデータI/O線
が接続されることで、I/Oデータバッファ109とメ
モリセル間でデータの授受が行われる。
【0025】次に、本発明の要部であるDRAMコア1
01について説明する。以下、本発明の第1〜第6実施
例のDRAMコア101を、それぞれDRAMコア10
1a、101b、101c、101d、101e、10
1fとする。図2は、本発明の第1実施例であるDRA
Mコア101aの構成を示す図である。DRAMコア1
01aは、複数のバンク0、1、・・・を有し、バンク
0は、リーク回路11aと複数のセンスアンプa1、a
2、・・・、axとメモリセルアレイ(図示せず)等を
有する。
【0026】センスアンプa1、a2、・・・、ax
は、ノード3を介して電源回路110を構成するNチャ
ネルトランジスタ4のソース端子に接続される。また、
トランジスタ4のゲート端子は、一定電圧を発生する一
定電圧発生回路(図示せず)に接続され、トランジスタ
4のドレイン端子には、電源電圧vccが与えられてい
る。このトランジスタ4はゲート端子に、電圧vgc
(=viic+Vth)が与えられることによってオン
となり、センスアンプa1、a2、・・・、axの電源
電圧であるノード3の電圧を所定の電圧viicにす
る。
【0027】リーク回路11aは、Nチャネルトランジ
スタ12とインバータ13aとNOR回路14aとから
なる。トランジスタ12のドレイン端子はノード3に接
続され、ソース端子は接地点vssに接続される。ま
た、NOR回路14aには、制御信号発生回路102か
らのバンク活性化信号bras0z、bras1z、・
・・、bras#zが与えられる。このNOR回路14
aは、インバータ13aを介してトランジスタ12のゲ
ート端子に接続されている。そして、リーク回路11a
は、バンク活性化信号bras0z、bras1z、・
・・、bras#zの何れかがハイレベルの時は、トラ
ンジスタ12がオンとなり、ノード3から接地点vss
に電流を流すことにより、ノード3の電位の上昇を防
ぎ、適正な所定値viicにする。尚、DRAMコア1
01aにおいて、バンク0以外のバンク1、2、・・・
の回路構成はバンク0と同様であり、その説明を省略す
る。
【0028】上記のように、DRAMコア101aにお
いては、何れか1つのバンク活性化信号が選択される
と、全てのバンクのトランジスタ12がオンとなる。続
いて、図1〜図3を用いてバンク0内の回路の動作説明
を行う。図3は、バンク0のメモリセルアレイが有する
ビット線BL、/BLの電位変化を示すタイミング図で
ある。
【0029】先ず、制御信号発生回路102からバンク
0にハイレベルのバンク活性化信号bras0が与えら
れるとバンク0が活性化する。このハイレベルのバンク
活性化信号bras0は、リーク回路11a内のNOR
回路14aにも入力し、トランジスタ12をオンにす
る。そして、制御信号発生回路102から活性化したバ
ンク0に入力するハイレベルのバンク活性化信号bra
s0zに応答し、バンク0内のメモリセルアレイからア
ドレスバッファ107から与えられるロウアドレスに対
応するワード線WLを選択する。この時、選択されたワ
ード線WLに接続されるセンスアンプ(例えば、センス
アンプa1)は活性化する。
【0030】続いて、活性化されたセンスアンプa1に
制御信号発生回路102からハイレベルのラッチイネー
ブル信号LEZが与えられると、ビット線BL、/BL
に電荷がチャージされ始め、ビット線BL、/BLの電
位はそれぞれviic、0に向かって変化していく。こ
の時、トランジスタ12はオンとなっており、ノード3
から接地点vssに電流が流れる経路が形成される。
【0031】従って、ワード線WLが選択される時間が
長くてもノード3の電位は上昇せずにviicのままで
あり、図3に示すように、センスアンプa1によりハイ
レベルに増幅・保持されるビット線BLの電位もvii
cに保たれる。そして、この後ビット線BL、/BLが
リセットショートされると、ビット線プリチャージレベ
ルVprは1/2viicとなるので、センスアンプa
1のマージンは確保され、メモリセルに書き込まれたハ
イレベルのデータが確実に読みだされる。ここで、参照
として、図4にリーク回路11aを設けていないDRA
Mコアにおけるビット線BL、/BLの電位変化を示
す。
【0032】尚、本発明のDRAMコア101aのバン
ク内に設けられるリーク回路11aは、図5に示すよう
なNAND回路15aとトランジスタ12とで構成して
もよい。図6は、本発明の第2実施例であるDRAMコ
ア101bの構成を示す図である。図6に示すように、
DRAMコア101bは、複数のバンク0、1、・・・
を有する。
【0033】バンク0は、リーク回路11bと複数のセ
ンスアンプa1、a2、・・・、ax、メモリセルアレ
イ(図示せず)等を有する。そして、リーク回路11b
は、Nチャネルトランジスタ12からなる。リーク回路
11bにおけるトランジスタ12のゲート端子には、制
御信号発生回路102からのバンク活性化信号bras
0zが入力される。従って、バンク活性化信号bras
0zがハイレベルの時は、トランジスタ12がオンとな
り、ノード3から接地点vssに電流を流すことによ
り、ノード3が電位がviicに保たれる。
【0034】バンク1、2、・・・の構成もバンク0と
同様であり、各バンクのリーク回路11b内のトランジ
スタ12のゲート端子には、制御信号発生回路102か
ら各バンクに対応するバンク活性化信号が入力する。従
って、DRAM101bでは、バンク活性化信号で活性
化されるバンクのトランジスタ12のみがオンとなる。
【0035】上記構成により、ワード線WLが選択され
る時間が長くても、トランジスタ12がオンとなること
で、リーク回路11bがノード3の電位を所定値vii
cに保ち、センスアンプによりハイレベルに増幅・保持
されるビット線BLの電位もviicに保持される。従
って、リセットショート後のビット線BL、/BLのプ
リチャージレベルVprは1/2viicとなるので、
センスアンプのマージンが確保され、メモリセルに書き
込まれたハイレベルのデータは確実に読み出される。
【0036】本第2実施例のDRAMコア101bは、
リーク回路11bがトランジスタ12のみで構成され、
トランジスタ12のゲート端子に入力するのは、対応す
るバンクのバンク活性化信号だけなので、リーク回路1
1bをより簡単に構成することができる。図7は、本発
明の第3実施例であるDRAMコア101cの構成を示
す図である。図7に示すように、DRAMコア101c
は、複数のバンク0、1、・・・からなり、各バンク
は、リーク回路11cと複数のセンスアンプa1、a
2、・・・、ax、メモリセルアレイ(図示せず)等を
有する。そして、リーク回路11cは、Nチャネルトラ
ンジスタ12とインバータ13cとNAND回路14c
からなる。
【0037】リーク回路11cにおけるトランジスタ1
2のゲート端子は、インバータ13cを介してNAND
回路14cに接続される。このNAND回路14cに
は、外部から与えられるタイミング信号T及び各バンク
に対応するバンク活性化信号bras0z、bras1
z、・・・、bras#zが入力する。このタイミング
信号Tは、ワード線WLが選択されてから、一定時間経
過したことを示す信号である。
【0038】従って、ハイレベルのタイミング信号T及
び例えば、バンク活性化信号bras0zが入力する
と、バンク0のトランジスタ12がオンとなり、ワード
線WLが選択される時間が長い場合でもノード3の電位
上昇を防ぎ、電位をviicに保つ。そして、センスア
ンプによりハイレベルに増幅・保持されるビット線BL
の電位もviicに保たれる。従って、ワード線WLが
選択される時間が長くても、リーク回路11cの動作に
より、リセットショート後のビット線BL、/BLのプ
リチャージレベルVprは1/2viicとなるので、
センスアンプのマージンが確保され、メモリセルに書き
込まれたハイレベルのデータは確実に読み出される。
【0039】上記構成により、本発明のDRAMコア1
01bを外部からタイミング信号Tで制御することがで
きる。図8は、本発明の第4実施例であるDRAMコア
101dの構成を示す図である。図8に示すように、D
RAMコア101dは、複数のバンク0、1、・・・か
らなり、各バンクは、リーク回路11dと複数のセンス
アンプa1、a2、・・・、ax、メモリセルアレイ
(図示せず)等を有する。そして、リーク回路11d
は、Nチャネルトランジスタ12とタイマ13dとOR
回路14dからなる。
【0040】クランプ11dにおけるトランジスタ12
のゲート端子は、タイマ13dを介してOR回路14d
に接続される。このOR回路14dには、制御信号発生
回路102からのバンク活性化信号bras0、bra
s1、・・・、bras#zが入力する。従って、何れ
かのバンクが選択されると、全てのバンクのタイマ13
dにバンク活性化信号が入力される。
【0041】タイマ13dは、OR回路14dを介して
与えられるバンク活性化信号がハイレベルになってから
経過した時間が予め設定した時間よりも長くなると、ト
ランジスタ12をオンにする。この設定時間は、センス
アンプが動作する期間のノード3の電圧の上昇を防止
し、電位viicに保つように定められる。上記構成に
より、例えば、ハイレベルのバンク活性化信号bras
0zが入力すると、バンク0のリーク回路11dは、ワ
ード線WL選択される時間が長くてもノード3の電位上
昇を防ぎ、電位をviicに保つので、センスアンプに
よりハイレベルに増幅・保持されるビット線BLの電位
もviicに保たれる。
【0042】従って、ワード線WLが選択される時間が
長くても、リセットショート後のビット線BL、/BL
のプリチャージレベルVprは1/2viicとなるの
で、センスアンプのマージンが確保され、メモリセルに
書き込まれたハイレベルのデータは確実に読み出され
る。リーク回路11d内にタイマ13dを設けることに
より、トランジスタ12がオンとなり、ノード3から接
地点vssに電流を流す経路を形成する期間を最適に設
定することが可能である。
【0043】タイマ13dは、例えば、オシレータ回路
とカウンタ回路の組み合わせて形成することができる。
図9、図10にそれぞれタイマ13dに適用可能なオシ
レータ回路16dとカウンタ回路17dの構成例を示
す。図9に示すように、オシレータ回路16dは、Nチ
ャネルトランジスタ20〜36、Pチャネルトランジス
タ37〜53、インバータ54〜56、抵抗57、58
等で構成される。Nチャネルトランジスタ21〜25と
Pチャネルトランジスタ49〜53は、リング発振回路
18dを形成している。オシレータ回路16dの入力部
6からハイレベルのバンク活性化信号が入力されると、
オシレータ回路16dが動作し始め、リング発振回路1
8dから発生するパルスが出力部7から出力される。
【0044】図10に示すように、カウンタ回路17d
は、Nチャネルトランジスタ59〜64、Pチャネルト
ランジスタ65〜70、インバータ71〜74、NAN
D回路75、76等で構成される。図9に示したオシレ
ータ回路16dから入出力部7を介してカウンタ回路1
7dに入力する信号は、カウンタ回路17dの動作によ
り、周期が2倍にされて出力部8から出力される。この
カウンタ回路17dを直列に接続すると、オシレータ回
路16dで発生する信号の周期を4倍、8倍、・・・に
することができる。従って、直列に接続するカウンタ回
路17dの数を増減することで、ワード線が立ち上がっ
てからタイマ13dがトランジスタ12をオンにする時
間を調整できる。尚、オシレータ回路16dで所望の周
期の信号を発生できる場合は、タイマ13dをオシレー
タ回路16dのみで構成する。
【0045】図11は、本発明の第5実施例であるDR
AMコア101eの構成を示す図である。図11に示す
ように、DRAMコア101eは、複数のバンク0、
1、・・・からなり、各バンクは、リーク回路11eと
複数のセンスアンプa1、a2、・・・、ax、メモリ
セルアレイ(図示せず)等を有する。そして、リーク回
路11eは、Nチャネルトランジスタ12と検出回路1
3eとからなる。
【0046】リーク回路11eにおけるトランジスタ1
2のゲート端子は、検出回路13eに接続され、検出回
路13eは、ノード3に接続される。この検出回路13
eは、センスアンプの電源電圧を監視する回路であり、
ノード3の電圧が上昇し始めた時に、トランジスタ12
をオンにして、ノード3から接地点vssに電流を流す
ことにより、ノード3の電圧を所定値viicに保持す
る。
【0047】上記構成により、ノード3の電圧が上昇し
始めた時に、リーク回路11eは、ノード3の電圧をv
iicに保ち、センスアンプによりハイレベルに増幅・
保持されるビット線BLの電位もviicに保持され
る。従って、ワード線WLが選択される時間が長くて
も、リセットショート後のビット線BL、/BLのプリ
チャージレベルVprは1/2viicとなるので、セ
ンスアンプはマージンが確保され、メモリセルに書き込
まれたハイレベルのデータは確実に読み出される。
【0048】上記のように、リーク回路11e内に検出
回路13eを設けることにより、センスアンプに与える
電圧の上昇を確実に把握することができ、的確なタイミ
ングでトランジスタ12をオンにすることができる。図
12に検出回路13eの構成例を示す。図12に示すよ
うに、検出回路13eは、Nチャネルトランジスタ77
〜80、Pチャネルトランジスタ81〜84、抵抗8
5、86、インバータ87、コンデンサ88等で構成さ
れる。この検出回路13eは、入力部9から与えられる
電圧viicを抵抗85、86で分割した電圧と、DR
AMコア101e内で発生する参照電圧vrefとを比
較する。そして、センスアンプの電源電圧であるノード
5の電圧上昇を検出すると、判定信号を出力部19から
出力し、トランジスタ12をオンにする。
【0049】図13は、本発明の第6実施例であるDR
AMコア101fの構成を示す図である。図13に示す
ように、DRAMコア101fは、複数のバンク0、
1、・・・を有する。バンク0は、リーク回路11fと
複数のセンスアンプa1、a2、・・・、ax、メモリ
セルアレイ(図示せず)等を有する。そして、リーク回
路11fは、Pチャネルトランジスタ12aからなる。
このように、リーク回路11fは、第2実施例のリーク
回路11bにおけるNチャネルトランジスタ12の代わ
りにPチャネルトランジスタ12aを用いたものであ
る。
【0050】そして、リーク回路11fにおけるトラン
ジスタ12aのゲート端子には、バンクに対応したバン
ク活性化信号bras0xが入力され、この信号によっ
てトランジスタ12aがオンとされる。バンク1、2、
・・・の構成もバンク0と同様であり、その説明を省略
する。上記構成により、ワード線WLが選択される時間
が長くても、トランジスタ12aがオンとなることで、
リーク回路11fがノード3の電位を所定値viicに
保ち、センスアンプによりハイレベルに増幅・保持され
るビット線BLの電位もviicにクランプされる。従
って、リセットショート後のビット線BL、/BLのプ
リチャージレベルVprは1/2viicとなるので、
センスアンプのマージンが確保され、メモリセルに書き
込まれたハイレベルのデータは確実に読み出される。
【0051】ここで、リーク回路11fのPチャネルト
ランジスタ12aのゲート端子には、バンク活性化信号
bras0xではなく、一定電圧が常に加えられる構成
にしてもよい。この場合、センスアンプの電源電圧の上
昇に伴い、トランジスタ12aのゲート・ソース間電圧
Vghも増加して、トランジスタ12aがリーク電流を
より多く流すので、電源電圧viicのレベルを保持す
ることができる。また、Pチャネルトランジスタ12a
をリーク回路11a、11c、11d、11eに用い
て、各回路のPチャネルトランジスタ12aがオンとな
り電流を流すことで、センスアンプの電源電圧の上昇を
防ぎ、その電圧をviivに保つ構成としてもよい。
【0052】図14は、本発明のDRAMコア101a
〜101eにおけるノード3の電圧viicと、オンに
されたトランジスタ12を流れる電流Iの大きさの関係
を示す図である。図14に示すように、電源回路110
の電源vccの電圧を2.5v、制御信号vgcの電圧
を2.1vとすると、オンにされたトランジスタ12を
貫通する電流Iが1〜10μAの時に、リーク回路11
がノード3の電圧上昇を抑制する効果が高いことが分か
る。ここで、必要以上にトランジスタ12に電流を貫通
させるのは、消費電流を増加させてしまうので、上記の
ような条件の元では、電流Iを1〜10μAになるよう
にリーク回路を構成し、消費電流を抑えつつ、ノード3
の電圧の上昇を抑制することが望ましい。
【0053】以上説明をしてきた実施例におけるNチャ
ネルトランジスタ4、電位viicがそれぞれ特許請求
の範囲に記載の第1のトランジスタ、センスアンプの電
源電圧の所定値に対応し、トランジスタ12、12aが
特許請求の範囲に記載の第2のトランジスタに対応す
る。
【0054】
【発明の効果】以上、説明したように、請求項1記載の
発明によれば、リーク回路がセンスアンプの電源電圧の
上昇を防ぎ、該電源電圧を所定値に保つので、ハイレベ
ルのビット線の電圧が一定に保たれる。従って、ビット
線ショート後のビット線プリチャージレベルは所定値の
約1/2であり、ハイレベルデータに対するセンスアン
プのマージンが確保され、セルに書き込まれたハイレベ
ルデータを正確に読みだすことができる。
【0055】また、請求項2記載の発明によれば、リー
ク回路によるセンスアンプの電源電圧の保持動作がセン
スアンプの動作時だけ行われるので、低消費電力化する
ことができる。また、請求項3記載の発明によれば、リ
ーク回路を第2のトランジスタで構成することで、第2
のトランジスタのゲート端子に信号を与えてリーク回路
を動作させることができる。
【0056】また、請求項4記載の発明によれば、半導
体記憶装置で使用するバンク活性化信号を第2のトラン
ジスタに与えることで、リーク回路を動作させることが
できる。また、請求項5記載の発明によれば、タイミン
グ信号により、バンク活性化信号により活性化したバン
クのリーク回路を動作させ、センスアンプの電源電圧を
所定値に保つことができる。従って、このような半導体
記憶装置では、タイミング信号でリーク回路を動作させ
るタイミングを制御することができる。
【0057】また、請求項6〜8記載の発明によれば、
タイマを用いることにより、バンク活性化信号がリーク
回路に入力してから、所定時間後に第2のトランジスタ
をオンにしてリーク回路を動作させることができる。ま
た、請求項9記載の発明によれば、検出回路を設けるこ
とにより、最適なタイミングでリーク回路を動作させる
ことができる。
【0058】また、請求項10記載の発明によれば、第
2のトランジスタをNチャネルトランジスタで構成し、
Nチャネルトランジスタのゲート端子にハイレベルの信
号を与えてリーク回路を動作させることができる。更
に、請求項11記載の発明によれば、リーク回路をPチ
ャネルトランジスタで構成し、Pチャネルトランジスタ
のゲート端子にロウレベルの信号を与えてリーク回路を
動作させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のSDRAMの全体構成図である。
【図2】本発明の第1実施例であるDRAMコア101
aの構成を示す図である。
【図3】ビット線BL、/BLの電位変化を示すタイミ
ング図である。
【図4】従来例のDRAMコアにおけるビット線BL、
/BLの電位変化を示す図である。
【図5】リーク回路の構成例を示す図である。
【図6】第2実施例であるDRAMコア101bの構成
図である。
【図7】第3実施例であるDRAMコア101cの構成
図である。
【図8】第4実施例であるDRAMコア101dの構成
図である。
【図9】オシレータ回路の構成例を示す図である。
【図10】カウンタ回路の構成例を示す図である。
【図11】第5実施例であるDRAMコア101eの構
成図である。
【図12】検出回路の構成例を示す図である。
【図13】第6実施例であるDRAMコア101fの構
成図である。
【図14】ノード3の電圧と、トランジスタ12を貫通
する電流Iの大きさの関係を示す図である。
【符号の説明】
3 ノード 4 Nチャネルトランジスタ 11a、11b、11c、11d、11e、11f リ
ーク回路 12 Nチャネルトランジスタ 12a Pチャネルトランジスタ 13a、13c インバータ 13d タイマ 13e 検出回路 14a NOR回路 14c、15a NAND回路 14d OR回路 16d オシレータ回路 17d カウンタ回路 100 SDRAM 101、101a、101b、101c、101d、1
01e、101f DRAMコア 102 制御信号発生回路 103 モードレジスタ 104 コラムアドレスカウンタ 105 クロックバッファ 106 コマンドデコーダ 107 アドレスバッファ 108 バンクセレクト 109 I/Oデータバッファ 110 電源回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 祐樹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 北本 綾子 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 山田 伸一 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 森 郁 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 5B015 AA01 BA41 BA51 BA62 CA03 CA04 5B024 AA01 BA09 BA21 BA23 BA27 CA07 5F083 AD00 BS00 GA05 LA03 LA09

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 Nチャネルトランジスタである第1のト
    ランジスタを電圧レギュレータとして用いて、センスア
    ンプの電源電圧を供給するセンスアンプ専用の電源回路
    を有する半導体記憶装置において、 前記センスアンプの電源電圧の上昇を防ぎ、該電源電圧
    を所定値に保つために電流を流すリーク回路を有するこ
    とを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記リーク回路は、前記センスアンプの動作時に電流を
    流して該センスアンプの電源電圧の上昇を防ぎ、該電源
    電圧を前記所定値に保つことを特徴とする半導体記憶装
    置。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記リーク回路は、第2のトランジスタを有し、前記セ
    ンスアンプの動作時に前記第2のトランジスタがオンと
    なることで、前記センスアンプの電源から電流を流して
    前記電源電圧の上昇を防ぎ、該電源電圧を前記所定値に
    保つことを特徴とする半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記センスアンプが設けられたバンクを活性化させるバ
    ンク活性化信号がゲート端子に入力することで、前記第
    2のトランジスタはオンとなることを特徴とする半導体
    記憶装置。
  5. 【請求項5】 請求項3記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記センスアンプが設けられたバンクを活性化させるバ
    ンク活性化信号及び前記第2のトランジスタの動作タイ
    ミングを制御するタイミング信号がゲート端子に入力す
    ることで、前記第2のトランジスタはオンとなることを
    特徴とする半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 請求項4記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記リーク回路は、前記バンク活性化信号が入力してか
    ら所定時間後に前記第2のトランジスタをオンにするタ
    イマを有することを特徴とする半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記タイマは、オシレータ回路で構成されることを特徴
    とする半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 請求項6記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記タイマは、オシレータ回路及びカウンタ回路で構成
    されることを特徴とする半導体記憶装置。
  9. 【請求項9】 請求項3記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記リーク回路は、前記センスアンプの電源電圧を監視
    し、該電源電圧が前記所定値より高くなったことを検出
    すると、前記第2のトランジスタをオンにする検出回路
    を有することを特徴とする半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】請求項3乃至9何れか1項記載の半導体
    記憶装置において、 第2のトランジスタは、Nチャネルトランジスタである
    ことを特徴とする半導体記憶装置。
  11. 【請求項11】請求項3乃至9何れか1項記載の半導体
    記憶装置において、 第2のトランジスタは、Pチャネルトランジスタである
    ことを特徴とする半導体記憶装置。
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TW088110887A TW430796B (en) 1998-06-29 1999-06-28 Semiconductor memory device with overdriven sense amplifier and stabilized power-supply circuit of source follower type
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KR1019990025135A KR100572524B1 (ko) 1998-06-29 1999-06-29 증속 구동 센스 앰프 및 소스 폴로워형의 안정화된 전원 회로를 갖는 반도체 메모리 장치
US09/612,281 US6262930B1 (en) 1998-06-29 2000-07-07 Semiconductor memory device with overdriven sense amplifier and stabilized power-supply circuit of source follower type

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2001229672A (ja) * 2000-02-16 2001-08-24 Fujitsu Ltd セルアレイ電源の上昇を防止したメモリ回路

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