JP2000017444A - Resin molding and production of resin molding - Google Patents

Resin molding and production of resin molding

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JP2000017444A
JP2000017444A JP10183037A JP18303798A JP2000017444A JP 2000017444 A JP2000017444 A JP 2000017444A JP 10183037 A JP10183037 A JP 10183037A JP 18303798 A JP18303798 A JP 18303798A JP 2000017444 A JP2000017444 A JP 2000017444A
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Japan
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resin
metal layer
resin molded
directly
roughening
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JP10183037A
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Japanese (ja)
Inventor
Kikuo Oura
大浦紀久男
Kenzo Fujii
藤井健三
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Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin molding capable of forming fine patterns and producing an inexpensive electron circuit structure and a process for producing this resin molding. SOLUTION: The stage for directly laminating a metallic layer 12 on a resin 11 in the process for producing the resin molding directly laminated with the resin 11 consisting of a single material and the metallic layer 12 without the intervention of an adhesive layer consists of a stage for roughening the surface itself of the resin 11 to a surface roughness of >=0.1 to <=10 microns and a stage for footing the metallic layer 12 by direct electroless plating on the surface of the resin 11 roughened in this stage.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はファインパターン
が形成でき且つ安価な電子回路構体を製造することがで
きる樹脂成形体及び樹脂成形体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin molded product capable of forming a fine pattern and producing an inexpensive electronic circuit structure, and a method for producing the resin molded product.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在は精密電子機器等に所謂プリント基
板上の配線やないしはフィルム状の基板に形成された配
線が多用されている。これらはファインパターンを形成
することができ且つ比較的安価であり信頼性が高いので
非常に多くの分野で活用されている。特に近年において
はICチップやLSIチップないしはMPU等をこれら
樹脂材料でできた基板上にないしはケース内に配置し、
小型で安価な電子回路構体を製造する技術が注目されて
いる。
2. Description of the Related Art At present, wiring on a so-called printed board or wiring formed on a film-like substrate is often used in precision electronic equipment and the like. Since these are capable of forming fine patterns, are relatively inexpensive, and have high reliability, they are used in very many fields. In particular, in recent years, IC chips, LSI chips, MPUs and the like are arranged on a substrate or a case made of these resin materials,
2. Description of the Related Art A technique for manufacturing a small and inexpensive electronic circuit structure has attracted attention.

【0003】これらのものは一般的には樹脂基材上にめ
っきで銅配線を形成しその銅配線とICチップのバンプ
電極ないしはICチップのボンデイングランド等をワイ
ヤボンデイングないしは直接的に結合して樹脂基材上で
これを封止しないしはそのままの状態でマザー基板に搭
載することにより電子回路構体ないしは電子機器等とす
るものである。本発明はこのうち樹脂成形体及び樹脂成
形体の製造方法に関するものであるがこれらは電子機器
の小型化に伴う高密度配線等のため近年益々その改良が
積み重ねられてきている。
In these devices, generally, a copper wiring is formed by plating on a resin base material, and the copper wiring is bonded to a bump electrode of an IC chip or a bond England of an IC chip by wire bonding or direct bonding. An electronic circuit structure or an electronic device or the like is provided by mounting this on a mother substrate without sealing it on a base material or as it is. The present invention relates to a resin molded product and a method for producing the resin molded product, and these have been increasingly improved in recent years due to high-density wiring and the like accompanying miniaturization of electronic devices.

【0004】従来この種の樹脂成形体は銅箔と樹脂とを
接着して回路配線を形成していたがこの樹脂としてはポ
リアミド又はイミド系材料が銅箔との接着性が悪いので
この点を改良することに力点が置かれていた。この接着
性を改良するために各種の接着剤が考案発明されている
が例えばエチレン系共重合体とポリアミド樹脂との混合
物やシアン酸エステル系樹脂とブタジエン系樹脂ないし
はアクリル酸又はメタクリル酸のエポキシエステルの混
合物、エポキシ変性ナイロンが又難燃化、耐薬品性を兼
備したものに付加反応架橋型シリコンゴム等がある。
Conventionally, this type of resin molded product has formed a circuit wiring by bonding a copper foil and a resin. However, this resin is poor in adhesion of a polyamide or imide material to the copper foil. The emphasis was on improving. Various adhesives have been devised and invented in order to improve this adhesiveness, for example, a mixture of an ethylene copolymer and a polyamide resin or a cyanate ester resin and a butadiene resin or an epoxy ester of acrylic acid or methacrylic acid. And epoxy-modified nylon which also has flame retardancy and chemical resistance include addition-reaction crosslinked silicone rubber.

【0005】ポリアミド又はイミドはフィルム形成性が
あり銅箔と直接強固に接着することは難しいが一定の接
着性を有していたので現在に至るまで非常に良く使われ
ている樹脂材料である。又このような樹脂材料の樹脂上
に銅箔を形成する代わりに薄膜を形成する方法もある。
銅箔を形成する方法はサブトラクテイブ法と呼ばれ、無
電解めっきや電解めっき等用いるのがアデテイブ法であ
る。
[0005] Polyamide or imide is a resin material that has been used very well to date because it has a film forming property and it is difficult to firmly adhere directly to a copper foil, but has a certain degree of adhesiveness. There is also a method of forming a thin film instead of forming a copper foil on such a resin material.
The method of forming the copper foil is called a subtractive method, and the additive method uses electroless plating, electrolytic plating, or the like.

【0006】アデテイブ法はサブトラクテイブ法に比べ
て大量の銅箔をエッチング除去する必要がなく、又回路
形成方法が簡略化され無公害省資源であり回路パターン
の精度が良いため近年は益々多用されている。但しアデ
テイブ法の場合にはさらにサブトラクテイブ法に比較し
てもめっき回路パターンとプリント基板との接着性が弱
いと言う問題点がある。従ってこの点を改良すべく鋭意
努力が重ねられているが現在までの主要な発明考案はめ
っき核を生成する感光剤を使用する所謂フォトホーミン
グ法が目だっている。
[0006] Compared to the subtractive method, the additive method does not require a large amount of copper foil to be removed by etching. In addition, the circuit forming method is simplified, the pollution-free resources are reduced, and the precision of the circuit pattern is good. I have. However, in the case of the additive method, there is a problem that the adhesion between the plated circuit pattern and the printed circuit board is weaker than that of the subtractive method. Therefore, although a great deal of effort has been made to improve this point, the main invention until now has been focused on a so-called photohoming method using a photosensitive agent that generates plating nuclei.

【0007】又無電解めっき回路パターンとプリント基
板との接着性を向上させる方法としては基板表面を粗面
とするものが圧倒的に多いがその内容は具体的には基板
表面に接着剤を被覆しその表面を粗面とするものが大部
分である。即ち樹脂表面に粗面化したプラスチックシー
トを接着したりアルカリ性亜鉛めっきにより凹凸面を形
成したアルミ箔にジエン系合成ゴム接着剤を塗布し、こ
れとプリント基板とを一体形成したり、このアルミ箔と
亜鉛めっき層を除去して粗面を形成する方法である。
In order to improve the adhesion between the electroless plating circuit pattern and the printed circuit board, there are overwhelmingly many methods in which the surface of the substrate is roughened. In most cases, the surface is roughened. That is, a diene-based synthetic rubber adhesive is applied to an aluminum foil having a roughened plastic sheet adhered to the resin surface or an uneven surface formed by alkaline zinc plating, and this is integrally formed with a printed circuit board. And forming a rough surface by removing the zinc plating layer.

【0008】又その他に空洞孔を有する被覆をプリント
基板に設けたもの、ジエン系合成ゴム系接着剤をプリン
ト基板に被覆した後該接着剤の表層部の一部を一定の深
さで削ぎとるもの等がある。しかしながらこれらの方法
によっても無電解めっきで所謂樹脂上に強固な接着力を
有する金属層、特に銅の層を形成するのは非常に困難で
あり又これらの方法は何れも接着剤層を用いるために製
造コストが高く必ずしも良い方法とは言えなかった。
In addition, a printed circuit board provided with a coating having a hollow hole, a diene-based synthetic rubber-based adhesive is coated on a printed circuit board, and then a part of the surface layer of the adhesive is scraped off to a certain depth. There are things. However, even with these methods, it is very difficult to form a metal layer having a strong adhesive force on a so-called resin, particularly a copper layer, by electroless plating, and all of these methods use an adhesive layer. However, the production cost was high and it was not always a good method.

【0009】又一定の密着力を得ることができるものと
して真空蒸着装置やスパッタ装置等を用いる方法もあ
る。これは図18に示すような工程を経るものであって
先ず樹脂基材即ち樹脂成形体を準備しめっき下地層とし
てスパッタや蒸着等によりこの表面に金属層を形成す
る。さらにこの金属層を下地層として電解めっきを施し
この金属層を所定の厚みまで成長せしめ、しかる後これ
を配線加工するというものである。しかしながらこの方
法によっても別の問題点がある。即ち、前述の方法と異
なり接着剤層等は用いないものの真空装置等を必須とす
るために設備投資が大きくなりまた、作業が煩雑になる
結果となり、良い方法とは言えなかった。
There is also a method using a vacuum evaporation apparatus, a sputtering apparatus, or the like as a means capable of obtaining a certain adhesion. This is a process shown in FIG. 18. First, a resin base material, that is, a resin molded body is prepared, and a metal layer is formed on this surface by sputtering or vapor deposition as a plating base layer. Further, electrolytic plating is performed using the metal layer as a base layer, the metal layer is grown to a predetermined thickness, and then the wiring is processed. However, this method has another problem. That is, unlike the above-mentioned method, although no adhesive layer or the like is used, a vacuum device or the like is essential, so that capital investment becomes large, and the operation becomes complicated, which is not a good method.

【0010】その他の方法として、特に三次元化された
配線を有する樹脂製形態のような場合には、図18に示
すような方法が取られていた。これは、樹脂中にめっき
の成長核となる触媒を混入して一次成形体を形成し、そ
の後、めっきの成長核を有さない非めっき樹脂を非成形
体として二次成形し、粗化して選択的に無電解めっきを
成長させるというものである。しかしながら、この方法
も樹脂中にめっき成長核を混入したり、また、二次成形
を必要とするなど工程の煩雑さは他のものと同様であっ
た。このように、煩雑な工程を採用せざるを得ないのは
ひとえにかかる樹脂材料上に無電解めっきの十分な強度
を有する固着が困難であるためであった。
[0010] As another method, particularly in the case of a resin form having three-dimensional wiring, a method as shown in FIG. 18 has been adopted. This is to form a primary molded body by mixing a catalyst that serves as a growth nucleus of plating in the resin, and then secondary-molding a non-plated resin having no plating nucleus as a non-molded body and roughening it It is to grow electroless plating selectively. However, in this method, the complexity of the process was the same as that of other methods, such as mixing plating growth nuclei in the resin and requiring secondary molding. As described above, a complicated process must be adopted because it is difficult to fix the resin material having sufficient strength by electroless plating on the resin material.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】先ず、従来の一つ目の
方法即ち樹脂上に金属層を積層形成する際に接着剤層を
用いてその表面を粗面化しその上に無電解めっきを施し
てないしは無電解めっきを施した上にさらに電解めっき
を施すというような方法は樹脂上に別個接着剤層を形成
しなければならず、その接着剤層も所定の加工によって
表面を粗化しなければならないため製造工程が煩雑で高
コスト化し又必ずしも信頼性が高いと言うこともできな
かった。
First, the first conventional method, namely, when a metal layer is laminated on a resin, the surface thereof is roughened using an adhesive layer, and electroless plating is performed thereon. In a method such as applying electroplating on top of electroless plating, a separate adhesive layer must be formed on the resin, and the surface of the adhesive layer must also be roughened by predetermined processing. Therefore, the manufacturing process is complicated, the cost is increased, and the reliability is not necessarily high.

【0012】又この方法と異なる第二の方法である真空
蒸着装置やスパッタ装置等を用いる方法によれば樹脂上
に金属層をある程度の固着強度を持って形成することは
可能なのであるが前述のように真空装置等の大型設備を
用いなくてはならず製造コストが高くつくという問題点
がある。又これらいずれの方法にしても未だに樹脂と金
属層との接着強度は必ずしも十分ということはできずこ
の点からも従来の製造方法ないしは樹脂成形体は問題が
あるとされていた。
According to a second method different from this method, that is, a method using a vacuum evaporation apparatus or a sputtering apparatus, it is possible to form a metal layer on a resin with a certain fixing strength. As described above, there is a problem that a large facility such as a vacuum device must be used and the manufacturing cost is high. In any of these methods, the adhesive strength between the resin and the metal layer is not always sufficient, and the conventional manufacturing method or the resin molded article is considered to have a problem from this point.

【0013】さらに、その他の方法として、特に三次元
化された配線を有する樹脂製形態のような場合には、樹
脂中にめっき成長核を混入したり、また、二次成形を必
要とするなど工程の煩雑さは他のものと同様である。こ
のように、煩雑な工程を採用せざるを得ないのはひとえ
にかかる樹脂材料上に無電解めっきの十分な強度を有す
る固着が困難であるためであった。
Further, as another method, particularly in the case of a resin-made form having three-dimensional wirings, plating growth nuclei are mixed in the resin, or secondary molding is required. The complexity of the process is similar to the others. As described above, a complicated process must be adopted because it is difficult to fix the resin material having sufficient strength by electroless plating on the resin material.

【0014】そこで本発明においてはこのような電子回
路構体を製造するための積層フィルムや積層フィルムの
製造方法として樹脂の上に直接無電解めっきで且つ機械
的強度が十分に高く固着することができる樹脂成形体及
び樹脂成形体の製造方法を提供し従来の方法においては
実現することができなかった低コスト且つ高信頼性高強
度の樹脂成形体を提供することができるようになった。
Therefore, in the present invention, a laminated film for producing such an electronic circuit structure or a method for producing the laminated film can be directly fixed on a resin by electroless plating with sufficiently high mechanical strength. The present invention provides a resin molded product and a method for manufacturing the resin molded product, and can provide a low-cost, high-reliability, high-strength resin molded product that could not be realized by the conventional method.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明者は以下のような手段を提供する。まず、単一
材料からなる樹脂と金属層とを接着材料層を介さずに直
接積層した樹脂成形体であって前記樹脂上への金属層の
積層は、この樹脂表面自体が表面粗度0.1ミクロン以
上10ミクロン以下に粗化され、この粗化された樹脂の
表面に金属層が形成されている樹脂成形体である。この
発明の特徴は樹脂表面自体の表面粗度の大きさにある。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor provides the following means. First, a resin molded body in which a resin made of a single material and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive material layer, and when the metal layer is laminated on the resin, the resin surface itself has a surface roughness of 0.1 mm. This is a resin molded article that is roughened to 1 μm or more and 10 μm or less, and a metal layer is formed on the surface of the roughened resin. The feature of the present invention lies in the size of the surface roughness of the resin surface itself.

【0016】また、このような樹脂成形体の製造方法と
して、単一材料からなる樹脂と金属層とを接着材料層を
介さずに直接積層した樹脂成形体の製造方法であって前
記樹脂上に金属層を直接積層する工程は、この樹脂表面
自体を表面粗度0.1ミクロン以上10ミクロン以下に
粗化する工程と、この工程により粗化された樹脂の表面
に直接無電解めっきにより金属層を形成する工程とから
なる樹脂成形体の製造方法がある。
Further, as a method for producing such a resin molded article, there is provided a method for producing a resin molded article in which a resin made of a single material and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive material layer. The step of directly laminating a metal layer includes a step of roughening the resin surface itself to a surface roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a step of directly electrolessly plating the metal layer on the surface of the resin roughened by this step. And a step of forming a resin molded article.

【0017】さらに、本発明者は上記の樹脂表面の粗度
のうち特に好ましい範囲として1ミクロン以上5ミクロ
ン以下の範囲を推奨する。即ち、単一材料からなる樹脂
と金属層とを接着材料層を介さずに直接積層した樹脂成
形体であって前記樹脂上への金属層の直接積層は、この
樹脂表面自体が表面粗度1ミクロン以上5ミクロン以下
に粗化され、この粗化された樹脂の表面に直接金属層が
形成されている樹脂成形体、及び単一材料からなる樹脂
と金属層とを接着材料層を介さずに直接積層した樹脂成
形体の製造方法であって前記樹脂上に金属層を直接積層
する工程は、この樹脂表面自体を表面粗度1ミクロン以
上5ミクロン以下に粗化する工程と、この工程により粗
化された樹脂の表面に直接無電解めっきにより金属層を
形成する工程とからなる樹脂成形体の製造方法が特に好
ましいのである。
Further, the present inventors recommend a range of 1 μm or more and 5 μm or less as a particularly preferred range of the above-mentioned roughness of the resin surface. That is, a resin molded body in which a resin and a metal layer made of a single material are directly laminated without interposing an adhesive material layer, and when the metal layer is directly laminated on the resin, the resin surface itself has a surface roughness of 1%. A resin molded article having a metal layer formed directly on the surface of the roughened resin and having a metal layer formed directly on the surface of the roughened resin, and a resin made of a single material and a metal layer are not interposed through an adhesive material layer. In the method for manufacturing a directly laminated resin molded body, the step of directly laminating a metal layer on the resin includes a step of roughening the resin surface itself to a surface roughness of 1 μm or more and 5 μm or less; In particular, a method for producing a resin molded body, which comprises a step of directly forming a metal layer on the surface of the resin by electroless plating.

【0018】また、以上のような発明を実施するために
特に好ましい方法として、前記粗化工程は、樹脂表面自
体をサンドブラストにより粗化する工程である請求項2
又は4に記載の樹脂成形体の製造方法、前記粗化工程
は、樹脂表面自体をウエットブラストにより粗化する工
程である請求項2、4又は5に記載の樹脂成形体の製造
方法を挙げることができる。
As a particularly preferred method for carrying out the invention as described above, the roughening step is a step of roughening the resin surface itself by sandblasting.
Or the method for producing a resin molded article according to claim 4, wherein the roughening step is a step of roughening the resin surface itself by wet blasting. Can be.

【0019】さらに、上記樹脂の材料として、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリエ−テルエ−テルケトン、
ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマ、フッ素樹
脂、ポリサルホン、ポリエ−テルサルホン、ポリアミド
46、ポリエチレンナフタレ−ト、ポリブチレンテレフ
タ−ト、芳香族ポリエステルからなる群のうちいづれか
一の材料が特に優れている。これらのものに本発明の方
法を実施する際に材料に応じて条件を大きく変更すると
いうような必要も無く、容易に所定の効果を得ることが
できるのである。
Further, as the material of the resin, polyimide, polyamide imide, polyether-ether ketone,
Any one of the materials selected from the group consisting of polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, fluororesin, polysulfone, polyethersulfone, polyamide 46, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, and aromatic polyester is particularly excellent. In carrying out the method of the present invention, it is not necessary to largely change the conditions according to the material, and a predetermined effect can be easily obtained.

【0020】また、前記ウエットブラストのメデイア
は、中心粒径が10ミクロン以上300ミクロン以下で
硬度がヌ−プ硬度で1300以上2500以下又はモ−
ス硬度で7以上15以下の多角状の粒子であることが好
ましい。さらに、金属層を樹脂上に形成する方法として
は、単一材料からなる樹脂と金属層とを接着材料層を介
さずに直接積層した樹脂成形体の製造方法であって前記
樹脂上に金属層を直接積層する工程は、この樹脂表面自
体を表面粗度0.1ミクロン以上10ミクロン以下に粗
化する工程と、この工程により粗化された樹脂の表面に
直接無電解めっきにより導電層を形成する工程と、この
工程により形成された導電層を下地として電界めっきに
より金属層を厚く形成する工程と、を含む樹脂成形体の
製造方法がよい。
Further, the media of the above-mentioned wet blast has a center particle size of 10 to 300 μm and a hardness of 1300 to 2500 or less in a Knoop hardness.
It is preferably a polygonal particle having a hardness of 7 or more and 15 or less. Further, as a method of forming the metal layer on the resin, there is a method of manufacturing a resin molded body in which a resin made of a single material and a metal layer are directly laminated without using an adhesive material layer, and the metal layer is formed on the resin. The steps of directly laminating the resin include roughening the resin surface itself to a surface roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and forming a conductive layer by electroless plating directly on the surface of the resin roughened by this step. And a step of forming a thick metal layer by electrolytic plating using the conductive layer formed in this step as a base.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以上述べたように本出願にかかる
発明は請求項1〜11記載のものである。以下これらに
ついて請求項順に図面を参照しながら説明する。先ず請
求項1記載の発明であるが、前述のように単一材料から
なる樹脂と金属層とを接着剤層を介さずに直接積層した
樹脂成形体であって前記樹脂上への金属層の積層は、こ
の樹脂表面自体が表面粗度0.1ミクロン以上10ミク
ロン以下に粗化され、この粗化された樹脂の表面に金属
層が形成されている樹脂成形体である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, the invention according to the present application is as defined in claims 1 to 11. These will be described below in the order of claims with reference to the drawings. First, the invention according to claim 1 is a resin molded body in which a resin and a metal layer made of a single material are directly laminated without interposing an adhesive layer as described above, and the metal layer is formed on the resin. The lamination is a resin molded body in which the surface of the resin itself is roughened to a surface roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a metal layer is formed on the surface of the roughened resin.

【0022】請求項1記載の発明の趣旨について先ず単
一材料からとするのは、従来のように樹脂の上に別個に
接着剤層を介さないという趣旨である。又金属層とは電
子回路構体における電子回路を形成する配線パターンと
を含む趣旨であり、代表的なものは銅であるが銅は特に
このような樹脂材料とのめっきの固着強度が低いという
観点から本発明に最も適した金属材料である。又銅は比
較的コストが安価であり電気導電率も高いと言う観点か
らこのような樹脂成形体の金属層として最も優れてい
る。
First, the reason why the present invention is made of a single material is that a separate adhesive layer is not interposed on a resin as in the prior art. The metal layer is intended to include a wiring pattern for forming an electronic circuit in the electronic circuit structure. A typical example is copper, but copper is particularly low in adhesion strength of plating with such a resin material. Is the most suitable metal material for the present invention. Copper is most excellent as a metal layer of such a resin molded article from the viewpoint that copper is relatively inexpensive and has high electric conductivity.

【0023】だたし請求項1にかかる発明の金属層とは
銅に限るものではなく電子回路構体等において配線を形
成すべき材料となり得るものであればどのようなもので
あっても良いことはいうまでもない。直接積層するとは
要するに前述の繰り返しとなるが樹脂と金属層との間に
他の接着剤層とを介さずに直接的に両者を引っ付けると
いうことである。
The metal layer according to the first aspect of the present invention is not limited to copper, but may be any material that can be used as a material for forming wiring in an electronic circuit structure or the like. Needless to say. Laminating directly is basically a repetition of the above, but means that both are directly pulled without interposing any other adhesive layer between the resin and the metal layer.

【0024】本発明の特徴点はこのように樹脂と金属層
とを直接的に積層することができ、その間に接着剤層等
を必要としないので接着剤層を形成するための工程や又
その材料費を節約することができることの他に真空蒸着
装置やスパッタ装置等を用いて金属層樹脂に直接形成す
る場合に比べても請求項1記載の発明の後段に記載され
るように樹脂表面自体の表面粗度が0.1ミクロン以上
10ミクロン以下に粗化されているので従来のものに比
べて樹脂と金属層の固着強度がより強固となっている点
に特徴がある。
The feature of the present invention is that the resin and the metal layer can be directly laminated as described above, and an adhesive layer or the like is not required between them. In addition to saving material costs, the resin surface itself as described in the latter part of the invention of claim 1 is compared with the case of directly forming the metal layer resin using a vacuum evaporation apparatus or a sputtering apparatus. Is characterized by the fact that the surface roughness of the substrate is roughened to 0.1 μm or more and 10 μm or less, so that the bonding strength between the resin and the metal layer is stronger than that of the conventional one.

【0025】この発明を簡単に図でもって示したのが図
1である。即ち図1に示すように樹脂11上に金属層1
2が形成されるのであるがこの樹脂11の表面は0.1
ミクロン以上10ミクロン以下の表面粗度となってい
る。このように0.1ミクロン以上とするのは0.1ミ
クロンよりも表面粗度が小さい場合には必ずしも十分な
金属層12との固着強度を得ることができず又10ミク
ロンよりも大きい場合には近年の配線パターンが微細化
していることに鑑み樹脂11上に形成される金属層12
に断線が生じるためである。
FIG. 1 is a simplified illustration of the present invention. That is, as shown in FIG.
2 are formed, but the surface of this resin 11 is 0.1
The surface roughness is not less than 10 microns and not more than 10 microns. When the surface roughness is smaller than 0.1 micron as described above, sufficient bonding strength with the metal layer 12 cannot always be obtained when the surface roughness is smaller than 0.1 micron, and when the surface roughness is larger than 10 microns. Is a metal layer 12 formed on the resin 11 in view of the recent miniaturization of the wiring pattern.
This is due to disconnection of the wire.

【0026】従って表面粗度が0.1ミクロン以上10
ミクロン以下程度に粗化されていれば樹脂11と金属層
12との固着強度を従来よりも極めて強固のものとする
ことができる。尚図1においては樹脂11の上面に金属
層12を貼り付けた場合を記載しているが請求項1記載
の発明は必ずしもこの実施例に限られるものではなく樹
脂の両面に金属層が形成されている場合にも同様の趣旨
である。樹脂上とは図面中の上のみならず図面中の下の
部分についても樹脂上という概念に含まれる趣旨であ
る。
Therefore, the surface roughness is 0.1 μm or more and 10 μm or more.
If the surface is roughened to the order of microns or less, the fixing strength between the resin 11 and the metal layer 12 can be made much stronger than before. Although FIG. 1 shows the case where the metal layer 12 is attached to the upper surface of the resin 11, the invention described in claim 1 is not necessarily limited to this embodiment, and the metal layers are formed on both surfaces of the resin. The same is true in the case where it is performed. “On resin” means that not only the upper part in the drawing but also the lower part in the drawing are included in the concept of “on resin”.

【0027】又請求項1記載の発明は言うまでもないが
樹脂と金属層のみからなる樹脂成形体にのみ適用される
発明ではない。樹脂と金属層その他各種の層が複数あっ
てもよい。図2は請求項1記載の発明の効果を表す図で
あって図(b)は従来の方法により例えば樹脂フィルム
21上にスパッタや蒸着等により金属層22を形成し樹
脂フィルムに外力Fを加えて湾曲させてその一部が剥が
れる状態を示す図であり同図(a)は請求項1記載の発
明にかかる樹脂成形体20において図(b)の状態と同
様に湾曲させた場合であっても金属層22に剥がれがな
い状態を示す図である。
Needless to say, the invention described in claim 1 is not an invention applied only to a resin molded body consisting of only a resin and a metal layer. There may be a plurality of resin and metal layers and other various layers. FIG. 2 is a view showing the effect of the first aspect of the present invention. FIG. 2 (b) shows a conventional method in which a metal layer 22 is formed on a resin film 21 by sputtering or vapor deposition, and an external force F is applied to the resin film. FIG. 3A is a view showing a state in which a part thereof is peeled off, and FIG. 3A shows a case where the resin molded body 20 according to the first aspect of the present invention is bent in the same manner as in the state of FIG. FIG. 3 is a view showing a state in which the metal layer 22 does not peel off.

【0028】要するに従来の方法においては樹脂成形体
20のうち樹脂21と金属層22との界面の接着強度が
不十分であるためにこれに一定の応力等が加えられた場
合にはその界面から両層が剥がれるというような問題が
あったが同図(a)に示すように請求項1記載の発明に
かかる樹脂成形体20の場合にはその界面が0.1ミク
ロン以上10ミクロン以下の粗化された樹脂21上に形
成された金属層22からなっているため両者の接合強度
は従来のものと比べて飛躍的に大きくなるのである。
In short, in the conventional method, the adhesive strength at the interface between the resin 21 and the metal layer 22 in the resin molded body 20 is insufficient. Although there was a problem that both layers were peeled off, as shown in FIG. 1A, in the case of the resin molded article 20 according to the first aspect of the present invention, the interface thereof had a roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less. Since it is composed of the metal layer 22 formed on the converted resin 21, the bonding strength between the two is dramatically increased as compared with the conventional one.

【0029】この理由は樹脂上が所定の表面粗度でもっ
て形成されているためにその表面積が従来のものに比べ
て大きくなり従って表面粗度が大きくなった分、樹脂2
1と金属層22との単位面積当たりの接着強度が高くな
ったことによるものである。図3は請求項1記載の発明
にかかる樹脂成形体30を用いて例えば半導体素子を載
置するためのケースを示すものである。
The reason for this is that, since the resin is formed with a predetermined surface roughness, the surface area thereof becomes larger than that of the conventional one, and therefore, the resin 2
This is because the bonding strength per unit area between the metal layer 1 and the metal layer 22 is increased. FIG. 3 shows a case for mounting, for example, a semiconductor element using the resin molded body 30 according to the first aspect of the present invention.

【0030】請求項1記載の発明を利用した場合にはこ
のような樹脂成形体の樹脂31上に金属層32を高い接
着強度でもって形成することができるので従来のものに
比べて接着強度が向上し半導体装置全体の信頼性が向上
するとともにテープ状の巻き物として保管し又はこれを
利用してもその際の応力によって樹脂成形体が破損する
というようなことも無いので全体として製造コストを下
げたり製造を容易にすると言うメリットもある。
When the invention of claim 1 is used, the metal layer 32 can be formed on the resin 31 of such a resin molded body with a high adhesive strength, so that the adhesive strength is higher than that of the conventional one. As a result, the reliability of the entire semiconductor device is improved, and even if it is stored as a tape-shaped roll or used, there is no possibility that the resin molded body is damaged by the stress at that time, so that the overall manufacturing cost is reduced. It also has the advantage of facilitating production.

【0031】又図4に示すものは樹脂41上に請求項1
記載の発明と同一の方法によって金属層42を形成した
ものを中間構体としこれに更に他の樹脂材料を積層して
製造したケースの断面を示すものである。即ち、金属層
42は、樹脂成形体40の表面のみでなく内面にも配線
され、内部電極43と外部接続部44をつないでいる。
FIG. 4 shows an embodiment in which the resin 41 is provided on the resin 41.
This figure shows a cross section of a case manufactured by forming a metal layer 42 by the same method as the described invention as an intermediate structure and further laminating another resin material thereon. That is, the metal layer 42 is wired not only on the surface of the resin molded body 40 but also on the inner surface thereof, and connects the internal electrode 43 and the external connection portion 44.

【0032】このように半導体装置47を請求項1記載
の発明にかかる樹脂成形体40を加工して製造したケー
ス上に載置し封止樹脂46にて蓋45をした場合には図
3において示したようにそのハンドリングが容易で、フ
ィルム状のものを巻き物として運搬し又は保管すること
ができることの他にこのように例えばワイヤボンデイン
グを用いずに直接的にシリコンチップをケース上に熱圧
着するような場合であってもその加熱によってケース上
の配線が剥がれるというようなこともなく又圧着する際
の応力によって剥がれるということもないのでこのよう
な半導体装置用のケースとしても極めて適した材料であ
る。特に、三次元回路配線がなされる場合には配線を構
成する金属層42と樹脂41材料との間に大きな応力が
生じ易いので本発明の特に効果を発揮する点である。
When the semiconductor device 47 is mounted on the case manufactured by processing the resin molded body 40 according to the first aspect of the present invention and the lid 45 is covered with the sealing resin 46 as shown in FIG. As shown, it is easy to handle, and in addition to being capable of transporting or storing a film-like material as a roll, in this way, for example, a silicon chip is directly thermo-compressed onto a case without using wire bonding. Even in such a case, since the wiring on the case does not peel off due to the heating and does not peel off due to the stress at the time of pressure bonding, a material which is extremely suitable as a case for such a semiconductor device. It is. Particularly, when a three-dimensional circuit wiring is formed, a large stress is easily generated between the metal layer 42 and the material of the resin 41 constituting the wiring, so that the present invention is particularly effective.

【0033】次に請求項2について説明する。請求項2
記載の発明は前述のように単一材料からなる樹脂と金属
層とを接着剤層を介さずに直接積層した樹脂成形体の製
造方法であって前記樹脂上に金属層を直接積層する工程
は、この樹脂表面自体を表面粗度0.1ミクロン以上1
0ミクロン以下に粗化する工程と、この工程により粗化
された樹脂の表面に直接無電解めっきにより金属層を形
成する工程とからなる樹脂成形体の製造方法である。
Next, claim 2 will be described. Claim 2
The described invention is a method for manufacturing a resin molded body in which a resin and a metal layer made of a single material are directly laminated without an adhesive layer as described above, and the step of directly laminating the metal layer on the resin is The surface of the resin itself has a surface roughness of 0.1 μm or more.
This is a method for producing a resin molded body, comprising a step of roughening to a size of 0 μm or less and a step of directly forming a metal layer on the surface of the resin roughened by this step by electroless plating.

【0034】請求項2記載の発明の趣旨は要するに請求
項1記載の樹脂成形体を製造方法からとらえたものであ
ってその要点とするところは樹脂の表面自体を表面粗度
0.1ミクロン以上10ミクロン以下に粗化する工程が
含まれている樹脂成形体の製造方法である。又請求項2
記載の他の特徴点はこのように粗化された樹脂の表面に
直接無電解めっきにより金属層を形成することができる
点である。従来の技術においては樹脂成形体の製造工程
において樹脂上に直接無電解めっきを形成することは極
めて困難であった。
The gist of the invention according to claim 2 is that the resin molded product according to claim 1 is obtained from the manufacturing method, and the point is that the surface of the resin itself has a surface roughness of 0.1 μm or more. This is a method for producing a resin molded article that includes a step of roughening to 10 μm or less. Claim 2
Another feature of the description is that a metal layer can be formed directly on the surface of the resin thus roughened by electroless plating. In the prior art, it was extremely difficult to form electroless plating directly on a resin in the process of manufacturing a resin molded body.

【0035】これを解決するために従来においては既に
述べたように樹脂中にめっきの成長核となるような特殊
の成分を含ませていたのである。例えば、パラジウムの
粒子などを含ませていた。また、他の方法として、従来
においては、前述のように例えば接着剤層等を用いて表
面を荒らすことにより無電解めっきをしていたのであ
る。しかしながら本発明の特徴点はめっきの成長核とな
るようなものを用いずかつ接着剤層を介さずにこの樹脂
の表面自体を粗化する工程を含むことであり、接着剤層
を介さないで無電解めっきを直接的にこの樹脂の表面に
することができこれにより接着剤層を形成する工程やな
いしは従来の方法のように蒸着スパッタ等を用いる工程
を経ることなく安価に樹脂成形体を製造することができ
るのである。これを図をもって示したのが図5である。
In order to solve this, conventionally, as described above, a special component which becomes a growth nucleus of plating is contained in the resin. For example, palladium particles were included. As another method, conventionally, electroless plating has been performed by roughening the surface using, for example, an adhesive layer as described above. However, a feature of the present invention is that it includes a step of roughening the surface of the resin itself without using a growth nucleus for plating and without using an adhesive layer, and without using an adhesive layer. Electroless plating can be directly applied to the surface of this resin, thereby producing a resin molded body at a low cost without a step of forming an adhesive layer or a step of using vapor deposition sputtering as in a conventional method. You can do it. This is shown in FIG.

【0036】本発明の特徴点は図5に示す(a)〜
(h)までの工程のうち(c)の工程と(f)の工程に
ある。即ち(c)の工程は樹脂成形体ブロック(樹脂成
形体に敗勢加工をする前段階のもの)を準備した後この
樹脂を洗浄しこれを表面粗度0.1ミクロン以上10ミ
クロン以下程度の表面粗度に粗化する。この粗化の方法
は各種のものが考えられるのであるが本発明者等は後の
請求項に記載するように特定の方法によってこの粗化を
するのが最適であることを見出している。
The features of the present invention are shown in FIGS.
Among the steps up to (h), there are the steps (c) and (f). That is, in the step (c), a resin molded block (before the destruction processing is performed on the resin molded body) is prepared, the resin is washed, and the resin is washed with a surface roughness of about 0.1 to 10 μm. Roughens to surface roughness. Although various methods of this roughening are conceivable, the present inventors have found that it is most appropriate to perform this roughening by a specific method as described in the following claims.

【0037】次に粗化工程後洗浄乾燥工程を経てこの粗
化された樹脂上に直接無電解めっきを形成する。無電解
めっきが形成された後洗浄し乾燥し製品とし又は他の工
程に搬送することで高信頼性の樹脂成形体ないしはその
樹脂成形体中間構体ないしは電子回路構体を製造するこ
とができるのである。
Next, an electroless plating is formed directly on the roughened resin through a washing and drying step after the roughening step. After the electroless plating is formed, it is washed and dried to produce a product or to be transported to another process, whereby a highly reliable resin molded product, an intermediate structure of the resin molded product, or an electronic circuit structure can be manufactured.

【0038】次に請求項3記載の発明について説明す
る。請求項3記載の発明は前述のように、単一材料から
なる樹脂と金属層とを接着剤層を介さずに直接積層した
樹脂成形体であって前記樹脂上への金属層の直接積層
は、この樹脂表面自体が表面粗度1ミクロン以上5ミク
ロン以下に粗化され、この粗化された樹脂の表面に直接
金属層が形成されている樹脂成形体である。本発明の特
徴点は要するにこの樹脂の表面の表面粗度が請求項1及
び2のものは0.1ミクロン以上10ミクロン以下であ
ったところがそのうち1ミクロン以上5ミクロン以下に
限定している点にある。
Next, the third aspect of the present invention will be described. The invention according to claim 3 is, as described above, a resin molded body in which a resin and a metal layer made of a single material are directly laminated without interposing an adhesive layer, and the direct lamination of the metal layer on the resin is The resin surface itself is roughened to a surface roughness of 1 μm or more and 5 μm or less, and a resin molded body in which a metal layer is directly formed on the surface of the roughened resin. The feature of the present invention is that the surface roughness of the resin is in the range of 0.1 μm to 10 μm in the case of claims 1 and 2, but is limited to 1 μm to 5 μm. is there.

【0039】本発明者等は請求項1、2に記載の発明等
について鋭意研究開発を重ねたがその表面粗度の最適値
は特に1ミクロン以上5ミクロン以下であることを見出
した。この範囲内であれば特に樹脂と金属層との接着強
度を強固ならしめることができるとともに微細配線に対
しても断線するというようなこともないので十分な信頼
性を確保することができるのである。表面粗度が1ミク
ロンよりも大きい場合には樹脂材料と金属層との特に強
固な接着が可能であり、5ミクロンよりも表面粗度が大
きい場合にはこの樹脂上に形成すべき配線の微細化が困
難になる。
The present inventors have conducted intensive research and development on the inventions described in claims 1 and 2, and found that the optimum value of the surface roughness is particularly 1 to 5 microns. Within this range, especially the adhesive strength between the resin and the metal layer can be strengthened, and sufficient reliability can be secured because there is no disconnection even for fine wiring. . When the surface roughness is greater than 1 micron, particularly strong adhesion between the resin material and the metal layer is possible. When the surface roughness is greater than 5 microns, fine wiring to be formed on this resin Becomes difficult.

【0040】これは、厚膜を使用せねばならず配線の微
細加工に限界を来すからである。これを図をもって示し
たのが図6である。前述のように要はこの発明の特徴点
としては樹脂61の表面が1ミクロン以上5ミクロン以
下に粗化されている点でありその樹脂61の表面に直接
金属層62が形成された樹脂成形体60である。図6も
その点のみが前述の請求項1記載の発明と異なる点であ
る。
This is because a thick film must be used, which limits the fine processing of wiring. This is shown in FIG. As described above, the feature of the present invention is that the surface of the resin 61 is roughened to 1 μm or more and 5 μm or less, and the resin molded body in which the metal layer 62 is directly formed on the surface of the resin 61. 60. FIG. 6 also differs from the above-described claim 1 only in that point.

【0041】次に請求項4記載の発明について説明す
る。請求項4記載の発明は単一材料からなる樹脂と金属
層とを接着剤層を介さずに直接積層した樹脂成形体の製
造方法であって前記樹脂上に金属層を直接積層する工程
は、この樹脂表面自体を表面粗度1ミクロン以上5ミク
ロン以下に粗化する工程と、この工程により粗化された
樹脂の表面に直接無電解めっきにより金属層を形成する
工程とからなる樹脂成形体の製造方法である。
Next, the invention according to claim 4 will be described. The invention according to claim 4 is a method for manufacturing a resin molded body in which a resin and a metal layer made of a single material are directly laminated without interposing an adhesive layer, wherein the step of directly laminating the metal layer on the resin comprises: A step of roughening the resin surface itself to a surface roughness of 1 μm or more and 5 μm or less, and a step of directly forming a metal layer on the surface of the resin roughened by this step by electroless plating. It is a manufacturing method.

【0042】請求項4記載の発明は要するに請求項3記
載の樹脂成形体を製造方法としてとらえたものであり実
質的には同一の発明である。但し請求項3記載の発明と
実質的に下位概念とされる点は粗化する工程の他に金属
層を形成する方法として直接無電解めっきをすることを
明らかにした点にある。従って請求項4記載の発明を工
程図をもって示すと図7のようになる。要は本発明の工
程図は図7の工程(a)〜(h)のうち工程(c)の粗
化工程が表面粗度1ミクロン以上5ミクロン以下にする
と言う点と同図(f)の点において無電解めっきによっ
て金属層を形成する点である。
The invention according to claim 4 is essentially the same invention in which the resin molded product according to claim 3 is regarded as a manufacturing method. However, the point substantially lower than that of the invention described in claim 3 is that direct electroless plating is performed as a method for forming a metal layer in addition to the roughening step. Therefore, the invention according to claim 4 is shown in FIG. In short, the process diagram of the present invention is different from the process diagram of FIG. 7F in that the roughening process of the process (c) in the processes (a) to (h) of FIG. The point is that a metal layer is formed by electroless plating.

【0043】尚1ミクロン以上5ミクロン以下としたの
は請求項3記載の発明と同旨であって要は1ミクロンよ
りも大きいと請求項1記載の発明である0.1ミクロン
よりもさらに固着強度が増し十分な金属層と樹脂との固
着強度を確保することができる上に5ミクロン以下であ
ればこの金属層を加工して樹脂上に配線を形成する際に
非常に微細な配線であってもその樹脂の段面を乗り越え
る銅配線の段切れによる回路不良というようなことが起
こらないということによるものである。
It should be noted that the range of 1 micron or more and 5 microns or less is the same as in the invention of the third aspect, that is, if it is larger than 1 micron, the fixing strength is more than 0.1 micron of the invention of the first aspect. In addition, it is possible to secure a sufficient bonding strength between the metal layer and the resin, and if it is 5 μm or less, very fine wiring is required when processing this metal layer to form wiring on the resin. This is due to the fact that a circuit failure due to the disconnection of the copper wiring over the resin step does not occur.

【0044】尚請求項4記載の発明の工程を図7に示す
うちの(i)(j)の工程はこの請求項7記載の発明が
完成品になる場合もあり又中間構体としてその他の工程
に移され更に電子回路構体の積層物が上部に積層される
場合があることを示しているものであって何れにせよ図
7における工程(c)と工程(f)で示すような発明は
請求項4記載の発明にかかる製造方法を利用したものと
いうことができるのである。又図8は請求項4記載の発
明及び請求項2記載の発明を他の実施例でもって示した
ものである。要は図8の工程図における従来の請求項1
又は3記載の発明との相違点は工程(a’)がある点で
ある。
FIG. 7 shows the steps (i) and (j) of the process according to the fourth aspect of the present invention. In some cases, the process according to the seventh aspect of the present invention may be a completed product, and other steps may be performed as an intermediate structure. It is shown that the electronic circuit assembly may be further laminated on the upper part. In any case, the invention as shown in the steps (c) and (f) in FIG. It can be said that the production method according to the invention described in Item 4 is used. FIG. 8 shows another embodiment of the invention described in claim 4 and the invention described in claim 2. In short, the conventional claim 1 in the process diagram of FIG.
Or, the difference from the invention described in 3 is that there is a step (a ′).

【0045】工程(a’)は樹脂フィルムを成形加工す
る工程であり例えば樹脂フィルム上にスルーホールを形
成したりバイアホールを形成したりないしは位置合わせ
の溝、位置合わせの孔を形成すること等を指すものであ
る。樹脂成形体は樹脂上に金属層を積層したものである
が三次元的に各種の形状のものが作られており、リード
フレームインサート基板、大電流用の立体基板、ジャン
パーワイヤー構成の立体フレーム、等があり、当初は平
板状でも製造工程中でその一部に成形加工を施して樹脂
成形体とするようなものもある。
The step (a ') is a step of molding a resin film, for example, forming a through hole, forming a via hole, or forming a positioning groove or a positioning hole on the resin film. It refers to The resin molded body is made by laminating a metal layer on the resin, but it is made of various shapes in three dimensions, such as a lead frame insert board, a large current three-dimensional board, a three-dimensional frame with a jumper wire configuration, There is also a type which is initially formed in a flat shape, and a part of which is subjected to a forming process during the manufacturing process to obtain a resin molded body.

【0046】要するに請求項2または4記載の樹脂成形
体の製造方法はこのように中間で成形工程が入っている
ものも含むという趣旨である。又この成形工程は必ずし
も図8に示す工程(a)の後に含まれるもののみではな
く他の部分に成形工程が入るものもあるが何れにせよ成
形工程がどこに入ろうが粗化工程と無電解めっき工程を
有するものであって所定の要件を満たすものは請求項2
又は請求項4記載の発明と実質的に同一の発明であると
いうことができる。
In short, the manufacturing method of the resin molded article according to the second or fourth aspect is intended to include a method including an intermediate molding step. Also, this molding step is not necessarily included after step (a) shown in FIG. 8 and may include a molding step in other parts. Claim 2 which has a process and satisfies predetermined requirements
Alternatively, it can be said that the invention is substantially the same as the invention described in claim 4.

【0047】次に請求項5記載の発明について説明す
る。請求項5記載の発明は前記粗化工程は、樹脂表面自
体をサンドブラストにより粗化する工程である請求項2
又は4に記載の樹脂成形体の製造方法である。本発明の
特徴点として樹脂成形体ないしは樹脂成形体の製造方法
中において実装上に金属層を重ねて形成する際に樹脂表
面を粗化する点を特徴としてきた。本発明者等はこのよ
うな表面粗度として0.1ミクロン以上10ミクロン以
下好ましくは1ミクロン以上5ミクロン以下という表面
粗度を見出しているがこのような表面粗度を実現するた
めの粗化工程としては請求項5記載の発明のようにサン
ドブラストによるものが極めて有益であるという点を見
出している。
Next, the invention according to claim 5 will be described. In the invention described in claim 5, the roughening step is a step of roughening the resin surface itself by sandblasting.
Or a method for producing a resin molded product according to item 4. The feature of the present invention is that the surface of the resin is roughened when the metal layer is formed on the mounting in the resin molding or the method of manufacturing the resin molding. The present inventors have found such a surface roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, preferably 1 μm or more and 5 μm or less, but roughening for realizing such a surface roughness. It has been found that sandblasting is very useful as a process as in the invention of claim 5.

【0048】図9(a)(b)は請求項5記載の発明を
概念的に示したものである。要するにサンドブラストと
は本発明者等が用いる用語の意味は吹き付け加工と同義
であって粒子92を回転する羽根車などで遠心力により
加速されるか圧縮空気と共に噴出することにより工作物
91に投射し加工を行う噴射加工の方法一般を指すもの
である。サンドブラストと一般的に呼ばれるのはこのよ
うな粒子として砂をもちいるのが一般的であったためで
あるが本発明者はサンドブラストとして用いる趣旨は必
ずしも砂を粒子とするものに限られず小さな鋼や鋳鉄な
どでつくられた粒子を用いる場合一般的にはショットブ
ラスト等と呼ばれているものであるが、これらのもので
あっても本発明者等は総称してサンドブラストと言う言
葉を用いている。
FIGS. 9 (a) and 9 (b) conceptually show the fifth aspect of the present invention. In short, the term "sandblasting" used by the present inventors is synonymous with spraying, and the particles 92 are projected onto the workpiece 91 by being accelerated by centrifugal force by a rotating impeller or ejected together with compressed air. It indicates the general method of injection processing for processing. It is generally called sand blasting because it is common to use sand as such particles, but the inventor of the present invention does not necessarily limit the purpose of sand blasting to using sand as particles but small steel or cast iron. In the case of using particles produced by the above method, it is generally called a shot blast or the like, but even for these, the present inventors use the term "sand blast".

【0049】要はそのような粒子がフィルム上に対して
所定のエネルギーをもって高速でぶつけられた際にフィ
ルムの表面が一部剥がれたり凹んだりすることによって
その表面に凹凸ができその凹凸が所定の粗度を有する場
合即ち0.1ミクロン以上10ミクロン以下ないしは1
ミクロン以上5ミクロン以下程度の場合に特にその表面
に金属層を形成することで樹脂と金属層との接着強度を
極めて高くすることができるというものである。図10
は請求項5記載の発明のサンドブラスト工程の終わった
後の樹脂101の表面状態を示すものである。
The point is that when such particles are bombarded at high speed with a predetermined energy onto the film, the surface of the film is partially peeled or dented, so that the surface has irregularities. In the case of having roughness, that is, from 0.1 to 10 microns or 1
Particularly, in the case of about 5 μm or more and 5 μm or less, by forming a metal layer on the surface thereof, the adhesive strength between the resin and the metal layer can be extremely increased. FIG.
Shows the surface state of the resin 101 after the sand blasting step of the invention of claim 5 is completed.

【0050】図10は概念的に示したものであってその
拡大図部分では表面粗度1ミクロン以上5ミクロン以下
ないしは図示しないが0.1ミクロン以上10ミクロン
以下というものは波々状で示されているが実際には必ず
しもこの様な波々状ではなくもっと急峻に表面が凸凹し
ているような状態である。これを分かり易く示したのが
図11の写真である。要は図11に示す写真のように表
面が一部剥がれたり一部掘られたりしており、このよう
に剥がれや掘れが表面の凹凸を形成し金属層がこの中に
十分に回り込んで固着することにより樹脂と金属層との
固着強度を高めているのである。
FIG. 10 is a conceptual view, and in the enlarged view, the surface roughness of 1 μm to 5 μm or not shown but not less than 0.1 μm to 10 μm is shown in a wavy shape. However, actually, it is not necessarily such a wave-like state, and the surface is more steep and uneven. This is clearly shown in the photograph of FIG. In short, the surface is partially peeled or partially dug as shown in the photograph shown in FIG. 11, and thus the peeling or dug forms unevenness on the surface, and the metal layer sufficiently wraps around and is fixed. By doing so, the bonding strength between the resin and the metal layer is increased.

【0051】このようにサンドブラストを表面の粗化手
段として用いることの利点は、最適な大きさの凹凸が材
料の種類に依存すること無く再現性良く形成できる点に
ある。なぜなら、サンドブラストは前述のように機械的
な衝突エネルギーでもって表面加工するのであるから被
加工物の材質に依存した化学反応のようなものを必要と
しないからである。
The advantage of using sandblasting as a surface roughening means is that irregularities having an optimal size can be formed with good reproducibility without depending on the type of material. This is because, as described above, sandblasting is performed with mechanical collision energy to perform surface processing, and therefore does not require a chemical reaction depending on the material of the workpiece.

【0052】サンドブラストを用いてこの程度の表面粗
度を実現し金属層を形成するもうひとつの効果は、図9
(b)に示すように、金属層を形成したい部分93だけ
を露出させて他をカバー94し、サンドブラストをすれ
ば選択的に粗化を行うことができ、その部分にのみ金属
層を形成することができることにある。すなわち、本方
法によれば金属層を形成したい部分のみ粗化をしそれ以
外の部分については樹脂材料本来のままで残しておけば
めっきカバーなどをしなくてもその部分に選択的に金属
層が成長し、それ以外の部分には金属層が成長しないの
で工程が簡単で済むというメリットがある。この点は、
従来のサブトラクティブ法や、図18に示した二回形成
法に比較して利点といえる。
Another effect of realizing such a surface roughness by using sand blast and forming a metal layer is shown in FIG.
As shown in (b), only the portion 93 where the metal layer is to be formed is exposed, and the other portion is covered 94. If sandblasting is performed, the surface can be selectively roughened, and the metal layer is formed only on that portion. Is to be able to do it. In other words, according to this method, only the portion where the metal layer is to be formed is roughened, and the other portions are left as they are, and the metal layer can be selectively formed on the portion without a plating cover. Is grown, and the metal layer does not grow in other parts, so that there is an advantage that the process can be simplified. This point
This can be said to be advantageous as compared with the conventional subtractive method and the double forming method shown in FIG.

【0053】次に請求項6記載の発明について説明す
る。請求項6記載の発明は前述のように前記粗化工程
は、樹脂表面自体をウエットブラストにより粗化する工
程である請求項2、4又は5に記載の樹脂成形体の製造
方法である。本発明者等はサンドブラストのうちウエッ
トブラストが更に本発明の粗化工程に適しているもので
あることを見出している。ウエットブラストの概念を示
すのが図12である。
Next, the invention according to claim 6 will be described. The invention according to claim 6 is the method for producing a resin molded product according to claim 2, 4 or 5, wherein the roughening step is a step of roughening the resin surface itself by wet blasting. The present inventors have found that among sandblasting, wet blasting is further suitable for the roughening step of the present invention. FIG. 12 shows the concept of wet blast.

【0054】図12に示すようにタンク127の内には
砥材122である粒子と液体とが混合状態で入れられて
おり、この混合状態の材料はブラストポンプ123から
分岐された噴射流124によって常時攪拌されている。
そしてその一部はブラストポンプ123によって加圧さ
れ投射ガン125に導入されて投射ガン125でもって
圧縮空気126と混合されながら被加工物である樹脂基
材樹脂フィルム即ち樹脂121の表面に衝突させられる
のである。この投射ガン125の中で砥材122と圧縮
空気126とがミキシングされノズルによって投射され
投射された砥材122は再びタンク127に戻って再使
用される。又図13に示すものはこの投射ガン130を
示す概念図である。
As shown in FIG. 12, particles which are abrasives 122 and a liquid are put in a tank 127 in a mixed state, and the material in the mixed state is injected by a jet flow 124 branched from a blast pump 123. It is constantly stirred.
A part thereof is pressurized by a blast pump 123, introduced into a projection gun 125, and mixed with compressed air 126 by the projection gun 125 to collide with the surface of a resin base material resin film, ie, a resin 121, which is a workpiece. It is. In the projection gun 125, the abrasive 122 and the compressed air 126 are mixed and projected by the nozzle, and the projected abrasive 122 returns to the tank 127 and is reused. FIG. 13 is a conceptual diagram showing the projection gun 130.

【0055】砥材132である液体+固体と圧縮空気1
36とが図のように混合され投射ガン130の先端から
高圧でもって前方に噴射され、これが被加工物である樹
脂基材の表面に当たることによって樹脂基材の表面即ち
樹脂上に凹凸が形成される。このようなウエットブラス
トの最適条件を示したのが図14である。我々はこのよ
うなウエットブラストの最適条件としてポンプ圧力が1
〜5kg/cm、圧縮空気の圧力が1〜6kg/cm
、メデイア粒径即ちこのウエットブラスト中に含まれ
る粒子の径であるが40〜300ミクロンΦ砥材と液体
との比が5〜40ボリューム%程度である。
Liquid + solid and compressed air 1 as abrasive material 132
36 are mixed as shown in the figure and sprayed forward from the tip of the projection gun 130 with high pressure, and this hits the surface of the resin base material which is the workpiece to form irregularities on the surface of the resin base material, that is, the resin. You. FIG. 14 shows the optimum conditions for such wet blasting. We consider that the optimal conditions for such wet blasting are pump pressure of 1
55 kg / cm 2 , compressed air pressure is 1-6 kg / cm
2. The media particle diameter, that is, the diameter of the particles contained in the wet blast, but the ratio of the abrasive to the liquid of 40 to 300 microns is about 5 to 40% by volume.

【0056】図15に示すのはこのようなウエットブラ
ストによって形成された樹脂表面の凹凸状態を電子顕微
鏡でもって撮影した表面写真である。この表面写真で示
すようにウエットブラストの場合には更に表面がドライ
ブラストの場合と比べて均一で細かく凹凸状に形成され
ている。尚請求項5記載の発明において示した電子顕微
鏡写真はサンドブラストのうち所謂ドライブラスト即ち
液体を用いないで圧縮空気と固体粒子即ちメデイア等を
混合して樹脂上に吹き付けたものを示す図である。
FIG. 15 is a surface photograph taken by an electron microscope of the unevenness of the resin surface formed by such wet blasting. As shown in the photograph of the surface, in the case of wet blast, the surface is further formed in a uniform, fine and uneven shape as compared with the case of drive blast. The electron micrograph shown in the invention of claim 5 is a view showing what is called sandblast, that is, so-called dry blast, which is a mixture of compressed air and solid particles, such as media, without using a liquid and sprayed onto a resin.

【0057】なお、ここで本発明者が用いるサンドブラ
スト、ウエットブラストの意味を明確にしておくと、サ
ンドブラストとは、前述のように何らかの微少粒子を用
いて機械的な加工を行うものであって、この粒子のみを
噴射させて加工するドライブラストとこの粒子を液体と
いっしょに噴射させて加工するウエットブラストの両者
を含む趣旨である。したがって、ドライブラストはサン
ドブラストの下位概念であるということができる。
Here, if the meanings of the sand blast and the wet blast used by the present inventor are clarified, the sand blast is a mechanical processing using some fine particles as described above. The purpose is to include both drive blast in which the particles are sprayed and processed and wet blast in which the particles are sprayed together with a liquid to process. Therefore, it can be said that drive blast is a subordinate concept of sand blast.

【0058】次に請求項7記載の発明について説明す
る。請求項7記載の発明は前述のように、前記単一材料
は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエ−テルエ−
テルケトン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリ
マ、フッ素樹脂、ポリサルホン、ポリエ−テルサルホ
ン、ポリアミド46、ポリエチレンナフタレ−ト、ポリ
ブチレンテレフタ−ト、芳香族ポリエステルからなる群
のうちいづれか一の材料からなる請求項2、4、5又は
6のいづれか一に記載の樹脂成形体の製造方法である。
Next, the invention according to claim 7 will be described. As described above, in the invention according to claim 7, the single material is made of polyimide, polyamide imide, polyether ether,
3. A material made of any one of the group consisting of terketone, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, fluororesin, polysulfone, polyethersulfone, polyamide 46, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, and aromatic polyester. 7. The method for producing a resin molded article according to any one of 4, 5, and 6.

【0059】本発明者等はこのような単一材料として以
上のような材料が最適であるということを見出してい
る。これはこのような材料についてサンドブラスト特に
ウエットブラストでもって表面を加工して行くとその表
面が我々が最適であるとする0.1ミクロン以上10ミ
クロン以下特に1ミクロン以上5ミクロン以下程度成形
され易く本発明の初期の目的である樹脂成形体における
金属層と樹脂の接着強度を強大化するという点に最も適
しているからである。
The present inventors have found that the above materials are most suitable as such a single material. This is because the surface of such a material is easily formed by sand blasting, especially wet blasting, and the surface is easy to be formed in the range of 0.1 μm to 10 μm, especially 1 μm to 5 μm, which is considered to be the optimum. This is because it is most suitable for enhancing the adhesive strength between the metal layer and the resin in the resin molded article, which is the initial object of the present invention.

【0060】本発明でこれら一群のものを所謂マーカッ
シュクレームとして記載したのはこれらのものが上記の
加工容易性の他に高耐熱性であるという特徴を有する点
で共通性があるためである。これら高分子の耐熱性とは
高分子の構造に基づく点にあって高分子に固有のガラス
点移転tg点及び融点tm点及び熱分解開始温度を尺度
として評価したものである。
The reason why these groups are described as so-called Markush claims in the present invention is that they have a common feature in that they have high heat resistance in addition to the above-described ease of processing. The heat resistance of these polymers is based on the structure of the polymer and is evaluated based on the glass transition point (tg), melting point (tm), and thermal decomposition onset temperature inherent to the polymer.

【0061】耐熱性高分子の必要条件は物理的意味を持
つtgやtmが十分高く高温軟化に対して耐えることが
でき又化学変化を伴うpdt値が十分に高く、高温劣化
に対して耐えられることであり、具体例をあげるとポリ
イミドはtgがおよそ420℃で500℃までは殆ど分
解せず高耐熱性の必要条件を十分満足しており又そのフ
ィルムの耐熱寿命は250℃で8年、275℃で1年、
300℃で3ケ月、350℃で6日、400℃で12時
間であり、このポリイミドが高度の耐熱性を持つ材料で
あることを示している。
The necessary conditions for the heat-resistant polymer are that tg and tm having a physical meaning are sufficiently high to withstand high-temperature softening, and that the pdt value accompanied by a chemical change is sufficiently high to withstand high-temperature deterioration. That is, as a specific example, polyimide has a tg of about 420 ° C. and hardly decomposes up to 500 ° C., and sufficiently satisfies the requirements for high heat resistance. One year at 275 ° C,
Three months at 300 ° C., six days at 350 ° C., and 12 hours at 400 ° C., indicating that this polyimide is a material having high heat resistance.

【0062】又耐熱性高分子の要件としては前述のよう
に耐熱軟化性と耐熱劣化性が十分にあることであり、第
一の耐熱軟化性に関しては高分子材料がフィルムや成形
品として高温で形体を保持できるよう少なくともtgや
tmが十分高くなければいけないという点である。請求
項7記載のマーカッシュクレーム中に記載したこれら一
群のものはこの要件を十分に満たしているのである。
As described above, the heat-resistant polymer is required to have sufficient heat-softening property and heat-deterioration property. As for the first heat-softening property, the polymer material is used as a film or molded product at a high temperature. The point is that at least tg and tm must be sufficiently high to hold the shape. The group of those described in the Markush claim of claim 7 sufficiently satisfies this requirement.

【0063】又熱力学によればtmは融解のエンタルピ
イδhmと融解のエントロピイδsmの比で与えられ、
tm=δhm/δsmである。ここでδhmは分子間力
に関係し、δsmは主として分子の屈曲性や対称性に関
係した量であるが、本発明の請求項7記載のこれら一群
のものはtmが十分に高く屈曲性等の機械的強度を十分
に持つ材料なのである。従ってこのような観点からもこ
の種の樹脂成形体を形成する樹脂の材料としては優れた
ものであるということができる。さらに、前述のように
これらのものにサンドブラスト加工を施した場合に材料
の種類によって表面の加工状態にほとんど差異が見られ
ない点が特に重要である。
According to thermodynamics, tm is given by the ratio of the enthalpy of melting δhm to the entropy of melting δsm,
tm = δhm / δsm. Here, δhm is related to the intermolecular force, and δsm is a quantity mainly related to the flexibility and symmetry of the molecule. It is a material with sufficient mechanical strength. Therefore, from such a viewpoint, it can be said that the material of the resin forming the resin molded body of this type is excellent. Further, it is particularly important that, as described above, when these are subjected to sandblasting, there is almost no difference in the surface processing state depending on the type of material.

【0064】次に請求項8記載の発明について説明す
る。請求項8記載の発明は前述のように前記単一材料
は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエ−テルエ−
テルケトン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリ
マ、フッ素樹脂、ポリサルホン、ポリエ−テルサルホ
ン、ポリアミド46、ポリエチレンナフタレ−ト、ポリ
ブチレンテレフタ−ト、芳香族ポリエステルからなる群
のうちいづれか一の材料からなる請求項1又は3に記載
の樹脂成形体である。
Next, the invention according to claim 8 will be described. According to the invention of claim 8, as described above, the single material is made of polyimide, polyamide imide, polyether ether,
2. The material according to claim 1, wherein the material is selected from the group consisting of terketone, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, fluororesin, polysulfone, polyethersulfone, polyamide 46, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, and aromatic polyester. Or a resin molded product according to 3.

【0065】請求項8記載の発明は要するに請求項7記
載の発明が製造方法の発明に対して従属しているのに対
し、ものの発明に対して従属しているものである。要は
実質的に請求項7記載の発明と同一ないしはその上位概
念を形成する発明であるということが言える。これらマ
ーカッシュクレームを形成する一群の要素については請
求項7記載の発明で述べたと同様な内容であるのでその
詳細は省略する。
The invention according to claim 8 is essentially the invention according to claim 7, which is dependent on the invention of the manufacturing method, but is dependent on the invention. In short, it can be said that the present invention substantially forms the same or a higher concept as the invention described in claim 7. The group of elements forming these Markush claims have the same contents as those described in the invention of claim 7, and therefore the details thereof are omitted.

【0066】次に請求項9記載の発明について説明す
る。請求項9記載の発明は前述のように前記ウエットブ
ラストのメデイアは、中心粒径が10ミクロン以上30
0ミクロン以下で硬度がヌ−プ硬度で1300以上25
00以下又はモ−ス硬度で7以上15以下の多角状の粒
子である請求項6に記載の樹脂成形体の製造方法であ
る。我々はこのようなメデイア材料として何が最も適当
であるかについて鋭意検討を重ねた。図16記載のもの
はこの検討結果を代表的な材料を用いて表したものであ
る。
Next, the ninth aspect of the present invention will be described. According to a ninth aspect of the present invention, as described above, the media of the wet blast has a center particle diameter of 10 μm or more and 30 μm or more.
Hardness is 1300 to 25 in the Knoop hardness at 0 micron or less
The method for producing a resin molded article according to claim 6, wherein the particles are polygonal particles having a hardness of 00 or less or a Mohs hardness of 7 or more and 15 or less. We have worked diligently to find out what is most suitable for such a media material. FIG. 16 shows the result of this study using typical materials.

【0067】要はこのようなウエットブラストのメデイ
ア即ち粒子は第一の条件としては中心粒径が一定の範囲
に入っていること即ち我々が所望する表面粗度0.1ミ
クロン以上10ミクロン以下特に好ましくは1ミクロン
以上5ミクロン以下のものを得るためにはウエットブラ
ストのメデイアの中心粒径が10ミクロン以上300ミ
クロン以下であることが必要なのである。又ヌープ硬度
が1300以上2500以下又はモース硬度で7以上1
5以下のものであることも必要である。
In short, the media or particles of such a wet blast are, as a first condition, that the central particle size is within a certain range, that is, the surface roughness that we desire is 0.1 μm or more and 10 μm or less. Preferably, in order to obtain one having a size of 1 to 5 microns, the media of wet blast must have a median particle size of 10 to 300 microns. Knoop hardness is 1300 or more and 2500 or less or Mohs hardness is 7 or more and 1
It must also be less than 5.

【0068】又更に重要な要素はこのウエットブラスト
のメデイア即ちこの粒子が多角状の粒子である点であ
る。図16を見れば明かのように多角状の粒子では我々
が所望する表面粗度を確実に得ることができるのに対
し、その形状が真球状のものでは上記のような結果を得
られなかった。これは、真球状のものでは樹脂の表面に
与える衝撃が表面を引っかくようなものでないため、表
面を十分に荒らせないためであると考えられる。
An even more important factor is that the media of the wet blast, that is, the particles are polygonal particles. As can be seen from FIG. 16, it is clear that the desired surface roughness can be reliably obtained with polygonal particles, whereas the above-described results cannot be obtained with a true spherical shape. . This is considered to be because the impact given to the surface of the resin is not scratching the surface of the resin in the case of a perfectly spherical one, so that the surface is not sufficiently roughened.

【0069】次に請求項10記載の発明について説明す
る。請求項10記載の発明は前述のように単一材料から
なる樹脂と金属層とを接着剤層を介さずに直接積層した
樹脂成形体の製造方法であって前記樹脂上に金属層を直
接積層する工程は、この樹脂表面自体を表面粗度0.1
ミクロン以上10ミクロン以下に粗化する工程と、この
工程により粗化された樹脂の表面に直接無電解めっきに
より導電層を形成する工程と、この工程により形成され
た導電層を下地として電界めっきにより金属層を厚く形
成する工程と、を含む樹脂成形体の製造方法である。
Next, the invention according to claim 10 will be described. The invention according to claim 10 is a method for manufacturing a resin molded body in which a resin made of a single material and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive layer as described above, wherein the metal layer is directly laminated on the resin. In this step, the resin surface itself has a surface roughness of 0.1
A step of roughening to a micron or more and 10 microns or less, a step of forming a conductive layer directly on the surface of the resin roughened by this step by electroless plating, and a step of electroplating using the conductive layer formed in this step as a base. And a step of forming a thick metal layer.

【0070】本発明の特徴点は要するに樹脂成形体中の
金属層の形成方法にあり、樹脂の表面に直接無電解めっ
きにより導電層を形成した後にその導電層を下地として
電解めっきにより金属層を厚く形成する点にある。近年
はこのような樹脂成形体に求められるスペックも多種多
様のものとなってきており、電流値としても非常に大き
な電流を処理しなければならないような回路を樹脂成形
体上に形成する場合もある。例えば大電流基板や大電流
ボードのようなものである。このような場合には導電層
を十分に厚く形成しなければならず従って無電解めっき
によって形成された導電層のみではそのような大電流を
処理する電気回路を形成することは困難である。
The feature of the present invention is, in short, a method for forming a metal layer in a resin molded article. A conductive layer is formed directly on the surface of a resin by electroless plating, and then the metal layer is formed by electrolytic plating using the conductive layer as a base. The point is that it is formed thick. In recent years, the specifications required for such a resin molded article have also become diverse, and even when a circuit that must process a very large current as a current value is formed on the resin molded article, is there. For example, it is a large current board or a large current board. In such a case, the conductive layer must be formed sufficiently thick, and it is difficult to form such an electric circuit that handles such a large current only by the conductive layer formed by electroless plating.

【0071】しかしながら我々は既に述べたように樹脂
上に直接無電解めっきにより導電層を強固に固着形成す
る製造方法を開発しているのでこれを下地層として電解
めっきにより金属層を厚くすることが極めて容易であ
り、これによれば非常に厚い金属層を有するないしはそ
の樹脂成形体を加工することによって非常に厚い配線を
有する電子回路構体をフィルム上に形成することが容易
に可能となるのである。請求項10記載の発明を図をも
って示したのが図17の工程図である。
However, as described above, since we have developed a manufacturing method in which a conductive layer is firmly formed directly on a resin by electroless plating, the metal layer can be thickened by electrolytic plating using this as a base layer. It is very easy, and according to this, it is possible to easily form an electronic circuit structure having a very thick wiring on a film by having a very thick metal layer or by processing the resin molded body. . FIG. 17 is a process diagram showing the tenth aspect of the present invention.

【0072】図17を順に見て行くと樹脂基材(樹脂成
形体)を準備し、洗浄し、粗化し、更に洗浄し、乾燥
し、無電解めっきを施し、洗浄し、この上に電解めっき
でもって金属層を十分厚く形成する。例えばこの電解め
っきで形成される金属層の厚みは50ミクロンか〜10
0ミクロン程度でも可能である。これを乾燥し同図に示
すように直接製品とするかないしは他の工程を経て電子
回路構体の中間構体ないしは電子回路構体を形成するの
である
Referring to FIG. 17 in order, a resin base material (resin molded body) is prepared, washed, roughened, further washed, dried, subjected to electroless plating, washed, and electrolytically plated thereon. Thus, the metal layer is formed sufficiently thick. For example, the thickness of the metal layer formed by this electrolytic plating is 50 microns to 10 microns.
It is possible even with about 0 microns. This is dried and directly made into a product as shown in the figure, or an intermediate structure or an electronic circuit structure of the electronic circuit structure is formed through another process.

【0073】次に請求項11記載の発明について説明す
る。請求項11記載の発明は前述のように、単一材料か
らなる樹脂と金属層とを接着剤層を介さずに直接積層し
た樹脂成形体の製造方法であって、前記樹脂表面上に金
属層を直接積層する工程は、この樹脂表面を表面粗度
0.1ミクロン以上10ミクロン以下に粗化する工程
と、この工程により粗化された樹脂の表面に銅及び不可
避的不純物からなる導電層を直接無電解めっきにより形
成する工程と、この工程により形成された導電層を下地
として電界めっきにより金属層を厚く形成する工程と、
を含む樹脂成形体の製造方法である。
Next, the invention according to claim 11 will be described. The invention according to claim 11 is a method of manufacturing a resin molded body in which a resin and a metal layer made of a single material are directly laminated without interposing an adhesive layer, as described above, wherein a metal layer is formed on the resin surface. The steps of directly laminating the resin include a step of roughening the resin surface to a surface roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a step of forming a conductive layer made of copper and unavoidable impurities on the surface of the resin roughened by this step. A step of forming directly by electroless plating, and a step of forming a thick metal layer by electroplating with the conductive layer formed in this step as a base,
This is a method for producing a resin molded article containing:

【0074】請求項11記載の発明を工程をもって示し
たものが請求項10記載の発明において示した図17と
同様である。請求項11記載の発明の特徴点は要するに
樹脂の表面に直接的に無電解めっきにより形成されるも
のが銅及び不可避的不純物からなる導電層であると言う
点である。既に述べたように銅を樹脂に直接的に形成す
るのはその両素材が持つ物性からくる表面状態による原
因及びその両物質の熱膨張係数等から直接的に樹脂上に
金属層である銅層を形成するのが困難であった。
An embodiment of the present invention described in claim 11 is shown in steps, which is the same as FIG. 17 shown in the invention of claim 10. The feature of the invention according to claim 11 is that what is formed directly on the surface of the resin by electroless plating is a conductive layer made of copper and unavoidable impurities. As already mentioned, the direct formation of copper on the resin is due to the copper layer, which is a metal layer directly on the resin, due to the surface state caused by the physical properties of both materials and the thermal expansion coefficient of both materials. Was difficult to form.

【0075】従って既に述べたように本発明者等のこれ
ら一連の発明は樹脂上に直接的に金属層を形成するうち
特に樹脂上に銅及び不可避的不純物からなる金属層を形
成するのに最も適した方法である。この銅及び不可避的
不純物は前述のように請求項11記載の金属層を形成す
るのであっても良いし、又金属層としては別の材料を用
い、その電解めっきの下地層として導電層を銅及び不可
避的不純物から形成しても良いが何れにしても銅及び不
可避的不純物により直接的に形成される材料層としては
銅及び不可避的不純物を選択することが可能であり本発
明は特にこれら材料を選択することに意味のある発明で
あるということができる。
Therefore, as described above, the series of inventions of the present inventors is most suitable for forming a metal layer made of copper and unavoidable impurities on a resin, particularly when forming a metal layer directly on a resin. It is a suitable method. The copper and the unavoidable impurities may form the metal layer according to claim 11 as described above, or another material may be used as the metal layer, and the conductive layer may be formed as a base layer for electrolytic plating. In any case, it is possible to select copper and inevitable impurities as a material layer directly formed by copper and inevitable impurities. It is an invention meaningful to select.

【0076】以上のように本発明を総括すると樹脂と金
属層とを接着剤層を介さずに直接積層した樹脂成形体で
あって樹脂の表面が所定の表面粗度に粗化されたもので
あり、特に我々はこの粗化工程としてドライブラストで
あるサンドブラストないしはサンドブラストのうちウエ
ットブラストが最適であることを見出している。最後に
われわれがこのようにドライブラストないしはウエット
ブラストが最も適しているとするに至った他の製造工程
との比較を示す
As described above, the present invention can be summarized as a resin molded product in which a resin and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive layer, wherein the surface of the resin is roughened to a predetermined surface roughness. In particular, we have found that sandblasting, which is a drive blast, or wet blasting among sandblasting is most suitable as the roughening step. Finally we show a comparison with other manufacturing processes that have led to drive blast or wet blast being the most suitable

【0077】我々は所謂スパッタ装置中で逆スパッタを
用いたもの、ないしはプラズマエッチング、ないしはウ
エットエッチングそれらと本発明を構成するドライブラ
ストないしはウエットブラストを比較考慮した。スパッ
タ装置中における逆スパッタでは表面が若干荒れるだけ
で全体的には平滑であり好ましくない。又プラズマエッ
チングを用いる場合であっても全体が均一にエッチング
されるだけであって結果として表面は平滑であり本発明
の所定の表面粗度を得ることはできない。又ウエットエ
ッチングの場合も平滑に溶解されるのみであって本発明
の所定の表面粗度を確保できない。
We have compared the use of reverse sputtering in a so-called sputtering apparatus, plasma etching, or wet etching with those of drive blast or wet blast constituting the present invention. In reverse sputtering in a sputtering apparatus, the surface is slightly roughened, but the whole is smooth, which is not preferable. Even when plasma etching is used, only the whole is etched uniformly, and as a result, the surface is smooth and the predetermined surface roughness of the present invention cannot be obtained. Also, in the case of wet etching, it is only dissolved smoothly, and the predetermined surface roughness of the present invention cannot be secured.

【0078】一方サンドブラストのうちドライブラスト
では不均一であるが比較的荒く加工することが可能であ
りドライブラストにより適した表面粗度は特に5ミクロ
ン以上10ミクロン以下程度のものであるということが
できる。又、ウエットブラストを用いた場合には樹脂表
面を均一に且つ細かく加工することが可能であり、この
場合には特に1ミクロン以上〜5ミクロン以下程度の表
面粗度を確保するのに最も適している方法である。何れ
にせよ我々はこれら五つの方法を比較考慮した結果本発
明の特徴である樹脂表面の粗化のためにはドライブラス
トないしはウエットブラストが最も適しているのである
との決論を得た。
On the other hand, among sand blasts, drive blast is not uniform, but it can be processed relatively coarsely, and it can be said that the surface roughness more suitable for drive blast is particularly about 5 μm to 10 μm. . When wet blasting is used, the resin surface can be uniformly and finely processed. In this case, it is most suitable for securing a surface roughness of about 1 to 5 microns. There is a way. In any case, as a result of comparing and considering these five methods, it was concluded that dry blast or wet blast is most suitable for roughening the resin surface which is a feature of the present invention.

【0079】最後に以上の請求項1から11までに記載
の樹脂成形体の特性について簡単に述べておくと、引張
り強さはめっき金属層と樹脂との間で2.0kN/m程
度以上、であった。また、半田工程例えば、300℃6
0秒程度の工程でも金属層のはがれが無かった。
Finally, the characteristics of the resin molded article according to the first to eleventh aspects will be briefly described. The tensile strength between the plated metal layer and the resin is about 2.0 kN / m or more. Met. Also, a soldering process, for example, 300 ° C. 6
There was no peeling of the metal layer even in the process of about 0 seconds.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上のように本発明によると樹脂と金属
層とを接着剤層を介さずに直接積層し、その接着の方法
として樹脂の表面を所定の粗度にまで粗化したため金属
層の形成方法が例えばスパッタや蒸着のようなものであ
ってもその金属層と樹脂の接着強度を従来に比べて飛躍
的に高くすることができ、又本発明の更なる特徴である
無電解めっきにより樹脂の表面に直接的に強固な金属層
を形成することができ、更に所定の樹脂材料を選んだた
め耐熱性や機械的強度が十分であり且つこれら表面粗度
を容易に確保することができる樹脂成形体及び樹脂成形
体の製造方法を完成した。
As described above, according to the present invention, a resin and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive layer, and the surface of the resin is roughened to a predetermined roughness as a bonding method. Even if the method of forming is, for example, a method such as sputtering or vapor deposition, the bonding strength between the metal layer and the resin can be dramatically increased as compared with the conventional method, and the electroless plating which is a further feature of the present invention. Thus, a strong metal layer can be formed directly on the surface of the resin, and since a predetermined resin material is selected, the heat resistance and the mechanical strength are sufficient and the surface roughness can be easily secured. A completed resin molded body and a method for manufacturing the resin molded body have been completed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明を簡単に示す分解斜視図。FIG. 1 is an exploded perspective view simply showing the present invention.

【図2】 本発明の処理の効果を示す図。FIG. 2 is a diagram showing the effect of the processing of the present invention.

【図3】 本発明の樹脂成形体をケースに適用した例を
示す斜視図。
FIG. 3 is a perspective view showing an example in which the resin molded body of the present invention is applied to a case.

【図4】 本発明を利用して樹脂成形体をケースに適用
したものの断面図。
FIG. 4 is a sectional view of a case where a resin molded body is applied to a case using the present invention.

【図5】 本発明の無電解めっきを樹脂成形体に形成す
る製造工程図。
FIG. 5 is a manufacturing process diagram for forming the electroless plating of the present invention on a resin molded body.

【図6】 本発明の樹脂の最適な表面粗度を示す分解斜
視図。
FIG. 6 is an exploded perspective view showing an optimum surface roughness of the resin of the present invention.

【図7】 本発明の製造工程図。FIG. 7 is a manufacturing process diagram of the present invention.

【図8】 本発明の他の製造工程図。FIG. 8 is another manufacturing process diagram of the present invention.

【図9】 サンドブラストの概念図の斜視図。FIG. 9 is a perspective view of a conceptual diagram of sandblasting.

【図10】 サンドブラスト処理後の樹脂の表面状態を
示す斜視図及び拡大図。
FIG. 10 is a perspective view and an enlarged view showing a surface state of a resin after sandblasting.

【図11】 サンドブラストで処理した樹脂基材の表面
状態の電子顕微鏡写真。
FIG. 11 is an electron micrograph of the surface state of a resin substrate treated by sandblasting.

【図12】 ウエットブラストの概念図。FIG. 12 is a conceptual diagram of wet blast.

【図13】 投射ガンの概念図。FIG. 13 is a conceptual diagram of a projection gun.

【図14】 ウエットブラストの最適条件を示す図。FIG. 14 is a view showing optimum conditions for wet blasting.

【図15】 ウエットブラストで処理した樹脂基材の表
面状態の電子顕微鏡写真。
FIG. 15 is an electron micrograph of the surface state of a resin substrate treated with wet blast.

【図16】 ウエットブラストのメデイアの検討結果を
示す図。
FIG. 16 is a diagram showing a result of study on media for wet blasting.

【図17】 本発明の厚い配線を持つ電子回路構体の製
造工程図。
FIG. 17 is a manufacturing process diagram of an electronic circuit structure having a thick wiring according to the present invention.

【図18】 従来の電子回路構体の製造工程図。FIG. 18 is a manufacturing process diagram of a conventional electronic circuit structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、20、30、40、60 樹脂成形体 11、21、31、41、61、101、121 樹脂 12、22、32、42、62、金属層 10, 20, 30, 40, 60 Resin molded body 11, 21, 31, 41, 61, 101, 121 Resin 12, 22, 32, 42, 62, metal layer

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】単一材料からなる樹脂と金属層とを接着材
料層を介さずに直接積層した樹脂成形体であって前記樹
脂上への金属層の積層は、この樹脂表面自体が表面粗度
0.1ミクロン以上10ミクロン以下に粗化され、この
粗化された樹脂の表面に金属層が形成されている樹脂成
形体。
1. A resin molded body in which a resin and a metal layer made of a single material are directly laminated without interposing an adhesive material layer, and the lamination of the metal layer on the resin is performed when the resin surface itself has a rough surface. A resin molded article having a roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a metal layer formed on the surface of the roughened resin.
【請求項2】単一材料からなる樹脂と金属層とを接着材
料層を介さずに直接積層した樹脂成形体の製造方法であ
って前記樹脂上に金属層を直接積層する工程は、この樹
脂表面自体を表面粗度0.1ミクロン以上10ミクロン
以下に粗化する工程と、この工程により粗化された樹脂
の表面に直接無電解めっきにより金属層を形成する工程
とからなる樹脂成形体の製造方法。
2. A method for producing a resin molded body in which a resin made of a single material and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive material layer, wherein the step of directly laminating the metal layer on the resin comprises the step of: A step of roughening the surface itself to a surface roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and a step of directly forming a metal layer on the surface of the resin roughened by this step by electroless plating. Production method.
【請求項3】単一材料からなる樹脂と金属層とを接着材
料層を介さずに直接積層した樹脂成形体であって前記樹
脂上への金属層の直接積層は、この樹脂表面自体が表面
粗度1ミクロン以上5ミクロン以下に粗化され、この粗
化された樹脂の表面に直接金属層が形成されている樹脂
成形体。
3. A resin molded product in which a resin made of a single material and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive material layer, wherein the direct lamination of the metal layer on the resin is such that the resin surface itself is a surface. A resin molded article having a roughness of 1 μm or more and 5 μm or less, and a metal layer formed directly on the surface of the roughened resin.
【請求項4】単一材料からなる樹脂と金属層とを接着材
料層を介さずに直接積層した樹脂成形体の製造方法であ
って前記樹脂上に金属層を直接積層する工程は、この樹
脂表面自体を表面粗度1ミクロン以上5ミクロン以下に
粗化する工程と、この工程により粗化された樹脂の表面
に直接無電解めっきにより金属層を形成する工程とから
なる樹脂成形体の製造方法。
4. A method for manufacturing a resin molded body in which a resin made of a single material and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive material layer, wherein the step of directly laminating a metal layer on the resin comprises the step of: A method for producing a resin molded body, comprising: a step of roughening the surface itself to a surface roughness of 1 μm or more and 5 μm or less, and a step of directly forming a metal layer on the surface of the resin roughened by this step by electroless plating. .
【請求項5】前記粗化工程は、樹脂表面自体をサンドブ
ラストにより粗化する工程である請求項2又は4に記載
の樹脂成形体の製造方法。
5. The method for producing a resin molded product according to claim 2, wherein the roughening step is a step of roughening the resin surface itself by sandblasting.
【請求項6】前記粗化工程は、樹脂表面自体をウエット
ブラストにより粗化する工程である請求項2、4又は5
に記載の樹脂成形体の製造方法。
6. The roughening step is a step of roughening the resin surface itself by wet blasting.
The method for producing a resin molded article according to the above.
【請求項7】前記単一材料は、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリエ−テルエ−テルケトン、ポリフェニレン
サルファイド、液晶ポリマ、フッ素樹脂、ポリサルホ
ン、ポリエ−テルサルホン、ポリアミド46、ポリエチ
レンナフタレ−ト、ポリブチレンテレフタ−ト、芳香族
ポリエステルからなる群のうちいづれか一の材料からな
る請求項2、4、5又は6のいづれか一に記載の樹脂成
形体の製造方法。
7. The single material may be polyimide, polyamide imide, polyether ether ketone, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, fluororesin, polysulfone, polyether sulfone, polyamide 46, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate. The method for producing a resin molded article according to any one of claims 2, 4, 5, and 6, comprising a material selected from the group consisting of aromatic polyester and polyester.
【請求項8】前記単一材料は、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリエ−テルエ−テルケトン、ポリフェニレン
サルファイド、液晶ポリマ、フッ素樹脂、ポリサルホ
ン、ポリエ−テルサルホン、ポリアミド46、ポリエチ
レンナフタレ−ト、ポリブチレンテレフタ−ト、芳香族
ポリエステルからなる群のうちいづれか一の材料からな
る請求項1又は3に記載の樹脂成形体。
8. The single material is polyimide, polyamideimide, polyetheretherketone, polyphenylenesulfide, liquid crystal polymer, fluororesin, polysulfone, polyethersulfone, polyamide 46, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate. 4. The resin molded product according to claim 1, comprising a material selected from the group consisting of:
【請求項9】前記ウエットブラストのメデイアは、中心
粒径が10ミクロン以上300ミクロン以下で硬度がヌ
−プ硬度で1300以上2500以下又はモ−ス硬度で
7以上15以下の多角状の粒子である請求項6に記載の
樹脂成形体の製造方法。
9. The media of the wet blast is polygonal particles having a center particle size of 10 to 300 μm and a hardness of 1300 to 2500 in the Knoop hardness or 7 to 15 in the Mohs hardness. A method for producing a resin molded product according to claim 6.
【請求項10】単一材料からなる樹脂と金属層とを接着
材料層を介さずに直接積層した樹脂成形体の製造方法で
あって前記樹脂上に金属層を直接積層する工程は、この
樹脂表面自体を表面粗度0.1ミクロン以上10ミクロ
ン以下に粗化する工程と、この工程により粗化された樹
脂の表面に直接無電解めっきにより導電層を形成する工
程と、この工程により形成された導電層を下地として電
界めっきにより金属層を厚く形成する工程と、を含む樹
脂成形体の製造方法。
10. A method of manufacturing a resin molded body in which a resin made of a single material and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive material layer, wherein the step of directly laminating the metal layer on the resin comprises the step of: A step of roughening the surface itself to a surface roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, a step of forming a conductive layer by electroless plating directly on the surface of the resin roughened in this step, Forming a thick metal layer by electrolytic plating using the conductive layer as a base.
【請求項11】単一材料からなる樹脂と金属層とを接着
材料層を介さずに直接積層した樹脂成形体の製造方法で
あって、前記樹脂表面上に金属層を直接積層する工程
は、この樹脂表面を表面粗度0.1ミクロン以上10ミ
クロン以下に粗化する工程と、この工程により粗化され
た樹脂の表面に銅及び不可避的不純物からなる導電層を
直接無電解めっきにより形成する工程と、この工程によ
り形成された導電層を下地として電界めっきにより金属
層を厚く形成する工程と、を含む樹脂成形体の製造方
法。
11. A method for producing a resin molded body in which a resin made of a single material and a metal layer are directly laminated without interposing an adhesive material layer, wherein the step of directly laminating the metal layer on the resin surface comprises: A step of roughening the surface of the resin to a surface roughness of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and forming a conductive layer made of copper and inevitable impurities directly on the surface of the resin roughened by this step by electroless plating. A method for producing a resin molded body, comprising: a step of forming a thick metal layer by electrolytic plating using a conductive layer formed in this step as a base.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004046419A1 (en) * 2002-11-15 2004-06-03 Polyplastics Co., Ltd. Method of combining metal with surface of molded cycloolefin resin and metal-combined molded cycloolefin resin
JP2006001185A (en) * 2004-06-18 2006-01-05 Dowa Mining Co Ltd Plastic film, metal-coated substrate and method for manufacturing these film and substrate
US8313831B2 (en) 2002-12-13 2012-11-20 Kaneka Corporation Thermoplastic polyimide resin film, multilayer body and method for manufacturing printed wiring board composed of same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004046419A1 (en) * 2002-11-15 2004-06-03 Polyplastics Co., Ltd. Method of combining metal with surface of molded cycloolefin resin and metal-combined molded cycloolefin resin
US8313831B2 (en) 2002-12-13 2012-11-20 Kaneka Corporation Thermoplastic polyimide resin film, multilayer body and method for manufacturing printed wiring board composed of same
JP2006001185A (en) * 2004-06-18 2006-01-05 Dowa Mining Co Ltd Plastic film, metal-coated substrate and method for manufacturing these film and substrate

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