JP2000010062A - Liquid crystal display element manufacturing method and liquid crystal display element manufacturing device - Google Patents

Liquid crystal display element manufacturing method and liquid crystal display element manufacturing device

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JP2000010062A JP10176767A JP17676798A JP2000010062A JP 2000010062 A JP2000010062 A JP 2000010062A JP 10176767 A JP10176767 A JP 10176767A JP 17676798 A JP17676798 A JP 17676798A JP 2000010062 A JP2000010062 A JP 2000010062A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display element manufacturing method and a liquid crystal display element manufacturing device capable of adsorbing and fixing a substrate of a liquid crystal display element in a flat state without deviating positionally and with sufficient force and without leaving the deformation of the substrate. SOLUTION: An insulated substrate 5 is mounted on a stage 1 and at the same time, attracting force is made to act on the substrate 5 through second suction ports 3 by turning a valve 15 of a blower to previously be operated 16 ON. Then, by operating a vacuum pump 10 and valve 9, attracting force is made to act on nearlly the all areas of the central part of the substrate 5 through the first area 2a of first suction ports 2 and next, the first area 2a and a second area 2b and moreover, the first area 2a, the second are 2b and a third area 2c. Thus, the deformation of the substrate 5 is successively moved to a non-suction area and the deformation is collected in the vicinity of the outer peripheral part of the substrate finally and at this timing, the attracting force action on the vicinity of the outer peripheral parts from the second suction ports 3 is released by turning the valve 15 of the blower 16 OFF.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子製造
プロセスで用いられる液晶表示素子の製造方法および液
晶表示素子製造装置に関するものであり、特にレジスト
塗布装置、露光装置、配向膜印刷装置、ラビング装置、
スペーサー散布装置、シール印刷装置等に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display element used in a process for manufacturing a liquid crystal display element and an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element, and particularly to a resist coating apparatus, an exposure apparatus, an alignment film printing apparatus, and rubbing. apparatus,
The present invention relates to a spacer spraying device, a seal printing device, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶表示素子には、例えば300
mm×400mm×厚さ0.7mm程度のガラス基板が
主に用いられており、最近では、さらに400mm、5
00mmサイズのより大形のガラス基板も用いられるよ
うになってきている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display device has, for example, 300
A glass substrate with a size of about 400 mm × 400 mm × about 0.7 mm in thickness is mainly used.
Larger glass substrates with a size of 00 mm have also been used.

【0003】このようなガラス基板は、液晶表示素子の
製造プロセス中、例えばレジスト塗布装置、露光装置、
配向膜印刷装置、スペーサー散布装置、シール印刷装置
等を通して順次搬送され、そして、各装置内における処
理操作中には、図4および図5に示すように、ガラス基
板51は、上面が平坦な載置台(以下、ステージとい
う)52上に真空吸着によって固定されるようになって
いる。
[0003] Such a glass substrate is used during the manufacturing process of a liquid crystal display element, for example, in a resist coating apparatus, an exposure apparatus, or the like.
The glass substrate 51 is sequentially conveyed through an alignment film printing device, a spacer dispersing device, a seal printing device, and the like. During the processing operation in each device, as shown in FIGS. The stage is fixed on a stage (hereinafter, referred to as a stage) 52 by vacuum suction.

【0004】すなわち、ステージ52には、直径0.5
〜1.0mm程度の複数の吸着口53が5〜30mm程
度の間隔で碁盤目状に設けられ、これら吸着口53は、
ステージ52の下側に設けられた真空ポンプ55に連通
路54を介して接続されている。ガラス基板51は各吸
着口53を通して同時に作用する真空吸着力によって、
ほぼ全面にわたって吸着されてステージ52上に固定さ
れる。
That is, the stage 52 has a diameter of 0.5
A plurality of suction ports 53 of about 1.0 mm are provided in a grid pattern at intervals of about 5 to 30 mm.
It is connected to a vacuum pump 55 provided below the stage 52 via a communication path 54. The glass substrate 51 is caused by the vacuum suction force acting simultaneously through each suction port 53,
It is absorbed over almost the entire surface and fixed on the stage 52.

【0005】平板状に作製されているガラス基板51
は、優れたフラット性を有するとともに剛性も高いた
め、前述のような吸着口53を通して同時に、離散的に
吸着力を作用させたとしても、ガラス基板51に反り等
の変形が生じることはなく、ステージ52上に均一に固
定されるので、この結果、液晶表示素子の製造プロセス
において、例えば配向膜印刷の処理によって、配向膜は
均一に塗布され、仕上がり状態に凹凸等の印刷むらを生
じることはない。
A glass substrate 51 formed in a flat plate shape
Has excellent flatness and high rigidity, so that even if the suction force is applied discretely at the same time through the suction port 53 as described above, the glass substrate 51 does not deform such as warpage. Since the alignment film is uniformly fixed on the stage 52, as a result, in the manufacturing process of the liquid crystal display device, the alignment film is uniformly applied by, for example, the printing process of the alignment film, and the unevenness or the like in the finished state does not occur. Absent.

【0006】また、ガラス基板51にある程度の反りが
あったとしても、厚さ0.7mm程度のガラス基板51
では、その自重により、特開平9−80404号公報に
開示されているように、真空ポンプを用いて、切替え弁
等を通していくつかの領域を時間差を持って吸引すれ
ば、真空破壊することなく吸着することができる。
Further, even if the glass substrate 51 has a certain amount of warpage, the glass substrate 51 having a thickness of about 0.7 mm
Then, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-80404, if several regions are sucked with a time difference through a switching valve or the like using a vacuum pump as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. can do.

【0007】ガラス基板51をステージ52上に載置す
るときには、複数のガラス基板51が収納されたカセッ
ト内において、位置決めピン等によって位置決めした
後、搬送アーム等によってステージ52から突き出した
リフトピン上にガラス基板51を載置する。
When the glass substrate 51 is placed on the stage 52, the glass substrate 51 is positioned in a cassette in which a plurality of glass substrates 51 are housed by positioning pins or the like, and then placed on lift pins protruding from the stage 52 by a transfer arm or the like. The substrate 51 is placed.

【0008】そして、リフトピンを下降させてガラス基
板51をステージ52上に載置し、前述したように各吸
着口53から同時に、または切替え弁等を通して時間差
をおいて順次真空吸着力を作用させて、ガラス基板51
をステージ52に吸着固定する。
Then, the glass substrate 51 is placed on the stage 52 by lowering the lift pins, and as described above, the vacuum suction force is applied simultaneously from the suction ports 53 or sequentially with a time lag through a switching valve or the like. , Glass substrate 51
Is fixed to the stage 52 by suction.

【0009】この後、配向膜印刷装置またはシール印刷
装置等では、CCDカメラ等を用いてガラス基板51に
あらかじめ形成されているアライメントマークを利用
し、高精度の位置決めを行ってから各処理を行う。
Thereafter, in an alignment film printing apparatus or a sticker printing apparatus, etc., each processing is performed after high-precision positioning is performed using an alignment mark formed in advance on the glass substrate 51 using a CCD camera or the like. .

【0010】一方、別の吸着方法として、ブロワを用い
たものが、特開平8−324786号公報または特開平
7−33281号公報に開示されている。
On the other hand, as another adsorption method, a method using a blower is disclosed in JP-A-8-324786 or JP-A-7-33281.

【0011】また、近年においては、液晶表示素子の薄
型化および軽量化に伴い、厚さ0.7mm以下の薄型ガ
ラス基板またはプラスチックからなるプラスチック基板
が採用され、一部実用化されている。このような薄型ガ
ラス基板またはプラスチック基板においても、前述した
ような吸着方法が採用されている。
In recent years, as the liquid crystal display element has become thinner and lighter, a thin glass substrate having a thickness of 0.7 mm or less or a plastic substrate made of plastic has been employed, and some of them have been put into practical use. Such a thin glass substrate or a plastic substrate also employs the above-described suction method.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
ようなガラス基板またはプラスチック基板等の薄い絶縁
性基板の吸着固定方法では、以下のような問題点があ
る。
However, the above-described method of adsorbing and fixing a thin insulating substrate such as a glass substrate or a plastic substrate has the following problems.

【0013】リフトピンを下降させて絶縁性基板をステ
ージ上に載置した状態から、各吸着口から同時に、また
は特開平9−80404号公報に開示されているように
時間差を持って、真空吸着力を作用させて絶縁性基板を
ステージ上に吸着固定する際には、絶縁性基板とステー
ジとの間に存在している空気を吸着口から吸引するた
め、この空気が流動することで静電気が発生し、絶縁性
基板がステージ上を滑るように最大で1cm程度移動し
てしまうことがある。
From the state where the insulating pins are placed on the stage by lowering the lift pins, the vacuum suction force is simultaneously applied from each suction port or with a time lag as disclosed in JP-A-9-80404. When the insulating substrate is suction-fixed on the stage by the action of air, the air that flows between the insulating substrate and the stage is sucked through the suction port, and this air flows to generate static electricity. However, the insulating substrate may move up to about 1 cm so as to slide on the stage.

【0014】特に、厚さが0.7mm以下の薄型ガラス
基板またはプラスチック基板では、同じ外形サイズの厚
さが0.7mmよりも厚いガラス基板と比べると軽量と
なるため、ステージにかかる圧力が小さくなって移動し
やすくなる。
In particular, a thin glass substrate or a plastic substrate having a thickness of 0.7 mm or less is lighter in weight than a glass substrate having the same external size and a thickness of more than 0.7 mm. It becomes easy to move.

【0015】このように絶縁性基板がステージ上を移動
してしまうと、アライメントマークがCCDカメラ等の
視野から外れることがあり、この場合には、アライメン
トマークをCCDカメラ等で認識して高精度の位置決め
を行うことができなくなるという問題点がある。
If the insulating substrate moves on the stage as described above, the alignment mark may be out of the field of view of the CCD camera or the like. There is a problem that it becomes impossible to perform positioning.

【0016】また、薄型ガラス基板またはプラスチック
基板を室温以上に加熱したまま各装置内で処理する場
合、または加熱したまま順次搬送していく場合には、装
置内の温度ばらつきによって基板にも温度ばらつきが生
じ、基板に反り、うねりまたは屈曲等の変形が全体的ま
たは部分的に生じる。
In the case where a thin glass substrate or a plastic substrate is processed in each apparatus while being heated to a room temperature or higher, or when the substrate is sequentially transported while being heated, the temperature fluctuation in the substrate is caused by the temperature fluctuation in the apparatus. And deformation such as warping, undulation or bending of the substrate occurs entirely or partially.

【0017】この変形は処理によって形が固定化される
場合もあるし、処理後平坦に戻る場合もある。また、処
理中に絶えずその形が変化する場合もある。また、大き
さ、方向、発生場所についても、固定化される場合、処
理後に元に戻る場合または処理中に絶えず変化する場合
がある。このような変形は、特に装置上に温度ばらつき
がなくても、処理前後において基板温度を上昇または下
降しているときにも生じる。また、異なる温度で順次処
理する場合にも生じる。
In this deformation, the shape may be fixed by the processing, or may return to flat after the processing. Also, the shape may constantly change during processing. Also, the size, direction, and location of occurrence may be fixed, may return to the original state after processing, or may constantly change during processing. Such deformation occurs even when the substrate temperature is increased or decreased before and after the process, even if there is no temperature variation in the apparatus. It also occurs when processing is performed sequentially at different temperatures.

【0018】前述のような変形が生じると、リフトピン
を下降させて薄型ガラス基板またはプラスチック基板を
ステージ上に載置した状態から、各吸着口から同時に、
または時間差を持って、真空吸着力を作用させて基板を
ステージ上に吸着固定する際に、当初から基板を吸着で
きない、または当初は吸着しても吸着力よりも基板の変
形が勝って真空破壊し、吸着が途切れることがある。
When the above-described deformation occurs, the lift pins are lowered and the thin glass substrate or the plastic substrate is placed on the stage.
Alternatively, when the substrate is sucked and fixed on the stage by applying a vacuum suction force with a time difference, the substrate cannot be sucked from the beginning, or even if it is initially sucked, the substrate is more deformed than the suction force and the vacuum is broken Then, the adsorption may be interrupted.

【0019】特に、薄型ガラス基板またはプラスチック
基板では、同じ外形サイズの厚さが0.7mmよりも厚
いガラス基板と比べると剛性が弱く変形が剛性に勝るた
め、変形しやすく、吸着しにくくなる。
In particular, a thin glass substrate or a plastic substrate has a lower rigidity and a higher deformation than a glass substrate having the same outer size and a thickness of more than 0.7 mm, so that it is easily deformed and hardly attracted.

【0020】また、薄型ガラス基板またはプラスチック
基板では、同じ外形サイズの厚さが0.7mmよりも厚
いガラス基板と比べると軽量となるため、ある程度以上
の反り(300mm×400mm程度の大きさの基板に
対して、凸または凹方向に1〜2mm程度以上)が発生
した場合、その自重によって反りを打ち消して平らにな
るということができないため、基板をステージに吸着す
ることができなくなる。
Further, a thin glass substrate or a plastic substrate is lighter in weight than a glass substrate having the same external size and a thickness of more than 0.7 mm, so that a warp of a certain degree or more (a substrate having a size of about 300 mm × 400 mm) is obtained. In contrast, when warpage occurs in the convex or concave direction of about 1 to 2 mm or more), the warp cannot be canceled out by its own weight to make it flat, so that the substrate cannot be attracted to the stage.

【0021】このように、基板がステージに吸着できな
くなるとアライメント等の後処理が実施できなくなると
いう問題点がある。
As described above, if the substrate cannot be attracted to the stage, post-processing such as alignment cannot be performed.

【0022】一方、プラスチック基板の厚さ0.4mm
以下の薄いもの、または厚さ0.3mm以下のフィルム
状のものはさらに剛性がなく、加熱しなくても基板の変
形またはロール等が発生する。これは所謂、腰がないと
いわれる状態で、基板を部分的に保持したときには、保
持していない部分の剛性が重力に負けて、垂れと呼ばれ
る変形現象が発生する。
On the other hand, the thickness of the plastic substrate is 0.4 mm.
A thin film having a thickness of 0.3 mm or less and a film having a thickness of 0.3 mm or less have less rigidity, and the substrate is deformed or rolled without heating. This is a so-called lack of rigidity. When the substrate is partially held, the rigidity of the portion not held by the substrate loses gravity, and a deformation phenomenon called hanging occurs.

【0023】また、基板材料の分子配向状態または基板
の断面方向の物理的もしくは化学的特性が等方性でない
場合は、基板がロール状になってしまうカールと呼ばれ
る変形現象が発生する。
If the molecular orientation state of the substrate material or the physical or chemical properties of the substrate in the cross-sectional direction is not isotropic, a deformation phenomenon called curl, in which the substrate becomes a roll, occurs.

【0024】前述の変形は、保持等の処理によって形が
固定化される場合もあるし、処理後平坦に戻る場合もあ
る。また、処理中に絶えずその形が変化する場合もあ
る。
In the above-mentioned deformation, the shape may be fixed by processing such as holding, or may return to flat after the processing. Also, the shape may constantly change during processing.

【0025】前述のような各種の変形が生じると、リフ
トピンを下降させてプラスチック基板をステージ上に載
置した状態から、各吸着口から同時に、または時間差を
持って真空吸着力を作用させて、基板をステージ上に吸
着固定する際に、当初から基板を吸着できない、または
当初は吸着しても吸着力よりも基板の変形が勝って真空
破壊し、吸着が途切れてアライメント等の後処理が実施
できなくなるという問題点がある。
When the various deformations as described above occur, the lift pins are lowered and the plastic substrate is placed on the stage, and the vacuum suction force is applied simultaneously from each suction port or with a time lag. When the substrate is fixed on the stage by suction, the substrate cannot be sucked from the beginning, or even if it is sucked at the beginning, the deformation of the substrate exceeds the suction force and the vacuum is broken, the suction is interrupted, and post-processing such as alignment is performed There is a problem that it becomes impossible.

【0026】前述した変形のある基板に対して吸着力を
得ようとする場合、特開平8−324786号公報また
は特開平7−33281号公報に開示されているよう
に、ブロワによる吸着方法が有効である。
In order to obtain an attraction force for a substrate having deformation as described above, a suction method using a blower is effective as disclosed in JP-A-8-324786 or JP-A-7-33281. It is.

【0027】ブロワとは、羽根車を回転させる事によっ
て空気の流れを発生させ、片側で吸気、反対側で排気を
行うもので、吸気側に対象物を置くと、対象物がブロワ
に吸い付けられる。例えば、電機掃除機がその良い例で
ある。
A blower generates airflow by rotating an impeller, and performs air intake on one side and exhaust air on the other side. When an object is placed on the intake side, the object is sucked into the blower. Can be For example, an electric vacuum cleaner is a good example.

【0028】ブロワは、真空ポンプ程の絶対吸引力はな
いものの、真空破壊しないことから、変形物への対応性
に優れており、吸気口が必ずしも対象物で完全に塞がれ
ていなくても、対象物を吸着することができるからであ
る。
Although the blower does not have the absolute suction force of a vacuum pump, it does not break in a vacuum, so it is excellent in adaptability to deformed objects, and even if the intake port is not necessarily completely blocked by the object. This is because an object can be adsorbed.

【0029】ところが、特開平8−324786号公報
または特開平7−33281号公報に開示されている構
成のように、基板全面に一度に吸着力を作用させると、
変形のある薄型ガラス基板またはプラスチック基板で
は、基板がステージに吸着するものの、基板が変形した
ままステージに吸着されることがあるので、例えば配向
膜印刷の処理によって、基板の変形のために配向膜を均
一に塗布できず、仕上がり状態に凹凸等の印刷むらを生
じる。
However, when the suction force is applied to the entire surface of the substrate at once, as in the configuration disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-324786 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-33281,
In the case of a deformed thin glass substrate or plastic substrate, although the substrate is adsorbed to the stage, the substrate may be adsorbed to the stage while being deformed. Cannot be applied uniformly, resulting in uneven printing such as unevenness in the finished state.

【0030】また、例えばラビング処理においては、前
述した基板の変形部分でのラビング布の当たりが強くな
り過ぎて配向膜に傷が付いたり、基板が割れたり等の不
具合が発生する。
Further, for example, in the rubbing treatment, the rubbing cloth hits at the deformed portion of the substrate too much, so that the alignment film is damaged and the substrate is broken.

【0031】プラスチック基板の厚さ0.4mm以下の
薄いもの、または0.3mm以下のフィルム状のものに
おいても、基板全面に一度に吸着力を作用させると、ブ
ロワによってステージに基板を吸着することはできて
も、変形したままステージに吸着されることがあり、例
えば配向膜印刷またはラビング処理時に、基板にかかる
印刷圧力またはラビング圧力によって、基板に不可逆な
折り目が付くまたは基板が割れる等の不具合が発生す
る。
Even if the plastic substrate is thin, having a thickness of 0.4 mm or less, or a film having a thickness of 0.3 mm or less, when a suction force is applied to the entire surface of the substrate at one time, the substrate is attracted to the stage by a blower. Even if it is possible, it may be adsorbed to the stage while deformed, for example, during printing of an alignment film or rubbing treatment, the printing pressure or rubbing pressure applied to the substrate may cause irreversible folds or breakage of the substrate Occurs.

【0032】本発明は、以上のような従来の問題点に鑑
みなされたものであって、薄型ガラス基板またはプラス
チック基板を用いた場合でも、位置ずれすることなく、
十分な力で基板の変形を残さず平滑な状態で吸着固定す
ることができる液晶表示素子の製造方法および液晶表示
素子製造装置を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems. Even when a thin glass substrate or a plastic substrate is used, the present invention does not cause a displacement.
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display element and a liquid crystal display element manufacturing apparatus capable of holding a substrate in a smooth state by suction with sufficient force without deforming the substrate.

【0033】[0033]

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の請求項1記載の液晶表示素子の製造方
法は、複数の吸着口が開口する平坦な載置面を有する載
置台上に、前記吸着口を通して吸着力を作用させて絶縁
性基板を固定し、前記絶縁性基板に各種の処理を施す液
晶表示素子の製造方法において、前記絶縁性基板の中央
部を吸着固定する第1の吸着口と、前記第1の吸着口の
周囲を囲むように前記絶縁性基板の外周部近傍を吸着固
定する第2の吸着口と、によって前記絶縁性基板に吸着
力を作用させ、前記絶縁性基板を固定して各種の処理を
施すことを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a mounting table having a flat mounting surface having a plurality of suction openings. A method of manufacturing a liquid crystal display element in which an insulating substrate is fixed by applying a suction force through the suction port and various processes are performed on the insulating substrate, wherein a center portion of the insulating substrate is suction-fixed. A first suction port and a second suction port that suction-fixes the vicinity of an outer peripheral portion of the insulating substrate so as to surround the periphery of the first suction port; It is characterized in that an insulating substrate is fixed and various processes are performed.

【0034】請求項2記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項1記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記第2の吸着口は、ブロワによって吸着力を作用させ
ることを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the first aspect.
The second suction port is characterized in that a suction force is applied by a blower.

【0035】請求項3記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項1または請求項2記載の液晶表示素子の製造
方法において、前記第2の吸着口から吸着力を作用させ
た後、前記第1の吸着口から吸着力を作用させることを
特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the first or second aspect, after applying the suction force from the second suction port, It is characterized in that a suction force is applied from one suction port.

【0036】請求項4記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項3記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記第1の吸着口を少なくとも2つの領域に分割し、前
記領域毎に時間差を設けて前記絶縁性基板に吸着力を作
用させることを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the third aspect.
The first suction port is divided into at least two regions, and a time difference is provided for each of the regions to apply a suction force to the insulating substrate.

【0037】請求項5記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項3または請求項4記載の液晶表示素子の製造
方法において、前記第1の吸着口から吸着力を作用させ
た後、前記第2の吸着口からの吸着力を解除し、各種の
処理を施すことを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the third or fourth aspect, after applying the suction force from the first suction port, 2 is characterized in that the suction force from the suction port is released and various treatments are performed.

【0038】請求項6記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項1乃至請求項5記載の液晶表示素子の製造方
法において、前記第2の吸着口の外側に前記絶縁性基板
の端部を吸着固定する第3の吸着口を設けることを特徴
としている。
According to a sixth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal display element according to any one of the first to fifth aspects, an end of the insulating substrate is provided outside the second suction port. A third suction port for suction and fixation is provided.

【0039】請求項7記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項6記載の液晶表示素子の製造方法において、
配向膜印刷時には、前記第3の吸着口は、印刷ローラに
設置された凸版が最初に前記絶縁性基板に接触する位置
に対応させて設けることを特徴としている。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the sixth aspect.
At the time of printing the alignment film, the third suction port is provided so as to correspond to a position where the relief plate provided on the printing roller first contacts the insulating substrate.

【0040】請求項8記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項6または請求項7記載の液晶表示素子の製造
方法において、前記第2の吸着口から吸着力を作用さ
せ、前記第1の吸着口から吸着力を作用させた後、前記
第2の吸着口からの吸着力を解除し、前記第3の吸着口
から吸着力を作用させて、各種の処理を施すことを特徴
としている。
According to a eighth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the sixth or seventh aspect, the first suction port acts on the first suction port to apply an attraction force to the first liquid crystal element. After the suction force is applied from the suction port, the suction force from the second suction port is released, and the suction force is applied from the third suction port to perform various processes.

【0041】請求項9記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項1乃至請求項8記載の液晶表示素子の製造方
法において、前記絶縁性基板はプラスチックであること
を特徴としている。
According to a ninth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal display element according to any one of the first to eighth aspects, the insulating substrate is made of plastic.

【0042】請求項10記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項1乃至請求項8記載の液晶表示素子の製造方
法において、前記絶縁性基板は厚さ0.7mm以下のガ
ラスであることを特徴としている。
According to a tenth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the first to eighth aspects, the insulating substrate is made of glass having a thickness of 0.7 mm or less. Features.

【0043】請求項11記載の液晶表示素子製造装置
は、絶縁性基板を載置する平坦な載置面を有する載置台
と、前記載置面に設けられた複数の吸着口とを有し、前
記吸着口を通して吸着力を作用させて前記絶縁性基板を
固定し、前記絶縁性基板に各種の処理を施す液晶表示素
子製造装置において、前記絶縁性基板の中央部を吸着固
定する第1の吸着口と、前記第1の吸着口の周囲を囲む
ように前記絶縁性基板の外周部近傍を吸着固定する第2
の吸着口とを備えることを特徴としている。
According to a eleventh aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a mounting table having a flat mounting surface on which an insulating substrate is mounted; and a plurality of suction ports provided on the mounting surface. In a liquid crystal display element manufacturing apparatus for fixing the insulating substrate by applying suction force through the suction port and performing various processes on the insulating substrate, a first suction for suction-fixing a central portion of the insulating substrate. A second port for adsorbing and fixing the vicinity of the outer peripheral portion of the insulating substrate so as to surround the first port and the periphery of the first suction port;
And a suction port.

【0044】請求項12記載の液晶表示素子製造装置
は、請求項11記載の液晶表示素子製造装置において、
前記第2の吸着口は、ブロワによって吸着力を作用させ
ることを特徴としている。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the eleventh aspect.
The second suction port is characterized in that a suction force is applied by a blower.

【0045】請求項13記載の液晶表示素子製造装置
は、請求項12記載の液晶表示素子製造装置において、
前記ブロワから前記第2の吸着口までの配管は、脱着機
構を備えることを特徴としている。
A liquid crystal display element manufacturing apparatus according to a thirteenth aspect is the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the twelfth aspect,
The pipe from the blower to the second suction port is provided with a desorption mechanism.

【0046】請求項14記載の液晶表示素子製造装置
は、請求項11乃至請求項13記載の液晶表示素子製造
装置において、前記第1の吸着口は少なくとも2つの領
域に分割され、前記領域毎に時間差を設けて前記絶縁性
基板に吸着力を作用させられることを特徴としている。
According to a fourteenth aspect of the present invention, in the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the eleventh to thirteenth aspects, the first suction port is divided into at least two regions. It is characterized in that a suction force can be applied to the insulating substrate by providing a time difference.

【0047】請求項15記載の液晶表示素子製造装置
は、請求項11乃至請求項14記載の液晶表示素子製造
装置において、前記第1の吸着口および前記第2の吸着
口は、それぞれ独立して吸着力を制御できることを特徴
としている。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to any one of the eleventh to fourteenth aspects, the first suction port and the second suction port are independently formed. It is characterized in that the suction force can be controlled.

【0048】請求項16記載の液晶表示素子製造装置
は、請求項11乃至請求項15記載の液晶表示素子製造
装置において、前記第2の吸着口の外側に前記絶縁性基
板の端部を吸着固定する第3の吸着口を備えることを特
徴としている。
According to a sixteenth aspect of the present invention, in the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the eleventh to fifteenth aspects, an end portion of the insulating substrate is fixed by suction to the outside of the second suction port. A third suction port is provided.

【0049】請求項17記載の液晶表示素子製造装置
は、請求項16記載の液晶表示素子製造装置において、
配向膜印刷装置の場合、前記第3の吸着口は、印刷ロー
ラに設置された凸版が最初に前記絶縁性基板に接触する
位置に対応させて設けられていることを特徴としてい
る。
A liquid crystal display device manufacturing apparatus according to claim 17 is the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to claim 16,
In the case of an alignment film printing apparatus, the third suction port is provided so as to correspond to a position where a relief plate installed on a printing roller first contacts the insulating substrate.

【0050】請求項18記載の液晶表示素子製造装置
は、請求項16または請求項17記載の液晶表示素子製
造装置において、前記第1の吸着口、前記第2の吸着口
および前記第3の吸着口は、それぞれ独立して吸着力を
制御できることを特徴としている。
The liquid crystal display element manufacturing apparatus according to claim 18 is the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to claim 16 or 17, wherein the first suction port, the second suction port, and the third suction port. The mouth is characterized in that the suction force can be independently controlled.

【0051】本発明の液晶表示素子の製造方法によれ
ば、絶縁性基板の中央部を吸着固定する第1の吸着口
と、第1の吸着口の周囲を囲むように絶縁性基板の外周
部近傍を吸着固定する第2の吸着口とによって絶縁性基
板に吸着力を作用させることにより、絶縁性基板の外周
部近傍が恰もOリングで遮断されたような閉じた系とな
り、絶縁性基板と載置台との間にある空気の逃げ道が無
くなり、変形を生じやすい絶縁性基板においても、絶縁
性基板の中央部を確実に吸着固定することができ、後の
各種処理の最中に絶縁性基板の位置がずれたり、吸着固
定がはずれたりすることがない。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display element of the present invention, the first suction port for suction-fixing the central portion of the insulating substrate and the outer peripheral portion of the insulating substrate so as to surround the periphery of the first suction port. By applying a suction force to the insulating substrate by the second suction port for suction-fixing the vicinity, the vicinity of the outer peripheral portion of the insulating substrate becomes a closed system as if the vicinity of the insulating substrate were cut off by an O-ring. There is no way for the air to escape from the mounting table, so even for an insulating substrate that is easily deformed, the central part of the insulating substrate can be firmly fixed by suction, and the insulating substrate can be fixed during various subsequent processes. Is not displaced or the suction fixation is not displaced.

【0052】さらに、第2の吸着口はブロワによって吸
着力を作用させることにより、絶縁性基板を載置台上に
吸着固定する際に、絶縁性基板と載置台との間にある空
気が流動して静電気が発生しようとしても、静電気が発
生する前に流量の大きいブロワによる吸着方式で空気を
吸引するため、静電気の発生量を著しく少なくすること
ができ、吸着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止する
ことができる。
Further, the suction force is applied to the second suction port by a blower, so that when the insulating substrate is suction-fixed on the mounting table, the air between the insulating substrate and the mounting table flows. Even if static electricity is going to be generated, the air is suctioned by a blower with a large flow rate before the static electricity is generated, so the amount of generated static electricity can be significantly reduced, and the displacement of the insulating substrate during suction fixing Can be prevented.

【0053】また、絶対流量で吸着するブロワによる吸
着方式を用いるため、絶縁性基板を載置台上に載置した
ときに、絶縁性基板の変形によって吸着口の一部が絶縁
性基板で塞がれていなくても真空破壊は生じることがな
く、吸着が途切れることはない。
Further, since the suction method using a blower that suctions at an absolute flow rate is used, when the insulating substrate is placed on the mounting table, a part of the suction port is closed by the insulating substrate due to deformation of the insulating substrate. Vacuum breakage does not occur even if it is not removed, and adsorption is not interrupted.

【0054】さらに、第2の吸着口から吸着力を作用さ
せた後、第1の吸着口から吸着力を作用させることによ
り、まず前述の閉じた系を形成することができ、絶縁性
基板と載置台との間にある空気を効率良く、最も短時間
で吸引することができるとともに、空気の流動時間が短
い分だけ静電気の発生量を少なくすることができ、吸着
固定時の絶縁性基板の位置ずれをさらに防止することが
できる。
Further, by applying the suction force from the second suction port and then applying the suction force from the first suction port, the above-mentioned closed system can be formed first, and the insulating substrate and the insulating substrate can be formed. The air between the mounting table and the mounting table can be sucked efficiently and in the shortest time, and the amount of static electricity generated can be reduced by the short flow time of the air. The displacement can be further prevented.

【0055】さらに、第1の吸着口を少なくとも2つの
領域に分割し、この領域毎に時間差を設けて絶縁性基板
に吸着力を作用させることにより、絶縁性基板が変形し
ていたとしても、前記領域毎に順次吸着固定するので、
変形が順次吸着固定していない領域に移り、最後に外周
部に集められるので、絶縁性基板の中央部を平滑な状態
で載置台に吸着固定することができる。
Further, even if the insulating substrate is deformed by dividing the first suction port into at least two regions and providing a time difference for each region to apply the suction force to the insulating substrate, Since the area is sequentially fixed by suction,
Since the deformation is sequentially transferred to the area where the insulating substrate is not fixed by suction, and finally collected on the outer peripheral portion, the central portion of the insulating substrate can be fixed by suction to the mounting table in a smooth state.

【0056】さらに、第1の吸着口から吸着力を作用さ
せた後、第2の吸着口からの吸着力を解除し、各種の処
理を施すことにより、外周部に集められた変形も第2の
吸着口の吸着力を解除することによってほぼ解消され、
絶縁性基板を平滑な状態で載置台に吸着固定することが
できる。
Further, after the suction force is applied from the first suction port, the suction force from the second suction port is released, and various treatments are performed. It is almost eliminated by releasing the suction power of the suction port of
The insulating substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state.

【0057】さらに、第2の吸着口の外側に絶縁性基板
の端部を吸着固定する第3の吸着口を設けることによ
り、絶縁性基板の端部に変形が残っていたとしても、第
3の吸着口からの吸着力によって、絶縁性基板の端部ま
で平滑な状態で載置台に吸着固定することができる。
Further, by providing the third suction port for adsorbing and fixing the end of the insulating substrate outside the second suction port, even if the end of the insulating substrate remains deformed, the third suction port is provided. With the suction force from the suction port, the end surface of the insulating substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state.

【0058】さらに、配向膜印刷時には、第3の吸着口
は、印刷ローラに設置された凸版が最初に絶縁性基板に
接触する位置に対応させて設けることにより、最も真空
破壊が起きやすい箇所を強固に吸着固定することとな
り、印刷中に真空破壊が起こることがない。
Further, at the time of printing the alignment film, the third suction port is provided so as to correspond to the position where the relief plate provided on the printing roller first comes into contact with the insulating substrate, so that a portion where vacuum breakdown is most likely to occur is formed. It is firmly fixed by adsorption, so that vacuum breakage does not occur during printing.

【0059】さらに、第2の吸着口から吸着力を作用さ
せ、第1の吸着口から吸着力を作用させた後、第2の吸
着口からの吸着力を解除し、第3の吸着口から吸着力を
作用させて各種の処理を施すことにより、絶縁性基板の
変形を外周部に集めて解消し、絶縁性基板の端部まで平
滑な状態で載置台に吸着固定することができる。
Further, after the suction force is applied from the second suction port and the suction force is applied from the first suction port, the suction force from the second suction port is released, and the suction force is released from the third suction port. By performing various kinds of processing by applying the suction force, the deformation of the insulating substrate is collected at the outer peripheral portion and eliminated, and the insulating substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state to the end portion.

【0060】さらに、絶縁性基板がプラスチックであっ
ても、載置台への吸着固定時の位置ずれを防止すること
ができる。
Further, even if the insulating substrate is made of plastic, it is possible to prevent a displacement during suction fixing to the mounting table.

【0061】また、絶縁性基板が厚さ0.7mm以下の
ガラスであっても、載置台への吸着固定時の位置ずれを
防止することができる。
Further, even if the insulating substrate is made of glass having a thickness of 0.7 mm or less, it is possible to prevent a positional shift at the time of suction-fixing to the mounting table.

【0062】本発明の液晶表示素子製造装置によれば、
絶縁性基板の中央部を吸着固定する第1の吸着口と、第
1の吸着口の周囲を囲むように絶縁性基板の外周部近傍
を吸着固定する第2の吸着口とを備えることにより、絶
縁性基板の外周部近傍が恰もOリングで遮断されたよう
な閉じた系となり、絶縁性基板と載置台との間にある空
気の逃げ道が無くなり、変形を生じやすい絶縁性基板に
おいても、絶縁性基板の中央部を確実に吸着固定するこ
とができ、後の各種処理の最中に絶縁性基板の位置がず
れたり、吸着固定がはずれたりすることがない。
According to the liquid crystal display element manufacturing apparatus of the present invention,
By providing a first suction port for suction-fixing the central portion of the insulating substrate, and a second suction port for suction-fixing the vicinity of the outer peripheral portion of the insulating substrate so as to surround the periphery of the first suction port, The outer periphery of the insulating substrate becomes a closed system as if it were cut off by an O-ring, and there is no way for air to escape between the insulating substrate and the mounting table. The central portion of the non-conductive substrate can be securely fixed by suction, and the position of the insulating substrate does not shift during the various processes to be performed later, and the suction and fixation does not deviate.

【0063】さらに、第2の吸着口はブロワによって吸
着力を作用させることにより、絶縁性基板を載置台上に
吸着固定する際に、絶縁性基板と載置台との間にある空
気が流動して静電気が発生しようとしても、静電気が発
生する前に流量の大きいブロワによる吸着方式で空気を
吸引するため、静電気の発生量を著しく少なくすること
ができ、吸着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止する
ことができる。
Further, the suction force is applied by the blower to the second suction port, so that when the insulating substrate is suction-fixed on the mounting table, the air between the insulating substrate and the mounting table flows. Even if static electricity is going to be generated, the air is suctioned by a blower with a large flow rate before the static electricity is generated, so the amount of generated static electricity can be significantly reduced, and the displacement of the insulating substrate during suction fixing Can be prevented.

【0064】また、絶対流量で吸着するブロワによる吸
着方式を用いるため、絶縁性基板を載置台上に載置した
ときに、絶縁性基板の変形によって吸着口の一部が絶縁
性基板で塞がれていなくても真空破壊は生じることがな
く、吸着が途切れることはない。
Since the suction method using a blower that sucks at an absolute flow rate is used, when the insulating substrate is placed on the mounting table, a part of the suction port is closed by the insulating substrate due to the deformation of the insulating substrate. Vacuum breakage does not occur even if it is not removed, and adsorption is not interrupted.

【0065】さらに、ブロワから第2の吸着口までの配
管が脱着機構を備えることにより、吸着固定後の処理時
に載置台が移動することを考慮して長距離にわたって配
管する必要がない。
Further, since the pipe from the blower to the second suction port is provided with a desorption mechanism, it is not necessary to pipe the pipe over a long distance in consideration of the movement of the mounting table at the time of the process after the suction and fixing.

【0066】さらに、第1の吸着口は少なくとも2つの
領域に分割され、この領域毎に時間差を設けて絶縁性基
板に吸着力を作用させられることにより、絶縁性基板が
変形していたとしても、前記領域毎に順次吸着固定する
ので、変形が順次吸着固定していない領域に移り、最後
に外周部に集められるので、絶縁性基板の中央部を平滑
な状態で載置台に吸着固定することができる。
Further, the first suction port is divided into at least two regions, and a time difference is provided for each of the regions to apply a suction force to the insulating substrate, so that even if the insulating substrate is deformed. Since the area is sequentially suction-fixed, the deformation is sequentially shifted to the area where suction is not fixed, and finally collected on the outer peripheral portion, so that the center portion of the insulating substrate is fixed to the mounting table in a smooth state by suction. Can be.

【0067】さらに、第1の吸着口および第2の吸着口
は、それぞれ独立して吸着力を制御できることにより、
外周部に集められた変形も第2の吸着口の吸着力を解除
することによってほぼ解消され、絶縁性基板を平滑な状
態で載置台に吸着固定することができる。
Further, the first suction port and the second suction port can independently control the suction force, so that
The deformation collected on the outer peripheral portion is also substantially eliminated by releasing the suction force of the second suction port, so that the insulating substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state.

【0068】さらに、第2の吸着口の外側に絶縁性基板
の端部を吸着固定する第3の吸着口を備えることによ
り、絶縁性基板の端部に変形が残っていたとしても、第
3の吸着口からの吸着力によって、絶縁性基板の端部ま
で平滑な状態で載置台に吸着固定することができる。
Further, by providing a third suction port for adsorbing and fixing the end of the insulating substrate outside the second suction port, even if the end of the insulating substrate remains deformed, the third suction port is provided. With the suction force from the suction port, the end surface of the insulating substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state.

【0069】さらに、配向膜印刷装置の場合、第3の吸
着口は、印刷ローラに設置された凸版が最初に絶縁性基
板に接触する位置に対応させて設けられていることによ
り、最も真空破壊が起きやすい箇所を強固に吸着固定す
ることとなり、印刷中に真空破壊が起こることがない。
Further, in the case of the alignment film printing apparatus, the third suction port is provided in correspondence with the position where the relief plate provided on the printing roller first comes into contact with the insulating substrate, so that the vacuum breaking is most likely to occur. Thus, a portion where the ink is likely to occur is firmly fixed by suction, and no vacuum break occurs during printing.

【0070】さらに、第1の吸着口、第2の吸着口およ
び第3の吸着口は、それぞれ独立して吸着力を制御でき
ることにより、絶縁性基板の変形を外周部に集めて解消
し、絶縁性基板の端部まで平滑な状態で載置台に吸着固
定することができる。
Further, since the first suction port, the second suction port, and the third suction port can independently control the suction force, the deformation of the insulating substrate is collected at the outer peripheral portion and eliminated, and The substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state up to the end of the flexible substrate.

【0071】[0071]

【発明の実施の形態】図1乃至図3を用いて、本発明の
実施の形態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0072】例えば、液晶表示素子の製造プロセスにお
ける配向膜印刷装置には、図1乃至図3に示すように、
上面に平坦な載置面を有するステージ(載置台)1が設
けられている。このステージ1には、直径0.5〜1.
0mmの複数の第1の吸着口2が載置面中央部に5〜3
0mm間隔で碁盤目状に開口している。
For example, as shown in FIGS. 1 to 3, an alignment film printing apparatus in a manufacturing process of a liquid crystal display element includes:
A stage (mounting table) 1 having a flat mounting surface on the upper surface is provided. The stage 1 has a diameter of 0.5-1.
A plurality of first suction ports 2 having a diameter of 0 mm
The openings are in a grid pattern at 0 mm intervals.

【0073】本実施の形態においては、第1の吸着口2
は、第1の領域2a、第2の領域2b、第3の領域2c
の3つの領域に分割されている。第1の吸着口2の領域
分割としては、少なくとも2つ以上の領域に分割するこ
とが望ましい。
In this embodiment, the first suction port 2
Are the first region 2a, the second region 2b, and the third region 2c
Are divided into three regions. As the area division of the first suction port 2, it is desirable to divide the area into at least two or more areas.

【0074】さらに、第2の吸着口3が幅1.0〜2.
0mmで、第1の吸着口2の周囲を囲むように開口して
いる。第2の吸着口3の形状としては、直径0.5〜
1.0mmの吸着口が線状に2〜5列程度並んでいても
よい。
Further, the second suction port 3 has a width of 1.0 to 2.
The opening is 0 mm so as to surround the periphery of the first suction port 2. The shape of the second suction port 3 is 0.5 to 0.5 mm.
The suction ports of 1.0 mm may be linearly arranged in about 2 to 5 rows.

【0075】さらに、第2の吸着口3の外側には、幅
2.0mmの第3の吸着口4が線状に開口していてもよ
い。第3の吸着口4の形状としては、直径0.5〜1.
0mmの吸着口が線状に2〜5列程度並んでいてもよ
い。第3の吸着口4を設ける位置は、印刷ローラに設置
された凸版が最初に絶縁性基板5に接触し、印刷を開始
する位置に対応させることが好ましい。
Further, outside the second suction port 3, a third suction port 4 having a width of 2.0 mm may be linearly opened. The shape of the third suction port 4 is 0.5-1.
The suction ports of 0 mm may be linearly arranged in about 2 to 5 rows. It is preferable that the position where the third suction port 4 is provided corresponds to the position where the relief plate installed on the printing roller first contacts the insulating substrate 5 and starts printing.

【0076】第1の吸着口2の分割された第1の領域2
a、第2の領域2bおよび第3の領域2cは、それぞれ
ステージ1の内部に設けられている伸縮性のある第1の
連通路6、第2の連通路7および第3の連通路8に接続
されており、第1の連通路6、第2の連通路7および第
3の連通路8は、切換弁9を介して真空ポンプ10に接
続されている。
First divided area 2 of first suction port 2
a, the second area 2b and the third area 2c are respectively connected to the first, second and third communication paths 6, 2 and 7 provided inside the stage 1 and having elasticity. The first communication path 6, the second communication path 7, and the third communication path 8 are connected to a vacuum pump 10 via a switching valve 9.

【0077】同様に、第3の吸着口4は、ステージ1の
内部に設けられている伸縮性のある第4の連通路11に
接続されており、第4の連通路11は切換弁9を介して
真空ポンプ10に接続されている。
Similarly, the third suction port 4 is connected to a stretchable fourth communication passage 11 provided inside the stage 1, and the fourth communication passage 11 connects the switching valve 9. It is connected to the vacuum pump 10 via.

【0078】切換弁9によって、真空ポンプ10を作動
させた時の吸着力が、第1の連通路6から第1の吸着口
2の第1の領域2aを介して作用する状態と、第2の連
通路7から第1の吸着口2の第2の領域2bを介して作
用する状態と、第3の連通路8から第1の吸着口2の第
3の領域2cを介して作用する状態と、第4の連通路1
1から第3の吸着口4を介して作用する状態とに、それ
ぞれ独立に切換を行うことができる。
The switching valve 9 causes the suction force when the vacuum pump 10 is operated to act from the first communication path 6 via the first area 2a of the first suction port 2 and the second state. And a state where the third communication path 8 operates via the second area 2b of the first suction port 2 and the third communication path 8 and a state where it operates via the third area 2c of the first suction port 2. And the fourth communication passage 1
Switching from the first to the state acting via the third suction port 4 can be independently performed.

【0079】つまり、それぞれ単独に吸着力が作用する
状態でも、任意の組み合せでも、切換弁9によって切換
えることができる。また、それぞれの吸着力を時間差を
持って作用させることもできる。
That is, switching can be performed by the switching valve 9 in a state where the attraction force acts independently or in an arbitrary combination. Further, the respective adsorbing forces can be applied with a time difference.

【0080】一方、第2の吸着口3は、ステージ1の内
部に設けられている第5の連通路12に接続されてお
り、第5の連通路12は第1の脱着部13および第2の
脱着部14並びに弁15を介してブロワ16に接続され
ている。このブロワ部の配管は、第1の脱着部13と第
2の脱着部14との間で、ステージ1の移動に連動して
切り離し、および接続ができるようになっている。
On the other hand, the second suction port 3 is connected to a fifth communication passage 12 provided inside the stage 1, and the fifth communication passage 12 is connected to the first detachable portion 13 and the second communication passage 12. Is connected to a blower 16 via a desorption section 14 and a valve 15. The piping of the blower section can be disconnected and connected between the first detachable section 13 and the second detachable section 14 in conjunction with the movement of the stage 1.

【0081】前述のようなステージ1を備える配向膜印
刷装置に、プラスチック基板または厚さが0.7mm以
下の薄型ガラス基板からなる絶縁性基板5を載置する場
合、以下に示すような操作手順に基づいて、この絶縁性
基板5の吸着固定が行われる。
When an insulating substrate 5 made of a plastic substrate or a thin glass substrate having a thickness of 0.7 mm or less is placed on the alignment film printing apparatus having the stage 1 as described above, the following operation procedure is used. , The insulating substrate 5 is fixed by suction.

【0082】まず、複数の絶縁性基板5が収納されたカ
セット内において、位置決めピン等によって絶縁性基板
5を位置決めした後、搬送アーム等によってステージ1
から突き出したリフトピン(図示せず)上に絶縁性基板
5を載置する。
First, in a cassette in which a plurality of insulating substrates 5 are stored, the insulating substrates 5 are positioned by positioning pins or the like, and then the stage 1 is moved by a transfer arm or the like.
The insulating substrate 5 is placed on lift pins (not shown) protruding from the substrate.

【0083】そして、リフトピンを下降させて絶縁性基
板5をステージ1上に載置すると同時に、予め作動して
いるブロワ16の弁15をONにして、第2の吸着口3
を通して吸着力を絶縁性基板5に作用させる。
Then, the lift pins are lowered to place the insulating substrate 5 on the stage 1, and at the same time, the valve 15 of the blower 16, which is operating in advance, is turned on, and the second suction port 3 is turned on.
To cause the suction force to act on the insulating substrate 5.

【0084】これにより、絶縁性基板5とステージ1と
の間にある空気がすばやく吸引されて、静電気の発生を
抑制することができる。また、絶縁性基板5が変形して
いても、ブロワ16の強力な吸着力によって絶縁性基板
5の外周部近傍を囲むように吸着固定される。
As a result, the air between the insulating substrate 5 and the stage 1 is quickly sucked, and the generation of static electricity can be suppressed. Further, even if the insulating substrate 5 is deformed, it is suction-fixed so as to surround the vicinity of the outer peripheral portion of the insulating substrate 5 by the strong suction force of the blower 16.

【0085】次に、真空ポンプ10および切換弁9を作
動させて、第1の吸着口2の第1の領域2aを通して吸
着力を絶縁性基板5の中央部に作用させる。次いで、切
換弁9を作動させて、第1の領域2aおよび第2の領域
2bを通して吸着力を絶縁性基板5の中央部に作用させ
る。さらに、切換弁9を作動させて、第1の領域2a、
第2の領域2bおよび第3の領域2cを通して吸着力を
絶縁性基板5の中央部のほぼ全領域に作用させる。
Next, the vacuum pump 10 and the switching valve 9 are operated to apply a suction force to the central portion of the insulating substrate 5 through the first area 2a of the first suction port 2. Next, the switching valve 9 is operated to apply the suction force to the central portion of the insulating substrate 5 through the first region 2a and the second region 2b. Further, by operating the switching valve 9, the first region 2a,
Through the second region 2b and the third region 2c, the suction force is applied to almost the entire central region of the insulating substrate 5.

【0086】ここで、真空ポンプ10による吸着力を第
1の吸着口2を通して絶縁性基板5に作用させる時に
は、既に絶縁性基板5の外周部近傍を囲むように吸着固
定されているので、絶縁性基板5とステージ1との間に
ある空気の逃げ道が無いので、絶縁性基板5が変形して
いても、真空吸着方式でも確実に吸着固定することがで
きる。したがって、後の各種処理の最中に絶縁性基板5
の位置がずれたり、吸着固定がはずれたりすることがな
い。
Here, when the suction force of the vacuum pump 10 is applied to the insulating substrate 5 through the first suction port 2, the insulating substrate 5 is already suction-fixed so as to surround the periphery of the insulating substrate 5. Since there is no escape route of air between the conductive substrate 5 and the stage 1, even if the insulating substrate 5 is deformed, it can be surely fixed by suction even in the vacuum suction method. Therefore, the insulating substrate 5 may be used during various subsequent processes.
Is not displaced or the suction fixation is not displaced.

【0087】また、第1の吸着口2からの吸着力を、最
初に第1の領域2a、次に第2の領域2b、最後に第3
の領域2cを通して順次作用させることにより、絶縁性
基板5に変形のある場合、その変形を非吸着領域に逃が
しながら吸着部は変形を残さずに平滑に吸着することが
できる。
Further, the suction force from the first suction port 2 is first measured in the first area 2a, then in the second area 2b, and finally in the third area 2b.
In the case where the insulating substrate 5 is deformed, it is possible to smoothly adsorb the insulating substrate 5 without leaving any deformation while releasing the deformation to the non-adsorbing region.

【0088】このようにして、絶縁性基板5の変形が順
次非吸着領域に移り、最後に外周部近傍に集められ、こ
のタイミングでブロワ16の弁15をOFFにして、第
2の吸着口3からの外周部近傍に作用する吸着力を解除
することによって、変形が解消される。
In this manner, the deformation of the insulating substrate 5 is sequentially transferred to the non-suction area, and finally collected near the outer peripheral portion. At this timing, the valve 15 of the blower 16 is turned off, and the second suction port 3 is turned off. The deformation is eliminated by releasing the suction force acting on the vicinity of the outer peripheral portion from.

【0089】このとき、第2の吸着口3からの吸着力を
解除したのち、切換弁9を作動させて、真空ポンプ10
による吸着力を第3の吸着口4を通して絶縁性基板5に
作用させることが好ましい。
At this time, after the suction force from the second suction port 3 is released, the switching valve 9 is operated, and the vacuum pump 10
Is preferably applied to the insulating substrate 5 through the third suction port 4.

【0090】ここで、第3の吸着口4の設けられている
位置は、前述した通り、印刷ローラに設置された凸版が
最初に絶縁性基板5に接触し、印刷を開始する位置に対
応させておけば、最も真空破壊が起きやすい箇所を強固
に吸着固定することとなり、印刷中に真空破壊が起こる
ことはない。
Here, the position where the third suction port 4 is provided corresponds to the position where the relief plate installed on the printing roller first contacts the insulating substrate 5 and starts printing, as described above. If this is done, the location where vacuum breakage is most likely to occur will be firmly fixed by suction, and vacuum breakage will not occur during printing.

【0091】このように、絶縁性基板5を吸着固定した
後、CCDカメラ等を用いて絶縁性基板5上に予め形成
されているアライメントマークを利用し、高精度の位置
合わせを行う。
As described above, after the insulating substrate 5 is suction-fixed, high-precision positioning is performed by using an alignment mark formed on the insulating substrate 5 using a CCD camera or the like.

【0092】次に、ステージ1が配向膜印刷をするため
に印刷処理位置まで移動するが、その際、ステージ1の
移動に連動して、ブロワ部はその配管を第1の脱着部と
第2の脱着部との間で切り離す。
Next, the stage 1 moves to the print processing position for printing the alignment film. At this time, in conjunction with the movement of the stage 1, the blower unit connects the pipe to the first detachable unit and the second detachable unit. And detaching it.

【0093】ここで、第2の吸着口3からの吸着力は解
除されているが、絶縁性基板5は既に平坦状態でステー
ジ1に吸着固定されているので、第1の吸着口2および
第3の吸着口4を通して作用する吸着力だけで十分であ
り、処理の途中で吸着固定がはずれることはない。
Here, the suction force from the second suction port 3 has been released, but since the insulating substrate 5 has already been suction-fixed to the stage 1 in a flat state, the first suction port 2 and the second suction port are not fixed. The suction force acting through the suction port 4 of the nozzle 3 alone is sufficient, and the suction fixation does not come off during the treatment.

【0094】次に、絶縁性基板5に配向膜が印刷される
と、ステージ1はそれ自身が搬送機構となり、次工程に
絶縁性基板5を搬出する位置まで移動する。そして、切
換弁9を作動させて第1の吸着口2および第3の吸着口
4を通して絶縁性基板5に作用していた吸着力を解除
し、この装置から絶縁性基板5を次工程へ搬出する。
Next, when the alignment film is printed on the insulating substrate 5, the stage 1 itself becomes a transport mechanism, and moves to a position where the insulating substrate 5 is unloaded to the next step. Then, the switching valve 9 is operated to release the suction force acting on the insulating substrate 5 through the first suction port 2 and the third suction port 4, and the insulating substrate 5 is carried out from this apparatus to the next step. I do.

【0095】ここで、真空ポンプ部の配管は、伸縮性の
ある第1の連通路6、第2の連通路7、第3の連通路8
および第4の連通路11が伸縮することによってステー
ジ1の移動に連動している。
Here, the piping of the vacuum pump section is connected to the first communication passage 6, the second communication passage 7, and the third communication passage 8 which are stretchable.
The expansion and contraction of the fourth communication path 11 is linked to the movement of the stage 1.

【0096】尚、本実施の形態においては、配向膜印刷
装置について説明したが、レジスト塗布装置、露光装
置、スペーサー散布装置、シール印刷装置並びにこれら
の装置の投入および払い出し等の搬送機構に本発明を用
いても、同様の効果を得ることができる。
In the present embodiment, the alignment film printing apparatus has been described. However, the present invention is applied to a resist coating apparatus, an exposure apparatus, a spacer spraying apparatus, a seal printing apparatus, and a transport mechanism for loading and unloading these apparatuses. The same effect can be obtained by using.

【0097】[0097]

【発明の効果】以上の説明のように、本発明の液晶表示
素子の製造方法によれば、絶縁性基板の中央部を吸着固
定する第1の吸着口と、第1の吸着口の周囲を囲むよう
に絶縁性基板の外周部近傍を吸着固定する第2の吸着口
とによって絶縁性基板に吸着力を作用させることによ
り、変形を生じやすい絶縁性基板においても、絶縁性基
板の中央部を確実に吸着固定することができ、後の各種
処理の最中に絶縁性基板の位置がずれたり、吸着固定が
はずれたりすることがない。
As described above, according to the liquid crystal display element manufacturing method of the present invention, the first suction port for suction-fixing the central portion of the insulating substrate and the periphery of the first suction port are formed. By applying a suction force to the insulating substrate by the second suction port for suction-fixing the vicinity of the outer peripheral portion of the insulating substrate so as to surround the insulating substrate, even in the case of an insulating substrate that is easily deformed, the center of the insulating substrate can be removed. It is possible to surely fix by suction, and there is no possibility that the position of the insulating substrate is shifted or the suction and fixation is not shifted during various subsequent processes.

【0098】さらに、第2の吸着口はブロワによって吸
着力を作用させることにより、静電気が発生する前に流
量の大きいブロワによる吸着方式で空気を吸引するた
め、静電気の発生量を著しく少なくすることができ、吸
着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができ
る。また、絶縁性基板を載置台上に載置したときに、絶
縁性基板の変形によって吸着口の一部が絶縁性基板で塞
がれていなくても真空破壊は生じることがなく、吸着が
途切れることはない。
Further, since the suction force is applied to the second suction port by the blower, the air is sucked by the suction method using the blower having a large flow rate before the static electricity is generated. Therefore, it is possible to prevent the displacement of the insulating substrate during the suction fixing. In addition, when the insulating substrate is placed on the mounting table, the vacuum is not broken even if a part of the suction port is not closed by the insulating substrate due to the deformation of the insulating substrate, and the suction is interrupted. Never.

【0099】さらに、第2の吸着口から吸着力を作用さ
せた後、第1の吸着口から吸着力を作用させることによ
り、絶縁性基板と載置台との間にある空気を効率良く、
最も短時間で吸引することができるとともに、空気の流
動時間が短い分だけ静電気の発生量を少なくすることが
でき、吸着固定時の絶縁性基板の位置ずれをさらに防止
することができる。
Further, by applying the suction force from the second suction port and then applying the suction force from the first suction port, the air between the insulating substrate and the mounting table can be efficiently removed.
The suction can be performed in the shortest time, and the amount of generated static electricity can be reduced by the short flow time of the air, so that the displacement of the insulating substrate at the time of suction fixing can be further prevented.

【0100】さらに、第1の吸着口を少なくとも2つの
領域に分割し、この領域毎に時間差を設けて絶縁性基板
に吸着力を作用させることにより、絶縁性基板が変形し
ていたとしても、変形が外周部に集められるので、絶縁
性基板の中央部を平滑な状態で載置台に吸着固定するこ
とができる。
Further, even if the insulating substrate is deformed by dividing the first suction port into at least two regions and providing a time difference for each region to apply the suction force to the insulating substrate, Since the deformation is collected on the outer peripheral portion, the central portion of the insulating substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state.

【0101】さらに、第1の吸着口から吸着力を作用さ
せた後、第2の吸着口からの吸着力を解除し、各種の処
理を施すことにより、外周部に集められた変形もほぼ解
消され、絶縁性基板を平滑な状態で載置台に吸着固定す
ることができる。
Further, after the suction force is applied from the first suction port, the suction force from the second suction port is released, and various treatments are performed to substantially eliminate the deformation collected on the outer peripheral portion. Thus, the insulating substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state.

【0102】さらに、第2の吸着口の外側に絶縁性基板
の端部を吸着固定する第3の吸着口を設けることによ
り、絶縁性基板の端部に変形が残っていたとしても、絶
縁性基板の端部まで平滑な状態で載置台に吸着固定する
ことができる。
Further, by providing a third suction port for adsorbing and fixing the end of the insulating substrate outside the second suction port, even if the end of the insulating substrate remains deformed, the insulating property is maintained. The substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state up to the end of the substrate.

【0103】さらに、配向膜印刷時には、第3の吸着口
は、印刷ローラに設置された凸版が最初に絶縁性基板に
接触する位置に対応させて設けることにより、最も真空
破壊が起きやすい箇所を強固に吸着固定することとな
り、印刷中に真空破壊が起こることがない。
Further, at the time of printing the alignment film, the third suction port is provided so as to correspond to the position where the relief plate provided on the printing roller first comes into contact with the insulating substrate, so that a portion where vacuum breakdown is most likely to occur is formed. It is firmly fixed by adsorption, so that vacuum breakage does not occur during printing.

【0104】さらに、第2の吸着口から吸着力を作用さ
せ、第1の吸着口から吸着力を作用させた後、第2の吸
着口からの吸着力を解除し、第3の吸着口から吸着力を
作用させて各種の処理を施すことにより、絶縁性基板の
変形を外周部に集めて解消し、絶縁性基板の端部まで平
滑な状態で載置台に吸着固定することができる。
Further, after the suction force is applied from the second suction port and the suction force is applied from the first suction port, the suction force from the second suction port is released, and the suction force is applied from the third suction port. By performing various kinds of processing by applying the suction force, the deformation of the insulating substrate is collected at the outer peripheral portion and eliminated, and the insulating substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state to the end portion.

【0105】さらに、絶縁性基板がプラスチックであっ
ても、載置台への吸着固定時の位置ずれを防止すること
ができる。
Further, even if the insulating substrate is made of plastic, it is possible to prevent the displacement during the suction fixing to the mounting table.

【0106】また、絶縁性基板が厚さ0.7mm以下の
ガラスであっても、載置台への吸着固定時の位置ずれを
防止することができる。
Further, even if the insulating substrate is made of glass having a thickness of 0.7 mm or less, it is possible to prevent the displacement during the suction fixing to the mounting table.

【0107】本発明の液晶表示素子製造装置によれば、
絶縁性基板の中央部を吸着固定する第1の吸着口と、第
1の吸着口の周囲を囲むように絶縁性基板の外周部近傍
を吸着固定する第2の吸着口とを備えることにより、変
形を生じやすい絶縁性基板においても、絶縁性基板の中
央部を確実に吸着固定することができ、後の各種処理の
最中に絶縁性基板の位置がずれたり、吸着固定がはずれ
たりすることがない。
According to the liquid crystal display device manufacturing apparatus of the present invention,
By providing a first suction port for suction-fixing the central portion of the insulating substrate, and a second suction port for suction-fixing the vicinity of the outer peripheral portion of the insulating substrate so as to surround the periphery of the first suction port, Even in the case of an insulating substrate that is easily deformed, the central part of the insulating substrate can be securely fixed by suction, and the position of the insulating substrate shifts during the various subsequent processes, or the suction fixing is lost. There is no.

【0108】さらに、第2の吸着口はブロワによって吸
着力を作用させることにより、静電気が発生する前に流
量の大きいブロワによる吸着方式で空気を吸引するた
め、静電気の発生量を著しく少なくすることができ、吸
着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができ
る。また、絶縁性基板を載置台上に載置したときに、絶
縁性基板の変形によって吸着口の一部が絶縁性基板で塞
がれていなくても真空破壊は生じることがなく、吸着が
途切れることはない。
Further, since the suction force is applied to the second suction port by the blower, air is suctioned by a suction method using a blower having a large flow rate before static electricity is generated. Therefore, the amount of generated static electricity is significantly reduced. Therefore, it is possible to prevent the displacement of the insulating substrate during the suction fixing. In addition, when the insulating substrate is placed on the mounting table, the vacuum is not broken even if a part of the suction port is not closed by the insulating substrate due to the deformation of the insulating substrate, and the suction is interrupted. Never.

【0109】さらに、ブロワから第2の吸着口までの配
管が脱着機構を備えることにより、吸着固定後の処理時
に載置台が移動することを考慮して長距離にわたって配
管する必要がない。
Furthermore, since the piping from the blower to the second suction port is provided with a desorption mechanism, it is not necessary to perform piping over a long distance in consideration of the fact that the mounting table moves during processing after suction and fixing.

【0110】さらに、第1の吸着口は少なくとも2つの
領域に分割され、この領域毎に時間差を設けて絶縁性基
板に吸着力を作用させられることにより、絶縁性基板が
変形していたとしても、変形が外周部に集められるの
で、絶縁性基板の中央部を平滑な状態で載置台に吸着固
定することができる。
Further, the first suction port is divided into at least two regions, and a time difference is provided for each of the regions to apply a suction force to the insulating substrate, so that even if the insulating substrate is deformed. Since the deformation is collected on the outer peripheral portion, the central portion of the insulating substrate can be fixed by suction to the mounting table in a smooth state.

【0111】さらに、第1の吸着口および第2の吸着口
は、それぞれ独立して吸着力を制御できることにより、
外周部に集められた変形もほぼ解消され、絶縁性基板を
平滑な状態で載置台に吸着固定することができる。
Further, since the first suction port and the second suction port can independently control the suction force,
Deformation collected on the outer peripheral portion is almost eliminated, and the insulating substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state.

【0112】さらに、第2の吸着口の外側に絶縁性基板
の端部を吸着固定する第3の吸着口を備えることによ
り、絶縁性基板の端部に変形が残っていたとしても、絶
縁性基板の端部まで平滑な状態で載置台に吸着固定する
ことができる。
Further, by providing a third suction port on the outside of the second suction port for suction-fixing the end of the insulating substrate, even if the end of the insulating substrate remains deformed, the insulating property is maintained. The substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state up to the end of the substrate.

【0113】さらに、配向膜印刷装置の場合、第3の吸
着口は、印刷ローラに設置された凸版が最初に絶縁性基
板に接触する位置に対応させて設けられていることによ
り、最も真空破壊が起きやすい箇所を強固に吸着固定す
ることとなり、印刷中に真空破壊が起こることがない。
Further, in the case of the alignment film printing apparatus, the third suction port is provided in correspondence with the position where the relief plate provided on the printing roller first comes into contact with the insulating substrate, so that the most vacuum breaking is performed. Thus, a portion where the ink is likely to occur is firmly fixed by suction, and no vacuum break occurs during printing.

【0114】さらに、第1の吸着口、第2の吸着口およ
び第3の吸着口は、それぞれ独立して吸着力を制御でき
ることにより、絶縁性基板の変形を外周部に集めて解消
し、絶縁性基板の端部まで平滑な状態で載置台に吸着固
定することができる。
Further, since the first suction port, the second suction port, and the third suction port can independently control the suction force, the deformation of the insulating substrate is collected at the outer peripheral portion to be eliminated, and The substrate can be suction-fixed to the mounting table in a smooth state up to the end of the flexible substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施の形態に係わるステージと絶縁性基板とを
示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a stage and an insulating substrate according to an embodiment.

【図2】ブロワの配管が接続されている状態でのステー
ジと絶縁性基板とを示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a stage and an insulating substrate in a state where piping of a blower is connected.

【図3】ブロワの配管が切り離されている状態でのステ
ージと絶縁性基板とを示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a stage and an insulating substrate in a state where a pipe of a blower is cut off.

【図4】従来のステージとこのステージ上に載置される
ガラス基板とを示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a conventional stage and a glass substrate mounted on the stage.

【図5】従来のステージとこのステージ上に載置される
ガラス基板とを示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a conventional stage and a glass substrate mounted on the stage.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ステージ(載置台) 2 第1の吸着口 2a 第1の領域 2b 第2の領域 2c 第3の領域 3 第2の吸着口 4 第3の吸着口 5 絶縁性基板 6 第1の連通路 7 第2の連通路 8 第3の連通路 9 切換弁 10 真空ポンプ 11 第4の連通路 12 第5の連通路 13 第1の脱着部 14 第2の脱着部 15 弁 16 ブロワ 51 ガラス基板 52 載置台(ステージ) 53 吸着口 54 連通路 55 真空ポンプ Reference Signs List 1 stage (mounting table) 2 first suction port 2a first area 2b second area 2c third area 3 second suction port 4 third suction port 5 insulating substrate 6 first communication path 7 Second communication path 8 Third communication path 9 Switching valve 10 Vacuum pump 11 Fourth communication path 12 Fifth communication path 13 First detachable part 14 Second detachable part 15 Valve 16 Blower 51 Glass substrate 52 Mounting Mounting table (stage) 53 Suction port 54 Communication path 55 Vacuum pump

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐桑 徹 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 岩本 誠 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 2H088 FA02 FA03 FA17 FA30 HA01 HA03 MA20 2H090 HC06 HC18 JB02 MB02  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Toru Sakuwa 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka Inside (72) Inventor Makoto Iwamoto 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka F-term (for reference) 2H088 FA02 FA03 FA17 FA30 HA01 HA03 MA20 2H090 HC06 HC18 JB02 MB02

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の吸着口が開口する平坦な載置面を
有する載置台上に、前記吸着口を通して吸着力を作用さ
せて絶縁性基板を固定し、前記絶縁性基板に各種の処理
を施す液晶表示素子の製造方法において、 前記絶縁性基板の中央部を吸着固定する第1の吸着口
と、前記第1の吸着口の周囲を囲むように前記絶縁性基
板の外周部近傍を吸着固定する第2の吸着口と、によっ
て前記絶縁性基板に吸着力を作用させ、前記絶縁性基板
を固定して各種の処理を施すことを特徴とする液晶表示
素子の製造方法。
An insulating substrate is fixed on a mounting table having a flat mounting surface on which a plurality of suction ports are opened by applying suction force through the suction ports, and various processes are performed on the insulating substrate. In the method of manufacturing a liquid crystal display element to be performed, a first suction port for suction-fixing a central portion of the insulating substrate, and a suction portion near an outer peripheral portion of the insulating substrate so as to surround the periphery of the first suction port. A method for producing a liquid crystal display element, wherein a suction force is applied to the insulating substrate by the second suction port to perform various processes while fixing the insulating substrate.
【請求項2】 前記第2の吸着口は、ブロワによって吸
着力を作用させることを特徴とする請求項1記載の液晶
表示素子の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the second suction port exerts a suction force by a blower.
【請求項3】 前記第2の吸着口から吸着力を作用させ
た後、前記第1の吸着口から吸着力を作用させることを
特徴とする請求項1または請求項2記載の液晶表示素子
の製造方法。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein after the suction force is applied from the second suction port, the suction force is applied from the first suction port. Production method.
【請求項4】 前記第1の吸着口を少なくとも2つの領
域に分割し、前記領域毎に時間差を設けて前記絶縁性基
板に吸着力を作用させることを特徴とする請求項3記載
の液晶表示素子の製造方法。
4. The liquid crystal display according to claim 3, wherein the first suction port is divided into at least two regions, and a time difference is provided for each of the regions to apply a suction force to the insulating substrate. Device manufacturing method.
【請求項5】 前記第1の吸着口から吸着力を作用させ
た後、前記第2の吸着口からの吸着力を解除し、各種の
処理を施すことを特徴とする請求項3または請求項4記
載の液晶表示素子の製造方法。
5. The method according to claim 3, wherein after applying the suction force from the first suction port, the suction force from the second suction port is released and various processes are performed. 5. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to item 4.
【請求項6】 前記第2の吸着口の外側に前記絶縁性基
板の端部を吸着固定する第3の吸着口を設けることを特
徴とする請求項1乃至請求項5記載の液晶表示素子の製
造方法。
6. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a third suction port provided outside the second suction port for suction-fixing an end of the insulating substrate. Production method.
【請求項7】 配向膜印刷時には、前記第3の吸着口
は、印刷ローラに設置された凸版が最初に前記絶縁性基
板に接触する位置に対応させて設けることを特徴とする
請求項6記載の液晶表示素子の製造方法。
7. The printing apparatus according to claim 6, wherein the third suction port is provided in correspondence with a position where a relief plate provided on a printing roller first contacts the insulating substrate when the alignment film is printed. Method for manufacturing a liquid crystal display element.
【請求項8】 前記第2の吸着口から吸着力を作用さ
せ、前記第1の吸着口から吸着力を作用させた後、前記
第2の吸着口からの吸着力を解除し、前記第3の吸着口
から吸着力を作用させて、各種の処理を施すことを特徴
とする請求項6または請求項7記載の液晶表示素子の製
造方法。
8. After the suction force is applied from the second suction port and the suction force is applied from the first suction port, the suction force from the second suction port is released and the third suction port is released. 8. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein various treatments are performed by applying an attraction force from the attraction port.
【請求項9】 前記絶縁性基板はプラスチックであるこ
とを特徴とする請求項1乃至請求項8記載の液晶表示素
子の製造方法。
9. The method according to claim 1, wherein the insulating substrate is made of plastic.
【請求項10】 前記絶縁性基板は厚さ0.7mm以下
のガラスであることを特徴とする請求項1乃至請求項8
記載の液晶表示素子の製造方法。
10. The apparatus according to claim 1, wherein the insulating substrate is made of glass having a thickness of 0.7 mm or less.
The manufacturing method of the liquid crystal display element described in.
【請求項11】 絶縁性基板を載置する平坦な載置面を
有する載置台と、前記載置面に設けられた複数の吸着口
とを有し、前記吸着口を通して吸着力を作用させて前記
絶縁性基板を固定し、前記絶縁性基板に各種の処理を施
す液晶表示素子製造装置において、 前記絶縁性基板の中央部を吸着固定する第1の吸着口
と、前記第1の吸着口の周囲を囲むように前記絶縁性基
板の外周部近傍を吸着固定する第2の吸着口とを備える
ことを特徴とする液晶表示素子製造装置。
11. A mounting table having a flat mounting surface on which an insulating substrate is mounted, and a plurality of suction ports provided on the mounting surface, wherein suction force is applied through the suction port. In a liquid crystal display element manufacturing apparatus for fixing the insulating substrate and performing various processes on the insulating substrate, a first suction port for suction-fixing a central portion of the insulating substrate, A second suction port for adsorbing and fixing the periphery of the insulating substrate so as to surround the periphery thereof.
【請求項12】 前記第2の吸着口は、ブロワによって
吸着力を作用させることを特徴とする請求項11記載の
液晶表示素子製造装置。
12. The liquid crystal display device manufacturing apparatus according to claim 11, wherein the second suction port exerts a suction force by a blower.
【請求項13】 前記ブロワから前記第2の吸着口まで
の配管は、脱着機構を備えることを特徴とする請求項1
2記載の液晶表示素子製造装置。
13. The piping from the blower to the second suction port is provided with a desorption mechanism.
3. The liquid crystal display element manufacturing apparatus according to 2.
【請求項14】 前記第1の吸着口は少なくとも2つの
領域に分割され、前記領域毎に時間差を設けて前記絶縁
性基板に吸着力を作用させられることを特徴とする請求
項11乃至請求項13記載の液晶表示素子製造装置。
14. The suction port according to claim 11, wherein the first suction port is divided into at least two regions, and a time difference is provided for each of the regions to apply a suction force to the insulating substrate. 14. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to item 13.
【請求項15】 前記第1の吸着口および前記第2の吸
着口は、それぞれ独立して吸着力を制御できることを特
徴とする請求項11乃至請求項14記載の液晶表示素子
製造装置。
15. The liquid crystal display device manufacturing apparatus according to claim 11, wherein the first suction port and the second suction port can independently control a suction force.
【請求項16】 前記第2の吸着口の外側に前記絶縁性
基板の端部を吸着固定する第3の吸着口を備えることを
特徴とする請求項11乃至請求項15記載の液晶表示素
子製造装置。
16. The liquid crystal display device according to claim 11, further comprising a third suction port provided outside the second suction port for suction-fixing an end of the insulating substrate. apparatus.
【請求項17】 配向膜印刷装置の場合、前記第3の吸
着口は、印刷ローラに設置された凸版が最初に前記絶縁
性基板に接触する位置に対応させて設けられていること
を特徴とする請求項16記載の液晶表示素子製造装置。
17. In the case of an alignment film printing apparatus, the third suction port is provided so as to correspond to a position where a relief plate installed on a printing roller first contacts the insulating substrate. The liquid crystal display element manufacturing apparatus according to claim 16, wherein
【請求項18】 前記第1の吸着口、前記第2の吸着口
および前記第3の吸着口は、それぞれ独立して吸着力を
制御できることを特徴とする請求項16または請求項1
7記載の液晶表示素子製造装置。
18. The suction port according to claim 16, wherein the first suction port, the second suction port, and the third suction port can independently control a suction force.
8. The liquid crystal display element manufacturing apparatus according to 7.
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