JP2000007928A - 新規なシアンカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するハロゲン化銀写真感光材料、及び該カプラーの発色色素 - Google Patents
新規なシアンカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するハロゲン化銀写真感光材料、及び該カプラーの発色色素Info
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- JP2000007928A JP2000007928A JP19243098A JP19243098A JP2000007928A JP 2000007928 A JP2000007928 A JP 2000007928A JP 19243098 A JP19243098 A JP 19243098A JP 19243098 A JP19243098 A JP 19243098A JP 2000007928 A JP2000007928 A JP 2000007928A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 第一には、ヒドラジン型発色現像主薬を使用
した際、形成される色素画像の色相が良好なシアンカプ
ラーを含有するハロゲン化銀写真感光材料特にはハロゲ
ン化銀カラー写真感光材料及び発色色素を提供するこ
と、第二には、発色性の良好なハロゲン化銀写真感光材
料特にはハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供するこ
と、第三には、形成される色素画像の保存性が改良され
たハロゲン化銀写真感光材料特にはハロゲン化銀カラー
写真感光材料を提供することである。 【解決手段】 2−位にオキザリル基を持ち、5−位に
下記一般式(1)で表される基を持つ1−ナフトールカ
プラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。iは1
又は2を表す。R1は水素原子又は一価の置換基を表
し、iが2のとき二つのR1は同じでも異なっていても
よい。〕
した際、形成される色素画像の色相が良好なシアンカプ
ラーを含有するハロゲン化銀写真感光材料特にはハロゲ
ン化銀カラー写真感光材料及び発色色素を提供するこ
と、第二には、発色性の良好なハロゲン化銀写真感光材
料特にはハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供するこ
と、第三には、形成される色素画像の保存性が改良され
たハロゲン化銀写真感光材料特にはハロゲン化銀カラー
写真感光材料を提供することである。 【解決手段】 2−位にオキザリル基を持ち、5−位に
下記一般式(1)で表される基を持つ1−ナフトールカ
プラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。iは1
又は2を表す。R1は水素原子又は一価の置換基を表
し、iが2のとき二つのR1は同じでも異なっていても
よい。〕
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なシアン色素形
成カプラー(以下、シアンカプラーともいう)及びヒド
ラジン型発色現像主薬を含有するハロゲン化銀写真感光
材料特にはハロゲン化銀カラー写真感光材料、及び該カ
プラーから誘導される発色色素に関するものであり、詳
しくは新規な1−ナフトール系シアンカプラー及びヒド
ラジン型発色現像主薬を含有するハロゲン化銀写真感光
材料特にはハロゲン化銀カラー写真感光材料、及び該カ
プラーから誘導される発色色素に関するものである。
成カプラー(以下、シアンカプラーともいう)及びヒド
ラジン型発色現像主薬を含有するハロゲン化銀写真感光
材料特にはハロゲン化銀カラー写真感光材料、及び該カ
プラーから誘導される発色色素に関するものであり、詳
しくは新規な1−ナフトール系シアンカプラー及びヒド
ラジン型発色現像主薬を含有するハロゲン化銀写真感光
材料特にはハロゲン化銀カラー写真感光材料、及び該カ
プラーから誘導される発色色素に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀カラー写真感光材料を露光
後、発色現像処理することにより、パラフェニレンジア
ミン系発色現像主薬とカプラーとが反応し色素が形成さ
れ、それにより色画像が形成される。
後、発色現像処理することにより、パラフェニレンジア
ミン系発色現像主薬とカプラーとが反応し色素が形成さ
れ、それにより色画像が形成される。
【0003】一般にこの写真方法においては減色法によ
る色再現法が使われ、イエロー、マゼンタ、シアンの色
画像が形成される。
る色再現法が使われ、イエロー、マゼンタ、シアンの色
画像が形成される。
【0004】発色現像は、露光されたハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料をp−フェニレンジアミン誘導体を溶解
したアルカリ水溶液(即ち、発色現像液)中に浸漬する
ことで達成される。しかし、アルカリ水溶液としたp−
フェニレンジアミン誘導体は不安定で経時劣化を起こし
やすく、安定した現像性能を維持するには発色現像液を
頻繁に補充する必要があるという問題がある。
ー写真感光材料をp−フェニレンジアミン誘導体を溶解
したアルカリ水溶液(即ち、発色現像液)中に浸漬する
ことで達成される。しかし、アルカリ水溶液としたp−
フェニレンジアミン誘導体は不安定で経時劣化を起こし
やすく、安定した現像性能を維持するには発色現像液を
頻繁に補充する必要があるという問題がある。
【0005】また、近年、ロンドン条約などの施行によ
り写真感光材料の処理液の海洋投棄が全面禁止となり、
写真業界にとって処理液量の削減は重要な技術課題とな
っている。
り写真感光材料の処理液の海洋投棄が全面禁止となり、
写真業界にとって処理液量の削減は重要な技術課題とな
っている。
【0006】ハロゲン化銀カラー写真感光材料に於て
は、発色現像主薬を感光材料中に内蔵することが処理液
量の削減に特に有効な手段と考えられる。
は、発色現像主薬を感光材料中に内蔵することが処理液
量の削減に特に有効な手段と考えられる。
【0007】一般的に用いられるp−フェニレンジアミ
ン系化合物を感光材料中に含有させる技術が特開昭56
−6235号、同56−54430号、同56−678
42号、特開平2−143247号などに記載されてい
るが、該化合物は感光材料中での保存性に大きな問題を
有していた。
ン系化合物を感光材料中に含有させる技術が特開昭56
−6235号、同56−54430号、同56−678
42号、特開平2−143247号などに記載されてい
るが、該化合物は感光材料中での保存性に大きな問題を
有していた。
【0008】一方、欧州特許第545,491号、同第
565,165号、同第572,054号、同第59
3,110号、特開平7−134335号、同8−22
7131号、同8−286340号にはヒドラジン型発
色現像主薬を感光材料中に内蔵する技術が知られてい
る。しかしながら、これらの主薬に共通の問題として、
これとカップリングしてシアン色素を得るためのシアン
カプラーには、十分実用に耐え得る良好な発色性と色相
を持つカプラーが得られていない、という問題があっ
た。米国特許第5,415,981号にはこれを改良す
るカプラーとしてヘテロアリールアセトニトリルカプラ
ーが開示されたが、イエロー部分の副吸収が大きく、ま
た形成される色素画像の保存性が悪い、という問題を有
していた。
565,165号、同第572,054号、同第59
3,110号、特開平7−134335号、同8−22
7131号、同8−286340号にはヒドラジン型発
色現像主薬を感光材料中に内蔵する技術が知られてい
る。しかしながら、これらの主薬に共通の問題として、
これとカップリングしてシアン色素を得るためのシアン
カプラーには、十分実用に耐え得る良好な発色性と色相
を持つカプラーが得られていない、という問題があっ
た。米国特許第5,415,981号にはこれを改良す
るカプラーとしてヘテロアリールアセトニトリルカプラ
ーが開示されたが、イエロー部分の副吸収が大きく、ま
た形成される色素画像の保存性が悪い、という問題を有
していた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
第一の目的は、ヒドラジン型発色現像主薬を使用した
際、形成される色素画像の色相が良好なシアンカプラー
を含有するハロゲン化銀写真感光材料特にはハロゲン化
銀カラー写真感光材料及び発色色素を提供することであ
る。
第一の目的は、ヒドラジン型発色現像主薬を使用した
際、形成される色素画像の色相が良好なシアンカプラー
を含有するハロゲン化銀写真感光材料特にはハロゲン化
銀カラー写真感光材料及び発色色素を提供することであ
る。
【0010】本発明の第二の目的は、発色性の良好なハ
ロゲン化銀写真感光材料特にはハロゲン化銀カラー写真
感光材料を提供することである。
ロゲン化銀写真感光材料特にはハロゲン化銀カラー写真
感光材料を提供することである。
【0011】本発明の第三の目的は、形成される色素画
像の保存性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料特に
はハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供することであ
る。
像の保存性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料特に
はハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供することであ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
構成によって達成された。
構成によって達成された。
【0013】1. 2−位にオキザリル基を持ち、5−
位に下記一般式(1)で表される基を持つ1−ナフトー
ルカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
位に下記一般式(1)で表される基を持つ1−ナフトー
ルカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0014】
【化19】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。iは1
又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、AがN
のときは2である。R1は水素原子又は一価の置換基を
表し、iが2のとき二つのR1は同じでも異なっていて
もよい。〕 2. 前記1−ナフトールカプラーが下記一般式(2)
で表される化合物であることを特徴とする1記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。
又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、AがN
のときは2である。R1は水素原子又は一価の置換基を
表し、iが2のとき二つのR1は同じでも異なっていて
もよい。〕 2. 前記1−ナフトールカプラーが下記一般式(2)
で表される化合物であることを特徴とする1記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。
【0015】
【化20】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。j1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R21は水素原子又は一価の置換基
を表し、j1が2のとき二つのR21は同じでも異なって
いてもよい。j2は0から4までの整数を表す。R22は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、j2が2以上のと
き複数のR22は同じでも異なっていてもよい。R23は一
価の基を表す。Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体と
の反応により離脱する基を表す。〕 3. 下記一般式(3)で表される1−ナフトールカプ
ラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R21は水素原子又は一価の置換基
を表し、j1が2のとき二つのR21は同じでも異なって
いてもよい。j2は0から4までの整数を表す。R22は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、j2が2以上のと
き複数のR22は同じでも異なっていてもよい。R23は一
価の基を表す。Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体と
の反応により離脱する基を表す。〕 3. 下記一般式(3)で表される1−ナフトールカプ
ラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0016】
【化21】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。k1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R31は水素原子又は一価の置換基
を表し、k1が2のとき二つのR31は同じでも異なって
いてもよい。k2は0から3までの整数を表す。R32は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、k2が2以上のと
き複数のR32は同じでも異なっていてもよい。Z3は隣
接する二つの炭素原子とともに環を形成するために必要
な原子群を表す。Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体
との反応により離脱する基を表す。〕 4. 5−位と8−位に水素結合基を持つ1−ナフトー
ルカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R31は水素原子又は一価の置換基
を表し、k1が2のとき二つのR31は同じでも異なって
いてもよい。k2は0から3までの整数を表す。R32は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、k2が2以上のと
き複数のR32は同じでも異なっていてもよい。Z3は隣
接する二つの炭素原子とともに環を形成するために必要
な原子群を表す。Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体
との反応により離脱する基を表す。〕 4. 5−位と8−位に水素結合基を持つ1−ナフトー
ルカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0017】5. 前記1−ナフトールカプラーが下記
一般式(4)で表されることを特徴とする4記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。
一般式(4)で表されることを特徴とする4記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。
【0018】
【化22】 〔式中、A及びA′はそれぞれN,S,Oの何れかの原
子を表す。l1及びl3は1又は2を表し、A,A′がS
又はOのときは1であり、A,A′がNのときは2であ
る。R41及びR43はそれぞれ水素原子又は一価の置換基
を表し、l1、l3が2のとき二つのR41は同じでも異な
っていてもよいし、二つのR43は同じでも異なっていて
もよい。l2は0から4までの整数を表す。R42はナフ
タレン環に置換可能な基を表し、l2が2以上のとき複
数のR42は同じでも異なっていてもよい。Xは水素原子
又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表
す。〕 6. 下記一般式(5)で表される1−ナフトールカプ
ラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
子を表す。l1及びl3は1又は2を表し、A,A′がS
又はOのときは1であり、A,A′がNのときは2であ
る。R41及びR43はそれぞれ水素原子又は一価の置換基
を表し、l1、l3が2のとき二つのR41は同じでも異な
っていてもよいし、二つのR43は同じでも異なっていて
もよい。l2は0から4までの整数を表す。R42はナフ
タレン環に置換可能な基を表し、l2が2以上のとき複
数のR42は同じでも異なっていてもよい。Xは水素原子
又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表
す。〕 6. 下記一般式(5)で表される1−ナフトールカプ
ラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0019】
【化23】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。m1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R51は水素原子又は一価の置換基
を表し、m1が2のとき二つのR51は同じでも異なって
いてもよい。m2は0から4までの整数を表す。R52は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、m2が2以上のと
き複数のR52は同じでも異なっていてもよい。R53は、
−NR54R55又は−OR56を表し、R54、R56は脂肪族
基、芳香族基、又はヘテロ環基を表し、R55は水素原子
又は一価の有機基を表すか、又はR55とR54とで窒素原
子とともにヘテロ環を形成する。Xは水素原子又は発色
現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表す。〕 7. 2−位にリン酸エステル基を持ち、5−位に前記
一般式(1)で表される基を持つ1−ナフトールカプラ
ー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R51は水素原子又は一価の置換基
を表し、m1が2のとき二つのR51は同じでも異なって
いてもよい。m2は0から4までの整数を表す。R52は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、m2が2以上のと
き複数のR52は同じでも異なっていてもよい。R53は、
−NR54R55又は−OR56を表し、R54、R56は脂肪族
基、芳香族基、又はヘテロ環基を表し、R55は水素原子
又は一価の有機基を表すか、又はR55とR54とで窒素原
子とともにヘテロ環を形成する。Xは水素原子又は発色
現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表す。〕 7. 2−位にリン酸エステル基を持ち、5−位に前記
一般式(1)で表される基を持つ1−ナフトールカプラ
ー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0020】8. 前記1−ナフトールカプラーが下記
一般式(6)で表される化合物であることを特徴とする
7記載のハロゲン化銀写真感光材料。
一般式(6)で表される化合物であることを特徴とする
7記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0021】
【化24】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。n1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R61は水素原子又は一価の置換基
を表し、n1が2のとき二つのR61は同じでも異なって
いてもよい。n2は0から4までの整数を表す。R62は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、n2が2以上のと
き複数のR62は同じでも異なっていてもよい。R63、R
64は、それぞれ一価の置換基を表す。Xは水素原子又は
発色現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表
す。〕 9. 下記一般式(7)で表される1−ナフトールカプ
ラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含むことを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R61は水素原子又は一価の置換基
を表し、n1が2のとき二つのR61は同じでも異なって
いてもよい。n2は0から4までの整数を表す。R62は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、n2が2以上のと
き複数のR62は同じでも異なっていてもよい。R63、R
64は、それぞれ一価の置換基を表す。Xは水素原子又は
発色現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表
す。〕 9. 下記一般式(7)で表される1−ナフトールカプ
ラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含むことを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。
【0022】
【化25】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。h1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R71は水素原子又は一価の置換基
を表し、h1が2のとき二つのR71は同じでも異なって
いてもよい。h2は0から4までの整数を表す。R72は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、h2が2以上のと
き複数のR72は同じでも異なっていてもよい。R73、R
74は、それぞれ水素原子以外の一価の基を表す。Xは水
素原子又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱する
基を表す。〕 10. 下記一般式(8)〜(10)で表されるカプラ
ーの少くとも1種及びヒドラジン型発色現像主薬を含む
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R71は水素原子又は一価の置換基
を表し、h1が2のとき二つのR71は同じでも異なって
いてもよい。h2は0から4までの整数を表す。R72は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、h2が2以上のと
き複数のR72は同じでも異なっていてもよい。R73、R
74は、それぞれ水素原子以外の一価の基を表す。Xは水
素原子又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱する
基を表す。〕 10. 下記一般式(8)〜(10)で表されるカプラ
ーの少くとも1種及びヒドラジン型発色現像主薬を含む
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0023】
【化26】 〔式中、R8、R9及びR10はそれぞれ置換基を表し、o
は0〜5の整数を表し、pは0〜3の整数を表す。o又
はpが2以上の整数のとき、複数のR8、R9、R10は同
じであっても異なっていても良い。Z8、Z9及びZ10は
それぞれ5員から7員の含窒素環を形成するのに必要な
原子群を示し、Bは水素原子又は現像処理時に加水分解
されて離脱するブロック基を表し、Xは水素原子又は発
色現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表す。〕 11. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(11)で表されるカプラーであることを特徴とす
る10記載のハロゲン化銀写真感光材料。
は0〜5の整数を表し、pは0〜3の整数を表す。o又
はpが2以上の整数のとき、複数のR8、R9、R10は同
じであっても異なっていても良い。Z8、Z9及びZ10は
それぞれ5員から7員の含窒素環を形成するのに必要な
原子群を示し、Bは水素原子又は現像処理時に加水分解
されて離脱するブロック基を表し、Xは水素原子又は発
色現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表す。〕 11. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(11)で表されるカプラーであることを特徴とす
る10記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0024】
【化27】 〔式中、R11はナフタレン環に置換可能な基を表し、q
は0又は1〜5の整数を表す。qが2以上の整数のと
き、複数のR11は同じであっても異なっていても良い。
Bは水素原子又は現像処理時に加水分解されて離脱する
ブロック基を表し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化
体との反応により離脱する基を表す。〕 12. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(12)で表されるカプラーであることを特徴とす
る10記載のハロゲン化銀写真感光材料。
は0又は1〜5の整数を表す。qが2以上の整数のと
き、複数のR11は同じであっても異なっていても良い。
Bは水素原子又は現像処理時に加水分解されて離脱する
ブロック基を表し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化
体との反応により離脱する基を表す。〕 12. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(12)で表されるカプラーであることを特徴とす
る10記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0025】
【化28】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。r1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R121は水素原子又は一価の置換
基を表し、r1が2のとき二つのR121は同じでも異なっ
ていてもよい。R122はナフタレン環に置換可能な基を
表し、r2は0〜4の整数を表す。r2が2以上の整数の
とき、複数のR122は同じであっても異なっていても良
い。Bは水素原子又は現像処理時に加水分解されて離脱
するブロック基を表し、Xは水素原子又は発色現像主薬
酸化体との反応により離脱する基を表す。〕 13. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(13−1)又は一般式(13−2)で表されるカ
プラーであることを特徴とする10記載のハロゲン化銀
写真感光材料。
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R121は水素原子又は一価の置換
基を表し、r1が2のとき二つのR121は同じでも異なっ
ていてもよい。R122はナフタレン環に置換可能な基を
表し、r2は0〜4の整数を表す。r2が2以上の整数の
とき、複数のR122は同じであっても異なっていても良
い。Bは水素原子又は現像処理時に加水分解されて離脱
するブロック基を表し、Xは水素原子又は発色現像主薬
酸化体との反応により離脱する基を表す。〕 13. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(13−1)又は一般式(13−2)で表されるカ
プラーであることを特徴とする10記載のハロゲン化銀
写真感光材料。
【0026】
【化29】 〔式中、R131はアルキル基、アリール基又はヘテロ環
基を表し、R132は置換基を表し、rは0〜4の整数を
表し、Yは−CO−、−SO2−、−CONH−、−S
O2N(R133)−又は−COO−を表し、R133は水素
原子、アルキル基又はアリール基を表し、Bは水素原子
又は現像処理時に加水分解されて離脱するブロック基を
表し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応に
より離脱する基を表す。〕 14. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(14)で表されるカプラーであることを特徴とす
る10記載のハロゲン化銀写真感光材料。
基を表し、R132は置換基を表し、rは0〜4の整数を
表し、Yは−CO−、−SO2−、−CONH−、−S
O2N(R133)−又は−COO−を表し、R133は水素
原子、アルキル基又はアリール基を表し、Bは水素原子
又は現像処理時に加水分解されて離脱するブロック基を
表し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応に
より離脱する基を表す。〕 14. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(14)で表されるカプラーであることを特徴とす
る10記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0027】
【化30】 〔式中、R142はナフタレン環に置換可能な基を表し、
sは0〜5の整数を表す。sが2以上の整数のとき、複
数のR142は同じであっても異なっていても良い。R143
は水素原子又は一価の置換基を表す。Bは水素原子又は
現像処理時に加水分解されて離脱するブロック基を表
し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応によ
り離脱する基を表す。〕 15. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(15)で表されるカプラーであることを特徴とす
る10記載のハロゲン化銀写真感光材料。
sは0〜5の整数を表す。sが2以上の整数のとき、複
数のR142は同じであっても異なっていても良い。R143
は水素原子又は一価の置換基を表す。Bは水素原子又は
現像処理時に加水分解されて離脱するブロック基を表
し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応によ
り離脱する基を表す。〕 15. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(15)で表されるカプラーであることを特徴とす
る10記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0028】
【化31】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。t1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R151は水素原子又は一価の置換
基を表し、t1が2のとき二つのR151は同じでも異なっ
ていてもよい。R152はナフタレン環に置換可能な基を
表し、t2は0〜4の整数を表す。t2が2以上の整数の
とき、複数のR152は同じであっても異なっていても良
い。R153は水素原子又は一価の置換基を表す。Bは水
素原子又は現像処理時に加水分解されて離脱するブロッ
ク基を表し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体との
反応により離脱する基を表す。〕 16. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(16−1)又は一般式(16−2)で表されるカ
プラーであることを特徴とする10記載のハロゲン化銀
写真感光材料。
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R151は水素原子又は一価の置換
基を表し、t1が2のとき二つのR151は同じでも異なっ
ていてもよい。R152はナフタレン環に置換可能な基を
表し、t2は0〜4の整数を表す。t2が2以上の整数の
とき、複数のR152は同じであっても異なっていても良
い。R153は水素原子又は一価の置換基を表す。Bは水
素原子又は現像処理時に加水分解されて離脱するブロッ
ク基を表し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体との
反応により離脱する基を表す。〕 16. 前記一般式(8)で表されるカプラーが下記一
般式(16−1)又は一般式(16−2)で表されるカ
プラーであることを特徴とする10記載のハロゲン化銀
写真感光材料。
【0029】
【化32】 〔式中、R161はアルキル基、アリール基又はヘテロ環
基を表し、R162は置換基を表し、tは0〜4の整数を
表し、Yは−CO−、−SO2−、−CONH−、−S
O2N(R164)−又は−COO−を表し、R164は水素
原子、アルキル基又はアリール基を表し、R163は水素
原子又は一価の置換基を表す。Bは水素原子又は現像処
理時に加水分解されて離脱するブロック基を表し、Xは
水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱す
る基を表す。〕 17. 下記一般式(17)又は一般式(18)で表さ
れるカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含むこと
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
基を表し、R162は置換基を表し、tは0〜4の整数を
表し、Yは−CO−、−SO2−、−CONH−、−S
O2N(R164)−又は−COO−を表し、R164は水素
原子、アルキル基又はアリール基を表し、R163は水素
原子又は一価の置換基を表す。Bは水素原子又は現像処
理時に加水分解されて離脱するブロック基を表し、Xは
水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱す
る基を表す。〕 17. 下記一般式(17)又は一般式(18)で表さ
れるカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含むこと
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0030】
【化33】 〔式中、R17及びR18は置換基を表し、uは0〜4の整
数を、vは0〜6の整数を表す。u及びvが2以上の整
数のとき、それぞれ複数のR17及びR18はそれぞれ同じ
であっても異なっていても良い。Yはハメットの置換基
定数σpが0.3以上1.5以下の置換基であり、Xは
水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱す
る基を表す。
数を、vは0〜6の整数を表す。u及びvが2以上の整
数のとき、それぞれ複数のR17及びR18はそれぞれ同じ
であっても異なっていても良い。Yはハメットの置換基
定数σpが0.3以上1.5以下の置換基であり、Xは
水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱す
る基を表す。
【0031】18. 下記一般式(19)〜(21)で
表されるカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含む
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
表されるカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含む
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0032】
【化34】 〔式中、R19、R20及びR21は置換基を表し、wは0〜
4の整数を表す。wが2以上の整数を表すとき、それぞ
れ複数のR19、R20及びR21はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良い。xは1又は2の整数を表す。X19、X20
及びX21はそれぞれ水素原子又は発色現像主薬酸化体と
の反応により離脱する基を表す。〕 19. 前記1〜18に記載のカプラーとヒドラジン型
発色現像主薬とのカップリング反応により得られる発色
色素。
4の整数を表す。wが2以上の整数を表すとき、それぞ
れ複数のR19、R20及びR21はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良い。xは1又は2の整数を表す。X19、X20
及びX21はそれぞれ水素原子又は発色現像主薬酸化体と
の反応により離脱する基を表す。〕 19. 前記1〜18に記載のカプラーとヒドラジン型
発色現像主薬とのカップリング反応により得られる発色
色素。
【0033】20. ヒドラジン型発色現像主薬が下記
一般式(22)で表される化合物であることを特徴とす
る1〜18の何れか1項に記載のハロゲン化銀写真感光
材料。
一般式(22)で表される化合物であることを特徴とす
る1〜18の何れか1項に記載のハロゲン化銀写真感光
材料。
【0034】
【化35】 〔式中、R221はアリール基又はヘテロ環基を表す。R
222はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基又はへテロ環基を表す。Lは−SO2−、−CO
−、−COCO−、−COO−、−CON(R223)
−、−COCOO−、−COCON(R223)−又は−
SO2N(R223)−の各基を表す。またR223は水素原
子若しくはR222と同義の基を表す。) 21. ヒドラジン型発色現像主薬が下記一般式(2
3)又は(24)で表される化合物であることを特徴と
する1〜18の何れか1項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
222はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基又はへテロ環基を表す。Lは−SO2−、−CO
−、−COCO−、−COO−、−CON(R223)
−、−COCOO−、−COCON(R223)−又は−
SO2N(R223)−の各基を表す。またR223は水素原
子若しくはR222と同義の基を表す。) 21. ヒドラジン型発色現像主薬が下記一般式(2
3)又は(24)で表される化合物であることを特徴と
する1〜18の何れか1項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
【0035】
【化36】 〔式中、R231、R232、R241及びR242はそれぞれ水素
原子又は置換基を表す。X1、X2、X3、X4及びX5は
それぞれ水素原子又は置換基を表す。但しX1、X3、X
5のハメットの置換基定数のσp値とX2、X4のハメット
置換基定数σm値の和は0.80以上3.80以下であ
る。R243はヘテロ環基を表す。〕 以下、本発明を詳しく説明する。
原子又は置換基を表す。X1、X2、X3、X4及びX5は
それぞれ水素原子又は置換基を表す。但しX1、X3、X
5のハメットの置換基定数のσp値とX2、X4のハメット
置換基定数σm値の和は0.80以上3.80以下であ
る。R243はヘテロ環基を表す。〕 以下、本発明を詳しく説明する。
【0036】まず、一般式(1)で表される基について
説明する。
説明する。
【0037】前記一般式(1)において、Aで表される
N,S,Oの何れかの原子としては酸素原子及び窒素原
子が好ましく、窒素原子がより好ましい。
N,S,Oの何れかの原子としては酸素原子及び窒素原
子が好ましく、窒素原子がより好ましい。
【0038】R1は水素原子又は一価の置換基を表す
が、一価の置換基の主な例としてはアルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アルコキシ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アルコキシスルホニル基、ア
リールオキシスルホニル基などが挙げられる。これらの
基は置換基を有するものも含む。
が、一価の置換基の主な例としてはアルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アルコキシ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アルコキシスルホニル基、ア
リールオキシスルホニル基などが挙げられる。これらの
基は置換基を有するものも含む。
【0039】iは1又は2を表すが、Aが酸素原子及び
硫黄原子のときは1を表し、Aが窒素原子のとき2を表
す。Aが窒素原子のとき、R1の少なくとも一つが水素
原子であることが好ましい。
硫黄原子のときは1を表し、Aが窒素原子のとき2を表
す。Aが窒素原子のとき、R1の少なくとも一つが水素
原子であることが好ましい。
【0040】最も好ましい例としては、Aが窒素原子で
あり、一方のR1が水素原子であり、他方のR1がアシル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基な
どである場合である。
あり、一方のR1が水素原子であり、他方のR1がアシル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基な
どである場合である。
【0041】次に、一般式(2)で表される化合物(1
−ナフトールカプラー)について説明する。
−ナフトールカプラー)について説明する。
【0042】前記一般式(2)において、A、R21、j
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
である。
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
である。
【0043】R22で表されるナフタレン環に置換可能な
基としては、ナフタレン環に置換可能な原子及び基なら
何でもよく、代表例として例えばハロゲン原子、ヒドロ
キシ基、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基、シア
ノ基、芳香族基、複素環基、カルボンアミド基、スルホ
ンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレ
イド基、アシル基、アシルオキシ基、脂肪族オキシ基、
芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、脂肪族
スルホニル基、芳香族スルホニル基、スルファモイルア
ミノ基、オキザリルアミノ基、ニトロ基、イミド基など
が挙げられる。R22に含まれる炭素原子の総数は0から
30であることが好ましい。
基としては、ナフタレン環に置換可能な原子及び基なら
何でもよく、代表例として例えばハロゲン原子、ヒドロ
キシ基、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基、シア
ノ基、芳香族基、複素環基、カルボンアミド基、スルホ
ンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレ
イド基、アシル基、アシルオキシ基、脂肪族オキシ基、
芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、脂肪族
スルホニル基、芳香族スルホニル基、スルファモイルア
ミノ基、オキザリルアミノ基、ニトロ基、イミド基など
が挙げられる。R22に含まれる炭素原子の総数は0から
30であることが好ましい。
【0044】j2が2以上のとき、それぞれが結合して
環を形成しても良いが、その例としてはジオキシメチレ
ン基などが挙げられる。
環を形成しても良いが、その例としてはジオキシメチレ
ン基などが挙げられる。
【0045】R23で表される一価の基としては、代表的
な例としては、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アル
キル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基、スルホン基、カルバモイル基、
スルファモイル基などが挙げられ、好ましくはアルコキ
シ基、アリールオキシ基である。
な例としては、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アル
キル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基、スルホン基、カルバモイル基、
スルファモイル基などが挙げられ、好ましくはアルコキ
シ基、アリールオキシ基である。
【0046】Xは水素原子又はカップリング離脱基を表
し、離脱基の代表例としてはハロゲン原子、脂肪族オキ
シ基、芳香族オキシ基、複素環オキシ基、脂肪族チオ
基、芳香族チオ基、ヘテロ環チオ基、アシルオキシ基、
スルフォンアミド基、芳香族アゾ基、複素環基などが挙
げられる。
し、離脱基の代表例としてはハロゲン原子、脂肪族オキ
シ基、芳香族オキシ基、複素環オキシ基、脂肪族チオ
基、芳香族チオ基、ヘテロ環チオ基、アシルオキシ基、
スルフォンアミド基、芳香族アゾ基、複素環基などが挙
げられる。
【0047】次に、一般式(3)で表される1−ナフト
ールカプラーについて説明する。
ールカプラーについて説明する。
【0048】前記一般式(3)において、A、R31、k
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
であり、R32、Xについては一般式(2)においてのR
22、Xと同義である。
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
であり、R32、Xについては一般式(2)においてのR
22、Xと同義である。
【0049】Z3で表される隣接する二つの炭素原子と
ともに環を形成するために必要な原子群としては、例え
ば、−NHCO(CH2)2−、−NHCOCH2−、−
NHCONH−、NHCOCONH−、−NHCONC
H2−などが好ましく、これらは炭素原子又は窒素原子
に置換基を有していても良い。
ともに環を形成するために必要な原子群としては、例え
ば、−NHCO(CH2)2−、−NHCOCH2−、−
NHCONH−、NHCOCONH−、−NHCONC
H2−などが好ましく、これらは炭素原子又は窒素原子
に置換基を有していても良い。
【0050】一般式(4)で表される1−ナフトールカ
プラーについて説明する。
プラーについて説明する。
【0051】前記一般式(4)において、A及びA′に
ついては一般式(1)のAと同義であり、R41、R43に
ついてはそれぞれ一般式(1)のR1と同義である。ま
た、l1、l3についてもそれぞれ一般式(1)のiと同
義である。R42、Xについては一般式(2)においての
R22、Xとそれぞれ同義であり、R42はナフトールの2
−位にアミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、
オキザリルアミノ基、リン酸アミノ基を持つことが好ま
しい。
ついては一般式(1)のAと同義であり、R41、R43に
ついてはそれぞれ一般式(1)のR1と同義である。ま
た、l1、l3についてもそれぞれ一般式(1)のiと同
義である。R42、Xについては一般式(2)においての
R22、Xとそれぞれ同義であり、R42はナフトールの2
−位にアミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、
オキザリルアミノ基、リン酸アミノ基を持つことが好ま
しい。
【0052】一般式(5)で表される1−ナフトールカ
プラーについて説明する。
プラーについて説明する。
【0053】前記一般式(5)において、A、R51、m
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
であり、R52、X、m2については一般式(2)におい
てのR22、X、j2と同義である。
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
であり、R52、X、m2については一般式(2)におい
てのR22、X、j2と同義である。
【0054】R54及びR56で表される脂肪族基として
は、直鎖、分岐、或いは環状のアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基を表し、また置換基を有していても良
い。R54及びR56で表される脂肪族基の具体例としては
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル
基、フェネチル基、メトキシエチル基、クロロエチル
基、ドデシル基、シアノエチル基などが挙げられる。R
54及びR56で表される芳香族基としては、置換基を有し
ても良いフェニル基、若しくはナフチル基などが挙げら
れる。R54及びR56で表されるヘテロ環基としては、酸
素、窒素、硫黄から選ばれた少なくとも一つのヘテロ原
子を有する、置換基を有しても良い3〜8員の飽和又は
不飽和のヘテロ環基(例えばフラン、ピロール、チオフ
ェン、ピリジン、ピリミジン、オキサゾール、チアゾー
ル、ピリジン、イミダゾール、ピロリジン、ピペリジン
などから導かれる基)が挙げられる。
は、直鎖、分岐、或いは環状のアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基を表し、また置換基を有していても良
い。R54及びR56で表される脂肪族基の具体例としては
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル
基、フェネチル基、メトキシエチル基、クロロエチル
基、ドデシル基、シアノエチル基などが挙げられる。R
54及びR56で表される芳香族基としては、置換基を有し
ても良いフェニル基、若しくはナフチル基などが挙げら
れる。R54及びR56で表されるヘテロ環基としては、酸
素、窒素、硫黄から選ばれた少なくとも一つのヘテロ原
子を有する、置換基を有しても良い3〜8員の飽和又は
不飽和のヘテロ環基(例えばフラン、ピロール、チオフ
ェン、ピリジン、ピリミジン、オキサゾール、チアゾー
ル、ピリジン、イミダゾール、ピロリジン、ピペリジン
などから導かれる基)が挙げられる。
【0055】R54及びR56は、脂肪族基及び芳香族基が
好ましく、脂肪族基が特に好ましい。
好ましく、脂肪族基が特に好ましい。
【0056】R55は水素原子又は一価の有機基を表す
が、一価の有機基としては脂肪族基、芳香族基、ヘテロ
環基、アシル基、スルホニル基等が挙げられる。R55の
脂肪族基、芳香族基及びヘテロ環基の具体例としては、
R54及びR56について上記したもの等が挙げられる。R
55で表されるアシル基としては、脂肪族、芳香族及びヘ
テロ環のアシル基が挙げられるが、好ましい例として炭
素数1〜20の脂肪族アシル基及びベンゾイル基などが
挙げられる。R55で表されるスルホニル基としては、脂
肪族、芳香族、及びヘテロ環のスルホニル基が挙げられ
るが、好ましい例として炭素数1〜20の脂肪族スルホ
ニル基及びベンゼンスルホニル基などが挙げられる。こ
れらは更に適当な置換基(例えば脂肪族基、芳香族基、
ヘテロ環基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、カルボンアミド
基、ウレイド基、アシルオキシ基、アシル基、脂肪族又
は芳香族オキシ基、脂肪族又は芳香族チオ基、スルホニ
ル基、スルファモイルアミノ基、ニトロ基、イミド基な
ど)で置換されていてもよい。
が、一価の有機基としては脂肪族基、芳香族基、ヘテロ
環基、アシル基、スルホニル基等が挙げられる。R55の
脂肪族基、芳香族基及びヘテロ環基の具体例としては、
R54及びR56について上記したもの等が挙げられる。R
55で表されるアシル基としては、脂肪族、芳香族及びヘ
テロ環のアシル基が挙げられるが、好ましい例として炭
素数1〜20の脂肪族アシル基及びベンゾイル基などが
挙げられる。R55で表されるスルホニル基としては、脂
肪族、芳香族、及びヘテロ環のスルホニル基が挙げられ
るが、好ましい例として炭素数1〜20の脂肪族スルホ
ニル基及びベンゼンスルホニル基などが挙げられる。こ
れらは更に適当な置換基(例えば脂肪族基、芳香族基、
ヘテロ環基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、カルボンアミド
基、ウレイド基、アシルオキシ基、アシル基、脂肪族又
は芳香族オキシ基、脂肪族又は芳香族チオ基、スルホニ
ル基、スルファモイルアミノ基、ニトロ基、イミド基な
ど)で置換されていてもよい。
【0057】R55としては、水素原子、脂肪族基及び芳
香族基が好ましく、脂肪族基、芳香族基が特に好まし
い。
香族基が好ましく、脂肪族基、芳香族基が特に好まし
い。
【0058】また、ここでR55がR54とともに形成して
も良いヘテロ環としては、例えばピペリジン、ピロリジ
ン、チアジン、モルホリン、チアジンジオキシド、ピペ
ラジン、ピロール、トリアゾールなどが挙げられる。
も良いヘテロ環としては、例えばピペリジン、ピロリジ
ン、チアジン、モルホリン、チアジンジオキシド、ピペ
ラジン、ピロール、トリアゾールなどが挙げられる。
【0059】一般式(6)で表される化合物(1−ナフ
トールカプラー)について説明する。
トールカプラー)について説明する。
【0060】前記一般式(6)において、A、R61、n
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
であり、R62、X、n2については一般式(2)におい
てのR22、X、j2と同義である。
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
であり、R62、X、n2については一般式(2)におい
てのR22、X、j2と同義である。
【0061】R63及びR64で表される一価の置換基とし
ては、代表的な例としては、水素原子、アルキル基、ア
リール基、複素環基などが挙げられ、好ましくは水素原
子、アルキル基、アリール基であり、R63とR64は同じ
でも異なっていても良い。
ては、代表的な例としては、水素原子、アルキル基、ア
リール基、複素環基などが挙げられ、好ましくは水素原
子、アルキル基、アリール基であり、R63とR64は同じ
でも異なっていても良い。
【0062】一般式(7)で表される化合物(1−ナフ
トールカプラー)について説明する。
トールカプラー)について説明する。
【0063】前記一般式(7)において、A、R71、h
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
であり、R72、X、h2については一般式(2)におい
てのR22、X、j2と同義である。
1についてはそれぞれ一般式(1)のA、R1、iと同義
であり、R72、X、h2については一般式(2)におい
てのR22、X、j2と同義である。
【0064】R73及びR74で表される水素原子以外の一
価の基としては、水素原子以外の一価の基であれば何で
も良いが、好ましくはアルキル基、アリール基などが挙
げられ、R73とR74は同じでも異なっていても良い。
価の基としては、水素原子以外の一価の基であれば何で
も良いが、好ましくはアルキル基、アリール基などが挙
げられ、R73とR74は同じでも異なっていても良い。
【0065】一般式(8)〜(10)で表されるカプラ
ーについて説明する。
ーについて説明する。
【0066】前記一般式(8)、(9)及び(10)に
おけるR8,R9及びR10の表す置換基としては、特に制
限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリ
ノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、ア
リールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙
げられるが、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニ
ル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、
ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、
シアノ、アルコキシ、スルホニルオキシ、アリールオキ
シ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモ
イルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイ
ド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミ
ノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカル
ボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオ
ウレイド、カルボキシル、ヒドロキシ、メルカプト、ニ
トロ、スルホン酸等の各基、並びにスピロ化合物残基、
有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
おけるR8,R9及びR10の表す置換基としては、特に制
限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリ
ノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、ア
リールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙
げられるが、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニ
ル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、
ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、
シアノ、アルコキシ、スルホニルオキシ、アリールオキ
シ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモ
イルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイ
ド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミ
ノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカル
ボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオ
ウレイド、カルボキシル、ヒドロキシ、メルカプト、ニ
トロ、スルホン酸等の各基、並びにスピロ化合物残基、
有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
【0067】R8,R9及びR10の表す置換基のうち、ア
ルキル基としては、炭素数1〜32のものが好ましく、
直鎖でも分岐でもよい。アリール基としては、フェニル
基が好ましい。
ルキル基としては、炭素数1〜32のものが好ましく、
直鎖でも分岐でもよい。アリール基としては、フェニル
基が好ましい。
【0068】アシルアミノ基としては、アルキルカルボ
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基等が挙げら
れる。
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基等が挙げら
れる。
【0069】スルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られる。
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られる。
【0070】アルキルチオ基、アリールチオ基における
アルキル成分、アリール成分としては上記のアルキル
基、アリール基が挙げられる。
アルキル成分、アリール成分としては上記のアルキル
基、アリール基が挙げられる。
【0071】アルケニル基としては、炭素数2〜32の
もの、シクロアルキル基としては炭素数3〜12、特に
5〜7のものが好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
もの、シクロアルキル基としては炭素数3〜12、特に
5〜7のものが好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
【0072】シクロアルケニル基としては、炭素数3〜
12、特に5〜7のものが好ましい。
12、特に5〜7のものが好ましい。
【0073】スルホニル基としてはアルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基等;スルフィニル基としては
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等;
ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等;アシル基としてはアルキルカルボニ
ル基、アリールカルボニル基等;カルバモイル基として
はアルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基
等;スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル
基、アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基とし
てはアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニル
オキシ基等;カルバモイルオキシ基としてはアルキルカ
ルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基
等;ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリール
ウレイド基等;スルファモイルアミノ基としてはアルキ
ルスルファモイルアミノ基、アリールスルファモイルア
ミノ基等;複素環基としては5〜7員のものが好まし
く、具体的には2−フリル基、2−チエニル基、2−ピ
ペリジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリル
基、1−テトラゾリル基等;複素環オキシ基としては5
〜7員の複素環を有するものが好ましく、例えば3,
4,5,6−テトラヒドロピラニル−2−オキシ基、1
−フェニルテトラゾール−5−オキシ基等;複素環チオ
基としては5〜7員の複素環チオ基が好ましく、例えば
2−ピリジルチオ基、2−ベンゾチアゾリルチオ基、
2,4−ジフェノキシ−1,3,5−トリアゾール−6
−チオ基等;シロキシ基としてはトリメチルシロキシ
基、トリエチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基
等;イミド基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデ
シルコハク酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミ
ド基等;スピロ化合物残基としてはスピロ[3.3]ヘ
プタン−1−イル等;有橋炭化水素化合物残基としては
ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル、トリシク
ロ[3.3.1.13.7]デカン−1−イル、7,7−
ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル
等が挙げられる。
基、アリールスルホニル基等;スルフィニル基としては
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等;
ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等;アシル基としてはアルキルカルボニ
ル基、アリールカルボニル基等;カルバモイル基として
はアルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基
等;スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル
基、アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基とし
てはアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニル
オキシ基等;カルバモイルオキシ基としてはアルキルカ
ルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基
等;ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリール
ウレイド基等;スルファモイルアミノ基としてはアルキ
ルスルファモイルアミノ基、アリールスルファモイルア
ミノ基等;複素環基としては5〜7員のものが好まし
く、具体的には2−フリル基、2−チエニル基、2−ピ
ペリジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリル
基、1−テトラゾリル基等;複素環オキシ基としては5
〜7員の複素環を有するものが好ましく、例えば3,
4,5,6−テトラヒドロピラニル−2−オキシ基、1
−フェニルテトラゾール−5−オキシ基等;複素環チオ
基としては5〜7員の複素環チオ基が好ましく、例えば
2−ピリジルチオ基、2−ベンゾチアゾリルチオ基、
2,4−ジフェノキシ−1,3,5−トリアゾール−6
−チオ基等;シロキシ基としてはトリメチルシロキシ
基、トリエチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基
等;イミド基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデ
シルコハク酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミ
ド基等;スピロ化合物残基としてはスピロ[3.3]ヘ
プタン−1−イル等;有橋炭化水素化合物残基としては
ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル、トリシク
ロ[3.3.1.13.7]デカン−1−イル、7,7−
ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル
等が挙げられる。
【0074】R7,R8,R9は、前記置換基のうちで
も、例えばアルキル基、アリール基、カルボキシル基、
オキシカルボキシル基、シアノ基、ヒドロキシ基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アミド基及び
スルホンアミド基、等の各基及びハロゲン原子等が好ま
しい。
も、例えばアルキル基、アリール基、カルボキシル基、
オキシカルボキシル基、シアノ基、ヒドロキシ基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アミド基及び
スルホンアミド基、等の各基及びハロゲン原子等が好ま
しい。
【0075】Oは0又は1〜5の整数を表し、Pは0又
は1〜3の整数を表す。O又はPが2以上の整数のと
き、整数のR8,R9,R10は、同じであっても異なって
いても良い。
は1〜3の整数を表す。O又はPが2以上の整数のと
き、整数のR8,R9,R10は、同じであっても異なって
いても良い。
【0076】また複数のR8,R9,R10は、互いに結合
して環を形成していてもよく、該環は、飽和又は不飽和
の5員環、6員環、7員環及び8員環等が好ましく、具
体的にはピリジン環及びキノリン環等が挙げられる。
して環を形成していてもよく、該環は、飽和又は不飽和
の5員環、6員環、7員環及び8員環等が好ましく、具
体的にはピリジン環及びキノリン環等が挙げられる。
【0077】上記の基は、更に長鎖炭化水素基やポリマ
ー残基等の耐核酸性基等の置換基を有していてもよい。
ー残基等の耐核酸性基等の置換基を有していてもよい。
【0078】Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応に
より離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩素
原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリー
ルオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニルオ
キシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシカ
ルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオキ
ザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環チ
オ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニアミノ、カルボキシル等の各基が挙げられる。
より離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩素
原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリー
ルオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニルオ
キシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシカ
ルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオキ
ザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環チ
オ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニアミノ、カルボキシル等の各基が挙げられる。
【0079】一般式(8)、(9)及び(10)におい
て、Z8〜Z10の表す原子群としては特に制限はない
が、非金属原子群であることが好ましく、更に好ましく
はZ8〜Z10の表す原子群中に=N−、−SO2−、−S
(=O)−、−C(=O)−、=CH−、=C(R′)
−、−N(R′)−等のユニットが含まれる場合であ
る。
て、Z8〜Z10の表す原子群としては特に制限はない
が、非金属原子群であることが好ましく、更に好ましく
はZ8〜Z10の表す原子群中に=N−、−SO2−、−S
(=O)−、−C(=O)−、=CH−、=C(R′)
−、−N(R′)−等のユニットが含まれる場合であ
る。
【0080】R′及びR″は前述したR8,R9,R10と
同様の置換基を表し、前記ユニットは複数若しくは連結
した形で使用してもよい。
同様の置換基を表し、前記ユニットは複数若しくは連結
した形で使用してもよい。
【0081】一般式(8)〜(10)におけるBの表す
ブロック基としては、アシル基、アルキルスルホニル
基、アリールホスホニル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アルキルカルバモイル
基、アリールカルバモイル基等であり、代表例としては
アセチル基、ベンゾイル基等が挙げられるが、最も好ま
しいものは水素原子である。
ブロック基としては、アシル基、アルキルスルホニル
基、アリールホスホニル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アルキルカルバモイル
基、アリールカルバモイル基等であり、代表例としては
アセチル基、ベンゾイル基等が挙げられるが、最も好ま
しいものは水素原子である。
【0082】一般式(8)、(9)及び(10)のうち
より好ましいものは一般式(8)及び(9)で示される
化合物群である。
より好ましいものは一般式(8)及び(9)で示される
化合物群である。
【0083】一般式(11)で表されるカプラーについ
て説明する。
て説明する。
【0084】前記一般式(11)において、R11、X、
q、Bについては一般式(8)においてのR8、X、
o、Bとそれぞれ同義である。
q、Bについては一般式(8)においてのR8、X、
o、Bとそれぞれ同義である。
【0085】一般式(12)で表されるカプラーについ
て説明する。
て説明する。
【0086】前記一般式(12)において、A、
R121、r1についてはそれぞれ一般式(1)のA、
R1、iと同義であり、R122、X、Bについては一般式
(8)においてのR8、X、Bとそれぞれ同義である。
r2は0又は1〜4の整数である。r2が2以上のとき、
複数のR122は同じでも異なっていてもよい。
R121、r1についてはそれぞれ一般式(1)のA、
R1、iと同義であり、R122、X、Bについては一般式
(8)においてのR8、X、Bとそれぞれ同義である。
r2は0又は1〜4の整数である。r2が2以上のとき、
複数のR122は同じでも異なっていてもよい。
【0087】一般式(13−1)又は(13−2)で表
されるカプラーについて説明する。
されるカプラーについて説明する。
【0088】前記一般式(13−1)又は一般式(13
−2)において、R131の表すアルキル基は、直鎖でも
分岐でもよく、飽和でも不飽和でもよく、また鎖状でも
環状でもよい。このアルキル基は任意の置換基を有して
いてもよく、更に耐拡散性基を有していてもよい。その
代表例としてはエチル基、i−プロピル基、t−オクチ
ル基、シクロヘキシル基、11−ウンデセニル基、1−
ブチン基、フェノキシエチル基、アルコキシカルボニル
エチル基、ベンジル基等が挙げられる。
−2)において、R131の表すアルキル基は、直鎖でも
分岐でもよく、飽和でも不飽和でもよく、また鎖状でも
環状でもよい。このアルキル基は任意の置換基を有して
いてもよく、更に耐拡散性基を有していてもよい。その
代表例としてはエチル基、i−プロピル基、t−オクチ
ル基、シクロヘキシル基、11−ウンデセニル基、1−
ブチン基、フェノキシエチル基、アルコキシカルボニル
エチル基、ベンジル基等が挙げられる。
【0089】R131の表すアリール基としてはフェニル
基、ナフチル基等が挙げられるが、更にこのアリール基
は任意の置換基を有していてもよく、更に耐拡散性基を
有していてもよい。その代表例としては3−アルキルア
シルアミノフェニル基、4−アルキルスルホニルフェニ
ル基、2−アルコキシフェニル基、4−アルコキシ−1
−ナフチル基、2−アルキルカルバモイルフェニル基、
2−クロロ−1−ナフチル基等が挙げられる。
基、ナフチル基等が挙げられるが、更にこのアリール基
は任意の置換基を有していてもよく、更に耐拡散性基を
有していてもよい。その代表例としては3−アルキルア
シルアミノフェニル基、4−アルキルスルホニルフェニ
ル基、2−アルコキシフェニル基、4−アルコキシ−1
−ナフチル基、2−アルキルカルバモイルフェニル基、
2−クロロ−1−ナフチル基等が挙げられる。
【0090】R131の表すヘテロ環基としては5〜7員
のものが好ましく、更にこのヘテロ環基は任意の置換基
を有していてもよく、更に耐拡散性基を有していてもよ
い。その代表例としては2−フリル基、2−チエニル
基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、3
−ピリジル基、3−アルコキシ−2−ピリジル基等が挙
げられる。
のものが好ましく、更にこのヘテロ環基は任意の置換基
を有していてもよく、更に耐拡散性基を有していてもよ
い。その代表例としては2−フリル基、2−チエニル
基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、3
−ピリジル基、3−アルコキシ−2−ピリジル基等が挙
げられる。
【0091】一般式(13−1)又は一般式(13−
2)において、R132の表す置換基としては、特に制限
はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリ
ノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、ア
リールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙
げられるが、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニ
ル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、
ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、
シアノ、アルコキシ、スルホニルオキシ、アリールオキ
シ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモ
イルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイ
ド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミ
ノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカル
ボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオ
ウレイド、カルボキシル、ヒドロキシ、メルカプト、ニ
トロ、スルホン酸等の各基、並びにスピロ化合物残基、
有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
2)において、R132の表す置換基としては、特に制限
はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリ
ノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、ア
リールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙
げられるが、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニ
ル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、
ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、
シアノ、アルコキシ、スルホニルオキシ、アリールオキ
シ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモ
イルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイ
ド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミ
ノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカル
ボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオ
ウレイド、カルボキシル、ヒドロキシ、メルカプト、ニ
トロ、スルホン酸等の各基、並びにスピロ化合物残基、
有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
【0092】R132の表す置換基のうち、アルキル基と
しては、炭素数1〜32のものが好ましく、直鎖でも分
岐でもよい。
しては、炭素数1〜32のものが好ましく、直鎖でも分
岐でもよい。
【0093】アリール基としては、フェニル基が好まし
い。
い。
【0094】アシルアミノ基としては、アルキルカルボ
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基等が挙げら
れる。
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基等が挙げら
れる。
【0095】スルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られる。
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られる。
【0096】アルキルチオ基、アリールチオ基における
アルキル成分、アリール成分としては上記のアルキル
基、アリール基が挙げられる。
アルキル成分、アリール成分としては上記のアルキル
基、アリール基が挙げられる。
【0097】アルケニル基としては、炭素数2〜32の
もの、シクロアルキル基としては炭素数3〜12、特に
5〜7のものが好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
もの、シクロアルキル基としては炭素数3〜12、特に
5〜7のものが好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
【0098】シクロアルケニル基としては、炭素数3〜
12、特に5〜7のものが好ましい。
12、特に5〜7のものが好ましい。
【0099】スルホニル基としてはアルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基等;スルフィニル基としては
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等;
ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等;アシル基としてはアルキルカルボニ
ル基、アリールカルボニル基等;カルバモイル基として
はアルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基
等;スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル
基、アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基とし
てはアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニル
オキシ基等;カルバモイルオキシ基としてはアルキルカ
ルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基
等;ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリール
ウレイド基等;スルファモイルアミノ基としてはアルキ
ルスルファモイルアミノ基、アリールスルファモイルア
ミノ基等;複素環基としては5〜7員のものが好まし
く、具体的には2−フリル基、2−チエニル基、2−ピ
リミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリル
基、1−テトラゾリル基等;複素環オキシ基としては5
〜7員の複素環を有するものが好ましく、例えば3,
4,5,6−テトラヒドロピラニル−2−オキシ基、1
−フェニルテトラゾール−5−オキシ基等;複素環チオ
基としては5〜7員の複素環チオ基が好ましく、例えば
2−ピリジルチオ基、2−ベンゾチアゾリルチオ基、
2,4−ジフェノキシ−1,3,5−トリアゾール−6
−チオ基等;シロキシ基としてはトリメチルシロキシ
基、トリエチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基
等;イミド基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデ
シルコハク酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミ
ド基等;スピロ化合物残基としてはスピロ[3.3]ヘ
プタン−1−イル等;有橋炭化水素化合物残基としては
ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル、トリシク
ロ[3.3.1.13.7]デカン−1−イル、7,7−
ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル
等が挙げられる。
基、アリールスルホニル基等;スルフィニル基としては
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等;
ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等;アシル基としてはアルキルカルボニ
ル基、アリールカルボニル基等;カルバモイル基として
はアルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基
等;スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル
基、アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基とし
てはアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニル
オキシ基等;カルバモイルオキシ基としてはアルキルカ
ルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基
等;ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリール
ウレイド基等;スルファモイルアミノ基としてはアルキ
ルスルファモイルアミノ基、アリールスルファモイルア
ミノ基等;複素環基としては5〜7員のものが好まし
く、具体的には2−フリル基、2−チエニル基、2−ピ
リミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリル
基、1−テトラゾリル基等;複素環オキシ基としては5
〜7員の複素環を有するものが好ましく、例えば3,
4,5,6−テトラヒドロピラニル−2−オキシ基、1
−フェニルテトラゾール−5−オキシ基等;複素環チオ
基としては5〜7員の複素環チオ基が好ましく、例えば
2−ピリジルチオ基、2−ベンゾチアゾリルチオ基、
2,4−ジフェノキシ−1,3,5−トリアゾール−6
−チオ基等;シロキシ基としてはトリメチルシロキシ
基、トリエチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基
等;イミド基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデ
シルコハク酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミ
ド基等;スピロ化合物残基としてはスピロ[3.3]ヘ
プタン−1−イル等;有橋炭化水素化合物残基としては
ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル、トリシク
ロ[3.3.1.13.7]デカン−1−イル、7,7−
ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル
等が挙げられる。
【0100】R132は、前記置換基のうちでも、例えば
アルキル基、アリール基、カルボキシル基、オキシカル
ボキシル基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミノ基、アミド基及びスルホンア
ミド基、等の各基及びハロゲン原子等が好ましい。
アルキル基、アリール基、カルボキシル基、オキシカル
ボキシル基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミノ基、アミド基及びスルホンア
ミド基、等の各基及びハロゲン原子等が好ましい。
【0101】rは0又は1〜4の整数を表し、rが2以
上の整数のとき、複数のR122は同じであっても異なっ
ていても良い。
上の整数のとき、複数のR122は同じであっても異なっ
ていても良い。
【0102】また複数のR122は、互いに結合して環を
形成していてもよく、該環は、飽和又は不飽和の5員
環、6員環、7員環及び8員環等が好ましく、具体的に
は、ピリジン環及びキノリン環等が挙げられる。
形成していてもよく、該環は、飽和又は不飽和の5員
環、6員環、7員環及び8員環等が好ましく、具体的に
は、ピリジン環及びキノリン環等が挙げられる。
【0103】上記の基は、更に長鎖炭化水素基やポリマ
ー残基等の耐拡散性基等の置換基を有していてもよい。
ー残基等の耐拡散性基等の置換基を有していてもよい。
【0104】Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応に
より離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩素
原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリー
ルオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニルオ
キシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシカ
ルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオキ
ザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環チ
オ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニルアミノ、カルボキシル等の各基が挙げられる。
より離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩素
原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリー
ルオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニルオ
キシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシカ
ルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオキ
ザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環チ
オ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニルアミノ、カルボキシル等の各基が挙げられる。
【0105】一般式(13−1)及び一般式(13−
2)において、Bの表すブロック基としてはアシル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルカルバモイル基、アリールカルバモイル基等であ
り、代表例としてはアセチル基、ベンゾイル基等が挙げ
られるが、最も好ましいものは水素原子である。
2)において、Bの表すブロック基としてはアシル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルカルバモイル基、アリールカルバモイル基等であ
り、代表例としてはアセチル基、ベンゾイル基等が挙げ
られるが、最も好ましいものは水素原子である。
【0106】一般式(13−2)におけるR133の表す
アルキル基はR131のそれと同義であり、アリール基も
R131のそれと同義である。
アルキル基はR131のそれと同義であり、アリール基も
R131のそれと同義である。
【0107】一般式(14)で表されるカプラーについ
て説明する。
て説明する。
【0108】前記一般式(14)において、R142、
X、s、Bについては一般式(8)においてのR8、
X、o、Bと同義である。
X、s、Bについては一般式(8)においてのR8、
X、o、Bと同義である。
【0109】R143で表される一価の置換基の代表的な
例としては、直鎖、分岐、或いは環状のアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、フェニル基、ナフチル基、
ヘテロ環基(例えばフラン、ピロール、チオフェン、ピ
リジン、ピリミジン、オキサゾール、チアゾール、ピリ
ジン、イミダゾール、ピロリジン、ピペリジンなどから
導かれる基など)、アシル基、スルホニル基、スルホン
アミド基、スルファモイル基、カルボンアミド基、カル
バモイル基、カルボニル基などが挙げられる。
例としては、直鎖、分岐、或いは環状のアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、フェニル基、ナフチル基、
ヘテロ環基(例えばフラン、ピロール、チオフェン、ピ
リジン、ピリミジン、オキサゾール、チアゾール、ピリ
ジン、イミダゾール、ピロリジン、ピペリジンなどから
導かれる基など)、アシル基、スルホニル基、スルホン
アミド基、スルファモイル基、カルボンアミド基、カル
バモイル基、カルボニル基などが挙げられる。
【0110】これらは更に適当な置換基(例えば脂肪族
基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、ヒドロキシ
基、アミノ基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、カ
ルボンアミド基、ウレイド基、アシルオキシ基、アシル
基、脂肪族又は芳香族オキシ基、脂肪族又は芳香族チオ
基、スルホニル基、スルファモイルアミノ基、ニトロ
基、イミド基など)で置換されていてもよい。
基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、ヒドロキシ
基、アミノ基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、カ
ルボンアミド基、ウレイド基、アシルオキシ基、アシル
基、脂肪族又は芳香族オキシ基、脂肪族又は芳香族チオ
基、スルホニル基、スルファモイルアミノ基、ニトロ
基、イミド基など)で置換されていてもよい。
【0111】なかでもカルボンアミド基、スルホンアミ
ド基、水素原子が好ましい。
ド基、水素原子が好ましい。
【0112】一般式(15)で表されるカプラーについ
て説明する。
て説明する。
【0113】前記一般式(15)において、A、
R151、t1についてはそれぞれ一般式(1)のA、
R1、iと同義であり、R152、X、Bについては一般式
(8)においてのR8、X、Bとそれぞれ同義である。
t2は一般式(12)のr2と同義であり、R153は一般
式(14)のR143と同義である。
R151、t1についてはそれぞれ一般式(1)のA、
R1、iと同義であり、R152、X、Bについては一般式
(8)においてのR8、X、Bとそれぞれ同義である。
t2は一般式(12)のr2と同義であり、R153は一般
式(14)のR143と同義である。
【0114】一般式(16−1)又は(16−2)で表
されるカプラーについて説明する。
されるカプラーについて説明する。
【0115】前記一般式(16−1)及び(16−2)
において、R161及びYは一般式(13−1)のR131及
びYとそれぞれ同義である。R162、X、Bについては
一般式(8)においてのR8、X、Bとそれぞれ同義で
ある。tは0又は1〜4の整数を表し、tが2以上のと
き、複数のR162は同じでも異なっていてもよい。R163
は一般式(14)のR143と同義である。
において、R161及びYは一般式(13−1)のR131及
びYとそれぞれ同義である。R162、X、Bについては
一般式(8)においてのR8、X、Bとそれぞれ同義で
ある。tは0又は1〜4の整数を表し、tが2以上のと
き、複数のR162は同じでも異なっていてもよい。R163
は一般式(14)のR143と同義である。
【0116】一般式(17)又は(18)で表されるカ
プラーについて説明する。
プラーについて説明する。
【0117】前記一般式(17)及び(18)におい
て、R17及びR18の表す置換基としては、特に制限はな
いが、代表的にはアルキル、アリール、アニリノ、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチ
オ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられる
が、この他にはハロゲン原子及びシクロアルケニル、ア
ルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホ
ニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シア
ノ、アルコキシ、スルホニルオキシ、アリールオキシ、
複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイル
オキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、
スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、
アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニ
ル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレ
イド、カルボキシル、ヒドロキシ、メルカプト、ニト
ロ、スルホン酸等の各基、並びにスピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
て、R17及びR18の表す置換基としては、特に制限はな
いが、代表的にはアルキル、アリール、アニリノ、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチ
オ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられる
が、この他にはハロゲン原子及びシクロアルケニル、ア
ルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホ
ニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シア
ノ、アルコキシ、スルホニルオキシ、アリールオキシ、
複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイル
オキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、
スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、
アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニ
ル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレ
イド、カルボキシル、ヒドロキシ、メルカプト、ニト
ロ、スルホン酸等の各基、並びにスピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
【0118】R17,R18の表す置換基のうち、アルキル
基としては、炭素数1〜32のものが好ましく、直鎖で
も分岐でもよい。
基としては、炭素数1〜32のものが好ましく、直鎖で
も分岐でもよい。
【0119】アリール基としては、フェニル基が好まし
い。
い。
【0120】アシルアミノ基としては、アルキルカルボ
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基等が挙げら
れる。
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基等が挙げら
れる。
【0121】スルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られる。
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られる。
【0122】アルキルチオ基、アリールチオ基における
アルキル成分、アリール成分としては上記のアルキル
基、アリール基が挙げられる。
アルキル成分、アリール成分としては上記のアルキル
基、アリール基が挙げられる。
【0123】アルケニル基としては、炭素数2〜32の
もの、シクロアルキル基としては炭素数3〜12、特に
5〜7のものが好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
もの、シクロアルキル基としては炭素数3〜12、特に
5〜7のものが好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
【0124】シクロアルケニル基としては、炭素数3〜
12、特に5〜7のものが好ましい。
12、特に5〜7のものが好ましい。
【0125】スルホニル基としてはアルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基等;スルフィニル基としては
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等;
ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等;アシル基としてはアルキルカルボニ
ル基、アリールカルボニル基等;カルバモイル基として
はアルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基
等;スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル
基、アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基とし
てはアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニル
オキシ基等;カルバモイルオキシ基としてはアルキルカ
ルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基
等;ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリール
ウレイド基等;スルファモイルアミノ基としてはアルキ
ルスルファモイルアミノ基、アリールスルファモイルア
ミノ基等;複素環基とては5〜7員のものが好ましく、
具体的には2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミ
ジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリル基、
1−テトラゾリル基等;複素環オキシ基としては5〜7
員の複素環を有するものが好ましく、例えば3,4,
5,6−テトラヒドロピラニル−2−オキシ基、1−フ
ェニルテトラゾール−5−オキシ基等;複素環チオ基と
しては5〜7員の複素環チオ基が好ましく、例えば2−
ピリジルチオ基2−ベンゾチアゾリルチオ基、2,4−
ジフェノキシ−1,3,5−トリアゾール−6−チオ基
等;シロキシ基としてはトリメチルシロキシ基、トリエ
チルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等;イミド
基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデシルコハク
酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミド基等;ス
ピロ化合物残基としてはスピロ[3.3]ヘプタン−1
−イル等;有橋炭化水素化合物残基としてはビシクロ
[2.2.1]ヘプタン−1−イル、トリシクロ[3.
3.1.13.7]デタン−1−イル、7,7−ジメチル
−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イン等が挙げ
られる。
基、アリールスルホニル基等;スルフィニル基としては
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等;
ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等;アシル基としてはアルキルカルボニ
ル基、アリールカルボニル基等;カルバモイル基として
はアルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基
等;スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル
基、アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基とし
てはアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニル
オキシ基等;カルバモイルオキシ基としてはアルキルカ
ルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基
等;ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリール
ウレイド基等;スルファモイルアミノ基としてはアルキ
ルスルファモイルアミノ基、アリールスルファモイルア
ミノ基等;複素環基とては5〜7員のものが好ましく、
具体的には2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミ
ジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリル基、
1−テトラゾリル基等;複素環オキシ基としては5〜7
員の複素環を有するものが好ましく、例えば3,4,
5,6−テトラヒドロピラニル−2−オキシ基、1−フ
ェニルテトラゾール−5−オキシ基等;複素環チオ基と
しては5〜7員の複素環チオ基が好ましく、例えば2−
ピリジルチオ基2−ベンゾチアゾリルチオ基、2,4−
ジフェノキシ−1,3,5−トリアゾール−6−チオ基
等;シロキシ基としてはトリメチルシロキシ基、トリエ
チルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等;イミド
基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデシルコハク
酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミド基等;ス
ピロ化合物残基としてはスピロ[3.3]ヘプタン−1
−イル等;有橋炭化水素化合物残基としてはビシクロ
[2.2.1]ヘプタン−1−イル、トリシクロ[3.
3.1.13.7]デタン−1−イル、7,7−ジメチル
−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イン等が挙げ
られる。
【0126】R17及びR18は、前記置換基のうちでも、
例えばアルキル基、アリール基、カルボキシル基、オキ
シカルボキシル基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アミノ基、アミド基及びスル
ホンアミド基、等の各基及びハロゲン原子等が好まし
い。
例えばアルキル基、アリール基、カルボキシル基、オキ
シカルボキシル基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アミノ基、アミド基及びスル
ホンアミド基、等の各基及びハロゲン原子等が好まし
い。
【0127】uは0又は1〜4の整数を表し、vは0又
は1〜6の整数を表すが、u及びvが2以上の整数のと
き、複数のR16又はR17は同じであっても、異なってい
てもよい。
は1〜6の整数を表すが、u及びvが2以上の整数のと
き、複数のR16又はR17は同じであっても、異なってい
てもよい。
【0128】また複数のR17,R18は、互いに結合して
いて環を形成していてもよく、該環は、飽和又は不飽和
の5員環、6員環、7員環及び8員環等が好ましく、具
体的には、ピリジン環及びキノリン環等が挙げられる。
いて環を形成していてもよく、該環は、飽和又は不飽和
の5員環、6員環、7員環及び8員環等が好ましく、具
体的には、ピリジン環及びキノリン環等が挙げられる。
【0129】上記の基は、更に長鎖炭化水素基やポリマ
ー残基等の耐拡散性基等の置換基を有していてもよい。
ー残基等の耐拡散性基等の置換基を有していてもよい。
【0130】Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応に
より離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩素
原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリー
ルオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニルオ
キシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシカ
ルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオキ
ザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環チ
オ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニルアミノ、カルボキシル等の各基が挙げられる。
より離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩素
原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリー
ルオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニルオ
キシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシカ
ルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオキ
ザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環チ
オ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニルアミノ、カルボキシル等の各基が挙げられる。
【0131】一般式(17)及び(18)において、Y
の表す置換基としてはハメットの置換基定数σpが0.
3以上1.5以下の置換基であり、代表的には、シアノ
基、ニトロ基、スルホニル基(例えばオクチルスルホニ
ル基、フェニルスルホニル基、トリフルオロメチルスル
ホニル基、ペンタフルオロフェニルスルホニル基等)、
β−カルボキシビニル基、スルフィニル基(例えばt−
ブチルスルフィニル基、トリルスルフィニル基、トリフ
ルオロメチルスルフィニル基、ペンタフルオロフェニル
スルフィニル基等)、β,β−ジシアノビニル基、ハロ
ゲン化アルキル基(例えばトリフルオロメチル基、パー
フルオロオクチル基、ω−ヒドパーフルオロドデシル基
等)、ホルミル基、カルボキシル基、カルボニル基(例
えばアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフ
ルオロアセチル基等)、アルキル及びアリールオキシカ
ルボニル基(例えばエトキシカルボニル基、フエノキシ
カルボニル基等)、1−テトラゾリル基、5−クロル−
1−テトラゾリル基、カルバモイル(例えばドデシルカ
ルバモイル基、フェニルカルバモイル基等)、スルファ
モイル基(例えばトリフルオロメチルスルファモイル
基、フェニルスルファモイル基、エチルスルファモイル
基等)などが挙げられる。
の表す置換基としてはハメットの置換基定数σpが0.
3以上1.5以下の置換基であり、代表的には、シアノ
基、ニトロ基、スルホニル基(例えばオクチルスルホニ
ル基、フェニルスルホニル基、トリフルオロメチルスル
ホニル基、ペンタフルオロフェニルスルホニル基等)、
β−カルボキシビニル基、スルフィニル基(例えばt−
ブチルスルフィニル基、トリルスルフィニル基、トリフ
ルオロメチルスルフィニル基、ペンタフルオロフェニル
スルフィニル基等)、β,β−ジシアノビニル基、ハロ
ゲン化アルキル基(例えばトリフルオロメチル基、パー
フルオロオクチル基、ω−ヒドパーフルオロドデシル基
等)、ホルミル基、カルボキシル基、カルボニル基(例
えばアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフ
ルオロアセチル基等)、アルキル及びアリールオキシカ
ルボニル基(例えばエトキシカルボニル基、フエノキシ
カルボニル基等)、1−テトラゾリル基、5−クロル−
1−テトラゾリル基、カルバモイル(例えばドデシルカ
ルバモイル基、フェニルカルバモイル基等)、スルファ
モイル基(例えばトリフルオロメチルスルファモイル
基、フェニルスルファモイル基、エチルスルファモイル
基等)などが挙げられる。
【0132】これらの置換基の中でも好ましいものは、
シアノ基、スルホニル基、スルファモイル基である。
シアノ基、スルホニル基、スルファモイル基である。
【0133】一般式(19)で表されるカプラーについ
て説明する。
て説明する。
【0134】前記一般式(19)において、R19は置換
基を表し、R19の表す置換基としては、特に制限はない
が、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチ
オ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられる
が、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アル
キニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニ
ル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、
アルコキシ、スルホニルオキシ、アリールオキシ、複素
環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキ
シ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スル
ファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリ
ールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、
アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイ
ド、カルボキシル、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、
スルホン酸等の各基、並びにスピロ化合物残基、有橋炭
化水素化合物残基等も挙げられる。
基を表し、R19の表す置換基としては、特に制限はない
が、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチ
オ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられる
が、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アル
キニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニ
ル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、
アルコキシ、スルホニルオキシ、アリールオキシ、複素
環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキ
シ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スル
ファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリ
ールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、
アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイ
ド、カルボキシル、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、
スルホン酸等の各基、並びにスピロ化合物残基、有橋炭
化水素化合物残基等も挙げられる。
【0135】R19の表す置換基のうち、アルキル基とし
ては、炭素数1〜32のものが好ましく、直銷でも分岐
でもよい。
ては、炭素数1〜32のものが好ましく、直銷でも分岐
でもよい。
【0136】アリール基としては、フェニル基が好まし
い。
い。
【0137】アシルアミノ基としては、アルキルカルボ
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基等が挙げら
れる。
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基等が挙げら
れる。
【0138】スルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られる。
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られる。
【0139】アルキルチオ基、アリールチオ基における
アルキル成分、アリール成分としては上記のアルキル
基、アリール基が挙げられる。
アルキル成分、アリール成分としては上記のアルキル
基、アリール基が挙げられる。
【0140】アルケニル基としては、炭素数2〜32の
もの、シクロアルキル基としては炭素数3〜12、特に
5〜7のものが好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
もの、シクロアルキル基としては炭素数3〜12、特に
5〜7のものが好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
【0141】シクロアルケニル基としては、炭素数3〜
12、特に5〜7のものが好ましい。
12、特に5〜7のものが好ましい。
【0142】スルホニル基としてはアルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基等;スルフィニル基としては
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等;
ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等;アシル基としてはアルキルカルボニ
ル基、アリールカルボニル基等;カルバモイル基として
はアルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基
等;スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル
基、アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基とし
てはアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニル
オキシ基等;カルバモイルオキシ基としてはアルキルカ
ルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基
等;ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリール
ウレイド基等;スルファモイルアミノ基としてはアルキ
ルスルファモイルアミノ基、アリールスルファモイルア
ミノ基等;複素環基としては5〜7員のものが好まし
く、具体的には2−フリル基、2−チエニル基、2−ピ
リミジニエル基、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリ
ル基、1−テトラゾリル基等;複素環オキシ基としては
5〜7員の複素環を有するものが好ましく、例えば3,
4,5,6−テトラヒドロピラニル−2−オキシ基、1
−フェニルテトラゾール−5−オキシ基等;複素環チオ
基としては5〜7員の複素環チオ基が好ましく、例えば
2−ピリジルチオ基、2−ベンゾチアゾリルチオ基、
2,4−ジフェノキシ−1,3,5−トリアゾール−6
−チオ基等;シロキシ基としてはトリメチルシロキシ
基、トリエチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基
等;イミド基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデ
シルコハク酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミ
ド基等;スピロ化合物残基としてはスピロ[3.3]ヘ
プタン−1−イル等;有橋炭化水素化合物残基としては
ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル、トリシク
ロ[3.3.1.13.7]デカン−1−イル、7,7−
ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル
等が挙げられる。
基、アリールスルホニル基等;スルフィニル基としては
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等;
ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等;アシル基としてはアルキルカルボニ
ル基、アリールカルボニル基等;カルバモイル基として
はアルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基
等;スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル
基、アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基とし
てはアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニル
オキシ基等;カルバモイルオキシ基としてはアルキルカ
ルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基
等;ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリール
ウレイド基等;スルファモイルアミノ基としてはアルキ
ルスルファモイルアミノ基、アリールスルファモイルア
ミノ基等;複素環基としては5〜7員のものが好まし
く、具体的には2−フリル基、2−チエニル基、2−ピ
リミジニエル基、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリ
ル基、1−テトラゾリル基等;複素環オキシ基としては
5〜7員の複素環を有するものが好ましく、例えば3,
4,5,6−テトラヒドロピラニル−2−オキシ基、1
−フェニルテトラゾール−5−オキシ基等;複素環チオ
基としては5〜7員の複素環チオ基が好ましく、例えば
2−ピリジルチオ基、2−ベンゾチアゾリルチオ基、
2,4−ジフェノキシ−1,3,5−トリアゾール−6
−チオ基等;シロキシ基としてはトリメチルシロキシ
基、トリエチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基
等;イミド基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデ
シルコハク酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミ
ド基等;スピロ化合物残基としてはスピロ[3.3]ヘ
プタン−1−イル等;有橋炭化水素化合物残基としては
ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル、トリシク
ロ[3.3.1.13.7]デカン−1−イル、7,7−
ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル
等が挙げられる。
【0143】R19は、前記置換基のうちでも、例えばア
ルキル基、アリール基、アシルアミノ基、カルボキシル
基、オキシカルボキシル基、シアノ基、ヒドロキシ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、イミド基、ウレイド基、ス
ルファモイルアミノ基、及びスルホンアミド基等の各基
及びハロゲン原子等が好ましい。
ルキル基、アリール基、アシルアミノ基、カルボキシル
基、オキシカルボキシル基、シアノ基、ヒドロキシ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、イミド基、ウレイド基、ス
ルファモイルアミノ基、及びスルホンアミド基等の各基
及びハロゲン原子等が好ましい。
【0144】また隣接する2つのR19は、互いに結合し
て環を形成してもよく、該環は、飽和また不飽和の5員
環、6員環、7員環及び8員環等が好ましく、具体的に
は、ベンゼン環、ピリジン環及びキノリン環等が挙げら
れる。
て環を形成してもよく、該環は、飽和また不飽和の5員
環、6員環、7員環及び8員環等が好ましく、具体的に
は、ベンゼン環、ピリジン環及びキノリン環等が挙げら
れる。
【0145】上記の基は、更に長鎖炭化水素基やポリマ
ー残基等の耐拡散性基等の置換基を有していてもよい。
ー残基等の耐拡散性基等の置換基を有していてもよい。
【0146】wは0又は1〜4の整数を表すが、好まし
くはwは1又は2の整数を表す。
くはwは1又は2の整数を表す。
【0147】X19の表す発色現像主薬の酸化体との反応
により離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩
素原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリ
ールオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニル
オキシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシ
カルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオ
キザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環
チオ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニアミノ、カルボキシル、
により離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩
素原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリ
ールオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニル
オキシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシ
カルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオ
キザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環
チオ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニアミノ、カルボキシル、
【0148】
【化37】 (R′19は前記R19と同義であり、w′は前記wと同義
であり、Ra及びRbは水素原子、アリール基、アルキ
ル基又は複素環基を表す。)等の各基が挙げられるが、
好ましくはハロゲン原子である。これらのうち、X19で
表される特に好ましいものは、水素原子及び塩素原子で
ある。
であり、Ra及びRbは水素原子、アリール基、アルキ
ル基又は複素環基を表す。)等の各基が挙げられるが、
好ましくはハロゲン原子である。これらのうち、X19で
表される特に好ましいものは、水素原子及び塩素原子で
ある。
【0149】一般式(20)で表されるカプラーについ
て説明する。
て説明する。
【0150】前記一般式(20)において、R20の表す
置換基としては、一般式(19)におけるR19と同義で
ある。
置換基としては、一般式(19)におけるR19と同義で
ある。
【0151】X20の表す発色現像主薬の酸化体との反応
により離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩
素原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリ
ールオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニル
オキシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシ
カルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオ
キザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環
チオ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニルアミノ、カルボキシル、
により離脱しうる基としては、例えばハロゲン原子(塩
素原子、臭素原子、弗素原子等)及びアルコキシ、アリ
ールオキシ、複素環オキシ、アシルオキシ、スルホニル
オキシ、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシ
カルボニル、アルキルオキザリルオキシ、アルコキシオ
キザリルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、複素環
チオ、アルキルオキシチオカルボニルチオ、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、N原子で結合した含窒素複素環、
アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカル
ボニルアミノ、カルボキシル、
【0152】
【化38】 (R′20は前記R20と同義であり、w′及びx′は前記
w及びxと同義であり、Ra及びRbは水素原子、アリ
ール基、アルキル基又は複素環基を表す。)等の各基が
挙げられるが、好ましくはハロゲン原子である。これら
のうち、X20で表される特に好ましいものは、水素原子
及び塩素原子である。
w及びxと同義であり、Ra及びRbは水素原子、アリ
ール基、アルキル基又は複素環基を表す。)等の各基が
挙げられるが、好ましくはハロゲン原子である。これら
のうち、X20で表される特に好ましいものは、水素原子
及び塩素原子である。
【0153】一般式(20)において、xは1又は2の
整数であるが、xが2の場合が好ましい。
整数であるが、xが2の場合が好ましい。
【0154】従って、一般式(20)で表される本発明
の化合物は、より好ましくは一般式(20−1)で表さ
れる。
の化合物は、より好ましくは一般式(20−1)で表さ
れる。
【0155】
【化39】 〔式中、R20、w及びX20は一般式(20)で表される
化合物のR20、w及びX20と同義である。〕 一般式(21)で表されるカプラーについて説明する。
化合物のR20、w及びX20と同義である。〕 一般式(21)で表されるカプラーについて説明する。
【0156】前記一般式(21)において、R21及びw
の表す置換基としては、一般式(19)におけるR19及
びwとそれぞれ同義である。
の表す置換基としては、一般式(19)におけるR19及
びwとそれぞれ同義である。
【0157】以下に本発明のシアンカプラーの具体例を
記すが、本発明はこれによって限定されない。
記すが、本発明はこれによって限定されない。
【0158】
【化40】
【0159】
【化41】
【0160】
【化42】
【0161】
【化43】
【0162】
【化44】
【0163】
【化45】
【0164】
【化46】
【0165】
【化47】
【0166】
【化48】
【0167】
【化49】
【0168】
【化50】
【0169】
【化51】
【0170】
【化52】
【0171】
【化53】
【0172】
【化54】
【0173】
【化55】
【0174】
【化56】
【0175】
【化57】
【0176】
【化58】
【0177】
【化59】
【0178】
【化60】
【0179】
【化61】
【0180】
【化62】
【0181】
【化63】
【0182】
【化64】
【0183】
【化65】
【0184】
【化66】
【0185】
【化67】
【0186】
【化68】
【0187】
【化69】
【0188】
【化70】
【0189】
【化71】
【0190】
【化72】
【0191】
【化73】
【0192】
【化74】
【0193】
【化75】
【0194】
【化76】
【0195】
【化77】
【0196】
【化78】
【0197】
【化79】
【0198】
【化80】
【0199】
【化81】
【0200】
【化82】
【0201】
【化83】 以下に一般式(22)で表される発色現像主薬(発色用
還元剤)の構造について詳しく説明する。
還元剤)の構造について詳しく説明する。
【0202】前記一般式(22)において、R221で表
されるアリール基又はヘテロ環基としては、置換基を有
してもよいアリール基又はヘテロ環基を表す。
されるアリール基又はヘテロ環基としては、置換基を有
してもよいアリール基又はヘテロ環基を表す。
【0203】R221のアリール基としては、好ましくは
炭素数6〜14のもので、例えばフェニルやナフチルが
挙げられる。
炭素数6〜14のもので、例えばフェニルやナフチルが
挙げられる。
【0204】R221のヘテロ環基としては、好ましくは
窒素、酸素、硫黄、セレンのうち少なくとも一つを含有
する飽和又は不飽和の5員環、6員環又は7員環のもの
である。これらにベンゼン環又はヘテロ環が縮合してい
てもよい。R211のヘテロ環の例としては、フラニル、
チエニル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、
トリアゾリル、ピロリジニル、ベンズオキサゾリル、ベ
ンゾチアゾリル、ピリジル、ピリダジル、ピリミジニ
ル、ピラジニル、トリアジニル、キノリニル、イソキノ
リニル、フタラジニル、キノキサリニル、キナゾリニ
ル、プリニル、プテリジニル、アゼピニル、ベンゾオキ
セピニル等の各基が挙げられる。
窒素、酸素、硫黄、セレンのうち少なくとも一つを含有
する飽和又は不飽和の5員環、6員環又は7員環のもの
である。これらにベンゼン環又はヘテロ環が縮合してい
てもよい。R211のヘテロ環の例としては、フラニル、
チエニル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、
トリアゾリル、ピロリジニル、ベンズオキサゾリル、ベ
ンゾチアゾリル、ピリジル、ピリダジル、ピリミジニ
ル、ピラジニル、トリアジニル、キノリニル、イソキノ
リニル、フタラジニル、キノキサリニル、キナゾリニ
ル、プリニル、プテリジニル、アゼピニル、ベンゾオキ
セピニル等の各基が挙げられる。
【0205】R211の有してもよい置換基としては、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルコキシ
カルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ
基、アリールスルホニルオキシ基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アミド基、アルコキシカ
ルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、ウレイド基、スルホンアミド基、スルファモイルア
ミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルカルバモ
イル基、カルバモイルカルバモイル基、スルホニルカル
バモイル基、スルファモイルカルバモイル基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフ
ィニル基、アリールスルフィニル基、アルコキシスルホ
ニル基、アリールオキシスルホニル基、スルファモイル
基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモ
イル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキ
シル基、スルホ基、ホスホノ基、ヒドロキシル基、メル
カプト基、イミド基、アゾ基等が挙げられる。
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルコキシ
カルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ
基、アリールスルホニルオキシ基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アミド基、アルコキシカ
ルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、ウレイド基、スルホンアミド基、スルファモイルア
ミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルカルバモ
イル基、カルバモイルカルバモイル基、スルホニルカル
バモイル基、スルファモイルカルバモイル基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフ
ィニル基、アリールスルフィニル基、アルコキシスルホ
ニル基、アリールオキシスルホニル基、スルファモイル
基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモ
イル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキ
シル基、スルホ基、ホスホノ基、ヒドロキシル基、メル
カプト基、イミド基、アゾ基等が挙げられる。
【0206】R222で表されるアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基として
は、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。
基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基として
は、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。
【0207】R222のアルキル基としては、好ましくは
炭素数1ないし16の直鎖、分岐又は環状のもので、例
えばメチル、エチル、ヘキシル、ドデシル、2−オクチ
ル、t−ブチル、シクロペンチル、シクロオクチル等の
各基が挙げられる。
炭素数1ないし16の直鎖、分岐又は環状のもので、例
えばメチル、エチル、ヘキシル、ドデシル、2−オクチ
ル、t−ブチル、シクロペンチル、シクロオクチル等の
各基が挙げられる。
【0208】R222のアルケニル基としては、好ましく
は炭素数2ないし16の鎖状又は環状のもので、例え
ば、ビニル、1−オクテニル、シクロヘキセニルが挙げ
られる。
は炭素数2ないし16の鎖状又は環状のもので、例え
ば、ビニル、1−オクテニル、シクロヘキセニルが挙げ
られる。
【0209】R222のアルキニル基としては、好ましく
は炭素数2ないし16のもので、例えば1−ブチニル、
フェニルエチニル等が挙げられる。
は炭素数2ないし16のもので、例えば1−ブチニル、
フェニルエチニル等が挙げられる。
【0210】R222のアリール基及びヘテロ環基として
は、R221で述べたものが挙げられる。
は、R221で述べたものが挙げられる。
【0211】R222の有する置換基としてはR221の置換
基で述べたものが挙げられる。Lとしては−SO2−、
−CO−、−COCO−、−CO−O−、−CON(R
213)−、−COCO−O−、−COCO−N(R223)
−又は−SO2−N(R223)−が挙げられる。ここでR
223は水素原子又はR222と同義の基である。これらの基
の中で−SO2−、−CO−、−CON(R223)−、−
CO−O−が好ましく、発色性が特に優れるという点で
−SO2−、−CON(R223)−が特に好ましい。
基で述べたものが挙げられる。Lとしては−SO2−、
−CO−、−COCO−、−CO−O−、−CON(R
213)−、−COCO−O−、−COCO−N(R223)
−又は−SO2−N(R223)−が挙げられる。ここでR
223は水素原子又はR222と同義の基である。これらの基
の中で−SO2−、−CO−、−CON(R223)−、−
CO−O−が好ましく、発色性が特に優れるという点で
−SO2−、−CON(R223)−が特に好ましい。
【0212】一般式(22)で表される化合物の中でL
が−SO2−以外のものとしては一般式(23)及び
(24)で表される化合物が好ましい。
が−SO2−以外のものとしては一般式(23)及び
(24)で表される化合物が好ましい。
【0213】以下に一般式(23)又は(24)で表さ
れる化合物について詳しく説明する。
れる化合物について詳しく説明する。
【0214】前記一般式(23)において、X1、X2、
X3、X4、X5は水素原子又は置換基を表すが、該置換
基の例としては、炭素数1〜50の直鎖又は分岐、鎖状
又は環状のアルキル基(例えば、トリフルオロメチル、
メチル、エチル、プロピル、ヘプタフルオロプロピル、
イソプロピル、ブチル、t−ブチル、t−ペンチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、オクチル、2−エチル
ヘキシル、ドデシル等の各基)、炭素数2〜50の直鎖
又は分岐、鎖状又は環状のアルケニル基(例えばビニ
ル、1−メチルビニル、シクロヘキセン−1−イル等の
各基)、総炭素数2〜50のアルキニル基(例えば、エ
チニル、1−プロピニル等の各基)、炭素数6〜50の
アリール基(例えば、フェニル、ナフチル、アントリル
等の各基)、炭素数1〜50のアシルオキシ基(例え
ば、アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベンゾイル
オキシ等の各基)、炭素数1〜50のカルバモイルオキ
シ基(例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ基
等)、炭素数1〜50のカルボンアミド基(例えば、ホ
ルムアミド、N−メチルアセトアミド、アセトアミド、
N−メチルホルムアミド、ベンツアミド等の各基)、炭
素数1〜50のスルホンアミド基(例えば、メタンスル
ホンアミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホ
ンアミド、p−トルエンスルホンアミド等の各基)、炭
素数1〜50のカルバモイル基(例えば、N−メチルカ
ルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メシ
ルカルバモイル等の各基)、炭素数0〜50のスルファ
モイル基(例えば、N−ブチルスルファモイル、N,N
−ジエチルスルファモイル、N−メチル−N−(4−メ
トキシフェニル)スルファモイル等の各基)、炭素数1
〜50のアルコキシ基(例えば、メトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、t−オクチルオ
キシ、ドデシルオキシ、2−(2,4−ジ−t−ペンチ
ルフェノキシ)エトキシ等の各基)、炭素数6〜50の
アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、4−メトキシ
フェノキシ、ナフトキシ等の各基)、炭素数7〜50の
アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカル
ボニル、ナフトキシカルボニル等の各基)、炭素数2〜
50のアルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカル
ボニル、t−ブトキシカルボニル等の各基)、炭素数1
〜50のN−アシルスルファモイル基(例えば、N−テ
トラデカノイルスルファモイル、N−ベンゾイルスルフ
ァモイル等の各基)、炭素数1〜50のアルキルスルホ
ニル基(例えば、メタンスルホニル、オクチルスルホニ
ル、2−メトキシエチルスルホニル、2−ヘキシルデシ
ルスルホニル等の各基)、炭素数6〜50のアリールス
ルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−トルエ
ンスルホニル、4−フェニルスルホニルフェニルスルホ
ニル等の各基)、炭素数2〜50のアルコキシカルボニ
ルアミノ基(例えば、エトキシカルボニルアミノ基
等)、炭素数7〜50のアリールオキシカルボニルアミ
ノ基(例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキ
シカルボニルアミノ等の各基)、炭素数0〜50のアミ
ノ基(例えばアミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、
ジイソプロピルアミノ、アニリノ、モルホリノ等の各
基)、炭素数1〜50のアルキルスルフィニル基(例え
ば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル等の各
基)、炭素数6〜50のアリールスルフィニル基(例え
ば、ベンゼンスルフィニル、4−クロロフェニルスルフ
ィニル、p−トルエンスルフィニル等の各基)、炭素数
1〜50のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ、オク
チルチオ、シクロヘキシルチオ等の各基)、炭素数6〜
50のアリールチオ基(例えば、フェニルチオ、ナフチ
ルチオ等の各基)、炭素数1〜50のウレイド基(例え
ば、3−メチルウレイド、3,3−ジメチルウレイド、
1,3−ジフェニルウレイド等の各基)、炭素数2〜5
0のヘテロ環基(ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸
素及びイオウ等を少なくとも1個以上含み、3ないし1
2員環の単環、縮合環で、例えば、2−フリル、2−ピ
ラニル、2−ピリジル、2−チエニル、2−イミダゾリ
ル、モルホリノ、2−キノリル、2−ベンツイミダゾリ
ル、2−ベンゾチアゾリル、2−ベンゾオキサゾリル等
の各基)、炭素数1〜50のアシル基(例えば、アセチ
ル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル等の各基)、炭
素数3〜50のシリル基(例えば、トリメチルシリル、
ジメチル−t−ブチルシリル、トリフェニルシリル等の
各基)、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロ
キシ基、スルホ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)等が挙げられ
る。上記の置換基は更に置換基を有していてもよく、そ
の置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられ
る。置換基の炭素数に関しては50以下が好ましいが、
より好ましくは42以下であり、最も好ましくは34以
下である。また、1以上が好ましい。
X3、X4、X5は水素原子又は置換基を表すが、該置換
基の例としては、炭素数1〜50の直鎖又は分岐、鎖状
又は環状のアルキル基(例えば、トリフルオロメチル、
メチル、エチル、プロピル、ヘプタフルオロプロピル、
イソプロピル、ブチル、t−ブチル、t−ペンチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、オクチル、2−エチル
ヘキシル、ドデシル等の各基)、炭素数2〜50の直鎖
又は分岐、鎖状又は環状のアルケニル基(例えばビニ
ル、1−メチルビニル、シクロヘキセン−1−イル等の
各基)、総炭素数2〜50のアルキニル基(例えば、エ
チニル、1−プロピニル等の各基)、炭素数6〜50の
アリール基(例えば、フェニル、ナフチル、アントリル
等の各基)、炭素数1〜50のアシルオキシ基(例え
ば、アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベンゾイル
オキシ等の各基)、炭素数1〜50のカルバモイルオキ
シ基(例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ基
等)、炭素数1〜50のカルボンアミド基(例えば、ホ
ルムアミド、N−メチルアセトアミド、アセトアミド、
N−メチルホルムアミド、ベンツアミド等の各基)、炭
素数1〜50のスルホンアミド基(例えば、メタンスル
ホンアミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホ
ンアミド、p−トルエンスルホンアミド等の各基)、炭
素数1〜50のカルバモイル基(例えば、N−メチルカ
ルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−メシ
ルカルバモイル等の各基)、炭素数0〜50のスルファ
モイル基(例えば、N−ブチルスルファモイル、N,N
−ジエチルスルファモイル、N−メチル−N−(4−メ
トキシフェニル)スルファモイル等の各基)、炭素数1
〜50のアルコキシ基(例えば、メトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、t−オクチルオ
キシ、ドデシルオキシ、2−(2,4−ジ−t−ペンチ
ルフェノキシ)エトキシ等の各基)、炭素数6〜50の
アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、4−メトキシ
フェノキシ、ナフトキシ等の各基)、炭素数7〜50の
アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカル
ボニル、ナフトキシカルボニル等の各基)、炭素数2〜
50のアルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカル
ボニル、t−ブトキシカルボニル等の各基)、炭素数1
〜50のN−アシルスルファモイル基(例えば、N−テ
トラデカノイルスルファモイル、N−ベンゾイルスルフ
ァモイル等の各基)、炭素数1〜50のアルキルスルホ
ニル基(例えば、メタンスルホニル、オクチルスルホニ
ル、2−メトキシエチルスルホニル、2−ヘキシルデシ
ルスルホニル等の各基)、炭素数6〜50のアリールス
ルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−トルエ
ンスルホニル、4−フェニルスルホニルフェニルスルホ
ニル等の各基)、炭素数2〜50のアルコキシカルボニ
ルアミノ基(例えば、エトキシカルボニルアミノ基
等)、炭素数7〜50のアリールオキシカルボニルアミ
ノ基(例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキ
シカルボニルアミノ等の各基)、炭素数0〜50のアミ
ノ基(例えばアミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、
ジイソプロピルアミノ、アニリノ、モルホリノ等の各
基)、炭素数1〜50のアルキルスルフィニル基(例え
ば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル等の各
基)、炭素数6〜50のアリールスルフィニル基(例え
ば、ベンゼンスルフィニル、4−クロロフェニルスルフ
ィニル、p−トルエンスルフィニル等の各基)、炭素数
1〜50のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ、オク
チルチオ、シクロヘキシルチオ等の各基)、炭素数6〜
50のアリールチオ基(例えば、フェニルチオ、ナフチ
ルチオ等の各基)、炭素数1〜50のウレイド基(例え
ば、3−メチルウレイド、3,3−ジメチルウレイド、
1,3−ジフェニルウレイド等の各基)、炭素数2〜5
0のヘテロ環基(ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸
素及びイオウ等を少なくとも1個以上含み、3ないし1
2員環の単環、縮合環で、例えば、2−フリル、2−ピ
ラニル、2−ピリジル、2−チエニル、2−イミダゾリ
ル、モルホリノ、2−キノリル、2−ベンツイミダゾリ
ル、2−ベンゾチアゾリル、2−ベンゾオキサゾリル等
の各基)、炭素数1〜50のアシル基(例えば、アセチ
ル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル等の各基)、炭
素数3〜50のシリル基(例えば、トリメチルシリル、
ジメチル−t−ブチルシリル、トリフェニルシリル等の
各基)、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロ
キシ基、スルホ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)等が挙げられ
る。上記の置換基は更に置換基を有していてもよく、そ
の置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられ
る。置換基の炭素数に関しては50以下が好ましいが、
より好ましくは42以下であり、最も好ましくは34以
下である。また、1以上が好ましい。
【0215】またX1、X2、X3、X4、X5は互いに結
合して縮合環を形成しても良い。縮合環としては5〜7
員環が好ましく、5〜6員環が更に好ましい。
合して縮合環を形成しても良い。縮合環としては5〜7
員環が好ましく、5〜6員環が更に好ましい。
【0216】一般式(23)におけるX1、X2、X3、
X4、X5に関しては、X1、X3、X5のハメットの置換
基定数σp値とX2、X4のハメットの置換基定数σm値の
和は0.80以上、3.80以下であり、好ましくは
1.20以上、3.80以下であり、更に好ましくは
1.50以上、3.80以下であり、更に好ましくは
1.70以上、3.80以下である。ここで、σp値と
σm値の総和が、0.80に満たないと発色性が十分で
ないなどの問題があり、また逆に3.80をこえると、
化合物自体の合成・入手が困難となる。
X4、X5に関しては、X1、X3、X5のハメットの置換
基定数σp値とX2、X4のハメットの置換基定数σm値の
和は0.80以上、3.80以下であり、好ましくは
1.20以上、3.80以下であり、更に好ましくは
1.50以上、3.80以下であり、更に好ましくは
1.70以上、3.80以下である。ここで、σp値と
σm値の総和が、0.80に満たないと発色性が十分で
ないなどの問題があり、また逆に3.80をこえると、
化合物自体の合成・入手が困難となる。
【0217】なお、ハメットの置換基定数σp、σmにつ
いては、例えば稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性
−」(丸善)、「新実験化学講座14,有機化合物の合
成と反応V」2605頁(日本化学会編,丸善)、仲矢
忠雄著「理論有機化学解説」217頁(東京化学同
人)、ケミカル・レビュー(91巻),165〜195
頁(1991年)等の成書に詳しく解説されている。
いては、例えば稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性
−」(丸善)、「新実験化学講座14,有機化合物の合
成と反応V」2605頁(日本化学会編,丸善)、仲矢
忠雄著「理論有機化学解説」217頁(東京化学同
人)、ケミカル・レビュー(91巻),165〜195
頁(1991年)等の成書に詳しく解説されている。
【0218】一般式(23)、(24)における
R231、R232、R241、R242は水素原子又は置換基を表
すが、該置換基の具体例としてはX1、X2、X3、X4、
X5について述べたものと同義であるが、好ましくは水
素原子又は炭素数1〜50の置換若しくは無置換のアル
キル基、炭素数6〜50の置換若しくは無置換のアリー
ル基、炭素数1〜50の置換若しくは無置換のヘテロ環
基であり、更に好ましくはR231、R232の少なくとも一
方及びR241、R242の少なくとも一方は水素原子であ
る。
R231、R232、R241、R242は水素原子又は置換基を表
すが、該置換基の具体例としてはX1、X2、X3、X4、
X5について述べたものと同義であるが、好ましくは水
素原子又は炭素数1〜50の置換若しくは無置換のアル
キル基、炭素数6〜50の置換若しくは無置換のアリー
ル基、炭素数1〜50の置換若しくは無置換のヘテロ環
基であり、更に好ましくはR231、R232の少なくとも一
方及びR241、R242の少なくとも一方は水素原子であ
る。
【0219】一般式(24)においてR243はヘテロ環
基を表すが、該ヘテロ環基で好ましいヘテロ環基として
は、炭素数1〜50のヘテロ環基であり、ヘテロ原子と
しては例えば、窒素、酸素及びイオウ原子等を少なくと
も一個以上を含む、飽和又は不飽和の3〜12員環(好
ましくは3〜8員環)の単環又は縮合環のヘテロ環基で
あり、ヘテロ環基の具体例としてはフラン、ピラン、ピ
リジン、チオフェン、イミダゾール、キノリン、ベンツ
イミダゾール、ベンゾチアゾール、ベンツオキサゾー
ル、ピリミジン、ピラジン、1,2,4−チアジアゾー
ル、ピロール、オキサゾール、チアゾール、キナゾリ
ン、イソチアゾール、ピリダジン、インドール、ピラゾ
ール、トリアゾール、キノキサリンなどから導かれる基
が挙げられる。これらのヘテロ環基は置換基を有してい
ても良く、一個以上の電子吸引性の基を有しているもの
が好ましい。ここで電子吸引性の基とはハメットのσp
値で正の値を有しているものを意味する。本発明の発色
用還元剤を感光材料に内蔵させるうえで、R231、
R232、R241、R242、R243、X1〜X5の少なくとも1
つの基にバラスト基を有していることが好ましい。
基を表すが、該ヘテロ環基で好ましいヘテロ環基として
は、炭素数1〜50のヘテロ環基であり、ヘテロ原子と
しては例えば、窒素、酸素及びイオウ原子等を少なくと
も一個以上を含む、飽和又は不飽和の3〜12員環(好
ましくは3〜8員環)の単環又は縮合環のヘテロ環基で
あり、ヘテロ環基の具体例としてはフラン、ピラン、ピ
リジン、チオフェン、イミダゾール、キノリン、ベンツ
イミダゾール、ベンゾチアゾール、ベンツオキサゾー
ル、ピリミジン、ピラジン、1,2,4−チアジアゾー
ル、ピロール、オキサゾール、チアゾール、キナゾリ
ン、イソチアゾール、ピリダジン、インドール、ピラゾ
ール、トリアゾール、キノキサリンなどから導かれる基
が挙げられる。これらのヘテロ環基は置換基を有してい
ても良く、一個以上の電子吸引性の基を有しているもの
が好ましい。ここで電子吸引性の基とはハメットのσp
値で正の値を有しているものを意味する。本発明の発色
用還元剤を感光材料に内蔵させるうえで、R231、
R232、R241、R242、R243、X1〜X5の少なくとも1
つの基にバラスト基を有していることが好ましい。
【0220】次に本発明で用いられる前記一般式(2
2)で表される新規な発色用還元剤のうちLが−SO2
−以外のものを具体的に示すが、本発明の範囲はこれら
具体例に限定されるものではない。またLが−SO2−
のものについては欧州特許第545,491号、同第5
65,165号、米国特許第5,415,981号等の
化合物が挙げられる。
2)で表される新規な発色用還元剤のうちLが−SO2
−以外のものを具体的に示すが、本発明の範囲はこれら
具体例に限定されるものではない。またLが−SO2−
のものについては欧州特許第545,491号、同第5
65,165号、米国特許第5,415,981号等の
化合物が挙げられる。
【0221】以下に本発明の発色現像主薬(発色用還元
剤)の具体例を記すが、本発明はこれによって限定され
ない。
剤)の具体例を記すが、本発明はこれによって限定され
ない。
【0222】
【化84】
【0223】
【化85】
【0224】
【化86】
【0225】
【化87】
【0226】
【化88】
【0227】
【化89】
【0228】
【化90】
【0229】
【化91】
【0230】
【化92】
【0231】
【化93】
【0232】
【化94】
【0233】
【化95】
【0234】
【化96】
【0235】
【化97】
【0236】
【化98】 以下に本発明の一般式(2)、(3)、(4)、
(5)、(6)、(13−2)、(14)、(18)、
(19)、(20)で表されるシアンカプラー及び本発
明で用いられるヒドラジン型発色現像主薬との発色色素
の合成例を記す。
(5)、(6)、(13−2)、(14)、(18)、
(19)、(20)で表されるシアンカプラー及び本発
明で用いられるヒドラジン型発色現像主薬との発色色素
の合成例を記す。
【0237】合成例1(例示化合物1−1の合成) 例示化合物1−1は、下記のスキームに従って合成でき
る。
る。
【0238】
【化99】 (a)の合成 5−アミノ−1−ナフトール100gをN,N−ジメチ
ルアセトアミド650mlに溶解し、窒素雰囲気下でク
ロロぎ酸オクチル127gを40分にわたって滴下し
た。滴下終了後、60℃に加熱し、3時間攪拌を続け
た。放冷後酢酸エチル1lを加え、不溶物を吸引濾過
し、ろ液を飽和食塩水で洗浄後、溶媒を濃縮した。
ルアセトアミド650mlに溶解し、窒素雰囲気下でク
ロロぎ酸オクチル127gを40分にわたって滴下し
た。滴下終了後、60℃に加熱し、3時間攪拌を続け
た。放冷後酢酸エチル1lを加え、不溶物を吸引濾過
し、ろ液を飽和食塩水で洗浄後、溶媒を濃縮した。
【0239】シリカゲルを用いたカラム(溶媒=ヘキサ
ン2:酢酸エチル1)により精製し、次いでトルエン、
ヘキサン混合溶媒により再結晶して目的とする(a)を
103g得た。
ン2:酢酸エチル1)により精製し、次いでトルエン、
ヘキサン混合溶媒により再結晶して目的とする(a)を
103g得た。
【0240】(b)の合成 (a)94.5gをエタノール310mlに溶解し、塩
化亜鉛59.5gを加えて攪拌しながら50℃に加熱し
た。次いで亜硝酸ナトリウム20.7gを水40mlに
溶かした溶液を約60℃で滴下した。60℃〜65℃で
2時間加熱攪拌し、室温まで放冷した。赤褐色の固体を
濾過し、エタノールで洗浄した。得られた固体を濃塩酸
70mlに加え、室温で1時間攪拌後、水300mlを
加え、更に1時間攪拌した。析出した結晶を濾過、水
洗、乾燥し、黄土色固体45gを得た。
化亜鉛59.5gを加えて攪拌しながら50℃に加熱し
た。次いで亜硝酸ナトリウム20.7gを水40mlに
溶かした溶液を約60℃で滴下した。60℃〜65℃で
2時間加熱攪拌し、室温まで放冷した。赤褐色の固体を
濾過し、エタノールで洗浄した。得られた固体を濃塩酸
70mlに加え、室温で1時間攪拌後、水300mlを
加え、更に1時間攪拌した。析出した結晶を濾過、水
洗、乾燥し、黄土色固体45gを得た。
【0241】上記黄土色固体を10%水酸化ナトリウム
水溶液500mlに溶かし、ハイドロサルファイトナト
リウム167gを徐々に加えた。濃赤色溶液が淡黄色に
変化した後、氷冷しながら希塩酸で中和した。
水溶液500mlに溶かし、ハイドロサルファイトナト
リウム167gを徐々に加えた。濃赤色溶液が淡黄色に
変化した後、氷冷しながら希塩酸で中和した。
【0242】生成物を濾過、水洗、乾燥して淡褐色固体
32gの(b)を得た。
32gの(b)を得た。
【0243】例示化合物1−1の合成 (b)33.0gを酢酸エチル180mlに溶解し、1
6.4gの酢酸ナトリウムを85mlの水で溶かした水
溶液を加え、室温で激しく攪拌した。エチルオキザリル
クロライド16.4gを10分間かけて滴下し、そのま
ま室温で2時間攪拌を続けた。
6.4gの酢酸ナトリウムを85mlの水で溶かした水
溶液を加え、室温で激しく攪拌した。エチルオキザリル
クロライド16.4gを10分間かけて滴下し、そのま
ま室温で2時間攪拌を続けた。
【0244】反応終了後、有機層を水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を濃縮した。エタノールより再結
晶して目的とする例示化合物1−1を20.3g得た。
シウムで乾燥し、溶媒を濃縮した。エタノールより再結
晶して目的とする例示化合物1−1を20.3g得た。
【0245】構造はNMR及びマススペクトルで確認し
た。
た。
【0246】合成例2(例示化合物2−1の合成) 例示化合物2−1は、下記のスキームに従って合成でき
る。
る。
【0247】
【化100】 (c)の合成 (b)33.0gを酢酸エチル180mlに溶解し、1
6.4gの酢酸ナトリウムを85mlの水で溶かした水
溶液を加え、室温で激しく攪拌した。3−クロロ−プロ
ピオニルクロライド15.2gを10分間かけて滴下
し、そのまま室温で2時間攪拌を続けた。
6.4gの酢酸ナトリウムを85mlの水で溶かした水
溶液を加え、室温で激しく攪拌した。3−クロロ−プロ
ピオニルクロライド15.2gを10分間かけて滴下
し、そのまま室温で2時間攪拌を続けた。
【0248】反応終了後、有機層を水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を濃縮した。エタノールより再結
晶して目的とする化合物(c)を20.3g得た。
シウムで乾燥し、溶媒を濃縮した。エタノールより再結
晶して目的とする化合物(c)を20.3g得た。
【0249】構造はNMR及びマススペクトルで確認し
た。
た。
【0250】(d)の合成 (c)5gを10gのアルミニウムクロライドに220
℃で溶融し、そのまま1時間反応を行った。反応液を放
冷後、砕いた氷の上にあけ、酢酸エチルで抽出した。硫
酸マグネシウムにより乾燥し、溶媒を濃縮した。エタノ
ールより再結晶して目的とする(d)を2g得た。構造
はNMR及びマススペクトルで確認した。
℃で溶融し、そのまま1時間反応を行った。反応液を放
冷後、砕いた氷の上にあけ、酢酸エチルで抽出した。硫
酸マグネシウムにより乾燥し、溶媒を濃縮した。エタノ
ールより再結晶して目的とする(d)を2g得た。構造
はNMR及びマススペクトルで確認した。
【0251】例示化合物2−1の合成 (d)2g及びN−クロロこはく酸イミド0.8gをジ
クロロメタン10ml中、室温で一晩攪拌した。反応液
を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を濃縮
した。メタノールより再結晶して目的とする例示化合物
2−1を1.9g得た。
クロロメタン10ml中、室温で一晩攪拌した。反応液
を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を濃縮
した。メタノールより再結晶して目的とする例示化合物
2−1を1.9g得た。
【0252】構造はNMR及びマススペクトルで確認し
た。
た。
【0253】合成例3(例示化合物3−1の合成) 例示化合物3−1は、下記のスキームに従って合成でき
る。
る。
【0254】
【化101】 (e)は、Chem.Ber.39巻,3334−33
35ページ(1906)を参考にして合成した。
35ページ(1906)を参考にして合成した。
【0255】(f)の合成 (e)10gとメタノール70mlをコックの付いた耐
圧容器に入れ、攪拌した。系内を窒素により置換した
後、パラジウムカーボンを2g加え、再び窒素により系
内を置換した。攪拌しながらゆっくりと水素を導入し、
4時間水素添加反応を行った。珪藻土を用いてパラジウ
ムカーボンをろ別し、メタノールで洗った。ろ液の溶媒
を濃縮して淡褐色固体8.9gを得た。
圧容器に入れ、攪拌した。系内を窒素により置換した
後、パラジウムカーボンを2g加え、再び窒素により系
内を置換した。攪拌しながらゆっくりと水素を導入し、
4時間水素添加反応を行った。珪藻土を用いてパラジウ
ムカーボンをろ別し、メタノールで洗った。ろ液の溶媒
を濃縮して淡褐色固体8.9gを得た。
【0256】例示化合物3−1の合成 (f)5gをN,N−ジメチルアセトアミド30mlに
溶解し、窒素雰囲気下でクロロぎ酸オクチル5.2gを
10分にわたって滴下した。滴下終了後、60℃に加熱
し、3時間攪拌を続けた。放冷後酢酸エチル50mlを
加え、不溶物を吸引濾過し、ろ液を飽和食塩水で洗浄
後、溶媒を濃縮した。
溶解し、窒素雰囲気下でクロロぎ酸オクチル5.2gを
10分にわたって滴下した。滴下終了後、60℃に加熱
し、3時間攪拌を続けた。放冷後酢酸エチル50mlを
加え、不溶物を吸引濾過し、ろ液を飽和食塩水で洗浄
後、溶媒を濃縮した。
【0257】酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒により再結
晶して目的とする3−1を4.2g得た。
晶して目的とする3−1を4.2g得た。
【0258】構造はNMR及びマススペクトルで確認し
た。
た。
【0259】合成例4−1(例示化合物4−1の合成) 例示化合物4−1は、下記のスキームに従って合成でき
る。
る。
【0260】
【化102】 5−アミノ−1−ナフトール32.0gをジメチルアセ
トアミド200mlに溶解し、室温でかきまぜながらク
ロロギ酸イソブチル28.0gを滴下した。滴下後、内
温50〜60℃に保ちながら3時間かきまぜ、水400
mlを加えた。これを酢酸エチル200mlで2度抽出
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、珪藻
土で濾過精製し、濃縮して粗生成物を得た。これをヘキ
サン/酢酸エチル(3/1)混合溶媒にて再結晶するこ
とによって化合物(A)35.7gを得た。
トアミド200mlに溶解し、室温でかきまぜながらク
ロロギ酸イソブチル28.0gを滴下した。滴下後、内
温50〜60℃に保ちながら3時間かきまぜ、水400
mlを加えた。これを酢酸エチル200mlで2度抽出
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、珪藻
土で濾過精製し、濃縮して粗生成物を得た。これをヘキ
サン/酢酸エチル(3/1)混合溶媒にて再結晶するこ
とによって化合物(A)35.7gを得た。
【0261】クロロギ酸フェニル47.0gにジクロロ
メタン250mlを加え、更に無水塩化アルミニウム4
0.0gを加えてかきまぜ溶解させた。これに化合物
(A)26.0gを加え、還流下10時間反応させた。
反応後、250mlの氷水に反応混合物を注ぎ、ジクロ
ロメタン500mlで抽出した。溶媒を溜去後、反応混
合物を酢酸エチル100mlに溶解し、50℃に加熱し
ながらアセトニトリル300mlをゆっくりと加え氷冷
した後、析出結晶を濾取することで化合物(B)20.
5gを得た。
メタン250mlを加え、更に無水塩化アルミニウム4
0.0gを加えてかきまぜ溶解させた。これに化合物
(A)26.0gを加え、還流下10時間反応させた。
反応後、250mlの氷水に反応混合物を注ぎ、ジクロ
ロメタン500mlで抽出した。溶媒を溜去後、反応混
合物を酢酸エチル100mlに溶解し、50℃に加熱し
ながらアセトニトリル300mlをゆっくりと加え氷冷
した後、析出結晶を濾取することで化合物(B)20.
5gを得た。
【0262】化合物(B)9.5gとジベンジルヒドラ
ジン6.5gをジメチルアセトアミド25mlに加え、
120〜130℃で5時間かきまぜた。反応後食塩水1
00mlと酢酸エチル100mlを加え、有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後に濃縮した。これをシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタ
ノール系溶離液)により精製し、メタノールにて再結晶
することで目的とするカプラー(4−1)を8.7得
た。
ジン6.5gをジメチルアセトアミド25mlに加え、
120〜130℃で5時間かきまぜた。反応後食塩水1
00mlと酢酸エチル100mlを加え、有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後に濃縮した。これをシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタ
ノール系溶離液)により精製し、メタノールにて再結晶
することで目的とするカプラー(4−1)を8.7得
た。
【0263】合成例4−2(例示化合物4−10の合
成) 化合物4−10は、下記のスキームに従って合成でき
る。
成) 化合物4−10は、下記のスキームに従って合成でき
る。
【0264】
【化103】 5−アミノ−1−ナフトール32.0gをジメチルアセ
トアミド200mlに溶解し、室温でかきまぜながらク
ロロギ酸ドデシル45.0gを滴下した。滴下後、内温
50〜60℃に保ちながら3時間かきまぜ、水400m
lを加えた。これを酢酸エチル250mlで2度抽出
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、珪藻
土で濾過精製し、濃縮して粗生成物を得た。これをヘキ
サン/酢酸エチル(3/1)混合溶媒にて再結晶するこ
とによって化合物(C)38.2gを得た。
トアミド200mlに溶解し、室温でかきまぜながらク
ロロギ酸ドデシル45.0gを滴下した。滴下後、内温
50〜60℃に保ちながら3時間かきまぜ、水400m
lを加えた。これを酢酸エチル250mlで2度抽出
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、珪藻
土で濾過精製し、濃縮して粗生成物を得た。これをヘキ
サン/酢酸エチル(3/1)混合溶媒にて再結晶するこ
とによって化合物(C)38.2gを得た。
【0265】クロロギ酸−4−ニトロフェニル8.8g
にジクロロメタン50mlを加え、更に無水塩化アルミ
ニウム5.8gを加えてかきまぜ溶解させた。これに化
合物(C)5.0gを加え、還流下7時間反応させた。
反応後、50mlの氷水に反応混合物を注ぎ、ジクロロ
メタン100mlで抽出し、溶媒を溜去した。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メ
タノール系溶離液)により精製することで化合物(D)
4.5gを得た。
にジクロロメタン50mlを加え、更に無水塩化アルミ
ニウム5.8gを加えてかきまぜ溶解させた。これに化
合物(C)5.0gを加え、還流下7時間反応させた。
反応後、50mlの氷水に反応混合物を注ぎ、ジクロロ
メタン100mlで抽出し、溶媒を溜去した。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メ
タノール系溶離液)により精製することで化合物(D)
4.5gを得た。
【0266】化合物(D)4.0gとベンジルオキシア
ミン1.5gをジメチルアセトアミド12mlに加え、
120〜130℃で8時間かきまぜた。反応後食塩水5
0mlと酢酸エチル70mlを加え、有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後に濃縮した。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノー
ル系溶離液)により精製することで目的とするカプラー
(4−10)を2.3g得た。
ミン1.5gをジメチルアセトアミド12mlに加え、
120〜130℃で8時間かきまぜた。反応後食塩水5
0mlと酢酸エチル70mlを加え、有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後に濃縮した。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノー
ル系溶離液)により精製することで目的とするカプラー
(4−10)を2.3g得た。
【0267】合成例5(例示化合物5−1の合成) 例示化合物5−1の合成 合成例1に記載の中間体(b)33.0gを酢酸エチル
180mlに溶解し、16.4gの酢酸ナトリウムを8
5mlの水で溶かした水溶液を加え、室温で激しく攪拌
した。塩化リン酸ジエチルエステル18.1gを10分
間かけて滴下し、そのまま室温で2時間攪拌を続けた。
180mlに溶解し、16.4gの酢酸ナトリウムを8
5mlの水で溶かした水溶液を加え、室温で激しく攪拌
した。塩化リン酸ジエチルエステル18.1gを10分
間かけて滴下し、そのまま室温で2時間攪拌を続けた。
【0268】反応終了後、有機層を水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を濃縮した。エタノールより再結
晶して目的とする例示化合物5−1を19.8g得た。
シウムで乾燥し、溶媒を濃縮した。エタノールより再結
晶して目的とする例示化合物5−1を19.8g得た。
【0269】構造はNMR及びマススペクトルで確認し
た。
た。
【0270】合成例6(例示化合物8−1の合成) 例示化合物8−1は、下記のスキームに従って合成でき
る。
る。
【0271】
【化104】 中間体1の合成 1,8−ナフトサルタム20.5gをDMF150ミリ
リットルに溶解した後、氷浴下で冷却し5℃とした。こ
こにN−クロロスクシンイミド14.6gを約1時間か
けて徐々に添加し、更に約10℃で3時間撹拌した。反
応液を300gの氷中に注ぎ、析出してきた固体を濾取
し、更にその固体を水洗した。
リットルに溶解した後、氷浴下で冷却し5℃とした。こ
こにN−クロロスクシンイミド14.6gを約1時間か
けて徐々に添加し、更に約10℃で3時間撹拌した。反
応液を300gの氷中に注ぎ、析出してきた固体を濾取
し、更にその固体を水洗した。
【0272】得られた固体を乾燥した後、エタノールに
より再結晶し、淡褐色結晶の中間体1:13.6gを得
た。
より再結晶し、淡褐色結晶の中間体1:13.6gを得
た。
【0273】(lHNMR,IR,FDマススペクトル
により中間体1であることを確認した。) 中間体2の合成 中間体1:13.5gを酢酸40ミリリットルに溶解
後、硫酸40ミリリットルを加えて氷浴下で冷却し7℃
とした。ここに比重1.38の硝酸水溶液4.2ミリリ
ットルを約1時間かけて滴下した。更に10℃で4時間
撹拌した後反応液を400gの氷中に注ぎ、析出してき
た固体を濾取し、更にその固体を水洗した。
により中間体1であることを確認した。) 中間体2の合成 中間体1:13.5gを酢酸40ミリリットルに溶解
後、硫酸40ミリリットルを加えて氷浴下で冷却し7℃
とした。ここに比重1.38の硝酸水溶液4.2ミリリ
ットルを約1時間かけて滴下した。更に10℃で4時間
撹拌した後反応液を400gの氷中に注ぎ、析出してき
た固体を濾取し、更にその固体を水洗した。
【0274】得られた固体を乾燥した後、エタノール/
酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、黄色結晶の中間体
2:14.1gを得た。
酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、黄色結晶の中間体
2:14.1gを得た。
【0275】(lHNMR,IR,FDマススペクトル
により中間体2であることを確認した。) 中間体3の合成 中間体2:14.0gをメタノール300ミリリットル
に溶解し、更にパラジウム・カーボン0.70gを添加
した。この反応混合物に水素ガスを導入し、水素ガスの
吸収がなくなるまで、室温下で激しく振とうさせた。触
媒のパラジウムカーボンを濾過し、メタノールを減圧留
去し12.5gの中間体3を得た。
により中間体2であることを確認した。) 中間体3の合成 中間体2:14.0gをメタノール300ミリリットル
に溶解し、更にパラジウム・カーボン0.70gを添加
した。この反応混合物に水素ガスを導入し、水素ガスの
吸収がなくなるまで、室温下で激しく振とうさせた。触
媒のパラジウムカーボンを濾過し、メタノールを減圧留
去し12.5gの中間体3を得た。
【0276】(lHNMR,IR,FDマススペクトル
により中間体3であることを確認した。) 化合物8−1の合成 中間体3:12.5gに酢酸エチル300ミリリットル
と酢酸ナトリウム4.4g、更に水100ミリリットル
を加え、氷冷下で撹拌した。
により中間体3であることを確認した。) 化合物8−1の合成 中間体3:12.5gに酢酸エチル300ミリリットル
と酢酸ナトリウム4.4g、更に水100ミリリットル
を加え、氷冷下で撹拌した。
【0277】この反応混合物中にテトラデカノイルクロ
ライド12.7g−酢酸エチル100ミリリットル溶液
を徐々に滴下した。
ライド12.7g−酢酸エチル100ミリリットル溶液
を徐々に滴下した。
【0278】滴下終了後15℃で2時間撹拌し、水相を
分液した後、2%炭酸水素ナトリウム水溶液100ミリ
リットルで2回、水100ミリリットルで2回洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒の酢酸エチルを減
圧留去した。得られた固体をアセトニトリルで再結晶
し、淡黄色結晶の化合物8−1:14.4gを得た。
分液した後、2%炭酸水素ナトリウム水溶液100ミリ
リットルで2回、水100ミリリットルで2回洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒の酢酸エチルを減
圧留去した。得られた固体をアセトニトリルで再結晶
し、淡黄色結晶の化合物8−1:14.4gを得た。
【0279】(lHNMR,IR,FDマススペクトル
により化合物8−1であることを確認した。) 合成例7(例示化合物9−3の合成) 例示化合物9−3は、下記のスキームに従って合成でき
る。
により化合物8−1であることを確認した。) 合成例7(例示化合物9−3の合成) 例示化合物9−3は、下記のスキームに従って合成でき
る。
【0280】
【化105】 炭酸ナトリウム20gを水500mlに溶解し、更に酢
酸エチル700ml、2−アミノペリミジン臭化水素塩
(1)26.4gを添加する。この懸濁液に(2)3
7.3gを酢酸エチルに溶解した溶液を室温下、約30
分で滴下した後、更に室温で2時間攪拌した。
酸エチル700ml、2−アミノペリミジン臭化水素塩
(1)26.4gを添加する。この懸濁液に(2)3
7.3gを酢酸エチルに溶解した溶液を室温下、約30
分で滴下した後、更に室温で2時間攪拌した。
【0281】反応液を分液し、500mlの水で3回洗
浄後、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の酢
酸エチルを減圧留去し、得られた黄色油状物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色粉末9−
3:29.5gを得た。
浄後、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の酢
酸エチルを減圧留去し、得られた黄色油状物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色粉末9−
3:29.5gを得た。
【0282】構造はNMR及びマススペクトルであるこ
とを確認した。
とを確認した。
【0283】本発明の一般式(16−1)、(16−
2)、(17)のカプラーは、オルガニックシンセシ
ス,コレクティブ,4巻,172頁,180頁に記載さ
れている方法を参照して合成することができる。
2)、(17)のカプラーは、オルガニックシンセシ
ス,コレクティブ,4巻,172頁,180頁に記載さ
れている方法を参照して合成することができる。
【0284】合成例8(例示化合物12−2の合成) 例示化合物12−2は、下記のスキームに従って合成で
きる。
きる。
【0285】
【化106】 中間体〔2〕の合成 1,5−ジアミノナフタレン47.5gを水300ml
に懸濁させておき、そこに55mlの12N塩酸を加え
溶解する。この溶液中にチオシアン酸アンモニウム25
gを加え80〜90℃で1時間加熱攪拌する。反応液を
ゆっくりと濃縮した後、得られた固体を乳ばちで細くす
りつぶし、これを150〜200℃で5時間加熱する。
得られた固体に水300mlを加え、70℃まで加熱し
た後に室温まで冷却し、析出した固体を濾過、乾燥し、
更にトルエン−エタノールの混合溶媒で再結晶したとこ
ろ白色結晶の中間体〔2〕:23.7gを得た。
に懸濁させておき、そこに55mlの12N塩酸を加え
溶解する。この溶液中にチオシアン酸アンモニウム25
gを加え80〜90℃で1時間加熱攪拌する。反応液を
ゆっくりと濃縮した後、得られた固体を乳ばちで細くす
りつぶし、これを150〜200℃で5時間加熱する。
得られた固体に水300mlを加え、70℃まで加熱し
た後に室温まで冷却し、析出した固体を濾過、乾燥し、
更にトルエン−エタノールの混合溶媒で再結晶したとこ
ろ白色結晶の中間体〔2〕:23.7gを得た。
【0286】NMR,FDマススペクトル,IRにより
中間体〔2〕であることを確認した。
中間体〔2〕であることを確認した。
【0287】中間体〔3〕の合成 中間体〔2〕22.9g100mlの沸騰水に懸濁し、
更に水酸化カリウム49.5gを60mlの水に溶かし
た熱溶液を加え、ただちに二酢酸鉛三水和物37.7g
の熱飽和水溶液を加え10分間煮沸した後、黒色不溶物
を熱時間濾過し、得られた濾液を室温まで冷却したとこ
ろ白色の結晶が析出した。この結晶を濾過し、更に水
洗、乾燥し、中間体〔3〕:14.3gを得た。
更に水酸化カリウム49.5gを60mlの水に溶かし
た熱溶液を加え、ただちに二酢酸鉛三水和物37.7g
の熱飽和水溶液を加え10分間煮沸した後、黒色不溶物
を熱時間濾過し、得られた濾液を室温まで冷却したとこ
ろ白色の結晶が析出した。この結晶を濾過し、更に水
洗、乾燥し、中間体〔3〕:14.3gを得た。
【0288】NMR,FDマススペクトル,IRにより
中間体〔3〕であることを確認した。
中間体〔3〕であることを確認した。
【0289】化合物12−2の合成 中間体〔3〕:14.9gを酢酸エチル300mlの懸
濁させ、更に酢酸ナトリウム7.5gを水50mlに溶
かした溶液を添加し、氷冷して5℃の懸濁液とする。こ
の混合液にペンタデカン酸クロリド21.9gの酢酸エ
チル溶液を約30分かけて滴下した後、5℃で4時間攪
拌した。反応液を分液し、更に200mlの水で3回洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶液を減圧留去
した。得られた固体をアセトニトリルで再結晶したとこ
ろ化合物12−2の白色結晶22.1gを得た。(融点
83〜87℃) NMR,FDマススペクトル,IRにより化合物12−
2であることを確認した。
濁させ、更に酢酸ナトリウム7.5gを水50mlに溶
かした溶液を添加し、氷冷して5℃の懸濁液とする。こ
の混合液にペンタデカン酸クロリド21.9gの酢酸エ
チル溶液を約30分かけて滴下した後、5℃で4時間攪
拌した。反応液を分液し、更に200mlの水で3回洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶液を減圧留去
した。得られた固体をアセトニトリルで再結晶したとこ
ろ化合物12−2の白色結晶22.1gを得た。(融点
83〜87℃) NMR,FDマススペクトル,IRにより化合物12−
2であることを確認した。
【0290】合成例9(例示化合物13−15の合成) これらの本発明の一般式(19)で表される化合物の合
成法は公知であり、例えば、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイエティー,パーキン トランザクション
(J.chem.Soc.,Perkin Tran
s.);1987年,(6),815〜818頁に記載
された方法を利用できるが、以下に本発明の一般式(1
9)で表される化合物の例示化合物13−15の合成例
を示す。
成法は公知であり、例えば、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイエティー,パーキン トランザクション
(J.chem.Soc.,Perkin Tran
s.);1987年,(6),815〜818頁に記載
された方法を利用できるが、以下に本発明の一般式(1
9)で表される化合物の例示化合物13−15の合成例
を示す。
【0291】例示化合物13−15は、下記のスキーム
に従って合成できる。
に従って合成できる。
【0292】
【化107】 〔a〕の合成 6−アミノ−インダン−1,3−ジオン16g(0.1
モル)、2,4−ジ−tert−アミルフェノキシ酢酸
クロリド31g(0.1モル)及びトリエチルアミン1
2g(0.12モル)を500mlのクロロホルムに加
え5時間加熱還流した。
モル)、2,4−ジ−tert−アミルフェノキシ酢酸
クロリド31g(0.1モル)及びトリエチルアミン1
2g(0.12モル)を500mlのクロロホルムに加
え5時間加熱還流した。
【0293】クロロホルムを留去後、500mlの水で
10分間煮沸還流し、冷却後析出する結晶を濾取しメタ
ノールより再結晶して、24g(0.055モル)の
〔a〕を得た。
10分間煮沸還流し、冷却後析出する結晶を濾取しメタ
ノールより再結晶して、24g(0.055モル)の
〔a〕を得た。
【0294】化合物13−15の合成 21g(0.05モル)の〔a〕及び6.6g(0.1
0モル)のマロノニトリルを脱水エタノール300ml
に加え、22℃で攪拌した。
0モル)のマロノニトリルを脱水エタノール300ml
に加え、22℃で攪拌した。
【0295】更に、8g(0.10モル)の無水酢酸ナ
トリウムを添加し、22℃で1時間攪拌を続けた。その
後、500mlの水で希釈し、塩酸で反応液のpHを1
〜2に調整し、析出する結晶を濾取した後、メタノール
より2回再結晶して、9.5g(0.02モル)の例示
化合物13−15を得た。
トリウムを添加し、22℃で1時間攪拌を続けた。その
後、500mlの水で希釈し、塩酸で反応液のpHを1
〜2に調整し、析出する結晶を濾取した後、メタノール
より2回再結晶して、9.5g(0.02モル)の例示
化合物13−15を得た。
【0296】マススペクトル及びNMRスペクトルによ
り構造を確認した。
り構造を確認した。
【0297】本発明の一般式(17)で表されるその他
の化合物も前記合成法に準じた方法で合成することがで
きる。
の化合物も前記合成法に準じた方法で合成することがで
きる。
【0298】本発明の一般式(20)、(21)で表さ
れる化合物(カプラー)の合成については、ジャーナル
・オブ・ケミカルソサエティー・パーキン・トランザク
ション(J.Chem.Soc.,Perkin Tr
ans.)II,1987年、815−818頁及び英国
特許第2,026,528号明細書に記載の合成法に準
じて行うことができる。
れる化合物(カプラー)の合成については、ジャーナル
・オブ・ケミカルソサエティー・パーキン・トランザク
ション(J.Chem.Soc.,Perkin Tr
ans.)II,1987年、815−818頁及び英国
特許第2,026,528号明細書に記載の合成法に準
じて行うことができる。
【0299】合成例10(発色色素の合成、例示化合物
1−1とCD−16の発色色素の合成) 例示化合物1−1:0.86g、CD−16:1.1
g、アセトニトリル60ml及びN,N−トリエチルア
ミン0.24gを室温で攪拌した。ここに酸化銀0.9
3gを加えて室温で2時間攪拌を続けた。珪藻土を用い
て析出した銀を吸引濾過し、アセトニトリルで洗浄し
た。ろ液の溶媒を濃縮し、残さを酢酸エチル100ml
で溶解した。これを水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥後、
溶媒を濃縮した。メタノールより再結晶して目的とする
発色色素を0.4g得た。
1−1とCD−16の発色色素の合成) 例示化合物1−1:0.86g、CD−16:1.1
g、アセトニトリル60ml及びN,N−トリエチルア
ミン0.24gを室温で攪拌した。ここに酸化銀0.9
3gを加えて室温で2時間攪拌を続けた。珪藻土を用い
て析出した銀を吸引濾過し、アセトニトリルで洗浄し
た。ろ液の溶媒を濃縮し、残さを酢酸エチル100ml
で溶解した。これを水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥後、
溶媒を濃縮した。メタノールより再結晶して目的とする
発色色素を0.4g得た。
【0300】構造はNMR及びマススペクトルで確認し
た。
た。
【0301】得られた発色色素の分光吸収を測定したと
ころ、副吸収の少ない良好な吸収であった。
ころ、副吸収の少ない良好な吸収であった。
【0302】同様にして例示化合物2−1、3−1、4
−1、5−1、8−1、9−3、12−2、13−1
5、14−についてもCD−16との発色色素をそれぞ
れ合成し、その分光吸収を測定したが、何れも副吸収の
少ない、良好な色素であった。
−1、5−1、8−1、9−3、12−2、13−1
5、14−についてもCD−16との発色色素をそれぞ
れ合成し、その分光吸収を測定したが、何れも副吸収の
少ない、良好な色素であった。
【0303】本発明のシアンカプラーと好ましく併用さ
れるカプラーとしては、以下の一般式(25)〜(3
6)に記載するような構造の化合物がある。これらはそ
れぞれ一般に活性メチレン、ピラゾロン、ピラゾロアゾ
ール、フェノール、ナフトール、ピロロトリアゾールと
総称される化合物であり、当該分野で公知の化合物であ
る。
れるカプラーとしては、以下の一般式(25)〜(3
6)に記載するような構造の化合物がある。これらはそ
れぞれ一般に活性メチレン、ピラゾロン、ピラゾロアゾ
ール、フェノール、ナフトール、ピロロトリアゾールと
総称される化合物であり、当該分野で公知の化合物であ
る。
【0304】
【化108】
【0305】
【化109】 一般式(25)〜(28)は活性メチレン系カプラーと
称されるカプラーを表し、式中R251は置換基を有して
も良いアシル基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘ
テロ環残基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、窒素原子に少なくとも1個の水素原子を
有するカルバモイル基、スルファモイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基である。
称されるカプラーを表し、式中R251は置換基を有して
も良いアシル基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘ
テロ環残基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、窒素原子に少なくとも1個の水素原子を
有するカルバモイル基、スルファモイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基である。
【0306】一般式(25)〜(27)において、R
261は置換基を有しても良いアルキル基、アリール基又
はヘテロ環残基である。一般式(28)においてR271
は置換基を有しても良いアリール基又はヘテロ環残基で
ある。R251、R261、R271が有しても良い置換基とし
ては、前述のX1〜X5の例として述べたものが挙げられ
る。
261は置換基を有しても良いアルキル基、アリール基又
はヘテロ環残基である。一般式(28)においてR271
は置換基を有しても良いアリール基又はヘテロ環残基で
ある。R251、R261、R271が有しても良い置換基とし
ては、前述のX1〜X5の例として述べたものが挙げられ
る。
【0307】一般式(25)〜(28)において、Yは
水素原子又は発色用還元剤の酸化体とのカップリング反
応により脱離可能な基である。Yの例として、ヘテロ環
基(ヘテロ原子としては窒素、酸素、イオウ等を少なく
とも一個含み、飽和又は不飽和の5〜7員環の単環若し
くは縮合環であり、例としては、スクシンイミド、マレ
インイミド、フタルイミド、ジグリコールイミド、ピロ
ール、ピラゾール、イミダゾール、1,2,4−トリア
ゾール、テトラゾール、インドール、ベンゾピラゾー
ル、ベンツイミダゾール、ベンゾトリアゾール、イミダ
ゾリン−2,4−ジオン、オキサゾリジン−2,4−ジ
オン、チアゾリジン−2,4−ジオン、イミダゾリジン
−2−オン、オキサゾリン−2−オン、チアゾリン−2
−オン、ベンツイミダゾリン−2−オン、ベンゾオキサ
ゾリン−2−オン、ベンゾチアゾリン−2−オン、2−
ピロリン−5−オン、2−イミダゾリン−5−オン、イ
ンドリン−2,3−ジオン、2,6−ジオキシプリン、
パラバン酸、1,2,4−トリアゾリジン−3,5−ジ
オン、2−ピリドン、4−ピリドン、2−ピリミドン、
6−ピリダゾン、2−ピラゾン、2−アミノ−1,3,
4−チアゾリジン、2−イミノ−1,3,4−チアゾリ
ジン−4−オン等)、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子等)、アリールオキシ基(例えば、フェノ
キシ、1−ナフトキシ等)、ヘテロ環オキシ基(例え
ば、ピリジルオキシ、ピラゾリルオキシ等)、アシルオ
キシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、
アルコキシ基(例えば、メトキシ、ドデシルオキシ
等)、カルバモイルオキシ基(例えば、N,N−ジエチ
ルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ
等)、アリールオキシカルボニルオキシ基(例えば、フ
ェノキシカルボニルオキシ等)、アルコキシカルボニル
オキシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキ
シカルボニルオキシ等)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ、ナフチルチオ等)、ヘテロ環チオ基(例え
ば、テトラゾリルチオ、1,3,4−チアジアゾリルチ
オ、1,3,4−オキサジアゾリルチオ、ベンツイミダ
ゾリルチオ等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチ
オ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ等)、アルキルス
ルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキシ
等)、アリールスルホニルオキシ基(例えば、ベンゼン
スルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ等)、カ
ルボンアミド基(例えば、アセタミド、トリフルオロア
セタミド等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスル
ホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、アルキルス
ルホニル基(例えば、メタンスルホニル等)、アリール
スルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル等)、アル
キルスルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル
等)、アリールスルフィニル基(例えば、ベンゼンスル
フィニル等)、アリールアゾ基(例えば、フェニルア
ゾ、ナフチルアゾ等)、カルバモイルアミノ基(例え
ば、N−メチルカルバモイルアミノ等)などである。
水素原子又は発色用還元剤の酸化体とのカップリング反
応により脱離可能な基である。Yの例として、ヘテロ環
基(ヘテロ原子としては窒素、酸素、イオウ等を少なく
とも一個含み、飽和又は不飽和の5〜7員環の単環若し
くは縮合環であり、例としては、スクシンイミド、マレ
インイミド、フタルイミド、ジグリコールイミド、ピロ
ール、ピラゾール、イミダゾール、1,2,4−トリア
ゾール、テトラゾール、インドール、ベンゾピラゾー
ル、ベンツイミダゾール、ベンゾトリアゾール、イミダ
ゾリン−2,4−ジオン、オキサゾリジン−2,4−ジ
オン、チアゾリジン−2,4−ジオン、イミダゾリジン
−2−オン、オキサゾリン−2−オン、チアゾリン−2
−オン、ベンツイミダゾリン−2−オン、ベンゾオキサ
ゾリン−2−オン、ベンゾチアゾリン−2−オン、2−
ピロリン−5−オン、2−イミダゾリン−5−オン、イ
ンドリン−2,3−ジオン、2,6−ジオキシプリン、
パラバン酸、1,2,4−トリアゾリジン−3,5−ジ
オン、2−ピリドン、4−ピリドン、2−ピリミドン、
6−ピリダゾン、2−ピラゾン、2−アミノ−1,3,
4−チアゾリジン、2−イミノ−1,3,4−チアゾリ
ジン−4−オン等)、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子等)、アリールオキシ基(例えば、フェノ
キシ、1−ナフトキシ等)、ヘテロ環オキシ基(例え
ば、ピリジルオキシ、ピラゾリルオキシ等)、アシルオ
キシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、
アルコキシ基(例えば、メトキシ、ドデシルオキシ
等)、カルバモイルオキシ基(例えば、N,N−ジエチ
ルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ
等)、アリールオキシカルボニルオキシ基(例えば、フ
ェノキシカルボニルオキシ等)、アルコキシカルボニル
オキシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキ
シカルボニルオキシ等)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ、ナフチルチオ等)、ヘテロ環チオ基(例え
ば、テトラゾリルチオ、1,3,4−チアジアゾリルチ
オ、1,3,4−オキサジアゾリルチオ、ベンツイミダ
ゾリルチオ等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチ
オ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ等)、アルキルス
ルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキシ
等)、アリールスルホニルオキシ基(例えば、ベンゼン
スルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ等)、カ
ルボンアミド基(例えば、アセタミド、トリフルオロア
セタミド等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスル
ホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、アルキルス
ルホニル基(例えば、メタンスルホニル等)、アリール
スルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル等)、アル
キルスルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル
等)、アリールスルフィニル基(例えば、ベンゼンスル
フィニル等)、アリールアゾ基(例えば、フェニルア
ゾ、ナフチルアゾ等)、カルバモイルアミノ基(例え
ば、N−メチルカルバモイルアミノ等)などである。
【0308】Yは置換基により置換されていても良く、
Yを置換する置換基の例としてはX1〜X5で述べたもの
が挙げられる。Yは好ましくはハロゲン原子、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アリー
ルオキシカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオ
キシ基、カルバモイルオキシ基である。
Yを置換する置換基の例としてはX1〜X5で述べたもの
が挙げられる。Yは好ましくはハロゲン原子、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アリー
ルオキシカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオ
キシ基、カルバモイルオキシ基である。
【0309】一般式(25)〜(28)において、R
251とR261、R251とR271は互いに結合して環を形成し
ても良い。
251とR261、R251とR271は互いに結合して環を形成し
ても良い。
【0310】一般式(29)は5−ピラゾロン系カプラ
ーと称されるカプラーを表し、式中R271はアルキル
基、アリール基、アシル基又はカルバモイル基を表す。
R281はフェニル基又は1個以上のハロゲン原子、アル
キル基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニ
ル基又はアシルアミノ基が置換したフェニル基を表す。
ーと称されるカプラーを表し、式中R271はアルキル
基、アリール基、アシル基又はカルバモイル基を表す。
R281はフェニル基又は1個以上のハロゲン原子、アル
キル基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニ
ル基又はアシルアミノ基が置換したフェニル基を表す。
【0311】一般式(29)で表される5−ピラゾロン
系カプラーの中でもR281がアリール基又はアシル基、
R291が1個以上のハロゲン原子が置換したフェニル基
のものが好ましい。これらの好ましい基について詳しく
述べると、R281はフェニル基、2−クロロフェニル
基、2−メトキシフェニル基、2−クロロ−5−テトラ
デカンアミドフェニル基、2−クロロ−5−(3−オク
タデセニル−1−スクシンイミド)フェニル基、2−ク
ロロ−5−オクタデシルスルホンアミドフェニル基又は
2−クロロ−5−〔2−(4−ヒドロキシ−3−t−ブ
チルフェノキシ)テトラデカンアミド〕フェニル基等の
アリール基又はアセチル基、2−(2,4−ジ−t−ペ
ンチルフェノキシ)ブタノイル基、ベンゾイル基、3−
(2,4−ジ−t−アミルフェノキシアセトアミド)ベ
ンゾイル基等のアシル基であり、これらの基は更に置換
基を有しても良く、それらは炭素原子、酸素原子、窒素
原子又はイオウ原子で連結する有機置換基又はハロゲン
原子である。Yについては前述したものと同じ意味であ
る。
系カプラーの中でもR281がアリール基又はアシル基、
R291が1個以上のハロゲン原子が置換したフェニル基
のものが好ましい。これらの好ましい基について詳しく
述べると、R281はフェニル基、2−クロロフェニル
基、2−メトキシフェニル基、2−クロロ−5−テトラ
デカンアミドフェニル基、2−クロロ−5−(3−オク
タデセニル−1−スクシンイミド)フェニル基、2−ク
ロロ−5−オクタデシルスルホンアミドフェニル基又は
2−クロロ−5−〔2−(4−ヒドロキシ−3−t−ブ
チルフェノキシ)テトラデカンアミド〕フェニル基等の
アリール基又はアセチル基、2−(2,4−ジ−t−ペ
ンチルフェノキシ)ブタノイル基、ベンゾイル基、3−
(2,4−ジ−t−アミルフェノキシアセトアミド)ベ
ンゾイル基等のアシル基であり、これらの基は更に置換
基を有しても良く、それらは炭素原子、酸素原子、窒素
原子又はイオウ原子で連結する有機置換基又はハロゲン
原子である。Yについては前述したものと同じ意味であ
る。
【0312】R291は2,4,6−トリクロロフェニル
基、2,5−ジクロロフェニル基、2−クロロフェニル
基等の置換フェニル基が好ましい。一般式(29)はピ
ラゾロアゾール系カプラーと称されるカプラーを表し、
式中、R291は水素原子又は置換基を表す。Qは窒素原
子を2〜4個含む5員のアゾール環を形成するのに必要
な非金属原子群を表し、該アゾール環は置換基(縮合環
を含む)を有しても良い。一般式(30)で表されるピ
ラゾロアゾール系カプラーの中でも、発色色素の分光吸
収特性の点で、米国特許第4,500,630号に記載
のイミダゾ〔1,2−b〕ピラゾール類、米国特許第
4,500,654号に記載のピラゾロ〔1,5−b〕
−1,2,4−トリアゾール類、米国特許第3,72
5,067号に記載のピラゾロ〔5,1−c〕−1,
2,4−トリアゾール類が好ましい。
基、2,5−ジクロロフェニル基、2−クロロフェニル
基等の置換フェニル基が好ましい。一般式(29)はピ
ラゾロアゾール系カプラーと称されるカプラーを表し、
式中、R291は水素原子又は置換基を表す。Qは窒素原
子を2〜4個含む5員のアゾール環を形成するのに必要
な非金属原子群を表し、該アゾール環は置換基(縮合環
を含む)を有しても良い。一般式(30)で表されるピ
ラゾロアゾール系カプラーの中でも、発色色素の分光吸
収特性の点で、米国特許第4,500,630号に記載
のイミダゾ〔1,2−b〕ピラゾール類、米国特許第
4,500,654号に記載のピラゾロ〔1,5−b〕
−1,2,4−トリアゾール類、米国特許第3,72
5,067号に記載のピラゾロ〔5,1−c〕−1,
2,4−トリアゾール類が好ましい。
【0313】置換基R301、Qで表されるアゾール環の
置換基の詳細については、例えば、米国特許第4,54
0,654号明細書中の第2カラム第41行〜第8カラ
ム第27行に記載されている。好ましくは特開昭61−
65245号に記載されているような分岐アルキル基が
ピラゾロトリアゾール基の2、3又は6位に直結したピ
ラゾロアゾールカプラー、特開昭61−65245号に
記載されている分子内にスルホンアミド基を含んだピラ
ゾロアゾールカプラー、特開昭61−147254号に
記載されているアルコキシフェニルスルホンアミドバラ
スト基を持つピラゾロアゾールカプラー、特開昭62−
209457号若しくは同63−307453号に記載
されている6位にアルコキシ基やアリールオキシ基を持
つピラゾロトリアゾールカプラー、及び特開平2−20
1443号に記載されている分子内にカルボンアミド基
を持つピラゾロトリアゾールカプラーである。Yに関し
ては前述したものと同じ意味を表す。
置換基の詳細については、例えば、米国特許第4,54
0,654号明細書中の第2カラム第41行〜第8カラ
ム第27行に記載されている。好ましくは特開昭61−
65245号に記載されているような分岐アルキル基が
ピラゾロトリアゾール基の2、3又は6位に直結したピ
ラゾロアゾールカプラー、特開昭61−65245号に
記載されている分子内にスルホンアミド基を含んだピラ
ゾロアゾールカプラー、特開昭61−147254号に
記載されているアルコキシフェニルスルホンアミドバラ
スト基を持つピラゾロアゾールカプラー、特開昭62−
209457号若しくは同63−307453号に記載
されている6位にアルコキシ基やアリールオキシ基を持
つピラゾロトリアゾールカプラー、及び特開平2−20
1443号に記載されている分子内にカルボンアミド基
を持つピラゾロトリアゾールカプラーである。Yに関し
ては前述したものと同じ意味を表す。
【0314】一般式(31)、(32)はそれぞれフェ
ノール系カプラー、ナフトール系カプラーと称されるカ
プラーであり、式中、R311は水素原子又は−CONR
322R323、−SO2NR322R323、−NHCOR322、−
NHCONR322R323、−NHSO2NR322R323から
選ばれる基を表す。R322、R323は水素原子又は置換基
を表す。一般式(31)、(32)において、R321は
置換基を表し、lは0〜2から選ばれる整数、mは0〜
4から選ばれる整数を表す。l、mが2以上の時にはR
321はそれぞれ異なっていても良い。R321〜R323の置
換基としては前記一般式(23)のX1〜X5の例として
述べたものが挙げられる。Yに関しては前述のものと同
じ意味を表す。
ノール系カプラー、ナフトール系カプラーと称されるカ
プラーであり、式中、R311は水素原子又は−CONR
322R323、−SO2NR322R323、−NHCOR322、−
NHCONR322R323、−NHSO2NR322R323から
選ばれる基を表す。R322、R323は水素原子又は置換基
を表す。一般式(31)、(32)において、R321は
置換基を表し、lは0〜2から選ばれる整数、mは0〜
4から選ばれる整数を表す。l、mが2以上の時にはR
321はそれぞれ異なっていても良い。R321〜R323の置
換基としては前記一般式(23)のX1〜X5の例として
述べたものが挙げられる。Yに関しては前述のものと同
じ意味を表す。
【0315】一般式(31)で表されるフェノール系カ
プラーの好ましい例としては、米国特許第2,369,
929号、同第2,801,171号、同第2,77
2,162号、同第2,895,826号、同第3,7
72,002号等に記載の2−アシルアミノ−5−アル
キルフェノール系、米国特許第2,772,162号、
同第3,758,308号、同第4,126,396
号、同第4,334,011号、同第4,327,17
3号、西独特許公開第3,329,729号、特開昭5
9−166956号等に記載の2,5−ジアシルアミノ
フェノール系、米国特許第3,446,622号、同第
4,333,999号、同第4,451,559号、同
第4,427,767号等に記載の2−フェニルウレイ
ド−5−アシルアミノフェノール系を挙げることができ
る。Yに関しては前述したものと同じである。
プラーの好ましい例としては、米国特許第2,369,
929号、同第2,801,171号、同第2,77
2,162号、同第2,895,826号、同第3,7
72,002号等に記載の2−アシルアミノ−5−アル
キルフェノール系、米国特許第2,772,162号、
同第3,758,308号、同第4,126,396
号、同第4,334,011号、同第4,327,17
3号、西独特許公開第3,329,729号、特開昭5
9−166956号等に記載の2,5−ジアシルアミノ
フェノール系、米国特許第3,446,622号、同第
4,333,999号、同第4,451,559号、同
第4,427,767号等に記載の2−フェニルウレイ
ド−5−アシルアミノフェノール系を挙げることができ
る。Yに関しては前述したものと同じである。
【0316】一般式(32)で表されるナフトールカプ
ラーの好ましい例としては、米国特許第2,474,2
93号、同第4,052,212号、同第4,146,
396号、同第4,282,233号、同第4,29
6,200号等に記載の2−カルバモイル−1−ナフト
ール系及び米国特許第4,690,889号等に記載の
2−カルバモイル−5−アミド−1−ナフトール系等を
挙げることができる。Yに関しては前述したものと同じ
である。
ラーの好ましい例としては、米国特許第2,474,2
93号、同第4,052,212号、同第4,146,
396号、同第4,282,233号、同第4,29
6,200号等に記載の2−カルバモイル−1−ナフト
ール系及び米国特許第4,690,889号等に記載の
2−カルバモイル−5−アミド−1−ナフトール系等を
挙げることができる。Yに関しては前述したものと同じ
である。
【0317】一般式(33)〜(36)はピロロトリア
ゾールと称されるカプラーであり、R331、R341、R
351は水素原子又は置換基を表す。Yについては前述し
たとおりである。R331、R341、R351の置換基として
は、前記X1〜X5の例として述べたものが挙げられる。
一般式(33)〜(36)で表されるピロロトリアゾー
ル系カプラーの好ましい例としては、欧州特許第48
8,248A1号、同第491,197A1号、同第5
45,300号に記載のR331、R341の少なくとも一方
が電子吸引性基であるカプラーが挙げられる。Yに関し
ては前述したものと同じである。その他、縮環フェノー
ル、イミダゾール、ピロール、3−ヒドロキシピリジ
ン、前記以外の活性メチレン、活性メチン、5,5−縮
環複素環、5,6−縮環複素環といった構造を有するカ
プラーが使用できる。
ゾールと称されるカプラーであり、R331、R341、R
351は水素原子又は置換基を表す。Yについては前述し
たとおりである。R331、R341、R351の置換基として
は、前記X1〜X5の例として述べたものが挙げられる。
一般式(33)〜(36)で表されるピロロトリアゾー
ル系カプラーの好ましい例としては、欧州特許第48
8,248A1号、同第491,197A1号、同第5
45,300号に記載のR331、R341の少なくとも一方
が電子吸引性基であるカプラーが挙げられる。Yに関し
ては前述したものと同じである。その他、縮環フェノー
ル、イミダゾール、ピロール、3−ヒドロキシピリジ
ン、前記以外の活性メチレン、活性メチン、5,5−縮
環複素環、5,6−縮環複素環といった構造を有するカ
プラーが使用できる。
【0318】縮環フェノール系カプラーとしては米国特
許第4,327,173号、同第4,564,586
号、同第4,904,575号等に記載のカプラーを使
用できる。イミダゾール系カプラーとしては、米国特許
第4,818,672号、同第5,051,347号等
に記載のカプラーが使用できる。3−ヒドロキシピリジ
ン系カプラーとしては特開平1−315736号等に記
載のカプラーが使用できる。
許第4,327,173号、同第4,564,586
号、同第4,904,575号等に記載のカプラーを使
用できる。イミダゾール系カプラーとしては、米国特許
第4,818,672号、同第5,051,347号等
に記載のカプラーが使用できる。3−ヒドロキシピリジ
ン系カプラーとしては特開平1−315736号等に記
載のカプラーが使用できる。
【0319】活性メチレン、活性メチン系カプラーとし
ては米国特許第5,104,783号、同第5,16
2,196号等に記載のカプラーが使用できる。5,5
−縮環複素環系カプラーとしては、米国特許第5,16
4,289号に記載のピロロピラゾール系カプラー、特
開平4−174429号に記載のピロロイミダゾール系
カプラー等が使用できる。5,6−縮環複素環系カプラ
ーとしては、米国特許第4,950,585号に記載の
ピラゾロピリミジン系カプラー、特開平4−20473
0号に記載のピロロトリアジン系カプラー、欧州特許第
556,700号に記載のカプラー等が使用できる。
ては米国特許第5,104,783号、同第5,16
2,196号等に記載のカプラーが使用できる。5,5
−縮環複素環系カプラーとしては、米国特許第5,16
4,289号に記載のピロロピラゾール系カプラー、特
開平4−174429号に記載のピロロイミダゾール系
カプラー等が使用できる。5,6−縮環複素環系カプラ
ーとしては、米国特許第4,950,585号に記載の
ピラゾロピリミジン系カプラー、特開平4−20473
0号に記載のピロロトリアジン系カプラー、欧州特許第
556,700号に記載のカプラー等が使用できる。
【0320】本発明には前述のカプラー以外に、西独特
許第3,819,051A号、同第3,823,049
号、米国特許第4,840,883号、同第5,02
4,930号、同第5,051,347号、同第4,4
81,268号、欧州特許第304,856A2号、同
第329,036号、同第354,549A2号、同第
374,781A2号、同第379,110A2号、同
第386,930A1号、特開昭63−141055
号、同64−32260号、同64−32261号、特
開平2−297547号、同2−44340号、同2−
110555号、同3−7938号、同3−16044
0号、同3−172839号、同4−172447号、
同4−179949号、同4−182645号、同4−
184437号、同4−188138号、同4−188
139号、同4−194847号、同4−204532
号、同4−204731号、同4−204732号等に
記載されているカプラーも使用できる。本発明に使用で
きるカプラーの具体例を以下に示すが、本発明は勿論こ
れによって限定されるわけではない。
許第3,819,051A号、同第3,823,049
号、米国特許第4,840,883号、同第5,02
4,930号、同第5,051,347号、同第4,4
81,268号、欧州特許第304,856A2号、同
第329,036号、同第354,549A2号、同第
374,781A2号、同第379,110A2号、同
第386,930A1号、特開昭63−141055
号、同64−32260号、同64−32261号、特
開平2−297547号、同2−44340号、同2−
110555号、同3−7938号、同3−16044
0号、同3−172839号、同4−172447号、
同4−179949号、同4−182645号、同4−
184437号、同4−188138号、同4−188
139号、同4−194847号、同4−204532
号、同4−204731号、同4−204732号等に
記載されているカプラーも使用できる。本発明に使用で
きるカプラーの具体例を以下に示すが、本発明は勿論こ
れによって限定されるわけではない。
【0321】
【化110】
【0322】
【化111】
【0323】
【化112】
【0324】
【化113】
【0325】
【化114】
【0326】
【化115】
【0327】
【化116】
【0328】
【化117】
【0329】
【化118】
【0330】
【化119】
【0331】
【化120】
【0332】
【化121】
【0333】
【化122】
【0334】
【化123】
【0335】
【化124】
【0336】
【化125】
【0337】
【化126】
【0338】
【化127】
【0339】
【化128】
【0340】
【化129】
【0341】
【化130】 本発明のヒドラジン型発色用還元剤は十分な発色濃度を
得るために、発色層1層当たり0.01〜10mmol
/m2使用することが好ましい。更に好ましい使用量は
0.05〜5mmol/m2であり特に好ましい使用量
は0.1〜1mmol/m2である。この範囲であると
十分な発色濃度が得られる点で好ましい。
得るために、発色層1層当たり0.01〜10mmol
/m2使用することが好ましい。更に好ましい使用量は
0.05〜5mmol/m2であり特に好ましい使用量
は0.1〜1mmol/m2である。この範囲であると
十分な発色濃度が得られる点で好ましい。
【0342】本発明の発色用還元剤が使用される発色層
の画像形成用カプラーの好ましい使用量は発色用還元剤
に対してモル換算で0.05〜20倍で、更に好ましく
は0.1〜10倍、特に好ましくは0.2〜5倍であ
る。この範囲であると十分な発色濃度が得られる点で好
ましい。また、他の発色層に用いられるカプラーにもこ
の量は適用される。
の画像形成用カプラーの好ましい使用量は発色用還元剤
に対してモル換算で0.05〜20倍で、更に好ましく
は0.1〜10倍、特に好ましくは0.2〜5倍であ
る。この範囲であると十分な発色濃度が得られる点で好
ましい。また、他の発色層に用いられるカプラーにもこ
の量は適用される。
【0343】本発明の感光材料は、基本的には支持体に
少なくとも1層の親水性コロイド層からなる写真構成層
を塗布して成り、この写真構成層の何れかに感光性ハロ
ゲン化銀、色素形成用カプラー、発色用還元剤を含有す
る。本発明に用いる色素形成カプラー及び発色用還元剤
は、同一層に添加することが最も代表的な態様である
が、反応可能な状態であれば分割して別層に添加するこ
とができる。これらの成分は、感光材料中のハロゲン化
銀乳剤層又はその隣接層に添加されることが好ましく、
特にハロゲン化銀乳剤層にともに添加することが好まし
い。
少なくとも1層の親水性コロイド層からなる写真構成層
を塗布して成り、この写真構成層の何れかに感光性ハロ
ゲン化銀、色素形成用カプラー、発色用還元剤を含有す
る。本発明に用いる色素形成カプラー及び発色用還元剤
は、同一層に添加することが最も代表的な態様である
が、反応可能な状態であれば分割して別層に添加するこ
とができる。これらの成分は、感光材料中のハロゲン化
銀乳剤層又はその隣接層に添加されることが好ましく、
特にハロゲン化銀乳剤層にともに添加することが好まし
い。
【0344】本発明の発色用還元剤及びカプラーは種々
の公知分散方法により感光材料に導入でき、高沸点有機
溶媒(必要に応じて低沸点有機溶媒を併用)に溶解し、
ゼラチン水溶液に乳化分散してハロゲン化銀乳剤に添加
する水中油滴分散法が好ましい。本発明に用い得る高沸
点有機溶媒は、融点が100℃以下、沸点が140℃以
上の水と非混和性の化合物で、発色用還元剤、及びカプ
ラーの良溶媒であれば使用できる。高沸点有機溶媒の融
点は好ましくは80℃以下である。高沸点有機溶媒の沸
点は、好ましくは160℃以上であり、より好ましくは
170℃以上である。これらの高沸点有機溶媒の詳細に
ついては、特開昭62−215272号公開明細書の第
137頁右下欄〜144頁右上欄に記載されている。本
発明において、高沸点有機溶媒を使用する際に高沸点有
機溶媒の使用量はいかなる量であっても良いが、好まし
くは発色用還元剤に対して、重量比て高沸点有機溶媒/
発色用還元剤比が20以下が好ましく、0.02〜5が
更に好ましく、0.2〜4が特に好ましい。また本発明
には公知のポリマー分散法を用いても良い。ポリマー分
散法の一つとしてのラテックス分散法の工程、効果、含
浸用のラテックスの具体例は、米国特許4,199,3
63号、西独特許出願第(OLS)2,541,274
号、同第2,541,230号、特公昭53−4109
1号及び、欧州特許公開第029104号等に記載され
ており、又水不溶性かつ有機溶媒可溶性ポリマーによる
分散法についてPCT国際公開番号WO88/0072
3号明細書に記載されている。
の公知分散方法により感光材料に導入でき、高沸点有機
溶媒(必要に応じて低沸点有機溶媒を併用)に溶解し、
ゼラチン水溶液に乳化分散してハロゲン化銀乳剤に添加
する水中油滴分散法が好ましい。本発明に用い得る高沸
点有機溶媒は、融点が100℃以下、沸点が140℃以
上の水と非混和性の化合物で、発色用還元剤、及びカプ
ラーの良溶媒であれば使用できる。高沸点有機溶媒の融
点は好ましくは80℃以下である。高沸点有機溶媒の沸
点は、好ましくは160℃以上であり、より好ましくは
170℃以上である。これらの高沸点有機溶媒の詳細に
ついては、特開昭62−215272号公開明細書の第
137頁右下欄〜144頁右上欄に記載されている。本
発明において、高沸点有機溶媒を使用する際に高沸点有
機溶媒の使用量はいかなる量であっても良いが、好まし
くは発色用還元剤に対して、重量比て高沸点有機溶媒/
発色用還元剤比が20以下が好ましく、0.02〜5が
更に好ましく、0.2〜4が特に好ましい。また本発明
には公知のポリマー分散法を用いても良い。ポリマー分
散法の一つとしてのラテックス分散法の工程、効果、含
浸用のラテックスの具体例は、米国特許4,199,3
63号、西独特許出願第(OLS)2,541,274
号、同第2,541,230号、特公昭53−4109
1号及び、欧州特許公開第029104号等に記載され
ており、又水不溶性かつ有機溶媒可溶性ポリマーによる
分散法についてPCT国際公開番号WO88/0072
3号明細書に記載されている。
【0345】本発明の発色用還元剤を含有する親油性微
粒子の平均粒子サイズはいかなる粒子サイズであっても
よい。発色性の観点で0.05〜0.3μmにすること
が好ましい。また0.05μm〜0.2μmが更に好ま
しい。
粒子の平均粒子サイズはいかなる粒子サイズであっても
よい。発色性の観点で0.05〜0.3μmにすること
が好ましい。また0.05μm〜0.2μmが更に好ま
しい。
【0346】一般的に親油性微粒子の平均粒子サイズを
小さくするためには、界面活性剤の種類の選択、界面活
性剤の使用量を増やすこと、親水性コロイド溶液の粘度
を上げること、親油性有機層の粘度を低沸点有機溶媒の
併用などで低下させること、或いは乳化装置の撹拌羽根
の回転を上げる等の剪断力を強くしたり、乳化時間を長
くすること等によって達成される。親油性微粒子の粒子
サイズは例えば英国コールター社製ナノサイザー等の装
置によって測定できる。
小さくするためには、界面活性剤の種類の選択、界面活
性剤の使用量を増やすこと、親水性コロイド溶液の粘度
を上げること、親油性有機層の粘度を低沸点有機溶媒の
併用などで低下させること、或いは乳化装置の撹拌羽根
の回転を上げる等の剪断力を強くしたり、乳化時間を長
くすること等によって達成される。親油性微粒子の粒子
サイズは例えば英国コールター社製ナノサイザー等の装
置によって測定できる。
【0347】本発明においては補助現像主薬を好ましく
用いることができる。ここで補助現像主薬とはハロゲン
化銀現像の現像過程において、発色現像主薬からハロゲ
ン化銀への電子の移動を促進する作用を有する物質を意
味し、本発明における補助現像主薬は好ましくは一般式
(D−1)又は一般式(D−2)で表されるケンダール
−ペルツ則に従う電子放出性の化合物である。この中で
(D−1)で表されるものが特に好ましい。
用いることができる。ここで補助現像主薬とはハロゲン
化銀現像の現像過程において、発色現像主薬からハロゲ
ン化銀への電子の移動を促進する作用を有する物質を意
味し、本発明における補助現像主薬は好ましくは一般式
(D−1)又は一般式(D−2)で表されるケンダール
−ペルツ則に従う電子放出性の化合物である。この中で
(D−1)で表されるものが特に好ましい。
【0348】
【化131】 一般式(D−1)、(D−2)において、Rd1〜Rd4は
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、アリール基、ヘテロ環基を表す。
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、アリール基、ヘテロ環基を表す。
【0349】Rd5〜Rd9は水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロア
ルキルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、アニ
リノ基、ヘテロ環アミノ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、ヘテロ環チオ基、シリル基、ヒドロキシル基、
ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、シクロアル
キルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボ
ニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルファモイル
オキシ基、アルカンスルホニルオキシ基、アレーンスル
ホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、ウレ
イド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、
スルファモイルアミノ基、アルキルスルフィニル基、ア
レーンスルフィニル基、アルカンスルホニル基、アレー
ンスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、ホスフ
ィノイル基、ホスフィノイルアミノ基を表す。
アノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロア
ルキルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、アニ
リノ基、ヘテロ環アミノ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、ヘテロ環チオ基、シリル基、ヒドロキシル基、
ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、シクロアル
キルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボ
ニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルファモイル
オキシ基、アルカンスルホニルオキシ基、アレーンスル
ホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、ウレ
イド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、
スルファモイルアミノ基、アルキルスルフィニル基、ア
レーンスルフィニル基、アルカンスルホニル基、アレー
ンスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、ホスフ
ィノイル基、ホスフィノイルアミノ基を表す。
【0350】qは0〜5の整数を表し、qが2以上のと
きにはRd5はそれぞれ異なっていても良い。
きにはRd5はそれぞれ異なっていても良い。
【0351】Rd10はアルキル基、アリール基を表す。
【0352】一般式(D−1)又は(D−2)で表され
る化合物を具体的に示すが、本発明に用いられる補助現
像主薬はこれら具体例に限定されるものではない。
る化合物を具体的に示すが、本発明に用いられる補助現
像主薬はこれら具体例に限定されるものではない。
【0353】
【化132】
【0354】
【化133】
【0355】
【化134】
【0356】
【化135】
【0357】
【化136】
【0358】
【化137】
【0359】
【化138】 本発明の感光材料には、現像の活性化と同時に画像の安
定化を図る化合物を用いることができる。好ましく用い
られる具体的な化合物については米国特許第4,50
0,626号の第51〜52欄に記載されている。
定化を図る化合物を用いることができる。好ましく用い
られる具体的な化合物については米国特許第4,50
0,626号の第51〜52欄に記載されている。
【0360】イエロー、マゼンタ、シアンの3原色を用
いて、色度図上の広範囲の色を得るためには、少なくと
も3層のそれぞれ異なるスペクトル領域に感光性を持つ
ハロゲン化銀乳剤層を組み合わせて用いる。例えば、青
感層、緑感層、赤感層の3層、緑感層、赤感層、赤外感
層の組み合わせなどがある。各感光層は通常のカラー感
光材料で知られている種々の配列順序を採ることができ
る。また、これらの各感光層は必要に応じて2層以上に
分割してもよい。
いて、色度図上の広範囲の色を得るためには、少なくと
も3層のそれぞれ異なるスペクトル領域に感光性を持つ
ハロゲン化銀乳剤層を組み合わせて用いる。例えば、青
感層、緑感層、赤感層の3層、緑感層、赤感層、赤外感
層の組み合わせなどがある。各感光層は通常のカラー感
光材料で知られている種々の配列順序を採ることができ
る。また、これらの各感光層は必要に応じて2層以上に
分割してもよい。
【0361】感光材料には、保護層、下塗り層、中間
層、アンチハレーション層、バック層などの種々の補助
層を設けることができる。更に色分離性を改良するため
に種々のフィルター染料を添加することもできる。
層、アンチハレーション層、バック層などの種々の補助
層を設けることができる。更に色分離性を改良するため
に種々のフィルター染料を添加することもできる。
【0362】支持体ちしては、ポリエチレン等をラミネ
ートした紙、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リエチレンナフタレートフィルム、バライタ紙、三酢酸
セルローズ等を用いることができる。
ートした紙、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リエチレンナフタレートフィルム、バライタ紙、三酢酸
セルローズ等を用いることができる。
【0363】本発明に使用し得るハロゲン化銀乳剤は、
塩化銀、臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、塩沃化銀、塩沃
臭化銀の何れでもよい。木発明で使用するハロゲン化銀
乳剤は表面潜像型乳剤であっても、内部潜像型乳剤であ
ってもよい。内部潜像型乳剤は造核剤や光カブラセとを
組合わせて直接反転乳剤として使用される。また、粒子
内部と粒子表層が異なる相を持ったいわゆるコアシェル
乳剤であってもよく、またエピタキシャル接合によって
組成の異なるハロゲン化銀が接合されていても良い。ハ
ロゲン化銀乳剤は単分散でも多分散でもよく、特開平1
−167743号、同4−223643号記載のように
単分散乳剤を混合し、階調を調節する方法が好ましく用
いられる。粒子サイズは0.1〜2μm、特に0.2〜
1.5μmが好ましい。ハロゲン化銀粒子の晶癖は立方
体、8面体.14面体のような規則的な結晶を有するも
の、球状、高アスペクト比の平板状のような変則的な結
晶系を有するもの、双晶面のような結晶欠陥を有するも
の、或いはそれらの複合系その他の何れでもよい。具体
的には、米国特許第4,500,626号第50欄、同
第4,628,021号、リサーチ・ディスクロージャ
ー誌(以下RDと略記する)No.17,029(19
78年)、同No.17,643(1978年12月)
22〜23頁、同No.18,716(1979年11
月)、648頁、同No.307,105(1989年
11月)863〜865頁、特開昭62−253159
号、同64−13546号、特開平2−236546
号、同3−110555号、及びグラフキデ著「写真の
物理と化学」、ポールモンテ社刊(P.Glafkid
es,Chemie et Phisique Pho
tographique,PaulMontel,19
67)、ダフイン著「写真乳剤化学」、フォーカルプレ
ス社刊(C.F.Duffin,Photograph
ic Emulsion Chemistry,Foc
al Press,1966)、ゼリクマンら著「写真
乳剤の製造と塗布」、フォーカルプレス社刊(V.L.
Zelikman et al.,Making an
d Coating Photographic Em
ulsion,Focal Press,1964)等
に記載されている方法を用いて調製したハロゲン化銀乳
剤の何れもが使用できる。
塩化銀、臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、塩沃化銀、塩沃
臭化銀の何れでもよい。木発明で使用するハロゲン化銀
乳剤は表面潜像型乳剤であっても、内部潜像型乳剤であ
ってもよい。内部潜像型乳剤は造核剤や光カブラセとを
組合わせて直接反転乳剤として使用される。また、粒子
内部と粒子表層が異なる相を持ったいわゆるコアシェル
乳剤であってもよく、またエピタキシャル接合によって
組成の異なるハロゲン化銀が接合されていても良い。ハ
ロゲン化銀乳剤は単分散でも多分散でもよく、特開平1
−167743号、同4−223643号記載のように
単分散乳剤を混合し、階調を調節する方法が好ましく用
いられる。粒子サイズは0.1〜2μm、特に0.2〜
1.5μmが好ましい。ハロゲン化銀粒子の晶癖は立方
体、8面体.14面体のような規則的な結晶を有するも
の、球状、高アスペクト比の平板状のような変則的な結
晶系を有するもの、双晶面のような結晶欠陥を有するも
の、或いはそれらの複合系その他の何れでもよい。具体
的には、米国特許第4,500,626号第50欄、同
第4,628,021号、リサーチ・ディスクロージャ
ー誌(以下RDと略記する)No.17,029(19
78年)、同No.17,643(1978年12月)
22〜23頁、同No.18,716(1979年11
月)、648頁、同No.307,105(1989年
11月)863〜865頁、特開昭62−253159
号、同64−13546号、特開平2−236546
号、同3−110555号、及びグラフキデ著「写真の
物理と化学」、ポールモンテ社刊(P.Glafkid
es,Chemie et Phisique Pho
tographique,PaulMontel,19
67)、ダフイン著「写真乳剤化学」、フォーカルプレ
ス社刊(C.F.Duffin,Photograph
ic Emulsion Chemistry,Foc
al Press,1966)、ゼリクマンら著「写真
乳剤の製造と塗布」、フォーカルプレス社刊(V.L.
Zelikman et al.,Making an
d Coating Photographic Em
ulsion,Focal Press,1964)等
に記載されている方法を用いて調製したハロゲン化銀乳
剤の何れもが使用できる。
【0364】本発明で使用する感光性ハロゲン化銀乳剤
は、種々の目的でイリジウム、ロジウム、白金、カドミ
ウム、亜鉛、タリウム、鉛、鉄、オスミウム、クロムな
どの重金属を含有させても良い。これらの化合物は、単
独で用いても良いしまた2種以上組み合わせて用いても
よい。また、これらの化合物は、塩化物、臭化物、シア
ン化物等の塩のほか、種々の錯塩で添加することが出来
る。添加量は、使用する目的によるが一般的には、ハロ
ゲン化銀1モルあたリ10-9〜10-3モル程度である。
また含有させる時には、粒子に均一に入れてもよいし、
また粒子の内部や表面に局在させてもよい。具体的に
は、特開平2−236542号、同1−116637
号、特開平5−181246号等に記載の乳剤が好まし
く用いられる。熱現像感光材料の場合には、感光性ハロ
ゲン化銀乳剤と共に有機銀塩酸化剤を用いても良いが、
それを形成するのに使用しうる有機化合物としては、米
国特許第4,500,626号第52〜53欄に記載の
ベンゾトリアゾール類、脂肪酸その他の化合物がある。
また米国特許第4,775,613号記載のアセチレン
銀も有用である。有機銀塩は2種以上を併用してもよ
い。以上の有機銀塩は、感光性ハロゲン化銀1モル当た
り、0.01〜10モル、好ましくは0.01〜1モル
を併用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤と有
機銀塩の塗布量合計は銀換算で0.05〜10g/
m2、好ましくは0.1〜4g/m2が適当である。感光
性ハロゲン化銀乳剤は通常は化学増感されたハロゲン化
銀乳剤である。本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤の化学
増感には、公知の硫黄増感法、セレン増感法、テルル増
感法などのカルコゲン増感法、金、白金、パラジウムな
どを用いる貴金属増感法及び還元増感法などを単独又は
組み合わせて用いることができる(例えば特開平3−1
10555号、特開平5−241267号など)。これ
らの化学増感を含窒素複素環化合物の存在下で行うこと
もできる(特開昭62−253159号)。また後掲す
るかぶリ防止剤を化学増感終了後に添加することができ
る。具体的には特開平5−45833号、特開昭62−
40446号記載の方法を用いることができる。化学増
感時のpHは好ましくは5.3〜10.5、より好まし
くは5.5〜8.5であり、pAgは好ましくは6.0
〜10.5、より好ましくは6.8〜9.0である。本
発明において使用される感光性ハロゲン化銀乳剤の好ま
しい塗布量は、銀換算1mgないし10g/m2の範囲
である。
は、種々の目的でイリジウム、ロジウム、白金、カドミ
ウム、亜鉛、タリウム、鉛、鉄、オスミウム、クロムな
どの重金属を含有させても良い。これらの化合物は、単
独で用いても良いしまた2種以上組み合わせて用いても
よい。また、これらの化合物は、塩化物、臭化物、シア
ン化物等の塩のほか、種々の錯塩で添加することが出来
る。添加量は、使用する目的によるが一般的には、ハロ
ゲン化銀1モルあたリ10-9〜10-3モル程度である。
また含有させる時には、粒子に均一に入れてもよいし、
また粒子の内部や表面に局在させてもよい。具体的に
は、特開平2−236542号、同1−116637
号、特開平5−181246号等に記載の乳剤が好まし
く用いられる。熱現像感光材料の場合には、感光性ハロ
ゲン化銀乳剤と共に有機銀塩酸化剤を用いても良いが、
それを形成するのに使用しうる有機化合物としては、米
国特許第4,500,626号第52〜53欄に記載の
ベンゾトリアゾール類、脂肪酸その他の化合物がある。
また米国特許第4,775,613号記載のアセチレン
銀も有用である。有機銀塩は2種以上を併用してもよ
い。以上の有機銀塩は、感光性ハロゲン化銀1モル当た
り、0.01〜10モル、好ましくは0.01〜1モル
を併用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤と有
機銀塩の塗布量合計は銀換算で0.05〜10g/
m2、好ましくは0.1〜4g/m2が適当である。感光
性ハロゲン化銀乳剤は通常は化学増感されたハロゲン化
銀乳剤である。本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤の化学
増感には、公知の硫黄増感法、セレン増感法、テルル増
感法などのカルコゲン増感法、金、白金、パラジウムな
どを用いる貴金属増感法及び還元増感法などを単独又は
組み合わせて用いることができる(例えば特開平3−1
10555号、特開平5−241267号など)。これ
らの化学増感を含窒素複素環化合物の存在下で行うこと
もできる(特開昭62−253159号)。また後掲す
るかぶリ防止剤を化学増感終了後に添加することができ
る。具体的には特開平5−45833号、特開昭62−
40446号記載の方法を用いることができる。化学増
感時のpHは好ましくは5.3〜10.5、より好まし
くは5.5〜8.5であり、pAgは好ましくは6.0
〜10.5、より好ましくは6.8〜9.0である。本
発明において使用される感光性ハロゲン化銀乳剤の好ま
しい塗布量は、銀換算1mgないし10g/m2の範囲
である。
【0365】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀に
緑感性、赤感性、赤外感性の感色性を持たせるために
は、感光性ハロゲン化銀乳剤をメチン色素類その他によ
って分光増感する。また、必要に応じて青感性乳剤に青
色領域の分光増感を施してもよい。用いられる色素に
は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色
素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色
素、ヘミンアニン色素、スチリル色素及びヘミオキソノ
ール色素が包含される。具体的には、米国特許第4,6
17,257号、特開昭59−180550号、同64
−13546号、特開平5−45828号、同5−45
834号などに記載の増感色素が挙げられる。これらの
増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組合わせを
用いてもよく、増感色素の組合わせは特に、強色増感や
分光感度の波長調節の目的でしばしば用いられる。増感
色素とともに、それ自身分光増感作用を持たない色素或
いは可視光を実質的に吸収しない化合物であって、強色
増感を示す化合物を乳剤中に含んでもよい(例えば米国
特許第3,615,641号、特開昭63−23145
号等に記載のもの)。これらの増感色素を乳剤中に添加
する時期は化学熟成時若しくはその前後でもよいし、米
国特許第4,183,756号、同第4,225,66
6号に従ってハロゲン化銀粒子の核形成前後でもよい。
またこれらの増感色素や強色増感剤は、メタノールなど
の有機溶媒の溶液、ゼラチンなどの分散物或いは界面活
性剤の溶液で添加すればよい。添加量は一般にハロゲン
化銀1モル当り10-5〜10-2モル程度である。
緑感性、赤感性、赤外感性の感色性を持たせるために
は、感光性ハロゲン化銀乳剤をメチン色素類その他によ
って分光増感する。また、必要に応じて青感性乳剤に青
色領域の分光増感を施してもよい。用いられる色素に
は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色
素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色
素、ヘミンアニン色素、スチリル色素及びヘミオキソノ
ール色素が包含される。具体的には、米国特許第4,6
17,257号、特開昭59−180550号、同64
−13546号、特開平5−45828号、同5−45
834号などに記載の増感色素が挙げられる。これらの
増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組合わせを
用いてもよく、増感色素の組合わせは特に、強色増感や
分光感度の波長調節の目的でしばしば用いられる。増感
色素とともに、それ自身分光増感作用を持たない色素或
いは可視光を実質的に吸収しない化合物であって、強色
増感を示す化合物を乳剤中に含んでもよい(例えば米国
特許第3,615,641号、特開昭63−23145
号等に記載のもの)。これらの増感色素を乳剤中に添加
する時期は化学熟成時若しくはその前後でもよいし、米
国特許第4,183,756号、同第4,225,66
6号に従ってハロゲン化銀粒子の核形成前後でもよい。
またこれらの増感色素や強色増感剤は、メタノールなど
の有機溶媒の溶液、ゼラチンなどの分散物或いは界面活
性剤の溶液で添加すればよい。添加量は一般にハロゲン
化銀1モル当り10-5〜10-2モル程度である。
【0366】このような工程で使用される添加剤及び感
光材料や色素固定材料に使用できる公知の写真用添加剤
は、前記のRDNo.17,643、同No.18,7
16号及び同No.307,105に記載されている。
光材料や色素固定材料に使用できる公知の写真用添加剤
は、前記のRDNo.17,643、同No.18,7
16号及び同No.307,105に記載されている。
【0367】感光材料の構成層のバインダーには親水性
ものが好ましく用いられる。その例としては前記のリサ
ーチ・ディスクロージャー及び特開昭64−13546
号の(71)頁〜(75)頁に記載されたものが挙げら
れる。具体的には、透明か半透明の親水性バインダーが
好ましく、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体等が挙げら
れる。ゼラチンは、種々の目的に応じて石灰処理ゼラチ
ン、酸処理ゼラチン、カルシウムなどの含有量を減らし
たいわゆる脱灰ゼラチンから選択すれば良く、組み合わ
せて用いることも好ましい。
ものが好ましく用いられる。その例としては前記のリサ
ーチ・ディスクロージャー及び特開昭64−13546
号の(71)頁〜(75)頁に記載されたものが挙げら
れる。具体的には、透明か半透明の親水性バインダーが
好ましく、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体等が挙げら
れる。ゼラチンは、種々の目的に応じて石灰処理ゼラチ
ン、酸処理ゼラチン、カルシウムなどの含有量を減らし
たいわゆる脱灰ゼラチンから選択すれば良く、組み合わ
せて用いることも好ましい。
【0368】本発明のカラー写真感光材料に用いること
ができるその他の技術及び無機・有機素材については、
欧州特許第436,938A2号、同第421,453
A1号などの特許に記載されている。
ができるその他の技術及び無機・有機素材については、
欧州特許第436,938A2号、同第421,453
A1号などの特許に記載されている。
【0369】熱現像感光材料で用られる、塩基プレカー
サーとしては、熱により脱炭酸する有機酸と塩基の塩、
分子内求核置換反応、ロッセン転位又はベックマン転位
等の反応により分解してアミン類を放出する化合物な
ど、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出する
もの及び、電解や錯形成反応により塩基を発生する化合
物が好ましく用いられる。前者の加熱により塩基を発生
するタイプの塩基プレカーサーとしては英国特許第99
8,959号等に記載のトリクロロ酢酸の塩、更に安定
性の改良されたものとして米国特許第4,060,42
0号に記載のα−スルホニル酢酸の塩、特開昭59−1
80537号に記載のプロピオール酢酸の塩、米国特許
第4,088,496号に記載の2−カルボキシカルボ
アミド誘導体、塩基成分に有機塩基のほかにアルカリ金
属アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩(特開昭
59−195237)、ロッセン転移を利用した特願昭
58−43860号に記載のヒドロキサムカルバメート
類、加熱によりニトリルを生成する特開昭59−157
637号に記載のアルドキシムカルバメート類が挙げら
れる。その他、英国特許第998,945号、同第2,
079,480号、特開昭50−226225号、米国
特許第3,220,846号、同第4,514,493
号、同第4,657,848号及び公知技術第5号(1
991年3月22日、アズテック有限会社発行)55ペ
ージ〜86ページ等に記載の塩基プレカーサーも有用で
ある。
サーとしては、熱により脱炭酸する有機酸と塩基の塩、
分子内求核置換反応、ロッセン転位又はベックマン転位
等の反応により分解してアミン類を放出する化合物な
ど、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出する
もの及び、電解や錯形成反応により塩基を発生する化合
物が好ましく用いられる。前者の加熱により塩基を発生
するタイプの塩基プレカーサーとしては英国特許第99
8,959号等に記載のトリクロロ酢酸の塩、更に安定
性の改良されたものとして米国特許第4,060,42
0号に記載のα−スルホニル酢酸の塩、特開昭59−1
80537号に記載のプロピオール酢酸の塩、米国特許
第4,088,496号に記載の2−カルボキシカルボ
アミド誘導体、塩基成分に有機塩基のほかにアルカリ金
属アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩(特開昭
59−195237)、ロッセン転移を利用した特願昭
58−43860号に記載のヒドロキサムカルバメート
類、加熱によりニトリルを生成する特開昭59−157
637号に記載のアルドキシムカルバメート類が挙げら
れる。その他、英国特許第998,945号、同第2,
079,480号、特開昭50−226225号、米国
特許第3,220,846号、同第4,514,493
号、同第4,657,848号及び公知技術第5号(1
991年3月22日、アズテック有限会社発行)55ペ
ージ〜86ページ等に記載の塩基プレカーサーも有用で
ある。
【0370】感光材料に画像を露光し記載する方法とし
ては、例えばカメラなどを用いて風景や人物などを直接
撮影する方法、プリンターや引伸機などを用いてリバー
サルフィルムやネガフィルムを通して露光する方法、複
写機の露光装置などを用いて、原画をスリットなどを通
して走査露光する方法、画像情報と電気信号を経由して
発光ダイオード、各種レーザー(レーザーダイオード、
ガスレーザーなど)などを発光させ走査露光する方法
(特開昭2−129625号、特開平5−176144
号、同5−199372号、同6−127021号等に
記載の方法)、画像情報をCRT、液晶ディスプレイ、
エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディ
スプレイなどの画像表示装置に出力し、直接又は光学系
を介して露光する方法などがある。
ては、例えばカメラなどを用いて風景や人物などを直接
撮影する方法、プリンターや引伸機などを用いてリバー
サルフィルムやネガフィルムを通して露光する方法、複
写機の露光装置などを用いて、原画をスリットなどを通
して走査露光する方法、画像情報と電気信号を経由して
発光ダイオード、各種レーザー(レーザーダイオード、
ガスレーザーなど)などを発光させ走査露光する方法
(特開昭2−129625号、特開平5−176144
号、同5−199372号、同6−127021号等に
記載の方法)、画像情報をCRT、液晶ディスプレイ、
エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディ
スプレイなどの画像表示装置に出力し、直接又は光学系
を介して露光する方法などがある。
【0371】感光材料へ画像を記録する光源としては、
上記のように、自然光、タングステンランプ、発光ダイ
オード、レーザー光源、CRT光源などの米国特許第
4,500,626号第56欄、特開平2−53378
号、同2−54672号記載の光源や露光方法を用いる
ことができる。また、非線形光学材料とレーザー光等の
コヒーレントな光源を組み合わせた波長変換素子を用い
て画像露光することもできる。ここで非線形光学材料と
は、レーザー光のような強い光電界を与えたときに現れ
る分極と電界との間の非線形性を発現可能な材料であ
り、ニオブ酸リチウム、リン酸二水素カリウム(KD
P)、沃素酸リチウム、BaB2O4などに代表される
無機化合物や、尿素誘導体、ニトロアニリン誘導体、例
えば3−メチル−4−ニトロピリジン−N−オキシド
(POM)のようなニトロピリジン−N−オキシド誘導
体、特開昭61−53462号、同62−210432
号に記載の化合物が好ましく用いられる。波長変換素子
の形態としては、単結晶光導波路型、ファイバー型等が
知られておりその何れもが有用である。また、前記の画
像情報は、ビデオカメラ、電子スチルカメラ等から得ら
れる画像信号、日本テレビジョン信号規格(NTSC)
に代表されるテレビ信号、原画をスキャナーなど多数の
画素に分割して得た画像信号、CG、CADで代表され
るコンピューターを用いて作成された画像信号を利用で
きる。その他、熱現像感光材料に適用される加熱現像や
色素の拡散転写のための加熱手段(方法)や条件、溶
媒、熱現像装置等については、例えば特開平8−122
995号の第21頁40欄3行目〜第22頁42欄6行
目に記載のものが好ましく用いられる。
上記のように、自然光、タングステンランプ、発光ダイ
オード、レーザー光源、CRT光源などの米国特許第
4,500,626号第56欄、特開平2−53378
号、同2−54672号記載の光源や露光方法を用いる
ことができる。また、非線形光学材料とレーザー光等の
コヒーレントな光源を組み合わせた波長変換素子を用い
て画像露光することもできる。ここで非線形光学材料と
は、レーザー光のような強い光電界を与えたときに現れ
る分極と電界との間の非線形性を発現可能な材料であ
り、ニオブ酸リチウム、リン酸二水素カリウム(KD
P)、沃素酸リチウム、BaB2O4などに代表される
無機化合物や、尿素誘導体、ニトロアニリン誘導体、例
えば3−メチル−4−ニトロピリジン−N−オキシド
(POM)のようなニトロピリジン−N−オキシド誘導
体、特開昭61−53462号、同62−210432
号に記載の化合物が好ましく用いられる。波長変換素子
の形態としては、単結晶光導波路型、ファイバー型等が
知られておりその何れもが有用である。また、前記の画
像情報は、ビデオカメラ、電子スチルカメラ等から得ら
れる画像信号、日本テレビジョン信号規格(NTSC)
に代表されるテレビ信号、原画をスキャナーなど多数の
画素に分割して得た画像信号、CG、CADで代表され
るコンピューターを用いて作成された画像信号を利用で
きる。その他、熱現像感光材料に適用される加熱現像や
色素の拡散転写のための加熱手段(方法)や条件、溶
媒、熱現像装置等については、例えば特開平8−122
995号の第21頁40欄3行目〜第22頁42欄6行
目に記載のものが好ましく用いられる。
【0372】また、本発明の感光材料を現像液を用いて
現像処理する際、現像液にはハロゲン化銀の現像主薬と
して機能し、及び/又は銀現像で生じる現像主薬酸化体
が感光材料中に内蔵してある発色用の還元剤(発色現像
主薬)をクロス酸化する機能を有する化合物が用いられ
る。好ましくはピラゾリドン類、ジヒドロキシベンゼン
類、レダクトン類及びアミノフェノール類が用いられ、
特に好ましくはピラゾリドン類が用いられうる。その
他、現像、漂白、定着、水洗(安定化)の処理に用いら
れる添加剤や処理処方(方法)、処理条件等について
は、特開平8−101484号の第13頁24欄33行
目〜第19頁35欄28行目に記載のものが好ましく適
用できる。ハロゲン化銀の使用量が少ない場合には、脱
銀処理を省略できる。処理液を用いる現像機での実際の
処理時間は通常線速度と処理浴の容量によって決まる
が、本発明では線速度の目安として500〜4000m
m/分が挙げられる。特に小型現像機の場合には500
〜2500mm/分が好ましい。全処理工程つまり、現
像工程から乾燥工程までの処理時間は360秒以下が好
ましく、120秒以下が更に好ましく、特に90〜30
秒で使用することが好ましい。ここで処理時間とは、感
光材料が現像液に浸漬してから、処理機の乾燥部から出
るまでの時間である。
現像処理する際、現像液にはハロゲン化銀の現像主薬と
して機能し、及び/又は銀現像で生じる現像主薬酸化体
が感光材料中に内蔵してある発色用の還元剤(発色現像
主薬)をクロス酸化する機能を有する化合物が用いられ
る。好ましくはピラゾリドン類、ジヒドロキシベンゼン
類、レダクトン類及びアミノフェノール類が用いられ、
特に好ましくはピラゾリドン類が用いられうる。その
他、現像、漂白、定着、水洗(安定化)の処理に用いら
れる添加剤や処理処方(方法)、処理条件等について
は、特開平8−101484号の第13頁24欄33行
目〜第19頁35欄28行目に記載のものが好ましく適
用できる。ハロゲン化銀の使用量が少ない場合には、脱
銀処理を省略できる。処理液を用いる現像機での実際の
処理時間は通常線速度と処理浴の容量によって決まる
が、本発明では線速度の目安として500〜4000m
m/分が挙げられる。特に小型現像機の場合には500
〜2500mm/分が好ましい。全処理工程つまり、現
像工程から乾燥工程までの処理時間は360秒以下が好
ましく、120秒以下が更に好ましく、特に90〜30
秒で使用することが好ましい。ここで処理時間とは、感
光材料が現像液に浸漬してから、処理機の乾燥部から出
るまでの時間である。
【0373】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0374】実施例1 ポリエチレンで両面をラミネートした紙支持体表面に、
コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウムを含むゼラチン下塗り層を設け、更に種々
の写真構成層を塗布して、以下に示す層構成の多層カラ
ー印画紙試料100を作製した。塗布液は以下のように
して調製した。
コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウムを含むゼラチン下塗り層を設け、更に種々
の写真構成層を塗布して、以下に示す層構成の多層カラ
ー印画紙試料100を作製した。塗布液は以下のように
して調製した。
【0375】第一層塗布液 イエローカプラー(C−1)22.4g、下記の発色現
像主薬(EXCD−1)13.6g、後記の溶媒(So
lv−1)70gを酢酸エチルに溶解し、この溶液を1
0%ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム及びクエン
酸を含む16%ゼラチン溶液に乳化分散させて、乳化分
散液Aを調製した。一方、塩臭化銀乳剤A(立方体、平
均粒子サイズ0.88μmの大サイズ乳剤と0.70μ
mの小サイズ乳剤との3:7混合物(銀モル比)。粒子
サイズ分布の変動係数はそれぞれ0.08と0.10、
各サイズ乳剤とも臭化銀0.3モル%を、塩化銀を基体
とする粒子表面の一部に局在含有させた)を調製した。
この乳剤には下記に示す青感性増感色素A、B、Cが銀
1モル当たり大サイズ乳剤Aに対しては、それぞれ1.
4×10-4モル、また小サイズ乳剤Aに対しては、それ
ぞれ1.7×10-4モル添加されている。また、この乳
剤の化学熟成はイオウ増感剤と金増感剤を添加して最適
に行った。前記の乳化分散物Aとこの塩臭化銀乳剤Aと
を混合溶解し、以下に示す組成となるように第一層塗布
液を調製した。乳剤塗布量は銀換算塗布量を示す。
像主薬(EXCD−1)13.6g、後記の溶媒(So
lv−1)70gを酢酸エチルに溶解し、この溶液を1
0%ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム及びクエン
酸を含む16%ゼラチン溶液に乳化分散させて、乳化分
散液Aを調製した。一方、塩臭化銀乳剤A(立方体、平
均粒子サイズ0.88μmの大サイズ乳剤と0.70μ
mの小サイズ乳剤との3:7混合物(銀モル比)。粒子
サイズ分布の変動係数はそれぞれ0.08と0.10、
各サイズ乳剤とも臭化銀0.3モル%を、塩化銀を基体
とする粒子表面の一部に局在含有させた)を調製した。
この乳剤には下記に示す青感性増感色素A、B、Cが銀
1モル当たり大サイズ乳剤Aに対しては、それぞれ1.
4×10-4モル、また小サイズ乳剤Aに対しては、それ
ぞれ1.7×10-4モル添加されている。また、この乳
剤の化学熟成はイオウ増感剤と金増感剤を添加して最適
に行った。前記の乳化分散物Aとこの塩臭化銀乳剤Aと
を混合溶解し、以下に示す組成となるように第一層塗布
液を調製した。乳剤塗布量は銀換算塗布量を示す。
【0376】
【化139】 第二層から第七層用の塗布液も第一層塗布液と同様の方
法で調製した。各層のゼラチン硬膜剤としては1−オキ
シ−3,5−ジクロロ−s−トリアジンナトリム塩を用
いた。また、各層に後記のCpd−2、Cpd−3、C
pd−4及びCpd−5をそれぞれ全量が15.0mg
/m2、60.0mg/m2、50.0mg/m2及び1
0.0mg/m2となるように添加した。各層感光性乳
剤層の塩臭化銀乳剤には下記の分光増感色素をそれぞれ
用いた。
法で調製した。各層のゼラチン硬膜剤としては1−オキ
シ−3,5−ジクロロ−s−トリアジンナトリム塩を用
いた。また、各層に後記のCpd−2、Cpd−3、C
pd−4及びCpd−5をそれぞれ全量が15.0mg
/m2、60.0mg/m2、50.0mg/m2及び1
0.0mg/m2となるように添加した。各層感光性乳
剤層の塩臭化銀乳剤には下記の分光増感色素をそれぞれ
用いた。
【0377】(青感性乳剤層)
【0378】
【化140】 (緑感性乳剤層)
【0379】
【化141】 (増感色素Dをハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳
剤に対しては3.0×10-4モル、小サイズ乳剤に対し
ては3.6×10-4モル、また増感色素Eをハロゲン化
銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対しては4.0×10
-5モル、小サイズ乳剤に対しては7.0×10-5モル、
また増感色素Fをハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ
乳剤に対しては2.0×10-4モル、小サイズ乳剤に対
しては2.8×10-4モル添加した。) (赤感性乳剤層)
剤に対しては3.0×10-4モル、小サイズ乳剤に対し
ては3.6×10-4モル、また増感色素Eをハロゲン化
銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対しては4.0×10
-5モル、小サイズ乳剤に対しては7.0×10-5モル、
また増感色素Fをハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ
乳剤に対しては2.0×10-4モル、小サイズ乳剤に対
しては2.8×10-4モル添加した。) (赤感性乳剤層)
【0380】
【化142】 (ハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対しては
各々5.0×10-5モル、また小サイズ乳剤に対しては
8×10-5モル添加した。) 更に、下記の化合物(S)をハロゲン化銀1モル当たり
2.6×10-2モル添加した。また、青感性乳剤層、緑
感性乳剤層、赤感性乳剤層に対し、1−(5−メチルウ
レイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールをハロ
ゲン化銀1モル当たり3.5×-4モル、3.0×10-3
モル、2.5×10-4モル添加した。また、青感性乳剤
層と緑感性乳剤層に対し、4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデンをそれぞれハロ
ゲン化銀1モル当たり、1×10 -4モルと2×10-4モ
ル添加した。また、イラジエーション防止のために、乳
剤層に下記のイラジエーション防止染料1、2(カッコ
内は塗布量を表す。)を添加した。
各々5.0×10-5モル、また小サイズ乳剤に対しては
8×10-5モル添加した。) 更に、下記の化合物(S)をハロゲン化銀1モル当たり
2.6×10-2モル添加した。また、青感性乳剤層、緑
感性乳剤層、赤感性乳剤層に対し、1−(5−メチルウ
レイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールをハロ
ゲン化銀1モル当たり3.5×-4モル、3.0×10-3
モル、2.5×10-4モル添加した。また、青感性乳剤
層と緑感性乳剤層に対し、4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデンをそれぞれハロ
ゲン化銀1モル当たり、1×10 -4モルと2×10-4モ
ル添加した。また、イラジエーション防止のために、乳
剤層に下記のイラジエーション防止染料1、2(カッコ
内は塗布量を表す。)を添加した。
【0381】
【化143】 (層構成)以下に各層の組成を示す。数字は塗布量(g
/m2)を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換算塗布量を表
す。
/m2)を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換算塗布量を表
す。
【0382】 支持体 ポリエチレンラミネート紙〔第一層側のポリエチレンに白色顔料 (TiO2 15重量)と青味染料(群青)を含む〕 第一層(青感性乳剤層) 前記の塩化銀乳剤A 0.40 ゼラチン 3.00 イエローカプラー(C−1) 0.45 発色現像主薬(EXCD−1) 0.30 溶媒(Solv−1) 1.30 第二層(混色防止層) ゼラチン 1.09 混色防止剤(Cpd−6) 0.11 溶媒(Solv−1) 0.19 溶媒(Solv−3) 0.07 溶媒(Solv−4) 0.25 溶媒(Solv−5) 0.09 第三層(緑感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤:立方体、平均粒子サイズ0.55μmの大サイズ乳剤Bと、 0.39μmの小サイズ乳剤Bとの1:3混合物(銀モル比)。
【0383】 粒子サイズ分布の変動係数はそれぞれ0.10と0.08、 各サイズ乳剤ともAgBr0.8モル%を塩化銀を基体とする粒子表面の 一部に含有させた。 0.20 ゼラチン 1.48 マゼンタカプラー(C−56) 0.26 発色現像主薬(EXCD−1) 0.15 溶媒(Solv−2) 0.65 第四層(混色防止層) ゼラチン 0.76 混色防止剤(Cpd−6) 0.08 溶媒(Solv−1) 0.14 溶媒(Solv−3) 0.05 溶媒(Solv−4) 0.14 溶媒(Solv−5) 0.06 第五層(赤感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤:立方体、平均粒子サイズ0.5μmの大サイズ乳剤Cと、 0.41μmの小サイズ乳剤Cとの1:4混合物(銀モル比)。
【0384】 粒子サイズ分布の変動係数は0.09と0.11、 各サイズ乳剤ともAgBr0.8モル%を、塩化銀を基体とする粒子表面の 一部に含有させた。 0.20 ゼラチン 0.16 シアンカプラー(C−43) 0.22 発色現像主薬(EXCD−1) 0.15 溶媒(Solv−1) 0.15 第六層(紫外線吸収層) ゼラチン 0.66 紫外線吸収剤(UV−1) 0.39 色像安定剤(Cpd−7) 0.05 溶媒(Solv−6) 0.05 第七層(保護層) ゼラチン 1.01 ポリビニルアルコールのアクリル変性共重合体(変性度17%) 0.04 流動パラフィン 0.02 界面活性剤(Cpd−1) 0.01
【0385】
【化144】
【0386】
【化145】
【0387】
【化146】
【0388】
【化147】 以上で、多層カラー印画紙試料100を作製した。
【0389】該試料100に対してシアンカプラー、発
色現像主薬を表1に示したカプラー、発色現像主薬に等
モルで置換換えた以外は試料100の作製と全く同様に
して試料101〜117を作製した。
色現像主薬を表1に示したカプラー、発色現像主薬に等
モルで置換換えた以外は試料100の作製と全く同様に
して試料101〜117を作製した。
【0390】上記のようにして作製した各試料を赤色光
を用いてウエッジ露光した。露光後の試料を下記の処理
液を用い、下記の処理工程にて処理を行った。
を用いてウエッジ露光した。露光後の試料を下記の処理
液を用い、下記の処理工程にて処理を行った。
【0391】 処理工程 温 度 時 間 現 像 40℃ 15秒 漂白定着 40℃ 45秒 リンス 室 温 45秒 アルカリ処理 室 温 30秒 (現像液) 水 800ml リン酸カリウム 40g ジナトリウム−N,N−ビス(スルホナートエチル)ヒドロキシルアミン 10g KCl 5g ヒドロキシエチリデン−1,1−ジスルホン酸(30%) 4ml 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 1g 水を加えて 1000ml pH(25℃/水酸化カリウムにて) 12.0 (漂白定着液) 水 600ml チオ硫酸アンモニウム(700g/リットル) 93ml 亜硫酸アンモニウム 40ml エチレンジアミン四酢酸鉄(III)アンモニウム 55g エチレンジアミン四酢酸 2g 硝酸(67%) 30g 水を加えて 1000ml pH(25℃/酢酸及びアンモニア水にて) 5.8 (リンス液) 塩素化イソシアヌール酸ナトリウム 0.02g 脱イオン水(導電率5μS/cm以下) 1000ml pH 6.5 (アルカリ処理液) 水 800ml 炭酸カリウム 30g 水を加えて 1000ml pH(25℃/硫酸にて) 10.0 処理後のサンプルを濃度計(コニカ(株)社製KD−7
型)を用いて濃度を測定し、赤感光層の感度、発色性を
測定した。尚、相対感度は試料100の感度を100と
した時の相対値で示し、最大濃度(発色性)は試料10
0を100とした時の相対値で示す。
型)を用いて濃度を測定し、赤感光層の感度、発色性を
測定した。尚、相対感度は試料100の感度を100と
した時の相対値で示し、最大濃度(発色性)は試料10
0を100とした時の相対値で示す。
【0392】更に、上記各処理済試料を高温・高湿(6
0℃、80%RH)雰囲気下に14日間放置し、色素画
像の耐熱、耐光性を調べた。また、キセノンランプを用
いて7日間照射を行い色素画像の耐光性を調べた。ただ
し、色素画像の耐光性、耐熱性は初濃度1.0に対する
耐光、耐熱試験後の残存率(%)で表す。結果を表1に
示す。
0℃、80%RH)雰囲気下に14日間放置し、色素画
像の耐熱、耐光性を調べた。また、キセノンランプを用
いて7日間照射を行い色素画像の耐光性を調べた。ただ
し、色素画像の耐光性、耐熱性は初濃度1.0に対する
耐光、耐熱試験後の残存率(%)で表す。結果を表1に
示す。
【0393】
【表1】
【0394】
【化148】 表1から明らかなように、本発明の化合物は比較化合物
に比べて、高いシアンの発色性を示すことが分かる。ま
た比較化合物(比較のシアンカプラー)としてTC−
1、TC−2を用いた場合、耐光性、耐熱性が大幅に低
くなっている。また、イエロー副吸収が大きくシアンの
発色とともにイエロー濃度も上がり、色にごりが大きか
った。
に比べて、高いシアンの発色性を示すことが分かる。ま
た比較化合物(比較のシアンカプラー)としてTC−
1、TC−2を用いた場合、耐光性、耐熱性が大幅に低
くなっている。また、イエロー副吸収が大きくシアンの
発色とともにイエロー濃度も上がり、色にごりが大きか
った。
【0395】実施例2 〈感光性ハロゲン化銀乳剤の調製方法〉良く撹拌してい
るゼラチン水溶液(水1000ml中に不活性ゼラチン
30g、臭化カリウム2g)に、溶剤としてアンモニア
・硝酸アンモニウムを溶剤として加えて75℃に保温
し、ここに硝酸銀1モルを含む水溶液1000mlと、
臭化カリウム1モルと沃化カリウム0.03モルを含む
水溶液1000mlを78分かけて同時に添加した。水
洗、脱塩の後、不活性ゼラチンを加えて再分散し、球相
当平均粒径0.76μmのヨード含有率3モル%の沃臭
化銀乳剤を調製した。球相当径は、コールターカウンタ
ー社のモデルTA−IIで測定した。上記乳剤に、56℃
でチオシアン酸カリウム、塩化金酸、チオ硫酸ナトリウ
ムを添加し、最適に化学増感した。この乳剤に増感色素
を、塗布液調液時に添加して感色性を与えた。
るゼラチン水溶液(水1000ml中に不活性ゼラチン
30g、臭化カリウム2g)に、溶剤としてアンモニア
・硝酸アンモニウムを溶剤として加えて75℃に保温
し、ここに硝酸銀1モルを含む水溶液1000mlと、
臭化カリウム1モルと沃化カリウム0.03モルを含む
水溶液1000mlを78分かけて同時に添加した。水
洗、脱塩の後、不活性ゼラチンを加えて再分散し、球相
当平均粒径0.76μmのヨード含有率3モル%の沃臭
化銀乳剤を調製した。球相当径は、コールターカウンタ
ー社のモデルTA−IIで測定した。上記乳剤に、56℃
でチオシアン酸カリウム、塩化金酸、チオ硫酸ナトリウ
ムを添加し、最適に化学増感した。この乳剤に増感色素
を、塗布液調液時に添加して感色性を与えた。
【0396】〈水酸化亜鉛分散物の調製方法〉一次粒子
の粒子サイズが0.2μmの水酸化亜鉛の粉末31g、
分散剤としてカルボキシメチルセルロース1.6g及び
ポリアクリル酸ソーダ0.4g、石灰処理オセインゼラ
チン8.5g、水158.5mlを混合し、この混合物
をガラスビーズを用いたミルで1時間分散した。分散
後、ガラスビーズを濾別し、水酸化亜鉛の分散物188
gを得た。
の粒子サイズが0.2μmの水酸化亜鉛の粉末31g、
分散剤としてカルボキシメチルセルロース1.6g及び
ポリアクリル酸ソーダ0.4g、石灰処理オセインゼラ
チン8.5g、水158.5mlを混合し、この混合物
をガラスビーズを用いたミルで1時間分散した。分散
後、ガラスビーズを濾別し、水酸化亜鉛の分散物188
gを得た。
【0397】〈カプラーの乳化分散物の調製方法〉表2
に示す組成の油相成分、水相成分をそれぞれ溶解し、6
0℃の均一な溶液とする。油相成分と水相成分を合わ
せ、1リットルのステンレス容器中で、直径5cmのデ
ィスパーサーのついたディゾルバーにより、10,00
0rpmで20分間分散した。これに、後加水として、
表2に示す量の温水を加え、2,000rpmで10分
間混合した。このようにして、シアン、マゼンタ、イエ
ロー3色のカプラーの乳化分散物を調製した。
に示す組成の油相成分、水相成分をそれぞれ溶解し、6
0℃の均一な溶液とする。油相成分と水相成分を合わ
せ、1リットルのステンレス容器中で、直径5cmのデ
ィスパーサーのついたディゾルバーにより、10,00
0rpmで20分間分散した。これに、後加水として、
表2に示す量の温水を加え、2,000rpmで10分
間混合した。このようにして、シアン、マゼンタ、イエ
ロー3色のカプラーの乳化分散物を調製した。
【0398】
【表2】
【0399】
【化149】
【0400】
【化150】 このようにして得られた素材を用いて、表3、4に示す
多層構成の熱現像カラー感光材料200を作製した。
多層構成の熱現像カラー感光材料200を作製した。
【0401】
【表3】
【0402】
【表4】
【0403】
【化151】
【0404】
【化152】
【0405】
【化153】 更に、表5、6、7に示す内容の処理材料R−1を作製
した。
した。
【0406】処理材料R−1の構成
【0407】
【表5】
【0408】
【表6】 支持体Aの構成
【0409】
【表7】
【0410】
【化154】
【0411】
【化155】 次に、表8に示すとおりに、カプラー、並びに現像主薬
をそれぞれ等モルで変更した以外は200と全く同じ組
成の感光材料201〜217をそれぞれ作製した。この
ようにしてできた感光材料200〜217に赤色光を用
いてウエッジ露光した。この露光済の感材面に40℃の
温水を15ml/m2付与し、処理シート(処理材料R
−1)と互いの膜面同志を重ね合わせた後、ヒートドラ
ムを用いて82℃で30秒間熱現像した。処理後、処理
シートを剥離すると、感材側にシアンのカラー画像が鮮
明に得られた。
をそれぞれ等モルで変更した以外は200と全く同じ組
成の感光材料201〜217をそれぞれ作製した。この
ようにしてできた感光材料200〜217に赤色光を用
いてウエッジ露光した。この露光済の感材面に40℃の
温水を15ml/m2付与し、処理シート(処理材料R
−1)と互いの膜面同志を重ね合わせた後、ヒートドラ
ムを用いて82℃で30秒間熱現像した。処理後、処理
シートを剥離すると、感材側にシアンのカラー画像が鮮
明に得られた。
【0412】処理直後にこのサンプルの濃度を濃度計
(コニカ(株)製KD−7型)を用いて測定し、赤感光
層の感度、発色性を測定した。尚、相対感度は試料20
0の感度を100とした時の相対値で示し、最大濃度
(発色性)は試料200を100とした時の相対値で示
す。
(コニカ(株)製KD−7型)を用いて測定し、赤感光
層の感度、発色性を測定した。尚、相対感度は試料20
0の感度を100とした時の相対値で示し、最大濃度
(発色性)は試料200を100とした時の相対値で示
す。
【0413】更に、上記各処理済試料を高温・高湿(6
0℃、80%RH)雰囲気下に14日間放置し、色素画
像の耐熱、耐光性を調べた。また、キセノンランプを用
いて7日間照射を行い色素画像の耐光性を調べた。結果
を表8に示す。ただし、色素画像の耐光性、耐熱性は初
濃度1.0に対する耐光、耐熱及び耐湿試験後の残存率
(%)で表す。
0℃、80%RH)雰囲気下に14日間放置し、色素画
像の耐熱、耐光性を調べた。また、キセノンランプを用
いて7日間照射を行い色素画像の耐光性を調べた。結果
を表8に示す。ただし、色素画像の耐光性、耐熱性は初
濃度1.0に対する耐光、耐熱及び耐湿試験後の残存率
(%)で表す。
【0414】結果を表8に示す。
【0415】
【表8】 表8から明らかなように、シアンカプラーとしてC−4
3や米国特許5,415,981号記載のカプラー(T
C−2)及び2当量カプラー(TC−1)を単独で用い
た場合ではシアンの発色濃度が低く、かつTC−1、T
C−2を用いた場合にはイエロー部分の副吸収が大き
く、色濁りが大きかった。また、耐熱、耐光性の試験結
果からもこれらカプラーから得られた画像が十分に安定
でないことがわかる。これら問題点は本発明のカプラー
により大きく改良されているのが明らかである。
3や米国特許5,415,981号記載のカプラー(T
C−2)及び2当量カプラー(TC−1)を単独で用い
た場合ではシアンの発色濃度が低く、かつTC−1、T
C−2を用いた場合にはイエロー部分の副吸収が大き
く、色濁りが大きかった。また、耐熱、耐光性の試験結
果からもこれらカプラーから得られた画像が十分に安定
でないことがわかる。これら問題点は本発明のカプラー
により大きく改良されているのが明らかである。
【0416】
【発明の効果】本発明により、第一には、ヒドラジン型
発色現像主薬を使用した際、形成される色素画像の色相
が良好なシアンカプラーを含有するハロゲン化銀写真感
光材料特にはハロゲン化銀カラー写真感光材料及び発色
色素を提供すること、第二には、発色性の良好なハロゲ
ン化銀写真感光材料特にはハロゲン化銀カラー写真感光
材料を提供すること、第三には、形成される色素画像の
保存性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料特にはハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料を提供することができ
た。
発色現像主薬を使用した際、形成される色素画像の色相
が良好なシアンカプラーを含有するハロゲン化銀写真感
光材料特にはハロゲン化銀カラー写真感光材料及び発色
色素を提供すること、第二には、発色性の良好なハロゲ
ン化銀写真感光材料特にはハロゲン化銀カラー写真感光
材料を提供すること、第三には、形成される色素画像の
保存性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料特にはハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料を提供することができ
た。
Claims (21)
- 【請求項1】 2−位にオキザリル基を持ち、5−位に
下記一般式(1)で表される基を持つ1−ナフトールカ
プラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。iは1
又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、AがN
のときは2である。R1は水素原子又は一価の置換基を
表し、iが2のとき二つのR1は同じでも異なっていて
もよい。〕 - 【請求項2】 前記1−ナフトールカプラーが下記一般
式(2)で表される化合物であることを特徴とする請求
項1記載のハロゲン化銀写真感光材料。 【化2】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。j1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R21は水素原子又は一価の置換基
を表し、j1が2のとき二つのR21は同じでも異なって
いてもよい。j2は0から4までの整数を表す。R22は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、j2が2以上のと
き複数のR22は同じでも異なっていてもよい。R23は一
価の基を表す。Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体と
の反応により離脱する基を表す。〕 - 【請求項3】 下記一般式(3)で表される1−ナフト
ールカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化3】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。k1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R31は水素原子又は一価の置換基
を表し、k1が2のとき二つのR31は同じでも異なって
いてもよい。k2は0から3までの整数を表す。R32は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、k2が2以上のと
き複数のR32は同じでも異なっていてもよい。Z3は隣
接する二つの炭素原子とともに環を形成するために必要
な原子群を表す。Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体
との反応により離脱する基を表す。〕 - 【請求項4】 5−位と8−位に水素結合基を持つ1−
ナフトールカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項5】 前記1−ナフトールカプラーが下記一般
式(4)で表されることを特徴とする請求項4記載のハ
ロゲン化銀写真感光材料。 【化4】 〔式中、A及びA′はそれぞれN,S,Oの何れかの原
子を表す。l1及びl3は1又は2を表し、A,A′がS
又はOのときは1であり、A,A′がNのときは2であ
る。R41及びR43はそれぞれ水素原子又は一価の置換基
を表し、l1、l3が2のとき二つのR41は同じでも異な
っていてもよいし、二つのR43は同じでも異なっていて
もよい。l2は0から4までの整数を表す。R42はナフ
タレン環に置換可能な基を表し、l2が2以上のとき複
数のR42は同じでも異なっていてもよい。Xは水素原子
又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表
す。〕 - 【請求項6】 下記一般式(5)で表される1−ナフト
ールカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化5】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。m1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R51は水素原子又は一価の置換基
を表し、m1が2のとき二つのR51は同じでも異なって
いてもよい。m2は0から4までの整数を表す。R52は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、m2が2以上のと
き複数のR52は同じでも異なっていてもよい。R53は、
−NR54R55又は−OR56を表し、R54、R56は脂肪族
基、芳香族基、又はヘテロ環基を表し、R55は水素原子
又は一価の有機基を表すか、又はR55とR54とで窒素原
子とともにヘテロ環を形成する。Xは水素原子又は発色
現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表す。〕 - 【請求項7】 2−位にリン酸エステル基を持ち、5−
位に前記一般式(1)で表される基を持つ1−ナフトー
ルカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項8】 前記1−ナフトールカプラーが下記一般
式(6)で表される化合物であることを特徴とする請求
項7記載のハロゲン化銀写真感光材料。 【化6】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。n1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R61は水素原子又は一価の置換基
を表し、n1が2のとき二つのR61は同じでも異なって
いてもよい。n2は0から4までの整数を表す。R62は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、n2が2以上のと
き複数のR62は同じでも異なっていてもよい。R63、R
64は、それぞれ一価の置換基を表す。Xは水素原子又は
発色現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表
す。〕 - 【請求項9】 下記一般式(7)で表される1−ナフト
ールカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含むこと
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化7】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。h1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R71は水素原子又は一価の置換基
を表し、h1が2のとき二つのR71は同じでも異なって
いてもよい。h2は0から4までの整数を表す。R72は
ナフタレン環に置換可能な基を表し、h2が2以上のと
き複数のR72は同じでも異なっていてもよい。R73、R
74は、それぞれ水素原子以外の一価の基を表す。Xは水
素原子又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱する
基を表す。〕 - 【請求項10】 下記一般式(8)〜(10)で表され
るカプラーの少くとも1種及びヒドラジン型発色現像主
薬を含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化8】 〔式中、R8、R9及びR10はそれぞれ置換基を表し、o
は0〜5の整数を表し、pは0〜3の整数を表す。o又
はpが2以上の整数のとき、複数のR8、R9、R10は同
じであっても異なっていても良い。Z8、Z9及びZ10は
それぞれ5員から7員の含窒素環を形成するのに必要な
原子群を示し、Bは水素原子又は現像処理時に加水分解
されて離脱するブロック基を表し、Xは水素原子又は発
色現像主薬酸化体との反応により離脱する基を表す。〕 - 【請求項11】 前記一般式(8)で表されるカプラー
が下記一般式(11)で表されるカプラーであることを
特徴とする請求項10記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 【化9】 〔式中、R11はナフタレン環に置換可能な基を表し、q
は0又は1〜5の整数を表す。qが2以上の整数のと
き、複数のR11は同じであっても異なっていても良い。
Bは水素原子又は現像処理時に加水分解されて離脱する
ブロック基を表し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化
体との反応により離脱する基を表す。〕 - 【請求項12】 前記一般式(8)で表されるカプラー
が下記一般式(12)で表されるカプラーであることを
特徴とする請求項10記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 【化10】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。r1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R121は水素原子又は一価の置換
基を表し、r1が2のとき二つのR121は同じでも異なっ
ていてもよい。R122はナフタレン環に置換可能な基を
表し、r2は0〜4の整数を表す。r2が2以上の整数の
とき、複数のR122は同じであっても異なっていても良
い。Bは水素原子又は現像処理時に加水分解されて離脱
するブロック基を表し、Xは水素原子又は発色現像主薬
酸化体との反応により離脱する基を表す。〕 - 【請求項13】 前記一般式(8)で表されるカプラー
が下記一般式(13−1)又は一般式(13−2)で表
されるカプラーであることを特徴とする請求項10記載
のハロゲン化銀写真感光材料。 【化11】 〔式中、R131はアルキル基、アリール基又はヘテロ環
基を表し、R132は置換基を表し、rは0〜4の整数を
表し、Yは−CO−、−SO2−、−CONH−、−S
O2N(R133)−又は−COO−を表し、R133は水素
原子、アルキル基又はアリール基を表し、Bは水素原子
又は現像処理時に加水分解されて離脱するブロック基を
表し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応に
より離脱する基を表す。〕 - 【請求項14】 前記一般式(8)で表されるカプラー
が下記一般式(14)で表されるカプラーであることを
特徴とする請求項10記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 【化12】 〔式中、R142はナフタレン環に置換可能な基を表し、
sは0〜5の整数を表す。sが2以上の整数のとき、複
数のR142は同じであっても異なっていても良い。R143
は水素原子又は一価の置換基を表す。Bは水素原子又は
現像処理時に加水分解されて離脱するブロック基を表
し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応によ
り離脱する基を表す。〕 - 【請求項15】 前記一般式(8)で表されるカプラー
が下記一般式(15)で表されるカプラーであることを
特徴とする請求項10記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 【化13】 〔式中、AはN,S,Oの何れかの原子を表す。t1は
1又は2を表し、AがS又はOのときは1であり、Aが
Nのときは2である。R151は水素原子又は一価の置換
基を表し、t1が2のとき二つのR151は同じでも異なっ
ていてもよい。R152はナフタレン環に置換可能な基を
表し、t2は0〜4の整数を表す。t2が2以上の整数の
とき、複数のR152は同じであっても異なっていても良
い。R153は水素原子又は一価の置換基を表す。Bは水
素原子又は現像処理時に加水分解されて離脱するブロッ
ク基を表し、Xは水素原子又は発色現像主薬酸化体との
反応により離脱する基を表す。〕 - 【請求項16】 前記一般式(8)で表されるカプラー
が下記一般式(16−1)又は一般式(16−2)で表
されるカプラーであることを特徴とする請求項10記載
のハロゲン化銀写真感光材料。 【化14】 〔式中、R161はアルキル基、アリール基又はヘテロ環
基を表し、R162は置換基を表し、tは0〜4の整数を
表し、Yは−CO−、−SO2−、−CONH−、−S
O2N(R164)−又は−COO−を表し、R164は水素
原子、アルキル基又はアリール基を表し、R163は水素
原子又は一価の置換基を表す。Bは水素原子又は現像処
理時に加水分解されて離脱するブロック基を表し、Xは
水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱す
る基を表す。〕 - 【請求項17】 下記一般式(17)又は一般式(1
8)で表されるカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬
を含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化15】 〔式中、R17及びR18は置換基を表し、uは0〜4の整
数を、vは0〜6の整数を表す。u及びvが2以上の整
数のとき、それぞれ複数のR17及びR18はそれぞれ同じ
であっても異なっていても良い。Yはハメットの置換基
定数σpが0.3以上1.5以下の置換基であり、Xは
水素原子又は発色現像主薬酸化体との反応により離脱す
る基を表す。 - 【請求項18】 下記一般式(19)〜(21)で表さ
れるカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含むこと
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化16】 〔式中、R19、R20及びR21は置換基を表し、wは0〜
4の整数を表す。wが2以上の整数を表すとき、それぞ
れ複数のR19、R20及びR21はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良い。xは1又は2の整数を表す。X19、X20
及びX21はそれぞれ水素原子又は発色現像主薬酸化体と
の反応により離脱する基を表す。〕 - 【請求項19】 請求項1〜18に記載のカプラーとヒ
ドラジン型発色現像主薬とのカップリング反応により得
られる発色色素。 - 【請求項20】 ヒドラジン型発色現像主薬が下記一般
式(22)で表される化合物であることを特徴とする請
求項1〜18の何れか1項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。 【化17】 〔式中、R221はアリール基又はヘテロ環基を表す。R
222はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基又はへテロ環基を表す。Lは−SO2−、−CO
−、−COCO−、−COO−、−CON(R223)
−、−COCOO−、−COCON(R223)−又は−
SO2N(R223)−の各基を表す。またR223は水素原
子若しくはR222と同義の基を表す。) - 【請求項21】 ヒドラジン型発色現像主薬が下記一般
式(23)又は(24)で表される化合物であることを
特徴とする請求項1〜18の何れか1項に記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。 【化18】 〔式中、R231、R232、R241及びR242はそれぞれ水素
原子又は置換基を表す。X1、X2、X3、X4及びX5は
それぞれ水素原子又は置換基を表す。但しX1、X3、X
5のハメットの置換基定数のσp値とX2、X4のハメット
置換基定数σm値の和は0.80以上3.80以下であ
る。R243はヘテロ環基を表す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19243098A JP2000007928A (ja) | 1998-06-23 | 1998-06-23 | 新規なシアンカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するハロゲン化銀写真感光材料、及び該カプラーの発色色素 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19243098A JP2000007928A (ja) | 1998-06-23 | 1998-06-23 | 新規なシアンカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するハロゲン化銀写真感光材料、及び該カプラーの発色色素 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000007928A true JP2000007928A (ja) | 2000-01-11 |
Family
ID=16291189
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP19243098A Pending JP2000007928A (ja) | 1998-06-23 | 1998-06-23 | 新規なシアンカプラー及びヒドラジン型発色現像主薬を含有するハロゲン化銀写真感光材料、及び該カプラーの発色色素 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2000007928A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017070937A (ja) * | 2015-10-09 | 2017-04-13 | 株式会社 極東技工コンサルタント | 浄水システム |
-
1998
- 1998-06-23 JP JP19243098A patent/JP2000007928A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017070937A (ja) * | 2015-10-09 | 2017-04-13 | 株式会社 極東技工コンサルタント | 浄水システム |
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