JP2000000814A

JP2000000814A - 混練装置およびその混練方法

Info

Publication number: JP2000000814A
Application number: JP10167254A
Authority: JP
Inventors: Toshiyuki Otsuka; 利之大塚
Original assignee: Nok Corp
Current assignee: Nok Corp
Priority date: 1998-06-15
Filing date: 1998-06-15
Publication date: 2000-01-07

Abstract

(57)【要約】【課題】混練中に混練材料の混練温度を急速に低下さ
せて加硫系配合剤を混練できるようにすることにある。
又、その混練方法を得ることにある。【解決手段】ポリマーの原材料に主配合剤を混練し、
加硫系配合剤の投入時に温度センサからの信号により冷
媒体を混練材料に注入して混練材料の温度を加硫系配合
剤の混練温度以下に低下させるようにした混練装置およ
びその混練方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、混練装置および混
練方法に関する。更に詳しくは、混練材料の温度上昇を
防止して混練時間を短縮できる混練装置および混練方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明に関する先行技術として図7 に示
す混練機が存在する。図７は、この混練機６０の断面図
である。

【０００３】図７に於いて、混練機本体６１のチャンバ
６３の内周面は、二つの円筒面を並列に配置して断面３
形状に形成されている。このチャンバ６３には、円筒面
の軸方向に回転軸６９が配置されているとともに、ゴム
原材料Ａと配合剤Ｂ（Ｃ）とを混練できるように一対に
ロータ６６が各々設けられている。そして、回転軸６９
は互いに対向する方向に回転してロータ６６によりゴム
原材料Ａと配合剤Ｂ（Ｃ）とを巻込みながら混練するよ
うに構成されている。

【０００４】この一対のロータ６６の回動により混練さ
れるゴム原材料Ａと配合剤Ｂ（Ｃ）とは、混練機本体６
１の上方に設けられた投入口６２から供給されるように
成されている。そして、ゴム原材料Ａと配合剤Ｂ（Ｃ）
とが供給されると油圧シリンダのピストンロッド６４が
図示した状態に降下してフローティングウェイト６５に
よりゴム原材料Ａと配合剤Ｂとに圧力を加えながらロー
タ６６の回動によりゴム原材料Ａと配合剤Ｂとを混練す
る。

【０００５】混練されたゴム原材料Ａと配合剤Ｂ（Ｃ）
とは一体となって取出口のドロップドア６７を開いて取
出口から取り出される。この取り出されたゴム原材料等
Ａ，Ｂは、次の後工程で再度ローラによりシート状に形
成される。尚、チャンバ６３の外周側には、冷却チャン
バ６８が設けられており、この冷却チャンバ６８により
ゴム原材料Ａが混練中の発熱を防止している。又、投入
口６２には、ドア７０が設けられて混練中は投入口６２
を密閉している。

【０００６】更に、投入口６２の反対側にはダクト７１
が設けられて図示省略のバックフィルタ（集塵機）７２
に連通している。このバックフィルタ７２は、チャンバ
６３内でゴム原材料Ａと配合剤Ｂ（Ｃ）とを混練すると
き、配合剤が外部へ飛散して作業環境の悪化を防止する
ためである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述のように構成され
ている混練機を用いてゴム原材料Ａと配合剤Ｂ（Ｃ）と
を混練すると、混練材料が混練中に剪断力による発熱を
惹起する。このため、ゴム原材料Ａに配合剤Ｂ（Ｃ）を
添加したコンパウンドは、コンパウンド自体の発熱を上
昇させるとともに、混合機本体６１の内部温度を上昇さ
せることになる。

【０００８】更に、このコンパウンドの温度上昇は、１
回（１ステージ）の混練で全工程の混練を完了すること
が困難であるため、ゴムの加硫系を除外した配合剤を混
練するＡ種混練と、この混練が完了した後に、この混練
物に加硫系剤Ｃを配合して混練するＢ種混練との２ステ
ージ混練を行わなければならなくなる。

【０００９】更に、このステージ混練の工程では、Ａ種
混練の後に混練物を冷却してから更に混練するという多
数の段取りを必要とすることになる。このため、混練時
間が長くなるという問題とともに、作業工数が多工数に
なるという問題が存する。

【００１０】更に又、混練機は、構造の強度上から厚肉
構造となっている。このため、水冷方式の冷却方法で
は、冷却速度は−２０℃／分相当であり、加硫促進剤の
投入できる温度の最大範囲が１００〜１２０℃相当であ
るから（ゴム原材料の種類により異なる）、混練材料温
度が１４０〜１６０℃に上昇すると、混練中に１〜３分
位の待ち時間をとる必要が生じてくる。更に、混練物は
大きなブロック状となっているので、そのブロックの内
部はかなり高温状態のままになっているので、これを再
開して混練すると、すぐに温度が限界以上に上昇し、加
硫工程前の可塑性が減少して徐々に加硫が進行するとと
もに弾性が増して行く現象であるスコーチ（焼け）を惹
起する。

【００１１】本発明は、上述のような問題点に鑑み成さ
れたものであって、その技術的課題は、混練する時間を
短縮させることにある。

【００１２】又、混練中に温度が上昇しても、加硫系配
合剤を投入できる温度まで混合槽内を冷却するのに短時
間で可能にすることにある。

【００１３】更に、混練の段階を従来の２ステージから
１ステージで混練することを可能とし、段取り等の工数
を低減できるようにすることにある。

【００１４】又、１ステージで混練できるようにして、
加硫系配合剤の混練作業にバラツキが生じるのを防止し
て品質を安定化できるようにすることにある。更に、品
質を安定化させる混練作業の全自動運転を可能にするこ
とにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、上述のような
技術的課題を解決するために成されたものであって、そ
の技術的手段は、以下のように構成されている。すなわ
ち、

【００１６】請求項１に係る本発明の混練装置は、ポリ
マー（Ａ）と加硫系配合剤（Ｂａ）を除外した配合剤
（Ｂｂ）を混練し、その後に加硫系配合剤（Ｂａ）を配
合して混練する混練装置に於いて、混練するロータ
（８）を有する混練室（４）と、混練室（４）の混練温
度（Ｔ）を検知する温度センサ（１４）と、混練室
（４）に連通して冷媒体（Ｃ）を通過させる供給通路
（１７）と、供給通路（１７）に連通して冷媒体（Ｃ）
を送り出す供給装置（４０）と、供給装置（４０）の冷
媒体（Ｃ）の注入を温度センサ（１５）の加硫系配合剤
（Ｂａ）を除外した配合剤（Ｂｂ）の混練の温度が加硫
系配合剤（Ｂａ）を配合できる温度以上に達したとき作
動させる制御装置（２０）とを具備するものである。

【００１７】請求項２に係る本発明の混練方法は、制御
装置（２０）が供給装置（４０）の冷媒体（Ｃ）を断続
して注入させる出力をするものである。

【００１８】請求項３に係る本発明のポリマー（Ａ）と
配合剤（Ｂ）とを混練する混練装置（１）において、ポ
リマー（Ａ）に加硫系配合剤（Ｂａ）を除外した配合剤
（Ｂｂ）を配合して混練し、混練温度が加硫系配合剤
（Ｂｂ）の配合できる温度以上に達したとき冷媒体
（Ｃ）を注入して混練温度を低下させて混練温度が加硫
系配合剤（Ｂｂ）の配合温度以上に達したとき加硫系配
合剤（Ｂａ）を配合して混練するものである。

【００１９】

【作用】本発明に係る混練装置は、ポリマーに加硫系配
合剤を除外した配合剤を配合して混練すると、温度が上
昇する。このため、次に加硫系配合剤を混練するために
は、加硫系配合剤を混練できる範囲の温度まで下げてや
らないと、加硫促進等の不具合が発生するので、冷媒体
を注入することにより、急速に温度が低下するので加硫
系配合剤を混練することが可能になる。その結果、混練
時間を短縮することが可能になるとともに、可塑化が減
少し、徐々に加硫が進行して弾性が増大するような現象
が惹起するのを防止することができる。更に、冷媒によ
る冷却によりポリマーの温度が低下するから、ポリマー
の混練性が良好となり、配合剤の混練分布がすぐれたも
のとなる。このため、後工程の成形品の品質が安定した
ものとなる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る実施の形態の
混練装置を図面に基づいて詳述する。

【００２１】図１は、本発明の一実施の形態を示す混練
装置の断面図である。図１に於て、１は混練装置であ
る。この混練装置１は、混練機２と、制御装置２４と、
冷媒体Ｃの供給装置４０とを設けた構成である。

【００２２】混練機２は、混練本体３とこの混練本体３
の開口部５に嵌合してポリマーの原材料Ａを密閉して混
練できるように押さえるフローティングウェイト１０と
から構成されている。この基本的な混練本体３は、断面
半円状に形成された円筒面を２個並列に合体した形の混
練室４を形成している。

【００２３】混練室４の半円形円筒面の中心軸には、そ
れぞれ第１と第２の回転軸６ａ，６ｂが設けられてい
る。この回転軸６ａ，６ｂには各々第１と第２の羽根７
ａ，７ｂが設けられて一対のロータ８を構成している。
このロータ８は、第１と第２の回転軸６ａ，６ｂが、両
者間に向かって互いに回転し、互いの第１の羽根７ａと
第２の羽根７ｂによってゴム原材料Ａとカーボンを含む
配合剤Ｂとを圧延しながら混練するように構成されてい
る。

【００２４】次に、フローティングウェイト１０は、混
練本体３の開口部５内に嵌合する外周面１１が設けられ
ているとともに、先端に原材料Ａが混練しやすいように
押さえ込む圧接面１２を形成している。このフローティ
ングウェイト１０は、油圧シリンダ１３により、往復移
動可能にして開口部５内に嵌合するとともに、開口部５
を開くために離脱するように構成されている。油圧シリ
ンダ１３の両端には、フローティングウェイト１０を案
内するガイドロッド１６が設けられており、図１の状態
で混練しているとき、又は、図２の状態に移動すると
き、更に、図２の状態から図１の状態に移動するときに
は、フローティングウェイト１０を案内するとともに保
持する役目をしている。

【００２５】図２は、フローティングウェイト１０が混
練本体３より上方へ移動した状態図である。図２の状態
で、ポリマーの原材料Ａと配合剤Ｂとを混練本体３に投
入する。又、混練本体３内で混練が完了して生地を取り
出すときは、図２の状態にして取り出される。

【００２６】上述のように構成された混練装置１には原
材料Ａであるポリマーと、種々の配合剤Ｂとを混練室４
に投入して混練される。配合剤Ｂには種々のものがあ
り、ポリマー成形品に使用される目的およびその成形品
に要求される性能に応じ選択されている。このうち、本
発明に関連するものとしては、充填剤ａ等の主配合剤Ｂ
ｂと加硫系配合剤Ｂａとが少なくとも配合剤Ｂとして混
練される。

【００２７】又、配合剤Ｂのうち主配合剤Ｂｂの充填剤
としては、カーボンブラック、酸化珪素等がある。又、
加硫系配合剤Ｂａとしては、加硫剤、加硫促進剤、加硫
促進助剤等が知られている。このポリマーの原材料Ａと
配合剤Ｂとの混練は、まず、配合剤Ｂのうち加硫系配合
剤Ｂａを除外した主配合剤Ｂｂを配合して混練する。こ
の混練作業が第一ステップとして完了すると、次に、加
硫系配合剤Ｂａを配合して混練することになる。

【００２８】この主配合剤Ｂｂと加硫系配合剤Ｂａは、
混練本体３からフローティングウェイト１０を上昇させ
たとき、図２に示すシュータ４５から投入されるように
なっている。更には、フローティングウェイト１０に図
示省の投入口を設け、この投入口から配合剤Ｂを投入で
きるように構成しても良い。

【００２９】次に、原材料Ａに主配合剤Ｂｂを混練した
後に、加硫系配合剤Ｂａを配合して混練するが、この加
硫系配合剤Ｂａを混練するためには、主配合剤Ｂｂが混
練されて上昇した温度を加硫系配合剤Ｂａが混練できる
混練温度Ｔまで低下させないと原材料Ａの物性が悪化す
る。このため、冷媒体Ｃを混練材料Ａ、Ｂｂに混合して
混練加硫系配合剤Ｂａが混練できる混練温度Ｔに低下さ
せる。この冷媒体Ｃは、フローティングウェイト１０の
ガイドロッド１６の中空の供給通路１７から混練本体３
の混練室４内に注入できるように構成されている。この
供給通路１７は、４本のガイドロッド１６に設けても良
いし、１本または２本に設けることも可能である。更
に、混練本体３の側部に供給通路１７ａを設けて、この
供給１７ａからポンプ４４を利用して冷媒体Ｃを圧送供
給しても良い。更に、この両者の供給通路１７、１７ａ
から供給することもできる。これは、混練温度の温度状
態又は混練材料Ａ、Ｂｂの体積による内部温度状態から
決められる。

【００３０】この供給通路１７を介して供給される冷媒
体Ｃは、貯留タンク４２に蓄えられている。この冷媒体
Ｃとしては、例えば、液体窒素Ｃ₁、ヘリウムガス等の
低温の液体やガス体が用いられる。更に、貯留タンク４
２には、供給バルブ４１が設けられており、この供給バ
ルブ４１の開閉により冷媒体Ｃを供給通路１７から供給
するように構成されている。以上の冷媒体Ｃを供給する
供給バルブ４１、貯留タンク４２、ポンプ４４および供
給通路１７を含めて供給装置４０を構成している。

【００３１】次に、供給装置４０と混練機２の作動は制
御装置２４により制御される。供給装置４０は、ポリマ
ーの原材料Ａと主配合剤Ｂｂとが混練されて第１ステッ
プの混練が完了すると、混練温度を低下させるために冷
媒体Ｃを混練材料に注入する。この作動は、混練本体３
内に設けられた第１の温度センサ１４により混練材料の
温度を検知してＩ／Ｆ２３から制御装置２４へ信号とし
て入力されるように構成されている。

【００３２】又、混練機２は、動力部９によりロータ８
を回動して混練材料を混練するが、このロータ８の回転
数はＩ／Ｆ２２を介して制御装置２４へ信号として入力
される。更に、制御装置２４から動力部９へＩ／Ｆ２１
を介して信号を発信し、ロータ８の回転数を制御するよ
うに構成されている。

【００３３】この混練機２は、制御装置２４により制御
されながら上述のポリマーの原材料Ａと配合剤Ｂとを混
練する。この制御装置２４は、混練機２の動作をシーケ
ンス制御する意味も含めてＰＣ（プログラマブルコント
ローラ）で制御することが好ましい。

【００３４】制御装置４０は図３のように構成されてい
る。そして、前述した通り制御装置２４は、図１に示す
ごとく混練機２の動力部９と結線されているとともに、
動力部９の電力計にも直結されている。更に、動力部９
の回転時間もフィードバックできるように構成されてい
る。

【００３５】更に、冷媒体Ｃの供給装置４０は、前述し
たように混練本体３の混練室４へ貯留タンク４２から供
給通路１７を設けたパイプ４３を介して供給されるが、
この供給の制御も、制御装置２４により供給バルブ４１
を作動させて行われる。

【００３６】図３の制御装置２４は、ＰＣ（プログラマ
ブルコントローラ）の中心で、そのＣＰＵ２４０を中心
にメモリ部２４２とデータを入力する設定器（プログラ
ミングツール）２５が設けられている。尚、この設定器
２５からはＩ／Ｏ装置２４６を介して入力される。そし
て、混練機２の回転数を回転計からインターフェース回
路Ｉ／Ｆ２２を介してＡ／ＤＣ２４４でデジタル形式の
信号に変換してＣＰＵに入力できるように構成されてい
る。更に、混練室４の混練材料の温度も第１の温度セン
サ１４によりＩ／Ｆ２３を介して入力される。又、貯留
タンク４２内の冷媒体Ｃの温度も第２の温度センサ１５
によりＩ／Ｆ２３からＡ／ＤＣ２４４を介してＣＰＵ２
４０に入力される。

【００３７】次に、制御装置２４のＣＰＵ２４０は、メ
モリ部２４２のデータをもとにメモリ部２４２に記憶さ
れている制御プログラムを動作させ、Ｄ／ＡＣ２４３に
よりデジタル形式の供給バルブ４１へ駆動信号をＩ／Ｆ
２１ａに入力して冷媒体Ｃの供給を制御する。又、ＣＰ
Ｕ２４０は、メモリ部２４２のデータをもとにメモリ部
２４２に記憶されている制御プログラムを作動させ、Ｄ
／ＡＣ２４３によりデジタル形式の動力部９によるロー
タの回転数を制御する。

【００３８】上述のように構成されている混練装置１
は、図４に示すフローチャートによりポリマーの原材料
Ａと配合剤Ｂのうちの主配合剤Ｂｂのカーボンブラック
等を混練本体３からフローティングウェイト１０を上昇
させ、図２に示す状態にしてシュータ４５より投入す
る。そして、図１の状態で混練して第１ステップを完了
する。第２ステップ以下は、図４のフローチャートを基
に第１の実施の形態について以下に詳述する。第１の実
施の形態に於ける第１ステップは、ポリマーの原材料Ａ
と主配合剤Ｂｂとを混練室４内でロータ８を回動して制
御装置２４の設定仕様に従い混練される。

【００３９】このポリマーの原材料Ａに主配合剤Ｂｂを
第１ステップとして混練完了すると、第１の温度センサ
１４により混練材料Ａ、Ｂｂの温度を検知して制御装置
２４に入力する。ＣＰＵ２４０は、メモリ部２４２のデ
ータをもとにメモリ部２４２に記憶されている制御プロ
グラムを作動させる。そして、この制御プログラムは、
混練温度および混練材料Ａ、Ｂｂの体積により演算され
るが、注入（供給）量は５００〜３００ｃｃに設定され
る。又、注入（供給）頻度は１〜３回である。更に、こ
の間隔は、５〜６０ｓｅｃである。更に又、ロータ８の
回転数は５〜３０ｒｐｍに低減した状態である。そし
て、加硫系配合剤Ｂａを配合して混練できる混練温度Ｔ
は、Ｍａｘ９０〜１２０℃である。

【００４０】そして、混練装置１のフローティングウェ
イト１０の混練本体３に対する配置状態は、図５に示す
ように、図１の状態より、若干上昇させた状態で空間部
４ａを形成し、供給通路１７より冷媒体Ｃを注入する。
又は、図６に示すようにフローティングウェイト１０の
位置を混練本体３の開口部５の上方へ移動させて空間部
４ａを形成し混練室４の容積を拡大して冷媒体Ｃを供給
通路１７から注入する。尚、冷媒体Ｃがガス化して空間
部４ａ内のガス圧力が上昇したときには、フローティン
グウエイト１０と開口部５の内周面の間隙から外方へ逃
げるように成される。

【００４１】この図５は、混練装置１の断面図である
が、図１に示すフローティングウェイト１０の位置から
油圧シリンダ１３により若干上昇させて混練室４に小さ
な空間部４ａを形成して冷媒体Ｃの窒素ガスを供給通路
１７から注入する。冷媒体Ｃはガス化するので、混練室
４の空間部４ａにとどまることになり、更に混練材料
Ａ、Ｂｂを冷却する。

【００４２】又、この図６は、図５の状態により更にフ
ローティングウェイト１０を上昇させて混練室４の容積
を最大にした場合である。この場合は、冷媒体Ｃを供給
通路１７と１７ａから大量に注入した場合の例である。
尚、図１に示すフローティングウェイト１０の位置状態
でも冷媒体Ｃを注入して混練材料Ａ、Ｂｂを冷却するこ
ともできる。

【００４３】以上の混練装置１の構成機で、具体的に冷
媒体Ｃの注入（供給）方法を詳述する。まず混練するロ
ータ８の回転数を５〜３０ｒｐｍの低回転にして冷媒体
Ｃを注入する。図４を参照し、第１ステップとしてポリ
マーの原材料Ａに主配合剤Ｂｂを配合して混練を完了す
る。そして、制御装置２４により、冷媒体Ｃの容量を２
０００ｃｃに設定する。又、ロータ８の回転数を１０ｒ
ｐｍに設定するとともに、フローティングウェイト１０
の位置を図６に示す状態にする。

【００４４】この制御装置２４の制御により供給バルブ
４１を作動させて供給通路１７から混練室４内へ冷媒体
（窒素ガス）Ｃを注入する。冷媒体Ｃの注入量が設定量
より小量のときは、再度冷媒体Ｃを注入する。そして、
設定量より注入量が大きくなれば、注入が完了となる。

【００４５】次に、注入間隔が注入設定時間より長いか
否か確認し、短い場合は再度注入間隔を長くするために
制御装置２４へフィードバックして注入間隔を長くす
る。又、混練温度が設定混練温度Ｔより低下したか否か
第１の温度センサ１４により検知して制御装置２４に信
号として入力し、設定混練温度Ｔに低下していないとき
は、上述の第２ステップを再度繰返して、加硫系配合剤
Ｂａが混練できる設定混練温度Ｔ以下に低下するのを確
認する。

【００４６】この確認により、混練温度が設定混練温度
Ｔ以下に低下していれば、ロータ８の回転を停止すると
ともに又は回転しながら、フローティングウェイト１０
を図２に示すように上方へ移動させて、加硫系配合剤Ｂ
ａを混練材料Ａ、Ｂｂに配合して混練する。この最終混
練は通常行われている混練である。

【００４７】以上の混練方法に於て用いられる冷媒体Ｃ
は、液体窒素を用いて実施をしたが、加硫系配合剤Ｂａ
の混練温度Ｔは９０〜１２０℃以下まで混練可能である
点を考慮すると、マイナス以下の温度であれば液体又は
気体のものを利用することができる。しかし、冷却効果
の点から−３０℃以下の低温の液体又は気体を用いるこ
とが好ましい。この冷媒体の温度としては、−２０℃程
度の冷却能力にすれば十分である。

【００４８】

【発明の効果】本発明の混練装置は、混練本体の混練室
内でポリマーの原材料に主配合剤を配合して混練すると
温度が上昇するが、冷媒体を投入すると、混練本体とと
もに混練材料が急激に冷却されるので、次の加硫系配合
剤を混練できる混練温度に短時間で達成することができ
る。しかも、混練材料を冷却している間も混練している
ので、混練時間の短縮と冷却効果の向上とを共に達成す
ることが可能となる。この時間短縮の効果は、冷媒体を
用いないものに比べ５０％以上に時短することが実測の
結果認められる。

【００４９】しかも、この混練方法は、原材料に主配合
剤を混練しながら温度上昇を温度センサで検知して冷媒
体を注入し、加硫系配合剤が混練できる温度に低下させ
るので、混練作業を中断することなく行うことができ、
段取り等の工数を３０％以上も削減することができる。

【００５０】更に、混練中に冷媒体を注入して混練温度
状態にできるので、加硫系配合剤を混練中に自動的に投
入することができる。このため、全自動化を達成し、作
業環境の悪い混練作業を自動化して改善を画ることが可
能になる。

【００５１】更に又、混練材料の温度センサにより冷媒
体を利用した熱管理は、混練材料の粘性を良好にして混
練材料に対し、より大きな剪断力を与えて混練すること
になるから、配合の分散化を画ることができることにな
る。このため、混練の品質を向上させることが期待でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る混練装置の断面図である。

【図２】図１の混練装置の状態からフローティングウェ
イトを上方へ移動して配合剤を投入できるようにした概
念図である。

【図３】図１の制御装置の構成図である。

【図４】本発明の混練方法のフローチャートである。

【図５】図１の混練装置に於てフローティングウェイト
を若干上昇させて冷媒体を注入できる状態にした断面図
である。

【図６】図５の混練装置のフローティングウェイトの位
置より更に上方へ移動して冷媒体を注入できる状態にし
た混練装置の断面図である。

【図７】従来の混練機の断面図である。

【符号の説明】

１・・・・混練装置２・・・・混練機３・・・・混練本体４・・・・混練室５・・・・開口部６ａ・・・第１の回転軸６ｂ・・・第２の回転軸７ａ・・・第１の羽根７ｂ・・・第２の羽根８・・・・ロータ９・・・・動力部１０・・・フローティングウェイト１１・・・外周面１２・・・圧接面１３・・・油圧シリンダ１４・・・第１の温度センサ１５・・・第２の温度センサ１６・・・ガイドロッド１７・・・供給通路２１〜２３・・・Ｉ／Ｆ（インターフェース）２４・・・制御装置２４０・・・ＣＰＵ２４２・・・メモリ部２４３・・・Ｄ／ＡＣ２４４・・・Ａ／ＤＣ２４６・・・Ｉ／Ｏ装置２５・・・設定器４０・・・供給装置４１・・・供給バルブ４２・・・貯留タンク４３・・・供給パイプ４４・・・ポンプ４５・・・シュータ６０・・・混練機６１・・・混練機本体６２・・・投入口６３・・・チャンバ６４・・・ピストンロット６５・・・フローティングウェイト６６・・・ロータ６７・・・ドロップドア６８・・・冷却チャンバ６９・・・回転軸７１・・・ダクトＡ・・・ポリマーの原材料Ｂ・・・配合剤Ｂａ・・・加硫系配合剤Ｂｂ・・・主配合剤Ｃ・・・冷媒体Ｔ・・・混練温度

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリマー（Ａ）と加硫系配合剤（Ｂａ）
を除外した主配合剤（Ｂｂ）を混練し、その後に加硫系
配合剤（Ｂａ）を配合して混練する混練装置に於いて、
混練するロータ（８）を有する混練室（４）と、前記混
練室（４）の混練温度（Ｔ）を検知する温度センサ（１
４）と、前記混練室（４）に貫通して冷媒体（Ｃ）を通
過させる供給通路（１７）と、前記供給通路（１７）に
連通して前記冷媒体（Ｃ）を送り出す供給装置（４０）
と、前記供給装置（４０）の冷媒体（Ｃ）の注入を前記
温度センサ（１５）の前記加硫系配合剤（Ｂａ）を除外
した主配合剤（Ｂｂ）の混練の温度が加硫系配合剤（Ｂ
ａ）を配合できる温度以上に達したとき作動させる制御
装置（２０）とを具備することを特徴とする混練装置。
【請求項２】前記制御装置（２０）は前記供給装置
（４０）の冷媒体（Ｃ）を断続して注入させる出力をす
ることを特徴とする請求項１に記載の混練装置。
【請求項３】ポリマー（Ａ）と配合剤（Ｂ）とを混練
する混練装置において、ポリマー（Ａ）に加硫系配合剤
（Ｂａ）を除外した主配合剤（Ｂｂ）を配合して混練
し、前記混練温度が前記加硫系配合剤（Ｂａ）の配合で
きる温度以上に達したとき冷媒体（Ｃ）を注入して混練
温度を低下させて前記混練温度が前記加硫系配合剤（Ｂ
ａ）の混練温度（Ｔ）以下に達したとき前記加硫系配合
剤（Ｂａ）を配合して混練することを特徴とする混練装
置の混練方法。