JP1733480S - 基板処理チャンバ用基板支持体 - Google Patents
基板処理チャンバ用基板支持体Info
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- JP
- Japan
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- substrate
- processing chamber
- support
- substrate processing
- substrate support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title 2
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202229823917 | 2022-01-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP1733480S true JP1733480S (ja) | 2022-12-28 |
Family
ID=84601223
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022014276F Active JP1733479S (ja) | 2022-01-20 | 2022-07-04 | 基板処理チャンバ用基板支持体 |
JP2022014279F Active JP1733480S (ja) | 2022-01-20 | 2022-07-04 | 基板処理チャンバ用基板支持体 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022014276F Active JP1733479S (ja) | 2022-01-20 | 2022-07-04 | 基板処理チャンバ用基板支持体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP1733479S (ja) |
TW (2) | TWD227252S (ja) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USD913979S1 (en) | 2019-08-28 | 2021-03-23 | Applied Materials, Inc. | Inner shield for a substrate processing chamber |
-
2022
- 2022-07-04 JP JP2022014276F patent/JP1733479S/ja active Active
- 2022-07-04 JP JP2022014279F patent/JP1733480S/ja active Active
- 2022-07-05 TW TW111303301F patent/TWD227252S/zh unknown
- 2022-07-05 TW TW111303298F patent/TWD227251S/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWD227251S (zh) | 2023-09-01 |
TWD227252S (zh) | 2023-09-01 |
JP1733479S (ja) | 2022-12-28 |
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