ITRE960097A1 - Metodo per caricare uno stampo con materiale di formatura e dispositi- vo per attuare tale metodo - Google Patents

Description

DESCRIZIONE

annessa a domanda di brevetto per INVENZIONE INDUSTRIALE dal titolo:

Metodo per caricare uno stampo con materiale di formatura e dispositivo per attuare tale metodo.

La presente invenzione concerne un metodo per caricare uno stampo con materiale di formatura e un dispositivo per attuare tale metodo.

In modo specifico, ma non esclusivo, esso trova utile applicazione nella fabbricazione di piastrelle ceramiche.

E? noto caricare uno stampo per piastrelle ceramiche mediante un dispositivo di caricamento che comprende: una tramoggia mobile di alimentazione del materiale di formatura (polvere ceramica); una superficie piana e liscia (realizzata ad es. in teflon), complanare al piano di una pressa ceramica, sulla quale pu? scorrere un cassetto con possibilit? di un moto di andirivieni fra una stazione di riempimento del cassetto, in cui quest?ultimo viene riempito con la polvere ceramica, e una stazione di caricamento dello stampo, in cui la polvere ceramica contenuta nel cassetto viene fatta cadere dentro alla cavit? di formatura dello stampo. Il cassetto presenta internamente una griglia avente sostanzialmente le stesse dimensioni della piastrella (o delle piastrelle) da formare. All?interno del cassetto viene deposta, nella stazione di riempimento e attraverso la tramoggia, una prestabilita quantit? di polvere ceramica; durante questa operazione, allo scopo di riempire interamente il cassetto, la tramoggia compie uno spostamento durante il quale una rasiera, solidale nello spostamento con la tramoggia, provvede a compiere la pareggiatura della polvere deposta nel cassetto asportando la polvere in eccesso. Una volta che il cassetto ? stato riempito e la polvere in esso contenuta ? stata pareggiata, il cassetto stesso viene fatto avanzare scorrendo lungo il piano teflonato in modo da portare la polvere ceramica in corrispondenza della stazione di caricamento, sopra la cavit? di formatura. Durante questa fase il semistampo superiore della pressa ? sollevato e sul semistampo inferiore, che ? posizionato all?altezza del piano della pressa, si trova appoggiata la piastrella gi? formata nel ciclo di pressatura precedente. Un organo spintore, solidale al cassetto e posto davanti ad esso, provvede ad espellere dalla pressa la piastrella gi? formata. Una volta che il cassetto, contenente la griglia completamente immersa nella polvere ceramica, ? stato posizionato sopra al semistampo inferiore, quest?ultimo si abbassa dando cosi luogo ad una cavit? di formatura, dopodich? la polvere contenuta nel cassetto cade in tale cavit? e successivamente il cassetto e la relativa griglia, ora svuotati, vengono fatti indietreggiare, per consentire la pressatura, ritornando alla stazione di riempimento per il ciclo successivo.

Un inconveniente della tecnica nota ? rappresentato dal fatto che il riempimento della polvere nella cavit? di formatura non ? uniforme, in quanto presenta delle leggere disomogeneit? dovute alla griglia predisposta all?interno del cassetto. Infatti nel prodotto finito (piastrella cotta e smaltata) restano visibili, anche dopo le varie fasi del processo di fabbricazione (pressatura, cottura, smaltatura, ecc.), le tracce della griglia, sotto forma di ombreggiature, venature e simili che riproducono sostanzialmente la forma della griglia e che riducono il pregio estetico del prodotto stesso.

Un?altra causa di distribuzione disomogenea ed irregolare della polvere nello stampo ? dovuta all?operazione di pareggiatura o rasatura della polvere deposta nella cavit? di formatura, che comporta un maggior accumulo di polvere in corrispondenza di una zona di estremit? della cavit? di formatura.

Scopo del presente trovato ? quello di ovviare ai suddetti limiti ed inconvenienti della tecnica nota, realizzando un metodo che consente un caricamento estremamente uniforme ed omogeneo del materiale di formatura nella cavit? dello stampo.

Grazie al presente trovato il prodotto finito (ad es. la piastrella ceramica) non presenta segni, ombreggiature, venature e altri tipi di tracce conseguenti ad un riempimento non ottimale del materiale nella cavit? di formatura.

Un altro vantaggio del trovato ? che l?operazione di rasatura della polvere deposta nella cavit? di formatura non ? pi? necessaria.

Il trovato consente altres? dr controllare e regolare il riempimento della cavit? di formatura mentre si effettua il riempimento stesso.

Un altro scopo del trovato in oggetto ? quello di rendere disponibile un dispositivo costruttivamente semplice ed economico in grado di attuare tale metodo.

Un vantaggio del dispositivo di caricamento dell?invenzione ? quello di adattarsi al cambio di formato del prodotto da pressare (in particolare al cambio dello spessore) in modo semplice ed immediato.

Tali scopi e vantaggi ed altri ancora sono tutti raggiunti dal trovato in oggetto, cos? come esso risulta caratterizzato dalle nvendic azioni sottoriportate.

L'invenzione viene descritta di seguito in modo dettagliato con riferimento alle figure allegate, che ne illustrano una preferita forma di realizzazione.

La figura 1 mostra una schematica vista in elevazione verticale, parzialmente sezionata, di un dispositivo realizzato in accordo con il presente trovato.

La figura 2 mostra una sezione secondo il piano di traccia II-II di figura 1.

La figura 3 mostra il dispositivo di figura 1 in una diversa configurazione operativa.

La figura 4 mostra il dispositivo di figura 3 in una successiva fase del suo funzionamento.

La figura 5 mostra, in scala ingrandita, un particolare di figura 4.

Facendo riferimento alle sopra citate figure, con 1 si ? complessivamente indicato un dispositivo di caricamento di uno stampo 2 con materiale di formatura 3. Lo stampo 2 ? destinato alla formatura di una piastrella ceramica 4; esso ? dotato di un semistampo superiore 5 e di un semistampo inferiore 6 capaci dietro comando di una pressa, di un movimento di reciproco avvicinamento ed allontanamento.

In figura 1 ? evidenziato che fra il semistampo inferiore 6 e una base 7 fissa dello stampo pu? restare definita una cavit? di formatura 8 da riempire con il materiale di formatura 3 (polvere ceramica) per realizzare la piastrella 4.

Il dispositivo 1 comprende un nastro trasportatore 9 avvolto ad anello su una coppia di ruote 10 almeno una delle quali ? di traino.

Un ramo superiore 11 del nastro trasportatore 9 definisce una superficie piana 12, orizzontale, scorrevole dietro comando di un motore noto e non illustrato.

Al nastro trasportatore 9 ? solidamente collegata una coppia di slitte 13, longitudinali e rettilinee, situate ai lati opposti del nastro 9. Ciascuna slitta 13 ? scorrevolmente accoppiata ad una rispettiva guida 14 fissa, solidale alla pressa. Sono previsti dei mezzi, noti e non illustrati, capaci di comandare un movimento rettilineo, orizzontale, in entrambi i sensi, delle slitte 13 sulle rispettive guide 14 e, di conseguenza, del nastro trasportatore 9, in modo da spostare la superficie piana 12 rispetto alla cavit? di formatura 8 dello stampo 2. Il nastro trasportatore 9 ? suscettibile di spostarsi almeno in parte al di sopra della cavit? di formatura 8.

Il dispositivo 1 comprende altres? dei mezzi per realizzare uno strato 15 di spessore uniforme di materiale di formatura 3 sopra la superficie piana 12 definita dal nastro trasportatore 9, ? quali mezzi comprendono una tramoggia di scarico 16 posta al di sopra del nastro trasportatore 9 e atta a depositare il materiale di formatura 3 per tutta la larghezza del nastro medesimo. Quest?ultimo ? dotato altres? di due sponde 17 parallele situate ai lati opposti del ramo superiore 11 del nastro trasportatore 9, fra le quali ? previsto che sia deposto, attraverso la tramoggia 16, il materiale di formatura 3 allo scopo di realizzare il detto strato 15.

E? prevista inoltre una rasiera 18 predisposta trasversalmente alle sponde 17 per rasierare il materiale di formatura 3 collocato fra le sponde stesse, al fine di realizzare lo strato 15. La rasiera 18 ? costituita da una barra collocata ad una prestabilita altezza sopra al ramo superiore 11 del nastro trasportatore. La distanza fra la rasiera 18 e il ramo superiore 11 ? regolabile, ad esempio mediante un dispositivo 19 di traslazione a vite che consente di sollevare ed abbassare la rasiera 18 e di posizionarla secondo le esigenze.

Un organo spintore 20, solidale al nastro trasportatore 9 nel suo spostamento rispetto alla cavit? di formatura 8, ? previsto per allontanare da una zona di formatura una piastrella 4 gi? formata nello stampo 2.

Il dispositivo 1 comprende inoltre dei mezzi, di tipo noto, atti a sincronizzare tra loro il motore (non illustrato) di azionamento della ruota o delle ruote 10 di traino del nastro trasportatore 9 e il motore (pure non illustrato) di movimentazione delle slitte 13 sulle rispettive guide 14. Tali mezzi consentono di comandare in sincronismo lo scorrimento della superficie piana 12, sulla quale ? possibile formare il detto strato 15 di materiale di formatura 3, insieme con lo spostamento della stessa superficie piana 12 rispetto alla cavit? di formatura 8.

Tali mezzi di sincronizzazione sono preferibilmente collegati ad un dispositivo di controllo e regolazione che opera all?interno della cavit? di formatura e che ? costituito ad esempio da un encoder di tipo noto.

Il funzionamento del dispositivo 1 ? il seguente.

Inizialmente viene realizzato lo strato 15 di materiale di formatura 3 sopra la superficie piana 12 definita dal ramo superiore 11 del nastro trasportatore 9. A questo scopo viene depositata, attraverso la tramoggia 16, una quantit? di materiale 3 sul nastro 9, mentre quest?ultimo viene fatto scorrere nel verso indicato dalla freccia 21 (figura 5) per mezzo della ruota di traino del nastro 9. In questo modo il materiale 3 ? obbligato a passare sotto alla rasiera 18 venendo pareggiato dalla stessa e formando cos? lo strato 15 di spessore uniforme predeterminato. Lateralmente il materiale di formatura 3 viene contenuto dalle sponde 17.

La deposizione del materiale di formatura 3 sul nastro 9 viene effettuata mediante la tramoggia 16 in corrispondenza di una stazione di lavoro distante dallo stampo 2; il nastro 9 viene successivamente spostato, traslando sulle guide 14, dalla stazione di lavoro allo stampo 2. Durante questo spostamento l?organo spintore 20 allontana una piastrella 4 precedentemente formata nello stampo (figura 3).

Una volta che si ? formato lo strato 15, o anche durante la formazione dello stesso, la superficie piana 12 che porta lo strato 15 viene spostata nella posizione di figura 3, in cui si trova con la sua estremit? anteriore 22 di scarico posta al di sopra di un estremo della cavit? di formatura 8. A partire da questa posizione, il nastro trasportatore 9 viene fatto indietreggiare (traslando sulle guide 14) nel verso indicato dalla freccia 23, mentre contemporaneamente, in sincronia con tale spostamento all? indietro del nastro 9 sulle guide 14 di scorrimento, il ramo superiore 11 del nastro stesso viene fatto scorrere sulle ruote 10 in avanti, nel verso indicato dalla freccia 21, in modo da far cadere il materiale di formatura 3 dall'estremit? di scarico 22 del nastro 9 all?interno della cavit? di formatura 3. Va sottolineato il fatto che i due movimenti del nastro trasportatore 9 (quello di traslazione sulle guide 14 e quello di scorrimento sulle ruote 10) hanno verso opposto e avvengono in contemporanea e in sincronia l?uno rispetto all?altro. La sincronizzazione dello spostamento all? indietro del nastro 9 sulle guide 14 e dello scorrimento in avanti del ramo superiore 11 del nastro sulle ruote 10 consente di depositare nella cavit? di formatura 8 una quantit? controllata di materiale di formatura 3.

Le caratteristiche dello strato di materiale di formatura che viene realizzato all?interno della cavit? 8, quale in particolare lo spessore, vengono determinate, tra l?altro, anche dalle caratteristiche di uno o di entrambi i suddetti movimenti del nastro 9 (spostamento 23 all? indietro e scorrimento 21 in avanti), quale ad esempio il rapporto delle velocit? dei movimenti.

E? evidente che lo spessore dello strato di materiale nella cavit? dipende anche dallo spessore dello strato 15 precedentemente realizzato sul ramo superiore 11 del nastro 9.

In ogni caso lo strato di materiale deposto nella cavit? di formatura 3 si presenta estremamente uniforme ed omogeneo e permette di realizzare nelle successive fasi di lavorazione (pressatura, cottura, ecc.) un prodotto ceramico (piastrella) con elevate qualit? sia meccaniche che estetiche.

Una forma di attuazione del metodo di caricamento di uno stampo con materiale di formatura, oggetto del presente trovato, comprende le seguenti operazioni.

Dapprima si prevede di realizzare uno strato 15 di materiale di formatura 3 sopra una superficie piana 12; tale strato 15 viene ottenuto preferibilmente deponendo una quantit? di materiale di formatura 8 sopra la superficie piana 12 e successivamente rasierando detta quantit?; la deposizione del materiale 8 sulla superficie piana 12 pu? avvenire in corrispondenza di una stazione di lavoro distante dallo stampo 2, nel qual caso la superficie piana 12 viene successivamente spostata dalla stazione di lavoro verso lo stampo 2; durante questo spostamento un prodotto A gi? formato in precedenza nello stampo 2 viene spinto via da quest'ultimo.

Una volta che la superficie piana 12 ? posizionata sopra ad una sottostante cavit? di formatura 8 di uno stampo 2, il metodo prevede di spostare la superficie piana 12 rispetto alla cavit? di formatura 8 e contemporaneamente far cadere il materiale di formatura 3 stratificato da un?estremit? di scarico 22 della superficie piana 12 mediante lo scorrimento di quest? ultima, in modo che il materiale di formatura 3 cada all?interno della cavit? di formatura 8; i due movimenti contemporanei (spostamento e scorrimento) della superficie 12 avvengono in sincronia fra loro.

La suddetta rasatura avviene preferibilmente facendo passare il materiale di formatura trasportato dal nastro sotto ad una rasiera fissa E? possibile tuttavia prevedere il caso in cui la rasiera sia mobile.

Il trovato consente di riempire cavit? di formatura di qualsiasi forma e dimensione, anche con spessori non costanti: in questo caso ? conveniente sincronizzare i due movimenti del nastro trasportatore cosicch? il rapporto delle due velocit? sia modificato opportunamente nel corso del riempimento della cavit? di formatura.

In pratica, mediante la regolazione e il controllo dei parametri caratteristici dei due movimenti consentiti al nastro trasportatore (oltre che per mezzo di variazioni prestabilite dello spessore dello strato realizzato sul nastro stesso) ? possibile ottenere una gamma pressoch? infinita di modi differenti (e tutti pre determinabili) di caricamento di uno stampo.

Ovviamente al trovato potranno essere applicate numerose altre modifiche di natura pratico-applicativa dei dettagli costruttivi, senza uscire per questo dall'ambito di protezione dell'idea inventiva sotto rivendicata.

Claims (14)

1. RIVENDICAZIONI 1. Metodo di caricamento di uno stampo (2) con materiale di formatura (3), caratterizzato dal fatto che comprende le seguenti operazioni: realizzare uno strato (15) del materiale di formatura (3) sopra una superficie piana (12); spostare detta superficie piana (12) rispetto ad una sottostante cavit? di formatura (8) dello stampo (2) e contemporaneamente far cadere il materiale di formatura (3) stratificato da un?estremit? di scarico (22) di detta superficie piana (12) mediante lo scorrimento di quest? ultima, in modo che il materiale di formatura (3), cadendo, possa riempire la cavit? di formatura (8).
2. 2. Metodo secondo la rivendicazione 1, caratterizzato dal fatto di sincronizzare fra loro detto spostamento e detto scorrimento della superficie piana (12).
3. 3. Metodo secondo la rivendicazione 1 o 2, caratterizzato dal fatto che detto strato (15) di materiale di formatura (3) viene realizzato deponendo una quantit? di materiale di formatura (3) sopra detta superficie piana (12) e successivamente rasando detta quantit?.
4. 4. Metodo secondo la rivendicazione 3, caratterizzato dal fatto che prevede di deporre detta quantit? di materiale di formatura (3) in una zona distante dallo stampo (2) e successivamente di spostare detta superficie piana (2) verso lo stampo (2).
5. 5. Metodo secondo la rivendicazione 4, caratterizzato dal fatto che un prodotto (4) gi? formato e situato in corrispondenza dello stampo (2) viene spinto lontano da quest?ultimo durante detto spostamento della superficie piana (12) verso lo stampo (2).
6. 6. Dispositivo (1) di caricamento di uno stampo (2) con materiale di formatura (3), caratterizzato dal fatto che comprende: una superficie piana (12) scorrevole dietro comando; mezzi per realizzare uno strato (15) di materiale di formatura (3) sopra detta superficie piana (12), il materiale di formatura (3) essendo suscettibile di cadere da un?estremit? di scarico (22) della superficie piana (12) per effetto di uno scorrimento di quest?ultima; mezzi per spostare detta superficie piana (12) rispetto ad una cavit? di formatura (8) dello stampo (2), detti mezzi di spostamento essendo capaci di agire contemporaneamente allo scorrimento della superficie piana (12).
7. Dispositivo secondo la rivendicazione 6, caratterizzato dal fatto di comprendere mezzi per sincronizzare tra loro il comando dello scorrimento di detta superficie piana (12) con i detti mezzi di spostamento della stessa.
8. 8. Dispositivo secondo la rivendicazione 6 o 7, caratterizzato dal fatto che detta superficie piana (12) ? individuata da un ramo superiore (11) di un nastro trasportatore (9).
9. 9. Dispositivo secondo la rivendicazione 8, caratterizzato dal fatto che comprende due sponde (17) parallele situate ai lati opposti di detto ramo superiore (11), fra le quali ? previsto di realizzare il detto strato (15) di materiale di formatura (3).
10. 10. Dispositivo secondo la rivendicazione 9, caratterizzato dal fatto che comprende una rasiera (18) predisposta trasversalmente alle sponde (17) per rasare il materiale di formatura (3) collocato fra le sponde stesse.
11. 11. Dispositivo secondo la rivendicazione 10, caratterizzato dal fatto che la distanza fra la rasiera (18) e detto ramo superiore (11) del nastro trasportatore ? regolabile.
12. 12. Dispositivo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni dalla fi alla 11, caratterizzato dal fato che comprende un organo spintore (20), solidale a detta superficie piana (12) nello spostamento rispetto alla cavit? di formatura (8), capace di allontanare dallo stampo (2) un prodotto (4) gi? formato.
13. 13. Metodo secondo le rivendicazioni precedenti e secondo quanto descritto ed illustrato con riferimento alle figure degli uniti disegni e per gli accennati scopi.
14. 14. Dispositivo secondo le rivendicazioni precedenti e secondo quanto descritto ed illustrato con riferimento alle figure degli uniti disegni e per gji accennati scopi.