IT201800005064A1 - Dispositivo di livellamento per materiali in polvere o granuli - Google Patents

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Description

DESCRIZIONE
Annessa a domanda di brevetto per INVENZIONE INDUSTRIALE avente per titolo
“Dispositivo di livellamento per materiali in polvere o granuli”
La presente invenzione ha per oggetto un dispositivo di livellamento per materiali in polvere o granuli.
In modo preferito, ma non esclusivo, il dispositivo di stesura secondo la presente invenzione può essere impiegato negli impianti di pressatura di lastre o piastrelle ceramiche.
L’invenzione si riferisce in particolare agli impianti per la pressatura di lastre ceramiche di grandi dimensioni. Tali impianti prevedono sostanzialmente la pressatura di uno strato di materiale soffice preventivamente steso su un piano di trasporto che, per almeno una porzione del proprio percorso, transita attraverso una pressa.
La stesura del materiale è spesso irregolare a causa delle difficoltà di gestione del moto del piano di trasporto delle polveri, a causa delle irregolarità del piano stesso, a causa di vibrazioni e oscillazioni del sistema. Anche se lo spessore dello strato deposto è costante, in ogni caso la regolazione più precisa non consente di evitare la formazione di striature o avvallamenti sulla superfice dello strato deposto, o differenze di densità dello strato di materiale soffice.
Scopo della presente invenzione è di offrire un dispositivo di livellamento che consenta di superare i limiti e gli inconvenienti dei dispostivi attuali. Un vantaggio del dispositivo secondo la presente invenzione è di consentire una stesura omogena e di spessore costante dello strato di materiale soffice, indipendentemente dalla velocità di avanzamento del piano di trasporto o dalle irregolarità del piano stesso o dalle vibrazioni o oscillazioni del sistema.
Un altro vantaggio del dispositivo secondo la presente invenzione è di produrre uno strato la cui superficie è priva di irregolarità.
Ulteriori caratteristiche e vantaggi della presente invenzione meglio appariranno dalla descrizione dettagliata che segue di una forma di realizzazione dell’invenzione in oggetto, illustrata a titolo esemplificativo ma non limitativo nelle allegate figure in cui:
− la figura 1 mostra una vista schematica del dispositivo di livellamento secondo la presente invenzione;
− la figura 2 mostra una possibile forma di realizzazione di un dispositivo di stesura che utilizza un dispositivo di livellamento secondo la presente invenzione.
Il dispositivo di livellamento secondo la presente invenzione comprende un piano di appoggio (2), mobile in avanzamento lungo una direzione longitudinale (X). In una preferita, ma non esclusiva forma di realizzazione, il piano di appoggio (2) comprende un nastro motorizzato, scorrevole lungo un percorso prefissato che presenta un tratto principale parallelo alla direzione longitudinale (X).
Il deposito di uno strato (L) di materiale granulare o in polvere sul piano di appoggio (2) può essere effettuata, ad esempio, mediante un dispositivo di alimentazione noto nel settore, che comprende, ad esempio, almeno una tramoggia (3), disposta al disopra del piano di appoggio (2) e dotata di un’apertura di scarico (4), posizionata ad un’altezza prefissata al disopra del piano di appoggio (2), come illustrato in figura 1. La tramoggia (3) contiene il materiale soffice, in polvere o in granuli, destinato ad essere steso sul piano di appoggio, per essere alimentato ad una pressa. L’apertura di scarico (4) è strutturata per consentire la discesa per gravità e la caduta del materiale sul piano di appoggio (2). Un dispositivo di chiusura è associato alla tramoggia (3) per consentire l’apertura e la chiusura comandata dell’apertura di scarico (4). La tramoggia (3) non sarà descritta in ulteriore dettaglio, in quanto si tratta di un dispositivo noto nel settore. In una possibile forma di realizzazione alternativa, il piano di appoggio (2) è stazionario, mentre il dispositivo di alimentazione è mobile rispetto al piano di appoggio (2) lungo la direzione longitudinale (X).
Il materiale soffice, steso sul piano di appoggio con il dispositivo sopra sommariamente descritto, o con altre tecniche note nel settore, viene disposto in uno strato (L), continuo o discontinuo, di spessore (S). Per spessore (S) si intende sostanzialmente l’altezza della superficie dello strato (L) rispetto al piano di appoggio (2).
Il dispositivo di livellamento secondo la presente invenzione comprende un livellatore (5,6), posizionato al disopra del piano di appoggio (2).
Il livellatore (5,6) è provvisto di un primo elemento (5), disposto ad una prima altezza (H1) inferiore allo spessore (S) dello strato (L). Il primo elemento (5) è predisposto per interferire con uno strato superficiale (L1) dello strato (L), ovvero con uno strato superiore dello strato (L). Il primo elemento (5) è inoltre predisposto per sollevare lo strato superficiale (L1) ad un’altezza superiore allo spessore (S).
Il livellatore (5,6) è inoltre provvisto di un secondo elemento (6), posizionato a valle del primo elemento (5) rispetto alla direzione di avanzamento e posto ad una seconda altezza (H2). La seconda altezza (H2) è maggiore o uguale alla prima altezza (H1).
Preferibilmente la seconda altezza (H2) è inoltre maggiore o uguale allo spessore (S) dello strato (L). Più preferibilmente, la seconda altezza (H2) è maggiore dello spessore (S) dello strato (L).
Il primo elemento (5) è sostanzialmente predisposto per interferire con uno strato superficiale (L1) di prefissato spessore dello strato (L) e per sollevare tale strato superficiale (L1) al disopra dello spessore (S).
Il dispositivo secondo la presente invenzione è predisposto per realizzare un moto relativo lungo la direzione longitudinale (X) tra il piano di appoggio (2) ed il livellatore (5,6).
Preferibilmente, lo strato (L) è portato in avanzamento dal piano di appoggio (2) ad una velocità idonea a produrre una proiezione o deviazione verso l’alto dello strato superficiale (L1), quando quest’ultimo entra in contatto con il primo elemento (5). In sostanza, entrando in contatto con il primo elemento (5) ad una determinata velocità, il materiale dello strato superficiale (L1) viene deviato verso l’alto, assumendo una velocità diretta lungo una direzione inclinata verso l’alto di un certo angolo. Ciò vale ovviamente anche nel caso in cui il piano di appoggio (2) è stazionario ed il livellatore (5,6) viene traslato orizzontalmente lungo la direzione longitudinale (X) rispetto al piano di appoggio (2).
Oltre a sollevare lo strato superficiale (L1), il primo elemento (5) svolge anche l’azione di rivoltare e/o scalzare uno strato superiore dello strato (L), ovvero lo strato superficiale (L1), il cui spessore può essere regolato variando l’altezza del primo elemento (5). In sostanza, il primo elemento (5) smuove lo strato superficiale (L1) omogeneizzandone la compattezza e disgregando eventuali grumi o accumuli maggiormente compattati tra loro. Il primo elemento (5) presenta uno spessore limitato in direzione perpendicolare al piano di appoggio (2), in modo da non trattenere, o trattenere solo una limitata quantità di materiale superficiale dello strato (L), sostanzialmente senza formare un accumulo di materiale. Come già indicato, entrando in contatto con il primo elemento (5) ad una determinata velocità, il materiale dello strato superficiale (L1) viene deviato verso l’alto, assumendo una velocità diretta lungo una direzione inclinata verso l’alto di un certo angolo. In assenza del secondo elemento (6), il materiale dello strato superficiale (L1) seguirebbe una traiettoria parabolica e si depositerebbe nuovamente sul sottostante strato (L). Nella presente invenzione, prima di depositarsi nuovamente sullo strato (L), il materiale dello strato superficiale (L1) incontra il secondo elemento (6) e viene livellato verso il basso dal secondo elemento (6) che ne uniforma perfettamente lo spessore. Il secondo elemento (6) si trova infatti ad operare su uno strato superficiale smosso e reso meno compatto dal primo elemento (5). Il secondo elemento (6) distribuisce il materiale in maniera uniforme e spiana lo strato superficiale (L1) sollevato dal primo elemento (5), definendo una superficie piana e priva di irregolarità rilevanti per la successiva pressatura.
La seconda altezza (H2) del secondo elemento (6) è maggiore o uguale allo spessore (S) dello strato (L). Preferibilmente, la seconda altezza (H2) è maggiore dello spessore (S), ed è tale da intercettare lo strato superficiale (L1) proiettato o deviato verso l’alto dal primo elemento (5). Il secondo elemento (6) pareggia e ridistribuisce il materiale dello strato superficiale (L1), preventivamente sollevato dal primo elemento (5). Ciò consente di ottenere, a valle del livellatore (5,6), uno spessore costante dello strato (L), sostanzialmente pari allo spessore (S) dello strato (L) a monte del livellatore (5,6), ed una superficie piana ed uniforme. Parte del materiale superficiale che entra in contatto con il secondo elemento (6) viene distribuito in direzione trasversale rispetto alla direzione longitudinale (X), pareggiando e compensando tutte le irregolarità superficiali dello strato (L).
In una possibile forma di realizzazione, illustrata in figura 1, il primo elemento (5) comprende un elemento filiforme (51). L’elemento filiforme può essere disposto su un piano orizzontale, parallelo al piano di appoggio (2), o su un piano a diversa inclinazione. L’elemento filiforme (51) può essere sostenuto ai propri estremi mediante due supporti fissi, associati ad esempio al telaio di supporto del piano di appoggio (2), oppure, nella versione in cui il livellatore (5,6) è mobile, ad un telaio mobile rispetto al piano di appoggio (2).
L’elemento filiforme (51) può essere informa di una barretta o filo di acciaio, in forma di un cavo o di una sottile lamina o altro.
In una possibile forma di realizzazione, il secondo elemento (6) comprende un bordo inferiore (61), posizionato alla seconda altezza (H2) al disopra del piano di appoggio (2). Ad esempio, il secondo elemento (6) comprende una barriera (60) dotata di un bordo inferiore (61), posizionato alla seconda altezza (H2). La barriera (60) intercetta e ridistribuisce il materiale dello strato superficiale (L1) proiettato verso l’alto dal contatto con il primo elemento (5). A valle del bordo inferiore (61), lo strato di materiale soffice presenta uno spessore costante ed una superficie piana e priva di irregolarità. Preferibilmente, ma non necessariamente, la barriera (60) giace su un piano la cui inclinazione è regolabile rispetto ad un piano perpendicolare al piano di appoggio (2). In altri termini, la barriera (60) può essere inclinata in avanti o all’indietro rispetto al verso di avanzamento del piano di appoggio (2). La possibilità di regolare l’inclinazione della barriera (60) consente di adattarne l’azione rispetto a materiali di composizione e granulometrie diverse, e/o a variazioni della velocità del piano di appoggio (2). La barriera (60) può essere associata ad esempio al telaio di supporto del piano di appoggio (2), oppure, nella versione in cui il livellatore (5,6) è mobile, ad un telaio mobile rispetto al piano di appoggio (2).
Il livellatore (5,6) può essere mobile in direzione perpendicolare al piano di appoggio (2), per consentire la regolazione della prima e della seconda altezza (H1,H2). Mezzi di regolazione alla portata del tecnico del settore possono essere utilizzati per consentire lo spostamento del livellatore (5,6) in direzione perpendicolare al piano di appoggio (2). Il primo elemento (5) ed il secondo elemento (6) possono essere mobili verticalmente e/o orizzontalmente l’uno in maniera indipendente dall’altro.
Il livellatore (5,6) può inoltre essere dotato di mezzi vibranti. L’impiego di mezzi vibranti consente di mantenere il materiale fluido e distribuito uniformemente. In particolare, nella forma di realizzazione comprendente la barriera (60), è possibile predisporre mezzi vibranti che agiscono sulla barriera (60) stessa. Ciò consente di distribuire il materiale in modo uniforme lungo tutta la larghezza dello strato (L).

Claims (13)

  1. RIVENDICAZIONI 1) Dispositivo di livellamento per materiali in polvere o granuli, comprendente: un piano di appoggio (2), predisposto per ricevere almeno uno strato (L) di materiale in polvere o granuli avente uno spessore (S); caratterizzato dal fatto che: comprende un livellatore (5,6), posizionato al disopra del piano di appoggio (2); il piano di appoggio (2) ed il livellatore (5,6) sono mobili relativamente l’uno all’altro lungo una direzione longitudinale (X); il livellatore (5,6) è provvisto di un primo elemento (5), disposto ad una prima altezza (H1) inferiore allo spessore (S) dello strato (L), che è predisposto per interferire con uno strato superficiale (L1) dello strato (L) e per sollevare tale strato superficiale (L1) ad un’altezza superiore allo spessore (S); il livellatore (5,6) è provvisto di un secondo elemento (6), posizionato a valle del primo elemento (5) e posto ad una seconda altezza (H2) per interferire con lo strato superficiale (L1).
  2. 2) Dispositivo secondo la rivendicazione 1, in cui la seconda altezza (H2) è maggiore o uguale alla prima altezza (H1).
  3. 3) Dispositivo secondo la rivendicazione 1, in cui la seconda altezza (H2) è maggiore o uguale allo spessore (S) dello strato (L).
  4. 4) Dispositivo secondo la rivendicazione 1, in cui il livellatore (5,6) è mobile almeno in direzione perpendicolare al piano di appoggio (2).
  5. 5) Dispositivo secondo la rivendicazione 1, in cui il primo elemento (5) ed il secondo elemento (6) sono mobili in direzione orizzontale e/o verticale l’uno rispetto all’altro.
  6. 6) Dispositivo secondo la rivendicazione 1, in cui il livellatore (5,6) è dotato di mezzi vibranti.
  7. 7) Dispositivo secondo la rivendicazione 1, in cui il secondo elemento (6) comprende una barriera (60) dotata di un bordo inferiore (61), posizionato alla seconda altezza (H2) al disopra del piano di appoggio (2).
  8. 8) Dispositivo secondo la rivendicazione 7, in cui la barriera (60) giace su un piano la cui inclinazione è regolabile rispetto ad un piano perpendicolare al piano di appoggio (2).
  9. 9) Dispositivo secondo la rivendicazione 1, in cui il primo elemento (5) comprende un elemento filiforme (51).
  10. 10) Dispositivo secondo la rivendicazione 1, in cui il piano di appoggio (2) è mobile lungo la direzione longitudinale (X) ed il livellatore (5,6) è stazionario, o viceversa.
  11. 11) Metodo per la stesura di uno strato di materiale in polvere o granuli, comprendente le seguenti fasi: stendere uno strato (L) avente uno spessore (S) di materiale in polvere o granuli su un piano di appoggio (2); disporre un primo elemento (5), posizionato ad una prima altezza (H1) inferiore allo spessore (S) dello strato (L); disporre un secondo elemento (6) ad una seconda altezza (H2) maggiore o uguale alla prima altezza (H1); azionare con un moto di scorrimento relativo lungo una direzione longitudinale (X) il piano di appoggio (2) ed il primo e secondo elemento (5,6); sollevare uno strato superficiale (L1) di prefissato spessore dallo strato (L) mediante il primo elemento (5); livellare lo strato superficiale (L1) mediante il secondo elemento (6).
  12. 12) Metodo secondo la rivendicazione 11, in cui la fase di sollevare lo strato superficiale (L1) prevede di trasportare lo strato (L) in avanzamento ad una velocità idonea a produrre una deviazione verso l’alto dello strato superficiale (L1) quando entra in contatto con il primo elemento (5), ed in cui la fase di livellare lo strato superficiale (L1) avviene prima che lo strato superficiale (L1) sia ritornato in appoggio sullo strato (L).
  13. 13) Metodo secondo la rivendicazione 11, in cui la fase di sollevare lo strato superficiale (L1) prevede di trasportare il primo ed il secondo elemento (5,6) in avanzamento ad una velocità idonea a produrre una deviazione verso l’alto dello strato superficiale (L1) quando entra in contatto con il primo elemento (5), ed in cui la fase di livellare lo strato superficiale (L1) avviene prima che lo strato superficiale (L1) sia ritornato in appoggio sullo strato (L).
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