IT201800003349U1 - Protezione dall'ossidazione di oggetti d'argento(ag)leghe di argento, oro(au) ed altri metalli in lega ottenuti anche come deposito galvanico - Google Patents
Protezione dall'ossidazione di oggetti d'argento(ag)leghe di argento, oro(au) ed altri metalli in lega ottenuti anche come deposito galvanico Download PDFInfo
- Publication number
- IT201800003349U1 IT201800003349U1 IT202018000003349U IT201800003349U IT201800003349U1 IT 201800003349 U1 IT201800003349 U1 IT 201800003349U1 IT 202018000003349 U IT202018000003349 U IT 202018000003349U IT 201800003349 U IT201800003349 U IT 201800003349U IT 201800003349 U1 IT201800003349 U1 IT 201800003349U1
- Authority
- IT
- Italy
- Prior art keywords
- silver
- alloys
- gold
- self
- galvanic deposit
- Prior art date
Links
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 17
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 16
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 14
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims description 13
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title claims description 12
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title claims description 12
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 title description 2
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 title 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 125000004055 thiomethyl group Chemical group [H]SC([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 claims description 6
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 claims 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims 1
- 239000013545 self-assembled monolayer Substances 0.000 description 26
- 239000002094 self assembled monolayer Substances 0.000 description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005494 tarnishing Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010041349 Somnolence Diseases 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007565 Zn—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000002173 dizziness Diseases 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 210000004400 mucous membrane Anatomy 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Contacts (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
DESCRIZIONE
La domanda di invenzione industriale rivendica il metodo per la protezione dellargento (Ag), leghe di argento (Ag) ,oro (Au) e altri metalli in lega ottenuti anche come deposito galvanico dalla ossidazione sulla superficie di oggetti metallici prodotti per la bigiotteria, oreficeria e argenteria mediante lauto assembla-mento di monostrati SAM (Self-Assembled Monolayer) di thioli con formula chimica a catena lineare CH3(CH2)N CH2SH con il valore N compreso
tra 8 e 18 in soluzione colloidale acquosa . L’argento è un metallo prezioso, e viene utilizzato per realizzare oggetti di gioielleria, argenteria e bigiotteria e altri prodotti. Sotto lazione di agenti atmosferici, largento si ossida compromettendo il loro aspetto bianco brillante, per effetto dell'ssidazione . Gli agenti ossidanti sono: H2S ,SO2,NO2 e Cl2 (gassoso) che agiscono da
soli o in compartecipazione. Questo si evidenzia come un appannamento, perdita di lucentezza ed è dovuto ad un sottile strato che si forma su rame(Cu), ottone (Zn-Cu), argento(Au), leghe di argento (Ag) e leghe di oro (Au) ottenute anche come deposito galvanico poiché il loro strato più esterno subisce la reazione chimica degli ossidanti e/o complessanti. L’ossidazione non deriva dai soli effetti dell'ossigeno nellaria,lossigeno la favorisce . Ad esempio, l'argento ha bisogno di idrogeno solforato per ossidarsi e appare spesso come un-film-opaco, grigio/nero. Allo stato attuale della tecnica per produrre uno strato protettivo, per prodotti di bigiotteria, oreficeria, argenteria e leghe di argento (Ag) ,e leghe di oro (Au) e altri metalli ottenuti anche come deposito galvanico sono utilizzati i thioli in soluzione con alcool isopropopilico e altri tipi di alcool (perché i thioli sono insolubili in acqua) per preparare i monostatrati auto.amblati SAM (Self-Assembled Monolayer).
L’uso di isopropanolo che é’un alcool, nel procedimento di assemblamento dello strato protettivo SAM va riscaldato,questo può creare problemi di sicurezza ambientale e per la sicurezza antincendio.
La rivendicazione nella nostra domanda di invenzione industriale e ‘ quella di eliminare tali inconvenienti utilizzando soluzioni colloidali acquose. L’isopropanolo appartiene alla famiglia degli alcool, ed e’ nocivo per inalazione e irritante per mucose e occhi ; provoca sonnolenza e vertigini e’ infiammabile e va tenuto lontano da fonti di calore ha la capacità di prendere fuoco anche a temperature al di sotto dello zero .Lo smaltimento deve essere fatto secondo le leggi per composti inquinanti. Lo stoccaggio in magazzino va fatto seconde le procedure dei prodotti infiammabili.
I SAM (Self-Assembled Monolayer) dei thioli che si realizzano sulla superficie hanno La proprietà di proteggere e lasciare inalterata la lucentezza e il colore dell’argento(Ag), leghe di argento e leghe di oro (Au) di altri metalli usati negli oggetti di bigiotteria oreficeria , argenteria .
La nostra domanda di brevetto industriale rivendica la formazione di monostrati auto Assemblati SAM (Self-Assembled Monolayer)di THIOLI a catena lineare di formula chimica CH3(CH2)N CH2SH con il valore N compreso tra 8 e 18 su una superficie metallicadi argento (Ag) e leghe di argento, e leghe di oro (Au) e altri metalli ottenuti anche da depositi galvanici operando in una soluzione colloidale di acqua e thiolo, risolvendo i problemi dovuti alla sicurezza e inquinamento .
Allo stato attuale della tecnica non risultano brevetti depositati che abbiano adottato questa soluzione tecnica per la protezione dell’argento Ag e leghe di argento, e leghe di oro Au e altri metalli in lega ottenuto anche come deposito galvanico, ottenuta mediante l’auto assemblamento di monostrati SAM (Self-Assembled Monolayer) di thioli a catena lineare con formula chimica CH3(CH2)N CH2SH con il valore N compreso tra 8 e 18 in soluzione colloidale acquosa.il metodo rivendicato nel nostro brevetto industriale risolve i problemi di sicurezza ambientale , salute del personale ,di sicurezza antincendio, rendendo il preparato di sicura manipolazione, e stoccaggio .
Allo stato attuale della tecnica, non risultano brevetti depositati che abbiano adottato questa soluzione tecnica, che utilizzano il metodo delle soluzioni colloidali acquose con i thioli a catena lineare di formula chimica
CH3(CH2)N CH2SH con il valore N compreso tra 8 e 18 .per la protezione dall’ossidazione di prodotti di bigiotteria, oreficeria e argenteria.
Si elencano alcuni brevetti che utilizzano isopropanolo come solvente per i thioli :
1)Brevetto US2012305141 Method for protecting silver and silver alloy surfaces against tarnishing 2)brevetto EP2539487 Method for protecting silver and silver alloy surfaces against tarnishing 3)brevetto US9057135 Method for protecting silver and silver alloy surfaces against tarnishing 4)brevetto W02011104614A1 Method for protecting silver and silver alloy surfaces against tarnishing 5) brevetto WO/2016/097972 IMPROVED PROCESS FOR PROTECTING SURFACES OF NOBLE METALS AND/OR OF THEIR ALLOYS AGAINST TARNISHING.
1 -PREPARAZIONE DELLA SOLUZIONE COLLOIDALE DI ACQUA E THIOLO:
Il procedimento per la formazione del monostatrato auto-assemblato SAM (Self-Assembled Monolayer ) di thioli a catena lineare con formula chimica
CH3(CH2)N CH2SH con il valore N compreso tra 8 e 18 sulla superficie del metallo argento (Ag) e altri metalli operando in una soluzione colloidale di acqua e thiolo e’ il seguente:
PRIMA FASE
Viene preso un Thiolo di formula CH3(CH2) CH2SHN (con N compreso tra 8 e 18) un tensioattivo e acqua deionizzata, li tutto viene agitato e portato a una temperatura tra 50°/60°C
Seconda fase
Si fa la preparazione del sub-strato dove verranno ancorate le SAM(Self-Assembled Monolayer) cioè il monostatrato auto-assemblato SAM (Self- Assembled-Monolayer di thioli sulla superficie del metallo .
Il pezzo viene pulito meccanicamente e lavato con una soluzione degrassante in ultrasuoni.
Terza fase
Si passa il sub-strato in una soluzione al 10% si H2SO4 per un tempo necessario ad attivare la soluzione (circa 5 minuti), il tutto viene lavato con acqua demineralizzata. Quarta fase
In questa fase viene realizzato lo strato protettivo anti-tarnish sulla superficie del metallo.
Il metallo viene immerso nella soluzione acquosa a circa 60°C contenente il tensioattivo e 0,15 Ml di Thiolo .Dopo 5/10 minuti rimuovere dalla soluzione e lavare con miscele acquose . Asciugare.
Una volta formati, questi monostrati proteggono i metalli , usati per la produzione di oggetti per bigiotteria, oreficeria e argenteria per lungo tempo dall’ossidazione, come risulta da prove tecniche ( di ossidazione) da noi effettuate , nelle camere a nebbia salina , fatte secondo le normativa italiana UNI EN ISO 4538 in grado di ricreare un clima ricco di umidità e sale , per effettuare le prove di resistenza alla corrosione e ossidazione sui metalli a temperatura controllata. Le prove, per la verifica dell’efficacia del trattamento con il procedimento per la formazione del monostatrato auto-assemblato SAM (Self Assembled Monolayer ) di thioli a catena lineare con formula chimica CH3(CH3)N CH2SH con il valore N compreso tra 8 e 18 in soluzione colloidale acquosa sulla superficie dei metalli di leghe Ag e leghe di oro Au e depositi galvanici e altri metalli operando in una soluzione colloidale di acqua e thiolo , sono evidenziate nel grafico di Fig.1 dove e? indicato in Fig. 1 con n.1a il comportamento del campione di argento trattato e sempre in Fig.1 con n.lb il campione di argento non trattato.
Nella prova di ossidazione nel grafico di Fig. 1 con n. 1c e' indicato tempo (in ascisse) la prova è stata condotta secondo la ISO 4538 curva di appannamento (ossidazione), mentre in ordinate in Fig.1 con n.1d rappresentata la lunghezza d’onda punti di deflessione in nm.
Il grafico di Fig. 1 con n.1a evidenzia che il campione trattato con il procedimento rivendicato nella nostra domanda di invenzione industriale per la formazione del monostatrato auto-assemblato SAM (Self Assembled Monolayer ) di thioli a catena lineare con formula chimica CH3(CH2)N CHZSH con il valore N compreso tra 8 e 18 in soluzione colloidale acquosa da risultati di protezione validi nel tempo; mentre in Fig.1 con 1b e' indicato il campione non trattato che si ossida rapidamente.
Da quanto evidenziato , quindi il trattamento protettivo con il procedimento per la formazione del monostatrato auto-assemblato SAM (Self Assembled Monolayer) di thioli a catena lineare con formula chimica CH3(CH2)N CH2SH con il valore N compreso tra 8 e 18 in soluzione colloidale acquosa sulla superficie del metallo Ag e altri metalli operando in una soluzione colloidale di acqua e thiolo presenta buona protezione superficiale alfossidazione , basso costo, sicurezza ambientale e per la salute personale addetto alle lavorazioni ,con l'utilizzo per formare questi monostrati protettivi una soluzione colloidale acquosa di thiolo. Il procedimento, non influenza ,l'aspetto superficiale dei metalli , preservando brillantezza e lucentezza. Il procedimento, è stato descritto in maniera tale, che le forme di realizzazione e preparazione, saranno completamente comprese dagli esperti del settore. Le forme di realizzazione delle presente invenzione sono, semplicemente illustrative e le varie modifiche non sono intese a limitare la presente invenzione .
Eventuali modifiche o modifiche alle forme di realizzazione sopra descritte possono rientrare nell'ambito di protezione della presente invenzione purché rientrino nello spirito della presente invenzione
Claims (1)
- RIVENDICAZIONI 1. L’invenzione rivendicata e’ un metodo per proteggere leghe di argento Ag, leghe di oro Au, bronzo e altre superfici metalliche ottenute anche come deposito galvanico contro l’ossidazione attraverso una soluzione acquosa colloidale per la formazione di un monostrato SAM auto assemblato di thioli con formula chimica CH3 (CH2) N CH2SH SU un substrato , il valore di N può rappresentare un numero qualsiasi da 8 a 18 comprendente thioli e una miscela di tensioattivi non ionici per formare reti colloidali all’interno di una soluzione acquosa.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT202018000003349U IT201800003349U1 (it) | 2018-06-20 | 2018-06-20 | Protezione dall'ossidazione di oggetti d'argento(ag)leghe di argento, oro(au) ed altri metalli in lega ottenuti anche come deposito galvanico |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT202018000003349U IT201800003349U1 (it) | 2018-06-20 | 2018-06-20 | Protezione dall'ossidazione di oggetti d'argento(ag)leghe di argento, oro(au) ed altri metalli in lega ottenuti anche come deposito galvanico |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| IT201800003349U1 true IT201800003349U1 (it) | 2019-12-20 |
Family
ID=70333035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| IT202018000003349U IT201800003349U1 (it) | 2018-06-20 | 2018-06-20 | Protezione dall'ossidazione di oggetti d'argento(ag)leghe di argento, oro(au) ed altri metalli in lega ottenuti anche come deposito galvanico |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| IT (1) | IT201800003349U1 (it) |
-
2018
- 2018-06-20 IT IT202018000003349U patent/IT201800003349U1/it unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Man et al. | Corrosion properties of laser surface melted NiTi shape memory alloy | |
| ES2424849T3 (es) | Tintas conductoras y método de fabricación de las mismas | |
| Huang et al. | Corrosion resistance properties of superhydrophobic copper surfaces fabricated by one-step electrochemical modification process | |
| Feng et al. | Corrosion inhibition study of aqueous vanadate on Mg alloy AZ31 | |
| EP0085701A1 (en) | ARTICLE CONTAINING COPPER WITH CORROSION INHIBITOR PROTECTIVE LAYER AND METHOD FOR PRODUCING THE LAYER. | |
| TW200510060A (en) | Metallic nano-particle and method for producing same, liquid dispersion of metallic nano-particle and method for producing same, metal thin line, metal film and method for producing same | |
| ES2605452T3 (es) | Decapado de acero inoxidable en un baño ácido electrolítico oxidante | |
| IT201800003349U1 (it) | Protezione dall'ossidazione di oggetti d'argento(ag)leghe di argento, oro(au) ed altri metalli in lega ottenuti anche come deposito galvanico | |
| US4775511A (en) | Method of sulfide tarnish inhibiting of silver-copper, silver-gold and silver-copper-gold alloys | |
| CN103924229B (zh) | 铝合金表面二氧化钛转化膜液及其使用方法 | |
| CN110358423A (zh) | 一种铜银保护剂及铜合金的清洗抗氧化工艺流程 | |
| ES2559387T3 (es) | Procedimiento para el tratamiento de superficie de acero inoxidable | |
| JP6192181B2 (ja) | 電子部品およびその製造方法 | |
| EP2196563B1 (de) | Verfahren zur Verhinderung des Anlaufens von Silberschichten | |
| EP1631692B1 (en) | Silver ternary alloy | |
| CN104313565A (zh) | 一种超疏水铜箔的制备方法 | |
| IT201800006484A1 (it) | Protezione dall'ossidazione di oggetti d'argento (ag) leghe di argento, oro (au) ed altri metalli in lega ottenuti anche come deposito galvanico | |
| Magaji et al. | Ciprofloxacin as corrosion inhibitors for mild steel-effects of concentration and temperature | |
| JP2018069233A (ja) | 時計または宝飾品の要素のエピラム化方法 | |
| CN107287599B (zh) | 一种金属铜缓蚀剂 | |
| DE602004023522D1 (de) | Wasserstoff-trapper-zusammensetzung herstellungsverfahren und verwendungen dafür | |
| CN103498136B (zh) | 一种锌白铜用防高温变色剂及其使用方法 | |
| KR20210113636A (ko) | 구리 표면 상에 구리 산화물을 형성하는 방법 | |
| WO2002095088A3 (en) | Surface coating of black platinum | |
| JP5180644B2 (ja) | 銅合金製接液器材のニッケル溶出防止方法 |