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Publication of GT199400067ApublicationCriticalpatent/GT199400067A/es
Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials
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Abstract
UN METODO PARA LITOGRAFIA TRIDIMENSIONAL, CARACTERIZADA PORQUE INCLUYE LOS PASOS DE: PROVEER UN SUBSTRATO QUE TIENE SUPERFICIES QUE SE EXTIENDEN EN TRES DIMENSIONES Y UN REVESTIMIENTO SENSIBLE A LA LUZ; E ILUMINAR EL SUBSTRATO ATRAVEZ DEUNA MASCARILLA CON LUZ QUE CHOCA SOBRE LA SUPERFICIE A UN ANGULO NO PERPENDICULAR CON RESPECTO A ELLAS.
GT199400067A1994-09-021994-10-19Metodo y aparato para producir dispositivos de circuito integrado
GT199400067A
(es)