FR3085389B1 - Procede de gravure d’un copolymere a blocs comprenant une etape de depot selectif - Google Patents

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Abstract

L'invention concerne un procédé de gravure d'une couche (20) de copolymère à blocs assemblé comprenant des première et deuxième phases de polymère (20A, 20B). Ce procédé de gravure comporte : - une étape (S21) de dépôt sélectif réalisée au moyen d'un premier plasma de façon à déposer un matériau protecteur (23) sur la première phase de polymère (20A) en laissant intacte la deuxième phase de polymère (20B) ; et - une étape de gravure de la deuxième phase de polymère (20B) sélectivement par rapport au matériau protecteur (23) au moyen d'un deuxième plasma.
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