FR3075946A1 - DEVICE FOR GENERATING FLANKS - Google Patents

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Abstract

L'invention concerne un dispositif de génération d'éclats (1) comprenant un logement dans lequel est située une charge explosive (3), le logement comprenant une première extrémité à laquelle est situé un initiateur (4) de la charge explosive (3) et une deuxième extrémité opposée à la première extrémité, un projectile (5) étant situé dans le logement entre la charge explosive (3) et la deuxième extrémité, caractérisé en ce que le projectile (5) comprend une pluralité de projectiles élémentaires (51) reliés entre eux par des éléments de connexion (52) qui définissent chacun une zone d'épaisseur réduite du projectile (5), l'ensemble du projectile (5) étant monolithique.The invention relates to a chip generating device (1) comprising a housing in which an explosive charge (3) is located, the housing comprising a first end to which is located an initiator (4) of the explosive charge (3). and a second end opposite the first end, a projectile (5) being located in the housing between the explosive charge (3) and the second end, characterized in that the projectile (5) comprises a plurality of elementary projectiles (51) interconnected by connection elements (52) which each define a zone of reduced thickness of the projectile (5), the whole projectile (5) being monolithic.

Description

Arrière-plan de l'inventionInvention background

La présente invention se rapporte au domaine général des générateurs d'éclats pour les tests sur des systèmes de cartographie de projections d'éclats pour des essais de munitions.The present invention relates to the general field of burst generators for tests on burst projection mapping systems for ammunition tests.

Afin de tester une munition, et en particulier afin de déterminer la répartition spatiale, la masse, la vitesse et la forme des éclats de la munition lorsque ladite munition est utilisée, ladite munition est mise à feu dans un système de cartographie de projections des éclats de la munition.In order to test a munition, and in particular to determine the spatial distribution, the mass, the speed and the shape of the fragments of the ammunition when said ammunition is used, said ammunition is fired in a system of mapping of projections of fragments ammunition.

Toutefois, des tests doivent être réalisés sur un tel système de cartographie, notamment pour le développement et la conception dudit système de cartographie, afin de contrôler ledit système de cartographie. De tels tests sont réalisés avec une munition test, également appelé dispositif de génération d'éclats, qui offre l'avantage d'être moins chère et plus facilement manipulable qu'une vraie munition.However, tests must be carried out on such a mapping system, in particular for the development and design of said mapping system, in order to control said mapping system. Such tests are carried out with a test ammunition, also called a chip generation device, which offers the advantage of being less expensive and more easily handled than a real ammunition.

Un problème rencontré avec les dispositifs de génération d'éclats actuels est qu'ils sont relativement coûteux à utiliser. En effet, les dispositifs de génération d'éclats connus génèrent de nombreux éclats avec une grande dispersion spatiale, rendant notamment ainsi nécessaire l'utilisation de nombreuses cibles pour effectuer le test.One problem with current chip generation devices is that they are relatively expensive to use. Indeed, the known chip generation devices generate many chips with a large spatial dispersion, thus making it particularly necessary to use many targets to perform the test.

Objet et résumé de l'inventionSubject and summary of the invention

La présente invention a donc pour but principal de pallier de tels inconvénients en proposant un dispositif de génération d'éclats possédant un coût d'utilisation réduit.The main object of the present invention therefore is to overcome such drawbacks by proposing a device for generating splinters having a reduced cost of use.

Ainsi, l'invention propose un dispositif de génération d'éclats comprenant un logement dans lequel est située une charge explosive, le logement comprenant une première extrémité à laquelle est situé un initiateur de la charge explosive et une deuxième extrémité opposée à la première extrémité, un projectile étant situé dans le logement entre la charge explosive et la deuxième extrémité, caractérisé en ce que le projectile comprend une pluralité de projectiles élémentaires reliés entre eux par des éléments de connexion qui définissent chacun une zone d'épaisseur réduite du projectile, l'ensemble du projectile étant monolithique.Thus, the invention provides a device for generating splinters comprising a housing in which an explosive charge is located, the housing comprising a first end at which is located an initiator of the explosive charge and a second end opposite the first end, a projectile being located in the housing between the explosive charge and the second end, characterized in that the projectile comprises a plurality of elementary projectiles connected together by connection elements which each define an area of reduced thickness of the projectile, the whole projectile being monolithic.

Un tel dispositif de génération d'éclats permet de limiter la dispersion spatiale des éclats. En effet, le fait que le projectile comprenne des projectiles élémentaires reliés entre eux par des éléments de connexion, et que ledit projectile soit monolithique permet de retarder le moment où les projectiles élémentaires vont se disperser, réduisant ainsi la dispersion spatiale des projectiles élémentaires, et donc des éclats.Such a chip generation device makes it possible to limit the spatial dispersion of the chips. Indeed, the fact that the projectile comprises elementary projectiles linked together by connection elements, and that said projectile is monolithic makes it possible to delay the moment when the elementary projectiles will disperse, thus reducing the spatial dispersion of the elementary projectiles, and so shards.

Le dispositif de génération d'éclats peut également comprendre les caractéristiques suivantes, prises seules ou en combinaison suivant les possibilités techniques : - le projectile est dans un premier matériau possédant une première densité, et dans lequel une couche d'un second matériau est située entre le projectile et la deuxième extrémité du logement, le second matériau possédant une seconde densité inférieure à la première densité ; - le second matériau est constitué d'un matériau organique ; - le second matériau est polymérique, par exemple en silicone, ou une graisse, par exemple de la paraffine ; - les éléments de connexion sont des tiges ; - le logement est un cylindre possédant un axe principal d'élongation, et dans lequel les projectiles élémentaires sont tous situés dans un même plan qui est transversal, par exemple perpendiculaire, à l'axe principal d'élongation dudit logement ; - le logement est formé par un corps, un support d'explosif étant situé à l'intérieur du logement, la charge explosive étant située à l'intérieur dudit support d'explosif ; - le corps est polymérique ; - le corps est métallique ; - le corps dépasse du support d'explosif au niveau de la deuxième extrémité du logement, de manière à former une cavité dans laquelle est situé le projectile.The splinter generation device can also include the following characteristics, taken alone or in combination depending on the technical possibilities: - the projectile is made of a first material having a first density, and in which a layer of a second material is located between the projectile and the second end of the housing, the second material having a second density less than the first density; - the second material consists of an organic material; - The second material is polymeric, for example silicone, or a grease, for example paraffin; - the connection elements are rods; - The housing is a cylinder having a main axis of elongation, and in which the elementary projectiles are all located in the same plane which is transverse, for example perpendicular, to the main axis of elongation of said housing; - The housing is formed by a body, an explosive support being located inside the housing, the explosive charge being located inside said explosive support; - the body is polymeric; - the body is metallic; - The body protrudes from the explosive support at the second end of the housing, so as to form a cavity in which the projectile is located.

Brève description des dessins D'autres caractéristiques et avantages de la présente invention ressortiront de la description faite ci-dessous, en référence aux dessins annexés qui en illustrent des exemples de réalisation dépourvus de tout caractère limitatif. Sur les figures : - la figure la illustre une vue en coupe d'un dispositif de génération d'éclats selon un mode de réalisation de l'invention, sur laquelle la couche du second matériau n'est pas représentée ; - la figure lb illustre la vue en coupe de la figure 1, sur laquelle la couche du second matériau est représentée ; - la figure 2 représente une vue de face du dispositif de génération d'éclats de la figure 1, sur laquelle la couche du second matériau n'est pas représentée ; - la figure 3 représente une vue en coupe d'un dispositif de génération d'éclats selon un autre mode de réalisation de l'invention.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Other characteristics and advantages of the present invention will emerge from the description given below, with reference to the accompanying drawings which illustrate examples of embodiment which are devoid of any limiting character. In the figures: - Figure la illustrates a sectional view of a device for generating splinters according to an embodiment of the invention, in which the layer of the second material is not shown; - Figure lb illustrates the sectional view of Figure 1, on which the layer of the second material is shown; - Figure 2 shows a front view of the chip generating device of Figure 1, in which the layer of the second material is not shown; - Figure 3 shows a sectional view of a chip generation device according to another embodiment of the invention.

Description détaillée de l'inventionDetailed description of the invention

Comme illustré sur les figures la, lb et 2, un dispositif de génération d'éclats 1 comprend un logement 2 défini par un corps 21 à l'intérieur duquel est disposée une charge explosive 3. Le corps 21 peut être un de forme cylindrique selon un axe principal d'élongation Θ, le logement 2 formant également un cylindre d'axe Θ, typiquement un cylindre de révolution ou un parallélépipède.As illustrated in FIGS. 1a, 1b and 2, a device for generating splinters 1 comprises a housing 2 defined by a body 21 inside which an explosive charge 3 is disposed. The body 21 can be one of cylindrical shape according to a main axis of elongation Θ, the housing 2 also forming a cylinder of axis Θ, typically a cylinder of revolution or a parallelepiped.

Le dispositif de génération d'éclats 1 comprend un initiateur 4 de la charge explosive 3 à une première extrémité 2a du logement 2 afin de mettre à feu ladite charge explosive 3 et ainsi utiliser le dispositif de génération d'éclats 1. Comme illustré sur la figure 1, l'initiateur 4 de la charge explosive 3 traverse une paroi obstruant la première extrémité 2a du logement 2 afin que l'initiateur 4 soit relié d'une part à la charge explosive 3 et d'autre part à un système de commande de la mise à feu du dispositif de génération d'éclats 1.The chip generation device 1 comprises an initiator 4 of the explosive charge 3 at a first end 2a of the housing 2 in order to ignite said explosive charge 3 and thus use the chip generation device 1. As illustrated in the Figure 1, the initiator 4 of the explosive charge 3 passes through a wall obstructing the first end 2a of the housing 2 so that the initiator 4 is connected on the one hand to the explosive charge 3 and on the other hand to a control system the ignition of the chip generation device 1.

Le dispositif de génération d'éclats 1 comprend également un projectile 5 qui est dans un premier matériau, par exemple métallique, et qui est destiné à être propulsé par l'explosion de la charge explosive 3. Cette propulsion du projectile 5 par explosion de la charge explosive 3 permet de générer des éclats, à partir dudit projectile 5, afin de tester un système de cartographie de projection d'éclats. Pour ce faire, le projectile 5 est situé dans le logement 2, entre la charge explosive 3 et une deuxième extrémité 2b dudit logement 2 qui est ouverte vers l'extérieur, de sorte que ledit projectile 5 puisse être expulsé vers l'extérieur dudit dispositif de génération d'éclats 1.The splinter generation device 1 also comprises a projectile 5 which is made of a first material, for example metallic, and which is intended to be propelled by the explosion of the explosive charge 3. This propulsion of the projectile 5 by explosion of the explosive charge 3 makes it possible to generate fragments, from said projectile 5, in order to test a system of mapping of projection of fragments. To do this, the projectile 5 is located in the housing 2, between the explosive charge 3 and a second end 2b of said housing 2 which is open towards the outside, so that said projectile 5 can be expelled towards the outside of said device. 1).

Afin de diminuer la dispersion spatiale des éclats et concentrer ladite dispersion des éclats autour de l'axe Θ, le projectile 5 comprend une pluralité de projectiles élémentaires 51 reliés entre eux par des éléments de connexion 52, l'ensemble du projectile 5 étant monolithique. Les éléments de connexion 52 définissent chacun une zone d'épaisseur réduite du projectile 5. Ainsi, comme illustré sur la figure la, les projectiles élémentaires 51 possèdent une première épaisseur el, de préférence la même épaisseur pour tous les projectiles élémentaires 51, et les éléments de connexion 52 possèdent une seconde épaisseur e2 qui est plus faible que la première épaisseur el. La deuxième épaisseur e2 est par exemple inférieure ou égale à la moitié de la première épaisseur el (e2 < 0,5 x el), par exemple inférieure ou égale au quart de la première épaisseur el (e2 < 0,25 x el).In order to reduce the spatial dispersion of the fragments and concentrate said dispersion of the fragments around the axis Θ, the projectile 5 comprises a plurality of elementary projectiles 51 connected together by connection elements 52, the whole of the projectile 5 being monolithic. The connection elements 52 each define an area of reduced thickness of the projectile 5. Thus, as illustrated in FIG. La, the elementary projectiles 51 have a first thickness el, preferably the same thickness for all the elementary projectiles 51, and the connection elements 52 have a second thickness e2 which is less than the first thickness el. The second thickness e2 is for example less than or equal to half of the first thickness el (e2 <0.5 x el), for example less than or equal to a quarter of the first thickness el (e2 <0.25 x el).

La pluralité de projectiles élémentaires 51 permet de générer une pluralité d'éclats de dimension suffisante semblable à ceux générés par le corps d'une munition. Un projectile élémentaire 51 peut former un seul ou une pluralité d'éclats suivant si ledit projectile élémentaire 51 reste entier ou bien si ledit projectile élémentaire 51 est fragmenté suite à l'explosion de la charge explosive 3, notamment à cause de l'écaillage provoqué par le croisement entre les ondes de détente suivant le choc initial et les ondes de détente de la première réflexion du choc initial sur la face arrière du projectile élémentaire 51.The plurality of elementary projectiles 51 makes it possible to generate a plurality of fragments of sufficient size similar to those generated by the body of an ammunition. An elementary projectile 51 can form a single or a plurality of fragments depending on whether said elementary projectile 51 remains whole or else said elementary projectile 51 is fragmented following the explosion of the explosive charge 3, in particular because of the flaking caused by the crossing between the trigger waves following the initial shock and the trigger waves of the first reflection of the initial shock on the rear face of the elementary projectile 51.

Un tel projectile 5 permet de réduire la dispersion des éclats car les éléments de connexion 52 qui relient les projectiles élémentaires 51 permettent de retarder la dispersion desdits projections élémentaires 51. En effet, les éléments de connexion 52 retiennent ensemble tous les projectiles élémentaires 51 autour de l'axe Θ au début de la projection du projectile 5 hors du dispositif de génération d'éclats 1. Les éléments de connexion 52 vont ensuite se rompre, et provoquer la dispersion des projectiles élémentaires 51. La rupture des éléments de connexion 52 est provoquée par le fait que lesdits éléments de connexion 52 sont des zones de faiblesse du projectile 5 avec leur plus faible épaisseur. Le fait que l'ensemble du projectile 5 soit monolithique, c'est-à-dire que les projectiles élémentaires 51 et les éléments de connexion 52 sont d'une seule et même pièce, permet de diminuer la dispersion des projectiles élémentaires 51, et donc de limiter la dispersion des éclats. En effet, le fait que le projectile 5 est monolithique permet de retarder la rupture des éléments de connexion 52, notamment par rapport à une solution où les éléments de connexion 52 sont des tiges rapportées sur les projectiles élémentaires 51, telles que visées ou collées auxdits projectiles élémentaires 51.Such a projectile 5 makes it possible to reduce the dispersion of the splinters because the connection elements 52 which connect the elementary projectiles 51 make it possible to delay the dispersion of said elementary projections 51. Indeed, the connection elements 52 hold together all the elementary projectiles 51 around the axis Θ at the start of the projection of the projectile 5 out of the splinter generation device 1. The connection elements 52 will then break, and cause the dispersion of the elementary projectiles 51. The rupture of the connection elements 52 is caused by the fact that said connection elements 52 are zones of weakness of the projectile 5 with their smallest thickness. The fact that the entire projectile 5 is monolithic, that is to say that the elementary projectiles 51 and the connection elements 52 are in one and the same piece, makes it possible to reduce the dispersion of the elementary projectiles 51, and therefore to limit the dispersion of the fragments. Indeed, the fact that the projectile 5 is monolithic makes it possible to delay the rupture of the connection elements 52, in particular with respect to a solution where the connection elements 52 are rods attached to the elementary projectiles 51, as referred to or glued to said said elementary projectiles 51.

Afin de fabriquer de manière monolithique les projectiles élémentaires 51 et les éléments de connexion 52, le projectile 5 peut être fabriqué par usinage, les éléments de connexion 52 étant alors formés par retrait de matière, ou par impression tridimensionnelle.In order to monolithically manufacture the elementary projectiles 51 and the connection elements 52, the projectile 5 can be manufactured by machining, the connection elements 52 then being formed by shrinking material, or by three-dimensional printing.

Dans l'exemple illustré sur les figures, les projectiles élémentaires 51 sont des cubes et les éléments de connexion 52 sont des tiges qui relient lesdits cubes. Cependant, d'autres formes peuvent être possibles. Par exemple, les projectiles élémentaires 51 peuvent être des sphères.In the example illustrated in the figures, the elementary projectiles 51 are cubes and the connection elements 52 are rods which connect said cubes. However, other forms may be possible. For example, the elementary projectiles 51 can be spheres.

Par ailleurs, comme visible sur les figures la et 2, le projectile 5 comprend cinq projectiles élémentaires 51, mais d'autres nombres de projectiles élémentaires 51 sont possibles. Les projectiles élémentaires 51 sont avantageusement tous disposés dans un même plan qui est transversal, par exemple perpendiculaire, à l'axe Θ, de manière à limiter encore plus la dispersion spatiale des éclats et à la focaliser davantage sur l'axe Θ. De manière préférentielle, les projectiles élémentaires 51 sont tous identiques, et/ou les éléments de connexion 52 sont tous identiques. Toutefois, selon d'autres variantes possibles, les projectiles élémentaires 51 peuvent être identiques et les éléments de connexion 52 sont différents, par exemple les éléments de connexion 52 possèdent des longueurs différentes, ou bien les éléments de connexion 52 sont tous identiques et les projectiles élémentaires 51 sont différents.Furthermore, as visible in FIGS. 1a and 2, the projectile 5 comprises five elementary projectiles 51, but other numbers of elementary projectiles 51 are possible. The elementary projectiles 51 are advantageously all arranged in the same plane which is transverse, for example perpendicular, to the axis Θ, so as to further limit the spatial dispersion of the fragments and to focus it more on the axis Θ. Preferably, the elementary projectiles 51 are all identical, and / or the connection elements 52 are all identical. However, according to other possible variants, the elementary projectiles 51 may be identical and the connection elements 52 are different, for example the connection elements 52 have different lengths, or else the connection elements 52 are all identical and the projectiles elementary 51 are different.

Le projectile 5 possède de préférence une forme symétrique par rapport à un centre de symétrie, afin de limiter la dispersion spatiale des éclats. Cependant, le projectile 5 peut posséder une forme non symétrique.The projectile 5 preferably has a symmetrical shape with respect to a center of symmetry, in order to limit the spatial dispersion of the fragments. However, the projectile 5 can have an asymmetrical shape.

De plus, selon un exemple de disposition possible, un projectile élémentaire 51 est situé sur l'axe Θ, et les quatre autres projectiles élémentaires 51 sont disposés symétriquement autour de l'axe θ. Il est avantageux que le projectile 5 soit centré sur l'axe θ du dispositif de génération d'éclats 1, et que ledit projectile 5 possède une forme possédant une symétrie centrale avec un centre de symétrie situé sur l'axe Θ, afin de limiter davantage la dispersion spatiale des éclats et de la focaliser d'avantage autour de l'axe Θ. Selon une variante possible, le projectile 5 peut avoir une forme symétrique par rapport à un point situé sur l'axe θ sans qu'un projectile élémentaire 51 soit situé sur ledit axe Θ.In addition, according to an example of possible arrangement, an elementary projectile 51 is located on the axis Θ, and the other four elementary projectiles 51 are arranged symmetrically around the axis θ. It is advantageous that the projectile 5 is centered on the axis θ of the splinter generation device 1, and that said projectile 5 has a shape having central symmetry with a center of symmetry located on the axis Θ, in order to limit more the spatial dispersion of the fragments and to focus it more around the axis l'axe. According to a possible variant, the projectile 5 can have a symmetrical shape with respect to a point located on the axis θ without an elementary projectile 51 being located on said axis Θ.

De manière avantageuse, comme cela est illustré sur la figure lb, une couche 6 d'un second matériau est située entre le projectile 5 et la deuxième extrémité du logement 2, de manière à ce que ledit projectile 5 soit recouvert par ladite couche 6 du second matériau, le second matériau étant en contact du projectile 5. La couche 6 de second matériau est en contact avec la charge explosive 3 sur des zones situées entre les projectiles élémentaires 51. Le second matériau possède une seconde densité qui est inférieure à la première densité du premier matériau constituant le projectile 5. Le second matériau est de préférence constitué d'un matériau organique, comme par exemple un matériau polymérique ou une graisse. Le matériau polymérique peut par exemple être de la silicone, et la graisse peut par exemple être de la paraffine. Ceci offre l'avantage d'être une solution simple à mettre en œuvre, et peu chère. Une telle couche 6 permet de réduire l'écaillage que peuvent subir les projectiles élémentaires 51, ce qui réduit le nombre d'éclats et la dispersion spatiale desdits éclats. En effet, lors d'un essai, des éclats sont générés par une fragmentation des projectiles élémentaires 51 provoqué par l'écaillage desdits projectiles élémentaires, la génération de tels éclats d'écaillage augmentant la dispersion spatiale des éclats du projectile 5.Advantageously, as illustrated in FIG. 1b, a layer 6 of a second material is located between the projectile 5 and the second end of the housing 2, so that said projectile 5 is covered by said layer 6 of the second material, the second material being in contact with the projectile 5. The layer 6 of second material is in contact with the explosive charge 3 on zones situated between the elementary projectiles 51. The second material has a second density which is lower than the first density of the first material constituting the projectile 5. The second material is preferably made of an organic material, such as for example a polymeric material or a grease. The polymeric material may for example be silicone, and the grease may for example be paraffin. This has the advantage of being a simple solution to implement, and inexpensive. Such a layer 6 makes it possible to reduce the flaking that elementary projectiles can undergo 51, which reduces the number of fragments and the spatial dispersion of said fragments. Indeed, during a test, fragments are generated by a fragmentation of the elementary projectiles 51 caused by the flaking of said elementary projectiles, the generation of such flaking fragments increasing the spatial dispersion of the fragments of the projectile 5.

Dans l'exemple de réalisation illustré sur les figures, un support d'explosif 22 est situé à l'intérieur du logement 2, la charge explosive 3 étant située à l'intérieur dudit support d'explosif 22. Le support d'explosif 22 est situé entre le corps 21 et la charge explosive 3, et est en contact avec ledit corps 21 sur son contour extérieur, et est en contact avec ladite charge explosive 3 sur son contour intérieur. Le support d'explosif 22 comprend une première extrémité fermée par un fond traversé par l'initiateur 4, et une deuxième extrémité opposée à ladite première extrémité et qui est située du côté de la deuxième extrémité 2a du logement 2. Dans l'exemple illustré sur les figures, la première extrémité du corps 21 est située entre la première et la deuxième extrémité du support d'explosif 22, et la deuxième extrémité dudit corps 21 dépasse la deuxième extrémité dudit support d'explosif 22, de manière à former une cavité 7 dans laquelle est situé le projectile 5. La couche 6 du second matériau 6 est également située dans la cavité 7 définie par le corps 21.In the embodiment illustrated in the figures, an explosive support 22 is located inside the housing 2, the explosive charge 3 being located inside said explosive support 22. The explosive support 22 is located between the body 21 and the explosive charge 3, and is in contact with said body 21 on its outer contour, and is in contact with said explosive charge 3 on its internal contour. The explosive support 22 comprises a first end closed by a bottom through which the initiator 4 passes, and a second end opposite to said first end and which is situated on the side of the second end 2a of the housing 2. In the example illustrated in the figures, the first end of the body 21 is located between the first and the second end of the explosive support 22, and the second end of said body 21 projects beyond the second end of said explosive support 22, so as to form a cavity 7 in which the projectile 5 is located. The layer 6 of the second material 6 is also located in the cavity 7 defined by the body 21.

Le corps 21 peut être en métal ou en matériau polymère. Le métal offre l'avantage d'une meilleure résistance, et le matériau polymère offre l'avantage d'être plus léger et moins cher. Le matériau du corps 21 permet également d'influencer sur la vitesse de projection des projectiles élémentaires 51.The body 21 can be made of metal or of polymer material. The metal offers the advantage of better resistance, and the polymer material offers the advantage of being lighter and less expensive. The material of the body 21 also makes it possible to influence the speed of projection of the elementary projectiles 51.

Par ailleurs, comme cela est illustré sur la figure 3, plusieurs formes sont possibles pour le support d'explosif 22. Ainsi, le support d'explosif 22 peut comprend une bride de fixation 22a à sa première extrémité.Furthermore, as illustrated in FIG. 3, several forms are possible for the explosive support 22. Thus, the explosive support 22 can comprise a fixing flange 22a at its first end.

Claims (10)

REVENDICATIONS 1. Dispositif de génération d'éclats (1) comprenant un logement (2) dans lequel est située une charge explosive (3), le logement (2) comprenant une première extrémité (2a) à laquelle est situé un initiateur (4) de la charge explosive (3) et une deuxième extrémité (2b) opposée à la première extrémité, un projectile (5) étant situé dans le logement entre la charge explosive (3) et la deuxième extrémité (2b), caractérisé en ce que le projectile (5) comprend une pluralité de projectiles élémentaires (51) reliés entre eux par des éléments de connexion (52) qui définissent chacun une zone d'épaisseur réduite du projectile (5), l'ensemble du projectile (5) étant monolithique.1. Device for generating splinters (1) comprising a housing (2) in which an explosive charge (3) is located, the housing (2) comprising a first end (2a) at which is located an initiator (4) of the explosive charge (3) and a second end (2b) opposite the first end, a projectile (5) being located in the housing between the explosive charge (3) and the second end (2b), characterized in that the projectile (5) comprises a plurality of elementary projectiles (51) connected together by connection elements (52) which each define an area of reduced thickness of the projectile (5), the whole of the projectile (5) being monolithic. 2. Dispositif de génération d'éclats (1) selon la revendication 1, dans lequel le projectile (5) est dans un premier matériau possédant une première densité, et dans lequel une couche (6) d'un second matériau est située entre le projectile (5) et la deuxième extrémité du logement, le second matériau possédant une seconde densité inférieure à la première densité.2. Device for generating splinters (1) according to claim 1, in which the projectile (5) is in a first material having a first density, and in which a layer (6) of a second material is located between the projectile (5) and the second end of the housing, the second material having a second density less than the first density. 3. Dispositif de génération d'éclats (1) selon la revendication 2, dans lequel le second matériau est constitué d'un matériau organique.3. Device for generating splinters (1) according to claim 2, in which the second material consists of an organic material. 4. Dispositif de génération d'éclats (1) selon la revendication 3, dans lequel le second matériau est en silicone ou en paraffine.4. Device for generating splinters (1) according to claim 3, wherein the second material is silicone or paraffin. 5. Dispositif de génération d'éclats (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel les éléments de connexion (52) sont des tiges.5. Device for generating splinters (1) according to any one of claims 1 to 4, in which the connection elements (52) are rods. 6. Dispositif de génération d'éclats (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel le logement est un cylindre possédant un axe principal d'élongation (Θ), et dans lequel les projectiles élémentaires (51) sont tous situés dans un même plan qui est transversal à l'axe principal d'élongation (Θ).6. Device for generating splinters (1) according to any one of claims 1 to 5, in which the housing is a cylinder having a main axis of elongation (Θ), and in which the elementary projectiles (51) are all located in the same plane which is transverse to the main axis of elongation (Θ). 7. Dispositif de génération d'éclats (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel le logement (2) est formé par un corps (21), un support d'explosif (22) étant situé à l'intérieur du logement (2), la charge explosive (3) étant située à l'intérieur dudit support d'explosif (22).7. Device for generating splinters (1) according to any one of claims 1 to 6, in which the housing (2) is formed by a body (21), an explosive support (22) being located at the inside the housing (2), the explosive charge (3) being located inside said explosive support (22). 8. Dispositif de génération d'éclats (1) selon la revendication 7, dans lequel le corps (21) est en matériau polymère.8. Device for generating splinters (1) according to claim 7, in which the body (21) is made of polymeric material. 9. Dispositif de génération d'éclats (1) selon la revendication 7, dans lequel le corps (21) est en métal.9. A splinter generation device (1) according to claim 7, in which the body (21) is made of metal. 10. Dispositif de générations d'éclats (1) selon l'une quelconque des revendications 7 à 9, dans lequel le corps (21) dépasse du support d'explosif (22) au niveau de la deuxième extrémité du logement (2), de manière à former une cavité (7) dans laquelle est situé le projectile (5).10. Device for generating fragments (1) according to any one of claims 7 to 9, in which the body (21) protrudes from the explosive support (22) at the second end of the housing (2), so as to form a cavity (7) in which the projectile (5) is located.
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