FR3074816B1 - Appareil de repassage pourvu de chambres de vaporisation principale et secondaire - Google Patents

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Abstract

L'appareil de repassage comporte un fer à repasser (3) comportant un corps chauffant (14), le corps chauffant (14) comprenant une chambre de vaporisation principale (18) utilisée pour le repassage courant, et une chambre de vaporisation secondaire (19) alimentée ponctuellement en liquide pour obtenir un surplus de vapeur, la chambre de vaporisation principale (18) étant alimentée en liquide lors de l'actionnement, par un utilisateur, d'un organe de commande de vapeur (27) porté par le fer à repasser (3) pour obtenir un flux de vapeur en continu. La chambre de vaporisation secondaire (19) est alimentée avec une quantité d'eau prédéterminée à chaque actionnement de l'organe de commande de vapeur (27).

Description

B. 1954
APPAREIL DE REPASSAGE POURVU DE CHAMBRES DE VAPORISATION PRINCIPALE ET SECONDAIRE
La présente invention concerne les fers à repasser ayant deux chambres de vaporisation séparées.
Le document US4091551 divulgue un fer à repasser comportant un corps chauffant comprenant une chambre de vaporisation principale utilisée pour le repassage courant, et une chambre de vaporisation secondaire utilisée pour obtenir un surplus de vapeur. La chambre de vaporisation principale est plus particulièrement alimentée en liquide lors de l’actionnement, par un utilisateur, d’un organe de commande de vapeur porté par le fer à repasser, tandis que la chambre de vaporisation secondaire est alimentée en liquide lors de l’actionnement, par l’utilisateur, d’un organe de commande de sur-vapeur également porté par le fer à repasser.
Un tel appareil de repassage présente, lorsque l’organe de commande de vapeur est actionné de manière à générer de la vapeur dans la chambre de vaporisation principale, une inertie de sortie de vapeur (qui correspond à la durée écoulée entre l’actionnement de l’organe de commande de vapeur par l’utilisateur et une sortie de vapeur au niveau d’orifices de sortie de vapeur prévus sur la semelle de repassage du fer à repasser) très élevée, à savoir de plusieurs secondes, ce qui peut être une source d’inconfort pour l’utilisateur.
La présente invention vise à remédier à tout ou partie de ces inconvénients.
Le problème technique à la base de l’invention consiste donc à fournir un appareil de repassage qui soit de structure simple et économique, tout en permettant de diminuer sensiblement l’inertie de sortie de vapeur. A cet effet, la présente invention concerne un appareil de repassage comportant un fer à repasser comportant un corps chauffant, le corps chauffant comprenant une chambre de vaporisation principale utilisée pour le repassage courant, et une chambre de vaporisation secondaire alimentée ponctuellement en liquide pour obtenir un surplus de vapeur, la chambre de vaporisation principale étant alimentée en liquide lors de l’actionnement, par un utilisateur, d’un organe de commande de vapeur porté par le fer à repasser pour obtenir un flux de vapeur en continu, caractérisé en ce que la chambre de vaporisation secondaire est alimentée avec une quantité d’eau prédéterminée à chaque actionnement de l’organe de commande de vapeur.
Ainsi, l’appareil de repassage selon la présente invention permet, à chaque actionnement de l’organe de commande de vapeur par un utilisateur, une injection de liquide dans la chambre de vaporisation principale afin de produire un flux de vapeur continu, et également une injection d’une quantité prédéterminée de liquide dans la chambre de vaporisation secondaire de manière à produire automatiquement un surplus de vapeur.
Une telle configuration de l’appareil de repassage limite ainsi grandement l’inertie de sortie de vapeur au démarrage de chaque cycle de génération de vapeur.
De plus, la quantité d’eau injectée dans la chambre de vaporisation secondaire à chaque actionnement de l’organe de commande de vapeur est avantageusement faible (par exemple de l’ordre de 0,3 à 1,5 g) afin d’une part d’éviter tout risque de saturation en liquide de la chambre de vaporisation secondaire, et d’autre part d’assurer une production rapide de vapeur. L’appareil de repassage peut en outre présenter une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prises seules ou en combinaison.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’appareil de repassage comporte un réservoir de liquide, et un circuit d’alimentation relié fluidiquement au réservoir de liquide et configuré pour alimenter en liquide la chambre de vaporisation principale lorsque l’organe de commande de vapeur est actionné.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le circuit d’alimentation comporte un élément d’obturation déplaçable entre une position d’obturation dans laquelle l’élément d’obturation interrompt l’alimentation en liquide de la chambre de vaporisation principale, et une position d’alimentation dans laquelle le liquide provenant du réservoir de liquide peut s’écouler vers la chambre de vaporisation principale, l’organe de commande de vapeur comportant une partie de commande reliée à l’élément d’obturation et configurée pour déplacer l’élément d’obturation dans la position d’alimentation lorsque l’organe de commande de vapeur est actionné par un utilisateur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’élément d’obturation est automatiquement ramené dans la position d’obturation lorsque l’utilisateur relâche l’organe de commande de vapeur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’élément d’obturation est déplaçable en translation.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le circuit d’alimentation comporte un boisseau porté par le fer à repasser, le boisseau comportant l’élément d’obturation.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le boisseau est un boisseau goutte à goutte.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le circuit d’alimentation comporte une pompe électrique configurée pour alimenter en liquide la chambre de vaporisation principale, l’appareil de repassage étant configuré de telle sorte qu’un actionnement de l’organe de commande de vapeur commande le fonctionnement de la pompe électrique.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’appareil de repassage comporte un interrupteur, tel qu’un microrupteur, configuré pour contrôler l’alimentation électrique de la pompe électrique, l’organe de commande de vapeur comportant une partie de commande configurée pour coopérer avec l’interrupteur lorsque l’organe de commande de vapeur est actionné, de manière à commander l’alimentation électrique de la pompe électrique.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’appareil de repassage comporte une pompe d’alimentation configurée pour alimenter en liquide la chambre de vaporisation secondaire lorsque l’organe de commande de vapeur est actionné.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la pompe d’alimentation est portée par le fer à repasser.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la pompe d’alimentation est une pompe d’alimentation manuelle, telle qu’une pompe à piston, l’organe de commande de vapeur comportant une partie d’actionnement configurée pour actionner un organe de commande de pompe appartenant à la pompe d’alimentation lorsque l’organe de commande de vapeur est actionné.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte un passage de liaison reliant fluidiquement un orifice de sortie de liquide de la pompe d’alimentation à la chambre de vaporisation secondaire.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte un organe de raccordement délimitant au moins en partie le passage de liaison, la pompe d’alimentation comportant une partie de refoulement de liquide qui est pourvue de l’orifice de sortie et qui est raccordée à l’organe de raccordement.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte un canal de dérivation comprenant une première portion d’extrémité débouchant dans le passage de liaison et une deuxième portion d’extrémité débouchant dans la chambre de vaporisation principale, de telle sorte qu’une partie du liquide s’écoulant dans le passage de liaison est dérivée vers la chambre de vaporisation principale. Ces dispositions permettent notamment d’injecter du liquide en deux points différents de la chambre de vaporisation principale, et donc d’éviter une saturation en liquide de la chambre de vaporisation principale et d’assurer une meilleure répartition de la vapeur générée. De plus, en positionnant le débouché du canal de dérivation à proximité de la sortie de la chambre de vaporisation principale, il est possible de diminuer encore l’inertie de sortie de vapeur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte un réservoir interne, et la pompe d’alimentation comporte un orifice d’entrée de liquide relié fluidiquement au réservoir interne.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le circuit d’alimentation comporte le réservoir interne et un conduit d’acheminement de liquide reliant fluidiquement le réservoir de liquide au réservoir interne. Selon un tel mode de réalisation, le réservoir de liquide peut ainsi être externe au fer à repasser.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le réservoir interne est relié fluidiquement à la chambre de vaporisation principale.
Selon un autre mode de réalisation de l’invention, le circuit d’alimentation comporte un conduit d’acheminement de liquide comportant une première portion d’extrémité reliée fluidiquement au réservoir de liquide, et une deuxième portion d’extrémité reliée fluidiquement à la chambre de vaporisation principale. Selon un tel mode de réalisation de l’invention, le réservoir interne est isolé fluidiquement de la chambre de vaporisation principale.
Selon une variante de réalisation de l’invention, le réservoir de liquide est externe au fer à repasser, et l’orifice d’entrée de liquide de la pompe d’alimentation est relié fluidiquement au réservoir de liquide.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte un réservoir d’eau sous pression, et l’appareil de repassage est configuré pour alimenter la chambre de vaporisation secondaire avec une quantité d’eau prédéterminée provenant du réservoir d’eau sous pression à chaque actionnement de l’organe de commande de vapeur. Le fer à repasser pourrait comporter un passage d’alimentation configuré pour relier le réservoir d’eau sous pression à la chambre de vaporisation secondaire, et un organe de fermeture, tel qu’un clapet de fermeture, mobile entre une position de fermeture dans laquelle l’organe de fermeture ferme le passage d’alimentation et une position d’ouverture dans laquelle l’organe de fermeture libère au moins en partie le passage d’alimentation, l’organe de commande de vapeur étant configuré pour déplacer ou pour commander un déplacement de l’élément de fermeture dans la position d’ouverture lorsque l’organe de commande de vapeur est actionné.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la pompe d’alimentation est une pompe d’alimentation électrique, et l’appareil de repassage est configuré de telle sorte qu’un actionnement de l’organe de commande de vapeur commande le fonctionnement de la pompe d’alimentation. La quantité d’eau injectée par la pompe d’alimentation dans la chambre de vapeur secondaire pourrait par exemple être régulée en fonction de la température de la chambre de vapeur secondaire.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte une partie de préhension sur laquelle est monté l’organe de commande de vapeur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’organe de commande de vapeur est une gâchette de commande de vapeur ou un bouton de commande de vapeur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’organe de commande de vapeur est déplaçable entre une position de repos et une position de commande de vapeur, l’organe de commande de vapeur étant configuré pour être déplacé dans la position de commande de vapeur lorsqu’il est actionné par un utilisateur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’appareil de repassage est configuré de telle sorte qu’un déplacement de l’organe de commande de vapeur de la position de repos vers la position de commande de vapeur entraîne un actionnement de la pompe d’alimentation. Avantageusement, l’appareil de repassage est configuré de telle sorte qu’un déplacement de l’organe de commande de vapeur de la position de repos vers la position de commande de vapeur entraîne un déplacement de l’élément d’obturation de la position d’obturation à la position d’alimentation ou un actionnement de la pompe électrique.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’organe de commande de vapeur est monté pivotant entre la position de repos et la position de commande de vapeur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’organe de commande de vapeur comporte la partie d’actionnement, la partie de commande et une partie de montage montée pivotante autour d’un axe de pivotement porté par le fer à repasser, et par exemple par la partie de préhension.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la partie de montage est disposée entre la partie d’actionnement et la partie de commande.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’organe de commande de vapeur comporte une partie de manipulation faisant saillie de la partie de préhension, et par exemple située sous la partie de préhension.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte un organe de sollicitation configuré pour solliciter l’organe de commande de vapeur vers la position de repos.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’appareil de repassage comporte en outre une base sur laquelle le fer à repasser est disposé lors des phases inactives de repassage.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le réservoir de liquide est intégré dans la base. Avantageusement, la pompe électrique est également intégrée dans la base.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte une semelle de repassage comportant une surface de repassage et au moins un orifice de sortie de vapeur débouchant dans la surface de repassage et relié fluidiquement à la chambre de vaporisation principale et à la chambre de vaporisation secondaire.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le corps chauffant comprend un élément chauffant configuré pour chauffer la chambre de vaporisation principale et la chambre de vaporisation secondaire. Avantageusement, l’élément chauffant est également configuré pour chauffer la surface de repassage.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le corps chauffant comporte une fonderie délimitant au moins en partie la chambre de vaporisation principale et la chambre de vaporisation secondaire. Avantageusement, l’élément chauffant est intégré dans la fonderie.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le corps chauffant comporte une plaque de fermeture qui repose sur la fonderie, la chambre de vaporisation principale et la chambre de vaporisation secondaire étant délimitées par la fonderie et la plaque de fermeture.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le corps chauffant comporte au moins un canal de liaison latéral comportant une première portion d’extrémité débouchant dans la chambre de vaporisation secondaire et une deuxième portion d’extrémité débouchant dans une partie arrière de la chambre de vaporisation principale. Avantageusement, l’au moins un canal de liaison latéral est décalé latéralement par rapport à la chambre de vaporisation principale.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le corps chauffant comporte deux canaux de liaison latéraux s’étendant de part et d’autre de la chambre de vaporisation principale, chaque canal de liaison comportant une première portion d’extrémité débouchant dans la chambre de vaporisation secondaire et une deuxième portion d’extrémité débouchant dans une partie arrière de la chambre de vaporisation principale.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte un circuit de distribution de vapeur reliant fluidiquement la chambre de vaporisation principale et la chambre de vaporisation secondaire à l’au moins un orifice de sortie de vapeur et dans lequel est destiné à s’écouler le flux de vapeur généré par la chambre de vaporisation principale et la chambre de vaporisation secondaire. Avantageusement, le circuit de distribution de vapeur comporte deux canaux de distribution latéraux s’étendant de part et d’autre de la chambre de vaporisation principale et se rejoignant dans une partie avant de la fonderie, et des orifices traversants prévus sur la fonderie, chaque orifice traversant débouchant d’une part dans au moins l’un des canaux de distribution latéraux et d’autre part sur une face inférieure de la fonderie. De façon avantageuse, tous les orifices traversants sont situés entre une extrémité avant de la fonderie et une partie médiane de la fonderie.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la chambre de vaporisation secondaire présente un volume inférieur à celui de la chambre de vaporisation principale. Ces dispositions limitent encore l’inertie de sortie vapeur de l’appareil de repassage. Avantageusement, la chambre de vaporisation secondaire présente un volume inférieur à 10 mm3.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la chambre de vaporisation secondaire est située à l’avant de la chambre de vaporisation principale.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la chambre de vaporisation principale comporte une paroi de fond principale, et la chambre de vaporisation secondaire comporte une paroi de fond secondaire, la paroi de fond secondaire étant surélevée par rapport à la paroi de fond principale.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le corps chauffant comporte une ouverture d’injection de liquide reliée fluidiquement au circuit d’alimentation, l’ouverture d’injection de liquide débouchant dans une partie avant de la chambre de vaporisation principale. Ces dispositions permettent d’injecter le liquide au voisinage immédiat de l’élément chauffant et donc de diminuer encore l’inertie de sortie de vapeur du fait de l’injection de liquide sur un point chaud de la semelle de repassage.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le fer à repasser comporte un talon sur lequel le fer à repasser peut reposer lors des phases inactives de repassage.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’appareil de repassage comporte un organe de commande de sur-vapeur, tel qu’un bouton de commande de survapeur, porté par le fer à repasser et destiné à être actionné par un utilisateur, l’appareil de repassage étant configuré de telle sorte qu’un actionnement de l’organe de commande de sur-vapeur entraîne un actionnement de la pompe d’alimentation, et par exemple un actionnement de l’organe de commande de pompe.
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’organe de commande de sur-vapeur est situé sur ou à proximité de la partie de préhension du fer à repasser. L’invention sera mieux comprise à l’aide de la description qui suit en référence aux dessins schématiques annexés représentant, à titre d’exemples non limitatifs, plusieurs formes d’exécution de cet appareil de repassage.
La figure 1 est une vue de côté d’un appareil de repassage selon un premier mode de réalisation de l’invention.
La figure 2 est une vue en perspective d’un fer à repasser de l’appareil de repassage de la figure 1, dont une partie du boîtier a été déposée.
La figure 3 est une vue éclatée en perspective d’un corps chauffant du fer à repasser de la figure 2.
La figure 4 est une vue de dessus d’une fonderie du corps chauffant de la figure 3.
La figure 5 est une vue en coupe du fer à repasser de la figure 2.
La figure 6 est une vue partielle en coupe d’un fer à repasser selon un deuxième mode de réalisation de l’invention.
La figure 7 est une vue partielle en coupe d’un fer à repasser selon un troisième mode de réalisation de l’invention.
Les figures 1 à 5 représentent un appareil de repassage 2 selon un premier mode de réalisation de l’invention qui comporte un fer à repasser 3 et une base 4 sur laquelle le fer à repasser 3 peut être disposé lors des phases inactives de repassage. La base 4 comporte notamment un réservoir de liquide 5, tel qu’un réservoir d’eau.
Comme montré sur les figures 1 et 5, le fer à repasser 3 comporte un boîtier 7 comportant notamment une partie de préhension 8, et un talon 9 situé dans la partie arrière du boîtier 7 et sur lequel le fer à repasser 3 peut reposer sensiblement verticalement lors des phases inactives de repassage.
Le fer à repasser 3 comporte en outre une semelle de repassage 11 munie d’une surface de repassage 12 sensiblement plane et d’une pluralité d’orifices de sortie de vapeur 13 débouchant dans la surface de repassage 12.
Comme montré plus particulièrement sur les figures 3 à 5, le fer à repasser 3 comporte également un corps chauffant 14 intégré dans la partie basse du boîtier 7, et lié thermiquement et mécaniquement à la semelle de repassage 11. Le corps chauffant 14 comporte une fonderie 15, par exemple en aluminium, et un élément chauffant résistif 16 cintré en U et intégré dans la fonderie 15.
Le corps chauffant 14 comporte également une plaque de fermeture 17 qui repose sur la fonderie 15, une chambre de vaporisation principale 18, de type à vaporisation instantanée, utilisée pour le repassage courant et destinée à être alimentée en liquide pour obtenir un flux de vapeur en continu, et une chambre de vaporisation secondaire 19, également de type à vaporisation instantanée, destinée à être alimentée ponctuellement en liquide pour obtenir un surplus de vapeur. La chambre de vaporisation principale 18 et la chambre de vaporisation secondaire 19 sont délimitées par la fonderie 15 et la plaque de fermeture 17, et sont chacune configurées pour générer un flux de vapeur. La fonderie 15 comporte notamment une cloison 21 remontant jusqu’à la plaque de fermeture 17, la cloison 21 délimitant latéralement la chambre de vaporisation principale 18 et délimitant partiellement la chambre de vaporisation secondaire 19.
Selon le premier mode de réalisation de l’appareil de repassage 2, la chambre de vaporisation secondaire 19 est située à l’avant de la chambre de vaporisation principale 18 (et ce de manière à être située avantageusement au dessus de l’élément chauffant résistif), et la paroi de fond secondaire 19.1 de la chambre de vaporisation secondaire 19 est surélevée par rapport à la paroi de fond principale 18.1 de la chambre de vaporisation principale 18. Avantageusement, la paroi de fond principale 18.1 et la paroi de fond secondaire 19.1 présentent chacune une multitude de plots, par exemple pyramidaux, permettant d’augmenter la surface d’échange thermique de la chambre de vaporisation principale 18 et la surface d’échange thermique de la chambre de vaporisation secondaire 19.
Selon le premier mode de réalisation de l’appareil de repassage 2, le corps chauffant 14 comporte également deux canaux de liaison latéraux 22 s’étendant de part et d’autre de la chambre de vaporisation principale 18. Chaque canal de liaison latéral 22 comporte avantageusement une première portion d’extrémité débouchant dans la chambre de vaporisation secondaire 19 et une deuxième portion d’extrémité débouchant dans une partie arrière de la chambre de vaporisation principale 18.
Le fer à repasser 3 comprend en outre un circuit de distribution de vapeur 23 défini par la fonderie 15 et la plaque de fermeture 17, et reliant fluidiquement la chambre de vaporisation principale 18 et la chambre de vaporisation secondaire 19 aux orifices de sortie de vapeur 13, et ce de telle sorte que le flux de vapeur, généré dans la chambre de vaporisation principale 18 et dans la chambre de vaporisation secondaire 19, puisse s’écouler jusqu’aux orifices de sortie de vapeur 13. Avantageusement, le circuit de distribution de vapeur 23 comporte deux canaux de distribution latéraux 24 s’étendant de part et d’autre de la chambre de vaporisation principale 18, et par exemple de part et d’autre des canaux de liaison latéraux 22, et se rejoignant à l’extrémité avant du corps chauffant 14. Chaque canal de distribution latéral 24 débouche de façon avantageuse dans une partie arrière de la chambre de vaporisation principale 18, et par exemple à proximité de la deuxième portion d’extrémité d’un canal de liaison latéral 22 respectif.
Le circuit de distribution de vapeur 23 comporte en outre des orifices traversants 25 prévus sur la fonderie 15 et débouchant chacun d’une part dans au moins l’un des canaux latéraux 24 et d’autre part sur une face inférieure de la fonderie 15, au niveau de cavités de distribution de vapeur 26, visibles sur la figure 5, reliées fluidiquement aux orifices de sortie de vapeur 13 de la semelle de repassage 11. Avantageusement, tous les orifices traversants 25 sont situés entre une extrémité avant de la fonderie 15 et une partie médiane de la fonderie 15.
Selon le premier mode de réalisation représenté sur les figures 1 à 5, le circuit de distribution de vapeur 23 comporte un orifice traversant 25 situé dans le premier quart avant de la fonderie 15 et par exemple au niveau de la zone de jonction des deux canaux de distribution latéraux 24, et deux orifices traversants 25 situés chacun dans une zone centrale d’un canal de distribution latéral 24 respectif. L’appareil de repassage 2 comporte également un organe de commande de vapeur 27 porté par le fer à repasser 3 et destiné à être actionné manuellement par un utilisateur. Selon le premier mode de réalisation de l’appareil de repassage 2, l’organe de commande de vapeur 27 se présente sous la forme d’une gâchette de commande de vapeur. L’organe de commande de vapeur 27 est plus particulièrement monté sur la partie de préhension 8 du fer à repasser 3. Avantageusement, l’organe de commande de vapeur 27 comporte une partie de manipulation 27.1 faisant saillie de la partie de préhension 8, et par exemple située sous la partie de préhension 8.
Selon le premier mode de réalisation de l’appareil de repassage 2, l’organe de commande de vapeur 27 comporte une partie de montage 27.2 montée pivotante autour d’un axe de pivotement 28 porté par le boîtier 7 de telle sorte que l’organe de commande de vapeur 27 est déplaçable entre une position de repos et une position de commande de vapeur. L’organe de commande de vapeur 27 est plus particulièrement configuré pour être déplacé dans la position de commande de vapeur lorsqu’il est actionné par un utilisateur. L’appareil de repassage 2 est avantageusement configuré de telle sorte qu’un pivotement de l’organe de commande de vapeur 27 vers la position de commande de vapeur entraîne d’une part une alimentation de la chambre de vaporisation principale 18 avec du liquide provenant du réservoir de liquide 5 de manière à générer un flux de vapeur en continu, et d’autre part une alimentation de la chambre de vaporisation secondaire 19 avec une quantité d’eau prédéterminée. L’appareil de repassage 2 comporte également un circuit d’alimentation relié fluidiquement au réservoir de liquide 5 et configuré pour alimenter en liquide la chambre de vaporisation principale 18 lorsque l’organe de commande de vapeur 27 est actionné par un utilisateur.
Selon le premier mode de réalisation de l’appareil de repassage 2, le circuit d’alimentation comporte une pompe électrique 29 reliée fluidiquement au réservoir de liquide 5, et configurée pour alimenter en liquide la chambre de vaporisation principale 18 lorsque l’organe de commande de vapeur 27 est actionné par un utilisateur. La pompe électrique 29 est avantageusement intégrée dans la base 4, mais pourrait toutefois être intégrée dans le fer à repasser 3.
De façon avantageuse, l’appareil de repassage 2 comporte un interrupteur 31, tel qu’un microrupteur, porté par le fer à repasser 3 et configuré pour contrôler l’alimentation électrique de la pompe électrique 29 en fonction de la position de l’organe de commande de vapeur 27. Avantageusement, l’organe de commande de vapeur 27 comporte une partie de commande 27.3 configurée pour coopérer avec l’interrupteur 31 lorsque l’organe de commande de vapeur 27 est actionné, de manière à commander l’alimentation électrique de la pompe électrique 29. Ainsi, l’appareil de repassage 2 est configuré de telle sorte qu’un actionnement de l’organe de commande de vapeur 27 commande le fonctionnement de la pompe électrique 29.
Le circuit d’alimentation comporte en outre un conduit d’acheminement de liquide 32 comportant une première portion d’extrémité reliée fluidiquement au réservoir de liquide 5 et à la pompe électrique 29, et une deuxième portion d’extrémité reliée fluidiquement à la chambre de vaporisation principale 18 via une ouverture d’injection de liquide 33 ménagée sur la plaque de fermeture 17 et débouchant dans une partie avant de la chambre de vaporisation principale 18.
Selon le premier mode de réalisation de l’appareil de repassage 2, l’appareil de repassage 2 comporte en outre une pompe d’alimentation 34 portée par le fer à repasser 3 et configurée pour alimenter en liquide la chambre de vaporisation secondaire 19 lorsque l’organe de commande de vapeur 27 est actionné par un utilisateur.
Avantageusement, la pompe d’alimentation 34 est manuelle, telle qu’une pompe à piston, et l’organe de commande de vapeur 27 comporte une partie d’actionnement 27.4 prenant appui contre un organe de commande de pompe 35, tel qu’une tête de commande de pompe, appartenant à la pompe d’alimentation 34 et configurée pour actionner l’organe de commande de pompe 35 lorsque l’organe de commande de vapeur 27 est déplacé dans la position de commande de vapeur. Avantageusement, la partie de montage 27.2 est disposée entre la partie d’actionnement 27.4 et la partie de commande 27.3. L’organe de commande de pompe 35 est plus particulièrement déplaçable en translation entre une première position correspondant à la position de repos de l’organe de commande de vapeur 27 et une deuxième position correspondant à la position de commande de vapeur de l’organe de commande de vapeur 27. De façon avantageuse, le fer à repasser 3 comporte un organe de sollicitation 36, tel qu’un ressort de sollicitation, configuré pour solliciter d’une part l’organe de commande de pompe 35 vers la première position, et d’autre part l’organe de commande de vapeur 27 vers la position de repos.
Selon le premier mode de réalisation de l’appareil de repassage 2, le fer à repasser 3 comporte un réservoir interne 37 (visible sur la figure 5), et la pompe d’alimentation 34 comporte d’une part un orifice d’entrée de liquide (non visible sur les figures 1 à 5) relié fluidiquement au réservoir interne 37, et d’autre part une partie de refoulement de liquide 39 qui est pourvue d’un orifice de sortie de liquide (non visible sur les figures 1 à 5) relié fluidiquement à la chambre de vaporisation secondaire 19 via d’une part un passage de liaison 41, par exemple défini au moins en partie par un conduit de liaison prévu sur la plaque de fermeture 17, et d’autre part via un orifice d’injection de liquide 42 ménagé sur la plaque de fermeture 17 et débouchant dans la chambre de vaporisation secondaire 19.
Ainsi, l’appareil de repassage 2 est plus particulièrement configuré de telle sorte qu’un déplacement de l’organe de commande de vapeur 27 de la position de repos vers la position de commande de vapeur entraîne d’une part un actionnement de la pompe d’alimentation 34 par la partie d’actionnement 27.4 et donc une alimentation en liquide de la chambre de vaporisation secondaire 19, et d’autre part un actionnement de l’interrupteur 31 par la partie de commande 27.3 et donc une commande du fonctionnement de la pompe électrique 29, et ainsi une alimentation en liquide de la chambre de vaporisation principale 18.
Avantageusement, l’appareil de repassage 2 comporte également un organe de commande de sur-vapeur 50 (voir la figure 1), tel qu’un bouton de commande de sur-vapeur, porté par le fer à repasser 3 et destiné à être actionné par un utilisateur. L’appareil de repassage 2 est plus particulièrement configuré de telle sorte qu’un actionnement de l’organe de commande de sur-vapeur 50 entraîne un actionnement de la pompe d’alimentation 34, et par exemple un déplacement de l’organe de commande de pompe 35 de sa première position vers sa deuxième position. L’organe de commande de sur-vapeur 50 peut par exemple être situé sur une portion supérieure de la partie de préhension 8 du fer à repasser ou alors à proximité de la partie de préhension 8.
La présence d’un tel organe de commande de sur-vapeur 50 permet ainsi d’assurer une alimentation de la chambre de vapeur secondaire 19 sans alimenter nécessairement la chambre de vaporisation principale 18.
La figure 6 représente un appareil de repassage 2 selon un deuxième mode de réalisation de l’invention qui diffère du premier mode de réalisation essentiellement en ce que le fer à repasser 3 comporte un canal de dérivation 43 comprenant une première portion d’extrémité débouchant dans le passage de liaison 41 et une deuxième portion d’extrémité débouchant dans la chambre de vaporisation principale 18, de telle sorte qu’une partie du liquide s’écoulant dans le passage de liaison 41, et refoulée par la pompe d’alimentation 34, est dérivée vers la chambre de vaporisation principale 18.
Selon ce deuxième mode de réalisation de l’appareil de repassage 2, le conduit d’acheminement de liquide 32 débouche dans le réservoir interne 37, et la chambre de vaporisation principale 18 est reliée fluidiquement au réservoir interne 37 via l’ouverture d’injection de liquide 33. L’orifice d’entrée de liquide 38 et l’orifice de sortie de liquide 40 appartenant à la pompe d’alimentation 34 sont plus particulièrement visibles sur la figure 6.
La figure 7 représente un appareil de repassage 2 selon un troisième mode de réalisation de l’invention qui diffère du premier mode de réalisation essentiellement en ce que le réservoir de liquide 5 est intégré dans le boîtier du fer à repasser 3 et forme également le réservoir interne, et en ce que le circuit d’alimentation comporte, à la place de la pompe électrique 29, un boisseau 44 porté par le boîtier 7 du fer à repasser 3, et par exemple un boisseau goutte à goutte.
Le boisseau 44 comporte plus particulièrement un élément d’obturation 45, tel qu’une tige d’obturation, déplaçable en translation entre une position d’obturation dans laquelle l’élément d’obturation 45 interrompt l’alimentation en liquide de la chambre de vaporisation principale 18, et une position d’alimentation dans laquelle le liquide provenant du réservoir de liquide 5 peut s’écouler vers la chambre de vaporisation principale 18. La partie de commande 27.3 de l’organe de commande de vapeur 27 est avantageusement reliée à l’élément d’obturation 45, par exemple par l’intermédiaire d’un axe d’articulation 46, et est configurée pour déplacer l’élément d’obturation 45 dans la position d’alimentation lorsque l’organe de commande de vapeur 27 est actionné par un utilisateur.
Selon un mode de réalisation de l’invention non représenté sur les figures, le fer à repasser 3 pourrait comporter un réservoir d’eau sous pression, un passage d’alimentation configuré pour relier le réservoir d’eau sous pression à la chambre de vaporisation secondaire 19, et un organe de fermeture, tel qu’un clapet de fermeture, mobile entre une position de fermeture dans laquelle l’organe de fermeture ferme le passage d’alimentation et une position d’ouverture dans laquelle l’organe de fermeture libère au moins en partie le passage d’alimentation, l’organe de commande de vapeur 27 étant alors configuré pour déplacer ou pour commander un déplacement de l’élément de fermeture dans la position d’ouverture lorsque l’organe de commande de vapeur 27 est actionné par un utilisateur.
Selon un mode de réalisation de l’invention non représenté sur les figures, la pompe d’alimentation 34 pourrait être une pompe d’alimentation électrique, et l’appareil de repassage 2 pourrait être configuré de telle sorte qu’un actionnement de l’organe de commande de vapeur 27 commande le fonctionnement de la pompe d’alimentation 34.
Selon un mode de réalisation de l’invention non représenté sur les figures, l’organe de commande de vapeur pourrait prendre la forme d’un bouton de commande de vapeur porté par le fer à repasser 3.
Bien entendu, l'invention n’est nullement limitée aux modes de réalisation décrits et illustrés qui n’ont été donnés qu’à titre d’exemples. Des modifications restent possibles, notamment du point de vue de la constitution des divers éléments ou par substitution d’équivalents techniques, sans sortir pour autant du domaine de protection de l’invention.

Claims (16)

  1. B.1954 REVENDICATIONS
    1. Appareil de repassage (2) comportant un fer à repasser (3) comportant un corps chauffant (14), le corps chauffant (14) comprenant une chambre de vaporisation principale (18) utilisée pour le repassage courant, et une chambre de vaporisation secondaire (19) alimentée ponctuellement en liquide pour obtenir un surplus de vapeur, la chambre de vaporisation principale (18) étant alimentée en liquide lors de l’actionnement, par un utilisateur, d’un organe de commande de vapeur (27) porté par le fer à repasser (3) pour obtenir un flux de vapeur en continu, caractérisé en ce que la chambre de vaporisation secondaire (19) est alimentée avec une quantité d’eau prédéterminée à chaque actionnement de l’organe de commande de vapeur (27).
  2. 2. Appareil de repassage (2) selon la revendication 1, lequel comporte un réservoir de liquide (5), et un circuit d’alimentation relié fluidiquement au réservoir de liquide (5) et configuré pour alimenter en liquide la chambre de vaporisation principale (18) lorsque l’organe de commande de vapeur (27) est actionné.
  3. 3. Appareil de repassage (2) selon la revendication 2, dans lequel le circuit d’alimentation comporte un élément d’obturation (45) déplaçable entre une position d’obturation dans laquelle l’élément d’obturation (45) interrompt l’alimentation en liquide de la chambre de vaporisation principale (18), et une position d’alimentation dans laquelle le liquide provenant du réservoir de liquide (5) peut s’écouler vers la chambre de vaporisation principale (18), l’organe de commande de vapeur (27) comportant une partie de commande (27.3) reliée à l’élément d’obturation (45) et configurée pour déplacer l’élément d’obturation (45) dans la position d’alimentation lorsque l’organe de commande de vapeur (27) est actionné par un utilisateur.
  4. 4. Appareil de repassage (2) selon la revendication 3, dans lequel le circuit d’alimentation comporte un boisseau (44) porté par le fer à repasser (3), le boisseau (44) comportant l’élément d’obturation (45).
  5. 5. Appareil de repassage (2) selon la revendication 2, dans lequel le circuit d’alimentation comporte une pompe électrique (29) configurée pour alimenter en liquide la chambre de vaporisation principale (18), l’appareil de repassage (2) étant configuré de telle sorte qu’un actionnement de l’organe de commande de vapeur (27) commande le fonctionnement de la pompe électrique (29).
  6. 6. Appareil de repassage (2) selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, lequel comporte une pompe d’alimentation (34) configurée pour alimenter en liquide la chambre de vaporisation secondaire (19) lorsque l’organe de commande de vapeur (27) est actionné.
  7. 7. Appareil de repassage (2) selon la revendication 6, dans lequel la pompe d’alimentation (34) est portée par le fer à repasser (3).
  8. 8. Appareil de repassage (2) selon la revendication 7, dans lequel la pompe d’alimentation (34) est une pompe d’alimentation manuelle, l’organe de commande de vapeur (27) comportant une partie d’actionnement (27.4) configurée pour actionner un organe de commande de pompe (35) appartenant à la pompe d’alimentation (34) lorsque l’organe de commande de vapeur (27) est actionné.
  9. 9. Appareil de repassage (2) selon l’une quelconque des revendications 6 à 8, dans lequel le fer à repasser (3) comporte un passage de liaison (41) reliant fluidiquement un orifice de sortie de liquide (40) de la pompe d’alimentation (34) à la chambre de vaporisation secondaire (19).
  10. 10. Appareil de repassage (2) selon la revendication 9, dans lequel le fer à repasser (3) comporte un canal de dérivation (43) comprenant une première portion d’extrémité débouchant dans le passage de liaison (41) et une deuxième portion d’extrémité débouchant dans la chambre de vaporisation principale (18), de telle sorte qu’une partie du liquide s’écoulant dans le passage de liaison (41) est dérivée vers la chambre de vaporisation principale (18).
  11. 11. Appareil de repassage (2) selon l’une quelconque des revendications 6 à 10, dans lequel le fer à repasser (3) comporte un réservoir interne (37), et la pompe d’alimentation (34) comporte un orifice d’entrée de liquide (38) reliée fluidiquement au réservoir interne (37).
  12. 12. Appareil de repassage (2) selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel le fer à repasser (3) comporte une partie de préhension (8) sur laquelle est monté l’organe de commande de vapeur (27).
  13. 13. Appareil de repassage (2) selon l’une quelconque des revendications 1 à 12, dans lequel l’organe de commande de vapeur (27) est une gâchette de commande de vapeur ou un bouton de commande de vapeur.
  14. 14. Appareil de repassage (2) selon l’une quelconque des revendications 1 à 13, dans lequel l’organe de commande de vapeur (27) est déplaçable entre une position de repos et une position de commande de vapeur, l’organe de commande de vapeur (27) étant configuré pour être déplacé dans la position de commande de vapeur lorsqu’il est actionné par un utilisateur.
  15. 15. Appareil de repassage (2) selon la revendication 14, dans lequel l’organe de commande de vapeur (27) est monté pivotant entre la position de repos et la position de commande de vapeur.
  16. 16. Appareil de repassage (2) selon l’une quelconque des revendications 1 à 15, lequel comporte en outre une base (4) sur laquelle le fer à repasser (3) est disposé lors des phases inactives de repassage.
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