FR2871281A1 - Procede et dispositif d'alimentation de puissance duale pour une memoire non-volatile embarquee - Google Patents

Procede et dispositif d'alimentation de puissance duale pour une memoire non-volatile embarquee Download PDF

Info

Publication number
FR2871281A1
FR2871281A1 FR0403434A FR0403434A FR2871281A1 FR 2871281 A1 FR2871281 A1 FR 2871281A1 FR 0403434 A FR0403434 A FR 0403434A FR 0403434 A FR0403434 A FR 0403434A FR 2871281 A1 FR2871281 A1 FR 2871281A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
voltage level
transistor
memory
level
external
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
FR0403434A
Other languages
English (en)
Other versions
FR2871281B1 (fr
Inventor
Jean Michel Daga
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Atmel Corp
Original Assignee
Atmel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Atmel Corp filed Critical Atmel Corp
Priority to FR0403434A priority Critical patent/FR2871281B1/fr
Priority to US11/061,799 priority patent/US7120061B2/en
Priority to CNA2005800101251A priority patent/CN1961379A/zh
Priority to PCT/US2005/009865 priority patent/WO2005096796A2/fr
Priority to EP05729910A priority patent/EP1747559B1/fr
Priority to DE602005012080T priority patent/DE602005012080D1/de
Priority to TW094110507A priority patent/TWI373767B/zh
Publication of FR2871281A1 publication Critical patent/FR2871281A1/fr
Priority to US11/539,567 priority patent/US7450429B2/en
Application granted granted Critical
Publication of FR2871281B1 publication Critical patent/FR2871281B1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/08Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/12Programming voltage switching circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/30Power supply circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/12Bit line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, equalising circuits, for bit lines

Abstract

L'invention comprend une pompe de charge (407) configurée pour recevoir le niveau de tension externe et pour générer un niveau de tension élevé, le niveau de tension élevé étant plus élevé que le niveau de tension externe. Un circuit de commande de mémoire (420,500) est configuré pour recevoir le niveau de tension externe et le niveau de tension élevé et pour effectuer une sélection entre ceux-ci et les fournir. Un tableau de mémoire (430), avec une ligne de mot et une ligne de bit, est configuré pour recevoir les niveaux de tension externe et élevé au niveau de la ligne de mot et le niveau de tension élevé au niveau de la ligne de bit. Un pilote de ligne de mot (440,600) est configuré pour délivrer les niveaux de tension externe et élevé à la ligne de mot. Un sélecteur de ligne de bit (455, 700) est configuré pour sélectionner la ligne de bit et pour recevoir les niveaux de tension élevé, externe et régulé. Un pilote de ligne de bit (450,800) est configuré pour fournir le niveau de tension externe au sélecteur de ligne de bit (455,700).

Description

2871281 ATMEL5.FR1.doc
PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'ALIMENTATION DE PUISSANCE DUALE POUR UNE MÉMOIRE NON VOLATILE EMBARQUÉE L'invention concerne généralement la gestion de diffé- rences de tension entre la technologie de réduction de transistors et des exigences de lecture/écriture de mémoire non volatile. Spécifiquement, l'invention concerne la gestion d'alimentation de puissance pour une mémoire non volatile embarquée telle qu'une mémoire à lecture seule programmable effaçable électriquement (EEPROM) et une mémoire FLASH.
Afin de maintenir une consommation de puissance et une fiabilité acceptables avec une technologie évoluée, la tension d'alimentation a été réduite de 5 V avec une tech- nologie à 1 pm à 1,8 V avec une technologie à 0,18 pm. Cependant, la tension d'alimentation n'a pas diminué au niveau système. La plupart des systèmes sur puces (SOC) utilisant une technologie à 0,18 pm fonctionnent sous 3,3 V et fonctionnent ou tolèrent 5 V. La figure 1 est un schéma illustrant un système de gestion d'alimentation de puissance de l'art antérieur pour une mémoire. Un SOC 5 illustre un exemple de la manière dont la puissance est distribuée. Un niveau de tension externe 10, par exemple de 3,3 V ou 5 V, est appliqué à un régulateur de tension 15, un circuit analogique 20 et des plots d'entrée/sortie 25. Le régulateur de tension 15 génère un niveau de tension régulé 30, par exemple 1,8 V pour une logique à 0,18 pm. Le niveau de tension régulé 30 est appliqué à une mémoire 40, par exemple une mémoire EEPROM et une mémoire FLASH embarquées, et à une logique évoluée 35, par exemple le microcontrôleur, les mémoires CMOS, la logique de commande, etc. Lorsque la mémoire 40 est alimentée avec le niveau de tension régulé 30, une logique CMOS évoluée peut être utilisée dans la mémoire 40, aboutissant à une amélioration de la densité et de la vitesse. Cependant, l'utilisation du niveau de tension régulé 30 pendant l'écriture et la lecture de mémoire pour la mémoire 40 aboutit à plusieurs problèmes. L'écriture et la lecture de mémoire utilisent des tensions plus élevées que celles délivrées par le niveau de tension régulé 30, et les tensions plus élevées sont généralement obtenues par des pompes de charge plus grandes. Parce que le courant de cellule de mémoire pendant la lecture de mémoire dépend de la tension de ligne de mot, une amplification de la ligne de mot au-dessus du niveau de tension régulé 30 pendant la lecture est généralement utilisée pour fournir un meilleur fonctionnement. Cependant, l'amplification consomme du temps et du courant.
La figure 2 est un schéma illustrant un autre système de gestion d'alimentation de puissance de l'art antérieur pour une mémoire. Un SOC 200 illustre un exemple de la manière dont la puissance est distribuée. Un niveau de tension externe 210 est appliqué à un régulateur de tension 215, à un circuit analogique 220 et à des plots d'entrée/sortie 225. Le régulateur de tension 215 génère un niveau de tension régulé 230. Le niveau de tension régulé 230 est appliqué à une logique évoluée 235, par exemple le microcontrôleur, les mémoires CMOS, la logique de commande etc. Lorsqu'une mémoire 240 est alimentée avec le niveau de tension externe 210, la taille de la pompe de charge peut être réduite et l'amplification pendant la lecture n'est généralement pas effectuée. Cependant, les parties logiques de la mémoire 240 utilisent généralement des dispositifs à oxyde épais, parce que des dispositifs à oxyde mince ne fonctionnent pas au niveau de tension externe 210. La logique de commande, le pré-décodage et le chemin de don- nées de sortie sont plus longs et plus lents comparés au mode de réalisation à tension plus faible illustré sur la figure 1. En outre, un transposeur de niveau 245 réalise une interface avec les entrées et sorties de la mémoire 240, pour permettre la communication avec la logique évoluée 235, laquelle est alimentée avec le niveau de tension régulé 230.
Il existe un besoin pour un système de gestion de puissance pour une mémoire qui permette l'utilisation d'une logique CMOS évoluée dans une mémoire, aboutissant à une amélioration de la densité et de la vitesse, tout en rédui- sant également la taille de pompe de charge et en réduisant le besoin d'amplification pendant la lecture. L'invention devrait réduire la surface nécessaire à la mémoire, améliorer la vitesse, réduire la consommation de puissance, utiliser des ressources d'alimentation de puissance disponibles et être évolutive.
L'invention consiste en un système de gestion de mémoire à alimentation de puissance duale qui fournit un niveau de tension externe à la mémoire ainsi que le niveau de tension généré en interne. Les parties logiques à faible tension de la mémoire peuvent utiliser des dispositifs à oxyde mince et sont alimentées par le niveau de tension régulé, tandis que le niveau de tension externe est fourni directement à la pompe de charge pour l'écriture de mémoire et au décodage de ligne de mot et de ligne de bit pendant la lecture de mémoire. L'invention permet le décodage et la lecture pour des dispositifs à grande vitesse, tout en évitant des retards d'amplification internes pendant la lecture de mémoire et en évitant un surdimensionnement de la pompe de charge d'écriture.
L'invention est une mémoire non volatile embarquée fonctionnant à un niveau de tension externe et à un niveau de tension régulé. Le niveau de tension externe est plus élevé que le niveau de tension régulé. L'invention comprend ce qui suit. Une pompe de charge est configurée pour rece- voir le niveau de tension externe et générer un niveau de tension élevé, dans laquelle le niveau de tension élevé est plus élevé que le niveau de tension externe. Un circuit de commande de mémoire est couplé à la pompe de charge et est configuré pour recevoir le niveau de tension externe et le niveau de tension élevé. Le circuit de commande de mémoire est en outre configuré pour sélectionner l'un des niveaux de tension externe et élevé et pour le fournir. Un tableau de mémoire, qui comporte une ligne de mot et une ligne de bit, est couplé au circuit de commande de mémoire. Le tableau de mémoire est configuré pour stocker des données, recevoir les niveaux de tension externe et élevé sur la ligne de mot et recevoir les niveaux de tension élevé au niveau de la ligne de bit. Un pilote de ligne de mot est couplé au tableau de mémoire et est configuré pour fournir les niveaux de tension externe et élevé à la ligne de mot. Un sélecteur de ligne de bit est couplé au tableau de mémoire et est configuré pour sélectionner la ligne de bit et recevoir les niveaux de tension élevé, externe et régulé. Un pilote de ligne de bit est couplé au sélecteur de ligne de bit et est configuré pour délivrer les niveaux de tension externe et régulé au sélecteur de ligne de bit.
La figure 1 est un schéma illustrant un système de gestion d'alimentation de puissance de l'art antérieur pour une mémoire.
La figure 2 est un schéma illustrant un système de gestion d'alimentation de puissance de l'art antérieur pour une mémoire.
La figure 3 est un schéma illustrant un mode de réalisation d'un système de gestion d'alimentation de puissance pour une mémoire dans un système sur puce (SOC).
La figure 4 est un schéma illustrant un mode de sation de la mémoire de la figure 3.
La figure 5 est un schéma illustrant un mode de sation d'un circuit de commande de mémoire.
La figure 6 est un schéma illustrant un mode de sation d'un pilote de ligne de mot.
La figure 7 est un schéma illustrant un mode de 25 sation d'un sélecteur de ligne de bit.
La figure 8 est un schéma illustrant un mode de sation d'un pilote de ligne de bit.
La figure 9 est un organigramme illustrant un procédé de pilotage d'une mémoire non volatile embarquée.
La figure 10 est un schéma illustrant un mode de réalisation d'un circuit de commande de mémoire.
La figure 3 est un schéma illustrant un mode de réali- sation d'un système de gestion d'alimentation de puissance pour une mémoire dans un système sur puce (SOC). Le SOC 300 illustre un exemple de la manière dont la puissance est distribuée. Un niveau de tension externe 310, par exemple 3,3 V ou 5 V, est appliqué à un régulateur de tension 315, à un circuit analogique 320, et à des plots d'entrée/sortie 325. Le régulateur de tension 315 génère un niveau de réaliréaliréaliréaliréali- Q. tension régulé 330, par exemple 1,8 V pour une logique à 0,18}gym. Le niveau de tension régulé 330 est appliqué à une mémoire 340, par exemple une EEPROM et une mémoire FLASH embarquées, et à une logique évoluée 335, par exemple le microcontrôleur, les mémoires CMOS, la logique de liaison etc. Le niveau de tension externe 310 est également appliqué à la mémoire 340.
La figure 4 est un schéma illustrant un mode de réalisation de la mémoire 340 de la figure 3. Une mémoire 400 reçoit un niveau de tension externe 405 et un niveau de tension régulé 410 (du régulateur de tension 315 de la figure 3). Une pompe de charge 407 reçoit le niveau de tension externe 405 et génère un niveau de tension élevé 415 qui est utilisé pour programmer des cellules de mémoire pendant l'écriture de mémoire. Parce que la pompe de charge 407 est alimentée avec le niveau de tension externe 405 plus élevé, la pompe de charge 407 peut être plus petite qu'une pompe de charge de mémoire classique alimentée avec la tension d'alimentation régulée 410.
Un circuit de commande de mémoire 420 reçoit le niveau de tension élevé 415 de la pompe de charge 407 et le niveau de tension externe 420. le circuit de commande de mémoire 420 fournit soit le niveau de tension élevé 415, soit le niveau de tension externe 420 à une ligne de tension variable 425. Pendant une lecture de mémoire, le circuit de commande de mémoire 420 délivre le niveau de tension ex-terne 420 à la ligne de tension variable 425. Pendant une écriture de mémoire, le circuit de commande de mémoire 420 délivre le niveau de tension élevé 415 à la ligne de ten- sion variable 425.
La mémoire 400 comprend un tableau de mémoire 430 avec des cellules de mémoire, des lignes de mot et des lignes de bit (non montrées). Un prédécodeur X 435 reçoit et décode une adresse et est alimenté au niveau de tension régulé 410 Le pré-décodeur X 435 est connecté à un pilote de ligne de mot 440 avec une ligne d'entrée de sélection de mot (voir figure 6). Le pilote de ligne de mot 440 reçoit la puis- sance de la ligne de tension variable 425 et reçoit une sélection de mot qui indique une ligne de mot à alimenter en puissance. Pendant la lecture de mémoire, le pilote de ligne de mot 440 alimente la ligne de mot avec le niveau de tension externe 405. Pendant l'écriture de mémoire, le pilote de ligne de mot 440 alimente la ligne de mot avec le niveau de tension élevé 415.
Un pré-décodeur Y 445 reçoit et décode une adresse et est alimenté à un niveau de tension régulé 410. Le pré-décodeur Y 445 est connecté à un pilote de sélection 450. Le pilote de sélection 450 reçoit le niveau de tension externe 405 et un signal de sélection de bit du pré-décodeur Y 445, qui est transposé au niveau de tension externe 405 du fait du transposeur de niveau.
Un sélecteur de ligne de bit 455 est connecté au pi-lote de sélection 450 et reçoit un signal d'alimentation double du pilote de sélection 450, au niveau de tension régulé 410 et au niveau de tension externe 405. Le sélecteur de ligne de bit 455 sélectionne des lignes de bit dans le tableau de mémoire 430 pour la lecture de mémoire.
Un amplificateur de lecture 460 avec une sortie de données est connecté à la sélection de ligne de bit 455. L'amplificateur de lecture 460 reçoit le niveau de tension régulé 410.
Une bascule de colonne 465 est connectée au tableau de mémoire 430 et stocke des données qui seront programmées en parallèle dans le tableau de mémoire 430 et pilote les cellules correspondant aux lignes de bit qui sont écrites.
Une logique de commande 470 fonctionne au niveau de tension régulé 410 et gère les modes fonctionnels, les modes de test et les retards d'écriture dans la mémoire 400.
La figure 5 est un schéma illustrant un mode de réalisation d'un circuit de commande de mémoire 500. Une ligne de tension variable 505 reçoit le niveau de tension élevé 415 de la pompe de charge 407 (voir figure 4). Un transistor 510 est, par exemple, un transistor PMOS avec un drain connecté à la ligne de tension variable 505 et une source connectée au niveau de tension externe 405. La grille du transistor 510 est connectée à la source d'un transistor 515 et au drain d'un transistor 520. Le drain du transistor 515 est connecté à la ligne de tension variable 505. La ofu source du transistor 520 est connectée à la masse. Les grilles des deux transistors 515 et 520 sont connectées ensemble et à un transposeur de niveau 525. Le transposeur de niveau 525 est connecté à la ligne de tension variable 505, à un inverseur 530 et à une ligne de signal de lecture 535.
Dans un mode de réalisation, le transposeur de niveau 525 reçoit un signal de lecture indiquant la lecture de mémoire de la ligne de signal de lecture 535. Le transpo- Beur de niveau. 525 envoie une sortie de niveau élevé à un noeud 540. Une sortie de niveau élevé sur la grille du transistor 520 le rend passant (l'active), tandis qu'une sortie de niveau élevé à la grille du transistor 515 le bloque (le désactive). Le transistor 520 tire le noeud 545 à la masse, rendant passant ou activant par conséquent le transistor 510. La ligne de tension variable 505, qui est maintenant connectée au niveau de tension externe 405 par l'intermédiaire du transistor 510 actif, est au niveau de tension externe 405.
Pendant l'écriture de mémoire, le transposeur de ni-veau 525 reçoit un signal de lecture indiquant l'écriture de mémoire sur la ligne de signal de lecture 535. Le transposeur de niveau 525 envoie une sortie de niveau bas au noeud 540. Une sortie de niveau bas sur la grille du tran- sistor 520 le bloque (le désactive), tandis qu'une sortie de niveau bas sur la grille du transistor 515 le rend passant (l'active). Le transistor 515 tire le noeud 545 au niveau de tension élevé 415, bloquant par conséquent le transistor 510. La ligne de tension variable 505, qui est maintenant isolée du niveau de tension externe 405 par l'intermédiaire du transistor inactif 510, est au niveau de tension élevé 415.
Un mode de réalisation du transposeur de niveau 525 est illustré sur la figure 5. Un transistor 550 est, par exemple, un transistor PMOS avec un drain connecté à la ligne de tension variable 505. Un transistor 555 est, par exemple, un transistor PMOS avec un drain connecté à la ligne de tension variable 505 et une grille connectée à la source du transistor 550 et une source connectée à la grille du transistor 550. Un transistor 560 est, par exemple, un transistor NMOS avec un drain connecté à la grille du transistor 555, à la source du transistor 550 et au noeud 540, une source connectée à la masse et une grille connec- tée à un inverseur 530. Un transistor 565 est, par exemple, un transistor NMOS avec un drain connecté à la source du transistor 555 et à la grille du transistor 550, une source connectée à la masse et une grille connectée à la ligne de signal de lecture 535.
Le transposeur de niveau 525 reçoit un signal de lecture indiquant la lecture de mémoire, dans ce cas le noeud 535 est mis au niveau de tension régulé 410. Le signal est inversé par l'inverseur 530, bloquant par conséquent le transistor 560 et rendant passant le transistor 565. La grille du transistor 550 est tirée au niveau bas, le rendant par conséquent passant. La grille du transistor 555 est tirée au niveau élevé, le bloquant par conséquent. Le noeud 540 est tirée au niveau élevé par le transistor 550, qui est passant.
Le transposeur de niveau 525 reçoit un signal de lecture indiquant l'écriture de mémoire, dans ce cas le noeud 535 est mis à la masse. Le signal est inversé par l'inverseur 530, rendant par conséquent passant le transistor 560 et bloquant le transistor 565. La grille du tran- sistor 550 est tirée au niveau haut, le rendant par conséquent passant. La grille du transistor 555 est tirée au niveau bas, le bloquant par conséquent. Le noeud 540 est tiré au niveau bas par le transistor 560, qui est passant.
Au début de l'écriture de mémoire, s'il survient une sous-valeur ( undershoot ) du potentiel au niveau du noeud 505, alors le potentiel de substrat au niveau du transistor 510 peut commuter en dessous de son potentiel de source qui est directement connecté au niveau de tension externe 405. Cela peut aboutir à un courant parasite de substrat perturbant le fonctionnement correct de la pompe de charge.
Afin de résoudre le problème du courant de substrat, un transistor 511 a été ajouté, comme illustré sur la figure 10. La figure 10 est un diagramme schématique illustrant un mode de réalisation du circuit de commande de mémoire 500.. Le transistor 511 est, par exemple, un transistor PMOS avec son drain connecté à la source du transistor 510, sa source et son substrat connectés au niveau de tension externe 405 et sa grille connectée à la sortie d'un transposeur de niveau 526. Pendant l'écriture de mémoire, le noeud 535 est mis à la masse, l'entrée du transposeur de niveau 526 est mise au niveau de tension régulé 410 et la sortie du transposeur de niveau 526 est au niveau de tension externe 405, ce qui bloque le transistor 511. La source du transistor 510, qui est connectée à un noeud 547, est maintenant flottante, évitant l'apparition d'un courant parasite de substrat même pendant une sous-valeur ( undershoot ) au niveau de son drain.
Pendant une lecture de mémoire, le noeud 535 est mis au niveau de tension régulé 410. L'entrée et la sortie du transposeur de niveau 526 sont à la masse, ce qui rend passant le transistor 511 et commande le noeud 547 au niveau de tension externe 405. Parce que le transistor 510 est également passant, la ligne de tension variable 505 est connectée au niveau de tension externe 405 par l'intermédiaire des transistors 510 et 511.
La figure 6 est un schéma illustrant un mode de réalisation du pilote de ligne de mot 440. Le pilote de ligne de mot 440 est connecté au prédécodeur X 435 directement et par l'intermédiaire de l'inverseur 501. Le pré-décodeur X 435 reçoit le niveau de tension régulé 410 et des emplacements d'adresse de mémoire. L'inverseur 601 fournit une sortie inversée de son entrée. Le pilote de ligne de mot reçoit des signaux inversé et normal du pré-décodeur X 435 et un signal de commande indiquant une lecture de mémoire.
Le pilote de ligne de mot 600 est un mode de réalisation du pilote de ligne de mot 440. Un transistor 605 est, par exemple, un transistor PMOS avec un drain connecté à une ligne de tension variable 610, une source connectée à une ligne de mot 615. Un transistor 620 est, par exemple, un transistor NMOS avec un drain connecté à la sortie du pré-décodeur X 435, une source connectée à la ligne de mot 615 et une grille recevant un signal de commande. Un transposeur de niveau 625 est connecté à la ligne de tension variable 610 et reçoit la sortie d'un inverseur 601 et la sortie du pré-décodeur X 435. Le transposeur de niveau 625 a une sortie connectée à la grille du transistor 605.
Si la ligne de mot 615 est sélectionnée par le pré- décodeur X 435, alors une entrée 630 est au niveau élevé et l'entrée 635 est au niveau bas. Dans cet exemple, le niveau élevé est au niveau de tension régulé 410, tandis que le niveau bas est au niveau de masse. Le transposeur de niveau 625 tire la grille du transistor 605 à la masse, le rendant par conséquent passant et connectant la ligne de tension variable 610 à la ligne de mot 615. Étant donné que la ligne de mot 615 est sélectionnée, soit la lecture soit l'écriture de mémoire se produit.
Pendant l'écriture de mémoire, le circuit de commande de mémoire 420 fournit le niveau de tension élevé 415 sur la ligne de tension variable 610. Le transistor 620 reçoit un signal de commande au niveau de sa grille et se bloque parce que l'écriture de mémoire se produit et la ligne de mot 615 est connectée au niveau de tension élevé 415.
Pendant la lecture de mémoire, le circuit de commande de mémoire 420 fournit le niveau de tension externe 405 sur la ligne de tension variable 610. Le transistor 620 reçoit un signal de commande au niveau de sa grille et devient passant parce que la lecture de mémoire se produit. Le transistor 620 est un transistor à tension de seuil faible qui diminue le retard de montée de ligne de mot pendant la lecture de mémoire. Les transistors 620 et 605 chargent la ligne de mot au niveau de tension régulé 410 moins la tension de seuil du transistor 620. Une fois que la ligne de mot 615 a atteint le niveau de tension régulé 410 moins la tension de seuil du transistor 620, le transistor 620 se bloque et la charge restante pour mettre la ligne de mot au niveau de tension externe 405 est fournie par le transistor 605.
Un mode de réalisation du transposeur de niveau 625 est illustré sur la figure 6. Un transistor 650 est, par exemple, un transistor PMOS avec un drain connecté à la ligne de tension variable 610. Un transistor 655 est, par exemple, un transistor PMOS avec un drain connecté à la ligne de tension variable 610 et une grille connectée à la source du transistor 650 et une source connectée à la grille du transistor 650. Un transistor 660 est, par exemple, un transistor NMOS avec un drain connecté à la grille du transistor 655, à la source du transistor 650 et au noeud 640, une source connectée à la masse et une grille connectée au pré-décodeur X 435. Un transistor 665 est, par exemple, un transistor NMOS avec un drain connecté à la source du transistor 655 et à la grille du transistor 650, une source connectée à la masse et une grille connectée à l'inverseur 601.
Le transposeur de niveau 625 reçoit un signal sélectionnant une ligne de mot 615, dans ce cas le niveau de tension régulé 410. Le signal est inversé par l'inverseur 601, bloquant par conséquent le transistor 665 et rendant passant le transistor 660. La grille du transistor 655 est tirée au niveau bas, le rendant par conséquent passant. La grille du transistor 650 est tirée au niveau élevé, le bloquant par conséquent. Le noeud 640 est tiré au niveau bas par le transistor 655, qui est passant, rendant par conséquent le transistor 605 passant.
Le transposeur de niveau 625 reçoit un signal de désélection de ligne de mot 615, dans ce cas la grille du transistor 660 est connectée à la masse et la grille du transistor 665 est connectée au niveau de tension régulé 410, rendant par conséquent le transistor 665 passant et bloquant le transistor 660. La grille du transistor 655 est tirée au niveau élevé, le rendant par conséquent passant. La grille du transistor 650 est tirée au niveau bas, le bloquant par conséquent. Le n ud 640 est tiré au niveau élevé par le transistor 560, qui est passant, bloquant par conséquent le transistor 605.
Dans un exemple de l'art antérieur, une mémoire EEPROM de 2 mégabits de la technologie à 0,18}gym, avec un fonc- tionnement à alimentation unique de 1,8 V, met 11 ns pour charger la ligne de mot à 2 V et 20 ns pour charger la ligne de mot à 2,5 V. L'invention fournit un temps de charge pour la ligne de mot de respectivement 5 ns et 9 ns.
La figure 7 est un schéma illustrant un mode de réali-
WU
sation du sélecteur de ligne de bit 455. Un sélecteur de ligne de bit 700 comprend des transistors 710, qui, dans un mode de réalisation, sont des dispositifs à faible gain, à grande longueur efficace, à oxyde épais, NMOS. Pendant l'écriture de mémoire, les transistors 710 sont connectés au niveau de tension élevé 415. Les transistors 710 ont un drain connecté à des cellules de mémoire (non montrées) dans le tableau de mémoire 430 (voir figure 4). Chacun des transistors 710 a une source connectée au drain d'un tran- sistor 720. Dans un mode de réalisation, le transistor 720 est un dispositif à pilotage élevé, à oxyde mince avec une source connectée à l'amplificateur de lecture 460. Le transistor 720 n'est pas connecté au niveau de tension élevé 415.
Afin de charger la ligne de bit rapidement pendant la lecture, les transistors 710 devraient fonctionner rapide-ment. Un procédé pour accélérer le temps de fonctionnement des transistors 710 consiste à augmenter leur largeur. Une autre solution consiste à piloter les grilles des transis tors 710 au niveau de tension externe 405. Lorsqu'une ligne de bit est sélectionnée, la grille d'un des transistors 710 sera pilotée au niveau de tension externe 405 afin de diminuer le temps de charge de ligne de bit. La grille du transistor 720 sera pilotée au niveau de tension régulé 410.
Le pilote de ligne de bit 450 pilote les transistors 710 et 720.
La figure 8 est un schéma illustrant un mode de réalisation du pilote de ligne de bit 450. Un pilote de ligne de bit 800 reçoit un signal d'un prédécodeur Y 810 au niveau de tension régulé 410 indiquant lequel des transistors 710 devrait être sélectionné. Dans un mode de réalisation, le pilote de ligne de bit 800 est un transposeur de niveau qui reçoit le niveau de tension externe 405 et applique le niveau de tension externe 405 à la grille du transistor 710 sélectionné.
Le pré-décodeur Y 810 reçoit et décode une adresse indiquant lequel des transistors 710 sélectionner et sélectionnant le transistor 720 en appliquant le niveau de tension régulé 410 à la grille du transistor 720.
Dans un exemple de l'art antérieur, une mémoire EEPROM de 2 mégabits de la technologie à 0,18 pm, avec un fonctionnement à alimentation unique de 1,8 V, a un temps d'accès à la mémoire de 40 ns. L'invention fournit un temps d'accès de 25 ns.
La figure 9 est un organigramme illustrant un procédé de pilotage d'une mémoire non volatile embarquée, ayant une ligne de mot et une ligne de bit, à un niveau de tension externe et à un niveau de tension régulé, le niveau de tension externe étant plus élevé que le niveau de tension régulé inférieur. Au bloc 900, une amplification du niveau de tension externe à un niveau de tension élevé est effectuée, le niveau de tension élevé étant plus élevé que le niveau de tension externe. Au bloc 910, le niveau de ten- Sion élevé est fourni à une ligne de tension variable pendant l'écriture de mémoire. Au bloc 920, le niveau de tension externe est fourni à la ligne de tension variable pendant la lecture de mémoire. Au bloc 930, le niveau de tension élevé est commuté de la ligne de tension variable à la ligne de mot pendant l'écriture de mémoire. Au bloc 940, la ligne de mot est préchargée avec le niveau de tension régulé pendant la lecture de mémoire. Au bloc 950, le niveau de tension externe est commuté de la ligne de tension variable à la ligne de mot pendant la lecture de mémoire. Au bloc 960, un transistor de la sélection de ligne de bit devient passant avec le niveau de tension externe. Au bloc 970, un transistor de la sélection de ligne de bit devient passant avec le niveau de tension régulé.
Les avantages de l'invention comprennent une surface de puce réduite obtenue en réduisant la taille de la pompé de charge et de la sélection de ligne de bit, une vitesse améliorée, une consommation de puissance réduite (une pompe d'amplification pendant la lecture n'est pas nécessaire) et l'utilisation des ressources d'alimentation disponibles. L'invention peutêtre appliquée à une mémoire FLASH embarquée et est évolutive. L'invention peut être appliquée à des applications embarquées où des dispositifs à faible tension à oxyde mince nécessitant une faible tension régu- lée dédiée sont nécessaires pour une logique numérique évoluée, tandis que des dispositifs à oxyde épais peuvent être utilisés pour diverses mémoires. Avec des technologies profondes, du sous-micron, ce concept s'applique à des mémoires SRAM et DRAM, où des dispositifs à tension de seuil élevée, à oxyde épais peuvent être utilisés dans le tableau afin d'éviter un courant de fuite, par exemple. L'invention peut être également appliquée à une mémoire autonome, afin doptimiser la vitesse et de diminuer la surface de la logique de commande.
Un homme du métier. ordinaire reconnaîtra que des configurations de différents composants de circuit peuvent être utilisées sans s'écarter de l'invention. Les modes de réalisation illustrés de l'invention comprennent, par exemple, des transistors P et N et des inverseurs, mais l'homme du métier reconnaîtra que ceux-ci peuvent être interchangés et/ou remplacés par des composants avec une fonctionnalité similaire, en appliquant un reroutage de circuit approprié. Tout homme du métier reconnaîtra à partir de la description qui précède et à partir des figures et des revendications que des modifications et des changements peuvent être apportés à l'invention sans s'écarter de l'étendue de l'invention définie dans les revendications suivantes.

Claims (1)

  1. 2871281 REVENDICATIONS
    1. Mémoire non volatile embarquée pilotée à un niveau de tension externe et à un niveau de tension régulé, le niveau de tension externe étant plus élevé que le niveau de tension régulé, comprenant: une pompe de charge. (407) configurée pour recevoir le niveau de tension externe et pour générer un niveau de tension élevé, le niveau de tension élevé étant plus élevé que niveau de tension externe; un circuit de commande de mémoire (420,500) couplé à la pompe de charge (407) et configuré pour recevoir le niveau de tension externe et le niveau de tension élevé, et configuré en outre pour sélectionner l'un des niveaux de tension externe et élevé et le fournir; un tableau de mémoire (430), comportant une ligne de mot et une ligne de bit, couplé au circuit de commande de mémoire (420,500) et configuré pour stocker des données et recevoir les niveaux de tension externe et élevé sur la ligne de mot, et recevoir les niveaux de tension élevés sur la ligne de bit; un pilote de ligne de mot (440,600) couplé au tableau de mémoire (430) et configuré pour fournir les niveaux de tension externe et élevé à la ligne de mot; un sélecteur de ligne de bit (455,700) couplé au tableau de mémoire (430) et configuré pour sélectionner la ligne de bit et recevoir les niveaux de tension élevé, externe et régulé ; et un pilote de ligne de bit (450,800) couplé au sélecteur de ligne de bit (455,700) et configuré pour fournir les niveaux de tension externe et régulé au sélecteur de ligne de bit (455,700).
    2. Mémoire selon la revendication 1, dans laquelle le circuit de commande de mémoire (420,500) comprend en outre: une ligne de tension variable configurée pour fournir les niveaux de tension élevé et externe; un premier transistor couplé à la ligne de tension variable et configuré pour recevoir le niveau de tension externe et pour transmettre le niveau de tension externe à la ligne de tension variable; et un transposeur de niveau couplé au premier transistor et configuré pour recevoir un signal et activer le premier transistor lorsque le signal de lecture indique une lecture de mémoire et désactiver le premier transistor lorsque le signal de lecture n'indique pas de lecture de mémoire, dans laquelle le premier transistor transmet le niveau de tension externe à la ligne de tension variable pendant une lecture de mémoire, autrement la ligne de tension variable transmet le niveau de tension élevé.
    3. Mémoire selon la revendication 2 comprenant en ou-tre: un deuxième transistor ayant un drain couplé à la ligne de tension variable, une grille couplée au transposeur de niveau et une source couplée à une grille du premier transistor; et un troisième transistor ayant un drain couplé à la source du deuxième transistor et à la grille du premier transistor, une source couplée à la masse et une grille couplée transposeur de niveau, dans laquelle les premier et deuxième transistors sont =figurés pour activer le premier transistor lorsque le signal de lecture indique une lecture de mémoire et désactiver le premier transistor lorsque le signal de lecture n'indique pas de lecture de mémoire.
    4. Mémoire selon la revendication 3 comprenant en ou-tre: un inverseur ayant une entrée configurée pour recevoir le signal de lecture et une sortie couplée au transposeur 30 de niveau.
    5. Mémoire selon la revendication 1, dans laquelle le pilote de ligne de mot (440, 600) comprend en outre: une ligne de tension variable configurée pour fournir les niveaux de tension élevé et externe; un premier transistor couplé à la ligne de tension variable et à la ligne de mot et configuré pour recevoir les niveaux de tension externe et élevé et transmettre les niveaux de tension externe et élevé à la ligne de mot; et un deuxième transistor couplé à la ligne de mot et configuré pour recevoir un signal de commande et aider à mettre la ligne de mot au niveau de tension régulé lorsque le signal de commande indique une lecture de mémoire, dans laquelle le premier transistor transmet le niveau de tenSion externe à la ligne de mot pendant une lecture de mémoire, et le premier transistor transmet le niveau de tension élevé à la ligne de mot pendant une écriture de mémoire.
    6. Mémoire selon la revendication 5 comprenant en ou-10 tre: une entrée de sélection de mot couplée au deuxième transistor et configurée pour transmettre un signal de sélection de ligne de mot; un transposeur de niveau couplé à l'entrée de sélec- tion de mot, à la ligne de tension variable et à une grille du premier transistor, le transposeur de niveau étant configuré pour activer le premier transistor si le transposeur de niveau a reçu le signal de sélection de ligne de mot et sinon désactiver le premier transistor.
    7. Mémoire selon la revendication 6, dans laquelle le premier transistor comprend en outre un drain couplé à la ligne de tension variable et une source couplée à la ligne de mot, et le deuxième transistor comprend en outre un drain couplé à l'entrée de sélection de mot et une source couplée à la ligne de mot et une grille configurée pour recevoir le signal de commande.
    8. Mémoire selon la revendication 7, dans laquelle le signal de sélection de ligne de mot est au niveau de tension régulé.
    9. Mémoire selon la revendication 8, dans laquelle le deuxième transistor, pendant la lecture de mémoire, est en outre configuré pour fournir du courant à la ligne de mot jusqu'à ce que la ligne de mot atteigne le niveau de tension régulé moins la tension de seuil du deuxième transistor, et cesse ensuite de fournir du courant alors que la tension sur la ligne de mot s'élève jusqu'au niveau de tension externe.
    10. Mémoire selon la revendication 1, dans laquelle le sélecteur de ligne de bit (455,700) comprend en outre: un premier transistor couplé à la ligne de bit et configuré pour recevoir le niveau de tension élevé pendant une écriture de mémoire et pour recevoir le niveau de tension externe pendant une lecture de mémoire; et un deuxième transistor couplé au premier transistor et à une ligne de lecture, et configuré pour recevoir le niveau de tension régulé pendant une lecture de mémoire.
    11. Mémoire selon la revendication 10, dans laquelle le premier transistor comprend en outre un drain couplé à la ligne de bit et configuré pour recevoir le niveau de tension élevé pendant l'écriture de mémoire, une grille configurée pour recevoir le niveau de tension externe et une source.
    12. Mémoire selon la revendication 11, dans laquelle le deuxième transistor comprend en outre un drain couplé à la source du premier transistor, une grille configurée pour recevoir le niveau de tension régulé et un drain couplé à la ligne de lecture.
    13. Mémoire selon outre un pré-décodeur et délivrer le niveau deuxième transistor.
    14. Mémoire selon le pilote de ligne de transposeur de niveau pour recevoir le niveau de tension régulé du pré-décodeur et délivrer le niveau de tension externe à la grille du premier transistor.
    15. Mémoire selon la revendication 1, comprenant en outre: un prédécodeur configuré pour recevoir une adresse et délivrer le niveau de tension régulé ; et dans laquelle le pilote de ligne de bit (450,800) comprend en outre un transposeur de niveau couplé au pré- décodeur et configuré pour recevoir le niveau de tension régulé du pré- décodeur et délivrer le niveau de tension externe.
    16. Procédé de pilotage d'une mémoire non volatile embarquée, comportant une ligne de mot et une ligne de bit, à la revendication 12, comprenant en configuré pour recevoir une adresse de tension régulé à la grille du la revendication 13, dans laquelle bit (450,800) comprend en outre un couplé au pré-décodeur et configuré un niveau de tension externe et à un niveau de tension régulé, le niveau de tension externe étant plus élevé que le niveau de tension régulé inférieur, comprenant: l'amplification du niveau de tension externe à un ni- veau de tension élevé, le niveau de tension élevé étant plus élevé que le niveau de tension externe; la fourniture du niveau de tension élevé à une ligne de tension variable pendant une écriture de mémoire; et la fourniture du niveau de tension externe à la ligne de tension variable pendant une lecture de mémoire.
    17. Procédé selon la revendication 16, comprenant en outre la commutation du niveau de tension élevé de la ligne de tension variable à la ligne de mot pendant une écriture 15 de mémoire; et la commutation du niveau de tension externe de la ligne de tension variable à la ligne de mot pendant une lecture de mémoire.
    18. Procédé selon la revendication 17, comprenant en 20 outre la précharge de la ligne de mot avec le niveau de tension régulé pendant la lecture de mémoire.
    19. Procédé selon la revendication 18, comprenant en outre la mise à l'état passant d'un transistor de la sélection de ligne de bit avec le niveau de tension externe; et la mise à l'état passant d'un transistor de la sélection de ligne de bit avec le niveau de tension régulé.
    1:13113N 13NIBVO ÜT
FR0403434A 2004-04-01 2004-04-01 Procede et dispositif d'alimentation de puissance duale pour une memoire non-volatile embarquee Expired - Fee Related FR2871281B1 (fr)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0403434A FR2871281B1 (fr) 2004-04-01 2004-04-01 Procede et dispositif d'alimentation de puissance duale pour une memoire non-volatile embarquee
US11/061,799 US7120061B2 (en) 2004-04-01 2005-02-18 Method and apparatus for a dual power supply to embedded non-volatile memory
PCT/US2005/009865 WO2005096796A2 (fr) 2004-04-01 2005-03-24 Procede et appareil pour la distribution d'une double alimentation electrique a une memoire non volatile integree
EP05729910A EP1747559B1 (fr) 2004-04-01 2005-03-24 Procede et appareil pour la distribution d'une double alimentation electrique a une memoire non volatile integree
CNA2005800101251A CN1961379A (zh) 2004-04-01 2005-03-24 用于嵌入式非易失性存储器的双电源供电的方法和设备
DE602005012080T DE602005012080D1 (de) 2004-04-01 2005-03-24 Verfahren und vorrichtung für eine doppelte stromversorgung für eingebetteten, nicht-flüchtigen speicher
TW094110507A TWI373767B (en) 2004-04-01 2005-04-01 Embedded non-volatile memory and method of driving the same
US11/539,567 US7450429B2 (en) 2004-04-01 2006-10-06 Method and apparatus for a dual power supply to embedded non-volatile memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0403434A FR2871281B1 (fr) 2004-04-01 2004-04-01 Procede et dispositif d'alimentation de puissance duale pour une memoire non-volatile embarquee

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FR2871281A1 true FR2871281A1 (fr) 2005-12-09
FR2871281B1 FR2871281B1 (fr) 2008-06-13

Family

ID=35054103

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR0403434A Expired - Fee Related FR2871281B1 (fr) 2004-04-01 2004-04-01 Procede et dispositif d'alimentation de puissance duale pour une memoire non-volatile embarquee

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7120061B2 (fr)
CN (1) CN1961379A (fr)
DE (1) DE602005012080D1 (fr)
FR (1) FR2871281B1 (fr)
TW (1) TWI373767B (fr)

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005096796A2 (fr) * 2004-04-01 2005-10-20 Atmel Corporation Procede et appareil pour la distribution d'une double alimentation electrique a une memoire non volatile integree
US7355905B2 (en) 2005-07-01 2008-04-08 P.A. Semi, Inc. Integrated circuit with separate supply voltage for memory that is different from logic circuit supply voltage
US7352609B2 (en) * 2005-08-15 2008-04-01 International Business Machines Corporation Voltage controlled static random access memory
US7466582B2 (en) * 2005-08-15 2008-12-16 International Business Machines Corporation Voltage controlled static random access memory
US7554843B1 (en) * 2005-11-04 2009-06-30 Alta Analog, Inc. Serial bus incorporating high voltage programming signals
US7681106B2 (en) * 2006-03-29 2010-03-16 Freescale Semiconductor, Inc. Error correction device and methods thereof
US7675806B2 (en) * 2006-05-17 2010-03-09 Freescale Semiconductor, Inc. Low voltage memory device and method thereof
US7365585B2 (en) * 2006-08-09 2008-04-29 Atmel Corporation Apparatus and method for charge pump slew rate control
US7652504B2 (en) * 2006-12-13 2010-01-26 Apple Inc. Low latency, power-down safe level shifter
US7834662B2 (en) * 2006-12-13 2010-11-16 Apple Inc. Level shifter with embedded logic and low minimum voltage
US7427890B2 (en) * 2006-12-29 2008-09-23 Atmel Corporation Charge pump regulator with multiple control options
US7656740B2 (en) 2007-02-05 2010-02-02 Micron Technology, Inc. Wordline voltage transfer apparatus, systems, and methods
CN101617371B (zh) * 2007-02-16 2014-03-26 莫塞德技术公司 具有多个外部电源的非易失性半导体存储器
US7639540B2 (en) * 2007-02-16 2009-12-29 Mosaid Technologies Incorporated Non-volatile semiconductor memory having multiple external power supplies
US7715267B2 (en) * 2007-07-18 2010-05-11 Macronix International Co., Ltd. Driving method and driving circuit and low power memory using the same
US8102728B2 (en) * 2009-04-07 2012-01-24 Apple Inc. Cache optimizations using multiple threshold voltage transistors
US8004922B2 (en) * 2009-06-05 2011-08-23 Nxp B.V. Power island with independent power characteristics for memory and logic
US7995410B2 (en) 2009-06-26 2011-08-09 Apple Inc. Leakage and NBTI reduction technique for memory
KR101737020B1 (ko) * 2009-09-09 2017-05-29 마벨 월드 트레이드 리미티드 다중 파워서플라이들 및/또는 다중 저전력 모드들을 갖는 메모리
US8867278B2 (en) 2011-02-28 2014-10-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory device, memory system including the same, and method of operating nonvolatile memory device
US8553488B2 (en) 2011-06-10 2013-10-08 Apple Inc. Performing stuck-at testing using multiple isolation circuits
KR101874408B1 (ko) 2011-11-09 2018-07-05 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 이를 포함하는 메모리 시스템
US9665144B2 (en) * 2011-12-21 2017-05-30 Intel Corporation Methods and systems for energy efficiency and energy conservation including entry and exit latency reduction for low power states
US9142266B2 (en) * 2013-11-19 2015-09-22 Arm Limited Memory circuitry using write assist voltage boost
CN105793926B (zh) * 2013-12-27 2021-06-01 英特尔公司 具有双电压非对称存储器单元的芯片及其操作方法和装置
JP6495024B2 (ja) * 2015-01-29 2019-04-03 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US10163470B2 (en) * 2015-09-18 2018-12-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Dual rail memory, memory macro and associated hybrid power supply method
US9666253B2 (en) * 2015-09-18 2017-05-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Dual rail memory, memory macro and associated hybrid power supply method
CN106935268B (zh) * 2015-12-31 2021-12-17 紫光同芯微电子有限公司 一种非易失性存储器双电源管理电路
TWI608485B (zh) * 2016-06-07 2017-12-11 來揚科技股份有限公司 電阻式記憶體的讀寫控制裝置
KR102392665B1 (ko) * 2017-11-29 2022-04-29 삼성전자주식회사 메모리 장치, 이를 포함하는 시스템 온 칩 및 메모리 장치의 동작 방법
US11056155B1 (en) 2018-06-20 2021-07-06 Adesto Technologies Corporation Nonvolatile memory devices, systems and methods with switching charge pump architectures
CN112967741B (zh) * 2021-02-06 2023-09-08 江南大学 一种面向存算阵列的高速高压字线驱动电路
US11875854B2 (en) * 2022-03-31 2024-01-16 Macronix International Co., Ltd. Memory device and word line driver thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5077691A (en) * 1989-10-23 1991-12-31 Advanced Micro Devices, Inc. Flash EEPROM array with negative gate voltage erase operation
US5483486A (en) * 1994-10-19 1996-01-09 Intel Corporation Charge pump circuit for providing multiple output voltages for flash memory
GB2343276A (en) * 1998-10-30 2000-05-03 Samsung Electronics Co Ltd Non-volatile semiconductor memory device and method of driving word lines thereof
US20020191472A1 (en) * 2001-06-15 2002-12-19 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device operating with low power consumption
US6550028B1 (en) * 1999-10-19 2003-04-15 Advanced Micro Devices, Inc. Array VT mode implementation for a simultaneous operation flash memory device

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5222040A (en) 1990-12-11 1993-06-22 Nexcom Technology, Inc. Single transistor eeprom memory cell
JPH06236694A (ja) 1991-05-07 1994-08-23 Intel Corp 高電圧レベル変換回路
US5274278A (en) 1991-12-31 1993-12-28 Intel Corporation High-speed tri-level decoder with dual-voltage isolation
JP2870328B2 (ja) 1992-11-12 1999-03-17 日本電気株式会社 不揮発性半導体記憶装置
US5399928A (en) 1993-05-28 1995-03-21 Macronix International Co., Ltd. Negative voltage generator for flash EPROM design
DE69427025T2 (de) 1994-08-31 2001-09-27 St Microelectronics Srl Doppelquellenspannungsversorgungsschaltung
TW423162B (en) 1997-02-27 2001-02-21 Toshiba Corp Power voltage supplying circuit and semiconductor memory including the same
JP2001067886A (ja) * 1999-08-26 2001-03-16 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 半導体記憶装置
US6201747B1 (en) 1999-09-30 2001-03-13 Advanced Micro Devices, Inc. Method and apparatus for measuring subthreshold current in a memory array
US6515912B1 (en) 2000-04-14 2003-02-04 Koninklijke Philips Electronics N.V. Semiconductor device
JP2002261239A (ja) * 2001-02-28 2002-09-13 Sharp Corp 不揮発性半導体メモリ装置の昇圧回路
US6822899B1 (en) * 2002-12-23 2004-11-23 Cypress Semiconductor Corporation Method of protecting flash memory from data corruption during fast power down events

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5077691A (en) * 1989-10-23 1991-12-31 Advanced Micro Devices, Inc. Flash EEPROM array with negative gate voltage erase operation
US5483486A (en) * 1994-10-19 1996-01-09 Intel Corporation Charge pump circuit for providing multiple output voltages for flash memory
GB2343276A (en) * 1998-10-30 2000-05-03 Samsung Electronics Co Ltd Non-volatile semiconductor memory device and method of driving word lines thereof
US6550028B1 (en) * 1999-10-19 2003-04-15 Advanced Micro Devices, Inc. Array VT mode implementation for a simultaneous operation flash memory device
US20020191472A1 (en) * 2001-06-15 2002-12-19 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device operating with low power consumption

Also Published As

Publication number Publication date
TW200615957A (en) 2006-05-16
FR2871281B1 (fr) 2008-06-13
US20050219903A1 (en) 2005-10-06
DE602005012080D1 (de) 2009-02-12
CN1961379A (zh) 2007-05-09
US7120061B2 (en) 2006-10-10
TWI373767B (en) 2012-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2871281A1 (fr) Procede et dispositif d'alimentation de puissance duale pour une memoire non-volatile embarquee
US5812459A (en) Nonvolatile semiconductor memory device having row decoder supplying a negative potential to wordlines during erase mode
JP5736441B2 (ja) Nandフラッシュメモリにおける階層的な共通ソース線構造
US6307781B1 (en) Two transistor flash memory cell
US20190019557A1 (en) Sequential write and sequential write verify in memory device
US8238158B2 (en) Programming of memory cells in a nonvolatile memory using an active transition control
US5448518A (en) Virtual ground type nonvolatile semiconductor memory device capable of simultaneously accessing two memory cells
US7450429B2 (en) Method and apparatus for a dual power supply to embedded non-volatile memory
US6400638B1 (en) Wordline driver for flash memory read mode
EP1776705A1 (fr) Isolement de segments d'une ligne binaire de memoire
US6067251A (en) Non-volatile semiconductor memory device
KR0148605B1 (ko) 신호선의 레벨유지를 위한 반도체 기억장치
US6831860B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
US7646640B2 (en) Semiconductor memory device
US20110157984A1 (en) Block decoder of semiconductor memory device
JPH10112181A (ja) 半導体記憶装置
US10675881B2 (en) Method for reading an EEPROM and corresponding device
US5978263A (en) Negative voltage switch architecture for a nonvolatile memory
FR2735896A1 (fr) Memoire eeprom programmable et effacable par effet de fowler-nordheim
KR20020096876A (ko) 반도체 기억장치
US6088287A (en) Flash memory architecture employing three layer metal interconnect for word line decoding
EP1274091B1 (fr) Mémoire nonvolatile à semiconducteurs avec une architecture de blocs et une charge minimisée du générateur interne de tension
US6072723A (en) Method and apparatus for providing redundancy in non-volatile memory devices
JPWO2007102188A1 (ja) 半導体記憶装置
US20030092236A1 (en) Flash memory cell and method to achieve multiple bits per cell

Legal Events

Date Code Title Description
ST Notification of lapse

Effective date: 20131231