FR2836473A1 - Procede de fabrication d'organoacyloxysilanes - Google Patents
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- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 11
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims abstract description 7
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 title abstract description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title description 7
- 239000000825 pharmaceutical preparation Substances 0.000 title 1
- 229940127557 pharmaceutical product Drugs 0.000 title 1
- 239000012048 reactive intermediate Substances 0.000 title 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 41
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 62
- -1 alkyl radical Chemical class 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 25
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 19
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 18
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 14
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 12
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 8
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 7
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 6
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 5
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FGWQRDGADJMULT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-methylpiperidin-1-yl)pyridine Chemical compound C1CC(C)CCN1C1=CC=NC=C1 FGWQRDGADJMULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims description 4
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 3
- RPDUDBYMNGAHEM-UHFFFAOYSA-N PROXYL Chemical group CC1(C)CCC(C)(C)N1[O] RPDUDBYMNGAHEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-TEMPO Chemical group CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1[O] UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SFXHWRCRQNGVLJ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-TEMPO Chemical group COC1CC(C)(C)N([O])C(C)(C)C1 SFXHWRCRQNGVLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QJWQYVJVCXMTJP-UHFFFAOYSA-N 4-pyridin-4-ylmorpholine Chemical compound C1COCCN1C1=CC=NC=C1 QJWQYVJVCXMTJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 claims description 2
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000008648 triflates Chemical class 0.000 claims description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 abstract 3
- 125000005018 aryl alkenyl group Chemical group 0.000 abstract 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 abstract 1
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HIAZFYQNGXRLTF-UHFFFAOYSA-N tributylsilane Chemical compound CCCC[SiH](CCCC)CCCC HIAZFYQNGXRLTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- AAURKQPZJJMXER-UHFFFAOYSA-N triethylsilyl acetate Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OC(C)=O AAURKQPZJJMXER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N butanoyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC(=O)CCC YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PZNPLUBHRSSFHT-RRHRGVEJSA-N 1-hexadecanoyl-2-octadecanoyl-sn-glycero-3-phosphocholine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)O[C@@H](COP([O-])(=O)OCC[N+](C)(C)C)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC PZNPLUBHRSSFHT-RRHRGVEJSA-N 0.000 description 1
- YHUUZKCUQVILTK-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylpyridin-4-amine Chemical compound CC1=NC=CC(N)=C1C YHUUZKCUQVILTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIVWHGMLFGNMOW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane Chemical compound C[C](C)C IIVWHGMLFGNMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEPIUTWNBHBHIO-UHFFFAOYSA-N 3-carboxy-PROXYL Chemical group CC1(C)CC(C(O)=O)C(C)(C)N1[O] GEPIUTWNBHBHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010779 crude oil Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N ethyl Chemical compound C[CH2] QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(=O)C=C ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- WIJVUKXVPNVPAQ-UHFFFAOYSA-N silyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)O[SiH3] WIJVUKXVPNVPAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N silyl prop-2-enoate Chemical compound [SiH3]OC(=O)C=C GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008347 soybean phospholipid Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZINNJYWGLAHPB-UHFFFAOYSA-N tributyl(methoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](CCCC)(CCCC)OC NZINNJYWGLAHPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYNNGMKJWXEYBV-UHFFFAOYSA-N tributylsilyl acetate Chemical compound CCCC[Si](CCCC)(CCCC)OC(C)=O ZYNNGMKJWXEYBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
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- C09D5/1662—Synthetic film-forming substance
- C09D5/1668—Vinyl-type polymers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1896—Compounds having one or more Si-O-acyl linkages
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Abstract
Pour préparer un organoacyloxysilane (I), on fait réagir un précurseur silané (II) avec un anhydride carboxylique (III) ou (IV), ce qui conduit à un composé (I) dans laquelle R représente B ou -D (CO) A, la réaction pouvant également être conduite avec un acide carboxylique (V) comme co-réactif, auquel cas le composé (I) obtenu est un composé dans lequel R représente R5.R1, R2, R3 - alkyle, aryle, aralkyleA = H, -OR4 (R4 = alkyle, aryle, arylalkyle)B = alkyle, alcényle, aryle, aralkyle, arylalcényleD = - (CH2)2-, -CH=CH-, arylène, arylène-alkylène, arylènealcénylèneR5 - alkyle, aryle, aralkyle, alcényle, arylalcényleR = B, -D (CO) A ou R5.
Description
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PROCEDE DE FABRICATION D'ORGANOACYLOXYSILANES
La présente invention porte sur un procédé de fabrication d'un organoacyloxysilane de formule (I) :
dans laquelle :
1 2 3 R, R et R3 représentent chacun indépendamment un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Cl-Cl0, un radical aryle ou un radical aralkyle, ces radicaux pouvant être substitués et contenir des hétéroatomes ; et R représente un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Cl-Cl0, un radical alcényle en C2-Cio, un radical aryle, un
radical aralkyle, un radical arylalcényle, ces radicaux pouvant être substitués et pouvant contenir des
hétéroatomes, ou un radical-D-C-A, D représentant un Il o groupement groupement divalent choisi parmi les radicaux alkylène en C2 (- (CH2) 2-) alcénylène en C2 (-CH=CH-), arylène, arylène-alkylène et arylène-alcénylène, et A représentant hydrogène ou-OR\ R représentant un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Cio, un radical aryle ou un radical arylalkyle, ces radicaux pouvant être substitués et contenir des hétéroatomes.
La présente invention porte sur un procédé de fabrication d'un organoacyloxysilane de formule (I) :
dans laquelle :
1 2 3 R, R et R3 représentent chacun indépendamment un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Cl-Cl0, un radical aryle ou un radical aralkyle, ces radicaux pouvant être substitués et contenir des hétéroatomes ; et R représente un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Cl-Cl0, un radical alcényle en C2-Cio, un radical aryle, un
radical aralkyle, un radical arylalcényle, ces radicaux pouvant être substitués et pouvant contenir des
hétéroatomes, ou un radical-D-C-A, D représentant un Il o groupement groupement divalent choisi parmi les radicaux alkylène en C2 (- (CH2) 2-) alcénylène en C2 (-CH=CH-), arylène, arylène-alkylène et arylène-alcénylène, et A représentant hydrogène ou-OR\ R représentant un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Cio, un radical aryle ou un radical arylalkyle, ces radicaux pouvant être substitués et contenir des hétéroatomes.
Les organoacyloxysilanes sont des composés ayant des applications très variées parmi lesquelles on peut citer la synthèse de produits pharmaceutiques et de liants réactifs.
Par ailleurs, dans le cas où R dans la formule (I) ci-dessus est un radical insaturé polymérisable, notamment un radical CH2=C (CH3)- ou CH2=CH-, ces organoacyloxysilanes représentent une famille de monomères dont certains sont
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connus pour leur utilisation en tant que monomères hydrolysables servant à la préparation de liants dans le domine des peintures marines antisalissures ( antifouling ), autolissantes, destinées par exemple au revêtement des coques de bateaux ou plus généralement des matériaux en contact avec le milieu marin (brevets américains US-A-4 593 055 et US-A-4 687 792).
Différentes voies de synthèse sont décrites dans la littérature pour fabriquer les organoacyloxysilanes.
A titre d'exemples, on peut citer : - la réaction entre un chlorosilane et un acide carboxylique : Gilman J. Am. Chem. Soc. 71,2066 (1949) ;
J. Polym. Sci. Al, 8,319 (1970) ; Eur. Polym. J., vol. 28, n 4, 335-338 (1992) ; US-A-4 593 055 ;
JP-A-04-342 593 ; JP-A-04-342 595 ; - la réaction entre un chlorosilane et un sel d'acide carboxylique : Larsson, Trans. Chalm. Univ. 25, non15, 9, (1951) ; Eur. Polym. J. vol. 28, n 4, 335-339 (1992) ;
Andreev Zh. Obsch. Khim. 30,2782 (1960) ; - la réaction entre un chlorosilane et un anhydride d'acide carboxylique : Dolgov J. Gen. Chem. 1967,27, 1593 ; - la réaction entre un organosilane et un-acide carboxylique : JP-A-04-154 790 ; JP-A-05-25 187 ;
JP-A-10-212 293 ; J. Gen. Chem. USSR, 24,859-65 (1954) ;
Zhur. Obshchei Khim. 24,861-8 (1954) ; - la réaction entre un polyalcoxysilane et l'anhydride acétique : Friedel & Crafts, Ann. Chim. et Phys. 4 (9), 5 (1866) ; Post, J. Org. Ch. 16,387, (1951) ; J. Indian
Chem. Soc. Vol. 39, n 12, (1962).
J. Polym. Sci. Al, 8,319 (1970) ; Eur. Polym. J., vol. 28, n 4, 335-338 (1992) ; US-A-4 593 055 ;
JP-A-04-342 593 ; JP-A-04-342 595 ; - la réaction entre un chlorosilane et un sel d'acide carboxylique : Larsson, Trans. Chalm. Univ. 25, non15, 9, (1951) ; Eur. Polym. J. vol. 28, n 4, 335-339 (1992) ;
Andreev Zh. Obsch. Khim. 30,2782 (1960) ; - la réaction entre un chlorosilane et un anhydride d'acide carboxylique : Dolgov J. Gen. Chem. 1967,27, 1593 ; - la réaction entre un organosilane et un-acide carboxylique : JP-A-04-154 790 ; JP-A-05-25 187 ;
JP-A-10-212 293 ; J. Gen. Chem. USSR, 24,859-65 (1954) ;
Zhur. Obshchei Khim. 24,861-8 (1954) ; - la réaction entre un polyalcoxysilane et l'anhydride acétique : Friedel & Crafts, Ann. Chim. et Phys. 4 (9), 5 (1866) ; Post, J. Org. Ch. 16,387, (1951) ; J. Indian
Chem. Soc. Vol. 39, n 12, (1962).
Les voies de synthèse décrites dans la littérature présentent, à un titre ou un autre, nombre de désavantages que la Société déposante a réussi à surmonter en effectuant
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la synthèse à partir d'un silane ou d'un alcoxyorganosilane, d'un anhydride d'acide carboxylique et éventuellement d'un acide carboxylique comme troisième réactif.
Le procédé selon l'invention pour la préparation des organoacyloxysilanes correspondant à la formule (I) définie ci-dessus, permet d'obtenir ceux-ci dans de bonnes conditions de conversion, sélectivité, productivité, sans rejets, sans séparation de solides, et sans génération de dihydrogène. De ce fait, la fabrication des organoacyloxysilanes (I) peut se faire en toute sécurité dans de simples réacteurs agités, chauffés, en simple acier inoxydable, contrairement aux procédés qui génèrent du dihydrogène ou du chlorure d'hydrogène comme sous-produits.
En outre ce procédé ne nécessite pas de lourdes étapes unitaires de filtration, lavage, séchage de solides.
Dans la demande de brevet français n 01-08998 déposée le 6 juillet 2001, est décrite la fabrication des composés de formule (a) :
2 3 où R représente hydrogène ou méthyle et R, R2, R3 représentent chacun indépendamment alkyle en Ci-Cio, linéaire ou ramifié, aryle ou aralkyle, ces radicaux pouvant être substitués et pouvant contenir des hétéroatomes, par réaction de l'anhydride :
avec un composé silané R4OSi(R1R2R3), R4 représentant hydrogène ou un radical entrant dans la définition qui vient
2 3 d'être donnée pour R1, R2 et R3. La présente invention porte sur de nouveaux développements du procédé décrit par la Société déposante dans sa précédente demande 01-08998.
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La présente invention a donc d'abord pour objet un procédé de fabrication d'un organoacyloxysilane de formule (I), tel que défini dans le paragraphe d'introduction de la présente description, caractérisé par le fait que l'on fait réagir un précurseur silané de formule (II) :
dans laquelle :
1 2 3 R, R et R3 sont représentent chacun indépendamment alkyle en Cl-Clo, linéaire ou ramifié, aryle ou aralkyle, ces radicaux pouvant être substitués et pouvant contenir des hétéroatomes ; et
A représente hydrogène ou -OR4, R4 représentant un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Cl-Clo, un radical aryle ou un radical arylalkyle, ces radicaux pouvant être substitués et contenir des hétéroatomes, avec un anhydride carboxylique de formule (III) ou (IV) :
dans laquelle B représente un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Clo, un radical alcényle CrC1o, un radical aryle, un radical aralkyle, ou un radical aryl-alcényle ;
dans laquelle D est un groupement divalent choisi parmi les radicaux alkylène en C2 (- (CH2) 2-), alcénylène en
dans laquelle :
1 2 3 R, R et R3 sont représentent chacun indépendamment alkyle en Cl-Clo, linéaire ou ramifié, aryle ou aralkyle, ces radicaux pouvant être substitués et pouvant contenir des hétéroatomes ; et
A représente hydrogène ou -OR4, R4 représentant un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Cl-Clo, un radical aryle ou un radical arylalkyle, ces radicaux pouvant être substitués et contenir des hétéroatomes, avec un anhydride carboxylique de formule (III) ou (IV) :
dans laquelle B représente un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Clo, un radical alcényle CrC1o, un radical aryle, un radical aralkyle, ou un radical aryl-alcényle ;
dans laquelle D est un groupement divalent choisi parmi les radicaux alkylène en C2 (- (CH2) 2-), alcénylène en
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C2 (-CH=CH-), arylène, arylène-alkylène et arylènealcénylène,
ce qui conduit à un composé (I) dans laquelle R représente
respectivement B ou-D-C-A, il Il o
ladite réaction pouvant également être conduite avec un acide carboxylique de formule (V) comme co-réactif
dans laquelle R5 représente un radical alkyle en C2-Cio, linéaire ou ramifié, un radical aryle, un radical aralkyle, un radical alcényle en C2-C1O ou un radical aryl-alcényle, ces radicaux pouvant être substitués et pouvant contenir des hétéroatomes, auquel cas le composé de formule (I) obtenu est un composé
5 dans lequel R représente R, la réaction d'un composé (II) avec A =-oR4 et d'un composé (III) ne pouvant être réalisée qu'avec un co-réactif (V) dans le cas de la préparation d'un composé (I) avec R = CH2=CH- ou CH=C (CH3)-.
ce qui conduit à un composé (I) dans laquelle R représente
respectivement B ou-D-C-A, il Il o
ladite réaction pouvant également être conduite avec un acide carboxylique de formule (V) comme co-réactif
dans laquelle R5 représente un radical alkyle en C2-Cio, linéaire ou ramifié, un radical aryle, un radical aralkyle, un radical alcényle en C2-C1O ou un radical aryl-alcényle, ces radicaux pouvant être substitués et pouvant contenir des hétéroatomes, auquel cas le composé de formule (I) obtenu est un composé
5 dans lequel R représente R, la réaction d'un composé (II) avec A =-oR4 et d'un composé (III) ne pouvant être réalisée qu'avec un co-réactif (V) dans le cas de la préparation d'un composé (I) avec R = CH2=CH- ou CH=C (CH3)-.
La réaction d'un composé (II) et d'un composé (III) pour la préparation d'un (méth) acrylate (I) est déjà décrite dans la demande de brevet français n 01-08998 précitée.
Ainsi, pour préparer un (méth) acrylate silané, on peut, conformément à cette précédente demande, faire réagir un composé R1R2R3SiA avec l'anhydride (méth) acrylique, ou conformément à la présente invention, faire réagir le composé RRRSiA avec un mélange d'anhydride symétrique (III) (et plus particulièrement d'anhydride acétique) et d'acide (méth) acrylique. La présente invention offre donc une voie d'accès supplémentaire pour de tels (méth) acrylates silanés.
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Dans les formules ci-dessus : les radicaux R1 à R4 peuvent être substitués par exemple par des atomes d'halogène, tels que Cl, Br, ou des groupements-NRR (R et R représentant des groupements alkyle en Cl à Cg) ; également, la chaîne de ces radicaux peut être interrompue par un hétéroatome tel que 0 et S.
2 3 Par ailleurs, R1, R, R3 et R4 sont choisis notamment parmi les radicaux méthyle, éthyle, n-propyle, isopropyle, nbutyle, isobutyle, tert.-butyle, phényle et alkylphényle avec alkyle en Ci-Cio ; - B est notamment choisi parmi les radicaux méthyle, éthyle, n-propyle, isopropyle, n-butyle, isobutyle, tert.-butyle, phényle ; D représente notamment -(CH2)2- ou -CH=CH- ; et le radical R5 peut être substitué par des atomes d'halogène, tels que Cl ou Br, ou des groupements-NRR (R et R9 représentant des groupements alkyle en Cl à Cg) ; également, la chaîne de ce radical peut être interrompue par un hétéroatome, tel que 0 et S. Par ailleurs, R5 est choisi notamment parmi les radicaux éthyle, n-propyle,
isopropyle, n-butyle, isobutyle, tert.-butyle, H2C=CH-, H2C=C (CH3)-.
isopropyle, n-butyle, isobutyle, tert.-butyle, H2C=CH-, H2C=C (CH3)-.
Selon l'invention, on peut charger tous les réactifs au départ dans le réacteur (y compris le co-réactif (V) lorsqu'il est utilisé) ou bien ne charger qu'une partie des réactifs au départ dans le réacteur.
Dans un mode de réalisation préféré du procédé selon la présente invention, les réactifs (II), (III) (ou (IV) ) sont introduits en une fois à la charge, le composé (V) étant pour sa part, lorsqu'il est mis en oeuvre, introduit après 1 à 2 heures de mise en réaction des réactifs (II), (III) (ou (IV) ) et sur une durée de coulée de 1 à 3 heures.
On conduit avantageusement la réaction de l'invention avec un rapport molaire composé (II)/composé (III) ou composé (IV) qui est compris entre 0, 3/1 et 3/1,
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bien que des rapports molaires inférieurs à 0, 3/1 ou supérieurs à 3/1 puissent théoriquement être utilisables.
Conformément à une réalisation préférée de l'invention, on conduit la réaction avec un rapport molaire composé (II)/ composé (III) ou composé (IV) qui est compris entre 0, 7/1 et 2/1, de préférence entre 0, 7/1 et 1, 2/1.
Par ailleurs, on conduit avantageusement la réaction de l'invention avec un rapport molaire composé (II) /composé (V) qui est compris entre 0, 3/1 et 3/1, et notamment entre 0, 4/1 et 1, 2/1.
On conduit avantageusement la réaction de l'invention à une température de 50 à 200 C selon le type de composé (I) préparé. Si cela est possible, on opère de préférence à une température de 70 à 1500C, en particulier si le composé (I) recherché est polymérisable. La réaction de l'invention est conduite à la pression atmosphérique ou sous une pression supérieure ou inférieure à la pression atmosphérique.
Le suivi de l'avancement de la réaction de l'invention est effectué à l'aide des méthodes analytiques usuelles, telles que la chromatographie en phase gazeuse par exemple. La durée de mise en réaction est fonction des conditions opératoires et de la nature des réactifs (II) et (III) ou (IV) et le cas échéant (V) engagés dans la synthèse.
Elle est généralement comprise entre 4 et 20 heures. Les durées de mise en réaction supérieures à 10 heures peuvent être observées dans le cas de précurseurs silanés peu réactifs, plus particulièrement lorsqu'on utilise comme précurseur silané le composé (II) avec A = H.
Les sous-produits légers de réaction sont éliminés par distillation au fur et à mesure de leur formation.
La réaction de l'invention (entre les réactifs (II) et (III) ou (IV) et le cas échéant (V) ) est avantageusement effectuée avec au moins un catalyseur. Parmi les catalyseurs utilisables, individuellement ou en mélange de deux d'entre eux ou davantage, on peut citer le 1-méthylimidazole, la N, N-
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diméthyl-4-pyridinamine, la 4- (4-méthyl-1-pipéridinyl) - pyridine, la 4-morpholinopyridine, les triflates, la tributylphosphine, la triéthylamine, les montmorillonites telles que les montmorillonites K10 et KSF, et les acides de Lewis tels que le chlorure de zinc et le chlorure d'étain, le ou les catalyseurs étant utilisés généralement à raison de 0,05 à 1% en poids par rapport au mélange de réactifs.
L'utilisation de quantités supérieures de catalyseur est possible sans que cela n'apporte un gain supplémentaire en terme de réduction de la durée de réaction. Les catalyseurs
préférés sont le 1-méthylimidazole, la N, N-diméthyl-4pyridinamine, la 4- (4-méthyle-1 pipéridinyl) pyridine, les acides de Lewis tel que ZnClz.
préférés sont le 1-méthylimidazole, la N, N-diméthyl-4pyridinamine, la 4- (4-méthyle-1 pipéridinyl) pyridine, les acides de Lewis tel que ZnClz.
Par ailleurs et si les réactifs utilisés ou le produit (I) formé sont facilement polymérisables (acides ou esters (méth) acryliques par exemple), le procédé selon la présente invention est avantageusement mis en oeuvre en présence d'au moins un inhibiteur de polymérisation choisi notamment parmi l'hydroquinone, l'éther monométhylique de l'hydroquinone, la phénothiazine, le 2,2, 5, 5-tétraméthyl-lpyrrolidinyloxy (TEMPO) et ses homologues tels que le 3carboxy-2,2, 5, 5-tétraméthyl-1-pyrrolidinyloxy, le 2,2, 6,6-
tétraméthyl-1-pipéridinyloxy, le 4-hydroxy-2, 2, 6, 6tétraméthyl-1-pipéridinyloxy, le 4-méthoxy-2, 2, 6, 6tétraméthyl-l-pipéridinyloxy et le 4-oxo-2, 2, 6, 6-tétraméthyl- 1-pipéridinyloxy, et les inhibiteurs phénoliques encombrés tels que le 2, 4-diméthyl-6-tert.-butyl phénol et le 2, 6-ditert.-butyl paracrésol, et leurs homologues, le ou les inhibiteurs de polymérisation étant utilisés à raison de 0,05 à 0,5 % en poids par rapport au mélange de réactifs.
tétraméthyl-1-pipéridinyloxy, le 4-hydroxy-2, 2, 6, 6tétraméthyl-1-pipéridinyloxy, le 4-méthoxy-2, 2, 6, 6tétraméthyl-l-pipéridinyloxy et le 4-oxo-2, 2, 6, 6-tétraméthyl- 1-pipéridinyloxy, et les inhibiteurs phénoliques encombrés tels que le 2, 4-diméthyl-6-tert.-butyl phénol et le 2, 6-ditert.-butyl paracrésol, et leurs homologues, le ou les inhibiteurs de polymérisation étant utilisés à raison de 0,05 à 0,5 % en poids par rapport au mélange de réactifs.
La réaction selon l'invention est avantageusement effectuée en présence d'air. La fin de réaction est déterminée par analyse du milieu réactionnel (par CPG par exemple).
La réaction selon l'invention conduit à un mélange brut contenant, outre le composé (I), des produits légers, à
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la suite de quoi ledit mélange peut être débarrassé des composés les plus légers par distillation (étêtage) ou peut être soumis, pour obtenir le composé (I) pur, à une distillation, généralement à l'aide d'une colonne à distiller pour les composés (I) plus volatils ou d'un évaporateur à film mince à court temps de séjour pour ceux qui ont les points d'ébullition les plus élevés (de tels évaporateurs à film mince à court temps de séjour permettent d'effectuer la distillation à des vides inférieurs à 1, 33 x 102 Pa (1 mmHg)).
Dans le cas où le composé (I) recherché comporte une insaturation polymérisable, la présente invention porte également sur l'utilisation du mélange brut ou débarrassé des composés les plus légers ou du composé (I) pur, tel qu'obtenu par le procédé ci-dessus, comme monomère (s) hydrolysable (s) d'une composition de monomères dont la polymérisation conduit à un liant destiné aux peintures marines antisalissures autolissantes. Le liant est généralement présent dans la composition de peinture à raison de 10 à 30% en poids (à l'état sec).
La composition de peinture comprend les autres ingrédients usuels, tels que : les adjuvants, comme la lécithine de soja, l'huile de ricin hyrogénée modifiée, les stabilisants de viscosité (tels que le Viscostab CNF 896 fabriqué par la Société
ATOFINA) ; les pigments et charges, tels que l'oxyde de zinc non aciculaire, l'oxyde cuivreux et l'oxyde de titane rutile ; et les solvants et diluants tels que le solvant naphta, le toluène et le xylène.
ATOFINA) ; les pigments et charges, tels que l'oxyde de zinc non aciculaire, l'oxyde cuivreux et l'oxyde de titane rutile ; et les solvants et diluants tels que le solvant naphta, le toluène et le xylène.
Les Exemples suivants illustrent la présente invention sans toutefois en limiter la portée. Les pourcentages sont exprimés en poids sauf indication contraire. Les abréviations utilisées sont les suivantes :
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. AMA : acide méthacrylique . AA : acide acrylique . Bu3SiH : tri (n-butyl) silane . Bu3SiOMe : tri (n-butyl) méthoxysilane . Me2tBuSiOMe : diméthylterbutylméthoxysilane . Bu3SiMA : méthacrylate de tri (n-butyl) silyle
. Me2tBuSiMA : méthacrylate de diméthylterbutylsilyle . Bu3SiA : acrylate de tri (n-butyl) silyle . l-MIM : 1-méthylimidazole (catalyseur) . BHT : 2, 6-di-tert.-butyl-paracrésol (inhibiteur de polymérisation) - TOPANOL A : 2, 4-diméthyl-6-tert.-butylphénol (inhibiteur de polymérisation) . Me : radical méthyle 'Et : radical éthyle . Bu : radical n-butyle # tBu : radical tert.-butyle EXEMPLE 1 : Préparation du composé de formule :
. Me2tBuSiMA : méthacrylate de diméthylterbutylsilyle . Bu3SiA : acrylate de tri (n-butyl) silyle . l-MIM : 1-méthylimidazole (catalyseur) . BHT : 2, 6-di-tert.-butyl-paracrésol (inhibiteur de polymérisation) - TOPANOL A : 2, 4-diméthyl-6-tert.-butylphénol (inhibiteur de polymérisation) . Me : radical méthyle 'Et : radical éthyle . Bu : radical n-butyle # tBu : radical tert.-butyle EXEMPLE 1 : Préparation du composé de formule :
Dans un réacteur en verre, agité mécaniquement, chauffé, surmonté par une colonne à distiller (garnissage Sultzer - efficacité de 15 plateaux théoriques) avec tête de reflux, recette et pièges, l'ensemble pouvant fonctionner sous vide, on introduit : - 102 g (1 mole) d'anhydride acétique ; - 1 g de chlorure de zinc (ZnCl2).
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On chauffe le mélange à 100 C, et on introduit à cette température 1 g de BHT et 1 g de TOPANOL A. On introduit alors 230 g de Bu3SiOMe (1 mole) et 172 g d'AMA (2 moles). On maintient un bullage d'air durant toute la synthèse. Les sous-produits légers formés sont éliminés au fur et à mesure de l'avancement de la réaction par distillation.
La réaction est effectuée à une température comprise entre 100 et 140 C. La pression de service est ajustée au fur et à mesure de l'avancement de la réaction entre la pression atmosphérique et 1,33 x 104 Pa (100 mm Hg) afin de maintenir la température de réaction à 140 C maximum.
La durée de réaction est de 6 heures.
Le brut réactionnel est ensuite distillé sous pression réduite (pression d'environ à 9,33 x 102 Pa (7 mmHg) - température de distillation : environ 135 C).
La pureté du produit obtenu en final est supérieure à 97%.
Le rendement de la synthèse est d'environ 93%.
Le résidu de distillation est parfaitement fluide et recyclable à une opération ultérieure.
EXEMPLE 2 : Préparation du composé de formule :
On a procédé comme à l'Exemple 1, excepté que l'on a remplacé le ZnClz par de la 4- (4-méthyle-1 pipéridinyl) pyridine comme catalyseur à raison de 0, 01 mole/ mole de Bu3SiOMe.
Le rendement calculé au stade du brut, après étêtage des sous-produits légers est d'environ 94%.
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EXEMPLE 3 : Préparation du composé de formule :
On a procédé comme à l'Exemple 1, excepté que l'on a remplacé le ZnCl2 par du 1-MIM comme catalyseur à raison de 0,01 mole/mole de Bu3SiOMe.
Après étêtage, le rendement en MASiBu3 est d'environ 95%.
EXEMPLE 4 : Préparation du composé de formule :
Dans l'appareillage décrit à l'Exemple 1, on charge 146 g (1 mole) de Me2tBuSiOMe et 102 g (1 mole) d'anhydride acétique. On ajoute 0,5 g de ZnCl2 (catalyseur), 0,7 g de BHT et 0,7 g de TOPANOL A.
La totalité de la synthèse est effectuée sous bullage d'air.
La température du milieu est portée à 115 C sous pression atmosphérique.
Après 1 heure de mise en réaction, 81,7 g (0,95 mole) d'AMA sont introduits en continu en 3 heures, tout en éliminant les sous-produits légers au fur et à mesure de leur formation par distillation.
La durée de la réaction est de 6 heures.
Le Me2tBuSiMA formé est distillé sous pression réduite à 107 C/9, 33 x 102 Pa (7 mmHg).
Le résidu de distillation est recyclé à l'opération suivante. Le Me2tBuSiMA est obtenu avec un rendement supérieur à 95 % et une pureté de 97,2 %.
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EXEMPLE 5 : Préparation du tributylacétoxysilane
Dans une installation du type de celle décrite à l'Exemple 1, on charge 40 g (0,2 mole) de Bu3SiH, 30,4 g (0,3 mole) d'anhydride acétique, 0, 1 g de ZnCl2.
On chauffe le mélange à pression atmosphérique en maintenant dans le réacteur une température comprise entre 110 C et 1300C pendant 20 heures tout en éliminant l'acétaldéhyde formé par distillation au fur et à mesure de sa formation.
Le brut obtenu en final (59 g) contient 70, 1 % d'acétoxytributylsilane, 18,5 % de tributylsilane et 11, 1 % d'anhydride acétique.
EXEMPLE 6 : Préparation du triéthylacétoxysilane
On reprend l'Exemple 5 en utilisant du triéthylsilane en lieu et place du tributylsilane.
On charge 69, 1 g (0,7 mole) d'anhydride acétique et 0,3 g de ZnCIs (dans l'anhydride préalablement chauffé à 80 C). On charge ensuite 0, 1 g de BHT, 0,3 g de TOPANOL A et 65,8 g (0,55 mole) de triéthysilane.
Le mélange est chauffé à une température comprise entre 90 et 120 C pendant 9h en distillant l'acétaldéhyde généré au fur et à mesure de sa formation. On obtient en final un brut qui a la composition suivante :
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<tb>
<tb> Triéthylsilane.......... <SEP> 2,2%
<tb> Anhydride <SEP> acétique <SEP> 5,4%
<tb> Triéthysilanol........... <SEP> 5,5%
<tb> Triéthylacétoxysilane.... <SEP> 80,3%
<tb>
Le rendement en triéthylacétoxysilane est de 96%.
<tb> Triéthylsilane.......... <SEP> 2,2%
<tb> Anhydride <SEP> acétique <SEP> 5,4%
<tb> Triéthysilanol........... <SEP> 5,5%
<tb> Triéthylacétoxysilane.... <SEP> 80,3%
<tb>
Le rendement en triéthylacétoxysilane est de 96%.
EXEMPLE 7 : Préparation du composé de formule :
Dans l'appareillage décrit à l'Exemple 1, on charge 106,7 g (0,45 mole) de Bu3SiOMe, 45,45 g d'anhydride succinique (0,45 mole) préalablement dissous dans 53 g d'acide acétique et 0,23 g de ZnCl2.
On chauffe le mélange à une température comprise entre 100 et 1300C pendant 6 heures à la pression atmosphérique.
On élimine ensuite les produits légers par distillation à une température comprise entre 3,99 x 104 Pa (300 mmHg) en début de distillation et 2,66 x 103 Pa (20 mmHg) en fin de distillation. La température en pied est comprise entre 130 et 150 C.
On obtient en final 146 g de brut ayant la composition suivante : - 0, 70% du composé :
- 91, 7% du composé de l'intitulé ; et
- 91, 7% du composé de l'intitulé ; et
<Desc/Clms Page number 15>
- 7, 2% du composé :
EXEMPLE 8 : Préparation du composé de formule :
EXEMPLE 8 : Préparation du composé de formule :
Dans l'appareillage décrit à l'Exemple 1, on charge : - 80 g (0,61 mole) d'anhydride propionique ; - 128, 6 g (0,56 mole) de Bu3SiOMe ; et - 0, 28 g de ZnCl2.
On porte le mélange à une température comprise entre 140 et 1700C pendant 6 heures sous pression atmosphérique en distillant le propionate de méthyle formé au fur et à mesure de sa formation.
On obtient en final 161,2 g de brut contenant 95,1% du composé de l'intitulé.
EXEMPLE 9 : Préparation du composé de formule :
On reprend l'Exemple 8 en remplaçant l'anhydride propionique par de l'anhydride butyrique.
On charge 80 g d'anhydride butyrique, 105,8 g de Bu3SiOMe et 0,23 g de ZnCis.
<Desc/Clms Page number 16>
On porte le mélange à une température comprise entre 150 et 180 C sous pression atmosphérique pendant 3 heures tout en distillant les produits légers.
On obtient en final 132,6 g de brut contenant 94, 8% du composé de l'intitulé.
EXEMPLE 10 : Préparation du composé de formule :
Dans l'installation décrite à l'Exemple 1, on charge : 204, 0 g (2 moles) d'anhydride acétique, 0, 5 g de ZnCl2 (dans l'anhydride préalablement chauffé à 100 C), 469, 4 g (2 moles) de Bu3SiOMe, 0, 86 g de BHT et 0, 86 g de TOPANOL A.
On porte la température du mélange à 100 C sous pression atmosphérique. Après 1 heure de mise en réaction, on charge 187, 2 g (2, 6 moles) d'AA sous forme d'une coulée continue (durée d'introduction Ih) tout en distillant les sous-produits légers formés.
La température du milieu réactionnel est maintenue entre 100 et 140 C en ajustant la pression entre 1, 01 x 105 Pa (760 mmHg) et 2, 27 x 104 Pa (170 mmHg).
On obtient en final 430 g de brut qui est purifié par distillation.
L'acrylate de tributylsilane (Bu3SiA) est distillé à une pression comprise entre 1, 73 x 103 Pa (13 mmHg) et 1, 99 x 103 Pa à une température de 138 C environ.
On obtient ainsi un produit à 98, 5% de pureté avec un rendement de 95%.
Claims (2)
1 2 3 4 le fait que RI, R2, R3 et R4 sont choisis parmi les radicaux méthyle, éthyle, n-propyle, isopropyle, n-butyle, isobutyle, tert.-butyle, phényle et alkylphényle avec alkyle en Cl-Cl0.
3-Procédé selon l'une des revendications 1 et 2, caractérisé par le fait que B est choisi parmi les radicaux méthyle, éthyle, n-propyle, isopropyle, n-butyle, isobutyle, tert.-butyle, phényle.
4-Procédé selon l'une des revendications 1 et 2, caractérisé par le fait que D représente notamment- (CHs) ou-CH=CH-.
5-Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé par le fait que R5 est choisi parmi les radicaux éthyle, n-propyle, isopropyle, n-butyle, isobutyle, tert.-butyle, PC=CH-, H2C=C (CH3)-.
6-Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé par le fait que l'on charge au départ dans le réacteur tous les réactifs ou une partie de ces réactifs.
7-Procédé selon la revendication 6, caractérisé par le fait que l'on introduit les réactifs (II), (III) (ou (IV)) en une fois à la charge, le composé (V) étant pour sa part, lorsqu'il est mis en oeuvre, introduit après 1 à 2 heures de mise en réaction des réactifs (II), (III) (ou (IV) ) et sur une durée de coulée de 1 à 3 heures.
8-Procédé selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé par le fait que l'on conduit la réaction avec un rapport molaire composé (II) /composé (III) ou composé (IV)
<Desc/Clms Page number 20>
qui est compris entre 0, 3/1 et 3/1, notamment entre 0, 7/1 et 2/1 et, de préférence, entre 0, 7/1 et 1, 2/1.
9-Procédé selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé par le fait que l'on conduit la réaction avec un rapport molaire composé (II) /composé (V) qui est compris entre 0, 3/1 et 3/1, et notamment entre 0, 4/1 et 1, 2/1.
10-Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé par le fait que l'on conduit la réaction à une température de 50 à 200 C, de préférence de 70 à 150 C.
11-Procédé selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé par le fait que l'on conduit la réaction à la pression atmosphérique ou à une pression inférieure ou supérieure à la pression atmosphérique.
12-Procédé selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisé par le fait que l'on élimine les sous-produits légers de réaction au fur et à mesure de leur formation.
13-Procédé selon l'une des revendications 1 à 12, caractérisé par le fait que l'on conduit la réaction pendant une durée de 4 à 20 heures.
14-Procédé selon l'une des revendications 1 à 13, caractérisé par le fait que l'on conduit la réaction en présence d'au moins un catalyseur choisi notamment parmi le 1-méthylimidazole, la N, N-diméthyl-4-pyridinamine, la 4- (4- méthyl-1-pipéridinyl) pyridine, la 4-morpholinopyridine, les triflates, la tributylphosphine, la triéthylamine, les montmorillonites telles que les montmorillonites et les acides de Lewis tels que le chlorure de zinc et le chlorure d'étain, le ou les catalyseurs étant utilisés généralement à raison de 0,05 à 1% en poids par rapport au mélange de réactifs.
15-Procédé selon l'une des revendications 1 à 14, caractérisé par le fait que l'on conduit la réaction en présence d'au moins un inhibiteur de polymérisation choisi notamment parmi l'hydroquinone, l'éther monométhylique de l'hydroquinone, la phénothiazine, le 2,2, 5, 5-tétraméthyl-1- pyrrolidinyloxy et ses homologues tels que le 3-carboxy-
<Desc/Clms Page number 21>
2, 2, 5, 5-tétraméthyl-1-pyrrolidinyloxy, le 2, 2, 6, 6tétraméthyl-1-pipéridinyloxy, le 4-hydroxy-2, 2, 6, 6tétraméthyl-1-pipéridinyloxy, le 4-méthoxy-2, 2, 6, 6- tétraméthyl-1-pipéridinyloxy et les inhibiteurs phénoliques encombrés, le ou les inhibiteurs de polymérisation étant utilisés à raison de 0,05 à 0,5 % en poids par rapport au mélange des réactifs.
16-Procédé selon l'une des revendications 1 à 15, caractérisé par le fait qu'il conduit à un mélange brut contenant, outre le composé (I), des produits légers, à la suite de quoi ledit mélange peut être débarrassé des composés les plus légers par distillation ou peut être soumis à une distillation pour obtenir le composé (I) pur.
17-Utilisation du mélange brut ou débarrassé des composés les plus légers ou du composé (I) pur, tel qu'obtenu par le procédé de l'une des revendications 1 à 16, le composé (I) comportant une insaturation polymérisable, comme monomère (s) hydrolysable (s) d'une composition de monomères dont la polymérisation conduit à un liant destiné aux peintures marines antisalissures autolissantes.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0202427A FR2836473B1 (fr) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | Procede de fabrication d'organoacyloxysilanes |
| PCT/FR2003/000564 WO2003072662A1 (fr) | 2002-02-26 | 2003-02-20 | Procede de fabrication d'organoacyloxysilanes |
| AU2003222584A AU2003222584A1 (en) | 2002-02-26 | 2003-02-20 | Method of producing organoacyloxysilanes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0202427A FR2836473B1 (fr) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | Procede de fabrication d'organoacyloxysilanes |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2836473A1 true FR2836473A1 (fr) | 2003-08-29 |
| FR2836473B1 FR2836473B1 (fr) | 2004-07-30 |
Family
ID=27676088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR0202427A Expired - Fee Related FR2836473B1 (fr) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | Procede de fabrication d'organoacyloxysilanes |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| AU (1) | AU2003222584A1 (fr) |
| FR (1) | FR2836473B1 (fr) |
| WO (1) | WO2003072662A1 (fr) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111886304B (zh) * | 2018-04-20 | 2022-02-01 | 日东化成株式会社 | 防污涂料组合物 |
| SG11202009575PA (en) * | 2018-04-20 | 2020-11-27 | Nitto Kasei Co Ltd | Antifouling coating composition |
| KR102690985B1 (ko) * | 2021-02-26 | 2024-08-05 | (주)엘립스진단 | 신규한 전기화학발광 공반응물 및 이를 포함하는 전기화학발광 시스템 |
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Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| FR2826964B1 (fr) * | 2001-07-06 | 2003-09-05 | Atofina | Procede de fabrication de (meth) acrylates silanes |
-
2002
- 2002-02-26 FR FR0202427A patent/FR2836473B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-02-20 WO PCT/FR2003/000564 patent/WO2003072662A1/fr not_active Application Discontinuation
- 2003-02-20 AU AU2003222584A patent/AU2003222584A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2836473B1 (fr) | 2004-07-30 |
| AU2003222584A1 (en) | 2003-09-09 |
| WO2003072662A1 (fr) | 2003-09-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ST | Notification of lapse |
Effective date: 20051031 |