FR2787610A1 - INTEGRATED CIRCUIT BOARD CAPABLE OF PREVENTING A SEMICONDUCTOR CHIP MOUNTED ON IT TO FRACTURE - Google Patents

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Abstract

Carte à circuit intégré, qui peut supporter une charge qui est appliquée à celle-ci sous forme d'une flexion ou d'une application de pression en un point et permet d'empêcher une puce de semiconducteur de se fracturer. La carte à circuit intégré (1) présente une structure à trois couches comprenant une feuille de circuit (2), une feuille intermédiaire (3), et une feuille de couverture (4). Sur une première surface de la feuille de circuit, un motif de circuit (5) et une puce de semiconducteur (6) sont disposés, la puce de semiconducteur est moulée avec un élément de joint (7), et une plaque de renfort (10) faite d'une plaque inoxydable est disposée juste au-dessus de l'élément de joint. Lorsque la plaque de renfort présente un module d'Young de 100 à 300 GPa et que l'épaisseur totale de la carte à circuit intégré est à l'intérieur de 400 à 900 m, l'épaisseur t de la plaque de renfort est sélectionnée pour satisfaire l'une des équations suivantes (1), (2).t > (1,04 x 10-6 )T4 - (5,26 x 10-4 ) T3 + (1,02 x 10-1 )T2 - 9,12T + 3,55 x 102 --(1) t > (7,22 x 10-7 )T4 - (4,0 x 10-4 ) T3 + (8,08 x 10-1 )T2 - 7,61T + 3,3 x 102 --(2) Ici, T représente l'épaisseur de la puce de semiconducteur.Integrated circuit board, which can withstand a load which is applied to it in the form of bending or pressure application at a point and helps to prevent a semiconductor chip from fracturing. The IC card (1) has a three-layer structure including a circuit sheet (2), an intermediate sheet (3), and a cover sheet (4). On a first surface of the circuit sheet, a circuit pattern (5) and a semiconductor chip (6) are arranged, the semiconductor chip is molded with a gasket member (7), and a backing plate (10 ) made of a stainless plate is arranged just above the sealing element. When the backing plate has a Young's modulus of 100 to 300 GPa and the total thickness of the IC board is within 400 to 900 µm, the thickness t of the backing plate is selected to satisfy one of the following equations (1), (2).t > (1.04 x 10-6 )T4 - (5.26 x 10-4 ) T3 + (1.02 x 10-1 )T2 - 9.12T + 3.55 x 102 --(1) t > (7.22 x 10-7 )T4 - (4.0 x 10-4 ) T3 + (8.08 x 10-1 )T2 - 7.61T + 3.3 x 102 --(2) Here, T represents the thickness of the semiconductor chip.

Description

i 2787610i 2787610

CARTE A CIRCUIT INTEGRE CAPABLE D'EMPECHER UNE PUCE DE  CARD WITH INTEGRATED CIRCUIT CAPABLE OF PREVENTING A CHIP OF

SEMICONDUCTEUR MONTEE SUR CELLE-CI DE SE FRACTURER  SEMICONDUCTOR MOUNTED ON IT TO FRACTURE

DescriptionDescription

Cette invention se rapporte à une carte à circuit intégré (CI), et en particulier à une carte à circuit intégré comportant une puce de semiconducteur ayant une fonction d'unité centrale etc..., et en particulier à une carte à circuit intégré capable d'empêcher une puce de semiconducteur de se fracturer durant une  This invention relates to an integrated circuit card (IC), and in particular to an integrated circuit card comprising a semiconductor chip having a CPU function etc ..., and in particular to an integrated circuit card capable of to prevent a semiconductor chip from fracturing during a

utilisation réelle.actual use.

En tant que carte classique, une carte du type à enregistrement magnétique telle qu'une carte de paiement, une carte de crédit et autre sont largement utilisées. Ce type de carte est fabriqué en étalant une bande magnétique sur une carte en matière plastique de sorte que les informations enregistrées sur celle-ci sont lues. Dans cette sorte de carte du type à enregistrement magnétique, il se posait un problème en ce que les nformations peuvent être aisément déchiffrées par une tierce personne, et en ce que la capacité d'enregistrer des  As a conventional card, a magnetic-type card such as a credit card, a credit card and the like is widely used. This type of card is made by spreading a magnetic strip on a plastic card so that the information recorded on it is read. In this kind of magnetic recording type card, there was a problem that the information can easily be deciphered by a third party, and that the ability to record

informations est relativement faible.  information is relatively weak.

De ce fait, récemment, une carte à circuit intégré dans laquelle une puce de semiconducteur présentant une fonction de mémoire, une fonction d'unité centrale ou autre est montée sur un substrat du type carte a été développée, et est déjà mise en pratique. En général ce type de carte à circuit intégré comporte une structure à trois couches comprenant une feuille de circuit sur laquelle la puce à semiconducteur présentant un motif de circuit est montée, une feuille intermédiaire comportant un creux pour contenir la puce de semiconducteur et montée sur la feuille de circuit, et une feuille de couverture prévue pour  Thus, recently, an IC card in which a semiconductor chip having a memory function, a CPU function or the like is mounted on a card-type substrate has been developed, and is already practiced. In general, this type of integrated circuit card comprises a three-layer structure comprising a circuit sheet on which the semiconductor chip having a circuit pattern is mounted, an intermediate sheet having a recess for containing the semiconductor chip and mounted on the circuit sheet, and a cover sheet intended for

recouvrir la feuille intermédiaire.  cover the intermediate sheet.

Dans ce cas, la carte à circuit intégré présentant la structure décrite ci-dessus est relativement fragile vis-à-vis  In this case, the integrated circuit card having the structure described above is relatively fragile vis-à-vis

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d'une force de flexion appliquée à la puce de semiconducteur, et peut se trouver mise hors service en raison d'une fracture de la puce de semiconducteur. Pour résoudre ce problème et pour améliorer la caractéristique anti-flexion de la puce de semiconducteur, certaines contre-mesures sont proposées dans les  a bending force applied to the semiconductor chip, and may be disabled due to a fracture of the semiconductor chip. To solve this problem and to improve the anti-bending characteristic of the semiconductor chip, some countermeasures are proposed in the

documents JP A 9-156 265, JP A 9-263 082, par exemple.  JP A 9-156265, JP A 9-263 082, for example.

Une carte à circuit intégré décrite dans le document JP A 9-  An integrated circuit card described in JP A 9-

156 265 est fabriquée grâce aux étapes suivantes. C'est-à-dire qu'une puce de semiconducteur est montée sur un substrat de circuit et une pièce d'espacement comportant un creux pour contenir la puce de semiconducteur est collée au substrat de circuit. En outre, une plaque inoxydable en tant que plaque de renfort présentant une épaisseur d'approximativement 30 pm et formée légèrement plus grande que le creux, est agencée juste au-dessus de la puce de semiconducteur. Après cela, un film de couverture est collé sur la plaque inoxydable. Au contraire, une carte à circuit intégré décrite dans le document JP A 9- 263 082 est fabriquée en collant une plaque inoxydable en tant que plaque de renfort présentant une épaisseur d'approximativement 20 pm sur au moins une surface de côté de la puce de semiconducteur. Après cela, la puce de semiconducteur est modifiée en inter-couche de type feuille, et des feuilles sont collées à la fois sur la surface principale et la surface  156,265 is manufactured by the following steps. That is, a semiconductor chip is mounted on a circuit substrate and a spacer having a recess for containing the semiconductor chip is adhered to the circuit substrate. In addition, a stainless plate as a reinforcing plate having a thickness of approximately 30 μm and formed slightly larger than the hollow, is arranged just above the semiconductor chip. After that, a cover film is glued to the stainless plate. In contrast, an IC card disclosed in JP A 9-263,082 is manufactured by gluing a stainless plate as a backing plate having a thickness of approximately 20 μm on at least one side surface of the chip chip. semiconductor. After that, the semiconductor chip is changed to a sheet-like interlayer, and sheets are glued on both the main surface and the surface.

arrière de l'inter-couche.back of the inter-layer.

Dans ce cas, divers types de charges sont appliqués à la carte à circuit intégré durant son utilisation réelle. En général, la charge est classée en deux types, c'est-à-dire une charge de flexion pour laquelle la carte à circuit intégré se courbe suivant un arc circulaire ou se voile, et une charge de pression en un point pour laquelle une force de pression est appliquée localement à la carte à circuit intégré. Avec ce type de charge, comme la dureté de la puce de semiconducteur est substantiellement améliorée en agençant une plaque de renfort sur au moins une surface de la puce de semiconducteur, elle peut  In this case, various types of charges are applied to the integrated circuit card during its actual use. In general, the load is classified into two types, i.e. a bending load for which the IC card curves in a circular arc or is veiled, and a pressure load at a point where a Pressure force is applied locally to the IC card. With this type of load, since the hardness of the semiconductor chip is substantially improved by arranging a reinforcing plate on at least one surface of the semiconductor chip, it can

empêcher la puce de semiconducteur de se fracturer.  prevent the semiconductor chip from fracturing.

Cependant, conformément à un résultat expérimental, il se trouve que le procédé de renfort classique pour la puce de semiconducteur dans lequel la plaque de renfort est agencée sur une surface de la puce de semiconducteur, ne peut pas toujours empêcher la puce de semiconducteur de se fracturer. C'est-à-dire  However, according to an experimental result, it turns out that the conventional reinforcement method for the semiconductor chip in which the reinforcing plate is arranged on a surface of the semiconductor chip, can not always prevent the semiconductor chip from fracture. That is to say

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qu'il se trouve qu'une contrainte générée dans la puce de semiconducteur peut être augmentée par comparaison à celle sans la plaque de renfort, lorsque la charge est appliquée à la carte à circuit intégré par flexion ou pression sur un point, suivant la relation entre l'épaisseur de la plaque de renfort et  that a constraint generated in the semiconductor chip may be increased compared to that without the backing plate, when the load is applied to the integrated circuit board by bending or pressing on a point, depending on the relationship between the thickness of the reinforcement plate and

l'épaisseur de la puce de semiconducteur.  the thickness of the semiconductor chip.

Cette invention a été conçue au vu de l'arrière-plan décrit jusqu'à présent et son premier but est de réaliser une carte à circuit intégré, qui permet de supporter une charge qui lui est appliquée sous forme d'une flexion ou d'une pression sur un point et permet d'empêcher une puce de semiconducteur de se fracturer. Conformément à la présente invention, une carte à circuit intégré comprenant: un substrat de circuit comportant un circuit conducteur, une puce de semiconducteur montée sur le substrat de circuit, une plaque de renfort stratifiée sur la puce de semiconducteur, afin de renforcer la puce de semiconducteur, et une feuille de couverture stratifiée sur la  This invention has been conceived in view of the background described so far and its first object is to provide an integrated circuit card, which makes it possible to support a load applied to it in the form of a flexion or pressure on a point and prevents a semiconductor chip from fracturing. In accordance with the present invention, an integrated circuit card comprising: a circuit substrate having a conductive circuit, a semiconductor chip mounted on the circuit substrate, a reinforcing plate laminated on the semiconductor chip, for reinforcing the chip of semiconductor, and a laminated cover sheet on the

plaque de renfort, afin de protéger la puce de semiconducteur.  reinforcement plate, to protect the semiconductor chip.

Dans ce cas, lorsque l'épaisseur de la puce de semiconducteur est T, l'épaisseur t de la plaque de renfort est dans une plage  In this case, when the thickness of the semiconductor chip is T, the thickness t of the reinforcing plate is in a range

satisfaisant au moins l'une des équations suivantes (1) et (2).  satisfying at least one of the following equations (1) and (2).

t > (1,04 x 10-6)T4 - (5,26 x 10-4)T3 + (1,02 x 10-1)T2 - 9,12T + 3,55 x 102 ---(1) t > (7,22 x 10-7)T4 - (4,0 x 10-4)T3 + (8, 08 x 10-1)T2 - 7,61T + 3,3 x 102 ---(2) Conformément à la présente invention, comme l'épaisseur t de la plaque de renfort est choisie de façon à satisfaire l'une des équations (1) et (2), elle peut empêcher la puce de semiconducteur de se fracturer même si l'un des cas suivants (A), (B) est provoqué. En outre, lorsque l'épaisseur t de la plaque de renfort est choisie de façon à satisfaire l'équation (2), elle peut empêcher la puce de semiconducteur de se fracturer même si l'un des cas (A), (B) ou le cas suivant (C)  t> (1.04 x 10-6) T4 - (5.26 x 10-4) T3 + (1.02 x 10-1) T2 - 9.12 T + 3.55 x 102 --- (1) t> (7.22 x 10-7) T4 - (4.0 x 10-4) T3 + (8, 08 x 10-1) T2 - 7.61T + 3.3 x 102 --- (2) In accordance with the present invention, since the thickness t of the backing plate is chosen to satisfy one of equations (1) and (2), it can prevent the semiconductor chip from fracturing even if one following cases (A), (B) is caused. In addition, when the thickness t of the reinforcing plate is chosen so as to satisfy equation (2), it can prevent the semiconductor chip from fracturing even if one of the cases (A), (B) or the following case (C)

est provoqué.is provoked.

(A) un premier cas dans lequel l'utilisateur est assis sur une chaise, la carte à circuit intégré étant dans la poche revolver du pantalon, (B) un second cas dans lequel la carte à circuit intégré est pressée par une protubérance relativement pointue telle qu'une  (A) a first case in which the user sits on a chair, the integrated circuit card being in the trouser revolver pocket, (B) a second case in which the integrated circuit card is pressed by a relatively sharp protuberance such as

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pointe d'un stylo à bille, c'est-à-dire qu'une force de pression est appliquée sur un point très étroit de la carte à circuit intégré, (C) un troisième cas dans lequel la carte à circuit intégré dans un sac à main ou analogue est pressée par un bouton ou autre du sac à main ou des vêtements, c'est-à-dire qu'une force de pression est appliquée sur un point relativement large de la  tip of a ballpoint pen, that is, a pressing force is applied to a very narrow point of the IC card, (C) a third case in which the IC card in a handbag or the like is pressed by a button or the like of the handbag or clothing, that is, a pressing force is applied to a relatively wide point of the

carte à circuit intégré.integrated circuit card.

Ceux-ci et d'autres buts, configurations et caractéristiques de la présente invention seront appréciés d'après une étude de  These and other objects, configurations and features of the present invention will be appreciated from a study of

la description détaillée suivante, des revendications annexées  the following detailed description of the appended claims

et des dessins, la totalité faisant partie de cette demande. Sur les dessins, des parties identiques ou des parties correspondantes reçoivent les mêmes références numériques les  and drawings, all of which form part of this application. In the drawings, like parts or corresponding parts are given the same numerical references

unes et les autres afin d'éliminer une explication redondante.  each other to eliminate a redundant explanation.

Sur les dessins: La figure 1 est une vue en coupe simplifiée d'une carte à circuit intégré d'un mode de réalisation préféré conforme à la présente invention, La figure 2 est une vue en perspective de la carte à circuit intégré avant d'être montée, La figure 3 est un graphe illustrant un examen par flexion, La figure 4 est un graphe illustrant un examen par application de pression sur un point étroit, La figure 5 est un graphe illustrant un examen par application de pression sur un point obtus, Les figures 6A et 6B sont des graphes illustrant les résultats expérimentaux de l'examen par flexion, Les figures 7A et 7B sont des graphes illustrant les résultats expérimentaux de l'examen par application de pression sur un point étroit, Les figures 8A et 8B sont des graphes illustrant les résultats expérimentaux de l'examen par application de pression sur un point obtus, La figure 9 est un graphe illustrant une première courbe destinée à calculer une équation d'une épaisseur d'une plaque de renfort, et La figure 10 est un graphe illustrant une second courbe destinée à calculer une équation de l'épaisseur de la plaque de  In the drawings: Fig. 1 is a simplified sectional view of an integrated circuit board of a preferred embodiment according to the present invention; Fig. 2 is a perspective view of the integrated circuit board before FIG. 3 is a graph illustrating an examination by application of pressure on a narrow point. FIG. 5 is a graph illustrating an examination by application of pressure on an obtuse point. FIG. Figs. 6A and 6B are graphs illustrating the experimental results of the flexural examination. Figs. 7A and 7B are graphs illustrating the experimental results of the narrow point pressure application. Figs. 8A and 8B are graphs illustrating the experimental results of the examination by application of pressure on an obtuse point, FIG. 9 is a graph illustrating a first curve intended to calculate an equation of one thickness of a reinforcing plate, and Figure 10 is a graph illustrating a second curve for calculating an equation of the thickness of the plate

renfort.reinforcement.

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[Premier mode de réalisation] Un mode de réalisation préféré de la présente invention sera  [First Embodiment] A preferred embodiment of the present invention will be

expliqué ci-après en faisant référence aux dessins annexés.  explained below with reference to the accompanying drawings.

Tout d'abord, comme indiqué sur les figures 1 et 2, une carte à circuit intégré 1 est constituée d'une feuille de circuit 2 en tant que substrat de circuit, d'une feuille intermédiaire 3 et d'une couche de liaison intermédiaire, ainsi  Firstly, as shown in FIGS. 1 and 2, an integrated circuit card 1 consists of a circuit sheet 2 as a circuit substrate, an intermediate sheet 3 and an intermediate bonding layer. , so

que d'une feuille de couverture 4.than a cover sheet 4.

La feuille de circuit 2 est formée d'une feuille constituée de matière plastique telle qu'une matière plastique à base de polyester, concrètement du PET (polytéréphtalate d'éthylène). Un motif de circuit 5 présentant une forme enroulée en tant que circuit conducteur est formé sur une surface de la feuille de circuit 2, et également une puce de semiconducteur 6 reliée au motif de circuit 5 est montée sur la une surface de la feuille de circuit 2. La puce de semiconducteur 6 est moulée par un élément de joint 7, qui est fait d'un matériau relativement dur tel qu'une matière plastique à base d'époxy. L'élément de joint 7, la feuille intermédiaire 3, et la feuille de couverture 4 définissent un boîtier 8 destiné à protéger la puce de  The circuit sheet 2 is formed of a sheet made of plastic material such as a polyester-based plastic material, specifically PET (polyethylene terephthalate). A circuit pattern 5 having a wound shape as a conductive circuit is formed on a surface of the circuit sheet 2, and also a semiconductor chip 6 connected to the circuit pattern 5 is mounted on a surface of the circuit sheet. 2. The semiconductor chip 6 is molded by a seal member 7, which is made of a relatively hard material such as an epoxy plastic material. The seal member 7, the intermediate sheet 3, and the cover sheet 4 define a housing 8 for protecting the chip from

semiconducteur 6.semiconductor 6.

Dans ce mode de réalisation, le motif de circuit 5 présentant la forme enroulée est formé par un moyen de sérigraphie en utilisant une pate conductrice telle qu'une pâte d'argent (Ag) à base de polyester, et la puce de semiconducteur 6 est montée par un collage conducteur anisotrope 9, par exemple en utilisant un procédé de puce à bosses. Le motif de circuit 5 fonctionne en tant qu'élément pour la communication des signaux (émission/réception) avec un dispositif externe et joue également le rôle d'une antenne pour émettre/recevoir des signaux radio. Dans ce mode de réalisation, l'énergie pour mettre en oeuvre l'unité centrale et autre formée sur la puce de semiconducteur 6 est fournie par le signal radio provenant du  In this embodiment, the circuit pattern 5 having the wrapped shape is formed by screen printing means using a conductive paste such as a polyester-based silver paste (Ag), and the semiconductor chip 6 is mounted by an anisotropic conductive bonding 9, for example using a chip chip method. The circuit pattern 5 functions as an element for signal communication (transmit / receive) with an external device and also acts as an antenna for transmitting / receiving radio signals. In this embodiment, the energy to implement the CPU and other formed on the semiconductor chip 6 is provided by the radio signal from the

dispositif externe reçu par le motif de circuit 5.  external device received by the circuit pattern 5.

La feuille intermédiaire 3 est faite d'une matière plastique du type thermofusible qui passe à l'état liquide par fusion lorsqu'elle est chauffée, telle qu'un adhésif fusible à base de polyester. La feuille intermédiaire 3 protège non seulement le motif de circuit 5, la puce de semiconducteur 6 etc..., mais colle également la feuille intermédiaire 3 elle-même à la  Intermediate sheet 3 is made of a hot-melt type plastic that melt in the molten state when heated, such as a polyester-based fuse adhesive. The intermediate sheet 3 not only protects the circuit pattern 5, the semiconductor chip 6, etc., but also adheres the intermediate sheet 3 itself to the

6 27876106 2787610

feuille de circuit 2 et à la feuille de couverture 4 de façon à recouvrir le motif de circuit 5, la puce de semiconducteur 6 et autre sans interstices. En outre, la feuille de couverture 4 a pour fonction de protéger la feuille intermédiaire 3, laquelle est relativement molle, et la feuille de couverture 4 est faite d'une feuille de polytéréphtalate d'éthylène comme la feuille de  circuit sheet 2 and the cover sheet 4 so as to cover the circuit pattern 5, the semiconductor chip 6 and other without interstices. In addition, the cover sheet 4 serves to protect the intermediate sheet 3, which is relatively soft, and the cover sheet 4 is made of a sheet of polyethylene terephthalate as the sheet of

circuit 2, par exemple.circuit 2, for example.

De manière à fabriquer cette carte à circuit intégré présentant une structure à trois couches, la puce de semiconducteur 6 est montée sur la feuille de circuit 2, et ensuite la puce de semiconducteur 6 est recouverte de la matière plastique à base d'époxy pour former l'élément de joint 7. Comme la matière plastique à base d'époxy présente un état liquide à la température ambiante avant d'être durcie, elle peut recouvrir une partie environnante de la puce de semiconducteur 6 sans  In order to manufacture this integrated circuit card having a three layer structure, the semiconductor chip 6 is mounted on the circuit board 2, and then the semiconductor chip 6 is covered with the epoxy plastic material to form As the epoxy-based plastics material is liquid at room temperature before being cured, it can cover a surrounding portion of the semiconductor chip 6 without

interstices en raison de son état liquide.  interstices because of its liquid state.

Après moulage de la puce de semiconducteur 6 avec l'élément de joint 7, la feuille intermédiaire 3 et la feuille de couverture 4 sont stratifiées sur celle-ci dans cet ordre. Après cela, une structure stratifiée est collée par thermocompression  After molding the semiconductor chip 6 with the seal member 7, the intermediate sheet 3 and the cover sheet 4 are laminated thereon in that order. After that, a laminated structure is glued by thermocompression

en utilisant un dispositif de presse thermique non-représenté.  using a thermal press device not shown.

Il en résulte que, comme l'adhésif fusible constituant la feuille intermédiaire 3 est fondu en étant chauffé de façon à présenter un état liquide, l'adhésif fusible fondu recouvre le motif de circuit 5 et l'élément de joint 7 sans interstices. En même temps, la feuille intermédiaire 3 est comprimée de façon à présenter une épaisseur uniforme en étant pressée à la fois depuis les côtés supérieur et inférieur, et se colle à la feuille de circuit 2 et à la feuille de couverture 4. Après  As a result, since the fuse adhesive constituting the intermediate sheet 3 is melted by being heated so as to have a liquid state, the molten fusible adhesive covers the circuit pattern 5 and the joint member 7 without interstices. At the same time, the intermediate sheet 3 is compressed to have a uniform thickness by being pressed both from the upper and lower sides, and adheres to the circuit sheet 2 and the cover sheet 4. After

cela, la feu--le intermédiaire 3 est durcie par refroidissement.  this, the fire - the intermediate 3 is hardened by cooling.

Il résulte de ces étapes que la carte à circuit intégré 1 présentant la structure à trois couches comprenant la feuille de circuit 2, la feuille intermédiaire 3 et la feuille de  As a result of these steps, the integrated circuit card 1 having the three-layer structure comprising the circuit sheet 2, the intermediate sheet 3 and the

couverture 4, est formée.cover 4, is formed.

Dans la carte à circuit intégré 1 décrite ci-dessus, comme la feuille de circuit 2 et la feuille de couverture 4 sont faites de PET, et que la feuille intermédiaire 3 est faite d'un adhésif fusible à base de polyester, les deux présentant une élasticité, la carte à circuit intégré 1 se courbe de façon souple avec élasticité lorsqu'une force de flexion lui est appliquée. Lorsque la carte à circuit intégré est courbée, la puce de semiconducteur 6 peut se fracturer en raison de la force de flexion appliquée à la puce de semiconducteur 6. De ce fait, la plaque de renfort 10 est prévue pour améliorer substantiellement la dureté en renforçant la puce de semiconducteur 6. La plaque de renfort 10 est formée pratiquement de même taille que l'élément de joint 7, et est agencée sur l'élément de joint 7 par superposition sur celui-ci après que la puce de semiconducteur 6 soit scellée par l'élément de joint 7. Dans ce cas, la plaque de renfort 10 est positionnée de façon à ce que le centre de la plaque de renfort 10 corresponde pratiquement à celui de la puce de semiconducteur 6. Après cela, comme la feuille de circuit 2, la feuille intermédiaire 3 et la feuille de couverture 4 sont collées par thermocompression comme décrit ci-dessus, la plaque de renfort 10 est recouverte de l'adhésif fusible sans interstices par l'adhésif fusible constituant la  In the integrated circuit card 1 described above, as the circuit sheet 2 and the cover sheet 4 are made of PET, and the intermediate sheet 3 is made of a polyester-based fuse adhesive, both having elasticity, the integrated circuit card 1 bends flexibly with elasticity when a bending force is applied thereto. When the IC card is bent, the semiconductor chip 6 may fracture due to the bending force applied to the semiconductor chip 6. As a result, the backing plate 10 is provided to substantially improve the hardness by strengthening the semiconductor chip 6. The reinforcing plate 10 is formed of substantially the same size as the seal member 7, and is arranged on the seal member 7 by superimposing it on the semiconductor chip 6 after it has been sealed. by the seal member 7. In this case, the reinforcing plate 10 is positioned so that the center of the reinforcing plate 10 substantially matches that of the semiconductor chip 6. After that, like the 2, the intermediate sheet 3 and the cover sheet 4 are bonded by thermocompression as described above, the reinforcing plate 10 is covered with the fuse adhesive without gaps by the fuse adhesive constituting the

feuille intermédiaire 3 qui est fondue.  intermediate sheet 3 which is melted.

Ici, une surface supérieure de la puce de semiconducteur 6 (se reporter à la figure 1) est formée en une surface de miroir 6a. C'est-à-dire qu'un circuit intégré est formé sur une surface inférieure 6b de la puce de semiconducteur 6 (le côté de la feuille de circuit 2), et la surface supérieure 6a présente une surface de miroir qui est meulée par un meulage de face arrière pendant que la puce de semiconducteur est encore à l'état de tranche. De ce fait, la surface supérieure de la puce de semiconducteur 6 sera appelée surface de miroir et la surface  Here, an upper surface of the semiconductor chip 6 (see FIG. 1) is formed into a mirror surface 6a. That is, an integrated circuit is formed on a lower surface 6b of the semiconductor chip 6 (the side of the circuit sheet 2), and the upper surface 6a has a mirror surface which is ground by a backside grinding while the semiconductor chip is still in the wafer state. As a result, the upper surface of the semiconductor chip 6 will be referred to as the mirror surface and the surface

inférieure sera appelée surface de circuit, ci-après.  lower will be called circuit surface, hereinafter.

La plaque de renfort 10 est faite d'un matériau dont le module d'Young est à l'intérieur d'une plage de 100 à 300 GPa (gigapascal) tel qu'une plaque d'acier inoxydable. En général, plus l'épaisseur de la plaque de renfort 10 est épaisse,  The backing plate 10 is made of a material whose Young's modulus is within a range of 100 to 300 GPa (gigapascal) such as a stainless steel plate. In general, the thicker the reinforcing plate 10 is,

meilleur est l'effet de renfort de la plaque de renfort 10.  best is the reinforcing effect of the reinforcement plate 10.

Cependant, pendant un état de charge tel que la flexion ou l'application de pression en un point habituellement provoqué et en utilisation réelle, la contrainte appliquée à la puce de semiconducteur 6 peut être augmentée de façon indésirable suivant la relation avec l'épaisseur de la puce de  However, during a state of charge such as bending or applying pressure at a point usually caused and in actual use, the stress applied to the semiconductor chip 6 may be undesirably increased depending on the relationship to the thickness of the the chip of

semiconducteur 6 même si la plaque de renfort 10 est prévue.  semiconductor 6 even if the reinforcing plate 10 is provided.

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De ce fait, un certain examen comprenant un examen par flexion, deux types d'examens par application de pression en un point, sont entrepris sur la carte à circuit intégré 1 de manière à étudier l'épaisseur de la plaque de renfort 10, de manière à ce que la puce de semiconducteur 6 présente une durabilité sans fracture importante, sous forme d'une relation  As a result, a certain examination comprising a flexural examination, two types of one-point pressure examination, is undertaken on the integrated circuit card 1 so as to study the thickness of the reinforcing plate 10, so that the semiconductor chip 6 has a durability without significant fracture, in the form of a relationship

avec l'épaisseur de la puce de semiconducteur 6.  with the thickness of the semiconductor chip 6.

Comme indiqué sur la figure 3, l'examen par flexion est exécuté grâce aux étapes suivantes. La carte à circuit intégré 1 est montée sur un mandrin 11 présentant un rayon de 40 mm, de sorte que la face de surface de miroir 6a de la puce de semiconducteur 6 soit positionnée face du côté inférieur. La totalité de la carte à circuit intégré 1 est pressée par urn montage de maintien présentant un arc circulaire de façon à courber la carte à circuit intégré 1 suivant une surface extérieure cylindrique du mandrin 11. Après cela, une contrainte appliquée à la puce de semiconducteur 6 est détectée et calculée en utilisant une analyse par éléments finis par simulation de l'examen, et il est détecté si la puce de semiconducteur 6  As shown in Fig. 3, flexural examination is performed by the following steps. The integrated circuit card 1 is mounted on a mandrel 11 having a radius of 40 mm, so that the mirror surface face 6a of the semiconductor chip 6 is positioned facing the lower side. The entire integrated circuit card 1 is pressed by a holding fixture having a circular arc so as to bend the integrated circuit card 1 according to a cylindrical outer surface of the mandrel 11. Thereafter, a stress applied to the semiconductor chip 6 is detected and calculated using finite element analysis by examination simulation, and is detected if the semiconductor chip 6

comporte des fractures ou non.has fractures or not.

Il existe deux types d'examens par application de pression, c'est-à-dire l'examen par application de pression en un point étroit et l'examen par application de pression en un point obtus. Chacun des examens par application de pression en un point calcule une contrainte appliquée à la puce de semiconducteur 6 durant l'application de pression sur la carte à circuit intégré 1 là o la puce de semiconducteur 6 (la plaque de renfort 10) est sollicitée par des dents hémisphériques 13, 14. Chacun des examens par application de pression en un point détecte également si la puce de semiconducteur 6 comporte des fractures ou non. Dans ces examens, la carte à circuit intégré 1 est montée sur une plaque de caoutchouc 15 présentant une épaisseur de 20 mm, de sorte que la face de surface de miroir 6a  There are two types of pressure testing, ie pressure testing at a narrow point and examination by application of pressure at an obtuse point. Each of the one-point pressure application examinations calculates a stress applied to the semiconductor chip 6 during the application of pressure on the IC card 1 where the semiconductor chip 6 (the backing plate 10) is biased by hemispherical teeth 13, 14. Each of the examinations by application of pressure at a point also detects whether the semiconductor chip 6 has fractures or not. In these examinations, the integrated circuit card 1 is mounted on a rubber plate 15 having a thickness of 20 mm, so that the mirror surface 6a

de la puce de semiconducteur 6 est installée du côté supérieur.  of the semiconductor chip 6 is installed on the upper side.

Dans cette situation, la carte à circuit intégré 1 est pressée par la dent 13 présentant un diamètre de 1,5 mm avec une force de pressage de 10 N (newton) au cours de l'examen par application de pression en un point aigu, et est pressée par la dent 14 présentant un diamètre de 10 mm avec une force de  In this situation, the integrated circuit card 1 is pressed by the tooth 13 having a diameter of 1.5 mm with a pressing force of 10 N (Newton) during the examination by application of pressure at an acute point, and is pressed by the tooth 14 having a diameter of 10 mm with a force of

9 27876109 2787610

pression de 17 N dans le cas de l'examen par application de  pressure of 17 N in the case of examination by application of

pression en un point obtus.pressure at an obtuse point.

Ici, les raisons du montage de la carte à circuit intégré 1 sur le mandrin 11 de façon à ce que la face de surface de miroir 6a de la puce de semiconducteur 6 soit installée du côté inférieur dans l'examen par flexion, et du montage de la carte à circuit intégré 1 sur la plaque de caoutchouc 15 de façon à ce que la face de surface de miroir 6a de la puce de semiconducteur  Here, the reasons for mounting the integrated circuit card 1 on the mandrel 11 so that the mirror surface face 6a of the semiconductor chip 6 is installed on the lower side in the bending examination, and mounting of the integrated circuit card 1 on the rubber plate 15 so that the mirror surface face 6a of the semiconductor chip

6 soit installée du côté supérieur sont les suivantes. C'est-à-  6 are installed on the upper side are as follows. That is,

dire que lorsque la carte à circuit intégré 1 est pressée par le montage de maintien 12, ou bien par la dent hémisphérique 13 ou 14, la carte à circuit intégré 1 est courbée de sorte que la face de feuille de circuit 2 prend une forme convexe. Dans ce cas, on considère que l'axe neutre de flexion de la carte à circuit intégré 1 existe sur la face de surface de miroir 6a par rapport au centre de la direction de l'épaisseur de la puce de semiconducteur 6, comme indiqué par une ligne à traits et points alternés p sur la figure 1. De ce fait, une contrainte de compression est générée au niveau de la face de surface de miroir 6a de la puce de semiconducteur 6, alors qu'une contrainte en traction est générée au niveau de la face de  say that when the integrated circuit card 1 is pressed by the holding fixture 12, or by the hemispherical tooth 13 or 14, the integrated circuit card 1 is bent so that the circuit sheet face 2 takes a convex shape . In this case, it is considered that the neutral bending axis of the integrated circuit card 1 exists on the mirror surface face 6a with respect to the center of the direction of the thickness of the semiconductor chip 6, as indicated by a line with dotted lines and alternating points p in FIG. 1. As a result, a compressive stress is generated at the level of the mirror surface face 6a of the semiconductor chip 6, whereas a tensile stress is generated at the face level of

surface de circuit 6b.circuit surface 6b.

Ici, la face de surface de miroir 6a de la puce de semiconducteur 6 présente une dureté élevée du fait que cette surface est faite du monocristal de la tranche, alors que la face de surface de circuit 6b présente une faible dureté car des impuretés sont implantées dans celleci pour former un circuit intégré ou du fait que la surface présente des aspérités. De ce fait, la puce de semiconducteur 6 se fracture aisément lorsque la contrainte de traction est appliquée à la carte à circuit intégré 1 de telle sorte que la face de surface de circuit 6b prend une forme convexe, par comparaison au cas o la même contrainte de flexion est appliquée à la carte à circuit intégré 1 de sorte que la face de surface de miroir 6a prend une forme convexe. De ce fait, la carte à circuit intégré 1 est montée de manière à ce que la face de surface de circuit 6a prenne une forme convexe lorsque la carte à circuit intégré 1 est courbée au cours de l'examen par flexion, et de l'examen par application  Here, the mirror surface face 6a of the semiconductor chip 6 has a high hardness because this surface is made of the single crystal of the wafer, while the circuit surface face 6b has a low hardness because impurities are implanted. in this to form an integrated circuit or the fact that the surface has asperities. As a result, the semiconductor chip 6 is easily fractured when the tensile stress is applied to the IC card 1 so that the circuit surface face 6b takes a convex shape, compared to the case where the same constraint bending is applied to the IC card 1 so that the mirror surface face 6a takes a convex shape. As a result, the integrated circuit card 1 is mounted so that the circuit surface face 6a takes a convex shape when the integrated circuit card 1 is bent during the bending examination, and the examination by application

de pression en un point.pressure in one point.

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Ces examens comprenant l'examen par flexion, l'examen par application de pression en un point aigu et i'examen par application de pression en un point obtus correspondent aux conditions de charge caractéristiques pendant une utilisation réelle. C'est-à-dire que divers types de charges sont appliqués à la  These examinations, including bending examination, acute pressure testing, and pressure testing at an obtuse point, correspond to characteristic load conditions during actual use. That is, various types of loads are applied to the

carte à circuit intégré 1 durant l'utilisation réelle.  integrated circuit card 1 during actual use.

Cependant, la plupart des charges peuvent être classées comme suit, c'est-à-dire, (A) un premier cas dans lequel l'utilisateur est assis sur une chaise, la carte à circuit intégré 1 étant dans la poche revolver de pantalon de l'utilisateur, (B) un second cas dans lequel la carte à circuit intégré 1 est pressée par une protubérance relativement pointue telle que la pointe d'un stylo à bille, c'est-à-dire qu'une force de pression est appliquée sur un point très étroit de la carte à circuit intégré 1, et (C) un troisième cas dans lequel la carte à circuit intégré 1 dans un sac à main ou analogue est pressée par un bouton ou autre du sac ou des vêtements, c'est-à-dire qu'une force de pression est appliquée sur un point relativement large  However, most of the charges can be classified as follows, that is, (A) a first case in which the user sits on a chair, the IC card 1 being in the trouser revolver pocket of the user, (B) a second case in which the integrated circuit card 1 is pressed by a relatively sharp protuberance such as the tip of a ballpoint pen, that is to say a pressure force is applied to a very narrow point of the integrated circuit card 1, and (C) a third case in which the integrated circuit card 1 in a purse or the like is pressed by a button or other of the bag or clothes, that is, a pressure force is applied to a relatively wide point

de la carte à circuit intégré 1.of the integrated circuit card 1.

De ce fait, l'examen par flexion qui est représenté sur la figure 3 a conduit à analyser le premier cas, l'examen par application de pression en un point étroit comme indiqué sur la figure 4 a conduit à analyser le second cas, et l'examen par application de pression en un point obtus comme indiqué sur la  As a result, the bending examination shown in Fig. 3 led to the first case being analyzed, the pressure application at a narrow point as shown in Fig. 4 led to the analysis of the second case, and examination by applying pressure to an obtuse point as indicated on the

figure 5 a conduit à analyser le troisième cas.  Figure 5 led to analyze the third case.

La figure 6 représente les résultats expérimentaux de l'examen par flexion. La figure 7 représente les résultats expérimentaux de l'examen d'application de pression en un point aigu, et la figure 8 représente les résultats expérimentaux de l'examen d'application de pression en un point obtus, respectivement. Ici, les figures 6A, 7A, 8A représentent la contrainte maximum dans la surface de circuit 6b, respectivement, et les figures 6B, 7B, 8B représentent la contrainte maximum appliquée à la partie de bord (quatre bords  Figure 6 shows the experimental results of the flexion examination. Fig. 7 shows the experimental results of the acute pressure application test, and Fig. 8 shows the experimental results of the obtuse pressure application test, respectively. Here, Figs. 6A, 7A, 8A show the maximum stress in the circuit surface 6b, respectively, and Figs. 6B, 7B, 8B show the maximum stress applied to the edge portion (four edges

périphériques) de la puce de semiconducteur 6, respectivement.  peripherals) of the semiconductor chip 6, respectively.

Sur ces figures, les plages de contraintes à l'intérieur desquelles la puce de semiconducteur 6 ne se fracture pas sont indiquées avec des lignes obliques (hachures). La raison de la mesure de la contrainte maximum de la partie de bord de la puce  In these figures, the stress ranges within which the semiconductor chip 6 does not fracture are indicated with oblique lines (hatching). The reason for measuring the maximum stress of the edge portion of the chip

11 278761011 2787610

de semiconducteur 6 est la suivante. Comme la puce de semiconducteur 6 est mise sous forme de puce par découpage en dés de la tranche, une surface de coupe (partie de bord) de la puce de semiconducteur 6 peut facilement provoquer une fracture en raison de minuscules éclats. De ce fait, la contrainte appliquée au bord est calculée en utilisant l'analyse par éléments finis par simulation de l'examen et l'on détecte si la  of semiconductor 6 is as follows. Since the semiconductor chip 6 is chip-shaped by dicing the wafer, a cutting surface (edge portion) of the semiconductor chip 6 can easily cause fracture due to tiny chips. As a result, the stress applied to the edge is calculated using finite element analysis by simulation of the examination and it is detected whether the

puce de semiconducteur 6 comporte des fractures ou non.  semiconductor chip 6 has fractures or not.

Après cela, une plage d'épaisseur t de la plaque de renfort 10 à l'intérieur de laquelle la puce de semiconducteur 6 ne subit pas de fracture suivant la relation avec l'épaisseur T de la puce de semiconducteur 6 dans chaque examen est fondée sur les résultats expérimentaux des examens décrits ci-dessus comprenant la flexion et l'application de pression en un point aigu. Ces plages indiquées par les lignes obliques correspondent à la plage d'épaisseur de la plaque de renfort 6 à l'intérieur de laquelle la puce de semiconducteur 6 subit difficilement une fracture, même si l'utilisateur est assis sur une chaise, la carte à circuit intégré 1 étant dans la poche revolver du pantalon de l'utilisateur, une force de pression est appliquée  After that, a thickness range t of the reinforcing plate 10 inside which the semiconductor chip 6 does not undergo a fracture according to the relationship with the thickness T of the semiconductor chip 6 in each examination is based on the experimental results of the examinations described above including bending and applying pressure at an acute point. These ranges indicated by the oblique lines correspond to the thickness range of the reinforcing plate 6 inside which the semiconductor chip 6 hardly undergoes a fracture, even if the user is seated on a chair, the card 1 integrated circuit being in the revolver pocket of the user's trousers, a pressing force is applied

sur un point très étroit de la carte à circuit intégré 1.  on a very narrow point of the integrated circuit card 1.

La figure 9 représente une plage d'épaisseur de la plaque de renfort 10 à l'intérieur de laquelle la puce de semiconducteur subit difficilement la fracture dans l'examen par flexion et l'examen par application de pression en un point aigu. Sur cette figure, une courbe Cl (qui est la même que la courbe Cl de la contrainte maximum de 350 MPa sur la figure 6B) présente une  Fig. 9 shows a thickness range of the reinforcing plate 10 within which the semiconductor chip hardly experiences fracture in bending examination and examination by application of pressure at an acute point. In this figure, a curve C1 (which is the same as the curve C1 of the maximum stress of 350 MPa in FIG.

limite o la puce de semiconducteur 6 subit la fracture ou non.  limit o the semiconductor chip 6 is fractured or not.

Lorsqu'une équation destinée à représenter la courbe Cl est calculée en utilisant une approximation par les moindres carrés,  When an equation intended to represent the curve C1 is calculated using a least squares approximation,

le membre de droite de l'équation suivante (1) peut être obtenu.  the right-hand side of the following equation (1) can be obtained.

De ce fait, lorsque l'épaisseur t de la plaque de renfort 10 est établie à l'intérieur de la plage de l'équation suivante (1), ceci peut empêcher que la puce de semiconducteur 6 se fracture  As a result, when the thickness t of the backing plate 10 is set within the range of the following equation (1), this can prevent the semiconductor chip 6 from fracturing.

même si l'un des cas ci-dessus (A), (B) est provoqué.  even if one of the above cases (A), (B) is caused.

t > (1,04 x 10-6)T4 - (5,26 x 10-4)T3 + (1,02 x 10-')T2 - 9,12T + 3,55 x 102 ---(1) En outre, une plage d'épaisseur t de la plaque de renfort 10 à l'intérieur de laquelle la puce de semiconducteur 6 ne subit pas de fracture par une relation avec l'épaisseur T de la puce  t> (1.04 x 10-6) T4 - (5.26 x 10-4) T3 + (1.02 x 10 - ') T2 - 9.12 T + 3.55 x 102 --- (1) In addition, a thickness range t of the reinforcing plate 10 inside which the semiconductor chip 6 does not undergo a fracture by a relationship with the thickness T of the chip

12 278761012 2787610

de semiconducteur 6 dans chaque examen est fondée sur les résultats expérimentaux des examens décrits ci-dessus comprenant la flexion, l'application de pression en un point aigu et l'application de pression en un point obtus. Ces plages indiquées par les lignes obliques correspondent à la plage d'épaisseur de la plaque de renfort 6 à l'intérieur de laquelle la puce de semiconducteur 6 subit difficilement la fracture, même si l'utilisateur est assis sur une chaise, la carte à circuit intégré 1 étant dans la poche revolver du pantalon de l'utilisateur, la force de pression est appliquée sur un point très étroit de la carte à circuit intégré 1, ou bien la force de pression est appliquée sur un point relativement large de la  Semiconductor 6 in each examination is based on the experimental results of the above described examinations including bending, application of pressure at an acute point and application of pressure at an obtuse point. These ranges indicated by the oblique lines correspond to the thickness range of the reinforcing plate 6 inside which the semiconductor chip 6 hardly undergoes the fracture, even if the user is seated on a chair, the card 1 being in the revolver pocket of the user's trousers, the pressure force is applied to a very narrow point of the integrated circuit card 1, or the pressure force is applied to a relatively wide point of the

carte à circuit intégré 1.integrated circuit card 1.

La figure 9 représente une plage d'épaisseur de la plaque de renfort 10 à l'intérieur de laquelle la puce de semiconducteur subit difficilement la fracture. Sur cette figure, une courbe C2 (qui est la même que la courbe C2 de la contrainte maximum de 380 MPa de la figure 7a) représente une limite o la puce de semiconducteur 6 subit la fracture ou non. Lorsqu'une équation destinée à représenter la courbe C2 est calculée en utilisant une approximation par les moindres carrés, le membre de droite de l'équation suivante (2) peut être obtenu. De ce fait, lorsque l'épaisseur t de la plaque de renfort 10 est établie à l'intérieur de la plage de l'équation suivante (1), ceci peut empêcher la puce de semiconducteur 6 de se fracturer, même si  Figure 9 shows a thickness range of the reinforcing plate 10 within which the semiconductor chip hardly undergoes the fracture. In this figure, a curve C2 (which is the same as the curve C2 of the maximum stress of 380 MPa of FIG. 7a) represents a limit where the semiconductor chip 6 undergoes the fracture or not. When an equation for representing curve C2 is computed using a least squares approximation, the right-hand side of the following equation (2) can be obtained. As a result, when the thickness t of the reinforcing plate 10 is set within the range of the following equation (1), this can prevent the semiconductor chip 6 from fracturing, even if

l'un des cas ci-dessus (A), (B), (C) est provoqué.  one of the above cases (A), (B), (C) is caused.

t > (7,22 x 10-7)T4 - (4,0 x 10-4)T3 + (8,08 x 10-')T2 - 7,61T + 3,3 x 102 ---(2) Dans ce cas, l'exemple particulier des dimensions de la  t> (7.22 x 10-7) T4 - (4.0 x 10-4) T3 + (8.08 x 10 - ') T2 - 7.61T + 3.3 x 102 --- (2) In this case, the particular example of the dimensions of the

carte à circuit intégré 1 sera présenté ci-après.  integrated circuit card 1 will be presented hereinafter.

[Exemple particulier 1] Chaque épaisseur de la feuille de circuit 2 et de la feuille de couverture 4 est de 125 pm, respectivement. L'épaisseur totale de la carte à circuit intégré 1 après que les deux feuilles 2, 4 soient collées par l'intermédiaire de la feuille intermédiaire 3 est de 605 pm, l'épaisseur de la puce de semiconducteur 6 est de 150 pm, et l'épaisseur de la plaque de renfort 10 est de 50 pm. Cet exemple particulier 1 satisfaitl'équation (1).  [Particular example 1] Each thickness of the circuit sheet 2 and the cover sheet 4 is 125 μm, respectively. The total thickness of the integrated circuit card 1 after the two sheets 2, 4 are glued via the intermediate sheet 3 is 605 μm, the thickness of the semiconductor chip 6 is 150 μm, and the thickness of the reinforcing plate 10 is 50 μm. This particular example 1 satisfies equation (1).

[Exemple particulier 2] Chaque épaisseur de la feuille de circuit 2 et de la feuille de couverture 4 est de 100 pm, respectivement. L'épaisseur totale de la carte à circuit intégré 1 après que les deux feuilles 2, 4 soient collées par l'intermédiaire de la feuille intermédiaire 3 est de 627 pm, l'épaisseur de la puce de semiconducteur 6 est de 150 pm, et l'épaisseur de la plaque de renfort 10 est de 50 pm. Cet exemple particulier 2 satisfait les  [Particular example 2] Each thickness of the circuit sheet 2 and the cover sheet 4 is 100 μm, respectively. The total thickness of the integrated circuit card 1 after the two sheets 2, 4 are glued via the intermediate sheet 3 is 627 μm, the thickness of the semiconductor chip 6 is 150 μm, and the thickness of the reinforcing plate 10 is 50 μm. This particular example 2 satisfies

deux équations (1) et (2).two equations (1) and (2).

L'épaisseur totale de la carte à circuit intégré 1 n'est pas limitée à la valeur décrite dans les exemples particuliers 1 et 2. Cependant, en prenant en considération la souplesse ou les possibilités d'utilisation de la carte à circuit intégré 1, il est préférable d'établir l'épaisseur totale de la carte à circuit intégré 1 à l'intérieur d'une plage de 400 à 900 pm. En outre, il est préférable d'établir l'épaisseur T de la puce de semiconducteur 6 à l'intérieur d'une plage de 10 à 30 % de l'épaisseur totale de la carte à circuit intégré 1, et d'établir l'épaisseur de la plaque de renfort 10 à l'intérieur d'une plage de 8 à 20 % de l'épaisseur totale de la carte à circuit intégré 1. Lorsque la carte à circuit intégré 1 doit être rendue plus mince, il est préférable d'amincir la feuille intermédiaire 13 et en outre la puce de semiconducteur 6, car la feuille de circuit 2 et la feuille de couverture 4 ne peuvent être amincies que de façon limitée. Dans ce cas, une épaisseur préférable de  The total thickness of the integrated circuit card 1 is not limited to the value described in the particular examples 1 and 2. However, taking into consideration the flexibility or the possibilities of use of the integrated circuit card 1, it is preferable to establish the total thickness of the integrated circuit card 1 within a range of 400 to 900 μm. In addition, it is preferable to establish the thickness T of the semiconductor chip 6 within a range of 10 to 30% of the total thickness of the integrated circuit card 1, and to establish the thickness of the backing plate 10 within a range of 8 to 20% of the total thickness of the integrated circuit card 1. When the integrated circuit card 1 is to be made thinner, it is preferable to thin the intermediate sheet 13 and further the semiconductor chip 6, since the circuit sheet 2 and the cover sheet 4 can be thinned only to a limited extent. In this case, a preferable thickness of

la puce de semiconducteur 6 est de 50 à 150 pm.  the semiconductor chip 6 is 50 to 150 μm.

Il doit être noté que la présente invention n'est pas limitée au mode de réalisation décrit ci-dessus, et peut être  It should be noted that the present invention is not limited to the embodiment described above, and may be

étendue et modifiée comme suit.extended and modified as follows.

C'est-à-dire que l'épaisseur totale de la carte à circuit intégré 1 peut être inférieure à 400 pm, ou bien peut être  That is, the total thickness of the IC card 1 may be less than 400 μm, or may be

supérieure à 900 pm.greater than 900 pm.

L'épaisseur de la puce de semiconducteur 6 n'est pas limitée à l'intérieur de 50 à 150 pm. Lorsqu'il est nécessaire d'amincir la carte à circuit intégré 1, l'épaisseur de la puce de semiconducteur 6 peut être pratiquement de 0,5 pm, par exemple, alors que lorsqu'il n'y a pas besoin d'amincir la carte à circuit intégré 1, l'épaisseur de la puce de semiconducteur 6  The thickness of the semiconductor chip 6 is not limited to within 50 to 150 μm. When it is necessary to thin the integrated circuit card 1, the thickness of the semiconductor chip 6 may be substantially 0.5 pm, for example, whereas when there is no need to thin the integrated circuit card 1, the thickness of the semiconductor chip 6

peut être pratiquement de 200 pm, par exemple.  can be practically 200 μm, for example.

14 278761014 2787610

La plaque de renfort 10 peut être faite de cuivre, d'aluminium ou autre au lieu d'acier inoxydable. Dans ce cas, dans le but d'augmenter substantiellement la dureté de la puce de semiconducteur 6 de manière à empêcher une fracture, il est préférable d'effectuer une sélection parmi des matériaux présentant un module d'Young de 100 à 300 GPa. En d'autres termes, de la matière plastique peut être utilisée si une telle  The reinforcing plate 10 may be made of copper, aluminum or other instead of stainless steel. In this case, in order to substantially increase the hardness of the semiconductor chip 6 so as to prevent fracture, it is preferable to select among materials having a Young's modulus of 100 to 300 GPa. In other words, plastic material can be used if such

matière plastique présente le module d'Young décrit ci-dessus.  plastic material has the Young's modulus described above.

La carte à circuit intégré 1 n'est pas limitée à comporter la structure à trois couches présentant la feuille de circuit 2,  The integrated circuit card 1 is not limited to comprise the three-layer structure having the circuit sheet 2,

la feuille intermédiaire 3 et la feuille de couverture 4.  the intermediate sheet 3 and the cover sheet 4.

La plaque de renfort 10 peut être agencée sur une surface de la feuille de circuit 2 opposée à une surface o la puce de semiconducteur 6 est montée. Dans ce cas, il est préférable de coller une feuille sur la feuille de circuit 2 de façon à  The backing plate 10 may be arranged on a surface of the circuit sheet 2 opposite a surface where the semiconductor chip 6 is mounted. In this case, it is preferable to stick a sheet on the circuit sheet 2 so as to

sceller la plaque de renfort 10.seal the reinforcement plate 10.

En outre, on peut omettre l'élément de joint 7.  In addition, the joint element 7 can be omitted.

27876102787610

Claims (7)

REVENDICATIONS 1. Carte à circuit intégré comprenant: un substrat de circuit (2) comportant un circuit conducteur  An integrated circuit card comprising: a circuit substrate (2) having a driver circuit (5),(5) une puce de semiconducteur (6) montée sur le substrat de circuit, une plaque de renfort (10) montée sur la puce de semiconducteur, afirn de renforcer la puce de semiconducteur, et faite d'un matériau dont le module d'Young est à l'intérieur d'une plage de i00 à 300 [GPa], et une feuille de couverture (4) montée sur la plaque de renfort, afin de protéger la puce de semiconducteur, dans laquelle une épaisseur totale de la structure stratifiée comprenant le substrat de circuit, la puce de semiconducteur, la plaque de renfort, la feuille de couverture est à l'intérieur d'une plage de 400 à 900 [pm], et lorsqu'une épaisseur de la puce de semiconducteur est T, une épaisseur t de la plaque de renfort est à l'intérieur d'une plage satisfaisant au moins l'une des équations suivantes (1) et (2). t > (1, 04 x 10-6)T4 - (5,26 x 10-4)T3 + (1,02 x 10-1)T2 - 9,12T + 3,55 x 102 ---(1) t > (7,22 x 10-7)T4 - (4,0 x 1C-4)T3 + (8,08 x 10-l)T2 - 7,61T + 3,3 x 102 ---(2)  a semiconductor chip (6) mounted on the circuit substrate, a reinforcing plate (10) mounted on the semiconductor chip, for reinforcing the semiconductor chip, and made of a material whose Young's modulus is at within a range of 100 to 300 [GPa], and a cover sheet (4) mounted on the backing plate, for protecting the semiconductor chip, wherein a total thickness of the laminate structure comprising the substrate circuit, the semiconductor chip, the backing plate, the cover sheet is within a range of 400 to 900 [μm], and when a thickness of the semiconductor chip is T, a thickness t of the reinforcing plate is within a satisfactory range of at least one of the following equations (1) and (2). t> (1.04 x 10-6) T4 - (5.26 x 10-4) T3 + (1.02 x 10-1) T2 - 9.12 T + 3.55 x 102 --- (1) t> (7.22 x 10-7) T4 - (4.0 x 1C-4) T3 + (8.08 x 10-1) T2 - 7.61T + 3.3 x 102 --- (2) 2. Carte à circuit intégré selon la revendication 1, dans laquelle l'épaisseur t de la plaque de renfort est à l'intérieurAn IC card according to claim 1, wherein the thickness t of the backing plate is inside d'une plage satisfaisant l'équation (1).  a range satisfying equation (1). 3. Carte à circuit intégré selon la revendication 1, dans laquelle l'épaisseur t de la plaque de renfort est à l'intérieur  An IC card according to claim 1, wherein the thickness t of the backing plate is inside d'une plage satisfaisant l'équation (2).  a range satisfying equation (2). 4. Carte à circuit intégré selon l'une quelconque des  4. Integrated circuit card according to any one of revendications 1 à 3, dans laquelle la plaque de renfort (10)  Claims 1 to 3, wherein the backing plate (10) est agencée sur une surface du substrat de circuit (2) à l'opposé d'une surface o la puce de semiconducteur (6) est montée.  is arranged on a surface of the circuit substrate (2) opposite a surface where the semiconductor chip (6) is mounted. 16 278761016 2787610 5. Carte à circuit intégré selon l'une quelconque des  5. Integrated circuit card according to any one of revendications 1 à 4, dans laquelle l'épaisseur de la puce de  Claims 1 to 4, wherein the thickness of the chip of semiconducteur (6) est à l'intérieur d'une plage de 50 à  semiconductor (6) is within a range of 50 to [pm].[Pm]. 6. Carte à circuit intégré comprenant: un substrat de circuit (2) comportant un circuit conducteur (5), une puce de semiconducteur (6) montée sur le substrat de circuit, et présentant une épaisseur sélectionnée à partir d'une plage de 50 à 150 [pm], une plaque de renfort (10) montée sur la puce de semiconducteur, afin de renforcer la puce de semiconducteur, et une feuille de couverture (4) montée sur la plaque de renfort, afin de protéger la puce de semiconducteur, dans laquelle une épaisseur totale de la structure stratifiée comprenant le substrat de circuit, la puce de semiconducteur, la plaque de renfort, la feuille de couverture est à l'intérieur d'une plage de 400 à 900 [pm], et lorsqu'une épaisseur de la puce de semiconducteur est T, une épaisseur t de la plaque de renfort est sélectionnée à partir d'une plage satisfaisant au moins l'une des équations suivantes  An integrated circuit card comprising: a circuit substrate (2) having a conductive circuit (5), a semiconductor chip (6) mounted on the circuit substrate, and having a thickness selected from a range of 50 at 150 [pm], a backing plate (10) mounted on the semiconductor chip, for reinforcing the semiconductor chip, and a cover sheet (4) mounted on the backing plate, for protecting the semiconductor chip wherein a total thickness of the laminate structure comprising the circuit substrate, the semiconductor chip, the backing plate, the cover sheet is within a range of 400 to 900 [μm], and when a thickness of the semiconductor chip is T, a thickness t of the reinforcing plate is selected from a range satisfying at least one of the following equations (1) et (2).(1 and 2). t > (1,04 x 10-6)T4 - (5,26 x 10-4)T3 + (1,02 x 10-1)T2 - 9, 12T + 3,55 x 102 ---() t > (7,22 x 10-7)T4 - (4,0 x 10-4)T3 + (8,08 x 10-1)T2 - 7,61T + 3,3 x 102 ---(2)  t> (1.04 x 10-6) T4 - (5.26 x 10-4) T3 + (1.02 x 10-1) T2 - 9, 12T + 3.55 x 102 --- () t > (7.22 x 10-7) T4 - (4.0 x 10-4) T3 + (8.08 x 10-1) T2 - 7.61T + 3.3 x 102 --- (2) 7. Carte à circuit intégré comprenant: un substrat de circuit (2) comportant un circuit conducteur (5), une puce de semiconducteur (6) montée sur le substrat de circuit, une plaque de renfort (10) montée sur la puce de semiconducteur, afin de renforcer la puce de semiconducteur, et faite d'un matériau dont le module d'Young est à l'intérieur d'une plage de 100 à 300 [GPa], et une feuille de couverture (4) montée sur la plaque de renfort, afin de protéger la puce de semiconducteur,An integrated circuit card comprising: a circuit substrate (2) having a conductive circuit (5), a semiconductor chip (6) mounted on the circuit substrate, a backing plate (10) mounted on the semiconductor chip , in order to strengthen the semiconductor chip, and made of a material whose Young's modulus is within a range of 100 to 300 [GPa], and a cover sheet (4) mounted on the plate reinforcement, in order to protect the semiconductor chip, 17 278761017 2787610 dans laquelle, lorsqu'une épaisseur de la puce de semiconducteur est T, une épaisseur t de la plaque de renfort est sélectionnée à partir d'une plage satisfaisant au moins l'une des équations suivantes (1) et ",2).5 t > (1,04 x 10-%)T4 - (5,26 x 10- 4)T3 + (1,02 x 10-1)T2 - 9,12T + 3,55 x 102 ---(1) t > (7,22 x 10-7)T4 - (4,0 x 10-4)T3 + (8,08 x 10-1)T2 - 7,61T + 3,3 x 102 ---(2)  wherein, when a thickness of the semiconductor chip is T, a thickness t of the backing plate is selected from a range satisfying at least one of the following equations (1) and ", 2) .5 t> (1.04 x 10 -%) T4 - (5.26 x 10- 4) T3 + (1.02 x 10-1) T2 - 9.12 T + 3.55 x 102 --- (1) t> (7.22 x 10-7) T4 - (4.0 x 10-4) T3 + (8.08 x 10-1) T2 - 7.61T + 3.3 x 102 --- (2)
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