FR2771549A1 - Recipient hermetique sous vide - Google Patents

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Abstract

Le récipient hermétique sous vide peut empêcher l'altération d'un dégazeur provoquée par un processus de cuisson. Dans le récipient hermétique, le boîtier de dégazeur contient un premier dégazeur (7-1) qui fonctionne à des températures normales et un deuxième dégazeur (7-2) qui fonctionne pleinement à une température de cuisson. Le deuxième dégazeur (7-2) adsorbe des gaz occlus durant le processus de cuisson. Le premier dégazeur (7-1) absorbe les gaz occlus à des températures normales. Cette caractéristique permet au récipient hermétique sous vide d'être maintenu dans un degré de vide élevé pendant une longue période de temps.

Description

RFCTPTFNT RFRMFTTQIlF SOJIS VTnF
La présente invention concerne un récipient hermétique sous vide dont l'espace intérieur est maintenu sous vide.
Classiquement, on connaît parfaitement un panneau d'affichage fluorescent comprenant des cathodes à émission de champ, connues chacune sous le nom de cathode froide plane, et des anodes recouvertes de substances fluorescentes qui collectent les électrons émis par les cathodes à émission de champ.
Dans ce panneau d'affichage fluorescent, les cathodes et les anodes sont disposées de manière à être espacées d'une faible distance. Le panneau d'affichage fluorescent est contenu dans un récipient hermétique sous vide devant maintenir l'espacement entre les anodes et les cathodes.
Bien que les anodes et les cathodes soient actives, une quantité minuscule de gaz occlut dans ces dernières est libérée à l'intérieur du récipient, donnant lieu ainsi à une contamination de l'intérieur du récipient et une altération du degré de vide. Ainsi, un dégazeur est normalement logé dans le récipient hermétique sous vide, afin d'adsorber les gaz libérés, de manière à maintenir la propreté de l'intérieur du récipient, ainsi que son degré de vide.
Des dégazeurs de type à évaporation, constitués d'alliage Ba-Al, sont globalement utilisés à titre de substance de dégazage placé à l'intérieur d'un récipient hermétique sous vide. L'alliage Ba-Al est placé dans un cadre annulaire métallique. L'anneau métallique est renfermé dans le récipient hermétique sous vide. L'alliage
Ba-Al est évaporé par un chauffage à induction du cadre annulaire métallique, par voie externe avec des ondes-radios à haute fréquence. L'alliage Ba-Al est déposé localement sur une surface intérieure du récipient hermétique sous vide. Le film évaporé sous la forme d'un miroir est dénommé le miroir dégazeur.
Dans le tube d'affichage fluorescent, après évaporation du dégazeur, le récipient est placé dans un four à une température de 200"C ou plus pendant un processus de cuisson, afin d'activer le dégazeur. Durant ce processus de cuisson, étant donné que les gaz occlus dans le tube d'affichage sont libérés, le degré de vide régnant dans le tube doit encore être augmenté en absorbant les gaz occlus avec le dégazeur.
Cependant, bien que l'alliage Ba-Al augmente quelque peu son effet de nettoyage lorsqu'il est à une température d'environ 200"C, des gaz sont libérés par le film de baryum et le baryum lui-même réagit avec le verre. En outre, étant donné qu'une recristallisation a lieu à une température supérieure à 200"C, la capacité d'absorption saturée du miroir dégazeur diminue, même à une température normale.
Pour cette raison, il existe l'inconvénient qu'il est difficile de maintenir suffisamment à un degré de vide élevé le récipient hermétique sous vide.
La présente invention est réalisée afin de surmonter les problèmes précités. Le but de l'invention est de proposer un récipient hermétique sous vide ayant un dégazeur dont l'espace intérieur peut être maintenu sous vide après un processus de cuisson.
Selon la présente invention, un récipient hermétique sous vide contient un premier dégazeur constitué d'une substance de dégazage qui fonctionne à des températures normales, et un deuxième dégazeur constitué d'une substance de dégazage qui fonctionne à une température de cuisson.
Dans un tel récipient hermétique sous vide, étant donné que le deuxième dégazeur peut absorber les gaz occlus dans un tube d'affichage fluorescent à une température de cuisson, le premier dégazeur peut complètement maintenir sa capacités d'absorption saturée à des températures normales.
Ainsi, le tube d'affichage fluorescent peut être suffisamment maintenu sous un degré de vide élevé.
En outre, selon la présente invention, le premier dégazeur comprend un dégazeur de type à évaporation contenant au moins du Ba. Le deuxième dégazeur comprend un dégazeur de type à non-évaporation contenant au moins un élément sélectionné dans le groupe comprenant le Zr, Ti,
Ta, Th et Cb. Le deuxième dégazeur comprend une substance poreuse contenant au moins du carbone.
En outre, le deuxième dégazeur comprend un dégazeur de type à évaporation contenant au moins du Mg.
Les buts caractéristiques et avantages précités, ainsi que d'autres, de la présente invention, vont apparaître à la lecture de la description qui suit, faite en liaison avec les dessins annexés, qui illustrent des modes de réalisation préférés de la présente invention, à titre d'exemples.
la figure 1 est une vue de dessus représentant un récipient hermétique sous vide selon un mode de réalisation de la présente invention;
la figure 2 est une vue en coupe transversale représentant un récipient hermétique sous vide selon un mode de réalisation de la présente invention; et
la figure 3 est une vue de dessus représentant un récipient hermétique sous vide selon un mode de réalisation modifié de la présente invention.
Les modes de réalisation selon la présente invention vont à présent être décrits ci-après en détail en se référant aux dessins annexés. Le récipient hermétique sous vide réalisé selon un mode de réalisation de la présente invention est représenté sur les figures 1 et 2. La figure 1 est une vue de dessus représentant un récipient hermétique sous vide appliqué sur un tube d'affichage fluorescent. La figure 2 est une vue en coupe transversale représentant un récipient hermétique sous vide, suivant la ligne de coupe A-A.
Dans le récipient hermétique sous vide représenté sur les figures 1 et 2, le premier substrat 2 et un deuxième substrat 3 sont disposés de manière à se faire face, à une faible distance l'un par rapport à l'autre. L'interstice entre les rebords des substrats est isolé hermétiquement avec un agent d'étanchéité 8. La première substance 2 et la deuxième substance 3 sont, par exemple, constitués de substrat en verre. Un groupe de cathodes à émission de champs planes est formé sur le premier substrat 2. Des anodes, recouvertes d'une substance fluorescente, sont formés sur la deuxième substance 3. Le premier substrat 2 et le deuxième substrat 3 sont espacés l'un de l'autre d'une distance comprise dans la plage allant de 200 um à 500 pm et sont fixés rigidement par l'agent d'étanchéité 8.
Le premier substrat 2 est légèrement décalé longitudinalement par rapport au deuxième substrat 3, en relation de face à face. Etant donné que le premier substrat 2 présente une taille supérieure à celle du deuxième substrat 3 comme représenté sur les figures, ces trois cotés font saillie vers l'extérieur du deuxième substrat 3. Le deuxième substrat 3 fait saillie partiellement du côté restant du premier substrat 2.
L'espace de dégazeur 4 de forme rectangulaire qui contient le premier dégazeur 7-1 et le deuxième dégazeur 7-2 est fixé rigidement au premier substrat 1 par l'agent d'étanchéité 8, de manière à recouvrir partiellement la partie saillante du deuxième substrat 3. Une pièce à trou de communication 9 de forme rectangulaire est fixée rigidement entre la partie saillante du deuxième substrat 3 et le boîtier de dégazeur 4 et à la surface d'extrémité du premier substrat 2. La pièce à trou de communication 9 présente un trou de communication 6 sur son extrémité. La pièce à trou de communication 9 est également fixée rigidement entre le deuxième substrat 3 et le boitier de dégazeur 4 par l'agent d'étanchéité 8.
Le trou de communication 6 ménagé dans la pièce à trou de communication 9 établit une communication entre le boîtier de dégazeur 4 et l'espace dans lequel est renfermée la partie d'affichage constituée du premier substrat 2 et du deuxième substrat 3.
Un tube d'échappement 5 est soudé sur la surface supérieure du boîtier de dégazeur 4. Une ouverture est formée sur la surface supérieure du boîtier de dégazeur 4 afin d'établir une communication entre le tube d'échappement 5 et le boîtier de dégazeur 4.
Le boîtier de dégazeur 4 loge le premier dégazeur 7-1 et le deuxième dégazeur 7-2. Le premier dégazeur 7-1 est un dégazeur de type à évaporation utilisant un matériau de dégazeur qui est constitué d'un alliage Ba-Al versé dans un cadre annulaire métallique. Par un chauffage à induction externe du cadre annulaire métallique au moyen d'ondes à haute fréquence, l'alliage Ba-Al est évaporé et appliqué par dépôt en phase vapeur ensuite sur la surface de paroi intérieure du boîtier de dégazeur 4. Le film déposé est dénommé miroir dégazeur du fait qu'il ressemble à un miroir.
En vue de former le miroir dégazeur, le premier substrat 2 sur lequel sont formées des cathodes à émission de champ est d'abord aligné avec le deuxième substrat 3 sur lequel sont formées des anodes recouvertes d'une substance fluorescente. Ensuite, la structure intermédiaire est isolée hermétiquement avec un agent d'étanchéité pour former le récipient hermétique 1 sous vide. Le récipient hermétique 1 sous vide est évacué pour être mis sous vide tout en effectuant un dégazage. Après avoir fermé hermétiquement le tube d'échappement 5, le premier dégazeur 7-1 est évaporé.
Après la formation du miroir dégazeur, le récipient hermétique 1 sous vide est cuit dans un four afin d'activer le dégazeur. La température de cuisson est de préférence comprise dans une plage allant de 200"C à 250"C. Les gaz occlus dans le récipient hermétique 1 sous vide sont libérés, mais sont absorbés au moyen du deuxième dégazeur 7-2.
Le deuxième dégazeur 7-2 peut être un dégazeur quelconque sélectionné dans le groupe comprenant un dégazeur de type à non-évaporation série Zr, un dégazeur
Ceto (contenant 80 % de Th et 20 % d'alliage Al-Ce), un dégazeur constitué d'une couche de substance poreuse, telle que du carborundum, et un dégazeur de type à évaporation série Mg. Ces dégazeurs présentent une capacité de dégazage suffisante même dans la plage de température de cuisson allant de 200"C à 250"C. Comme décrit ci-dessus, le premier dégazeur 7-1 en alliage Ba-Al présente une capacité de dégazage suffisante à des températures normales, mais ne dispose que de la moitié de ses capacités suite à l'opération de cuisson.
Selon la présente invention, le deuxième dégazeur 7-2 absorbe les gaz occlus dans le tube d'affichage durant l'opération de cuisson. le premier dégazeur 7-1 absorbe les gaz occlus dans le tube d'affichage à des températures normales. Ainsi, le récipient hermétique 1 sous vide peut être maintenu sous un degré de vide élevé pendant une longue période de temps.
Il peut être considéré qu'une bonne approche consiste à augmenter la quantité du premier dégazeur 7-1 constitué d'alliage Ba-Al. Cependant, une augmentation de la quantité du premier dégazeur 7-1 donne lieu à la production d'une grande quantité de gaz durant l'opération d'évaporation, de sorte que le récipient hermétique 1 sous vide peut être contaminé. Ainsi, il est impossible d'augmenter la quantité de matériau du premier dégazeur 7-1, réalisé en alliage
Ba-Al.
La figure 3 représente la structure d'un récipient hermétique sous vide selon un mode de réalisation modifié de la présente invention. Comme représenté sur la figure 3, deux chambres de dégazeur sont préparées et logent respectivement différents types de dégazeur.
En se référant à la figure 3, de manière analogue au récipient hermétique 1 sous vide représenté sur la figure 1, le récipient hermétique 1 sous vide comprend un premier substrat 1, un deuxième substrat 3 faisant face au premier substrat 2 de manière à être légèrement espacé, et un agent d'étanchéité servant à isoler hermétiquement les deux substrats 2 et 3. Le premier substrat 2 et le deuxième substrat 3 sont respectivement constitués par exemple de verre. Un groupe de cathodes à émission de champ plane est formé sur le premier substrat 2. Des anodes recouvertes d'une substance fluorescente sont formées sur le deuxième substrat 3. Le premier substrat 2 et le deuxième substrat 3 sont espacés d'une distance allant de 200 pm à 500 vm et sont fixés rigidement entre eux par un agent d'étanchéité 8.
Le premier substrat 2 et le deuxième substrat 3 se font face et sont légèrement décalés, de façon inclinée.
Etant donné que le premier substrat 2 et le deuxième substrat 3 présentent pratiquement la même taille, deux côtés font saillie du substrat opposé. De manière à recouvrir partiellement la partie saillante du deuxième substrat 3, le boîtier de dégazeur 4A rectangulaire contenant le premier dégazeur 7-1 et le boîtier de dégazeur 4B rectangulaire contenant le deuxième dégazeur 7-2 sont fixés rigidement au premier substrat 2 par un agent d'étanchéité. De manière analogue à la structure représentée sur la figure 2, une pièce à trou de communication de forme rectangulaire, présentant le trou de communication 6A, est fixée rigidement entre le boîtier de dégazeur 4A et la partie saillante du deuxième substrat 3 et à la partie latérale du premier substrat 2. Une pièce à trou de communication de forme rectangulaire ayant le trou de communication 6B est fixé rigidement entre le boîtier de dégazeur 4B et la partie saillante du deuxième substrat 3 et à la partie latérale du premier substrat 2. La pièce à trou de communication est également fixée rigidement entre le premier substrat 3 et le boîtier de dégazeur 4A par un agent d'étanchéité. La pièce à trou de communication est également fixée rigidement entre le premier substrat 3 et le boitier de dégazeur 4B par un agent d'étanchéité.
Le trou de communication 6A formé dans la pièce à trou de communication établit une communication entre le boîtier de dégazeur 4A et l'espace compris entre le premier substrat et le deuxième substrat 3, dans lequel est contenu un tube d'affichage. Le trou de communication 9B formé dans la pièce à trou de communication établit une communication entre le boîtier de dégazeur 4B et l'espace compris entre le premier substrat 2 et le deuxième substrat 3, dans lequel est contenu un tube d'affichage.
Un tube d'échappement 5A est soudé sur la surface supérieure du boîtier de dégazeur 4A. Un tube d'échappement 5B est soudé sur la surface supérieure du boîtier de dégazeur 4B. Un trou est formé dans la surface supérieure de dégazeur 4A afin d'établir une communication entre le tube d'échappement 5A et le boîtier de dégazeur 4A. Un trou est formé dans la surface supérieure du boîtier de dégazeur 4B afin d'établir une communication entre le tube d'échappement 5A et le boîtier de dégazeur 4B.
Le dégazeur 7-1 est stocké à l'intérieur du boîtier de dégazeur 4A. Le premier dégazeur 7-1 est un dégazeur de type à évaporation, utilisant un alliage Ba-Al obtenu dans un cadre métallique annulaire. Par un chauffage à induction externe du cadre annulaire métallique, effectué au moyen d'ondes à haute fréquence, l'alliage Ba-Al est évaporé et appliqué ensuite par dépôt en phase vapeur sur la surface de paroi intérieure du boîtier de dégazeur 4A.
Le deuxième dégazeur 7-2 est logé dans le boîtier de dégazeur 4B. Le deuxième dégazeur 7-2 peut être un dégazeur quelconque sélectionné dans le groupe comprenant un dégazeur de type à évaporation série Zr, un dégazeur Ceto (contenant 80 % de Th et 20 % d'alliage Al-Ce), un dégazeur constitué d'une couche de substance poreuse, telle que du carborundum, et un dégazeur de type à évaporation de série
Mg. Ces dégazeurs présentent une capacité de dégazage suffisante, même dans la plage de température de cuisson allant de 200"C à 250"C.
Dans le mode de réalisation modifié, le deuxième dégazeur 7-2 logé dans le boîtier de dégazeur 4B absorbe les gaz occlus dans le tube lors de l'opération de cuisson.
Le miroir dégazeur du premier dégazeur 7-1 projeté sur la surface de paroi intérieure du boîtier de dégazeur 4A absorbe les gaz occlus dans le tube à des températures normales. Il s'ensuit que le récipient hermétique sous vide peut être maintenu sous un vide élevé pendant une longue période de temps.
Dans le mode de réalisation modifié, meme lorsqu'un dégazeur de type à évaporation est utilisé à titre de deuxième dégazeur 7-2, les miroirs dégazeurs des deux dégazeurs ne se chevauchent pas du fait qu'ils sont placés différemment. Pour cette raison, chacun des dégazeurs peut fonctionner efficacement.
Le dégazeur contenu dans le boîtier de dégazeur 4A peut être utilisé à titre de deuxième dégazeur 7-2. Le dégazeur contenu dans le boîtier de dégazeur 4B peut être utilisé à titre de premier dégazeur 7-1.
Dans le récipient hermétique sous vide selon l'invention, décrit ci-dessus, étant donné que le deuxième dégazeur fonctionne complètement à la température de cuisson, il peut absorber les gaz occlus dans le tube.
Ainsi, le premier dégazeur peut conserver sa capacité d'absorption saturée même à des températures normales. Il s'ensuit que le tube d'affichage peut être maintenu pleinement sous un degré de vide élevé pendant une longue période de temps.
Ce qui a été décrit est considéré à titre d'exemple seulement des principes de la présente invention. En outre, étant donné que de nombreuses modifications et variantes vont facilement apparaître à l'Homme de l'art, on ne souhaite pas limiter 1 invention à la structure exacte et aux applications représentées et décrites et, par conséquent, toutes les modifications et équivalences appropriées peuvent être considérées comme faisant partie du champ d'application de l'invention contenu dans les revendications annexées et leurs équivalences.

Claims (5)

RFMF.NnTATTON
1. Récipient hermétique sous vide caractérisé en ce qu'il comprend un premier dégazeur (7-1) constitué d'une substance de dégazage qui fonctionne à des températures normales, et un deuxième dégazeur (7-2) constitué d'une substance de dégazage qui fonctionne à une température de cuisson.
2. Récipient hermétique sous vide selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit premier dégazeur (7-1) comprend un dégazeur de type à évaporation contenant au moins du Ba.
3. Récipient hermétique sous vide selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que ledit deuxième dégazeur < 7-2) comprend un dégazeur de type à non-évaporation, contenant au moins un élément sélectionné dans le groupe comprenant le Zr, Ti, Ta, Th et Cb.
4. Récipient hermétique sous vide selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que ledit deuxième dégazeur (7-2) comprend une substance poreuse contenant au moins du carbone.
5. Récipient hermétique sous vide selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que ledit deuxième dégazeur (7-2) comprend un dégazeur de type à évaporation contenant au moins du Mg.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005113376A1 (fr) * 2004-05-13 2005-12-01 Honeywell International Inc. Depot d’agent d’absorption de gaz pour conditionnement sous vide
US8002602B2 (en) 2008-01-31 2011-08-23 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method of vacuum airtight container

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6396207B1 (en) 1998-10-20 2002-05-28 Canon Kabushiki Kaisha Image display apparatus and method for producing the same
JP4857645B2 (ja) * 2005-08-03 2012-01-18 ソニー株式会社 平面型表示装置
JP5640893B2 (ja) * 2011-05-26 2014-12-17 株式会社デンソー 熱電子発電素子

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE606547C (de) * 1929-11-06 1934-12-05 Siegmund Loewe Dr Verfahren zur Herstellung von Hochvakuumroehren
US3131983A (en) * 1959-05-14 1964-05-05 John H O Harries Evacuation of vacuum and gas filled envelopes
US3356436A (en) * 1964-04-11 1967-12-05 Getters Spa Gettering system for electron tubes
US3820919A (en) * 1970-12-21 1974-06-28 Siemens Ag Zirconium carbon getter member
US4297082A (en) * 1979-11-21 1981-10-27 Hughes Aircraft Company Vacuum gettering arrangement
EP0436477A2 (fr) * 1990-01-05 1991-07-10 SAES GETTERS S.p.A. Dispositif de piégeage et système de piégeage pour un tube à rayons cathodiques
US5688708A (en) * 1996-06-24 1997-11-18 Motorola Method of making an ultra-high vacuum field emission display

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE606547C (de) * 1929-11-06 1934-12-05 Siegmund Loewe Dr Verfahren zur Herstellung von Hochvakuumroehren
US3131983A (en) * 1959-05-14 1964-05-05 John H O Harries Evacuation of vacuum and gas filled envelopes
US3356436A (en) * 1964-04-11 1967-12-05 Getters Spa Gettering system for electron tubes
US3820919A (en) * 1970-12-21 1974-06-28 Siemens Ag Zirconium carbon getter member
US4297082A (en) * 1979-11-21 1981-10-27 Hughes Aircraft Company Vacuum gettering arrangement
EP0436477A2 (fr) * 1990-01-05 1991-07-10 SAES GETTERS S.p.A. Dispositif de piégeage et système de piégeage pour un tube à rayons cathodiques
US5688708A (en) * 1996-06-24 1997-11-18 Motorola Method of making an ultra-high vacuum field emission display

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005113376A1 (fr) * 2004-05-13 2005-12-01 Honeywell International Inc. Depot d’agent d’absorption de gaz pour conditionnement sous vide
US8002602B2 (en) 2008-01-31 2011-08-23 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method of vacuum airtight container

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