FR2746212A1 - Matrice noire destinee a un dispositif d'affichage et son procede de fabrication - Google Patents
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Abstract
Matrice noire pouvant être réalisée sous la forme d'un film mince et ayant une épaisseur uniforme et une surface lisse. Un liquide formant matrice noire contenant des particules de pigment (1) de couleur noir, un composé de Si organique photosensible et un solvant polaire à point d'ébullition élevé est appliqué en revêtement sur un substrat (2) en verre afin de former un film mince, qui est ensuite exposé à la lumière à travers un masque. Ensuite, le substrat (2) en verre est exposé à une calcination, fournissant de ce fait une matrice noire. Le composé de Si organique photosensible est converti en SiO2 par une calcination, qui contribue à donner une augmentation de la résistance de fixation de la matrice noire.
Description
Matrice noire destinée a un dispositif d'affichage et son procédé de fabrication
La présente invention concerne une actrice noire destirée a un dispositif d'affichage et, plus particulièrement, une matrice noire disposée autour d'éléments c'image d'un dispositif d'affichage, afin d'interrompre une lumiere introduite depuis derriere le dispositif, afir d'améliorer la visibilité de l'affichage du dispositif, et concerne son procédé de fabrication.
La présente invention concerne une actrice noire destirée a un dispositif d'affichage et, plus particulièrement, une matrice noire disposée autour d'éléments c'image d'un dispositif d'affichage, afin d'interrompre une lumiere introduite depuis derriere le dispositif, afir d'améliorer la visibilité de l'affichage du dispositif, et concerne son procédé de fabrication.
n vue d'amé@@orer le cotitraste offert sur un plan d'affichage d'un dispositif d'affichage et la visibilité de l'affichage, le plan d'affichage est souvent pourvu, sur sa partie autre que les éléments d'image, d'une couche noire interrompant le passage d'une lumière introduite depuis l'extérieur dans le cispositif. Une telle couche d'interruption est agencée entre des éléments d mage disposés régulièrement afin ce former le plan d'affichage, donnant lieu a te que l'on appelle une matrice noire (BM).
La matrice noire est globalement utilisée dans une variété de dispositifs d'affichage. En réalité, elle est constituée d'un matériau sélectionné d'apres le type du dispositif d'affichage et conçue d'une manière déterminée d'après le type. Par exemple, lorsque la natrice noire est appliquée a un tube à rayon cathodique (CRT), il est nécessaire que la matrice noire soit constituée d'un matériau résistant suffisamment la chaleur pour résister a un traitement thermique exécuté en vue d'isoler hermétiquement le
CRT. De même, la matrice noire doit présenter une conductivité suffisante pour empêcher que des électrons emis par un canon d electrons soient chargés sur elle.
CRT. De même, la matrice noire doit présenter une conductivité suffisante pour empêcher que des électrons emis par un canon d electrons soient chargés sur elle.
Ainsi, i la i , 1 a matrice noire destinée au CRT est globalement constituée, par exemple, de graphite par décollement.
Au contraire, une matrice noire, utilisée pour un dispositif à cristaux liquides (LCD), peut être constituée d'un matériau organique ou bien d'un matériau non organique. Cependant, le LCD est un élément d'affichage utilisant une luniere de couleur noire, si bien que la matrice noire do:t présenter une plus grande densité optique (OD), qui est exprimée par l'expression "log(facteur de transmission de la lumière)-@", Ains@, la matrice noire destinée au LCD est globalement @éalisée en un matériau non organique tel que, par exemple, du Cr ou une combinaison de Cr et de CrOx, par pulvérisation cathod'que ou gravure chimique, ou en un matériau organique telle qu'une résine, par photolithographie.
Un dispositif d'affichage fluorescent, qui est globalement conru dans l'art sous le non de dispositif fluorescent sous vide (VF@), est congu de manière que, dans une enveloppe évacuée afin d'obte1,ir un vide élevé, des électrons émis par des cathodes heurtent des anodes, donnant lieu à une luminescence des luminophores se trouvant sur les anodes. Des cathodes à émission de champ (FEC) sont souvent utilisées à titre de cathodes pour le VFD. La FEC est ccnçue de manière qu'un champ électrique, produit par une grille agencee à proximité des émetteurs, permette a des électrons d'etre émis par champ depuis une extrémité distale des émetteurs, Un VFD qui présente de tilles FEC incorporées en son sein est spécifiquement dénommé "dispositif à émission de champ" (FED).
La fabrication du VFD ou FED comprend une étape de traitement thermique a une température elevee, telle qu'une étape d'isolation hermétique d'une enveloppe, une étape de cal ci nation de couches de luminophore DU analogue. AInsi, la matrice noire destinée au VFD doit résister 3 un tra@tement thermique effectue a une température aussi élevée qu'à peu près a0 C, De même, elle doit être constituée d'un matériau ayant une plus grande résistance électrique. Lorsque l'on considère un matériau destiné a matériau de couleur noire à partir d'un tel point de vue, le graphite est conducteur, le
Cr est conducteur et engendre un plus grand coût de fabrication le Cr et le CrOx présentent une moindre résistance électrique et engendrent un plus grand coût de fabrication, et la résine ne parvient pas a présente@ une résistance thermique satisfaisante et présente une geindre o i n d r e 0 OD.
Cr est conducteur et engendre un plus grand coût de fabrication le Cr et le CrOx présentent une moindre résistance électrique et engendrent un plus grand coût de fabrication, et la résine ne parvient pas a présente@ une résistance thermique satisfaisante et présente une geindre o i n d r e 0 OD.
La préserte invention a été réalisée au vu de l'inconvénient précité de l'art antérieur.
Par ccnséquent, un but de la présente invention e s t de propose r une matrice noire destinée à un dispositif c'affichage, qui puisse être utilisé de manière appropriée pour un VFD et un FED.
Un autre bu de la présente invention est de proposer un procédé ce fabrication dune telle matrice noire.
Sel on un aspect de la présente invention, il est proposé une matrice no noire. La matrice noire comprend du SiO2 préparé par une calcination d'un composé de Si organique et disposé sur un substrat en verre, et des particules de pigment noir dispersées et fixees dans le SiO2.
Selon un autre aspect de la présente invention, il est proposé un procédé de fabrication d'une matrice noire. Le procédé comprend les étapes de préparation d'un liquide dormant matrice noire contenant des particules de pigment noir, un composé de Si organique et un solvant polaire à point d'ébullition élevés application du liquide formant matrice noire sur une surface d'un substrat en verre afin de former un film mince; exposit@ or dudit film Mince à une formation de motif; et exposition du substrat en verre à une calcination.
Dans un mode de réalisation préféré de la présente invention, les particules de pigment noir présentent un diamètre particulaire de 0,1 m ou moins.
Dans un mode de réalisation préféré de la présente invention, le composé de Si organique est un polymère préparé par une exposition à une copolymérisation d'un alcoxysilane à quatre fonctionnalités et d'un alcoxysilane contenant un groupe alkyl,
Dans un mode de réalisation préféré de la présente invention, le rapport selon lequel l'alcoxysilane à quatre fonctionnalités et l'alcoxysilane contenant un groupe al kyl sort mélangés entre eux est varié, donnant lieu au contrôle du nombre ce groupes alkyl dans le polymère.
Dans un mode de réalisation préféré de la présente invention, le rapport selon lequel l'alcoxysilane à quatre fonctionnalités et l'alcoxysilane contenant un groupe al kyl sort mélangés entre eux est varié, donnant lieu au contrôle du nombre ce groupes alkyl dans le polymère.
Dans un mode de réalisation préféré de la présente invention, le composé de Si organique contient un polymère contenant un groupe photosensible qui est préparé par une exposition à une copolymérisation d'un alcoxysilane à quatre fonctionnalités et d'un alcoxysilane contenant un groupe photosensible.
Dans un mode de réalisation préféré de la présente inventior, le rapport selon lequel l'alcoxysilane à quatre fonctionnalités et l'alcoxysilane contenant un groupe photosensible sont mélangés entre eux est varié, donnant lieu au contrôle du nombre de groupes photosensibles dans le polymère.
D ans un mode de @éalisation préféré de la présente invention, le composé de Si organique comprend un initiateur de photopolymérisation et un auxiliaire.
Dars un mode de réalisation préféré de la presente invention, e procédé comprend en outre les étapes de revêtement d'un vernis à couvrir sur le film mince, d'exposition du vernis à couvrir sur le film mince à une lumière 3 raviers un masque réalisé sous la for d'un motif de la matrice noire devant etre formée, d'élimination, par développement, d'une partie CL vernis à couvrir depuis le motif de la matrice noire devant être formée; et d'élimination, par gravure chimique, d une partie du fi@m mince disposee autour du vernis à couvrir @éalisé sous la forme du motif du filtre à former, suivi d'une élimination du vernis a couvrir.
En variante, le procedé peut comprendre en outre les étapes d'exposition du film mince à la lumière à travers or masque réalise sous la fane d'un motif de la matrice noire à former; et élimination, par développement, d'une partie du film mirce autre que sa
Fartie a r t i e qui sert de matrice noire.
Fartie a r t i e qui sert de matrice noire.
Ces buts, ainsi que d'autres, ainsi qu'un grand nombre des avantages afferts par la présente invention vont apparaître facilement c@-après en se référant à la description détaillée qui suit, faite en liaison avec les dessins anrexés, dans lesquels :
la figure 1(a) est une vue en coupe transversa e représentant un mode de ce réalisation d'un filtre coloré selon la présente invention;
la figure 1(b) est une vue en coupe transversa@e représentant un filtre coloré classiques et
la Figure 2 est une vue en coupe transversale représentant un dispositif d'affichage fluorescent pourvu d une matrice @oire selon la présente invention
La présente invention est décrite ci-après en se référant aux figures 1 et 2, qui illustrent un eDde de réalisation de chacun parlai une natrice noire et un dispositif d'affichage fluorescent pourvu d'un filtre coloré, comprenant une telle matrice noire selon la présente invention. Des filtres colorés des trois couleurs, o@ des couleurs rouge (R), verte (G) et bleue (B; sont prévus selon une régularité prédéterminée sur un plan d'affichage du dispositif d'affichage fluorescent. La matrice noire sert de paroi de séparation ou de délimitation entre chaque couple de filtres colorés adjacents. Le mode de réalisation illustré est conçu de manière à présenter trois couleurs ou des couleurs rouge (R), verte (G) et bleue (B). D'abord, des matériaux destinés à un liquide formant matrice noire et analogue, qui sont utilisés dans la fabrication de la matrice noire, sont décrits ci-après. Le liquide formant matrice noire contient un matériau photosensible et est appliqué en revêtement sur un substrat en verre. Ensuite, le liquide formant matrice noire est exposé à une formation de motif et à
un développement a l'aide d'un masque et d'une unité de rayonnement de lumière, donnant lieu à une réalisation sous une forme ce matrice souhaitée quelconque.
la figure 1(a) est une vue en coupe transversa e représentant un mode de ce réalisation d'un filtre coloré selon la présente invention;
la figure 1(b) est une vue en coupe transversa@e représentant un filtre coloré classiques et
la Figure 2 est une vue en coupe transversale représentant un dispositif d'affichage fluorescent pourvu d une matrice @oire selon la présente invention
La présente invention est décrite ci-après en se référant aux figures 1 et 2, qui illustrent un eDde de réalisation de chacun parlai une natrice noire et un dispositif d'affichage fluorescent pourvu d'un filtre coloré, comprenant une telle matrice noire selon la présente invention. Des filtres colorés des trois couleurs, o@ des couleurs rouge (R), verte (G) et bleue (B; sont prévus selon une régularité prédéterminée sur un plan d'affichage du dispositif d'affichage fluorescent. La matrice noire sert de paroi de séparation ou de délimitation entre chaque couple de filtres colorés adjacents. Le mode de réalisation illustré est conçu de manière à présenter trois couleurs ou des couleurs rouge (R), verte (G) et bleue (B). D'abord, des matériaux destinés à un liquide formant matrice noire et analogue, qui sont utilisés dans la fabrication de la matrice noire, sont décrits ci-après. Le liquide formant matrice noire contient un matériau photosensible et est appliqué en revêtement sur un substrat en verre. Ensuite, le liquide formant matrice noire est exposé à une formation de motif et à
un développement a l'aide d'un masque et d'une unité de rayonnement de lumière, donnant lieu à une réalisation sous une forme ce matrice souhaitée quelconque.
(1) Pigment
Un pigment se présente sous a forme de particules de couleur noire constituées d'oxydes composites de Cu-Fe-Mn ou ceux de Cu-Cr-Mn et présente un diamètre particul aire moyen de 0,1 m ou moins et préférence d'à peu près 0,06 pm. De même, le pigment pressente une aire d e surface spécifique de 30 i 2/ g.
Un pigment se présente sous a forme de particules de couleur noire constituées d'oxydes composites de Cu-Fe-Mn ou ceux de Cu-Cr-Mn et présente un diamètre particul aire moyen de 0,1 m ou moins et préférence d'à peu près 0,06 pm. De même, le pigment pressente une aire d e surface spécifique de 30 i 2/ g.
(2) Composé de Si Organique Photosensible, utilisé à titre de Compose de Si Organique
Dans le mode de réalisation illustré, la matrice noire est formée sur le substrat en verre. Le
Si se trouvant dans un composé de Si organique photosensible se conforme au verre, si bien que le SiO2 convient pour une utilisation à titre dtagent fixation par rapport au verre. Ainsi qu'il apparaît d'une formule de réaction (i) décrite ci-après, une copolymérisation entre un alcoxysilane à quatre fonctionnai tés et un agent de couplage de silane comprenant un alcoxysilane contenant un groupe photosensible donne lieu à la formation d'un polymère contenant un groupe photosensible. Le coMposé de Si organique photosensible décrit ci-dessus comprend le polymère ainsi formé. En variante, il comprend au Moins le polymère.
Dans le mode de réalisation illustré, la matrice noire est formée sur le substrat en verre. Le
Si se trouvant dans un composé de Si organique photosensible se conforme au verre, si bien que le SiO2 convient pour une utilisation à titre dtagent fixation par rapport au verre. Ainsi qu'il apparaît d'une formule de réaction (i) décrite ci-après, une copolymérisation entre un alcoxysilane à quatre fonctionnai tés et un agent de couplage de silane comprenant un alcoxysilane contenant un groupe photosensible donne lieu à la formation d'un polymère contenant un groupe photosensible. Le coMposé de Si organique photosensible décrit ci-dessus comprend le polymère ainsi formé. En variante, il comprend au Moins le polymère.
<tb>
<SEP> o <SEP> x
<tb> <SEP> Catalyseur <SEP> I <SEP> I
<tb> Si(3R)4 <SEP> + <SEP> Si <SEP> (Oit)3X <SEP> > <SEP> ~(Si~O~Si~O)n~
<tb> <SEP> H2 <SEP> I <SEP> i
<tb> <SEP> o <SEP> o
<tb>
Dans la formule de réaction (1), R est un groupe alkyl et X est un groupe photosensible. Un rapport entre l'alcoxysilane à quatre fonctionnalites et l'alcoxysilane contenant un groupe photosensible peut être établi à volonté dans une plage allant de 0:50 à 0:100. Les agents de couplage de silane contenant un groupe photosensible peuvent comprendre oes agents de couplage de silane ayant chacun un groupe photosensible, tel qu'un groupe acryloyl , un groupe vinyle ou analogue. par exemple, les agents de couplage de silane comprennent du vinyle triméthoxy silane exprimé par une formule chimique (2) décrite ci-après, ou γ-méthacryloxy propyl triméthoxy silane exprimé par ne formule chimique (3) décrite ci-après, du Y-méthacryloxy propyl triéthoxy silane exprimé par une formule chimique (4) décrite ci-après et analogues.
<tb> <SEP> Catalyseur <SEP> I <SEP> I
<tb> Si(3R)4 <SEP> + <SEP> Si <SEP> (Oit)3X <SEP> > <SEP> ~(Si~O~Si~O)n~
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Dans la formule de réaction (1), R est un groupe alkyl et X est un groupe photosensible. Un rapport entre l'alcoxysilane à quatre fonctionnalites et l'alcoxysilane contenant un groupe photosensible peut être établi à volonté dans une plage allant de 0:50 à 0:100. Les agents de couplage de silane contenant un groupe photosensible peuvent comprendre oes agents de couplage de silane ayant chacun un groupe photosensible, tel qu'un groupe acryloyl , un groupe vinyle ou analogue. par exemple, les agents de couplage de silane comprennent du vinyle triméthoxy silane exprimé par une formule chimique (2) décrite ci-après, ou γ-méthacryloxy propyl triméthoxy silane exprimé par ne formule chimique (3) décrite ci-après, du Y-méthacryloxy propyl triéthoxy silane exprimé par une formule chimique (4) décrite ci-après et analogues.
(CH3O)3SiCH=CH2 ... (2)
(3) Solvant
(a) En vue de 1 liquéfier le composé de Si organique photosensible décrit ci-dessus, afin de faciliter le revêtement du composé de Si sur le substrat en verre un solvant polaire à point d'ébullition élevé à base de propylène glycol éther est utilisé. Le solvant est avantageux en ce qu'il est d fficile à sécher du fait qu'il présente un point d'ébullition éleve, dcnnant lieu à un revêtement d'une épaisseur réquite. De même, il s'agit d'un solvant polaire, facilitant de ce fait la dispersion d'autres
ingrédients en son sein. Les solvants comprennent, par exemple, -'e e dipropylène glycol méthyle éther (point d'ébullition : 188 C), le tripropylène glycol méthyle éther (242 "C) éthylène glycol méthyle éther (125 C), l'éthylène glycol éthyle éther (136 C), l'éthylène glycol butyle éther (171 C), le ciéthylène glycol méthyle éther (194 C), le diéthylène glycol éthyle éther (202 C) et le diéthylène glycol butyle éther (230 C).
(a) En vue de 1 liquéfier le composé de Si organique photosensible décrit ci-dessus, afin de faciliter le revêtement du composé de Si sur le substrat en verre un solvant polaire à point d'ébullition élevé à base de propylène glycol éther est utilisé. Le solvant est avantageux en ce qu'il est d fficile à sécher du fait qu'il présente un point d'ébullition éleve, dcnnant lieu à un revêtement d'une épaisseur réquite. De même, il s'agit d'un solvant polaire, facilitant de ce fait la dispersion d'autres
ingrédients en son sein. Les solvants comprennent, par exemple, -'e e dipropylène glycol méthyle éther (point d'ébullition : 188 C), le tripropylène glycol méthyle éther (242 "C) éthylène glycol méthyle éther (125 C), l'éthylène glycol éthyle éther (136 C), l'éthylène glycol butyle éther (171 C), le ciéthylène glycol méthyle éther (194 C), le diéthylène glycol éthyle éther (202 C) et le diéthylène glycol butyle éther (230 C).
(b) Comme on le souhaite, une résine à photocomposit or tel que, par exemple un monomère
représenté par PEG, HEMA ou analogue, est ajouté au
solvant. Dans le mode de réalisation illustré, le compose de Si organique photosensible est utilisé à
titre de compose de Si organique, par conséquent
l apport de résine à photocomposition est inutile.
représenté par PEG, HEMA ou analogue, est ajouté au
solvant. Dans le mode de réalisation illustré, le compose de Si organique photosensible est utilisé à
titre de compose de Si organique, par conséquent
l apport de résine à photocomposition est inutile.
Cependant, rapport de la resine contribue à donner une augmentation de la sensibilité du solvant aux rayons ultraviolets.
(4) Initiateur de Photopolymérisation
En vue de démarrer de façon satisfaisante une réaction de polymérisation du liquide formant matrice noire, un initiateur de polymérisation à base de
thioxanthone, tel que le DETX (diéthylthioxanthone), un
initiateur de photopolymérisation à base de be n z ophén one, tel que le BP100, ou analogue, peut être ajouté au liquide formant matrice noire. Le DETX présente la structure exprimée par la formule chimique (5) qui suit
En vue de démarrer de façon satisfaisante une réaction de polymérisation du liquide formant matrice noire, un initiateur de polymérisation à base de
thioxanthone, tel que le DETX (diéthylthioxanthone), un
initiateur de photopolymérisation à base de be n z ophén one, tel que le BP100, ou analogue, peut être ajouté au liquide formant matrice noire. Le DETX présente la structure exprimée par la formule chimique (5) qui suit
(5) Auxiliaire
Une amine auxiliaire, tel que le triéthanol an@ne (TEA) ou analogue, peut être ajoutée à titre d'auxillaire concernant l'initiateur pour le liquide formant matrice noire.
Une amine auxiliaire, tel que le triéthanol an@ne (TEA) ou analogue, peut être ajoutée à titre d'auxillaire concernant l'initiateur pour le liquide formant matrice noire.
Les matériaux decrits ci--dessus sont utilisés afin de préparer le @ qui de formant matrice noire. A cette fin, d'abord, 20 % du pigment, 10 t du composé de
Si organique photosensible et 70 % du solvant sont mélangés ensemble sur une base de poids, permettant de ce fait d'obtenir un mélange. Le mélange ainsi obtenu est exposé à urie dispers@on, dissociant de ce fait le pigment er particules p@imaires. La dispersion peut être effectuée au moyen d un broyeur à billes, d'un broyeur à sable (nanomiseur) ou analogue. Une telle dissociation force les particules primaires à présenter n diamètre particulaire de 0,1 m ou moins, augmentant de ce fait la puissance de masquage de la matrice noire et ses propriétés de protection contre la lumière. Le solvant peut être entièrement ou partiellement remplace par une résine a photocomposition et l'initiateur de photopo@ymérisation et @@auxiliaire peuvent chacun être ajoutés selon une quantité appropriée.
Si organique photosensible et 70 % du solvant sont mélangés ensemble sur une base de poids, permettant de ce fait d'obtenir un mélange. Le mélange ainsi obtenu est exposé à urie dispers@on, dissociant de ce fait le pigment er particules p@imaires. La dispersion peut être effectuée au moyen d un broyeur à billes, d'un broyeur à sable (nanomiseur) ou analogue. Une telle dissociation force les particules primaires à présenter n diamètre particulaire de 0,1 m ou moins, augmentant de ce fait la puissance de masquage de la matrice noire et ses propriétés de protection contre la lumière. Le solvant peut être entièrement ou partiellement remplace par une résine a photocomposition et l'initiateur de photopo@ymérisation et @@auxiliaire peuvent chacun être ajoutés selon une quantité appropriée.
Le liquide formant matrice noire ainsi prépare est appliqué en revêtement sur une surface de la plaque de verre au moyen d'un épandeuse centrifuge.
L'épandeuse centrifuge comprend un disque entraîné en rotation à une vitesse de 1000 à 3000 t/min. Le substrat en verre est monté sur le disque, qui est ensuite entrain en rotation à une vitesse prédéterminée. Ensuite, le liquide formant matrice noire est laissé tonner er une quantité appropriée sur le substrat en verre entraîné en rotation conjointe ment avec le disque, donnant lieu à la formation d'un film mince sur la plaque en verre, tout en étant répandu vers l'extérieur par une force centrifuge lui étant appliquée, si bien qu'un film est préparé. La quantité de liquide formant matrice noire qui est laissé tomber, la vitesse de rotation de la plaque en verre, la période nécessaire pour la formation du film et analogue peuvent être réglées de manière appropriée afin de permettre au film d'être formé selon une épaisseur souhaitée.
insu te, le substrat en verre ayant sur lui le film ainsi forme est exposé à un séchage préalable au four, à une température de 120 à 150 C. Ensuite, un masque, qu présente un motif correspondant à une configuration de la matrice noire devant être formée du liquide de formation, est pl acé sur le substrat en serre, qui est ensuite expose à une lumière passée 3 travers le nascue, suivi par un développement du substrat en verre, connant lieu à la formation du fila présenté sous la forme d'un motif prédéterminé.
Ensuite, le substrat en verre est exposé à un séchage ultérieur aL four, dans une plagie de températures allant de 140 a 150 C.
Puis, le substrat en verre est exposé à une calcination dars une atosphere oxydante. Ceci provoque une décomposition d'un matériau organique contenu dans le film dans l'atmosphère oxydante et l'oxydation du
Si, a-in de donner du SiO2. Le SiO2 ainsi formé contri@ue à la fixation des particules du pigment noir, donnant lieu à l'achèvement de la matrice noire.
Si, a-in de donner du SiO2. Le SiO2 ainsi formé contri@ue à la fixation des particules du pigment noir, donnant lieu à l'achèvement de la matrice noire.
Le tableau 1 représente les caractéristiques optiques de la matrice noire du mode de réalisation illustré ainsi forme, tout en étant comparées avec celles d'une matrice noire classique.
Tableau 1
Epaisseur OD Facteur de
de film ( m) (%) reflexion
Présente 0.8 3.0 1.2
Invention 1.1 4 ou plus 1.2
Cr 0.12 4 ou plus 50
Cr/CrOx 0.1E 4 ou plus 1-3
Resine 1.2 2.3 0.5
L'une des caractéristiques les plus importantes nécessaires pour une matrice noire réside dans les caractéristiques optiques. Avoir une diminution à la fois d facteur de transmission et du facteur de réflexion ce la 1umière permet d'améliorer la visibilité ce l'aff@ chage. Les deux matrices noires préparées selon la présente invention présentent un facteur de réfection sensiblement identique à c-elui du
CR/CrOx et @@ésentent une valeur de densité optique (CD) sensiblement supérieure à celle du film de résine pour une épaisseur de film. La matrice noire ayant une valeur OD de 2 ou plus est utilisée efficacement pour
n dispositif d'affichage fluorescent, du fait que le dispositif ne constitue pas le type de couleur noire tel qu'un LCD. Ainsi il à voter que la matrice noire d mode de réalisation illustré présente des cractéristiques optiques satisfaisantes.
Epaisseur OD Facteur de
de film ( m) (%) reflexion
Présente 0.8 3.0 1.2
Invention 1.1 4 ou plus 1.2
Cr 0.12 4 ou plus 50
Cr/CrOx 0.1E 4 ou plus 1-3
Resine 1.2 2.3 0.5
L'une des caractéristiques les plus importantes nécessaires pour une matrice noire réside dans les caractéristiques optiques. Avoir une diminution à la fois d facteur de transmission et du facteur de réflexion ce la 1umière permet d'améliorer la visibilité ce l'aff@ chage. Les deux matrices noires préparées selon la présente invention présentent un facteur de réfection sensiblement identique à c-elui du
CR/CrOx et @@ésentent une valeur de densité optique (CD) sensiblement supérieure à celle du film de résine pour une épaisseur de film. La matrice noire ayant une valeur OD de 2 ou plus est utilisée efficacement pour
n dispositif d'affichage fluorescent, du fait que le dispositif ne constitue pas le type de couleur noire tel qu'un LCD. Ainsi il à voter que la matrice noire d mode de réalisation illustré présente des cractéristiques optiques satisfaisantes.
Les inventeurs ont effectué une expérience sur ure amélioration du contraste d'un dispositif d'affichage fluorescent par la matrice noire du mode de réalisation illustré, tout en la montant sur le dispositif d'affichage fluorescent Les résultats sont ceux indiqués dans le tableau 2.
Au cours de l'expérience, un film constitué du 1 iquide formant matrice noire a été formé sur le substrat en verre par une calcination et exposé à une g@avure chimique à l'aide d'acide fluorhydrique tamponné (BHF), donnant lieu à la formation d'un motif de matrice noire d'une largeur en ligne de 60 pn, sur un plan d'affichage. La matrice noire a été pourvue d'une partie d'affichage lumineuse d'un dispositif d'affichage fluorescent, de manière classique. La matrice noire a été pourvue de manière classique d'une partie d'affichage lumineuse d'un dispositif c'affichage fluorescent. Le plan d'affichage a été irradié avec une Ilcmière dans une direction de 30 par rapport à la direction verticale, au moyen d'une lampe ralogène, donnant lieu à une luminance (CD/m2) sur le plan d'affichage qui est mesurée à 1 'aide d'un appareil ce mesure de luminance. De même, la luminance (CD/m2) sur le plan d'affichage, lorsque le dispositif d'affichage fluorescent est maintenu en service et hors service, a été mesurée à l'aide d'un appareil de mesure de luminance, tout en réglant sélectivenent l'éclairement (LX) sur le plan d'affichage à des valeurs de 100, 200 et 500, au moyen d'une lampe halogène La luminance [MARCHE] abtenue lorsque le dispositif d'affichage fluorescent est maintenu en service est la somme de la luminance imputable à une luminescence du dispositif d'affichage fluorescent et de la luminance imputable à une réflexion sur le plan d'affichage, tandis que la luminance [ARR-.T], lorsqu'il est mis hors service, est la luminance imputable à la réflexion sur le plan d'affichage. La mesure a été effectuée à la fois lorsque la matrice noire est agencée sur le dispositif d'affichage fluorescent et 1 orsque le dispositif est exempt de la matrice noire.
Un facteur de contraste CR a été calculé, par la formule CR = [MARCHE]/[ARR@T].
Tableau 2
Lumière externe (lx) 100 200 500
Contraste Avec BM* 26 13 6
(CR) Avec BM* 40 20 9
@BM indique une matrice noire
omme or le note à partir de ce qui précédé, le dispositif d'affichage fluorescent, pourvu de la matrice noire, présente un plus grand contraste par rapport à celui exampt de cette dernière, irdependanment d'une var ation ce la lumière externe.
Lumière externe (lx) 100 200 500
Contraste Avec BM* 26 13 6
(CR) Avec BM* 40 20 9
@BM indique une matrice noire
omme or le note à partir de ce qui précédé, le dispositif d'affichage fluorescent, pourvu de la matrice noire, présente un plus grand contraste par rapport à celui exampt de cette dernière, irdependanment d'une var ation ce la lumière externe.
Ainsi, il s'est avéré que le montage de la patrice noire sur le dispositif d'affichage fluorescent contribuait à donner une amélioration du contraste sur le plan d'affichage du dispositif d'affichage fluorescent,
La présente invention permet aux composés de Si c rgan i ques photosens i b1 es, non seulement de favoriser la dispersion ou pigment dans le liquide formant matrice noire, mais de maintenir le pigment, ainsi cispersé, à 1 'etat dispe-se dans le 1 iquide
Le composé de Si organique photosensible est transforiné en SiO2 par une calcination, si bien que la patrice noire obtenue peut présenter une bien plus grande résistance de fixation, aussi élevée que 9H dans an test de dureté à la pointe.
La présente invention permet aux composés de Si c rgan i ques photosens i b1 es, non seulement de favoriser la dispersion ou pigment dans le liquide formant matrice noire, mais de maintenir le pigment, ainsi cispersé, à 1 'etat dispe-se dans le 1 iquide
Le composé de Si organique photosensible est transforiné en SiO2 par une calcination, si bien que la patrice noire obtenue peut présenter une bien plus grande résistance de fixation, aussi élevée que 9H dans an test de dureté à la pointe.
Dans la présente invention telle que représentée sur @ a figure 1(a), un pigment 1 est fixé dans du SiO2 tout en étant maintenu dispersé de façon satisfaisante permettant de ce fa7t d la matrice noire de présenter de plus grandes caractéristiques optiques et une surface plane ayant un bon aspect brillant. Au contraire, la matrice noire comme représentée sur la figure 1(b), provoque la fusion d'un pigment 1 dans la matrice noire, rendant de ce fait rugueuse une surface de la matrice roire à In degré suffisant pour provoquer 1 a diffusion d'une lumière incidente sur la surface.
Par exemple, il s'est avéré que, en supposant que aspect brillant d'une plaque de verre de référence est de 100, la matrice noire du mode de réalisation il lustré présente un aspect brillant de 100, tandis que la matrice noire classique présente un aspect brillant cie 10 ou moins. Ainsi la matrice noire de la présente
invention permet le laminage d'un film supplémentaire sur la matrice noire, pratiquement dans les mimes conditions que le laminage sur une feuille de verre.
invention permet le laminage d'un film supplémentaire sur la matrice noire, pratiquement dans les mimes conditions que le laminage sur une feuille de verre.
Dans le mode de réalisation illustré, le groupe photosensible et le groupe alkyle du composé de Si organique photosensible servent à éviter toute contrainte à l'irtérieur du film durant la formation de
SiO2 en raison de la calcination du composé de Si organique photosersible. Le groupe photosensible et le groupe al alkyle sont ours à oxyder, étant empêchés de ce fait de brûler en un moment, si bien que le film à calciner sans se fissurer, entraînant une transformation graduelle en verre. Ceci permet d'augmenter l'épaisseur de la matrice noire à une valeur aussi élevé qu'à peu prés 25 pmss tout en l'empêchant de se fissurer.
SiO2 en raison de la calcination du composé de Si organique photosersible. Le groupe photosensible et le groupe al alkyle sont ours à oxyder, étant empêchés de ce fait de brûler en un moment, si bien que le film à calciner sans se fissurer, entraînant une transformation graduelle en verre. Ceci permet d'augmenter l'épaisseur de la matrice noire à une valeur aussi élevé qu'à peu prés 25 pmss tout en l'empêchant de se fissurer.
Dans le mode de réalisation il lustré, le matériau non-organique, tel que le pigment et un groupe
OH, présentent une affinité satisfaisante l'un par rapport à 1 'autre et le solvant organique et le groupe alkyle présentent, de maniere analogue, une bonne affinité entre eux. Un tel effet de couplage permet aux pigments d'être dispersés dans la phase liquide et d'y être maintenus dispersés. De meme, la compatibilité entre le solvant et le pigment peut être améliorée d'après le groupe alkyle du composé de Si organique photosensible
Le composé de Si organique photosensible servant de composé de Si organique dans le mode de réalisation illustré peut être obtenu d'après la formule de réaction (6) qui suit, en outre la formule de réaction (1) décrite c i -dessus
OH, présentent une affinité satisfaisante l'un par rapport à 1 'autre et le solvant organique et le groupe alkyle présentent, de maniere analogue, une bonne affinité entre eux. Un tel effet de couplage permet aux pigments d'être dispersés dans la phase liquide et d'y être maintenus dispersés. De meme, la compatibilité entre le solvant et le pigment peut être améliorée d'après le groupe alkyle du composé de Si organique photosensible
Le composé de Si organique photosensible servant de composé de Si organique dans le mode de réalisation illustré peut être obtenu d'après la formule de réaction (6) qui suit, en outre la formule de réaction (1) décrite c i -dessus
<tb> <SEP> O
<tb> <SEP> Catalyseur <SEP> 1 <SEP> 1
<tb> Si(OR)3 <SEP> X <SEP> > <SEP> -(Si-O-Si-O)n- <SEP> .. <SEP> (6)
<tb> <SEP> H20
<tb> <SEP> O <SEP> X
<tb> <SEP> I
<tb>
La réaction a lieu dans des conditions dans lesquelles le rapport entre l'alkoxysilane à quatre fonctionnalités et l'agent de couplage de silane comprenant l'alkoxysilane contenant un groupe photosensible dans la formule de réaction (1), dans lequel les deux natériaux sont exposés à une copolymérisation, est établi à la valeur 0:100. Ainsi, une telle copolymérisation de l'agent de couplage de silane comprenant l'alkoxysilane contenant un groupe photosensible donne lieu à la formation d'un polymère ayant un groupe photosensible.
<tb> <SEP> Catalyseur <SEP> 1 <SEP> 1
<tb> Si(OR)3 <SEP> X <SEP> > <SEP> -(Si-O-Si-O)n- <SEP> .. <SEP> (6)
<tb> <SEP> H20
<tb> <SEP> O <SEP> X
<tb> <SEP> I
<tb>
La réaction a lieu dans des conditions dans lesquelles le rapport entre l'alkoxysilane à quatre fonctionnalités et l'agent de couplage de silane comprenant l'alkoxysilane contenant un groupe photosensible dans la formule de réaction (1), dans lequel les deux natériaux sont exposés à une copolymérisation, est établi à la valeur 0:100. Ainsi, une telle copolymérisation de l'agent de couplage de silane comprenant l'alkoxysilane contenant un groupe photosensible donne lieu à la formation d'un polymère ayant un groupe photosensible.
Produire une variation du rapport entre l'alkoxysilane à quatre Fonctionnalités et l'agent de couplage de silane comprenant l'alkoxysilane contenant un groupe photosensible dans la réaction, dans laquelle les deux matériaux sont exposés à une copolymérisation, permet d'ajuster le nombre de groupes photosensibles contenus dans le composé de Si organique photosensible ainsi obtenu. L'ajustement du nombre de groupes photosensibles donne lieu à la variation de l'action du compose de Si organique photosensible empêchant toute fissuration de la matrice noire. Par exempl-e, lorsque 1 'on souhaite fabriquer la matrice noire avec une épaisseur quelque peu plus grande, le composé de Si organique photosensible peut être préparé tout en augmentant le rapport entre l'agent de couplage de silane comprenant l'alkoxysilane contenant un groupe photosensible et l'alkoxysilane.
Un dispositif d'affichage fluorescent, qui est un dispositif d'affichage pourvu d'un filtre comportant la matrice noire ainsi formée, est décrit ci-après en se référant à la figure 2.
D'apord, un substrat d'anode 2 qui est un substrat en verre est pourvu d'une matrice noire 3. @ cette fin, un liquide formant matrice noire est revêtu sur une surface du substrat d'anode 2, formant de ce fa t un film sur ce oernier. Un masque, qui est réalisé sous la forme du un motif prédéterminé, est disposé au-dessus du substrat d'anode 2. Le film est exposé à ta lumière passant à travers le masque, et, ensuite, une partie du film qui est autre que sa partie devant être laissé pour la matrice noire est éliminée par développement Ensuite, le substrat d'anode est expose à un séchage ultérieur au four. Ensuite, des filtres des trois couleurs ou des couleurs rouges (R), vertes
G) et bleues (B) sont formées sur la matrice noire.
G) et bleues (B) sont formées sur la matrice noire.
Les i tre s sont chacun formés par photol i thograph--ie comme decrit ci-dessus et exposés à un séchage ultérieur au four. Ensuite, tout le substrat d'anode est expose a une calcination. Comme décrit ci-dessus, la surface de la matrice noire présente un plus grand aspect brillant, si bien que les filtres colorés y étant formés peuvent présenter une qualite aussi élevée que ceux formés directement sur le substrat en verre.
Ensuite, les filtres R, G et B se trouvant sur le substrat d'anode 2 sont chacun pourvus d'un conducteur anodique 4 transparent, realise en un film ITO ou analogue. Ainsi les conducteurs anodiques 4 ont chacun pourvus d'une couche de luminophore, donnant lieu à la formation d'une anode 6. Des electrodes de commande (non - représentées) sont agencées au-dessus des anodes 6 du substrat d'anodes 2. De même, des cathodes filiformes (non-représentées) sont agencées de façon etirées au-dessus des électrodes de commande, de manière à servir de source d'électrons.
Ensuite, un quarter en forme de boîtier est relie de façon étanche au substrat d'anode 2, tout en étant maintenu tour né vers une surface supérieure de substrat d'anode 2, donnant lieu à la formation d'une enveloppe en forme de bottier dans laquelle sont logées les électrodes décrites ci-dessus. L'enveloppe est ensuite évacuée, afin d'y créer un vide éleve.
Lorsque le dispositif d'affichage fluorescent ainsi conçu est attaqué afin de permettre à l:a cathode d'émettre des élect@ons, les électrons sont accélérés et contrôlés par les électrodes de commande donnant lieu a un impact sur les couches de luminophore 5 des anodes 6, entraidant la luminescence des couches de luminophore 5. La luminescence ainsi obtenue est cbservée à travers les conducteurs anodiques 4 perméables à la lumière, les filtres colorés R, G et B et le substrat d'anode 2 perméable à la luniere, depuis l'extérieur du substrat d'anode 2. Dans le mode de réalisatisn illustre, la couche de luminophore 5 est constituée d'un luminophore ZnO:Zn d'une couleur lumineuse bleue-verte. Cependant, la luminescence de la couche de luminophore peut être affichée en trois couleurs ou avec des couleurs R, G et B, respectivement ; la les filtres colorés R, G et 8. Des parties d'affichage de couleurs rouges, vertes, et bleues du dispositif d'affichage fluorescent sont délimitées par i a matrice noire, si bien que le contraste de affichage peut être significativement améliore.
Un dispositif d'affichage à émission de champ est décri t ci-après. Un substrat de cathode est agencé au-dessus d'un substrat d'anode, de manière a être espacé à un intervalle prédéterminé du substrat d'anode. Les substrats de cathode et d'anode sont reliés entre eux au niveau de leur périphérie, au moyen d'un matériau d'étanchéité interposé entre eux et servant également d'élément d'espacement, donnant lieu a la formation d'une enveloppe, qui est ensuite évacuée. Le substrat de cathode est pourvu, sur sa surface intérieure, d'un conducteur de cathode sur
equel est laminée une couche isolante. La couche isolante est pourvue d'une électrode de commande. La couche isolante et l'électrode de commande sont pourvues d'un certain nombre de trou, dans lequel des émetteurs de forme conique sont disposés, tout en tant disposés s u r i e conducteur cathodique. Dans le e dispositif d'affichage à émission de champ ainsi conçu, un champ électrique formé par l'électrode de commande force les metteurs à émettre des électrons, qui heurtent ensuite une couche de luminophore, donnant lieu à la luminescence de la couche de luminophore.
equel est laminée une couche isolante. La couche isolante est pourvue d'une électrode de commande. La couche isolante et l'électrode de commande sont pourvues d'un certain nombre de trou, dans lequel des émetteurs de forme conique sont disposés, tout en tant disposés s u r i e conducteur cathodique. Dans le e dispositif d'affichage à émission de champ ainsi conçu, un champ électrique formé par l'électrode de commande force les metteurs à émettre des électrons, qui heurtent ensuite une couche de luminophore, donnant lieu à la luminescence de la couche de luminophore.
Dans le mode de réalisation illustré, le composé de Si organique photosensible est utilisé 3 titre de composé de Si organique. Cependant, le composé de Si organique n'est pas limité à un tel composé de Si organique photosensible. Par exemple, le composé de Si organique peut être un polymere préparé d'apres la formule de réaction (7) qui suit, dans lequel un alkoxysilane à quatre fonctionnalités et un alkoxysilane à trois fonctionnalités ayant un groupe alkyle unique sont exposés a une copolymérisation. En variante, le composé de Si organique peut contenir au moins le polymère.
<tb>
<SEP> I
<tb> <SEP> R <SEP> O
<tb> <SEP> Catalyseur <SEP> I <SEP> I
<tb> SitOR) +Sit'OR)3R' <SEP> > <SEP> -(S1-O-Si-O),- <SEP> ... <SEP> (7)
<tb> <SEP> H20 <SEP> I <SEP> I
<tb> <SEP> O <SEP> O
<tb> <SEP> I <SEP> I
<tb>
Dans la forn1ule de réaction (5), les alcoxysilanes à quatre fonctionnalités comprennent par exemple, le tétranéthoxysilane Si (OCH3)4 et le tétraéthoxysilane Si(OC2H5)4. Les alcoxysilanes à trois fonctionnalités ayant un groupe alkyle comprennent, par exemple, le méthyltri-méthoxysilane CH3-Si(OCH3)3 et le méthyltriéthoxysilane CH3-Si(OC2H3)3.
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<tb> <SEP> H20 <SEP> I <SEP> I
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<tb> <SEP> I <SEP> I
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Dans la forn1ule de réaction (5), les alcoxysilanes à quatre fonctionnalités comprennent par exemple, le tétranéthoxysilane Si (OCH3)4 et le tétraéthoxysilane Si(OC2H5)4. Les alcoxysilanes à trois fonctionnalités ayant un groupe alkyle comprennent, par exemple, le méthyltri-méthoxysilane CH3-Si(OCH3)3 et le méthyltriéthoxysilane CH3-Si(OC2H3)3.
Lors que le composé Si organique décrit ci -dessus est un composé de Si organique exempt de tout groupe photosensible, tel que le polymère préparé selon
a formule de réaction (7), la formation de la matrice
@oire selon tout motif souhaité sur le substrat en verre est effectué à l'aide d'un vernis à couvrir. Les matériaux restants peuvent être identiques à ceux précités, à l'exception du fait que la résine à photocomposition, l'initiateur de photopolynérisation et l'auxiliaire sont exclus.
a formule de réaction (7), la formation de la matrice
@oire selon tout motif souhaité sur le substrat en verre est effectué à l'aide d'un vernis à couvrir. Les matériaux restants peuvent être identiques à ceux précités, à l'exception du fait que la résine à photocomposition, l'initiateur de photopolynérisation et l'auxiliaire sont exclus.
D'abord, un liquide formant matrice noire est préparé. Un substrat en verre est revêtu, sur sa urface, avec le liquide formant matrice noire, formant de ce fait un film mince suivi du revêtement d'un vernis à couvrir sur e film. Ensuite, un masque ayant un motif prédéterminé est agencé sur le film. Le vernis à couvrir se trouvant sur le film est exposé à une lumière à travers le masque. Une partie du vernis à couvrir hors d'un motif d'une matrice noire devant être formée est éliminée par développement, si bien qu'une partie du vernis à couvrir correspondant aux motifs de la matrice noire devant etre formée peut être laissée.
Une partie du film se trouvant autour du vernis à couvrir est éliminée par gravures chimiques, opération suivie d'une élimination du vernis à couvrir, ce qui permet d'obtenir la matrice noire selon un motif souhaité. L'exécution de la procédure permet de former substrat d'anode sensiblement identique au substrat d'anode 2 représenté sur la figure 2, qui est ensuite utilisée afin de concevoir un dispositif d'affichage fluorescent sensiblement identique au mode de réalisation décrit ci-dessus
Dans I a la description ci-dessus, un dispositif d'affichage fluorescent ou un dispositif d'affichage fluorescent de type à émission de champ est illustré à titre de dispositif d'affichage auquel est appliquée la matrice noi re du mode de réalisation illustré.
Dans I a la description ci-dessus, un dispositif d'affichage fluorescent ou un dispositif d'affichage fluorescent de type à émission de champ est illustré à titre de dispositif d'affichage auquel est appliquée la matrice noi re du mode de réalisation illustré.
Cependant, la matrice noire de la presente invention peut être appliquée à tout autre dispositif d'affichage tel qu'un LCD et analogue, qui est attaqué sur la base d'un principe d'affichage different.
Comme on le voit à partir de ce qui précède, la matrice noire de la présente invention présente des caractéristiques optiques et une visibilité uf f i s-amment améliorée pour être appliquée à un dispositif d'affichage fluorescent et améliore le ccntraste d'affichage du dispositif d'affichage.
De même, la matrice noire de la présente invention est conçue de manière que le composé de Si organique soit transformé en S i 02 par une calcination et que les particules de piment de couleur noire y soient dispersées. Ainsi, la matrice noire présente une glus grande résistance du film. De même, la matrice noire permet d'utiliser efficacement la capacité de masquage de particules de pigment noir, donnant lieu à une plus grande valeur OD et à un moindre facteur de réflexion, tout en réduisant l'épaisseur du film à un niveau aussi faible qu'å peu prés un pn m
En outre, lorsque le composé de Si organique utilisé pour la matrice noire présente un groupe photosensible, la formation de motifs de la matrice noire peu t être effectuée directement par photolithographie, sans utiliser de vernis à couvrir.
En outre, lorsque le composé de Si organique utilisé pour la matrice noire présente un groupe photosensible, la formation de motifs de la matrice noire peu t être effectuée directement par photolithographie, sans utiliser de vernis à couvrir.
De même, lorsque le composé de Si organique présente un groupe photosensible, le groupe photosensible évite toute contrainte dans la matrice noire durant la transformation du composé de Si organique en Si O2 par calcination, si bien que l'épaisseur de la matrice noire peut être contrôlée d'une manière appropriée tout n étant réduite à un niveau aussi faible qu'à peu prés 25 pm, et empêchée de se fissurer.
De plus, lorsque le composé de Si organique présente un groupe alkyle, le groupe alkyle évite toute contrainte dans le film durant la conversion du compose de Si organique en SiOz par une calcination, si bien que l'épaisseur de la matrice noire peut être contrôlée de manière appropriée tout en étant réduite à un niveau aussi faible qu'à à peu prés 25 zm et empêchée de se fissurer.
En outre, la surface de la matrice noire de la présente invention présente des caractéristiques analogues à celles 'un film de verre et un aspect br-illant analogue a celui d'une feuille de verre, après avoir été exposée a une calcination. Ainsi, lorsque la matrice noire est pourvue de tout film fonctionnel supplémentaire lors d'une étape subséquente le fil M fonctionnel peut être réalisé sensiblement selon la ,-eme épaisseur et qualité que celles obtenues lorsqu'il est forme sur une feuille de verre.
Bien qu'un mode de réalisation préféré de l'invention ait été décrit avec un certain degré de particularités en se référant aux dessins, des modifications et variantes évidentes peuvent être apportées à la lumière des enseignements précités.
Claims (10)
1. - Matrice noire comprenant
du SiO préparé par une calcination d'un composé de Si organique et disposé sur un substrat (2) eri verre, et
des particules de pigment (1) de couleur noire dispersées et fixées dans ledit SiO2.
2. - Procédé de fabrication d'une matrice noire, coprenat les les étapes de :
préparation d'un liquide formant matrice noire contenant des particules de pigment (1) de couleur noir, un composé de Si organique et un solvant polaire à point d'ébullition élevé;
application du liquide formant matrice noire sur une surface d'un substrat (2) en verre afin de former un film mince;
exposition dudit film mince à une formation de motif; et
exposition dudit substrat (2) en verre à une calcination
3. - Procédé se on la revendication 2, dans lequel lesdites particules de pigment (1) de couleur noire présentent un diamètre particulaire de 0,1 pm ou moins.
4* - Procédé selon la revendication 2, dans lequel ledit compose de Si organique est un polymère préparé par exposition à une copolymérisation d'un alcoxysil are à quatre fonctionnalités et d'un alcoxysilane contenant un groupe alkyl.
5. - Procédé selon la revendication 4, dans lequel le rapport auquel ledit alcoxysilane à quatre fonctionnalités et l'alcoxysilane comprenant un groupe ai kil sont mél aigés entre eux est varié, donnant lieu au contrôle du nombre de groupes al kyl dans ledit polymère.
6. - Procédé selon la revendication 2, dans lequel ledit composé de Si organique contient un polymère contenant un groupe photosensible, qui est préparé en exposant à une copolymérisation un alcoxysilane a quatre fonctionnalités et un alcoxysilane contenant un groupe photosensible.
7. - Procédé selon la revendication 6, dans lequel le rapport selon lequel ledit alcoxysilane à quatre fonctionnalités et l'alcoxysilane contenant un groupe photosensible sont mélangés entre eux est varié, donnant 1 ieu au contrôle du nombre de groupes photosensibles dans ledit polymère.
8. @ Procédé sel on la revendication 7, dans lequel ledit composé de Si organique comprend un initiateur de photopolymérisation et un auxiliaire.
9. - Procéde selon l'une quelconque des revendications 2, 4 et 5, comprenant en outre les etapes de
revêtement d'un vernis à couvrir sur le fil mince;
exposition du vernis à couvrir sur le film mince à une lumière à t@avers un masque réalisé sous la forme d'ur motif de la matrice noire devant être formée;
élimination, par développement, d'une partie du vernis à couvrir depuis le motif de la matrice noire devant être formee; et
élimination, par gravure chimique, d'une partie du tilm mince ci posée autour du vernis à couvrir réalisé sous la forme du motif du filtre devant être formé, suivi d'une êlimination du vernis à couvrir.
élimination, par développement, d'une partie du fi m mince autre que sa partie qui sert de matrice noire.
exposition du film mince à la lumiere à travers un masque réalisé sous la forme d'un motif de la matrice noire à former; et
10. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 8 comprenant en outre les étapes d'
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| KR100399787B1 (ko) * | 2001-05-04 | 2003-09-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기판과 이 기판의 제조방법 및 이 기판을 가지는 플라즈마표시장치 |
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