FR2538815A1 - PROCESS FOR FORMING, BY ELECTROLYSIS, A COPPER COATING ON A SUBSTRATE FROM A CYANIDE-FREE BATH, AND ANODE FOR CARRYING OUT SAID METHOD - Google Patents
PROCESS FOR FORMING, BY ELECTROLYSIS, A COPPER COATING ON A SUBSTRATE FROM A CYANIDE-FREE BATH, AND ANODE FOR CARRYING OUT SAID METHOD Download PDFInfo
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Abstract
ON PREVOIT UN ELECTROLYTE EXEMPT DE CYANURE ET UN PROCEDE POUR DEPOSER UN REVETEMENT DE CUIVRE ADHERENT, DUCTILE ET A GRAINS FINS, AYANT UNE EPAISSEUR ORDINAIREMENT COMPRISE ENTRE 0,0038 MM ET ENVIRON 0,127 MM, SUR DES SUBSTRATS CONDUCTEURS A BASE FERREUSE, A BASE DE CUIVRE, A BASE DE ZINC ET ANALOGUE. L'ELECTROLYTE CONTIENT DES QUANTITES EFFICACES CONTROLEES D'IONS CUIVRIQUES COMPLEXES AVEC UN AGENT DE CHELATION A BASE D'ORGANOPHOSPHONATE, UN CARBONATE ALCALIN COMME AGENT TAMPON ET DE STABILISATION DU BAIN, DES IONS HYDROXYLE POUR FOURNIR UN PH DU COTE ALCALIN ET DE PREFERENCE UN AGENT DE MOUILLAGE. LE REVETEMENT DE CUIVRE EST APPLIQUE EN ELECTROLYSANT L'ELECTROLYTE MENTIONNE PRECEDEMMENT EN EMPLOYANT UNE COMBINAISON D'UNE ANODE EN CUIVRE SOLUBLE DANS LE BAIN ET D'UNE ANODE EN FERRITE INSOLUBLE POUR FOURNIR UN RAPPORT SURFACE D'ANODE EN CUIVRESURFACE D'ANODE EN FERRITE COMPRIS DANS UNE GAMME D'ENVIRON 1: 2 A ENVIRON 1: 6.A CYANIDE-FREE ELECTROLYTE AND A PROCESS FOR DEPOSITING AN ADHESIVE, DUCTILE AND FINE GRAIN COPPER COATING, HAVING A THICKNESS ORDINARILY BETWEEN 0.0038 MM AND ABOUT 0.127 MM, ON FERROUS-BASED CONDUCTIVE SUBSTRATES COPPER, BASED ON ZINC AND THE ANALOGUE. THE ELECTROLYTE CONTAINS CONTROLLED EFFECTIVE AMOUNTS OF COPPER ION COMPLEX WITH AN ORGANOPHOSPHONATE CHELATION AGENT, ALKALINE CARBONATE AS BUFFER AND BATH STABILIZATION AGENT, HYDROXYL IONS TO PROVIDE PRECALIN A PH OF COTE ANCHORING AGENT. THE COPPER COATING IS APPLIED BY ELECTROLYZING THE PREVIOUSLY MENTIONED ELECTROLYTE USING A COMBINATION OF A SOLUBLE COPPER ANODE IN THE BATH AND AN INSOLUBLE FERRITE ANODE TO PROVIDE A SURFACE RATIO OF COPPER ANODE SURFACE OF FERRITE ANODE INCLUDED IN A RANGE OF ABOUT 1: 2 TO ABOUT 1: 6.
Description
25388 1525388 15
1. L'utilisation de sels constitués de cyanure 1. The use of salts made up of cyanide
dans des électrolytes de revêtement de cuivre est deve- in copper coating electrolytes has become
nue défavorable au point de vue de l'environnement par suite de considérations écologiques En conséquence, un grand nombre d'électrolytes non constitués de cyanure pour divers métaux ont précédemment été proposes pour l'utilisation comme produits de remplacement pour leurs contre-parties en cyanure employées incdustriellenent de manière classicue Par exemple, le brevet américain n environmentally unfavorable due to ecological considerations As a result, a large number of electrolytes not made up of cyanide for various metals have previously been proposed for use as substitutes for their cyanide counterparts Industrial employees in a classic way For example, the American patent n
3 475 293 décrit l'utilisation de certains diphosphona- 3,475,293 describes the use of certain diphosphona-
tes pour le revêtement électrolytique d'ions de métaux divalents; les brevets américains n 3 706 634 et n 3 706 635 décrivent l'utilisation de combinaisons d'éthylènediaminé tétra(acide méthylène phosphonique), tes for the electrolytic coating of divalent metal ions; US Patents 3,706,634 and 3,706,635 describe the use of combinations of ethylenediaminetetra (methylene phosphonic acid),
d'acide l-hydroxyéthylidêne-l-l-diphosphonique, et d'ami- 1-hydroxyethylidene-1-l-diphosphonic acid, and ami
notri(acide méthylène phosphonique) ainsi que d'agents convenables de transformation en complexe pour les ions métalliques dans le bain; le brevet américain n notri (methylene phosphonic acid) as well as suitable complexing agents for metal ions in the bath; the american patent n
3 833 486 décrit l'utilisation d'agents de chélation for- 3,833,486 describes the use of formal chelating agents
més de phosphonate solubles dans l'eau pour les ions 2. water-soluble phosphonate mes for ions 2.
métalliques o le bain contient en outre, au moins un oxy- metallic o the bath also contains at least one oxy-
dant fort, alors que le brevet américain N O 3 928 147 strong, while U.S. Patent No. 3,928,147
décrit l'utilisation d'un agent de chélation organophos- describes the use of an organophos-chelating agent
phoré pour le pré-traitement de pièces coulées sous pression en zinc avant le revêtement électrolytique avec des élec- trolytes du type décrit dans les brevets américains N O phore for the pretreatment of zinc die-cast parts before electrolytic coating with electrolytes of the type described in American patents N O
3 475 293, N O 3 706 634 et N O 3 706-635. 3,475,293, N O 3,706,634 and N O 3,706-635.
Alors que les électrolytes et les procédés-dé- While the electrolytes and the processes-
crits dans les brevets américains mentionnés précédem- written in the aforementioned US patents
ment ont fourni des dépôts électrolytiques satisfaisants have provided satisfactory electrolytic deposits
dans des conditions soigneusement contrôlées, ces élec- under carefully controlled conditions, these electors
trolytes et ces procédés n'ont pas reçu une acceptation industrielle largement répandue par suite d'un ou de trolytes and these processes have not received widespread industrial acceptance as a result of one or more
plusieurs problèmes associés à leur mise en pratique. several problems associated with putting them into practice.
Un problème principal associé à ces électrolytes de la technique antérieure a été l'adhérence inadéquate du dépôt de cuivre aux substrats de zinc et d'alliage de zinc Un autre problème se rapporte à la sensibilité de A main problem associated with these prior art electrolytes has been the inadequate adhesion of copper deposition to zinc and zinc alloy substrates. Another problem relates to the sensitivity of
ces électrolytes à la présence de produits de contamina- these electrolytes in the presence of contamination products
tion tels que les produits de nettoyage, des sels de so- tion such as cleaning products, so-
lution de revêtement de nickel, des solutions de revête- nickel coating solution, coating solutions
ment de chrome et des ions de zinc métallique introduits chromium and metallic zinc ions introduced
dans l'électrolyte durant la pratique industrielle clas- in the electrolyte during standard industrial practice
sique Un autre problème encore est la nature nocive des Yet another problem is the harmful nature of
oxydants forts employés dans certains de ces électroly- strong oxidants used in some of these electrolytes
tes de la technique antérieure.your prior art.
La présente invention surmonte de nombreux pro- The present invention overcomes many pro-
blèmes et inconvénients associés aux solutions de revê- problems and disadvantages associated with coating solutions
tement de cuivre de la technique antérieure, exemptes copper of the prior art, free
de cyanure,en proposant un procédé employant un élec- cyanide, by proposing a process using an electro
trolyte qui est exempt de cyanure fournissant un système pouvant être miaîtrisé au point de vue de'l'environnement, qui fonctionnera pour produire un dépôt de cuivre adhérent sur des substrats conducteurs comprenant l'acier, le laiton et les métaux à base de zinc tels que des pièces coulées 3. trolyte which is cyanide free providing an environmentally controllable system which will function to produce an adherent copper deposit on conductive substrates including steel, brass and zinc based metals only castings 3.
sous pression en zinc et analogue; qui produira efficace- under pressure in zinc and the like; which will produce effective-
ment des dépôts de cuivre à grains fins ductiles à des épaisseurs allant ordinairement d'environ 0,00038 mm à environ 0,127 mm;qui est davantage tolérant vis-à-vis de la présence de concentrations raisonnables de produits de contamination tels que des composés de nettoyage, des sels de nickel et des solutions de revêtement de chrome, deposits of fine-grained ductile copper at thicknesses usually ranging from about 0.00038 mm to about 0.127 mm; which is more tolerant of the presence of reasonable concentrations of contamination products such as cleaning, nickel salts and chromium coating solutions,
et des ions de zinc métallique comme normalement intro- and metallic zinc ions as normally intro-
duit dans un bain de revêtement dans une mise en prati- duit in a coating bath in a practice
o 10 que industrielle, et qui est d'un fonctionnement effica- o 10 that industrial, and which is an efficient operation
ce et économique L'invention comprend en outre une nou- This and economical The invention further includes a new
velle anode en alliage insoluble employée dans la mise old insoluble alloy anode used in the setting
en pratique du procédé.in practice of the process.
Les avantages de la présente invention sont at- The advantages of the present invention are-
teints selon les aspects du procédé en employant un élec- dyed according to aspects of the process using an electro
trolyte aqueux exempt de cyanure contenant des quantités cyanide-free aqueous trolyte containing quantities
efficaces contrôléesd'ions cuivriques, un agent de ché- controlled copper ions, a chelating agent
lation formé d'organophosphonate, un agent tampon, des lation formed of organophosphonate, a buffering agent,
ions hydroxyle et/ou hydrogène pour fournir un p H al- hydroxyl and / or hydrogen ions to provide p H al-
lant d'un p H modérément acide à un p H modérément alcalin, et de manière facultative, mais préférable, un agent de mouillage Les ions cuivre peuvent être introduits par un sel de cuivre compatible avec le bain et soluble dans le bain, pour fournir une concentration d'ion cuivrique en quantité suffisante pour déposer le cuivre par voie électrolytique, et allant généralement d'une valeur aussi from a moderately acidic p H to a moderately alkaline p H, and optionally, but preferably, a wetting agent Copper ions can be introduced by a copper salt compatible with the bath and soluble in the bath, to provide a concentration of cupric ion in sufficient quantity to deposit the copper electrolytically, and generally ranging from a value also
faible qu'environ 3 jusqu'à une valeur aussi élevée qu'en- low as about 3 to as high as-
viron 50 grammes par litre (g/l) dans des conditions about 50 grams per liter (g / l) under conditions
choisies L'agent de chélation formé d'organophosphona- The chelating agent formed of organophosphona-
te est un composé choisi dans le groupe se composant d'aci- te is a compound selected from the group consisting of aci-
de l-hydroxy-éthylidène-l,i-diphosphonique (HEDP) en lui- l-hydroxy-ethylidene-l, i-diphosphonic (HEDP) in itself
même présent en quantité d'environ 50 à environ 500 g/l, even present in an amount of about 50 to about 500 g / l,
un mélange de HEDP et d'aminotri (acide méthylène phospho- a mixture of HEDP and aminotri (methylene phospho-
nique) (ATMP) o 1 'HEDP est présent en quantité d'au moins nique) (ATMP) o 1 HEDP is present in an amount of at least
environ 50 % en poids par rapport au mélange, et un mélan- about 50% by weight relative to the mixture, and a mixture
4. ge de HEDP et d'éthylènediamine tétra (acide méthylène phosphonique) (EDTMP) o l'HEDP est présent en quantité d'au moins environ 30 % en poids par rapport au mélange, ainsi que leurs sels partiels solubles dans le bain et compatibles avec le bain Quand des mélanges de HEDP et d'ATMP ou d'HEDP-et d'EDTMP sont employés comme agent de chélation au lieu de 1 'HEDP en lui-même, une réduction de l'agent de chélation peut être utilisée par suite de la capacité de chélation plus grande d composés d'ATMP et 4. ge of HEDP and ethylenediamine tetra (methylene phosphonic acid) (EDTMP) o HEDP is present in an amount of at least about 30% by weight relative to the mixture, as well as their partial salts soluble in the bath and bath compatible When mixtures of HEDP and ATMP or HEDP-and EDTMP are used as the chelating agent instead of HEDP itself, reduction of the chelating agent can be used as a result of the greater chelation capacity of ATMP compounds and
d'EDTMP par comparaison avec celle de 1 'HEPD La concen- EDTMP compared to that of 1 HEPD The concentration
tration de l'agent de chélation à base d'organophosphona- tration of the organophosphona-based chelating agent
te sera comprise dans une gamme en relation avec la quan- will be included in a range related to the quan-
tité d'ions cuivre présents dans le bain et est ordinai- tity of copper ions present in the bath and is ordinarily
rement contrôlée pour fournir un excès de l'agent de ché- controlled to provide an excess of the
lation par rapport aux ions cuivre présents. lation with respect to the copper ions present.
En plus de ce qui précède, le bain contient un composé convenable tels que des carbonates, des acétates, In addition to the above, the bath contains a suitable compound such as carbonates, acetates,
et/ou des borates de métaux alcalins comme agent de stabi- and / or alkali metal borates as stabilizing agent
lisation ainsi qu'un agent tampon qui est présent en addition as well as a buffering agent which is present in
quantité ordinairement d'au moins environ 5 jusqu'à envi- amount usually from at least about 5 to about
ron 100 g/l,des quantités d'au moins environ 20 g/l étant 100 g / l, amounts of at least about 20 g / l being
exigées dans la-plupart des cas Le bain contient en ou- required in most cases The bath contains in-
tre des ions hydroxyle et/ou hydrogène pour fournir un électrolyte ayant un p H allant d-oun p H modérément acide be hydroxyl and / or hydrogen ions to provide an electrolyte having a p H ranging from moderately acidic to p H
(p H 6) à un p H modérément alcalin (p H 10,5), un p H d'en- (p H 6) to a moderately alkaline p H (p H 10.5), a p H of
viron 9 à environ 10 étant ordinairement préféré Le about 9 to about 10 being usually preferred The
bain peut contenir,de manière facultative et de préféren- bath can optionally and preferably contain
ce en outre un agent de mouillage soluble dans le bain et compatible avec le bain présent en quantité allant jusqu'àa in addition, a wetting agent soluble in the bath and compatible with the bath present in an amount up to
environ 0,25 g/l.about 0.25 g / l.
Selon les aspects du procédé de la présente inven- According to the aspects of the process of the present invention
tion, l'électrolyte exempt de cyanure comme décrit pré- tion, the cyanide-free electrolyte as described above
cédemment est employé pour le dépôt électrolytique d'un mince revêtement de cuivre adhérent, ductile, à grains cédemment is used for the electrolytic deposit of a thin coating of copper adherent, ductile, grain
fins sur des substrats conducteurs comprenant des subs- thin on conductive substrates comprising
5. trats à base ferreuse tels que l'acier, -les substrats à 5. ferrous-based trats such as steel, -the substrates to
base de cuivre tels que le cuivre, le bronze et le lai- copper base such as copper, bronze and milk
tonet des substrats à base de zinc comprenant des pié- tonet of zinc-based substrates comprising pie-
ces coulées sous pression en zinc Le substrat à revêtir est imner- these zinc die castings The substrate to be coated is impregnated
gé dans l'électrolyte sous forme de cathode et une anode ge in the electrolyte in the form of a cathode and an anode
en cuivre soluble en combinaison avec une anode-en ferri- made of soluble copper in combination with an anode-ferri-
te insoluble est employée pour fournir un rapport entre surfacesanode de cuivre/anode de ferrite d'environ 1: 2 insoluble te is used to provide a ratio of copper anode to ferrite anode of approximately 1: 2
à environ 1: 6 L'électrolyte est soumis à l'électroly- at approximately 1: 6 The electrolyte is subjected to electrolyte-
se par passage de courant entre la cathode et l'anode pendant une période de temps d'environ 1-minute jusqu'à un temps aussi long que plusieurs heures et même des jours pour déposer l'épaisseur souhaitée de cuivre sur se by current flow between the cathode and the anode for a period of time of approximately 1-minute up to a time as long as several hours and even days to deposit the desired thickness of copper on
le substrat cathodique Le bain peut être mis en fonc- the cathode substrate The bath can be turned on
tionnement à des températures allant d'environ 380 C à en- operating at temperatures ranging from about 380 C to-
viron 711 C, des températures d'environ 430 C à environ about 711 C, temperatures from about 430 C to about
600 C étant préférées La température particulière em- 600 C being preferred The particular temperature em-
ployée variera selon la composition de bain spécifique pour optimiser les caractéristiques de revêtement Le bain folded will vary depending on the specific bath composition to optimize coating characteristics The bath
peut être mis en fonctionnement -sous une densité de cou- can be put into operation under a density of
rant d'environ 0,1 à environ 8,0 A/dm, selon la composi- rant from about 0.1 to about 8.0 A / dm, depending on the composition
tion du bain, en employant un rapport cathode/anode ordi- tion of the bath, using a cathode / anode ratio
nairement d'environ 1: 2 à environ 1: 6 On a découvert about 1: 2 to about 1: 6
de manière surprenante que des dépôts uniformes, adhé- surprisingly that uniform deposits, adhered
rents et à grains fins sont obtenus en électrisant les rents and fine grains are obtained by electrifying the
substrats avant l'immersion dans l'électrolyte Dans le. substrates before immersion in the electrolyte In the.
cas des substrats à base de zinc, l'électrisation de la pièce -sous une tension d'au moins environ 3 volts in the case of zinc-based substrates, the electrification of the part - at a voltage of at least about 3 volts
s'est révélée nécessaire pour obtenir une adhérence satis- proved to be necessary to obtain a satisfactory adhesion
faisante du dépôt de cuivre Les paramètres de fonction copper deposition Function parameters
nement spécifiques et la composition spécifique de l'élec- specific and the specific composition of the elec-
trolyte varieront selon le type du métal de base revêtu, l'épaisseur souhaitée du revêtement de cuivre à déposer, et la disponibilité en temps compte tenu des autres trolyte will vary according to the type of base metal coated, the desired thickness of the copper coating to be deposited, and the availability in time taking into account the others
opérations intégrées de revêtement et de rinçage. integrated coating and rinsing operations.
6. Selon un autre aspect du procédé de la présente invention, l'électrolyte exempt de cyanure comme décrit ci-dessus est employé pour le dépôt électrolytique d'un mince revêtement de cuivre adhérent, ductile et à grains finssur des substrats conducteurs comprenant des subs- trats à base ferreuse, tels que l'acier, des substrats à base de cuivre-tels que le cuivre, le bronze et le laiton, et des substrats à base de zinc comprenant des pièces coulées sous pression en zinc Le substrat à revêtir est immergé dans l'électrolyte sous forme de cathode et une anode en 6. According to another aspect of the process of the present invention, the cyanide-free electrolyte as described above is used for the electrolytic deposition of a thin coating of adherent, ductile and fine-grained copper on conductive substrates comprising subs - ferrous-based trats, such as steel, copper-based substrates-such as copper, bronze and brass, and zinc-based substrates comprising zinc die-cast parts The substrate to be coated is immersed in the electrolyte in the form of a cathode and an anode in
cuivre soluble en combinaison avec une anode en nickel- soluble copper in combination with a nickel anode-
fer insoluble est employée pour fournir un rapport entre sur- insoluble iron is used to provide a ratio of over-
facesanode en cuivre/anode en alliage nickel-fer d'environ copper facesanode / nickel-iron alloy anode of approx.
1 2 à environ 4: 1 L'électrolyte est soumis à l'élec- 1 2 to about 4: 1 The electrolyte is subjected to the elect
trolyse par passage de courant entre la cathode et l'ano- trolysis by current flow between the cathode and the ano
de pendant une période de temps d'environ 1 minute jus- of for a period of time of approximately 1 minute until
qu'à un temps aussi long que plusieurs heures et même des jours pour déposer l'épaisseur désirée du cuivre sur le as long as several hours and even days to deposit the desired thickness of copper on the
substrat cathodique Le bain peut être mis en fonctionne- cathodic substrate The bath can be operated
ment à une température allant d'environ 380 C jusqu'à en- ment at a temperature ranging from about 380 C up to
viron 710 C, des températures d'environ 430 C à environ 600 C about 710 C, temperatures from about 430 C to about 600 C
étant préférées La température particulière employée va- being preferred The particular temperature employed will
riera selon la composition spécifique de bain pour opti- will laugh according to the specific composition of bath for opti-
miser les caractéristiques de revêtement Le bain peut être mis en fonctionnement sous une densité de courant d'environ 0,1 à environ 8,0 ampères par décimètre carré set coating characteristics The bath can be operated at a current density of approximately 0.1 to approximately 8.0 amps per square decimetre
(A/dm)selon la composition de bain en employant un rapport cathodi- (A / dm) according to the composition of the bath using a cathode ratio
de/anode ordinairement d'environ 1: 1 à environ 1: 6. from / anode usually from about 1: 1 to about 1: 6.
On a découvert de manière surprenante que des-dépôts unif or- It has surprisingly been discovered that uniform or-deposits
mes adhérents et à grains fins sont obtenus en électri- my members and fine grain are obtained in electrical
sant les substrats avant l'immersion dans l'électrolyte. the substrates before immersion in the electrolyte.
Dans le cas des substrats à base de zinc, l'électrifica- In the case of zinc-based substrates, the electrifica-
tion de la pièce sous une tension d'au moins environ tion of the part under a tension of at least approximately
3 volts s'est révélée nécessaire pour obtenir une adhé- 3 volts was necessary to obtain adhesion
rence satisfaisante du dépôt de cuivre Les paramètres 7. satisfactory copper deposit parameters Parameters 7.
opératoires de la composition spécifique de l'électroly- of the specific composition of the electrolyte
te varieront selon le type de-métal de base revêtu, l'épaisseur souhaitée du revêtement de cuivre à déposer, et la disponibilité en temps en tenant compte des autres opérations intégrées de revêtement et de rinçage. You will vary depending on the type of base metal coated, the desired thickness of the copper coating to be deposited, and time availability taking into account other integrated coating and rinsing operations.
La présente invention prévoit en outre une nou- The present invention further provides a new
velle anode insoluble en nickel-fer qui est employée dans le procédé en relation avec une anode en cuivre soluble, velle nickel-iron insoluble anode which is used in the process in connection with a soluble copper anode,
suivant des rapports contrôlés de surface d'anode ob- according to controlled anode surface ratios obtained
tenant ainsi le milieu oxydant souhaité pour maintenir. thus holding the oxidizing medium desired to maintain.
des conditions de revêtement appropriées et pour obtenir appropriate coating conditions and to obtain
des dépôts électrolytiques de cuivre ayant les caracté- electrolytic deposits of copper having the characteristics
ristiques souhaitées L'anode insoluble d'alliage nickel- desired characteristics The insoluble nickel alloy anode
fer est de préférence d'une construction hétérogène (com- iron is preferably of a heterogeneous construction (com-
posite) comprenant un noyau conducteur-central sur lequel est posite) comprising a conductive-central core on which is
lié le dépôt électrolytique d'alliage nickel-fer adhé- linked the electrolytic deposition of nickel-iron alloy adhered
rent, dépôt contenant environ 10 % jusqu'à environ 40 % en poids de fer dans l'alliage et d'environ 0,005 jusqu'à environ 0,06 % de soufre Le noyau est composé de métaux rent, deposit containing approximately 10% to approximately 40% by weight of iron in the alloy and approximately 0.005 to approximately 0.06% of sulfur The core is composed of metals
tels que le cuivre, l'aluminium, le fer et d'autres al- such as copper, aluminum, iron and other al-
liages conducteurs parmi lesquels le cuivre lui-même constitue la matière de noyau préférée Le revêtement ou conductive bonding among which copper itself constitutes the preferred core material The coating or
recouvrement d'alliage nickel-fer sur le noyau est en ou- nickel-iron alloy overlay on the core is
tre caractérisé en ce qu'il est sensiblement non poreux et peut avoir une épaisseur aussi petite que 0,0254 à be characterized in that it is substantially non-porous and can have a thickness as small as 0.0254 to
0,0508 mm.0.0508 mm.
Des avantages supplémentaires de la présente Additional advantages of this
invention apparaîtront à la lecture de la descrip- invention will appear on reading the description
tion des exemples de réalisation préférés en relation tion of the preferred embodiments in relation
avec les exemples ci-joints -with the attached examples -
La présente invention sera maintenant décrite en relation avec les dessins ci-joints dans lesquels: The present invention will now be described in relation to the accompanying drawings in which:
La figure 1 est une vue schématique en perpsec- Figure 1 is a schematic perspective view
tive, partiellement en coupe,illustrant un récipient de revêtement convenable pour utilisation dans la mise en 8. pratique du présent procédé; La figure 2 est une vue latérale en élévation d'une anode insoluble dans l'alliage nickel-fer employé tive, partially in section, illustrating a coating container suitable for use in the practice of the present process; Figure 2 is a side elevational view of an anode insoluble in the nickel-iron alloy used
dans la mise en pratique du procédé de la présente inven- in practicing the process of the present invention
tion; ettion; and
La figure 3 est une vue grossie en coupe trans- FIG. 3 is an enlarged view in cross section
versale de l'anode présentée sur la figure 2, et prise versal of the anode shown in Figure 2, and taken
sensiblement selon la ligne 3-3 de cette figure. roughly along line 3-3 of this figure.
Un électrolyte exempt de cyanure pouvant être employé dans la mise en pratique de la présente invention contient, comme constituants essentiels, des ions cuivre, un agent de transformation en complexe formé d'organophosphonate en quantité suffisante pour complexer A cyanide-free electrolyte which can be used in the practice of the present invention contains, as essential components, copper ions, a complexing agent formed from organophosphonate in an amount sufficient to complex.
les ions cuivre présents, un agent stabilisateur et tam- copper ions present, a stabilizing and tam-
pon comprenant un composé de carbonate, de borate et/ou d'acétate soluble dans le bainincompatible avec le bain, ainsi que leurs mélanges, un p H d'environ 6 à environ pon comprising a compound of carbonate, borate and / or acetate soluble in the bath incompatible with the bath, as well as their mixtures, a p H of approximately 6 to approximately
,5, et de manière facultative, un agent de mouillage. , 5, and optionally, a wetting agent.
Les ions cuivre sont introduits durant la cons- Copper ions are introduced during the cons-
titution de l'électrolyte en employant n'importe lequei, ou des mélanges, de sels de cuivre solubles dans le bain et compatibles avec le-bain, tels que le sulfate, les carbonates, les oxydes,les hydroxydes et analogue Parmi les produits précédents, le sulfate de cuivre sous forme d'un pentahydrate (Cu SO 4 5 H 20) est préféré Les titration of the electrolyte using any lequei, or mixtures, of copper salts soluble in the bath and compatible with the bath, such as sulphate, carbonates, oxides, hydroxides and the like Among the preceding products , copper sulphate in the form of a pentahydrate (Cu SO 4 5 H 20) is preferred
ions cuivre sont présents dans le bain dans-la gamme d'en- copper ions are present in the bath within the range of
viron 3 jusqu'à environ 50 g/l, typiquement d'environ 5 about 3 to about 50 g / l, typically about 5
-à environ 20 g/l Par exemple, quand on revêt des subs- -at about 20 g / l For example, when we coat subs-
trats d'acier, des concentrations d'ion cuivre d'environ 15 jusqu'à environ 50 g/l sont employes pour obtenir un taux élevé de dépôt électrolytique de cuivre Dans les cas trats of steel, copper ion concentrations of about 15 to about 50 g / l are used to obtain a high rate of electrolytic deposition of copper In cases
o la concentration d'ions cuivre est supérieure à envi- o the concentration of copper ions is greater than approx.
-ron 20 g/l, on a trouvé par expérimentation que pour obte- -ron 20 g / l, we found by experimentation that to obtain-
nir l'adhérence satisfaisante, il est préférable que la pièce entrant dans le bain soit électrisée D'autre part,quand on nir satisfactory adhesion, it is preferable that the part entering the bath is electrified On the other hand, when
2538815,2538815,
9. revêt des substrats à base de zinc tels que des pièces coulées sous pression en zinc, par exemple, des concentrations 9. Coats zinc-based substrates such as zinc die cast parts, for example, concentrations
d'ions cuivre d'environ 3,5 à environ 10 g/l sont pré- copper ions of approximately 3.5 to approximately 10 g / l are pre-
férées et dans ce cas là, la pièce doit être électrisée au moment de l'immersion dans le bain pour obtenir un dépôt adhérent Durant l'utilisation de l'électrolyteun réapprovisionnement des ions cuivre consommés pendant le In this case, the part must be electrified at the time of immersion in the bath to obtain an adherent deposit. During the use of the electrolyt a replenishment of the copper ions consumed during the
dépôt électrolytique ainsi que ceux retirés par entraîne- electrolytic deposit as well as those removed by entrained-
ment est obtenu par la dissolution progressive d'une ment is obtained by the progressive dissolution of a
anode en cuivre employée lors de l'électrolyse du bain. copper anode used during the electrolysis of the bath.
L'agent de transformation en complexe ou de chélation comprend un coordinat organophosphoré d'un sel The complexing or chelating agent comprises an organophosphorus ligand of a salt
de métal alcalin et de métal alcalino-terreux parmi les- of alkali metal and alkaline earth metal among the
quels le calcium n'est pas convenable par suite de la pré- which calcium is not suitable due to pre-
cipitation De préférence, le sel de transformation en com- Cipitation Preferably, the transformation salt into
plexe comprend un métal alcalin tel que le sodium, le potas- complex includes an alkali metal such as sodium, potassium
sium, le lithium et leurs mélanges,parmi lesquels le sium, lithium and their mixtures, including
potassium constitue le métal préféré L'agent de transfor- potassium is the preferred metal The processing agent
mation en complexe est présent dans le bain en considérant mation in complex is present in the bath considering
la concentration spécifique des ions cuivre présents. the specific concentration of copper ions present.
Le coordinat organophosphoré spécifique con- The specific organophosphorus coordinate con-
venable pour utilisation selon la mise en pratique de la présente invention comprend un composé choisi dans le venable for use according to the practice of the present invention comprises a compound selected from the
groupe se composant d'aoide l-hydroxyéthylidène-l,l-diphos- group consisting of l-hydroxyethylidene-l, l-diphos-
phonique (HEDP) en lui-même présent en quantité d'environ à environ 500 g/l, un mélange de HEDP et d'aminotri phonic (HEDP) itself present in an amount of about to about 500 g / l, a mixture of HEDP and aminotri
(acide méthylène phosphonique) (ATMP) o le HEDP est pré- (methylene phosphonic acid) (ATMP) o HEDP is pre-
sent en quantité d'au moins environ 50 % en poids par rap- feels in an amount of at least about 50% by weight compared to
port au mélange et un mélange de HEDP et d'éthylènedia- port to the mixture and a mixture of HEDP and ethylenedia-
mine tétra (acide méthylène phosphonique) (EDTMP) o-le HEDP est présent en quantité d'au moins environ 30 % en poids par rapport au mélange, ainsi que leurs sels et leurs sels partiels compatibles avec le bain et solubles dans le bain Quand des mélanges de HEDP et de ATMP ou de HEDP et d'EDTMP sont employés comme agent de chélation 10. tetra mine (methylene phosphonic acid) (EDTMP) o-HEDP is present in an amount of at least about 30% by weight relative to the mixture, as well as their salts and their partial salts compatible with the bath and soluble in the bath When mixtures of HEDP and ATMP or HEDP and EDTMP are used as the chelating agent 10.
au lieu de 1 'HEDP en lui-même, une réduction de la con- instead of HEDP itself, a reduction in con-
centration d'agent de chélation peut être utilisée par suite de la capacité de chélation plus qrande de composés centering of chelating agent can be used due to the higher chelating capacity of compounds
d'ATMP et d'EDTMP par comparaison avec celle de l'HEDP. of ATMP and EDTMP compared to that of HEDP.
Des composés classiquement disponibles des types précé- dents qui peuvent être employés de manière satisfaisante Conventionally available compounds of the above types which can be used satisfactorily
dans la mise en pratique de la présente invention com- in the practice of the present invention
prennent le produit dit Dequest 2010 (HEDP), le produit dit Dequest 2000 (ATMP), et le produit dit Dequest 2041 take the product called Dequest 2010 (HEDP), the product says Dequest 2000 (ATMP), and the product says Dequest 2041
(EDTMP) disponibles à la société dite Monsanto Company. (EDTMP) available from the company called Monsanto Company.
Comme indiqué préalablement, l'agent de ché- As previously indicated, the supervisor
lation formé de HEDP peut être employé à une concentra- HEDP can be used at a concentration
tion d'environ 50 g/l correspondant à une concentration en ionscuivre d'environ 3 g/l jusqu'à une concentration d'environ 500 g/l correspondant à une concentration tion of approximately 50 g / l corresponding to a concentration of ions copper of approximately 3 g / l up to a concentration of approximately 500 g / l corresponding to a concentration
en ionscuivre d'environ 50 g/l, des concentrations inter- copper ions of about 50 g / l, concentrations between
médiaires étant échelonnées proportionnellement en con- mediaries being proportionally staggered in con-
sidérant des concentrations intermédiaires correspondan- staggering corresponding intermediate concentrations
tes d'ions cuivre Quand on emploie un mélange de HEDP et d'ATMP, comprenant de préférence environ 70 % de HEDP et 30 % en poids d'ATMP, on a découvert que 14 g/l When using a mixture of HEDP and ATMP, preferably comprising approximately 70% HEDP and 30% by weight of ATMP, it has been found that 14 g / l
de HEDP et 6 g/l d'ATMP sont satisfaisants pour une te- of HEDP and 6 g / l of ATMP are satisfactory for a
neur en ions cuivre de 3 g/l alors que 225 g/l de HEDP neur in copper ions of 3 g / l while 225 g / l of HEDP
et 97 g/l d'ATMP sont satisfaisants pour une concentra- and 97 g / l ATMP are satisfactory for a concentration
tion en ionscuivre du bain de 50 g/l Des réglages cor- ion ion copper bath 50 g / l Correct settings
respondants des concentrations de HEDP et de ATMP sont proportionnellement faites quand la concentration en ionscuivre est intermédiaire entre les limites de 3 et g/l pour fournir une chélation satisfaisante avec un Respondents of HEDP and ATMP concentrations are proportionally made when the copper ion concentration is intermediate between the limits of 3 and g / l to provide satisfactory chelation with a
léger excès d'agent de chélation présent dans le bain. slight excess of chelating agent present in the bath.
De manière semblable, quand un mélange de HEDP et d'EDTMP est employé, comprenant de préférence environ 50 % en poids de chaque composé, on a découvert que 9 g/l de HEDP Similarly, when a mixture of HEDP and EDTMP is used, preferably comprising about 50% by weight of each compound, it has been found that 9 g / l of HEDP
et 10 g/l d'EDTMP sont satisfaisants pour une concentra- and 10 g / l of EDTMP are satisfactory for a concentration
tion en ionscuivre d'environ 3 g/l,alors que 145 g/l de 11. ion ioncopper about 3 g / l, while 145 g / l 11.
HEDP et 166 g/l d'EDTMP sont satisfaisant pour une con- HEDP and 166 g / l EDTMP are satisfactory for a
centration en ionscuivre du bain d'environ 50 g/l avec des réglages proportionnés de concentration de ces deux ion concentration copper bath of about 50 g / l with proportional concentration settings of these two
constituants en considérant les concentrations intermé- constituents considering the intermediate concentrations
-5 diaires d'ionscuivre On appréciera aussi que les mélan- -5 diaries of ionscopper We will also appreciate that the melan-
ges à titre de variante d'agents de chélation compris included as a variant of chelating agents
dans les gammes spécifiées exigeront des réglages propor- within the specified ranges will require appropriate adjustments
tionnés de concentration de l'agent de-chélation total présent en relation avec la concentration d'ionscuivre en considérant les relations de concentration précédentes qui peuvent être facilement calculées et confirmées par expérimentation de routine pour fournir une performance optima pour toute condition donnée en considérant en concentration of the total chelating agent present in relation to the copper ion concentration by considering the previous concentration relationships which can be easily calculated and confirmed by routine experimentation to provide optimum performance for any given condition by considering in
outre les exemples spécifiques présentés ci-après. in addition to the specific examples presented below.
Un troisième constituant souhaitable de l'élec- A third desirable constituent of the elect
trolyte pour le dépôt de cuivre comprend un agent tampon et stabilisateur soluble dans le bain et compatible avec le bain comprenant des composés de carbonate, des composés de borate, des composés d'acétate ainsi-que trolyte for the deposition of copper comprises a buffer agent and stabilizer soluble in the bath and compatible with the bath comprising carbonate compounds, borate compounds, acetate compounds as well as
leurs mélanges De préférence, le carbonate de sodium et - their mixtures Preferably, sodium carbonate and -
le carbonate de potassium sont employés pour stabiliser potassium carbonate are used to stabilize
l'électrolyte contre les fluctuations de p H etapour ser- the electrolyte against fluctuations in p H etapour ser-
vir en outre de support pour des ions métalliques de further support for metal ions of
contamination introduits dans le bain par suite de l'en- contamination introduced into the bath as a result of the
trainement et de la dissolution des pièces dans l'élèc- dragging and dissolving parts in the ele-
trolyte durant le dépôt électrolytique L'utilisation - trolyte during electroplating Use -
des agents tampons mentionnés précédemment a en outre été. buffer agents mentioned previously was additionally.
observée, selon l'agent de chélation particulier utilisé,- observed, depending on the particular chelating agent used, -
pour inhiber la formation de dépôts de cuivre souillés et éliminer des dépôts de cuivre foncés dans les zones to inhibit the formation of soiled copper deposits and remove dark copper deposits in areas
cathodiques à faible densité de courant- Des ions ammo- cathodic at low current density- Ammo- ions
nium se sont révélés indésirables dans certains cas par suite d'une perte d'adhérence des dépôts électrolytique alors que les ions cadmium sont indésirables par suite de nium has been shown to be undesirable in some cases as a result of loss of adhesion of electrolytic deposits while cadmium ions are undesirable as a result of
la tendance à former des précipités dans le bain La con- the tendency to form precipitates in the bath
12.12.
* centration du tampon peut aller en gros d'environ 3 jus-* centering of the buffer can go roughly around 3 times
qu'à environ 100 g/i calculée sous forme de sel de so- only about 100 g / i calculated as the salt of
dium, de préférence d'environ 10 à-environ 20 g/l Les dium, preferably from about 10 to about 20 g / l
concentrations de l'agent tampon en-dessous des'concentra- buffering agent concentrations below the concentration
tions minima recommandées entraîneront des fluctuations de p H alors que des concentrations au-dessus de la gamme maxima spécifiée ne semblent pas avoir d'effet nocif sur recommended minimum values will cause p H to fluctuate while concentrations above the specified maximum range do not appear to have an adverse effect on
le fonctionnement de l'électrolyte. the functioning of the electrolyte.
Puisque l'agent tampon et l'agent de transfor- Since the buffering agent and the processing agent
mation en complexe sont soumis à un épuisement par la décomposition et l'entraînement-, un réapprovisionnement mation in complex are subject to exhaustion by decomposition and training-, replenishment
de ces deux produits chimiques pour maintenir l'électro- of these two chemicals to maintain electro-
lyte dans des limites de composition appropriées est né- lyte within appropriate composition limits is born
cessaire durant le fonctionnement industriel Ceci peut être convenablement réalisé sur une base intermittente ou continue en réponse à une analyse de la composition du bain en ajoutant les deux constituants séparément ou stopped during industrial operation This can be conveniently done on an intermittent or continuous basis in response to an analysis of the composition of the bath by adding the two components separately or
mélangés suivant des proportions appropriées. mixed in appropriate proportions.
L'électrolyte est réglé pour fournir un p H d'en- The electrolyte is adjusted to provide a p H of
viron 6 jusqu'à environ 10,5, un p Hi d'environ 9 à envi- about 6 to about 10.5, a p Hi of about 9 to about
ron 10 étant préféré Typiquement un p H de fonctionne- ron 10 being preferred Typically a p H of function-
ment d'environ 9,5 s'est révélé particulièrement satisfai- about 9.5 has been found to be particularly satisfactory.
sant Le p H approprié de l'électrolyte peut être maintenu en ajoutant un hydroxyde de métal alcalin à l'électrolyte afin d'augmenter le p H, la potasse étant préférée -Pour The appropriate p H of the electrolyte can be maintained by adding an alkali metal hydroxide to the electrolyte in order to increase the p H, potash being preferred.
réduire le p H jusque dans la gamme désirée, un acide miné- reduce the p H to the desired range, a mineral acid
ral ou un bicarbonate de métal alcalin peut être employé, parmi lesquels le bicarbonate de potassium constitue une matière préférée Quand le p H de fonctionnement diminue ral or an alkali metal bicarbonate can be used, among which potassium bicarbonate is a preferred material When the operating p H decreases
en-dessous du niveau recommandé, on a observé que I'élec- below the recommended level, it was observed that the electricity
trolyte a tendance à favoriser une mauvaise adhérence du dépôt de cuivre sur le substrat D'autre part, pour un p H de fonctionnement au-dessus dela gamme recommandée, on a observé dans certains cas que le dépôt de cuivre devient granuleux et à caractéristique brûlée On a trouvé 13. trolyte tends to promote poor adhesion of the copper deposit on the substrate. On the other hand, for an operating p H above the recommended range, it has been observed in certain cases that the copper deposit becomes granular and has a burnt characteristic. We found 13.
qu'à un p H inférieur à environ 7,5 allant jusqu'à envi- than at p H less than about 7.5 up to approx.
ron 6, une adhérence satisfaisante et un aspect du dé- ron 6, satisfactory adhesion and an aspect of
pôt satisfaisant peuvent être obtenus sur des substrats de cuivre et d'alliage de cuivre Cependant, lorsqu'on revêt des substrats ferreux et & base de zinc, on a trouvé qu'un p H au-dessus d'environ 7,5 jusqu'àenviron Satisfactory results can be obtained on copper and copper alloy substrates. However, when coating ferrous and zinc-based substrates, it has been found that a p H above about 7.5 up to around
,5 fournissait de meilleurs résultats. , 5 provided better results.
En plus des constituants précédents, le bain peut contenir, de manière facultative,en outre un agent de mouillage ou un agent tensio-actif qui est soluble In addition to the foregoing constituents, the bath may optionally additionally contain a wetting agent or a surfactant which is soluble
dans le bain et compatible avec les autres constituants. in the bath and compatible with the other constituents.
Lorsqu'on emploie un tel produit tensio-actif, il peut être utilisé à des concentrations allant jusqu'à environ 0,25 g/l, des quantités d'environ 0, 01 à environ 0,1 g/l When such a surfactant is used, it can be used in concentrations up to about 0.25 g / l, amounts from about 0.01 to about 0.1 g / l
étant préférées Des produits tensio-actifs typiques con- being preferred Typical surfactants contain
venables pour l'utilisation dans la mise en pratique de venables for use in the practice of
la présente invention comprennent les oxydes de polyéthy- the present invention include polyethylene oxides
lène tels que le produit dit Carbowax 1000, des sulfates d'alkyle tels que le sulfate de 2-éthylhexyle pourvu que lene such as the product known as Carbowax 1000, alkyl sulfates such as 2-ethylhexyl sulfate provided that
le bain soit filtré par du carbone pour retirer des pro- the bath is filtered by carbon to remove pro-
duits de dégradation formés durant le fonctionnement, degradation products formed during operation,
des agents de mouillage perfluoro anioniques et analo- anionic and analogous perfluoro wetting agents
gue.ford.
Dans la mise en pratique du procédé de la pré- In the practice of the process of the pre-
sente invention, l'électrolyte peut être mis en fonction- sente invention, the electrolyte can be turned on-
nement à des températures allant d'environ 38 C à envi- temperatures ranging from about 38 C to about
ron 71 C, de préférence d'environ 43 C à environ 60 C, des tempéartures d'environ 49 C à environ 60 C étant typiques La température spécifique employée variera selon la composition du bain tel que cela apparaîtra ron 71 C, preferably from about 43 C to about 60 C, temperatures from about 49 C to about 60 C being typical The specific temperature employed will vary according to the composition of the bath as it will appear
dans les exemples spécifiques qu'on décrira ultérieurement. in the specific examples which will be described later.
Le bain peut fonctionner avec une densité de courant ca- The bath can operate with a current density ca
thodique d'environ 0,1 à environ 8,0 A/dm, une den- about 0.1 to about 8.0 A / dm, a den-
sité de courant d'environ 0,5 à environ 2,5 A/dm étant current site from about 0.5 to about 2.5 A / dm being
préférée.favorite.
14. Le dépôt électrolytique de cuivre peut être réalisé en considérant les autres paramètres opératoires du bain avec un temps aussi faible qu'une minute jusqu'à un temps aussi long que plusieurs heures ou nf Ne des joursavec des temps de revêtement d'environ 2 minutes à environ 30 minutes étant plus courants pour des dépôts minces Le temps spécifique de dépôt 14. The electrolytic deposition of copper can be carried out by considering the other operating parameters of the bath with a time as low as one minute up to a time as long as several hours or nf Ne days with coating times of approximately 2 minutes to about 30 minutes being more common for thin deposits The specific deposit time
électrolytique variera selon l'épaisseur du bain souhai- electrolytic will vary depending on the thickness of the bath
tée qui est typiquement d'environ 0,00038 mm à envi- which is typically about 0.00038 mm approx.
ron 0,127 mm.ron 0.127 mm.
Le revêtement électrolytique est réalisé en The electrolytic coating is made in
immergeant le substrat conducteur à revêtir dans l'élec- immersing the conductive substrate to be coated in the elect
trolyte et en le reliant à la cathode d'une trolyte and connecting it to the cathode of a
source de courant continu On a trouvé que lorsque la con- DC source It has been found that when the con-
centration d'ionscuivre est au-dessus d'environ 20 g/l, copper ion concentration is above about 20 g / l,
il est avantageux, et ordinairement nécessaire, d'élec- it is advantageous, and ordinarily necessary, to elect
triser les substrats avant et durant l'immersion afin d'obtenir une bonne adhérence du revêtement de cuivre sur des substrats à base ferreuse Dans le cas de substrats à base de zinc, on a trouvé essentiel pour toutes les concentrations d'ionscuivre dans le bain d'électrifier le substrat à base de zinc avant et durant l'entrée dans le bain à un potentiel minimum d'environ 3 volts pour obtenir une adhérence satisfaisante du revêtement sort the substrates before and during immersion in order to obtain a good adhesion of the copper coating on ferrous-based substrates In the case of zinc-based substrates, it has been found essential for all the concentrations of copper ions in the bath electrify the zinc-based substrate before and during entry into the bath at a minimum potential of around 3 volts to obtain satisfactory adhesion of the coating
de cuivre sur le substrat à base de zinc. of copper on the zinc-based substrate.
On utilise une combinaison d'anodes pour élec- A combination of anodes is used for electro
trolyser le bain et effectuer le dépôt d'un revêtement trolyze the bath and deposit a coating
de cuivre sur la cathode La combinaison d'anodes com- prend une anode en cuivre de n'importe lequel des types of copper on the cathode The combination of anodes includes a copper anode of any of the types
bien connus dans la technique tels qu'une anode en cui- well known in the art such as a copper anode
vre de haute pureté exempte d'oxygène qui est soluble et réapprovisionne les ions cuivre consommés à partir du high purity glass free of oxygen which is soluble and replenishes the copper ions consumed from the
bain par dépôt électrolytique et entraînement à l'exté- bath by electrolytic deposition and external drive
rieur On a observé que lorsque la concentration d'ions It has been observed that when the ion concentration
cuivre tombe en-dessous de la concentration minima recom- copper falls below the minimum recommended concentration
2538 152538 15
15. mandée, une réduction de l'efficacité de la cathode se produit, accompagnée de dépôtsbrûls D'autre part, on a trouvé que des concentrations d'ions cuivre au-dessus 15. mandated, a reduction in the efficiency of the cathode occurs, accompanied by burnt deposits On the other hand, it has been found that concentrations of copper ions above
de la gamme maxima recommandée affectaient défavorable- of the maximum recommended range affected unfavorable-
ment l'adhérence du dépôt de cuivre Alors que le rappro- the adhesion of the copper deposit While the
visionnement d'ions cuivre doit être effectué par l'ad- viewing of copper ions must be carried out by the ad-
dition de sels de cuivre à l'électrolyte, on préfère ef- addition of copper salts to the electrolyte, ef- is preferred
fectuer le rapprovisionnement par dissolution de l'ano- replenish by dissolving the ano-
de en cuivre à un taux correspondant sensiblement au taux d' épuisement des ions cuivre par un réglage approprié de la surface d'anode en cuivre par rapport à la surface d'anode insoluble, cette anode insoluble pouvant être of copper at a rate corresponding substantially to the rate of depletion of copper ions by an appropriate adjustment of the surface of copper anode relative to the surface of insoluble anode, this insoluble anode can be
une anode en ferrite ou une anode en alliage nickel-fer. a ferrite anode or a nickel-iron alloy anode.
Le rapport spécifique surface d'anode en cuivre/surfa- The specific copper anode / surface area ratio
ce d'anode en ferrite peut aller d'environ 1: 2 à envi- this ferrite anode can range from about 1: 2 to about
ron 1: 6, un rapport d'environ 1: 3 à environ 1: 5 ron 1: 6, a ratio of about 1: 3 to about 1: 5
étant préféré et un rapport d'environ 1: 4 étant typique. being preferred and a ratio of about 1: 4 being typical.
Le rapport spécifique surface d'anode en cuivre/surface d'anode en alliage nickel-fer peut aller d'environ 1: 2 The specific ratio of copper anode surface to nickel-iron alloy anode surface can range from approximately 1: 2
jusqu'à environ 4: 1, un rapport d'environ 1: 1 à envi- up to approximately 4: 1, a ratio of approximately 1: 1 to approx.
ron 2: 1 étant préféré En outre, le rapport entre la surface de la cathode et la surface totale de l'anode peut aller d'environ 1: 2 jusqu'à environ 1: 6, de ron 2: 1 being preferred In addition, the ratio between the surface of the cathode and the total surface of the anode can range from approximately 1: 2 to approximately 1: 6,
préférence d'environ 1: 3 à environ 1: 5,et typique- preferably from about 1: 3 to about 1: 5, and typical-
ment être d'environ 1: 4.ment about 1: 4.
L'anode insoluble en ferrite employée dans la combinaison contrô 81 ée avec l'anode soluble en cuivre peut The ferrite insoluble anode used in the controlled combination with the copper soluble anode can
comprendre une construction d'anode composite (hété- understand a composite anode construction (heter-
rogène) ou intégrale o les sections de ferrite compren- homogeneous) or integral where the ferrite sections include
nent un mélange fritté d'oxydes de fer et au moins un autre oxyde métallique pour produire une masse frittée a sintered mixture of iron oxides and at least one other metal oxide to produce a sintered mass
ayant une structure cristalline de spinelle Des matiè- having a crystal structure of spinel
res d'anode en ferrite particulièrement satisfaisantes particularly satisfactory ferrite anode res
comprennent un mélange d'oxydesmétalliques contenant en- include a mixture of metal oxides containing
viron 55 à environ 90 % en mole d'oxyde de fer calculés 16. sous forme de Fe 203 et au moins un autre oxyde métallique présent en quantité d'environ 10 à 45 % en mole de métaux choisis dans le groupe se composant de manganèse, de nickel, de cobalt, de cuivre, de zinc et de leurs mélanges La masse frittée est une solution solide o les atomes de about 55 to about 90 mole% of iron oxide calculated 16. as Fe 203 and at least one other metal oxide present in an amount of about 10 to 45 mole% of metals selected from the group consisting of manganese , nickel, cobalt, copper, zinc and their mixtures The sintered mass is a solid solution where the atoms of
fer sont présents sous les formes ferrique et ferreuse. iron are present in the ferric and ferrous forms.
Ces électrodes en ferrite peuvent être fabriquées, par exemple,en formant un mélange d'oxyde ferrique (Fe 203) et d'unou d'un mélange,-d'oxydes métalliques choisis dans le groupe se composant de Mn O, de Ni O, de Co O, de Cu O et de Zn O pour fournir une concentration d'environ 55 à 90 % en mole de l'oxyde ferrique et de 10 à 45 % d'un ou de plusieurs des oxydes métalliques qui sont mélangés dans un broyeur à boulets Le mélange est chauffé pendant environ These ferrite electrodes can be produced, for example, by forming a mixture of ferric oxide (Fe 203) and one or a mixture, of metal oxides chosen from the group consisting of Mn O, Ni O , Co O, Cu O and Zn O to provide a concentration of about 55 to 90 mol% of the ferric oxide and 10 to 45% of one or more of the metal oxides which are mixed in a ball mill The mixture is heated for approximately
une à environ 15 heures dans l'air, l'azote ou l'anhydri- one to about 15 hours in air, nitrogen or anhydrous
de carbonique à-des températures d'environ 700 à environ carbon dioxide at temperatures of about 700 to about
1000 C L'atmosphère de chauffage peut contenir de l'hy- 1000 C The heating atmosphere may contain hy-
drogène en quantité allant jusqu'à environ 10 % dans l'azote gazeux Après refroidissement, le mélange est pulvérisé pour obtenir une poudre fine qui est ensuite transformée en une masse conformée ayant la configuration drogen in an amount up to about 10% in nitrogen gas After cooling, the mixture is sprayed to obtain a fine powder which is then transformed into a shaped mass having the configuration
désirée, par moulage par compressionou extrusion. desired, by compression or extrusion molding.
La masse conformée est ensuite chauffée à une températu- The shaped mass is then heated to a temperature
re d'environ 1100 à environ 14500 C dans l'azote ou de l'anhydride carbonique contenant jusqu'à environ 20 % en volume d'oxygène pendant une période allant d'environ 1 re from about 1100 to about 14500 C in nitrogen or carbon dioxide containing up to about 20% by volume of oxygen for a period ranging from about 1
à environ 4 heures- La masse fritte résultante est en- at around 4 o'clock- The resulting sintered mass is
suite lentement refroidie dans l'azote ou l'anhydride slowly cooled in nitrogen or anhydride
carbonique contenant-jusqu'à environ 5 % en volume d'oxy- carbonic containing-up to about 5% by volume of oxy-
gène en produisant une électrode ayant la configuration gene by producing an electrode with the configuration
appropriée caractérisée par le fait qu'elle a une résis- suitable characterized in that it has a resistance
tivité relativement faible, une bonne résistance à la cor- relatively low activity, good resistance to cor-
rosion et une bonne résistance aux chocs thermiques. corrosion and good resistance to thermal shock.
On appréciera qu'au lieu d'employer de l'oxyde ferrique, du fer métallique ou de l'oxyde ferreux peut 17. It will be appreciated that instead of using ferric oxide, metallic iron or ferrous oxide may 17.
être utilisé dans la préparation du mélange initial. be used in the preparation of the initial mixture.
En outre, au lieu des autres oxydes métalliques, des In addition, instead of the other metal oxides,
composés des métaux qui produisent ultérieurement l'oxy- compounds of metals which subsequently produce oxy-
de métallique correspondant par chauffage peuvent être utilisés à titre de variante tels que,par exemple, les com- posés de carbonate ou d'oxalate métailiques Parmi les précédents, des anodes en ferrite composées de manière prédominante d'oxyde de fer et d'oxyde de nickel dans les proportions présentées précédemment se sont révélées particulièrement satisfaisantes pour la mise en pratique of corresponding metal by heating can be used as a variant such as, for example, the compounds of carbonate or of oxalate metail. Among the preceding, ferrite anodes composed predominantly of iron oxide and oxide nickel in the proportions presented above have been found to be particularly satisfactory for practical application
du présent procédé.of this process.
Une anode en ferrite comprenant un mélange frit- A ferrite anode comprising a fried mixture
té d'oxyde de fer et d'oxyde de nickel convenable pour iron oxide and nickel oxide tee suitable for
l'utilisationdans la mise en pratique de la présente in- use in the practice of this information
vention est disponible commercialement à la société dite vention is commercially available from the so-called company
TDK-Inc, sous la désignation F-21.TDK-Inc, under the designation F-21.
Par le proportionnement convenable des surfaces By the proper proportioning of surfaces
d'anode de ferrite et de cuivre, la chimie de l'électro- anode of ferrite and copper, the chemistry of electro-
lyte est maintenue avec des additions appropriées de lyte is maintained with appropriate additions of
l'agent tampon et de transformation en complexe et de peti- the buffer and complexing agent and small
tes additions, si cela est nécessaire, du sel de cuivre. your additions, if necessary, of copper salt.
Une surface d'anode en ferrite insuffisante entraîne des dépôts granuleux ou ternes alors qu'une surface d'anode An insufficient ferrite anode surface results in grainy or dull deposits while an anode surface
en ferrite excessive peut entraîner une efficacité rédui- excessive ferrite can result in reduced efficiency
te de la cathode et un épuisement progressif des anions de cuivre exigeant un réapprovisionnement plus fréquent cathode and a gradual depletion of copper anions requiring more frequent replenishment
de l'électrolyte avec des sels de cuivre. electrolyte with copper salts.
De manière surprenante, l'utilisation d'anodes insolubles principales à titre de variante au lieu de l'anode en ferrite comme décrit ci-dessus oudes anodes en alliage nickel-fer comme décrit ci-après ne fournit pas de dépôts satisfaisants Par exemple, on a trouvé que Surprisingly, the use of main insoluble anodes as an alternative to the ferrite anode as described above or nickel-iron alloy anodes as described below does not provide satisfactory deposits. For example, we found that
des anodes principales en graphite insoluble se dégra- main anodes in insoluble graphite degrade
daient en produisant des sous-produits nuisibles dans le pay by producing harmful byproducts in the
bain/ce qui entraîne des dépôts souillés. bath / resulting in soiled deposits.
18.18.
L'anode en alliage nickel-fer insoluble emplo- The insoluble nickel-iron alloy anode employs
yée dans une combinaison contrôlée avec l'anode en cuivre soluble peut avoir une composition composite yée in a controlled combination with the soluble copper anode may have a composite composition
(hétérogène) ou intégrale fournissant au moins une stra- (heterogeneous) or integral providing at least one strategy
te en surface extérieure qui est composée d'un alliage de nickel-fer contenant environ 10 % jusqu'à environ te on the outer surface which is composed of a nickel-iron alloy containing approximately 10% up to approximately
% enpoids de fer, le complément étant essentielle- % iron weight, the complement being essential-
ment du nickel, de préférence environ 15 à environ 30 % nickel, preferably about 15 to about 30%
de fer Selon une forme préférée de la présente inven- of iron According to a preferred form of the present invention
tion, l'anode en alliage nickel-fer insoluble est compo- tion, the insoluble nickel-iron alloy anode is composed
sée d'un noyau (partie centrale) électriquement conduc- an electrically conductive core (central part)
teur ayant un dépôt électrolytique adhérent de l'alliage nickel-fer sur ses surfaces d'une épaisseur suffisante pour envelopper la matière du noyau en empêchant son tor having an adherent electrolytic deposit of the nickel-iron alloy on its surfaces of sufficient thickness to envelop the material of the core preventing its
exposition pendant des périodes d'utilisation prolongées. exposure for extended periods of use.
Le dépôt ou le revêtement d'alliage nickel-fer est en outre caractérisé comme étant sensiblement non poreux en The nickel-iron alloy deposit or coating is further characterized as being substantially non-porous in
scellant efficacement le noyau interne contre toute expo- effectively sealing the inner core against any exposure
sition à l'électrolyte Dans ces constructions d'anodes composites ou hétérogènes, la matière du noyau peut comprendre des métaux tels que le cuivre, des alliages de cuivre, des noyaux à base ferreuse comprenant le fer et electrolyte position In these composite or heterogeneous anode constructions, the core material can include metals such as copper, copper alloys, ferrous-based cores including iron and
l'acier, l'aluminium et des alliages d'aluminium, le ni- steel, aluminum and aluminum alloys, ni-
ckel et analogue Parmi les produits précédents, un noyau de cuivre de haute purèté semblable à l'anode de cuivre employée en relation avec l'anode de nickel-fer insoluble est préféré, puisqu'une exposition inadvertente du noyau par suite d'endommagement ou par suite de dissolution progressive du revêtement ou du recouvrement pendant une période de temps prolongée n'affecte pas défavorablement le fonctionnement du bain du fait que les ions cuivre sont introduits d'une manière semblable à ceux introduits ckel and the like Among the foregoing products, a high purity copper core similar to the copper anode used in connection with the insoluble nickel-iron anode is preferred, since inadvertent exposure of the core as a result of damage or as a result of gradual dissolution of the coating or overlay over an extended period of time does not adversely affect the operation of the bath since copper ions are introduced in a manner similar to those introduced
par les anodes de cuivre solubles classiques Par opposi- by conventional soluble copper anodes By opposi-
tion, quand des noyaux à -base ferreuse sont employés, tion, when ferrous-based cores are used,
une exposition inadvertente du noyau à l'électrolyte en- inadvertent exposure of the nucleus to the electrolyte
19.19.
traine une dissolution progressive du fer en introdui- causes a progressive dissolution of iron by introducing
sant des ions fer dans l'électrolyte,ce qui affecte sant iron ions in the electrolyte, which affects
finalement défavorablement la qualité du dépôt de cui- ultimately unfavorably the quality of the cooking deposit
vre produit en rendant le procédé industriellement non satisfaisant On a observé, que les concentrations d'ions fer dans l'électrolyte de plus d'environ 325 ppm étaient nocives et tendaient à produire des dépôts de cuivre granuleux,ternes et du type brûlé En outre, les ions your product by making the process industrially unsatisfactory It has been observed that concentrations of iron ions in the electrolyte of more than about 325 ppm are harmful and tend to produce grainy, dull and burnt-like copper deposits. , the ions
fer de contamination ne peuvent pas être facilement reti- contamination iron cannot be easily removed
réspar suite de l'agent de transformation en complexe from the transformation agent into a complex
dans l'électrolyte, qui complexe ces ions fer de contami- in the electrolyte, which complexes these contaminated iron ions
nation très fortement Alors que des noyaux composés de nation very strongly While nuclei composed of
nickel ou d'alliages de nickel peuvent être aussi emplo- nickel or nickel alloys can also be used
yés de manière satisfaisante, leur conductibilité infé- yeas satisfactorily, their conductivity inferior
rieure et leur prix de revient relativement plus élevé les and their relatively higher cost price
rendent moins souhaitables que des noyaux de cuivre. make them less desirable than copper cores.
Selon une pratique préférée de la présente invention, l'anode en alliage nickel-fer insoluble est According to a preferred practice of the present invention, the anode made of an insoluble nickel-iron alloy is
produite en déposant par voie électrolytique un revête- produced by electroplating a coating
ment d'alliage nickel-fer sur un noyau conducteur qui a été soumis à des étapes appropriées de pré-revêtement pour rendre le substrat réceptif visà-vis du dépôt ment of nickel-iron alloy on a conductive core which has been subjected to appropriate pre-coating steps to make the substrate receptive to the deposit
électrolytique d'un alliage-de nickel-fer selon des prati- electrolytic of a nickel-iron alloy according to practices
ques classiques de pré-revêtement bien connues dans la ques conventional pre-coating well known in the
technique pour les substrats métalliques Lorsqu'un no- technique for metallic substrates When a no-
yau d'aluminium ou d'alliage d'aluminium est employéSdes aluminum or aluminum alloy yau is used
étapes de pré-revêtement telles que du zincate, un allia- pre-coating steps such as zincate, an alloy
ge de bronze ou l'anodisation sont utilisées selon des bronze age or anodization are used according to
pratiques bien connues pour rendre le noyau réceptif vis- well known practices for making the nucleus receptive vis-
à-vis d'un revêtement en nickel-fer L'électrolyte pour déposer le dépôt d'alliage nickel-fer sur le noyau d'anode peut comprendre n'importe lequel des types bien connus de la technique tels que décrits,par exemple, dans les brevets américains n 3 806 429, N O 3 974 044, et N O 4 179 343 On appréciera que les compositions et les 20. with a nickel-iron coating The electrolyte for depositing the nickel-iron alloy deposit on the anode core can include any of the types well known in the art as described, for example, in US Pat. Nos. 3,806,429, NO 3,974,044, and NO 4,179,343 It will be appreciated that the compositions and 20.
procédés comme décrit dans les brevets américains men- processes as described in the US patents men-
tionnés ci-dessus sont principalement destinés & produire mentioned above are mainly intended to produce
un dépôt d'alliage nickel-fer extrêmement brillant et dé- a deposit of extremely bright and depleted nickel-iron alloy
coratif sur un substrat conducteur simulant celui d'un dépôt de nickel brillant classique Un dépôt de nickel- fer très brillant uniformisé n'est pas essentiel pour le corative on a conductive substrate simulating that of a classic shiny nickel deposit A uniform shiny nickel-iron deposit is not essential for the
fonctionnement satisfaisant de l'anode en alliage nickel- satisfactory operation of the nickel alloy anode
fer insoluble de la présente invention, du fait que le -dépôt d'alliage est un revêtement fonctionnel plutôt qu'un revêtement décoratif et en conséquence, des dépôts électrolytiques nickel-fer semi-brillants, satinés et même relativement ternes-peuvent être employés Par suite de ce qui précède, la concentration particulière et insoluble iron of the present invention, since the alloy deposit is a functional coating rather than a decorative coating and therefore semi-shiny, satin and even relatively dull nickel-iron electrolytic deposits can be employed. following the above, the particular concentration and
les types de produitsde brillantage principal et secondai- the main and secondary polish types
re employés dans les brevets américains mentionnés pré- re employed in the aforementioned US patents
cédemment peuvent être modifiés et leur concentration ré- can be changed and their concentration
duite pour fournir un revêtement de nickel-fer adhérent pick to provide an adherent nickel-iron coating
et ductile ayant la composition d' alliage souhaitée. and ductile having the desired alloy composition.
L'électrolyte pour le dépôt d'alliage nickel- The electrolyte for nickel alloy deposition-
fer contient des composés de soufre organiques pour intro- iron contains organic sulfur compounds for intro-
duire du soufre dans le dépôt d'alliage résultant afin de fournir un fonctionnement satisfaisant et qui renforce reduce sulfur in the resulting alloy deposit in order to provide satisfactory operation and which reinforces
également l'adhérence du revêtement sur le noyau d'anode. also the adhesion of the coating on the anode core.
on a trouvé que des teneurs en soufre en quantité d'en- it has been found that sulfur contents in quantity of
viron 0,005 jusqu'à environ 0,06 % en poidsde préférence environ 0,01 à environ 0,04 % en poids, dans le dépôt d'alliage nickel-fer sont nécessaires pour fournir une performance satisfaisante sous forme d'anode insoluble about 0.005 to about 0.06% by weight, preferably about 0.01 to about 0.04% by weight, in the nickel-iron alloy deposit are necessary to provide satisfactory performance in the form of an insoluble anode
dans la mise en pratique de la présente invention Typi- in the practice of the present invention Typi-
quement, la teneur en soufre dans le dépôt électrolyti- The sulfur content in the electrolytic deposition
que d'alliage nickel-fer est environ 0,02 à environ 0,03 that nickel-iron alloy is about 0.02 to about 0.03
% en poids.% in weight.
On a trouvé que la composition de l'alliage est It has been found that the composition of the alloy is
importante pour obtenir le milieu oxydant approprié dans l'élec- important to obtain the appropriate oxidizing medium in the elect
trolyte en cuivre afin de fournir un procédé de revêtement copper trolyte to provide a coating process
25388 1 525388 1 5
2.1.2.1.
électrolytique de cuivre qui est industriellement accep- copper electrolytic which is industrially accepted
table du point de vue de la facilité de contrôle, de l'entretien et du réapprovisionnement et de la qualité table from the point of view of ease of control, maintenance and replenishment and quality
du revêtement de cuivre produit Alors que des concen- of the copper coating produced While concentrations
trations de fer d'environ 10 %-à environ 40 % en poids iron trations from about 10% to about 40% by weight
se sont révélées satisfaisantes, des résultats particu- have proved satisfactory, particular results
lièrement satisfaisants sont obtenus pour des concentra- are satisfactorily obtained for concentra-
tions de fer d'environ 15 à environ 30 % en fer, spécia- iron from about 15 to about 30% iron, special-
lement d'environ 20 à environ 25 % de fer, le complément étant essentiellement du nickel De manière surprenante, une anode se composant essentiellement de fer pur ne approximately 20 to about 25% iron, the balance being essentially nickel Surprisingly, an anode consisting essentially of pure iron does not
fonctionnera pas dans la mise en pratique du présent procé- not work in the practice of this process
dé du fait-qu'elle se dissout rapidement en provoquant une augmentation rapide de la concentration d'iorsfer en rendant le bain inopérant pour les raisons préalablement présentées De manière semblable, on a trouvé que des dice the fact that it dissolves quickly causing a rapid increase in the concentration of iorsfer by rendering the bath ineffective for the reasons previously presented Similarly, it has been found that
anodes de nickel sensiblement pures étaient non satisfai- substantially pure nickel anodes were unsatisfied
santes malgré le fait qu'elles soient relativement insolu- despite the fact that they are relatively insoluble
bles Des anodes de nickel sensiblement pures se sont whites Substantially pure nickel anodes have formed
révélées inadéquates pour fournir le milieu oxydant sou- found to be inadequate for providing the oxidizing medium
haité pour obtenir une performance de revêtement convena- hated for proper coating performance
ble pendant des périodes de temps prolongées De manière semblable, des alliages nickel-fer dépourvus de soufre se ble for extended periods of time Similarly, sulfur-free nickel-iron alloys
sont révélés non satisfaisants après des périodes relati- are found to be unsatisfactory after relatively short periods
vement brèves d'utilisation telles qu'environ 8 heures. Briefly in use such as around 8 hours.
D'autre part, des teneurs en soufre de plus d'environ On the other hand, sulfur contents of more than about
0,06 % dans l'alliage nickel-fer ne sont pas satisfaisan- 0.06% in the nickel-iron alloy is not satisfactory
tes pour un fonctionnement industriel soutenu. your for sustained industrial operation.
En se référant maintenant au dessin, et com- Referring now to the drawing, and com-
me présenté sur la figure 1, un agencement typique de revêtement électrolytique est schématiquement -illustré, pouvant être utilisé dans la mise en pratique de la présente invention Comme représenté, le dispositif comprend une cuve 10 remplie par l'électrolyte alcalin au cuivre 12 exempt de cyanure et ayant une barre omnibus 14 As shown in FIG. 1, a typical arrangement of electrolytic coating is schematically illustrated, which can be used in the practice of the present invention. As shown, the device comprises a tank 10 filled with the copper alkaline electrolyte 12 free of cyanide and having a bus bar 14
253881 5253 881 5
22. chargée de manière anodique et disposée au-dessusd'o 22. anodically charged and arranged above it
deux anodes en cuivre solubles 16 et une anode en allia- two soluble copper anodes 16 and one alloy anode
ge nickel-fer insoluble 18 sont suspendues en contact électrique Le rapport de la surface d'anode de l'anode ou des anodes solubles et insolubles est important pour obtenir un fonctionnement convenable du bain durant un ge insoluble nickel-iron 18 are suspended in electrical contact The ratio of the anode surface of the anode or of the soluble and insoluble anodes is important in order to obtain proper operation of the bath during a
fonctionnement industriel maintenu Par le proportionne- industrial operation maintained By the proportion
ment approprié de la surface d'anode de cuivre et de la appropriately the copper anode surface and the
surface d'anode d'alliage nickel-fer dans une gamme d'en- nickel-iron alloy anode surface in a range of
viron 1: 2 jusqu'à environ 4: 1, de préférence pour about 1: 2 to about 4: 1, preferably for
des rapports d'environ 1: 1 jusqu'à environ 2 t 1, la chi- ratios of approximately 1: 1 to approximately 2 t 1, the chi-
mie de l'électrolyte est maintenue avec des additions crumb of the electrolyte is maintained with additions
appropriées des agents-tampon et de transformation com- appropriate buffering and processing agents
plexe-et de petites additions, si cela est nécessaire, du sel de cuivre Lorsque le rapport surface d'anode de cuivre/ surface d'anode en alliage nickel-fer tombe en-dessous d'environ 1: 2, c'est-à-dire quand la surface totale d'anode en cuivre tombe en-dessous d'environ 33 % de la copper-and small additions, if necessary, of copper salt When the ratio of copper anode surface to nickel-iron alloy anode surface drops below about 1: 2, i.e. when the total area of copper anode falls below about 33% of the
surface totale d'anode, on a observé que l'anode en cui- total anode surface, it was observed that the cooking anode
vre tendait à se polariser et dans cette condition là, elle demeure conductrice mais ne se dissout plus suivant le taux désiréïentrainant-des dép 8 ts de cuivre ternes vre tended to polarize and in this condition there, it remains conductive but does not dissolve any more according to the desired rate entraining -dep 8 ts of dull copper
et granuleux Ceci nécessite aussi un réapprovisionne- and grainy This also requires a replenishment-
ment augmenté des ions cuivre par l'addition de sels so- copper ions increased by the addition of so-
lubles qui est associé à la formation de produits de dégradation dans le bain En conséquence, alors que le lubles which is associated with the formation of degradation products in the bath As a result, while the
procédé peut être mis en fonctionnement pendant de brè- process can be started for short
ves périodes de temps, pour un rapport surface d'anode de cuivre/surface d'anode d'alliage nickel-fer supérieur your time periods, for a ratio of copper anode surface to nickel-iron alloy anode surface superior
à environ 1: 2, ce fonctionnement n'est pas industriel- at approximately 1: 2, this operation is not industrial-
lement pratique pendant des périodes de temps prolongées. Also practical for extended periods of time.
En se référant maintenant à la figure 2 des Referring now to Figure 2 of
* dessins,l'anode en alliage nickel-fer insoluble construi-* drawings, the insoluble nickel-iron alloy anode constructed
te selon un exemple de réalisation préféré de la présen- te according to a preferred embodiment of the present
te invention est une construction composite comprenant The invention is a composite construction comprising
25388 1 525388 1 5
23. une barre allongée 20 reliée de manière sûre à son 23. an elongated bar 20 securely connected to its
extrémité supérieure à un élément 22 en forme de cro- upper end to a cross-shaped element 22
chet qui est de préférence composé d'une matière chet which is preferably composed of a material
conductrice inerte telle que du titane, par exemple. inert conductor such as titanium, for example.
La barre allongée 20, comme on le voit mieux sur la The elongated bar 20, as best seen on the
figure 3, est composée d'un noyauou partie centrale,- Figure 3, is composed of a core or central part, -
conducteur central 24 qui peut avoir une construction - central conductor 24 which may have a construction -
pleine ou tubulaire ayant une strate ou revêtement extérieur adhérent 26 placée par dessus la surface extérieure totale La configuration particulière de l'anode en alliage nickel-fer n'est pas critique pour obtenir une performance satisfaisante et la forme ainsi que la configuration en coupe transversales peuvent être modifiées selon des mises en pratique connues pour solid or tubular having an adherent outer layer or coating 26 placed over the total outer surface The particular configuration of the nickel-iron alloy anode is not critical for obtaining satisfactory performance and the shape as well as the configuration in cross section can be modified according to known practices for
obtenir un pouvoir de projection optimum et une unifor- obtain optimum projection power and uniformity
mité optima des caractéristiques et de l'épaisseur du dépôt électrolytique de cuivre en accord avec la nature des optimum characteristics and thickness of the electrolytic deposit of copper in accordance with the nature of the
substrats à revêtir.substrates to be coated.
Durant un revêtement électrolytique, un subs- During an electrolytic coating, a subs-
trat ou pièce à usiner 28 à revêtir de cuivré est immer- trat or workpiece 28 to be coated with copper is immersed
gé dans l'électrolyte 12 de la cuve 10 de la figure 1 ge in the electrolyte 12 of the tank 10 of FIG. 1
généralement supporté à partir d'une barre omnibus con- generally supported from a bus bar
venable 30 et chargée de manière cathodique ô on fait passer du courant entre l'anode et le substrat pendant une période de temps suffisante pour déposer l'épaisseur venable 30 and cathodically charged ô current is passed between the anode and the substrate for a period of time sufficient to deposit the thickness
souhaitée de cuivre sur le substrat. desired copper on the substrate.
Alors que le rapprovisionnement de l'agent de transformation en complexe durant le fonctionnement de l'électrolyte est ordinairement réalisé en employant While replenishing the complexing agent during the operation of the electrolyte is usually accomplished by employing
un sel de métal alcalin neutralisé pour éviter une-réduc- an alkali metal salt neutralized to avoid -reduction-
tion forte du pl de fonctionnement de l'électrolyte, on prévoit que la forme acide du produit de transformation en complexe peut être utilisée pour la formation du bain strong electrolyte operating pl, it is expected that the acid form of the product of transformation into complex can be used for the formation of the bath
d'origine ou une nouvelle formation-dé bain en dissol- original or a new dissolving bath formation
vant d'abord le produit de transformation en complexe de first of all the product of transformation into a complex of
2538815.2538815.
24. forme acide dans l'eau,suivi de l'addition d'une base 24. acid form in water, followed by the addition of a base
telle que la potasse pour augmenter le p H jusqu'à un ni- such as potash to increase p H to a level
veau au-dessus d'environ 8 Ensuite, l'agent tampon peut être ajouté à la solution préliminaire ou une neutralisation du produit de transformation complexe a calf above about 8 Then the buffering agent can be added to the preliminary solution or neutralization of the complex transformation product has
été réalisée in situ.was carried out in situ.
Pour illustrer encore le procédé et la nouvelle anode de la présente invention, les exemples spécifiques suivants sont prévus On comprendra que ces exemples To further illustrate the process and the new anode of the present invention, the following specific examples are provided. It will be understood that these examples
ne sont donnés qu'à titre d'illustration et non pas de li- are for illustration only and not for li-
mitation de la présente invention.mitation of the present invention.
EXEMPLE 1EXAMPLE 1
Un électrolyte alcalin aqueux exempt de cyanu- An aqueous alkaline electrolyte free of cyanu-
re convenable pour déposer un mince revêtement de cuivre sur des substrats à base ferreuse tels que l'acier et des substrats re suitable for depositing a thin coating of copper on ferrous-based substrates such as steel and substrates
à base de cuivre tels que le laiton est préparé en dis- based on copper such as brass is prepared in dis-
solvant dans de lleau désionisée environ 60 à environ 72 g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre ( 15 à 18 g/i solvent in deionized water about 60 to about 72 g / l copper sulfate pentahydrate (15 to 18 g / i
d'ions cuivre) avec agitation Apres la dissolution com- copper ions) with agitation After dissolution
plète du sel formé de sulfate de cuivre, environ 81 à environ 87 g/l d'agent de-transformation en complexe sont dissous comprenant le sel de potassium neutralisé d'un aminotri(acide méthylène phosphonique) (ATMP) à 30 % full of salt formed from copper sulfate, about 81 to about 87 g / l of complexing agent are dissolved including the neutralized potassium salt of an aminotri (methylene phosphonic acid) (ATMP) at 30%
en poids et 70 % en poids d'acide l-hydroxyéthylidène- by weight and 70% by weight of 1-hydroxyethylidene acid-
1,1-diphosphonique (HEDP) Le p H de la solution est réglé en employant une solution aqueuse à 50 % de potasse pour 1,1-diphosphonique (HEDP) The p H of the solution is adjusted by using a 50% aqueous solution of potassium hydroxide to
fournir un p H d'environ 8,5 Ensuite, environ 15 à envi- provide a p H of about 8.5 Then about 15 to about
ron 25 g/l de carbonate de potassium sont ajoutés et la 25 g / l of potassium carbonate are added and the
solution est agitée jusqu'à ce que la dissolution complè- solution is stirred until dissolution is complete
te se produise La solution est ensuite chauffée jusqu'à une température de fonctionnement allant dlenviron 43 C à environ 60 C et une combinaison d'une anode en cuivre te happen The solution is then heated to an operating temperature ranging from about 43 C to about 60 C and a combination of a copper anode
de grande pureté, exempte d'oxygène et d'une anode en fer- high purity, free of oxygen and an iron anode
rite est immergée tout en étant suspendue à un barreau d'anode pour fournir un rapport surface d'anode 25. rite is immersed while hanging from an anode rod to provide an anode surface area 25.
en ferrite/surface d'anode en cuivre d'environ 4: 1. Ferrite / copper anode area of approximately 4: 1.
Alors que l'agitation n'est pas critique, une certaine agitation telle qu'une agitation mécanique, par tige cathodique,et de préférence une agitation par l'airest employée pour fournir une efficacité et un pouvoir de projection améliorésdu revêtement Des panneaux expérimentaux en acier et en laiton sont soumis au revêtement électrolytique dans l'électrolyte précédent pendant des périodes d'environ 2 à 20 minutes sous une densité de courant cathodique d'environ 0,5 à 1,0 A/dm 2 et pour un rapport surface de cathode/surface d'anode d'environ 1: 2 à environ 1: 6 Le bain est maintenu While agitation is not critical, some agitation such as mechanical agitation, by cathode rod, and preferably agitation by air is employed to provide improved efficiency and spraying power of the coating. steel and brass are subjected to the electrolytic coating in the preceding electrolyte for periods of approximately 2 to 20 minutes at a cathodic current density of approximately 0.5 to 1.0 A / dm 2 and for an area ratio of cathode / anode surface from about 1: 2 to about 1: 6 The bath is maintained
à un p H d'environ 8,5 à 9,5 et la solution est vigou- at a p H of about 8.5 to 9.5 and the solution is vigorous.
reusement agitée par agitation par l'air On obtient des vigorously agitated by air agitation
-15 dépôts de mince revêtement de cuivre sensiblement unifor- -15 deposits of thin, substantially uniform copper coating-
mes, à grains affinés, ductiles et adhérents. mes, with refined, ductile and adherent grains.
L'électrolyte précédent est aussi convenable pour le revêtement par du cuivre de pièces en acier et The above electrolyte is also suitable for coating copper parts with steel and
en laiton dans un revêtement en tonneau. made of brass in a barrel covering.
EXEMPLE 2EXAMPLE 2
Un prépare un électrolyte identique à celui dé- One prepares an electrolyte identical to that de-
crit dans l'exemple 1 Des panneaux expérimentaux en zinc written in Example 1 Experimental zinc panels
sont revêtus de manière satisfaisante en employant les mê- are coated satisfactorily using the same
mes paramètres de fonctionnement que ceux décrits dans l'exemple 1 sauf toutefois que les panneaux expérimentaux sont électrisés sous une tension minima de 3 volts -avant et durant l'immersion dans l'électrolyte my operating parameters than those described in Example 1 except, however, that the experimental panels are electrified at a minimum voltage of 3 volts - before and during immersion in the electrolyte
pour fournir des dépôts de mince revêtement de cuivre adhé- to provide deposits of thin coated copper
rents, ductiles et à grains affinés. rents, ductile and refined grain.
EXEMPLE 3EXAMPLE 3
Un électrolyte alcalin aqueux -exempt de cyanure convenable pour déposer un mince revêtement de cuivre sur des substrats à base ferreuse tels que l'acier et sur des substrats à base de cuivre tels que le laiton est préparé en dissolvant dans l'eau désionisée environ 25 g/l 26. à 35 g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre ( 6,25 à An aqueous alkaline-cyanide-free electrolyte suitable for depositing a thin coating of copper on ferrous-based substrates such as steel and on copper-based substrates such as brass is prepared by dissolving in deionized water about 25 g / l 26. to 35 g / l copper sulphate pentahydrate (6.25 to
8,75 g/l d'ionscuivre) avec agitation Après la dissolu- 8.75 g / l coppercopper) with stirring After dissolu-
tion complète du sel formé de sulfate de cuivre, on ajoute environ 62,5 g/1 à environ 78,5 g/1 d'acide l-hydroxy éthylidène-l,l-diphosphonique Le p H de la solution est réglé en employant une solution aqueuse à 50 % de potasse the complete salt formed from copper sulphate, about 62.5 g / l are added to about 78.5 g / l of l-hydroxy ethylidene-l, l-diphosphonic acid The p H of the solution is adjusted using a 50% aqueous solution of potash
jusqu'à un p H au-dessus de 8,0 Ensuite, environ 15 à en- up to p H above 8.0 Then about 15 to-
viron 20 g/l de carbonate de sodium sont ajoutés et la about 20 g / l of sodium carbonate are added and the
solution est agitée jusqu'à ce que la dissolution complè- solution is stirred until dissolution is complete
te se produise La solution est ensuite chauffée jusqu'à une température de fonctionnement d'environ 54 à environ C et une combinaison d'une anode en cuivre de grande pureté exempte d'oxygène et d'une anode en ferrite est immergée dans le bain tout en étant suspendue à un barreau d'anode pour fournir un rapport surface te occurs The solution is then heated to an operating temperature of about 54 to about C and a combination of a high purity oxygen-free copper anode and a ferrite anode is immersed in the bath while hanging from an anode rod to provide surface area
d'anode en ferrite/surface de cuivre d'environ 4: 1. Ferrite anode / copper surface of approximately 4: 1.
L'agitation par l'air est employée pour réduire la brûlure et pour améliorer le pouvoir de projection du procédé; des panneaux ou des pièces en acier et en laiton sont soumises au revêtement électrolytique dans l'électrolyte précédent pendant des périodes d'environ Air agitation is used to reduce burn and to improve the spraying power of the process; steel or brass panels or parts are subjected to the electrolytic coating in the previous electrolyte for periods of approximately
2 à 20 minutes pour des densités de courant cathodique. 2 to 20 minutes for cathodic current densities.
d'environ 2,0 à 3,0 A/dm et pour un rapport surface de about 2.0 to 3.0 A / dm and for a surface ratio of
cathode/surface d'anode d'environ-1: 2 à environ 1: 6. cathode / anode surface from about -1: 2 to about 1: 6.
Le bain est maintenu dans une gamme de p H d'environ 8,5 à 10,2 et la solution est vigoureusement agitée par The bath is maintained in a range of p H from about 8.5 to 10.2 and the solution is vigorously stirred by
agitation par l'air On obtient des dépôts de mince revê- air agitation We obtain deposits of thin coating
tement de cuivre uniformes, à grains fins,ductiles et adhérents. uniform, fine-grained, ductile and adherent copper.
EXEMPLE 4EXAMPLE 4
On prépare un électrolyte identique à celui dé- An electrolyte identical to that defined is prepared.
crit dans l'exemple 3 Des panneaux ou des pièces written in example 3 Panels or parts
expérimentales en zinc sont revêtus de manière satisfai- zinc coatings are coated satisfactorily
sante en Employant les mêmes paramètres opératoires que ceux décrits dans l'exemple 3 sauf toutefois que 27. les cathodes (pièces à usiner) sont électrisées sous using the same operating parameters as those described in Example 3 except, however, that 27. the cathodes (workpieces) are electrified under
une tension minima de 3 volts avant et durant l'immer- a minimum voltage of 3 volts before and during immersion
sion dans l'électrolyte pour fournir des dépôts de cui ion in the electrolyte to provide cui deposits
vre, ductiles, adhérents et à grains fins. glass, ductile, adherent and fine-grained.
EXEMPLE 5EXAMPLE 5
Un électrolyte alcalin aqueux exempt de cyanure An aqueous alkaline electrolyte free of cyanide
convenable pour déposer un dépôt de cuivre sur des subs- suitable for depositing copper deposit on subs-
trats à base de fer tels que l'acier et sur des substrats iron-based trats such as steel and on substrates
à base de cuivre tels que le laiton est préparé en dis- based on copper such as brass is prepared in dis-
solvant dans de l'eau désionisée environ 55 g/l à environ 88 g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre ( 13,5 à 22 g/1 d'ions cuivre) en agitant Apres la dissolution complète du sel formé de sulfate de cuivre, environ 100 à environ 122 g/i d'acide l-hydroxyéthylidène-l,ldiphosphonique sont ajoutés Le p H de la solution est réglé en employant une solution aqueuse à 50 % de potasse pour fournir un p H d'environ 8,0 Ensuite, environ 15 à 25 g/l de carbonate de sodium sont ajoutés et la solution est agitée jusqu'à ce que la dissolution complète se produise La solution est ensuite chauffée jusqu'à environ 54- C à 65 C et une solvent in deionized water about 55 g / l to about 88 g / l of copper sulfate pentahydrate (13.5 to 22 g / 1 of copper ions) with stirring After complete dissolution of the salt formed from copper, approximately 100 to approximately 122 g / l of l-hydroxyethylidene-l, diphosphonic acid are added. The p H of the solution is adjusted using a 50% aqueous solution of potassium hydroxide to provide a p H of about 8, 0 Then about 15 to 25 g / l of sodium carbonate are added and the solution is stirred until complete dissolution occurs. The solution is then heated to about 54- C to 65 C and a
combinaison d'une anode en cuivre de grande pureté,exemp- combination of a high purity copper anode, ex-
te d'oxygène et d'anode en ferrite est inezgée tout en te of oxygen and ferrite anode is inezged while
étant suspendue à un barreau d'anode pour-four- being suspended from an anode rod for-furnace-
nir un rapport surface d'anode en ferrite/surface d'anode establish a ferrite anode surface / anode surface ratio
en cuivre d'environ 4: 1.copper approximately 4: 1.
Alors que l'agitation n'est pas critique, une certaine agitation telle qu'une agitation mécanique, par tige cathodique et de préférence par l'airest employée -pour fournir l'efficacité et le pouvoir de projection du procédé -Des substrats d'acier et de laiton sont soumis au revêtement électrolytique dans l'électrolyte précédent pendant des périodes de 2 à 60 minutes et sous une, densité de courant cathôdique d'environ 1/0 à 3,0 A/dm et pour un rapport surface de cathode/surface d'anode d'environ 1: 2à environ 1: 6 Le bain est maintenu dans une gamme While the agitation is not critical, a certain agitation such as mechanical agitation, by cathode rod and preferably by air is employed - to provide the efficiency and the power of projection of the process - Substrates of steel and brass are subjected to the electrolytic coating in the preceding electrolyte for periods of 2 to 60 minutes and under a cathode current density of about 1/0 to 3.0 A / dm and for a cathode surface ratio / anode surface from about 1: 2 to about 1: 6 The bath is maintained in a range
25388 1 525388 1 5
28.28.
de p H d'environ 8,5 à 10,2 On obtient des dépôts de cui- of p H of approximately 8.5 to 10.2 We obtain
vre uniformes, à grains fins, ductiles et adhérents. uniform, fine-grained, ductile and adherent.
L'électrolyte précédent est également convena- The preceding electrolyte is also suitable
ble pour revêtir de cuivre des pièces en acier et en laiton dans un revêtement en tonneau. ble for coating copper parts of steel and brass in a barrel coating.
EXEMPLE 6EXAMPLE 6
On prépare un électrolyte alcalin aqueux exempt de cyanure,convenable pour déposer un dépôt de cuivre sur des substrats à base ferreuse tels que de l'acier et sur des An aqueous alkaline cyanide electrolyte is prepared, suitable for depositing a deposit of copper on ferrous-based substrates such as steel and on
substrats à base de cuivre tels que du laiton en dissol- copper-based substrates such as dissolved brass
vant dans de l'eau désionisée environ 55 g/l à environ g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre ( 13,5 à g/l d'ions cuivre) en agitant Apres la dissolution about 55 g / l to about g / l of copper sulphate pentahydrate (13.5 to g / l of copper ions) in deionized water, shaking After dissolution
complète du sel formé de sulfate de cuivre, on ajoute en- complete with the salt formed from copper sulphate, then add
viron 43,5 g/l à 52 g/l d'acide l-hydroxyéthylidène-l,l- diphosphonique (HEDP) et 100 à 122 g/l d'éthylène diami- approximately 43.5 g / l to 52 g / l of l-hydroxyethylidene-l, l-diphosphonic acid (HEDP) and 100 to 122 g / l of ethylene diami-
ne tétra (acide méthylène phosphonique) (EDTMP) Le p H ne tetra (methylene phosphonic acid) (EDTMP) p H
de la solution est réglé en employant une solution aqueu- of the solution is adjusted using an aqueous solution
se à 50 % de potasse pour fournir un p H de 8,0 Ensuite, se at 50% of potash to provide a p H of 8.0 Then,
environ 10 à 25 g/1 de carbonate de potassium sont ajou- about 10 to 25 g / l of potassium carbonate are added
tés et la solution est agitée jusqu'à ce que la dissolu- tees and the solution is stirred until the dissolu-
tion complète se produise La solution est ensuite chauf- The complete solution is then heated.
fée jusqu'à une température de fonctionnement d'environ 54 C jusqu'à environ 60 C et une combinaison d'anode en cuivre de grande pureté, exempte d'oxygène et d'une fairy up to an operating temperature of about 54 C up to about 60 C and a combination of high purity copper anode, free of oxygen and
anode en fer-rite est immergée tout en étant suspen- iron-rite anode is submerged while being suspended
due à un barreau d'anode pour fournir un rapport sur- due to an anode bar to provide a sur-
face d'anode en ferrite/surface d'anode en cuivre d'envi- ferrite anode face / approx.
ron 4: 1.Ron 4: 1.
Alors que l'agitation n'est pas critique, une certaine agitation telle qu'une agitation mécanique, par While agitation is not critical, some agitation such as mechanical agitation, for example
tige cathodique et de préférence par l'airest employee. cathode rod and preferably by air is employed.
Les panneaux expérimentaux d'acier et de laiton ou leurs parties sont soumis au revêtement électrolytique dans l'électrolyte précédent pendant une période de 2 minutes 29. à plusieurs jours (selon l'épaisseur de cuivre exigée sous une densité de courant cathodique d'environ 1,0 à 4,0 A/dm et pour -un rapport surface de cathode/surface The steel and brass experimental panels or their parts are subjected to the electrolytic coating in the preceding electrolyte for a period of 2 minutes 29. to several days (depending on the thickness of copper required under a cathode current density of approximately 1.0 to 4.0 A / dm and for a cathode surface / surface ratio
d'anode d'environ 1: 2 à environ 1 6 Le bain est main- anode about 1: 2 to about 1 6 The bath is main-
tenue dans la gamme de p H de 8,5 à 10,2 On obtient des dépôts de cuivre uniformes, à grains fins, ductiles et adhérents. L'électrolyte précédent est aussi convenable held in the range of p H from 8.5 to 10.2 Uniform, fine-grained, ductile and adherent copper deposits are obtained. The previous electrolyte is also suitable
pour revêtir le cuivre des pièces en acier et en lai- for coating copper on steel and copper parts
ton dans un revêtement en tonneau.tone in a barrel coating.
On appréciera qu'il n'est pas essentiel pour We will appreciate that it is not essential for
la mise en pratique satisfaisante du procédé et de la com- satisfactory implementation of the process and the
position de la présente invention de préparer des élec- position of the present invention to prepare elect
trolytes en cuivre suivant la séquence spécifique et d'employer les ingrédients spécifiques décrits Par exemplel'agent de transformation en complexe ou le mélange d'agenis de transformation en complexe peut être introduit sous la forme d'un concentré aqueux de sel de potassium pour fournir la concentration souhaitée de l'agent de transformation en complexe Typiquement, la forme acide de l'agent de transformation en complexe peut être d'abord neutralisée en employant une solution aqueuse à 50 % de potasse en fournissant un concentré copper trolytes according to the specific sequence and to use the specific ingredients described For example the complex transformation agent or the mixture of complex transformation agenis can be introduced in the form of an aqueous potassium salt concentrate to provide the desired concentration of the complex transformation agent Typically, the acid form of the complex transformation agent can first be neutralized by using a 50% aqueous solution of potassium hydroxide by providing a concentrate
ayant un p H d'environ 8.having a p H of about 8.
EXEMPLE 7EXAMPLE 7
Une anode d'alliage fer-nickel composite compre- A composite iron-nickel alloy anode includes
nant un alliage fer-nickel déposé par voie électrolytique sur un noyau de cuivre-solide est préparée en employant un électrolyte ayant la composition suivante nant an iron-nickel alloy deposited electrolytically on a copper-solid core is prepared using an electrolyte having the following composition
25388 1525388 15
30. Valeur optima Ni+ 2 56 g/l Fe+ 2 et Fe+ 3 4 g/l Ni SO 4 l 6 H 20 l 150 g/l Ni C 12 l 6 H 20 l 100 g/l H 3 B 03 45 g/l Gluconate de sodium 20 g/l Sel de sodium de saccharine 2,5 g/l Allylsulfonate de sodium 4,0 g/l Agent de mouillage 0,2 g/l p H 2,9 Agitation Air, barreau cathodique ou Température 57 C Densité de courant cathodique 4,0 A/dm 2 Gamme -100 g/l 1-10 g/l -300 g/1 -150 g/l 30. Optimal value Ni + 2 56 g / l Fe + 2 and Fe + 3 4 g / l Ni SO 4 l 6 H 20 l 150 g / l Ni C 12 l 6 H 20 l 100 g / l H 3 B 03 45 g / l Sodium gluconate 20 g / l Saccharin sodium salt 2.5 g / l Sodium allylsulfonate 4.0 g / l Wetting agent 0.2 g / lp H 2.9 Stirring Air, cathode rod or Temperature 57 C Cathodic current density 4.0 A / dm 2 Range -100 g / l 1-10 g / l -300 g / 1 -150 g / l
Satu-Satu-
ration -100 g/l o-10 g/l 0,5-15 g/l 0,05-1,0 g/l ration -100 g / l o-10 g / l 0.5-15 g / l 0.05-1.0 g / l
2-5-4,02-5-4.0
état de reposrest state
38-71 C38-71 C
0,5-10,00.5-10.0
A/dm 2 Anodes Fer et nickel L'agent de mouillage employé comprend des agents de mouillage du type à faible formation de mousse tels que l'octylsulfate de sodium quand on emploie A / dm 2 Anodes Iron and nickel The wetting agent used comprises wetting agents of the low foaming type such as sodium octyl sulphate when used
l'agitation par l'air et des agents de mouillage à forma- air agitation and formulating wetting agents
tion de mousse relativement élevée tels que le lauryl- relatively high foam content such as lauryl-
sulfate de sodium quand on emploie une agitation par bar- sodium sulfate when using bar agitation
reau cathodique ou des bains à l'état de repos Le glu- cathodic water or baths in a resting state The glu-
conate de sodium dans la compositiond'électrolyte com- sodium conate in the electrolyte composition
prend un agent de transformation en complexe pour les ions ferriques et des agents de transformation en complexe takes complex transformation agent for ferric ions and complex transformation agents
satisfaisants à titre de variante ou leurs mélanges peu- alternatively satisfactory or their mixtures may
vent être employes dans ce but;comprenant des citrates, des may be used for this purpose; comprising citrates,
tartrates, des glucoheptonates, des salicylates, des as- tartrates, glucoheptonates, salicylates, as-
corbates ou analogue.corbates or the like.
Des agents de transformation en complexe à ti- Transformation agents in complex to ti-
tre de variante qui peuvent être employes de manière satisfaisante comprennent ceux qui sont décrits dans les brevets américains mentionnés précédemment n 3 806 429, n 3 974 044 et n 4 179 343 Les anodes employées dans 31. le procédé'de revêtement électrolytique de nickel-fer sont sous-la forme de plaques individuelles ou de copeaux Variants which can be used satisfactorily include those described in the previously mentioned US patents Nos. 3,806,429, Nos. 3,974,044 and Nos. 4,179,343 The anodes employed in 31. the electrolytic nickel coating process iron are in the form of individual plates or chips
individuels de fer et de nickel dans des paniers séparés. individual iron and nickel in separate baskets.
La composition de l'électrolyte pour le dépôt de fer-nickel selon la composition optima telle que présentée dans le tableau précédent produit un dépôt d'alliage fer-nickel contenant approximativement 20 % de fer, le complément étant essentiellement du nickel en-utilisant une agitation par barreau cathodique Quand l'agitation par l'air est employée, la concentration de fer dans le dépôt électrolytique augmentera jusqu'à environ 30 % en The composition of the electrolyte for the deposition of iron-nickel according to the optimum composition as presented in the previous table produces a deposition of iron-nickel alloy containing approximately 20% of iron, the balance being essentially nickel using a cathode rod agitation When air agitation is used, the concentration of iron in the electrolytic deposit will increase up to about 30% by
poids Quand on n'emploie pas d'agitation, la concentra- weight When agitation is not used, the concentration
tion de fer dans le dépôt électrolytique diminuera jus- tion of iron in the electrolytic deposit will decrease until
qu'à environ 15 % en poids Selon une mise en pratique only about 15% by weight According to one practice
préférée de la présente invention, l'agitation par bar- preferred of the present invention, agitation by bar-
reau cathodique ou par air modéré est employée du fait que le dépôt électrolytique est plus uniforme au point cathodic or moderate air is used because the electrolytic deposition is more uniform to the point
de vue composition ainsi qu'au point de vue aspect. composition as well as aspect.
Dans la formulation des électrolytes convena- In the formulation of suitable electrolytes
bles pour le dépôt de fer-nickel, le rapport ions nickel/ ions fer est peut être le seul facteur le plus important pour déterminer la composition du dépôt électrolytique d'alliage final Selon la formulation optima, un rapport nickel/fer d'environ 14: 1 en employant une agitation par barreau cathodique fournit une concentration de fer dans le dépôt électrolytique d'alliage d'environ 20 % en For iron-nickel deposition, the nickel ion / iron ion ratio is perhaps the single most important factor in determining the composition of the final alloy electrolytic deposition. According to the optimum formulation, a nickel / iron ratio of around 14 : 1 by using a stirring by a cathode rod provides a concentration of iron in the electrolytic deposit of alloy of approximately 20% in
poids Pour un rapport supérieur nickel/fer, une concen- weight For a higher nickel / iron ratio, a concentration
tration de fer inférieure dans le dépôt est produite alors que pour un rapport inférieur nickel/fer, une lower iron tration in the deposit is produced whereas for a lower nickel / iron ratio, a
concentration supérieure de fer dans l'alliage est pro- higher concentration of iron in the alloy is pro-
duite Dans l'un ou l'autre cas, l'électrolyte et les con- pick In either case, the electrolyte and the
ditions de fonctionnement sont contrôlés afin de fournir operating ditions are controlled in order to provide
un dépôt d'alliage nickel-fer contenant environ 15 % jus- a nickel-iron alloy deposit containing approximately 15% up to
qu'à environ 30 % en poids de fer.only about 30% by weight of iron.
Un noyau de cuivre allongé est employé pour for- An elongated copper core is used to form
32.32.
mer une anode d'alliage nickel-fer composite et est sou- sea an anode of nickel-iron composite alloy and is often
mis à un pré-traitement classique avant le revêtement dans l'électrolyte mentionné ci-dessus Le pré-traitement peut comprendre typiquement un traitement d'imprégnation alcalin pendant une période allant d'environ 1 à envi- ron 3 minutes suivi d'une étape dlélectro-nettoyage cathodique pendant une période d'environ 1 à environ 2 minutes suivie d'un rinçage à l'eau froide Le noyau put to a conventional pretreatment before coating in the electrolyte mentioned above The pretreatment can typically comprise an alkaline impregnation treatment for a period ranging from approximately 1 to approximately 3 minutes followed by a step cathodic electro-cleaning for a period of approximately 1 to approximately 2 minutes followed by rinsing with cold water The core
de cuivre rincé est ensuite soumis à un traitement d'im- of rinsed copper is then subjected to an
prégnation dans une solution d'acide sulfurique à 5 à pregnation in a sulfuric acid solution at 5 to
% pendant une période d'environ 15 à environ 30 secon- % for a period of about 15 to about 30 seconds-
des,suivi d'un rinçage à l'eau froide -Le noyau de des, followed by rinsing with cold water -The core of
cuivre pré-traité est ensuite immergé dans un électroly- pre-treated copper is then immersed in an electrolyte
te pour le dépôt de nickel-fer mentionné précédemment et est soumis au revêtement électrolytique pendant une période de 'î à environ 2 heures à une densité de courant cathodique moyenne d'environ 4,0 ampères par décimètre carré (A/dm 2)daprès quoi l'anode composite est retirée, te for the nickel-iron deposit mentioned above and is subjected to the electrolytic coating for a period of 1 to about 2 hours at an average cathodic current density of about 4.0 amperes per square decimeter (A / dm 2) from what the composite anode is removed,
rincée à l'eau froide et séchée Le dépôt électro- rinsed with cold water and dried Electro-
lytique d'alliage nickel-fer a une épaisseur d'environ 0,0508 mm à environ 0,1016 mm et contient environ 20 % nickel-iron alloy lytic has a thickness of about 0.0508 mm to about 0.1016 mm and contains about 20%
en poids de fer et environ 0,025 % en poids de soufre. by weight of iron and about 0.025% by weight of sulfur.
Dans la fabrication de ces anodes en alliage nickel-fer, le dépôt électrolytique du dépôt d'alliage nickel-fer peut ordinairement avoir une épaisseur d'environ 0,0127 mm jusqu'à environ 0,254 mm ou même plus pour obtenir un In the manufacture of these nickel-iron alloy anodes, the electrolytic deposition of the nickel-iron alloy deposit may ordinarily have a thickness of about 0.0127 mm up to about 0.254 mm or even more to obtain a
fonctionnement satisfaisant Le critère important du dé- satisfactory operation The important criterion of the
pôt électrolytique est qu'il soit sensiblement non poreux electrolytic deposit is that it is substantially non-porous
et qu'il adhère au noyau et qu'il soit en outre caracté- and that it adheres to the nucleus and that it is furthermore
risé comme ayant une bonne ductilité et une tension re- laughed at as having good ductility and tension
lativement faible Les conditions telles que présentées dans laterally weak The conditions as presented in
l'exemple 1 fournissent un dépôt de nickel-fer qui pos- Example 1 provide a deposit of nickel-iron which pos-
sedent les propriétés souhaitables précédentes. seduce the previous desirable properties.
EXEMPLE 8EXAMPLE 8
Une anode en alliage nickel-fer composite com- A composite nickel-iron alloy anode
2538815 '.2538815 '.
33.33.
prenant un alliage nickel-fer déposé par voie électroly- taking an electrolytically deposited nickel-iron alloy
tique sur un noyau d'acier solide est préparée en emplo- tick on a solid steel core is prepared in use
yant le même mode opératoire que celui présenté dans l'exemple 7 sauf toutefois que le noyau d'acier durant le pré-traitement avant le revêtement est soumis à une étape d'électro-nettoyage anodique au lieu yant the same procedure as that presented in Example 7 except however that the steel core during the pretreatment before coating is subjected to an anodic electro-cleaning step instead
d'une étape d'électro-nettoyage cathodique et est ul- a cathodic electro-cleaning step and is ultra-
térieurement soumis à un traitement d'imprégnation en employant une solution d'acide sulfurique plus concentrée, à une concentration d'environ 25 %,pendant une période previously subjected to an impregnation treatment using a more concentrated sulfuric acid solution, at a concentration of about 25%, for a period
de temps semblable comme décrit dans l'exemple 7. of similar time as described in Example 7.
L'anode composite résultante a un dépôt élec- The resulting composite anode has an electrical deposit
trolytique de nickel-fer ayant les mêmes caractéristi- nickel-iron trolytic having the same characteristics
ques que celles obtenues dans l'exemple 7. than those obtained in Example 7.
EXEMPLE 9EXAMPLE 9
Un électrolyte alcalin aqueux exempt de cyanu- An aqueous alkaline electrolyte free of cyanu-
re convenable pour déposer un mince revêtement de cuivre sur des substrats de base ferreuse tels que l'acier et sur des substrats à base de cuivre tels que le laiton est préparé en dissolvant dans de l'eau désionisée environ g/l à 35 g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre re suitable for depositing a thin coating of copper on ferrous-based substrates such as steel and on copper-based substrates such as brass is prepared by dissolving in deionized water about g / l to 35 g / l copper sulphate pentahydrate
( 6,25 à 8,75 g/1 d'ionscuivre) en agitant Après la disso- (6.25 to 8.75 g / 1 of copper ions) with stirring After dissolving
lution complète du sel formé de sulfate de cuivre, environ complete lution of the salt formed from copper sulphate, approximately
76,1 g/l à environ 84,8 g/l d'acide l-hydroxy éthylidène- 76.1 g / l to about 84.8 g / l of l-hydroxy ethylidene acid-
1,1-diphosphonique sont ajoutés Le p H de la solution est réglé en employant une solution aqueuse à 50 % de potasse 1,1-diphosphonic are added The p H of the solution is adjusted by using a 50% aqueous potassium hydroxide solution
jusqu'à un p H au-dessus de 8,0 Ensuite, environ 15 à en- up to p H above 8.0 Then about 15 to-
viron 20 g/l de carbonate de sodium sont ajoutés et la solution est agitée jusqu'à ce que la dissolution complète se produise La solution est ensuite chauffée jusqu'à une température de fonctionnement d'environ 54 C à 60 C et une combinaison d'une anode en cuivre de grande pureté, exempte d'oxygène et d'une anode en alli:age nickel-fer telle qu'obteruselon l'exemple 7 est immergée dans le bain tout en étant suspendue à un barreau d'anode 34. about 20 g / l of sodium carbonate are added and the solution is stirred until complete dissolution occurs. The solution is then heated to an operating temperature of about 54 C to 60 C and a combination of a high purity copper anode, free of oxygen and of a nickel-iron alloy anode such as obtuselon according to example 7, is immersed in the bath while being suspended from an anode bar 34.
pour fournir un rapport surface d'anode en cuivre/surfa- to provide a copper anode to surface area ratio
ce d'anode en alliage nickel-fer d'environ 2: 1. this of nickel-iron alloy anode of about 2: 1.
L'agitation par l'air est employée pour rédui- Air agitation is used to reduce
re la brûlure et pour améliorer le pouvoir de projection du procédé Les panneaux ou des pièces en acier et en laiton sont soumis au revêtement électrolytique dans l'électrolyte précédent pendant des périodes d'environ re the burn and to improve the projection power of the process The panels or pieces of steel and brass are subjected to the electrolytic coating in the preceding electrolyte for periods of approximately
2 à 20 minutes et sous des densités de courant cathodi- 2 to 20 minutes and under cathodic current densities
que d'environ 1,5 à 2,0 A/dm et pour un rapport surfa- only about 1.5 to 2.0 A / dm and for an area ratio
ce de cathode/surface d'anode d'environ 1: 2 à environ 1: 6 Le bain est maintenu dans un p Hl d'environ 9,5 cathode / anode area of about 1: 2 to about 1: 6 The bath is maintained in a p Hl of about 9.5
à 10,2 et la solution est vigoureusement agitée par agi- to 10.2 and the solution is vigorously stirred by agitation
tation par l'air On obtient des dépôts de mince revê- by air We obtain deposits of thin coating
tement de cuivre, uniformes, à grains fins, ductiles et copper, uniform, fine-grained, ductile and
adhérents.members.
EXEMPLE 10EXAMPLE 10
Un électrolyte alcalin aqueux exempt de cyanure An aqueous alkaline electrolyte free of cyanide
convenable pour déposer un dépôt de cuivre sur des subs- suitable for depositing copper deposit on subs-
trats de base ferreuse tels que l'acier et des substrats ferrous base trats such as steel and substrates
à base de cuivre tels que le laiton est préparé en dissol- based on copper such as brass is prepared in dissol
vant dans de l'eau désionisée environ 55 g/l à environ 88 g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre ( 13,5 à 22 g/l d'ions cuivre) en agitant Après la dissolution about 55 g / l to about 88 g / l of copper sulphate pentahydrate (13.5 to 22 g / l of copper ions) in deionized water with stirring After dissolution
complète du sel formé de sulfate de cuivre, on ajoute en- complete with the salt formed from copper sulphate, then add
viron 107,9 à environ 147 g/l d'acide l-hydroxy-éthylidè- about 107.9 to about 147 g / l of 1-hydroxyethylidid acid
ne-l,l-diphosphonique Le p H de la solution est réglé en employant une solution aqueuse à 50 % de potasse pour fournir un p H d'environ 8,0 Ensuite, environ 15 à 25 g/l ne-l, l-diphosphonique The p H of the solution is adjusted by using a 50% aqueous solution of potassium hydroxide to provide a p H of approximately 8.0 Then, approximately 15 to 25 g / l
de carbonate-de sodium sont ajoutés et la solution est agi- of sodium carbonate are added and the solution is stirred
tée jusqu'à ce que la dissolution complète se produise. until complete dissolution occurs.
La solution est ensuite chauffée jusqu'à environ 54 C The solution is then heated to about 54 C
à 60 C et une combinaison d'une anode en cuivre de gran- at 60 C and a combination of a large copper anode
de pureté,exempte d'oxygène et d'une anode en alliage nickel-fer est immergée tout en étant suspendue à un barreau d'anode pour fournir un rapport surface 35. d'anode en cuivre/surface d'anode en alliage nickel/fer of purity, free of oxygen and a nickel-iron alloy anode is immersed while hanging from an anode rod to provide a surface area 35. of copper anode / nickel alloy anode surface / iron
d'environ 1: 1.about 1: 1.
Alors que l'agitation n'est pas critique, une certaine agitation telle qu'une agitation mécanique, par tige cathodique et de préférence par l'air, est employée pour fournir l'efficacité et le pouvoir de projection While agitation is not critical, some agitation such as mechanical agitation, by cathode rod and preferably by air, is employed to provide efficiency and projection power
* du procédé Des substrats d'acier et de cuivre sont sou-* of the process Steel and copper substrates are supported
mis au revêtement électrolytique dans l'électrolyte pré- electroplated in the electrolyte pre-
cédent pendant une période de 2 à-60 minutes sous une - yield for a period of 2 to 60 minutes under a -
densité de courant cathodique d'environ 1,0 à 3,0 A/dm 2 et-pour un rapport surface de cathode/surface d'anode d'environ 1: 2 à environ 1: 6 Le bain est maintenu dans une gamme de p H d'environ 9,5 à 10,2 On obtient des dépôts de cuivre uniformes, ductiles à grains fins cathode current density of approximately 1.0 to 3.0 A / dm 2 and -for a cathode surface / anode surface ratio of approximately 1: 2 to approximately 1: 6 The bath is maintained in a range of p H about 9.5 to 10.2 Uniform, ductile, fine-grained copper deposits are obtained
et adhérents.and members.
Le procédé précédent est aussi convenable pour revêtir du cuivre et des pièces en acier et en The above process is also suitable for coating copper and steel and steel parts.
laiton dans un revêtement en tonneau. brass in a barrel coating.
EXEMPLE llEXAMPLE ll
Le procédé comme décrit dans l'exemple 9 est répété pour déposer un mince revêtement de cuivre sur des substrats à base ferreuse sauf toutefois qu'une anode en alliage nickel-fer composite est employée The process as described in Example 9 is repeated for depositing a thin coating of copper on ferrous-based substrates, except that an anode made of a nickel-iron composite alloy is used.
pour le même rapport anode en cuivre/anode en alliage ni- for the same copper anode / nickel alloy anode ratio
ckel-fer mais contenant seulement ll % en poids de fer ckel-iron but containing only ll% by weight of iron
et 0,02 % de soufre On obtient un dépôt de cuivre uni- and 0.02% sulfur A uniform copper deposit is obtained
forme, à grains fins, ductile et adhérent. form, fine-grained, ductile and adherent.
EXEMPLE 12EXAMPLE 12
Le procédé de l'exemple il est-répété sauf qu 'une anode en alliage nickel-fer composite est employée contenant il % en poids de fer et 0,067 % en poids de soufre Le dépôt de cuivre résultant est-inacceptable, comprenant un dépôt rougeâtre granuleux dont on croit qu'il est provoqué par l'excès de teneur en soufre dans The process of the example is repeated except that an anode made of a nickel-iron composite alloy is used containing 11% by weight of iron and 0.067% by weight of sulfur The resulting copper deposit is unacceptable, including a reddish deposit grainy which is believed to be caused by excess sulfur content in
l'alliage nickel-fer de l'anode.the nickel-iron alloy of the anode.
25388 1 525388 1 5
36.36.
EXEMPLE 13EXAMPLE 13
Le procédé de l'exemple 10 est répété sauf toutefois qu'une anode composite en alliage nickel-fer est employee o l'alliage contient 32 % en poids de fer et 0,02 % de soufre On obtient un dépôt électrolytique de cuivre acceptable, uniforme, à grains The process of Example 10 is repeated except, however, that a composite anode of nickel-iron alloy is used where the alloy contains 32% by weight of iron and 0.02% of sulfur. An acceptable electrolytic deposition of copper is obtained, uniform, grain
fins, ductile et adhérent.thin, ductile and adherent.
EXEMPLE 14EXAMPLE 14
Le procédé de l'exemple 13 est répété The process of Example 13 is repeated
sauf toutefois qu'une anode composite en alliage ni- except, however, that a composite alloy anode ni-
ckel-fer est employée contenant environ 32 % en poids de ckel-fer is used containing approximately 32% by weight of
fer et du soufre à une concentration de 0,088 % On ob- iron and sulfur at a concentration of 0.088% We obtain
tient un dépôt inacceptable'de cuivre, granuleux et mar- holds an unacceptable deposit of copper, grainy and mar-
ron-rougeâtre.ron-reddish.
' EXEMPLE 15'' EXAMPLE 15
-Le procédé de l'exemple 13 est répété sauf toutefois qu'on emploie une anode composite en alliage nickel-fer contenant 60 % en poids de fer et 0, 02 % de soufre On obtient un dépôt inacceptable de cuivre, granuleux et brillant dont on croit qu'il est dû à une teneur en fer élevée dans l'anode en allige nickel-fer. The process of Example 13 is repeated except that a composite anode of nickel-iron alloy containing 60% by weight of iron and 0.02% of sulfur is used. An unacceptable deposit of copper, grainy and shiny, is obtained. it is believed to be due to a high iron content in the nickel-iron alloy anode.
EXEMPLE 16EXAMPLE 16
Le procédé de l'exemple 13 est répété sauf toutefois qu'une anode en alliage nickel-fer est employée contenant environ 25 % en poids de fer et The process of Example 13 is repeated except, however, that an anode of nickel-iron alloy is used containing approximately 25% by weight of iron and
0,02 % de soufre On obtient un dépôt de cuivre accepta- 0.02% of sulfur An acceptable copper deposit is obtained
ble, uniforme, à grains fins, ductile et adhérent-. ble, uniform, fine-grained, ductile and adherent.
EXEMPLE 17EXAMPLE 17
Un électrolyte alcalin aqueux exempt de cyanu- An aqueous alkaline electrolyte free of cyanu-
re convenable pour déposer un mince revêtement de cuivre sur des substrats à base ferreuse tels que l'acier et des substrats à base de cuivre tels que le laiton est préparé en dissolvant dans de l'eau désionisée environ 60 à environ 72 g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre 37. re suitable for depositing a thin coating of copper on ferrous-based substrates such as steel and copper-based substrates such as brass is prepared by dissolving in deionized water about 60 to about 72 g / l of copper sulfate pentahydrate 37.
( 15 à 18 g/l d'ions cuivre) en agitant Après la disso- (15 to 18 g / l of copper ions) with stirring After dissolving
lution complète du sel formé de sulfate de cuivre, envi- complete salt formation of copper sulphate, approx.
ron 81 à environ 87 g/l d'un agent de transformation en ron 81 to about 87 g / l of a processing agent
complexe sont dissous comprenant le sel de potassium neu- complex are dissolved including the potassium salt neu-
tralisé d'un aminotri (acide méthylène phosphonique) traced from an aminotri (methylene phosphonic acid)
(ATMP) à 30 % en poids et 70 % enpoids d'acide l-hydroxy- (ATMP) at 30% by weight and 70% by weight of l-hydroxy acid
éthylidène-l,l-diphosphonique (HEDP) Le p H de la solu- ethylidene-1,1-diphosphonic (HEDP) The p H of the solu-
tion est réglé en employant une solution aqueuse à 50 % tion is adjusted using a 50% aqueous solution
de potasse pour fournir un p H d'environ 8,5 Ensuite, en- of potash to provide a p H of about 8.5 Then,
viron 15 à environ 25 g/l de borate de sodium sont about 15 to about 25 g / l of sodium borate are
ajoutés et la solution est agitée jusqu'à ce que la disso- added and the solution is stirred until the disso-
lution complète se produise La solution est ensuite chauf- complete lution occurs The solution is then heated
fée jusqu'à une température de fonctionnement d'environ fairy up to an operating temperature of about
43 C à environ 54 C et une combinaison d'une anode en cui- 43 C to about 54 C and a combination of a cooking anode
vre de haute pureté exempte d'oxygène et d'une anode en alliage nickelfer composite contenant 25 % en poids de fer et 0,02 % en poids de soufre est immergée tout en high purity glass free of oxygen and a composite nickel iron alloy anode containing 25% by weight of iron and 0.02% by weight of sulfur is immersed while
étant suspendue à un barreau d'anode pour four- being suspended from an anode rod for furnace-
nir un rapport surface d'anode en cuivre/surface d'anode establish a copper anode surface / anode surface ratio
en alliage nickel/fer d'environ 1: 1. made of nickel / iron alloy of about 1: 1.
Alors que l'agitation n'est pas critique, une certaine agitation telle qu'une agitation mécanique, While agitation is not critical, some agitation such as mechanical agitation,
par tige cathodique et de préférence par l'air,est em- by cathode rod and preferably by air, is em-
ployée pour fournir une efficacité et un pouvoir de bent to provide efficiency and power
projection améliorés du procédé de revêtement Des pan- improved projection of the pan coating process
neaux expérimentaux en acier et en laiton sont revêtus par voie électrolytique dans l'électrolyte précédent pendant des périodes d'environ 2 à 20 minutes sous une densité de courant cathodique d'environ 0,5 à 1,0 A/dm 2 et pour un rapport surface de cathode/surface d'anode d'environ 1: 2 à environ 1: 6 Le bain est maintenu dans une gamme de p H d'environ 7,5 à 9,5 et la solution Experimental steel and brass rings are electrolytically coated in the previous electrolyte for periods of about 2 to 20 minutes at a cathodic current density of about 0.5 to 1.0 A / dm 2 and for a cathode surface / anode surface ratio of approximately 1: 2 to approximately 1: 6 The bath is maintained in a p H range of approximately 7.5 to 9.5 and the solution
est vigoureusement agitée par agitation par l'air On ob- is vigorously agitated by air agitation We ob-
tient des dépôts de mince revêtement de cuivre sensible- holds deposits of thin sensitive copper coating-
ment uniformes, à grains fins, ductiles et adhérents. uniform, fine-grained, ductile and adherent.
38. -Le procédé précédent est aussi convenable pour revêtir du cuivre et des pièces en acier et en laiton 38. -The previous process is also suitable for coating copper and steel and brass parts
dans un revêtement en tonneau -in a barrel coating -
EXEMPLE 18EXAMPLE 18
On prépare un électrolyte identique à celui dé- crit dans l'exemple 17 sauf qu'environ 15 à environ 25 g/l An electrolyte identical to that described in Example 17 is prepared except that approximately 15 to approximately 25 g / l
de carbonate de potassium ont été employés à la place- potassium carbonate were used instead-
de borate de sodium en tant qu'agent tampon Des panneaux sodium borate as a buffering agent Panels
expérimentaux de zinc sont revêtus de manière satisfai- zinc coatings are satisfactorily coated
sante en employant les mêmes paramètres opératoires que ceux décrits dans l'exemple 17, sauf toutefois que les panneaux expérimentaux sont électrisés sous une tension minima de 3 volts avant et durant l'immersion dans l'électrolyte pour fournir des dépôts de mince health using the same operating parameters as those described in Example 17, except that the experimental panels are electrified at a minimum voltage of 3 volts before and during immersion in the electrolyte to provide deposits of thin
revêtement de cuivre adhérents, à grains fins et ductiles. adherent copper coating, fine-grained and ductile.
L'appréciation de certaines des valeurs de mesu- The appreciation of some of the measurement values
res indiquées ci-dessus doit tenir compte du fait qu'el- res indicated above must take into account that
les proviennent de la conversion d'unités anglo-saxonnes come from the conversion of Anglo-Saxon units
en unités métriques.in metric units.
La présente invention n'est pas limitée aux exemples de réalisation qui viennent d'être décrits, elle est au contraire susceptible de modifications et de The present invention is not limited to the exemplary embodiments which have just been described, it is on the contrary liable to modifications and
variantes qui apparaîtront à l'homme de l'art. variants which will appear to those skilled in the art.
39.39.
Claims (45)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/455,353 US4469569A (en) | 1983-01-03 | 1983-01-03 | Cyanide-free copper plating process |
US06/551,135 US4462874A (en) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | Cyanide-free copper plating process |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2538815A1 true FR2538815A1 (en) | 1984-07-06 |
FR2538815B1 FR2538815B1 (en) | 1990-02-02 |
Family
ID=27037829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR8321129A Expired - Lifetime FR2538815B1 (en) | 1983-01-03 | 1983-12-30 | PROCESS FOR FORMING, BY ELECTROLYSIS, A COPPER COATING ON A SUBSTRATE FROM A CYANIDE-FREE BATH, AND ANODE FOR CARRYING OUT SAID METHOD |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
AU (1) | AU575037B2 (en) |
BR (1) | BR8400007A (en) |
CA (1) | CA1225064A (en) |
DE (1) | DE3347593A1 (en) |
ES (2) | ES8501454A1 (en) |
FR (1) | FR2538815B1 (en) |
GB (2) | GB2133040B (en) |
MX (1) | MX165687B (en) |
Families Citing this family (6)
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- 1983-12-30 DE DE19833347593 patent/DE3347593A1/en active Granted
- 1983-12-30 FR FR8321129A patent/FR2538815B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-12-30 AU AU23054/84A patent/AU575037B2/en not_active Ceased
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1984
- 1984-01-02 BR BR8400007A patent/BR8400007A/en not_active IP Right Cessation
- 1984-01-02 MX MX19994584A patent/MX165687B/en unknown
- 1984-01-02 ES ES528624A patent/ES8501454A1/en not_active Expired
- 1984-01-03 GB GB08400009A patent/GB2133040B/en not_active Expired
- 1984-01-03 CA CA000444571A patent/CA1225064A/en not_active Expired
- 1984-08-16 ES ES535227A patent/ES8506112A1/en not_active Expired
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- 1985-12-04 GB GB08529856A patent/GB2167447B/en not_active Expired
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CA1225064A (en) | 1987-08-04 |
GB2133040B (en) | 1987-02-04 |
BR8400007A (en) | 1984-07-31 |
GB2167447A (en) | 1986-05-29 |
MX165687B (en) | 1992-11-27 |
AU2305483A (en) | 1984-07-05 |
ES535227A0 (en) | 1985-06-16 |
AU575037B2 (en) | 1988-07-21 |
GB8400009D0 (en) | 1984-02-08 |
ES8506112A1 (en) | 1985-06-16 |
GB8529856D0 (en) | 1986-01-15 |
DE3347593C2 (en) | 1990-05-31 |
FR2538815B1 (en) | 1990-02-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ST | Notification of lapse |