FI98660C - Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi - Google Patents

Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi Download PDF

Info

Publication number
FI98660C
FI98660C FI901418A FI901418A FI98660C FI 98660 C FI98660 C FI 98660C FI 901418 A FI901418 A FI 901418A FI 901418 A FI901418 A FI 901418A FI 98660 C FI98660 C FI 98660C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
layer
refractive index
thickness
layers
determining
Prior art date
Application number
FI901418A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI98660B (fi
FI901418A0 (fi
Inventor
Werner Hickel
Wolfgang Knoll
Original Assignee
Basf Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Basf Ag filed Critical Basf Ag
Publication of FI901418A0 publication Critical patent/FI901418A0/fi
Publication of FI98660B publication Critical patent/FI98660B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI98660C publication Critical patent/FI98660C/fi

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

98660
Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi
Esillä olevan keksinnön kohteena on menetelmä ohui-5 den kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi.
Pinta-plasmoni-spektroskopiaan liittyvien aikaisemmin tunnettujen menetelmien yhteydessä on erittäin ohuen kerroksen taitekerroin tai paksuus voitu määrittää sivut-10 täisessä suunnassa vain erotuksella > 0,5 x 0,5 mm2.
Pinta-plasmonit (= PSP) ovat sidottuja säteilemättö-miä sähkömagneettisia aaltoja, jotka esiintyvät polarisaa-tiovarausten yhteydessä ja etenevät metallin ja eristeen rajapintaa pitkin (vrt. E. Burstein, W.P. Chen, Y.J. Chen 15 ja A. Hartstein, J. Vac. Sei. Technol. 11, 1004 (1974). Plasmonien kenttävoimakkuus on maksimiarvossaan metalli-pinnalla ja vähentyy ekspotentiaalisesti pystysuorassa suunnassa sekä metallin että eristeen rajapintaan mentäessä (vrt. H. Raether: Physics of Thin Films (julkaisijat G.
20 Hass, M.H. Francombe ja R.W. Hoffmann), osa 9, 145 - 261, ·.·. J. Wiley, New York 1977).
Dissipaatio- ja säteilyhäviöiden johdosta nämä aallot tulevat vaimennetuiksi myös etenemissuunnassaan (vrt.
T. Inagaki, K. Kagani ja E.T. Arawaka, Phys. rev. B24, 25 3644 (1981) ja B. Rothenhäusler, J. Rabe, P. Korpiun ja W.
Knoll, Surf. Sei. 137, 373 (1984)). Kiinnostus pinta-plas- • · · V · moneihin on viime vuosina lisääntynyt, koska niitä on eri laisten pintaspektroskooppisten tutkimusten yhteydessä käytetty adsorboivien aineiden ja ohutkalvokerrosten pääl-30 lä menestyksellisesti kenttävoimakkuuden lisäämiseksi (vrt. Electromagnetic Surface Excitation, R.F. Wallis ja
« « I
G. I. Stegemann, kustantaja Springer, Berliini 1986).
• · *·;·' PSP:tä voidaan pitää pintaominaisvalona (vrt.
: · : W. Knoll, B. Rothenhäusler ja W. Hickel, SPIE Proceedings, 35 Los Angeles, 1988), jonka optiset ominaisuudet ovat ta- 98660 2 saisten sähkömagneettisten aaltojen kaltaisia. Esimerkki-julkaisuina tästä voidaan mainita: PSP:n taipuminen di-elektrisen vaihehilan kautta (vrt. B. Rothenhäusler ja W. Knoll, Appi. Phys. Letters 51, 783 (1987)), PSP:n ja 5 ohjausfotonikentän välinen interferometria (vrt. B. Roth enhäusler ja W. Knoll, J. Opt. Soc. Am. B5, 1401 (1988)) sekä Pinta-plasmoni-mikroskopia (vrt. B. Rothenhäusler ja W. Knoll, Nature 332, 615 (1988)).
Esillä olevan keksinnön tarkoituksena on tarjota 10 käyttöön menetelmä erittäin ohuiden kerrosten taiteker-toimen ja/tai paksuuden määrittämiseksi olennaisesti paremmalla sivuttaisella hajotuksella.
Keksinnön mukaisesti onnistutaan hämmästyttävällä tavalla parantamaan kulmariippuvaisen pinta-plasmoni-15 mikroskopian avulla sivuttainen hajotus arvoon > 5 x 5 pm asti.
Esillä olevan keksinnön kohteena on menetelmä kerrospaksuudeltaan < 1 pm olevien kerrosten taitekertoimen ja/tai paksuuden määrittämiseksi. Menetelmälle on tunnus-20 omaista, että määritettävä kerros asetetaan kiinteälle kantajalle, joka muodostuu lasista päällystettynä ohuella kromikerroksella ja tämän päällä olevasta kultakerrokses-ta, tuetulle kerrokselle suoritetaan pintaplasmonimikros-kopiatutkimus käyttäen laserlähdettä tulokulmassa b°, re-25 kisteröidään kerroksesta heijastunut kuva kerroksen sivu-hajotuskuvan saamiseksi, määritetään heijastuneen valon • · · V ’ intensiteetti heijastuneesta kuvasta ja määritetään ker roksen paksuus heijastuneen valon intensiteetin ja tulo-kulman b° funktiona.
30 Keksinnön mukaisesti on mahdollista määrittää ky- seisten kerrosten kerrospaksuus pystysuoralla hajotuksella • * * > 0,1 nm ja samanaikaisella sivuhajotuksella > 5 pm.
• ·
Tutkittavat kerrokset asetetaan tällöin etupäässä metalli- tai puolijohdepinnalle.
35 Keksinnön mukainen menetelmä yhdessä SPM:n käytön kanssa sopii erityisen hyvin kontrasteiltaan vähäisten 98660 3 koekappaleiden, kuten esimerkiksi yksittäisten lipidiker-rosten tai erityisellä tavalla muotoiltujen Si02-vaimennus-kerrosten tutkimiseen.
Keksinnön mukainen menetelmä toteutetaan yksityis-5 kohtaisesti seuraavalla tavalla.
Pinta-plasmonit herätetään kytkinlaitteen (vrt. H.
Raether: Physics of Thin Films (julkaisijat G. Hass, M.H. Francombe ja R.W. Hoffmann), osa 9, 145 - 261, J. Wiley,
New York, 1977), kuten hila-, Otto- tai Kretschmann-jär-10 jestelyn, sopivimmin Kretschmann-järjestelyn, avulla mono kromaattista rinnakkaisvaloa käyttäen. Valonlähteenä toimii edullisesti helium/neon-laser. Kretschmann-järjeste-lyssä prisman peruspinta joko päällystetään suoraan metalli- tai puolijohdekerroksella tai prismaan liimataan 15 vastaavalla tavalla päällystetty lasikantoainekerros, jon ka päällystämätön puoli on varustettu immersionesteellä. Metallikerrokset on tehty sopivimmin hopeasta tai kullasta tai kromin ja kullan muodostamasta kerrosjärjestelmästä.
Keksinnön mukainen menetelmä sopii lisäksi antu-20 reiden valmistukseen, jolloin tutkittava kerros on kemiallisesti, fysikaalis-kemiallisesti tai biologisesti aktiivinen ja mahdollistaa ajasta riippuvien kemiallisten biologisten ja/tai fysikaalisten prosessien ilmaisemisen. Kemiallisesti, fysikaalis-kemiallisesti tai vastaavasti 25 biologisesti aktiivisilla kerroksilla ymmärretään keksin-nön mukaisesti kerroksia, joiden avulla voidaan esimerkiksi toteuttaa kemiallisia tai vastaavasti erityisiä adsorp-tioreaktioita tai vaikuttaa fysikaalis- kemiallisella ta- • · .* “ valla fysikaalisiin ominaisuuksiin.
·.· * 30 Keksinnön mukaisen pinta-plasmoni-mikroskoopin ra- kenne on esitetty kaavamaisesti kuviossa 1, jossa: • · ··. 1 = valonlähde; 2 = koekappale (lipidikerros); 3 = metallikerros; 4 = lasikantoainekerros; 5 = immersioneste; 6 = lasiprisma; 35 7 = linssi; 8 = videokamera (kuvaruutu).
98660 4
Tutkittavat kerrokset asetetaan metalli- tai puoli-johdekerroksen päälle. Tutkittavina kerroksina tulevat esimerkiksi sellaiset kerrokset kysymykseen, jotka voidaan muodostaa Langmuir-Blodgett-tekniikan avulla adsorboimalla 5 nestefaasista (self assembly -tekniikka), tai linkoamalla (= spin coating), vaimentamalla tai adsorboimalla kaasu-faasista.
Langmuir-Blodgett-tekniikka on sinänsä tunnettu. Sen yhteydessä tutkittavan kerroksen muodostava aine liuote-10 taan orgaaniseen, veteen liukenemattomaan liuottimeen, esimerkiksi kloroformiin, tämä liuos levitetään Langmuir-kalvovaa'an vesipintaan ja liuotinta haihduttamalla muodostetaan yksimolekyläärinen kerros veden pinnalle. Tätä ilman ja veden välisessä rajapinnassa olevaa pintakalvoa 15 puristetaan sitten kalvovaa'an liikkuvan puomin avulla kokoon siten, että tulokseksi saadaan vain yhden molekyy-liasennon sisältävä määrätty kerros. Tämä yksimolekyylinen kerros siirretään sitten kantoaineen vakiosuuruisessa pintapaineessa tapahtuvan kastopäällystyksen avulla sanotun 20 kantoaineen pinnalle.
Jonkin edellä selostetun menetelmän mukaisesti valmistettu koekappale tutkitaan pinta-plasmoni-mikroskoopin (= SPM, vrt. edellä mainittu julkaisu Nature 332, 615 (1988)) avulla. Tällöin pinta-plasmonit, jotka tulevat .25 kokeen yhteydessä hajotetuiksi, yhtyvät prisman välityk- • · · sellä valoksi, joka kootaan yhteen linssin avulla, jolloin • · · syntyy rajapinnan kuva. Tämä kuva voidaan tallentaa video-kameran avulla ja varastoida magneettinauhalle myöhemmin • « • tapahtuvaa analyysiä varten.
• · · ’·* 30 Ohuiden kerrosten taitekertoimen ja paksuuden mää- rittämiseksi sivuttaisella hajotuksella 5x5 pm2, tämä • · SPM-menetelmä toteutetaan kulmasta riippuvalla tavalla r * plasmoniresonanssin alueella. SPM-kuvat tallennetaan va-• ·’ lonlähteen tulokulmasta riippuen (vrt. kuvio 1) magneet- 35 tinauhalle ja/tai ne arvioidaan kuvankäsittelyjärjestelmän 98660 5 avulla. Tällöin laajuudeltaan 5x5 pm2 olevan pinnan keskimääräinen 'harmaa arvo' tulee kuvassa määritetyksi. Tämä arvo vastaa tähän kohtaan heijastunutta valonvoimakkuutta. Maksimaalisen valonvoimakkuuden normituksen avulla saadaan 5 selville suhteellinen heijastunut voimakkuus. Tällä tavoin saadut voimakkuudet piirretään näkyviin kulman funktiona (vrt. kuvio 2). Fresnelin teorian avulla (vrt. H. Wolter, Handbuch der Physik (julk. S. FlPgge, Springer 56)) sovitetaan simuloidut ja mitatut käyrät yhteen. Tämän sovi-10 tuksen avulla saadaan arvioidun 5x5 pm2 suuruisen pinnan paksuus ja taitekerroin suoraan selville.
Esimerkki 1
Dimyristoyylifosfatidihappoa (= DMPA) (kloroformiin liuotettuna) sekoitetaan puhtaaseen veteen ja tämä seos 15 siirretään liuottimen haihtumisen jälkeen Langmuir-
Blodgett-tekniikan avulla 5-8 π»Ν·ηΓ1 paineessa (rinnak-kaiselofaasissa) 2,5 nm kromikerroksella ja 40 nm kulta-kerroksella päällystetylle lasikantoaineelle. On tunnettua, että rinnakkaiseloalueella olevat lipidimonokerrokset 20 käsittävät näennäisesti kaksiulotteiset kiteisten ja amorfisten alueiden muodostamat järjestelmät. On odotettavissa, että nämä alueet ovat erilaisia paksuuden ja taiteker-toimen suhteen.
Kulmariippuvaisen SPM:n avulla voidaan - kuten edel-25 lä on selostettu - saada erilliset luonteenomaiset taite- • · · kertoimen ja paksuuden arvot näitä kiteisiä ja amorfisia • · · alueita varten. Tulokset on esitetty kuviossa 2. Kuviossa .. 2a [%] merkitsee heijastunutta voimakkuutta prosentteina • · ·"' ja b [°] tulokulmaa asteina ilmaistuna. Päällystämättömän • 4 * * 30 metallin resonanssikäyrä on amorfisia alueita varten (ym- :***: pyrät) siirtynyt vähemmän kuin kiteisiä alueita (pisteet) • · ,***. varten.
Koska monokerroksen paksuus kondensoidun faasin kiteisillä alueilla tunnetaan synkrotroni-röntgensäteilyko-35 keiden (ks. C. Helm, PHD Thesis, Munchen 1988) perusteel- 98660 6 la, saadaan taitekertoimeksi arvo nx = 1,51. Nestemäis-ten/amorfisten alueiden paksuudet on vesipinnan röntgen-heijastusmittauksessa määritetty sangen epätarkasti, mutta paksuusarvon suuruudeksi voidaan kuitenkin arvioida 5 1,55 nm. Tällöin amorfisten alueiden taitekertoimeksi saa daan arvo n2 = 1,304. Tällöin on kysymys yllättävän alhaisesta arvosta, jota kuitenkin voidaan verrata yhtä alhaisen, röntgentutkimusten avulla saavutetun amorfisten vaiheiden elektronitiheysarvon kanssa.
10 Esimerkki 2
Kromi/kultakerrokselle - esimerkin 1 yhteydessä kuvatulla tavalla - asetetaan elektronimikroskopiaverkon avulla kuparista muodostettu Si02-kerros. Tällä tavoin valmistettu koekappale tutkitaan keksinnön mukaisen menetel-15 män avulla. Si02-kerroksen taitekerroin on 1,46. Sopien hyvin yhteen värähtelevän kvartsikiteen avulla suoritetun vaimennusprosessin yhteydessä määritetyn paksuusarvon kanssa saadaan tulokseksi paksuusarvo 3 nm.
• 1 • · ··· • · · • · · • · · * • · • · • · · • · 1 « · • ♦ · 1 • · « » · • · • · · ♦ ·

Claims (3)

98660
1. Menetelmä alle 1 pm olevien kerrosten taiteker-toimen tai paksuuden määrittämiseksi, tunnettu 5 siitä, että määritettävä kerros asetetaan kiinteälle kantajalle, joka muodostuu lasista päällystettynä ohuella kromikerroksella ja tämän päällä olevasta kultakerrokses-ta, tuetulle kerrokselle suoritetaan pintaplasmonimikros-kopiatutkimus käyttäen laserlähdettä tulokulmassa b°, re-10 kisteröidään kerroksesta heijastunut kuva kerroksen sivu-hajotuskuvan saamiseksi, määritetään heijastuneen valon intensiteetti heijastuneesta kuvasta ja määritetään kerroksen paksuus heijastuneen valon intensiteetin ja tulo-kulman b° funktiona.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tun nettu siitä, että määritettävien kerrosten kerrospaksuus määritetään pystysuoralla hajotuksella a 0,1 nm ja samanaikaisella sivuhajotuksella > 5 pm.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, t u n-20 n e t t u siitä, että tutkittavaa kerrosta käytetään toiminnaltaan ajasta riippuvan anturin valmistamiseen. • 1 • · · • 1· • · · « · · • · • · • · · • · · • · « · < · · • « · • · • · • · · j : 98660
FI901418A 1989-03-21 1990-03-21 Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi FI98660C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3909144 1989-03-21
DE3909144A DE3909144A1 (de) 1989-03-21 1989-03-21 Verfahren zur bestimmung von brechungsindex und schichtdicke duenner schichten

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI901418A0 FI901418A0 (fi) 1990-03-21
FI98660B FI98660B (fi) 1997-04-15
FI98660C true FI98660C (fi) 1997-07-25

Family

ID=6376799

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI901418A FI98660C (fi) 1989-03-21 1990-03-21 Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5237392A (fi)
EP (1) EP0388874B1 (fi)
JP (1) JPH02285205A (fi)
KR (1) KR900014855A (fi)
AT (1) ATE105403T1 (fi)
AU (1) AU622992B2 (fi)
CA (1) CA2012598A1 (fi)
DE (2) DE3909144A1 (fi)
FI (1) FI98660C (fi)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3909143A1 (de) * 1989-03-21 1990-09-27 Basf Ag Verfahren zur untersuchung von oberflaechenstrukturen
KR100352585B1 (ko) * 1995-12-29 2002-12-31 주식회사 포스코 프리즘 커플러 장치 및 제어방법
SE9700384D0 (sv) * 1997-02-04 1997-02-04 Biacore Ab Analytical method and apparatus
US6052191A (en) * 1998-10-13 2000-04-18 Northrop Grumman Corporation Coating thickness measurement system and method of measuring a coating thickness
AU751246B2 (en) * 1998-11-20 2002-08-08 Graffinity Pharmaceutical Design Gmbh Set-up of measuring instruments for the parallel readout of SPR sensors
US6683695B1 (en) 1999-07-21 2004-01-27 Electronic Design To Market, Inc. Method and apparatus for detecting properties of reflective transparent surface coatings on a sheet of transparent material
DE10008006C2 (de) 2000-02-22 2003-10-16 Graffinity Pharm Design Gmbh SPR-Sensor und SPR-Sensoranordnung
GB0013139D0 (en) * 2000-05-30 2000-07-19 Univ Nottingham Improvements in and relating to microscopy
US6731380B2 (en) 2001-06-18 2004-05-04 Applied Optics Center Of Delaware, Inc. Method and apparatus for simultaneous measurement of the refractive index and thickness of thin films
KR20030047567A (ko) * 2001-12-11 2003-06-18 한국전자통신연구원 표면 플라즈몬 공명 센서 시스템
DE10163657B4 (de) * 2001-12-21 2008-05-08 Gedig, Erk, Dr. Vorrichtung und Verfahren zur Untersuchung dünner Schichten
US7088449B1 (en) * 2002-11-08 2006-08-08 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Dimension measurement approach for metal-material
US6970256B1 (en) * 2003-04-16 2005-11-29 Jackson John H Apparatus and methods for measuring thickness and refractive index
US7362442B2 (en) * 2004-02-20 2008-04-22 The University Of Maryland Far-field optical microscope with a nanometer-scale resolution based on the in-plane image magnification by surface plasmon polaritons
US7417749B1 (en) 2004-09-01 2008-08-26 Electric Design To Market, Inc. Method and apparatus for protecting an optical transmission measurement when sensing transparent materials
US20060054843A1 (en) * 2004-09-13 2006-03-16 Electronic Design To Market, Inc. Method and apparatus of improving optical reflection images of a laser on a changing surface location
US7327445B2 (en) * 2005-06-30 2008-02-05 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Enhanced surface plasmon resonance sensor using Goos-Hänchen effect
US20070177150A1 (en) * 2006-01-27 2007-08-02 Gruhlke Russell W Surface plasmon resonance biosensor using coupled surface plasmons to decrease width of reflectivity dip
US7583368B1 (en) 2006-04-05 2009-09-01 Electronic Design To Market, Inc. Method of enhancing measurement of stress in glass
US7652760B1 (en) 2006-04-05 2010-01-26 Electronic Design To Market, Inc. System for detecting coatings on transparent or semi-transparent materials
DE102008041825A1 (de) * 2008-09-05 2010-03-11 Manroland Ag Zerstörungsfreies Prüfverfahren des Aushärtungs- oder Trocknungsgrades von Farben und Lacken
WO2010122547A1 (en) * 2009-04-20 2010-10-28 Bio-Rad Laboratories Inc. Non-scanning surface plasmon resonance ( spr) system
US9360302B2 (en) * 2011-12-15 2016-06-07 Kla-Tencor Corporation Film thickness monitor
CN112683182B (zh) * 2020-12-30 2022-12-06 国高材高分子材料产业创新中心有限公司 一种金属线镀层厚度的测试方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4625114A (en) * 1985-07-15 1986-11-25 At&T Technologies, Inc. Method and apparatus for nondestructively determining the characteristics of a multilayer thin film structure
GB8618159D0 (en) * 1986-07-25 1986-09-03 Pa Consulting Services Spectrometer based instruments
GB2197065A (en) * 1986-11-03 1988-05-11 Stc Plc Optical sensor device
CA1321488C (en) * 1987-08-22 1993-08-24 Martin Francis Finlan Biological sensors
DE3906521A1 (de) * 1989-03-02 1990-09-13 Basf Ag Verfahren zum auslesen von informationen, die in duennen polymerschichten gespeichert sind
DE3909143A1 (de) * 1989-03-21 1990-09-27 Basf Ag Verfahren zur untersuchung von oberflaechenstrukturen

Also Published As

Publication number Publication date
EP0388874A2 (de) 1990-09-26
DE3909144A1 (de) 1990-09-27
FI98660B (fi) 1997-04-15
KR900014855A (ko) 1990-10-25
AU622992B2 (en) 1992-04-30
ATE105403T1 (de) 1994-05-15
CA2012598A1 (en) 1990-09-21
AU5147590A (en) 1990-09-27
EP0388874A3 (de) 1992-05-20
US5237392A (en) 1993-08-17
DE59005573D1 (de) 1994-06-09
EP0388874B1 (de) 1994-05-04
JPH02285205A (ja) 1990-11-22
FI901418A0 (fi) 1990-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI98660C (fi) Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi
Debono et al. Self-assembly of short and long-chain n-alkyl thiols onto gold surfaces: A real-time study using surface plasmon resonance techniques
US7339681B2 (en) Surface plasmon resonance microscope using common-path phase-shift interferometry
US7177030B2 (en) Determination of thin film topography
Berger et al. Resolution in surface plasmon microscopy
Kim et al. Formation, structure, and reactivity of amino-terminated organic films on silicon substrates
US5116121A (en) Examination of physical properties of thin films
Amador et al. Use of self-assembled monolayers to covalently tether protein monolayers to the surface of solid substrates
Knoll et al. Supramolecular architectures for the functionalization of solid surfaces
JPH06300530A (ja) 横方向に不均質な極薄物体層を横方向に解像して検査する装置
Manera et al. Functional magneto-plasmonic biosensors transducers: Modelling and nanoscale analysis
JPH03115834A (ja) 薄い層の物理特性を検査する方法
Stöckle et al. Sub-wavelength Raman spectroscopy on isolated silver islands
Lazzara et al. Mounted nanoporous anodic alumina thin films as planar optical waveguides
CN113466090A (zh) 一种基于差分去噪的表面等离激元成像系统
Zhang et al. Measuring particle-substrate distance with surface plasmon resonance microscopy
Gonella et al. Spectro-ellipsometry on cadmium stearate Langmuir–Blodgett films
Li et al. Antenna array-enhanced attenuated total reflection IR analysis in an aqueous solution
Salditt et al. X-ray waveguides and thin macromolecular films
Reznickova et al. Copper–gold sandwich structures on PE and PET and their SERS enhancement effect
Zhizhin et al. FT-IR surface electromagnetic waves (SEW) absorption spectroscopy of very thin films on metals
CN111693502B (zh) 一种结合空腔增强与表面增强的液相拉曼增强光谱衬底
Akashi et al. Grating Substrates Fabricated by Nanoimprint Lithography for Fluorescence Microscopy
Gruzdkov et al. Resonant second harmonic generation study of Rhodamine B adsorbed onto fused silica. Models of the surface optics for calculation of the molecular orientation of adsorbate
Futamata Highly-sensitive ATR Raman spectroscopy using Surface-Plasmon-Polariton

Legal Events

Date Code Title Description
BB Publication of examined application
MM Patent lapsed

Owner name: BASF AKTIENGESELLSCHAFT