FI94378C - Menetelmä vaikuttavan inhibiittoripitoisuuden mittaamiseksi metallien saostuksessa vesipohjaisista elektrolyyteistä - Google Patents

Menetelmä vaikuttavan inhibiittoripitoisuuden mittaamiseksi metallien saostuksessa vesipohjaisista elektrolyyteistä Download PDF

Info

Publication number
FI94378C
FI94378C FI882298A FI882298A FI94378C FI 94378 C FI94378 C FI 94378C FI 882298 A FI882298 A FI 882298A FI 882298 A FI882298 A FI 882298A FI 94378 C FI94378 C FI 94378C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
electrolyte
measuring
electrodes
effective
current
Prior art date
Application number
FI882298A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI882298A (fi
FI94378B (fi
FI882298A0 (fi
Inventor
Peter Stantke
Bernd Langner
Ernst-Friedrich Reinking
Guenther Kunst
Original Assignee
Norddeutsche Affinerie
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6328960&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=FI94378(C) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Norddeutsche Affinerie filed Critical Norddeutsche Affinerie
Publication of FI882298A0 publication Critical patent/FI882298A0/fi
Publication of FI882298A publication Critical patent/FI882298A/fi
Publication of FI94378B publication Critical patent/FI94378B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI94378C publication Critical patent/FI94378C/fi

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
    • C25C7/06—Operating or servicing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12—Process control or regulation
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/416—Systems
    • G01N27/4161—Systems measuring the voltage and using a constant current supply, e.g. chronopotentiometry
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S205/00—Electrolysis: processes, compositions used therein, and methods of preparing the compositions
    • Y10S205/924—Electrolytic coating substrate predominantly comprised of specified synthetic resin

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Investigating And Analyzing Materials By Characteristic Methods (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Testing Resistance To Weather, Investigating Materials By Mechanical Methods (AREA)

Description

! 94378
Menetelmä vaikuttavan inhibiittoripitoisuuden mittaamiseksi metallien saostuksessa vesipohjaisista elektrolyyteistä 5 Keksintö koskee menetelmää inhibiittoreina toimivien orgaanisten lisäaineiden tehon mittaamiseksi saostettaessa elektrolyyttisesti metalleja vesipohjaisista elektrolyyteistä, jotka sisältävät metallien saostumista edistäviä orgaanisia lisäaineita, mittaamalla pitoisuus sähköisesti.
10 On tunnettua lisätä elektrolyytteihin niin kutsuttu ja inhibiittoreita metallien elektrolyyttisen valmistuksen ja puhdistuksen samoin kuin galvaanisten päällysteiden valmistuksen yhteydessä. Nämä inhibiittorit yhtenäistävät metallin saostumista, niin että saostuneen metallin laatu 15 paranee oleellisesti epäyhtenäisten ja karkeiden pintojen välttämisen kautta. Inhibiittoreiden pitoisuus on tavallisesti alle 10 mg/1. Kuparielektrolyysin elektrolyyteissä käytettäviä inhiboivia lisäaineita ovat esimerkiksi tiourea ja suurimolekyyliset aineet, kuten eläinliima, ligniinisul-20 fonaatti ja aloeuute. Ennen kaikkea galvanointitekniikassa käytetään myös synteettisiä inhibiittoreita ja kiillottei-ta. Kuparinpuhdistuselektrolyysiin tarkoitetuissa elektrolyyteissä käytetään usein tioureaa ja eläinliimaa inhibiittorina pitoisuutena alle 10 mg/1. Erään oleellisena tekni-25 senä ongelmana on kuitenkin se, että lisäaineiden vaikutta-va pitoisuus pienenee prosessin aikana kulutuksen, hajoamisen tai saostuneeseen metalliin sisältymisen kautta tai usein suurimolekyylisten aineiden pilkkoutuessa heikompitehoisiksi pienimolekyylisiksi aineiksi. Siksi on tekni-30 sesti hyvin tärkeää määrittää jäljellä olevat vaikuttavat lisäaineet ja väkevöittää seosta mahdollisesti vastaaval-V la jälkiannostetulla, ennen kuin metallisaostuman laatu heikkenee.
Tieto siitä, millä nopeudella metallin saostumis-35 ta edistävä lisäaine hajoaa, on oleellisen tärkeää myös teknisen laitteiston mitoituksen kannalta, sillä läpivir- 2 94378 tauslaitteistojen yhteydessä voi alussa lisätty inhibiittori olla kulunut loppuun laitteiston loppupäässä, ja siksi läpivirtauslaitteiston koko täytyy sovittaa yhteen ha-joamisnopeuden kanssa.
5 Siksi on tehty lukuisia yrityksiä lisäaineiden mää rittämiseksi objektiivisesti sekä metallinvalmistuksessa ja -puhdistuksessa että galvanointialalla usein tehtävän me-tallipäällysteiden pelkän visuaalisen arvioinnin korvaamiseksi. Esimerkiksi US-patenttijulkaisussa 4 474 649 kuva-10 taan polarografista menetelmää kuparielektrolyyteissä jopa pienempinä pitoisuuksina kuin 1 mg/1 olevan tiorolyyteissä jopa pienempinä pitoisuuksina kuin 1 mg/1 olevan tiourean määrittämiseksi.
Vaikka tällä menetelmällä saadaan suoraan määrite-15 tyksi lisäaineen analyyttinen pitoisuus, pyritään suuri-molekyylisten aineiden pitoisuuden määrityksessä mittaamaan ennen kaikkea näiden aineiden vaikutus. Tässä yhteydessä potentiaalimittauksilla on tärkeä merkitys. On todettu, että makromolekyyliset lisäaineet voivat merkittävästi 20 suurentaa katodipotentiaalia. Kirjallisuudessa £l. H.
Warren (toim.), "Application of polarization measurements in the control of metal deposition", Elsevier, Amsterdam 1984, s. 84_7 kuvataan sinkkielektrolyysiin tarkoitettua mittauskennoa, jonka yhteydessä mitataan jatkuvasti poten-25 tiaalia tuoreella alumiinipinnalla,joka muodostetaan liik-• kuvan alumiinilangan avulla, kalomelielektrodia vastaan sangen pienellä virrantiheydellä (0,5 mA). Elektrolyytti-liuos täytyy suodattaa ennalta kalvon tukkeutumisvaaran takia.
30 Pelkällä stationaarisen katodipotentiaalin mittaa misella on kuitenkin se haittapuoli, ettei sillä saada ϊ käytännössä esiintyvien koostumukseltaan monimutkaisten elektrolyyttien yhteydessä mitatuksi yksiselitteisesti in-hibiittoripitoisuutta. Mittauksiin vaikuttavat muutkin te-35 kijät, kuten suolapitoisuus, metalli-ionipitoisuus ja epäpuhtaudet. Stationaarisen katodipotentiaalin mittaamista 3 94378 voidaan siksi käyttää vain huolellisen kalibroinnin jälkeen ja elektrolyytin koostumuksen ollessa pitkälti vakio. Lisäksi nämä tunnetut menetelmät vaativat referenssielektro-deja, kuten esimerkiksi kalomelielektrodia, joiden kalvot 5 tukkeutuvat helposti käytännössä käytettävissä elektrolyyteissä, ennen kaikkea silloin, jos on odotettavissa saostumista elektrolyysin aikana.
Tämän keksinnön päämääränä on välttää tunnettujen mittausmenetelmien haitat ja saada aikaan sekä yksinker-10 täinen että luotettava menetelmä vaikuttavien inhibiitto-ripitoisuuksien mittaamiseksi metallien elektrolyyttiseen saostukseen tarkoitetuista elektrolyyteistä. Lisäksi tulee varmistaa metallisaostuman korkea ja tasainen laatu.
Tämän päämäärän saavuttamiseksi käytetään tässä 15 keksinnössä lähtökohtana menetelmää inhibiittoreina toimivien orgaanisten lisäaineiden vaikutuksen mittaamiseksi saostettaessa elektrolyyttisesti metalleja vesipohjaisista elektrolyyteistä, jotka sisältävät orgaanisia lisäaineita metallien saostumista edistäviä, mittaamalla pitoisuus säh-20 köisesti.
Mainitunlainen menetelmä toteutetaan keksinnön mukaisesti sillä tavalla, että elektrolyyttiosavirta johdetaan vakionopeudella mittauskennoon, jossa on vähintään kolme lankamaista elektrodia, johdetaan elektrodei-25 hin, joilla on tuore johdinpinta, mittausvirta, jonka . . suuruus on 5 mA - 1,0 A, ja pidetään yllä tämä virta, ja käytetään muodostuvan katodipotentiaaliaikakäyrän kulmakerrointa alueella 0,1— 50 min inhibiittorin vaikuttavan pitoisuuden mittana.
30 Keksinnön mukaisella menetelmällä voidaan inhibiit torin, kuten eläin- tai synteettisen liiman, pitoisuudet · elektrolyytissä mitata niinkin pieniin pitoisuuksiin kuin 20 ppb asti.
Keksinnön mukaisen meentelmän toteuttamiseksi käy-35 tännössä käytetään syöttö- ja poistoaukolla varustettua mittauskennoa, johon johdetaan elektrolyyttiosavirta virtausnopeudella 0,01 - 10 cm/s.
4 94378
Kuvio 1 esittää kaavamaisesti tällaista mittauskennoa .
Säiliöön (1), jonka tilavuus on noin 2 1, virtaa mitattava elektrolyytti kohdasta (2), ja se poistuu kennos-5 ta kohdassa (3). numeroilla (4) ja (5) merkitään kelaus-laitteita, joilta ja joille langat (6a - d) kelataan, jolloin langat ohjataan ja jännitetään elektrolyytissä astian pohjaan kiinnitettyjen kääntölaitteiden avulla. Langat kytketään tasavirtalähteeseen kontarktorien (8, 9) kautta.
10 Neljästä lankamaisesta elektrodista (kuparilankoja), jotka ovat yhtä kaukana toisistaan, toimii kaksi ulointa lankaa anodeina tai katodeina ja kaksi sisintä lankaa apuelektro-deina. Kelauslaitteella (4, 5) poistetaan kunkin mittauksen jälkeen käytetty langanosa elektrolyytistä kelaamalla, ja 15 siirretään siihen langanosa, jolla on tuore johdinpinta.
Kuvio 2 esittää menetelmän mittausperiaatetta.
Piirroksessa: U = jännite (mV) KP = katodipotentiaali (mV) 20 AP = anodipotentiaali (mV) U-elektrolyytti = jännitehäviö elektrolyytissä I = virta (mA)
Anodi- ja katodipotentiaali mitataan piirroksen mukaisesti neljällä metallilangalla (DI - 4), kuten kupari-25 langalla, jonka läpimitta on noin 0,5 mm, jotka ovat elek-•# trolyyttiin upotettuina määrätyllä yhtä suurella etäisyydellä toisistaan. Kun virta on säädetty määrättyyn arvoon, esimerkiksi 50 mA:ksi, voidaan ilman referenssielektrodeja mitata katodipotentiaali ja anodipotentiaali eri metallin-30 lankojen välille muodostuvien potentiaalierojen (Pl - 4) kautta. Niinpä etäisyyksien ollessa yhtä suuret pätevät seu-. .*- raavat yhtälöt:
Uj = Pl - P2 = KP + 1/3 U-elektrolyytti U2 = P2 - P3 = 1/3 U-elektrolyytti 35 U^ = P3 - P4 = AP + 1/3 U-elektrolyytti ja U. + U„ + U_ = U, , 123 kokonais 5 94378
Niinpä katodipotentiaalille KP saadaan yhtälö: KP = Uj - U2 5 ja anodipotentiaalille AP: AP = U3 - U2.
Mittauksen toistettavuuden kannalta on oleellista, 10 että potentiaali-aikakäyrä määrätyllä virralla mitataan joka mittauskerralla käyttämällä metallielektrodia, jolla on tuore johdinpinta. Tämän keksinnön yhteydessä tarkoitetaan tuoreella johdinpinnalla sitä, ettei metallilanka, kuten kuparilanka, ole hapettunut eikä sillä ole aiemmis-15 sa mittauksissa elektrolyyttisesti saostunutta metalliker-rosta. Langanosa, jolla on tuore johdinpinta, voidaan saada aikaan kuvion 1 mukaisessa keksinnön suoritusmuodossa siirtämällä elektrolyytissä olevaa langanosaa kunkin mittauksen jälkeen sopivan kelauslaitteen avulla eteenpäin 20 ja kelalle. Tällainen mittauskenno soveltuu vaikuttavan inhibiittoripitoisuuden mittaamisen kuparielektrolyysin elektrolyyteistä.
Keksinnön erään lisäsuoritusmuodon mukaisesti (kuvio 3) varustetaan mittauskenno liukenemattomilla elek-25 trodeilla, kuten platinalangalla. Tuore metallipinta saadaan kunkin mittauksen jälkeen aikaan käyttämällä anodi- ja katodimateriaalina platinaa ja liuottamalla kunkin mittauksen jälkeen platinalangalle saostunut metalli-kerros pois kytkemällä katodi anodiksi ja apuelektrodi 30 (D3) katodiksi. Mittauskennoissa on kussakin tapauksessa mitta-astia ja pumppu, joka huolehtii elektrolyyttien ta-:* saisesta virtauksesta mitta-astian läpi.
Keksinnön mukaisen menetelmän eduiksi voidaan katsoa, että voidaan yksinkertaisella ja varmalla tavalla 35 kontrolloida inhibiitoreiden tehoa metallin saostuksen aikana ja saada jälkiannostuksella aikaan metallisaostu- 6 94378 ma, jolle on kuparielektrolyysin yhteydessä ominaista silmujen pieni lukumäärä ja epäpuhtauksien puuttuminen käytännöllisesti katsoen kokonaan ja galvanointitekniikassa pinnan hyvä kiilto.
5 Keksintöä valaistaan tarkemmin seuraavin esimerkein.
Esimerkki 1
Kuvion 1 mukaisen mitta-astian, jonka tilavuus on 2 1, läpi johdetaan kuparinpuhdistuselektrolyysin elektrolyyttiä lämpötilassa 60 °C ja pumppausnopeudella 2,01 1/min.
10 Elektrolyytin koostumus on seuraava: 42 g/1 Cu 150 g/1 H2S04 7 g/1 Ni 8 g/1 As 15 0,4 g/1 Sb
Noin 5 min:n kuluttua otetaan käyttöön tuore langanosa ke-lauslaitteen avulla. Sen jälkeen pidetään anodin ja katodin välillä yllä virta 50 mA vakiovirtalähteen avulla ja mitataan potentiaali-aikakäyrä aikavälillä 0-10 min kyt-20 kemisen jälkeen. Kuvion 4 esittämästä käyrästä määritetään joko käsin tai tietokoneohjelman avulla potentiaali-aika-käyrän kulmakerroin M. Seuraavassa taulukossa 1 esitetään erilaisten elektrolyyttiliuosten yhteydessä saatuja erilaisia kulmakertoimia M.
25 Kuparielektrolyysin elektrolyytissä, josta jäljel- / lä olevien liimajäännösten (gluteeniliima) vaikutus on poistettu suurelta osin keittämällä, on kulmakerroin M £ 0 mV/min (mittaus 1); kun on lisätty 0,2 mg/1 juuri valmistettua gluteeniliimaa, saadaan kulmakertoimeksi 30 M 3,03 mV/min. Mittauksissa 5 ja 6 on mitattu arvot ku-parielektrolyysikylvyn syötöstä ja poistosta. Elektrolyytin koostumus oli seuraava: 42 g/1 Cu, 7 g/1 Ni, 8 g/1 As, 0,4 g/1 Sb ja 150 g/1 I^SO^. Liiman hajoaminen läpivirtauksen aikana on selvästi havaittavissa arvoista.
7 94378
Taulukko 1:
Vaikuttava liimapitoisuus kuparinpuhdistuselektro-lyysin elektrolyytissä 5 _
Mittaus nro. Liimapitoisuus Kulmakerroin M
(mg/1) (mV/min) 1 0 <0 2 0,2 0,82 10 3 0,4 1,52 4 0,6 3,03 5 syöttö 1,71 6 poisto 0,44 15 Elektrolyytin suhteellinen virtausnopeus: 0,34 cm/s, mittausvirta: 50 mA.
Esimerkki 2
Kuvion 1 mukaiseen mitta-astiaan johdetaan elektrolyyttiä, joka sisältää 50 g/1 Cu, 75 g/1 H2SO^ ja 30 mg/1 20 Cl (lämpötila 20 °C, virta 25 mA, pumppausnopeus 2,91 1/min), kuparin saostamiseksi galvaanisesti polystyreeni-alustalle, ja mitataan saostuma.
Mittaustuloksia verrataan visuaalisesti saostuneen metallin kiiltoon. Taulukko 2 osoittaa, että kulmakertoi-25 men ollessa M < 1,7 mV/min ei saada kiiltäviä kuparipääl-I lysteitä; kulmakertoimen ollessa M > 5,0 mV/min ovat ku- paripäällysteet kuitenkin kiiltäviä.
Taulukko 2:
Galvaanisen kiillotteen vaikutusta koskevat mittaus-30 tulokset •
Kulmakerroin M Kuparisaostuma (mV/min) - visuaalinen arvointi - 5,0 - 11,6 Kiiltävä kuparisaostuma 1,7 - 5,0 Osittain kiiltävä saostuma < 1,7 Himmeä saostuma 35 8 94378
Elektrolyytin suhteellinen nopeus: 0,34 cm/s, mittaus-virta: 25 mA.
Esimerkki 3
Kuvion 3 mukaisen platinalankamittauskennon läpi 5 johdetaan kuparinpuhdistuselektrolyysin elektrolyyttiä lämpötilassa 60 °C ja pumppausnopeudella 2,91 1/min. Elektrolyytin koostumus on seuraava: 42 g/1 Cu 7 g/1 Ni 10 8 g/1 As 0,4 g/1 Sb 150 g/1 H2S04
Esimerkin 1 mukaisesti pidetään virta arvossa 50 mA, ja mitattiin potentiaalikäyrä aikavälillä 0-10 min 15 virran kytkemisen jälkeen.
Katodi puhdistettiin kunkin mittauksen jälkeen kääntämällä virta (5 = 0,5 min, I = 2 A). Taulukko 3 osoittaa, että mittaukset ovat hyvin toistettavissa vain silloin, jos tehdään edellä kuvattu katodin puhdistus takaisin-20 liuottamalla anodisesti.
Taulukko 3:
Mittaustulosten toistettavuus puhdistettaessa lanka ja ilman sen puhdistusta 25 ! !
.. Mittaus nro. Lanka puhdistetaan Kulmakerroin M
(kyllä/ei) (mV/min) 1 kyllä 1,33 2 ei 0,23 30 3 ei 0,56 4 ei 0,43 5 kyllä 1,27 • ___ _ _ _ _ _
Elektrolyytin suhteellinen nopeus: 0,34 cm/s, mittausvir-35 ta: 50 mA.
9 94378
Esimerkki 4 Käytettiin koostumukseltaan esimerkin 1 mukaista elektrolyyttiä ja kuvion 1 mukaista mittauskennoa.
Mittauksia tehtiin kuitenkin usean kuukauden aika-5 na käyttämällä vaihtelevaa liima-annostusta kuparielektro-lyytissä, ja verrattiin oikosulkujen määrää saatuihin mittaustuloksiin. Taulukko 4 osoittaa selvästi, että tämän esimerkin mukaisissa mittausolosuhteissa mittaustulosten ollessa M < 1,0 mV/min syötössä tai M < 0,3 mV/min pois-10 tossa on odotettavissa heikentyneitä virtasaantoja kupari-elektrolyysissä, koska vaikuttava liimamäärä on liian pieni .
Taulukko 4
Vaikuttava liimapitoisuus kuparielektrolyysin 15 elektrolyytissä
Liimapitoisuus Keskimääräinen mittaustulos Oikosul-
Syöttö Poisto 20 % (mV/min) (mV/min) kohden 100 1,65 0,44 42 65 1,21 0,45 41 100 1,61 0,64 55 100 1,65 0,67 42 . 25 47 0,71 0,27 93
Elektrolyytin suhteellinen nopeus: 0,34 cm/s, mittaus-virta: 50 mA.
• ·

Claims (7)

10 94378
1. Menetelmä inhibiittoreina toimivien orgaanisten lisäaineiden vaikutuksen mittaamiseksi seostettaessa elek-5 trolyyttisesti metalleja vesipohjaisista elektrolyyteistä, jotka sisältävät metallien saostumista edistäviä orgaanisia lisäaineita, mittaamalla pitoisuus sähköisesti, tunnettu siitä, että elektrolyyttiosavirta johdetaan vakionopeudella mittauskennoon, jossa on vähintään kolme 10 lankamaista elektrodia (6a-d), johdetaan elektrodeihin, joilla on tuore johdinpinta, mittausvirta 5 mA - 1,0 A ja pidetään yllä tämä virta ja käytetään muodostuvan katodi-potentiaaliaikakäyrän kulmakerrointa alueella 0,1 - 50 min inhibiittorin vaikuttavan pitoisuuden mittana.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tun nettu siitä, että mittauskennossa pidetään yllä virtausnopeus 0,01 - 10 cm/s.
3. Patenttivaatimusten 1 ja 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että jokainen uusi mittaus tehdään 20 lankaelektrodilla (6a-d), jolla on tuore johdinpinta.
4. Patenttivaatimusten 1-3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että mittauskennossa olevat lanka-maiset elektrodit (6a-d) jännitetään kelauslaitteelle (4,5) ja poistetaan joka mittauksen jälkeen elektrolyyt- 2S tiin upotettuna ollut langanosa (käytetty johdinpinta) mittausalueelta.
5. Patenttivaatimusten 1-4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että mittauskennoon asetetaan neljä lankamaista elektrodia (6a-d) riviin yhtä suuren etäi- 30 syyden päähän toisistaan ja referenssielektrodin puuttues-sa muodostetaan katodi- samoin kuin anodipotentiaali katodin ja sen vieressä olevan elektrodilangan välisestä jännite-erosta ja anodin ja sen vieressä olevan elektrodi-langan välisestä jännite-erosta.
6. Patenttivaatimusten 1-5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että mitataan kuparielektrolyysin elektrolyytin vaikuttava inhibiittoripitoisuus. 94378 11
7. Patenttivaatimusten 1-5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että mitataan elektrolyytin vaikuttava kiillotepitoisuus metallin galvaanisen saostuksen yhteydessä. 0 « · 94378 12
FI882298A 1987-06-03 1988-05-17 Menetelmä vaikuttavan inhibiittoripitoisuuden mittaamiseksi metallien saostuksessa vesipohjaisista elektrolyyteistä FI94378C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3718584 1987-06-03
DE19873718584 DE3718584A1 (de) 1987-06-03 1987-06-03 Verfahren zur messung der wirksamen inhibitorkonzentration waehrend der metallabscheidung aus waessrigen elektrolyten

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI882298A0 FI882298A0 (fi) 1988-05-17
FI882298A FI882298A (fi) 1988-12-04
FI94378B FI94378B (fi) 1995-05-15
FI94378C true FI94378C (fi) 1995-08-25

Family

ID=6328960

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI882298A FI94378C (fi) 1987-06-03 1988-05-17 Menetelmä vaikuttavan inhibiittoripitoisuuden mittaamiseksi metallien saostuksessa vesipohjaisista elektrolyyteistä

Country Status (10)

Country Link
US (1) US4834842A (fi)
EP (1) EP0294001B1 (fi)
AT (1) ATE110798T1 (fi)
AU (1) AU607370B2 (fi)
CA (1) CA1277370C (fi)
DE (2) DE3718584A1 (fi)
DK (1) DK300988A (fi)
ES (1) ES2058235T3 (fi)
FI (1) FI94378C (fi)
PT (1) PT87648B (fi)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5403465A (en) * 1990-05-30 1995-04-04 Gould Inc. Electrodeposited copper foil and process for making same using electrolyte solutions having controlled additions of chloride ions and organic additives
US5431803A (en) * 1990-05-30 1995-07-11 Gould Electronics Inc. Electrodeposited copper foil and process for making same
ATE151474T1 (de) * 1990-05-30 1997-04-15 Gould Electronics Inc Elektroplattierte kupferfolie und deren herstellung unter verwendung elektrolytischer lösungen mit niedrigen konzentrationen von chlor ionen
US5622615A (en) * 1996-01-04 1997-04-22 The University Of British Columbia Process for electrowinning of copper matte
MY138743A (en) 1996-05-13 2009-07-31 Mitsui Mining & Smelting Co High tensile strength electrodeposited copper foil and the production process of the same
US6365033B1 (en) * 1999-05-03 2002-04-02 Semitoof, Inc. Methods for controlling and/or measuring additive concentration in an electroplating bath
US6814855B2 (en) * 1998-05-01 2004-11-09 Semitool, Inc. Automated chemical management system having improved analysis unit
US6899805B2 (en) * 1998-05-01 2005-05-31 Semitool, Inc. Automated chemical management system executing improved electrolyte analysis method
DE19911447C2 (de) * 1999-03-08 2001-10-11 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zum analytischen Ermitteln der Konzentration von Zusatzstoffen in galvanischen Metallabscheidebädern
PL341922A1 (en) * 2000-08-07 2002-02-11 Kghm Polska Miedz Sa Method of and system for measuring concentration of active bone glue in industrial electrolytes
US6869515B2 (en) * 2001-03-30 2005-03-22 Uri Cohen Enhanced electrochemical deposition (ECD) filling of high aspect ratio openings
US20030159937A1 (en) * 2002-02-27 2003-08-28 Applied Materials, Inc. Method to reduce the depletion of organics in electroplating baths
US6878245B2 (en) * 2002-02-27 2005-04-12 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for reducing organic depletion during non-processing time periods
DE10232612B4 (de) * 2002-07-12 2006-05-18 Atotech Deutschland Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung eines elektrolytischen Prozesses
US20040084318A1 (en) * 2002-11-05 2004-05-06 Uri Cohen Methods and apparatus for activating openings and for jets plating
JP5826952B2 (ja) 2014-01-17 2015-12-02 株式会社荏原製作所 めっき方法およびめっき装置
CN109234788A (zh) * 2018-08-03 2019-01-18 诚亿电子（嘉兴）有限公司 除胶再生机可视化检查方法
CN112798674B (zh) * 2020-12-25 2022-12-09 安徽工业大学 一种检测铜电解液中有效明胶浓度的方法
CN113447556B (zh) * 2021-05-11 2022-10-04 浙江工业大学 一种铜电解精炼中电解液质量的分析方法
CN115078488B (zh) * 2022-05-24 2024-05-14 浙江工业大学 一种铜电解精炼中有机添加剂的定量分析方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1551275A (fi) * 1966-12-19 1968-12-27
US3356605A (en) * 1967-03-02 1967-12-05 Gen Electric Electrodeposition monitor
FR2188842A5 (fi) * 1972-06-01 1974-01-18 Alsace Mines Potasse
US3925168A (en) * 1972-07-26 1975-12-09 Anaconda American Brass Co Method of monitoring the active roughening agent in a copper plating bath
ZA775495B (en) * 1976-11-22 1978-07-26 Kollmorgen Tech Corp Method and apparatus for control of electroless plating solutions
DE2911073C2 (de) * 1979-03-21 1984-01-12 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und Vorrichtung zum automatischen Messen und Regeln der Konzentration der Hauptkomponenten eines Bades zum stromlosen Abscheiden von Kupfer
US4474649A (en) * 1982-06-21 1984-10-02 Asarco Incorporated Method of thiourea addition of electrolytic solutions useful for copper refining
US4479852A (en) * 1983-01-21 1984-10-30 International Business Machines Corporation Method for determination of concentration of organic additive in plating bath
US4631116A (en) * 1985-06-05 1986-12-23 Hughes Aircraft Company Method of monitoring trace constituents in plating baths

Also Published As

Publication number Publication date
PT87648B (pt) 1992-10-30
AU1699088A (en) 1988-12-08
DE3718584A1 (de) 1988-12-15
ATE110798T1 (de) 1994-09-15
DK300988D0 (da) 1988-06-02
DE3851261D1 (de) 1994-10-06
FI882298A (fi) 1988-12-04
DK300988A (da) 1988-12-04
CA1277370C (en) 1990-12-04
FI94378B (fi) 1995-05-15
ES2058235T3 (es) 1994-11-01
FI882298A0 (fi) 1988-05-17
EP0294001A1 (de) 1988-12-07
US4834842A (en) 1989-05-30
PT87648A (pt) 1988-07-01
EP0294001B1 (de) 1994-08-31
AU607370B2 (en) 1991-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI94378C (fi) Menetelmä vaikuttavan inhibiittoripitoisuuden mittaamiseksi metallien saostuksessa vesipohjaisista elektrolyyteistä
JP6687331B2 (ja) 光沢ニッケル層の析出のための電解浴、または光沢ニッケル層の析出のための電解浴中での使用のための混合物、および光沢ニッケル層を有する物品の製造方法
JPH01159395A (ja) 金属の電気メッキ方法
CN104685112A (zh) 用于对目标物电解涂覆的设备和方法
Honda et al. pH measurement in the vicinity of a cathode evolving hydrogen gas using an antimony microelectrode
DE19911447C2 (de) Verfahren zum analytischen Ermitteln der Konzentration von Zusatzstoffen in galvanischen Metallabscheidebädern
US3696017A (en) Means for electrolytically depositing metal on an object or for anodic oxidation of an object
EP0154705B1 (de) Verfahren zur vollautomatischen Steuerung der galvanischen Abscheidung von Kupferüberzügen aus sauren Kupferbädern
EP0437921A2 (en) Cyclic voltamperemetry
US20040020772A1 (en) Method and system for measuring active animal glue concentration in industrial electrolytes
JP6011874B2 (ja) めっき液に含まれる抑制剤の評価方法
RU2308553C1 (ru) Способ электроосаждения кадмия
JPH01162798A (ja) 電気めっき用コンダクターロールの付着金属除去装置
Gadzhov et al. MEMBRANE ELECTROCHEMICAL PREPARATION OF THREE-POLYPHOSPHATE NON-CYANIDE ELECTROLYTE FOR COPPERING.
JP5406073B2 (ja) 銅の電解精製装置及びそれを用いた銅の電解精製方法
JPH07840B2 (ja) 電気めつき添加剤の管理方法並びにそのための装置
SU1684651A1 (ru) Способ определени качества покрытий и устройство дл его осуществлени
KR100638332B1 (ko) 알루미늄 물품의 전해 착색방법
JP2004053450A (ja) めっき液の分析方法及びめっき液の分析装置
Narasimham et al. The influence of ultrasonics on the electrodeposition of lead dioxide
JPH0572480B2 (fi)
Gadzhov et al. MEMBRANE ELECTROCHEMICAL PREPARATION OF RODANIDE SILVER CONCENTRATES.
JPH0625883A (ja) 均一化率を測定するための電極及び方法
Solodkova et al. Cyclic voltammetric method with stripping of the metal deposit for quantitative analysis of organic additives in metal plating electrolytes
JPH05239686A (ja) Ｃｒ鋼材へのＺｎ系電気めっき方法

Legal Events

Date Code Title Description
BB Publication of examined application
FG Patent granted

Owner name: NORDDEUTSCHE AFFINERIE

MA Patent expired