FI93824B - Säädellysti huokoinen piioksidi ja sen valmistusmenetelmä - Google Patents

Säädellysti huokoinen piioksidi ja sen valmistusmenetelmä Download PDF

Info

Publication number
FI93824B
FI93824B FI903335A FI903335A FI93824B FI 93824 B FI93824 B FI 93824B FI 903335 A FI903335 A FI 903335A FI 903335 A FI903335 A FI 903335A FI 93824 B FI93824 B FI 93824B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
silica
dispersion
colloidal
kiseloxide
acid
Prior art date
Application number
FI903335A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI93824C (fi
FI903335A0 (fi
Inventor
Jacques Persello
Original Assignee
Rhone Poulenc Chimie
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=9383384&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=FI93824(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Rhone Poulenc Chimie filed Critical Rhone Poulenc Chimie
Publication of FI903335A0 publication Critical patent/FI903335A0/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI93824B publication Critical patent/FI93824B/fi
Publication of FI93824C publication Critical patent/FI93824C/fi

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/50—Agglomerated particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/14—Pore volume
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/16—Pore diameter
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/19—Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity
    • C01P2006/82—Compositional purity water content
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/90—Other properties not specified above

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

93824 Säädellysti huokoinen piioksidi ja sen valmistusmenetelmä
Keksinnön kohteena on säädellysti huokoinen piioksidi ja sen 5 valmistusmenetelmä.
Piioksidia käytetään sen huokoisuuden vuoksi nykyisin monissa sovellutuksissa, esimerkiksi voidaan mainita katalyysit, musteet ja paperi sekä elintarviketeollisuus.
10
Katalyyseissä piioksidia käytetään katalyysialustana tai mo-noliittisiä alustoja peittävänä huokoisena kerroksena.
Optisten valkaisevien omi nai suuksiensa ja opasiteettinsa 15 vuoksi piioksidia käytetään paperimassan täyteaineena, erityisesti sanomalehtipapereissa sekä pääl1ystetäyteaineena päällystetyissä ja erikoispapereissa. Papereissa piioksidia käytetään haluttaessa suurempaa huokoisuutta musteen absorboitumisen helpottamiseksi.
20
Elintarviketeollisuudessa, erityisesti eläinruokien valmistuksessa, piioksidia käytetään sen absorboivien ominaisuuksien vuoksi alustana, esimerkiksi metioniini 1 le, vitamiineille, erityisesti A- ja E-vitamiinei11 e, tai sukroglyseridei11 e.
25 Tässä patenttihakemuksessa, kuten useissa muissakin, piioksi-din odotetaan olevan muodoltaan tietynlaista.
Keksinnön ensimmäisenä kohteena on huokoisuudeltaan entistä 30 parempi piioksidi.
Keksinnön toisena kohteena on menetelmä, jonka avulla säädellyn huokoista piioksidia saadaan.
35 Keksinnön mukaisen piioksidin ominaisuuksia ovat: - spesifinen pinta BET 20-300 m2/g, - spesifinen pinta CTAB 10-200 m2/g, - öljynimukyky (DBP) 80-400 cm3/100 g, 2 93824 - huokostilavuus 1-10 cm3/g, - huokosten keskimääräinen läpimitta 10-50 nm.
Keksinnön mukaiselle piioksidille on ominaista, että sen huo-5 kostilavuus on optimaalinen, huokosten läpimitta on 20-50 nm, olipa spesi-finen pinta mikä tahansa. Tämän ansiosta keksinnön mukaisen piioksidin adsorptiopinta ja adsorptiokyky ovat maksi maali set.
10 Keksinnön mukaisen piioksidin spesifinen pinta BET on 20-300 m2/g, edullisesti 60-200 Λ/g.
Spesifinen pinta BET on määritelty Brunauer—Emmett-Tel1er— menetelmän mukaan, The Journal of the American Chemical 15 Society, voi. 60, page 309, February 1938, sekä ranskalaisen normin NF Xl1-622 (3.3) mukaan.
Spesifisen pinnan CTAB arvot puolestaan sijoittuvat välille 10-200 m2/g, erityisesti välille 60-200 h/g.
20 CTAB-pinta on normin ASTM D3765 mukaisesti määritelty ulkopinta, heksadekyylitrimetyyliammoniumbromidiadsorptio (CTAB) pH-arvossa 9, CTAB-molekyylin pinnan projektio 35 A2.
25 Keksinnön mukaisen piioksidin öljynimukyky on 80-400 cm3/100 g piioksidia, ranskalainen normi NFT 30-022 (mars 1953), dibu-• tyyliftaiaatti. Tarkemmin sanoen öljynimukyky on 100 - 350 cm3 /100 g.
30 Keksinnön mukaisen piioksidin luonteenomainen huokoisuustila-vuus on 1-10 cm3 /g, erityisesti 2-5 cib/g.
Huokosten keskimääräinen läpimitta jakautuu suhteellisen pienelle alueelle: 10-50 nm, edullisemmin 20-30 nm.
35
Interaggregaattihuokostilavuuden määrittelyssä samoin kuin tätä tilavuutta vastaavan huokosten määrän määrittelyssä käytetään elohopeahuokoisuusmittaria (Pore Sizer 9300, Coultro-nics). Koe-erään, josta kaasut on poistettu, annetaan tun- 93824
S
keutua elohopeaa huokosiin, saadaan huokoisuuskäyrä, joka vastaa huokosten tilavuuden kehittymistä suhteessa huokosten paineeseen tai säteeseen. Huokoisuuskäyrää määriteltäessä on käytetty menetelmää, joka on tuotu esiin teoksessa N.M.
5 Wilnslow, J.J. Shapiro, ASTM Bulletin, page 39, February 1959.
Aggregaattikerrostumista saadaadaan interaggregaattihuokosti-lavuus, jonka täyttyminen elohopealla näkyy askelmana huokoi-10 suuskäyrällä. Askelman korkeus osoittaa interaggregaatti-huokostilavuutta. Askelman kaltevuus kuvaa huokospopulaation jakaumaa. Johdettu käyrä on sitä jyrkempi, mitä homogeeni-sempi interagregaattihuokosten populaatio on.
15 Seuraavassa tarkemmin määriteltynä spesi-fisen pinnan ja huokoisuuden piirteet, joita valmistusmenetelmän avulla voidaan säädel1ä.
Pii oksi di n raekoko valitaan se sovelluskohteen mukaan.
20
Agglomeraattien keskimääräinen läpimitta voi vaihdella suuresti ja olla 0,5 - 20 /cm, edullisemmin 1-10 /<m.
Keskimääräinen läpimitta määritellän läpimitaksi, jota 50 25 painoprosentilla agglomersateista on suurempia tai pienempiä. Agglomeraattien keskimääräinen läpimitta mitataan Counter— Coulter—laitteella.
Keksinnön mukaisen piioksidin pH on yleisesti ottaen 4,0 -30 8,0, erityisesti 5,0 - 7,0. pH on määritelty ranskalaisen normin NFT-45007 <5.5) mukaisesti.
Keksinnön mukainen pii oksi di voidaan valmistaa omaperäisellä menetelmällä, jossa lisätään samanaikaisesti piioksidi ja 35 happo piioksidin kolloidiseen dispersioon ja saadaan piioksi-disuspensio. pH-arvoa lasketaan, niin että se sijoittuu välille 3-7. Piioksidi erotetaan ja kuivataan.
4 93824
Suositeltavan keksinnön mukaisen menetelmän mukaan lisäksi käytetään elektrolyytti1isäystä kolloidiseen 1ähtopiioksidi-dispersioon.
S Eräs tapa valmistaa kolloidinen piioksididispersio, jonka pitoisuus on 1-150 g/1, on kuumentaa piioksidin vesiliuos, esimerkiksi 60-95 °C:een ja lisätä sanottuun vesiliuokseen happoa, kunnes pH-arvoksi saadaan 8,0 - 10,0, edullisesti noin 9,5.
10
Piioksidin vesiliuoksen pitoisuus SiQ, :na ilmoitettuna saisi olla 20-150 g/1. Voidaan käyttää laimennettua tai väkevöityä happoa, sen normaalisuus voi vaihdella välillä 0,5 N - 36 N, edullisemmin 1-2 N.
15
Edellä olevassa piioksidilla tarkoitetaan lähinnä alkalime-tal1ipiioksidia, edullisimmin natriumpiioksi di a, jossa painosuhde SiG2/N^0 on 2-4, edullisimmin 3,5. Happo voi olla kaasumainen, esimerkiksi hiilihappo tai nestemäinen, esimer-20 kiksi rikkihappo.
Eräässä keksinnön mukaisessa toteutusmuodossa kolloidien määrää kolloidisessa dispersiossa voidaan rajoittaa lisäämällä jotain elektrolyyttiä. Voidaan käyttää jotain epäorgaanista 25 tai orgaanista suolaa, esimerkiksi ai kaiimetal1i- tai am-moniumsuolaa. Esimerkkeinä mainittakoon natriumsul-f aatti , *’ natriumkloridi, natriumasetaatti, ammoniumsulfaatti ja äm mäni umkl or i di .
30 Sanottua elektrolyyttiä voidaan käyttää kiinteässä muodossa tai vesiliuoksessa, jonka pitoisuus saisi olla 0-50 g per litraa kolloidista suspensiota.
Keksinnön mukaisessa menetelmässä kolloidiseen piioksi di dis-35 persioon lisätään samanaikaisesti elektrolyytti, piioksidi ja happo.
il 5 93824
Reagenssit lisätään samaan aikaan, niin että pH pysyy vakiona arvossa 8-10, edullisemmin 8,5 - 9,5. Sopiva lämpötila on 60-95 e C.
5 Piioksidi1iuoksen pitoisuus ilmoitettuna SiOa:na voi olla 40-250 g per litraa kolloidista piioksididispersiota, edullisemmin 80-150 g per litra.
Seuraavassa keksinnön mukaisen menetelmän vaiheessa pH sääde-10 tään välille 3,0 - 7,0.
Sopiva pH-arvo saadaan lisäämällä happoa.
Voidaan käyttää esimerkiksi jotain epäorgaanista happoa kuten 15 typpihappoa, kloori vetyhappoa, rikkihappoa, foef ori happoa tai kaasunpesun avulla muodostettua hiilihappoa.
Saadaan piioksidisuspensio, jonka pitoisuus ilmoitettuna SiO. 3:na saisi olla 40-80 g/1.
20
Kolloidisen 1ähtöpiioksididispersion määrä saisi olla 10-20 tilavuusprosenttia lopullisen saadun suspension tilavuudesta, edullisemmin noin 15 25 Piioksidi erotetaan reaktioympäristöstä millä tahansa tunnetulla menetelmällä, esimerkiksi suodattamalla tyhjiössä tai * puristussuodatuksella.
Saadaan kootuksi pii oksi di a oleva suodatuspuristuskakku.
30
Keksinnön suositeltavan toteutusmuodon mukaan pii kakku pestään.
Pesemisessä voidaan käyttää vettä, yleensä deionisoitua vet-35 tä, ja/tai pesu voidaan suorittaa happoliuoksel1 a, jonka pH on 2-7.
Happoliuos voi olla esimerkiksi jokin mineraalihappo, esimerkiksi typpihappo.
6 93824
Keksinnön erään erityisen toteutusmuodon mukaan happoliuos voi olla myös orgaanisen hapon liuos, erityisesti jonkin kom-pleksoivan orgaanisen hapon liuos. Happo voidaan valita ryh-5 mästä karboksyyli-, dikarboksyyli-, hydroksikarboksyyli- ja ami nokarboksyyli hapot.
Esimerkkinä tällaisista hapoista mainittakoon etikkahappo ja kömpieksoivista hapoista viinihappo, maleiinihappo, glysero-10 lihappo, glukonihappo ja sitruunahappo.
Käytännössä pesuoperaatio voidaan toteuttaa saattamalla pesu-liuos kakun päälle tai sekoittamalla kakku saatuun suspensioon sen jälkeen kun kakku on hajotettu.
15
Ennen kuivatusvaihetta suodatuskakku hajotetaan, mitä tahansa tunnettua menetelmää käyttäen, esimerkiksi suurella nopeudella pyörivää sekoitinta käyttäen.
20 Pii kakku siis hienonnetaan ennen pesua tai sen jälkeen ja kuivataan sitten mitä tahansa menetelmää käyttäen. Kuivattaminen voidaan toteuttaa esimerkiksi tunneliuunissa tai muhve-liuunissa tai hyvin hienossa hienonnuksessa kuumassa ilmavirrassa, tulolämpötila 200-500 eC, 1ähtölämpöti1 a noin 80-100 25 °C, viipymisaika 10 sekunnista 5 minuuttiin.
Kuivattu tuote voidaan tarvittaessa jauhaa, jotta päästään haluttuun raekokoon. Koko säädetään aiotun sovelluskohteen mukaan. Ylisesti ottaen agglomeraattien keskimääräinen läpi-30 mitta on 0,05 - 20 /«m, edullisemmin 1-10 yUm. Kun piioksidia käytetään paperi nval mi stuksessa, sopiva raekoko on 1-3 y*/tn.
Vaihe toteutetaan tavallisessa laitteistossa, teräjauhimessa tai i1masuihkujauhimessa.
Toteutettaessa keksinnön mukainen menetelmä saadaan piioksidia, joka on muodoltaan tietynlaista, edellä kuvatun kaltaista.
Il 35 7 93824
Eräs keksinnön tunnuspiirteistä on, että saatavan piioksidin muotoa voidaan säädellä, erityisesti mitä tulee sen spesiöiseen pintaan.
5 Olemme havainneet, että saatavan piioksidin lopullisia tunnuspiirteitä voidaan korreloida, jopa valita, suhteessa kolloidisessa lähtöpiioksi didispersiossa läsnä olevien kolloidien lukumäärään ja kokoon.
10 Olemme havainneet myös, että kolloidien lukumäärää ja kokoa sanotussa dispersiossa voidaan säädellä valitsemalla piioksi-dipitoisuus kolloidisessa piioksididispersiossa sillä, että läsnä on elektrolyyttiä tai ei ja valitsemalla sen pitoisuus.
15 Kuviossa 1 on graa-finen esitys, jossa käyrä (A) kuvaa saadun piioksidin spesifisen pinnan CTAB vaihteluita (m,/g) suhteessa grammoina per litraa ilmoitettuun piioksidin pitoisuuteen kolloidisessa piioksi di dispersiossa kun läsnä ei ole lainkaan elektrolyyttiä.
20
Kuviossa 2 nähtävä käyrä <B) kuvaa spesifisen pinnan CTAB vaihteluita suhteessa piioksidipitoisuuteen kun läsnä on elektrolyyttiä, tässä tapauksessa natriumsulfaattia (20 ml/1) .
25 Käyristä 1 ja 2 alan asiantuntija pystyy helposti päättelemään toimintaolosuhteet, joissa spesifisille pinnoille saadaan toivotut ominaisuudet.
30 Jos halutaan pienempää spesifistä pintaa, siis alle noin 60 m*/g, kolloidista piioksididispersiota valmistettaessa kannattaa käyttää elektrolyyttiä.
Jos taas halutaan suurempaa spesifistä pintaa, yli 150 ma/g, 35 kannattaa valita pieni piioksidipitoisuus kolloidiseen piiok-sidi dispersioon, edullisesti alle 50 g/1.
Eräs toinen keksinnön tunnuspiirteistä on, että sen avulla päästään kooltaan suhteelliseen vakaisiin interaggregaatti - 8 93824 huokosiin suuren spesifisten pintojen vaihteluiden puitteissa. Esimerkeissä asia tulee selvästi esiin.
Keksinnön mukaista piioksidia voidaan siis muotoaan koskevien 5 erityisominaisuuksiensa vuoksi käyttää useissa sovellutuksissa, esimerkiksi voidaan mainita katalyyseissä, papereissa sekä elintarvikkeiden alustana.
Seuraavat keksinnön toteutusmuotoesimerkit ovat vain kuvaa-10 via, eivät millään tavoin rajoittavia.
Esimerkki 1
Spesifiseltä CTAB-pinnaltaan 150 m2/g olevan piioksidin synte-ti sointi 15
Reaktoriin, jossa on laitteet lämpötilan ja pHsn säätelyyn sekä turbiinisekoituslaite, pannaan 5 litraa deionisoitua vettä ja 1 litra natriumsi1ikaatin vesiliuosta, 130 g/1.
20 Kun sekoitin on kytketty päälle <350 kierrosta minuutissa), muodostuva pohjaosa kuumennetaan 85 ”C:een ja pH säädetään ar— voon 9,5 8 minuutissa lisäämällä rikkihapon vesiliuosta 80 g/1.
25 Kun saavutetaan 85 °C:n lämpötila, lisätään samanaikaisesti 10 litraa natriumsi1ikaatin vesiliuosta, piioksidipitoisuus 130 g/1, suhde ΞϊΟ,/Ν^Ο 3,5, virtausnopeus 0,20 litraa minuutissa, ja 7,0 litraa rikkihapon vesiliuosta, 80 g/1. Hapon vir— tausnopeus säädetään sellaiseksi, että seoksen pH-arvo pysyy 30 vakiona 9,2:ssa (keskimääräinen virtausnopeus 0,14 litraa minuutissa) .
Kun lisäystä on jatkettu 50 minuuttia, silikaatin lisääminen lopetetaan ja hapon lisäämistä jatketaan, kunnes reaktioseok-35 sen pH stabiloituu arvoon 5,0.
Seos suodatetaan ja kosteaa suodoskakkua pestään deionisoidun a vedellä kunnes suodoksen johtavuus on alle 1 mi liisi emensiä.
5 9 93824
Saatava suodoskakku kuivatetaan sumuttamal1 a ja hienonnetaan "Jet Pui verizer"—tyyppi sei 1ä hienontimel1 a, kunnes raekooksi saadaan 2 mikrometriä.
Saadun piioksidin -f yysi skemi ai 1 i set ominaisuudet ovat: BET-pinta 200 m2 /g CTAB-pinta 150 m2/g 10 öljynpidätyskyky 320 cm3/100 g pH 5-‘/..na vedessä 7,0 '/. sulfaattia 0,5
Kosteus 105 eC:ssa <’/.) 5,9
Hehkutushäviö 1000 "Csssa <*/.) 9,1 15 Suodoskakun häviö 105 “C:ssa ("/.) 80
Kokonaishuokosti1avuus 3,6 cm3/g
Huokosten keskimääräinen läpimitta 35 nm
Esimerkki 2 20 Spesifiseltä CTAB-pinnaltaan 120 m2/g olevan piioksidin syntetisointi
Reaktoriin, jossa on laitteet lämpötilan ja pH:n säätelyyn sekä turbiinisekoituslaite, pannaan 4,4 litraa deionisoitua 25 vettä ja 1,6 litraa natriumsi1ikaatin vesiliuosta , 130 g/1.
‘ Kun sekoitin on kytketty päälle <350 kierrosta minuutissa), muodostuva pohjaosa kuumennetaan 92 BC:een ja pH säädetään ar— voon 9,5 8 minuutissa lisäämällä rikkihapon vesiliuosta 60 30 g/1.
Kun saavutetaan 92 ”C:n lämpötila, lisätään samanaikaisesti 12 litraa natriumsi1ikaatin vesiliuosta, piioksidipitoisuus 130 g/1, suhde Si02/N^0 3,5, virtausnopeus 0,20 litraa minuutis-35 sa, ja 7,2 litraa rikkihapon vesiliuosta, 80 g/1. Hapon virtausnopeus säädetään sellaiseksi, että seoksen pH-arvo pysyy vakiona 9,5:ssa (keskimääräinen virtausnopeus 0,120 litraa minuutissa).
10 93824
Kun lisäystä on jatkettu 60 minuuttia, silikaatin lisääminen lopetetaan ja hapon lisäämistä jatketaan, kunnes reaktioseok-sen pH stabiloituu arvoon 5,0.
5 Seos suodatetaan ja kosteaa suodoskakkua pestään deioni-soidulla vedellä kunnes suodoksen johtavuus on alle 1 milli-siemensiä.
Saatava kakku kuivatetaan sumuttamalla ja hienonnetaan "Jet 10 Puiverizer"-tyyppisellä hienontimella, kunnes raekooksi saadaan 2 mikrometriä.
Saadun piioksidin fyysiskemialliset ominaisuudet ovat: 15 BET-pinta 150 m*/g CTAB-pinta 120 m* /g öl jynpidätyskyky 200 απ’/100 g pH 5-7..na vedessä 4,0 '/. sulfaattia 2,5 20 Kosteus 105 "Cissa <'/.) 4,0
Hehkutushäviö 1000 “C:ssa <"/.) 9,0
Suodoskakun häviö 105 “Csssa (*/.) 80
Kokonaishuokosti1avuus 3,3 cm3/g
Huokosten keskimääräinen läpimitta 35 nm 25
Esimerkki 3 • Spesifiseltä CTAB-pinnaltaan 60 m2/g olevan piioksidin synte tisoi nti 30 Reaktoriin, jossa on laitteet lämpötilan ja pH:n säätelyyn sekä turbiinisekoituslai te, pannaan 2,5 litraa deionisoitua vettä ja 2,5 litraa natriumsi1ikaatin vesiliuosta, 130 g/1.
Kun sekoitin on kytketty päälle (350 kierrosta minuutissa), 35 muodostuva pohjaosa kuumennetaan 90 °C:een ja pH säädetään arvoon 9,5 8 minuutissa lisäämällä rikkihapon vesiliuosta, 0 g/1.
53824 11
Kun saavutetaan 90 °C:n lämpötila, lisätään samanaikaisesti 15 litraa natriumsi1ikaatin vesiliuosta, piioksidipitoisuus 130 g/1, suhde Si02/N^O 3,5, virtausnopeus 0,25 litraa minuutissa, ja 9,0 litraa rikkihapon vesiliuosta, Θ0 g/1. Hapon vir— 5 tausnopeus säädetään sellaiseksi, että seoksen pH-arvo pysyy vakiona 9,5:ssa (keskimääräinen virtausnopeus 0,15 litraa minuutissa) .
Kun lisäystä on jatkettu 60 minuuttia, silikaatin lisääminen 10 lopetetaan ja hapon lisäämistä jatketaan, kunnes reaktioseok-sen pH stabiloituu arvoon 5,0.
Seos suodatetaan ja kosteaa suodoskakkua pestään deionisoidun a vedellä kunnes suodoksen johtavuus on alle 1 milli-15 siemensiä.
Saatava kakku kuivatetaan sumuttamalla ja hienonnetaan "Jet Puiverizer"-tyyppisellä hienontimella, kunnes raekooksi saadaan 2 mikrometriä.
20
Saadun pii oksi di n fyysiskemiai 1iset ominaisuudet ovat: BET-pinta 80 m2 /g CTAB-pinta 60 m* /g 25 öljynpidätyskyky 120 cm3/100 g pH 5-‘/..na vedessä 4,0 '/. sulfaattia 2,5
Kosteus 105 °C:ssa (*/.) 4,0
Hehkutushäviö 1000 °C:ssa (*/.) 8,0 30 Suodoskakun häviö 105 °C:ssa (V.) 80
Kokonaishuokostilavuus 3,3 cm3/g
Huokosten keskimääräinen läpimitta 40 nm
Esimerkki 4 35 Spesifiseltä CTAB-pinnaltaan 30 m3/g olevan pii oksi di n syntetisointi
Reaktoriin, jossa on laitteet lämpötilan ja pH:n säätelyyn sekä turbiinisekoituslaite, pannaan 4 litraa natriumsi1ikaa- 12 93824 tin vesiliuosta, 75 g/1 , ja Θ0 g natriumsul-faatin vesiliuosta.
Kun sekoitin on kytketty päälle (350 kierrosta minuutissa), 5 muodostuva pohjaosa kuumennetaan 90 °C:een.
Pohja-ainesosan pH säädetään arvoon 9,0 lisäämällä rikkihappoa, 80 g/1, väkiovirtausnopeus 0,058 1/min.
10 Lisätään samanaikaisesti 14,4 litraa natriumsi1ikaattia, pii-oksidipitoisuus 130 g/1, suhde SiO,/N^0 3,5, virtausnopeus 0,240 litraa minuutissa, Ja 9,42 litraa rikkihappoa, pitoisuus 80 g/1. Hapon virtausnopeus säädetään sellaiseksi, että seoksen pH-arvo pysyy vakiona 9,2:ssa (keskimääräinen vir— 15 tausnopeus 0,16 litraa minuutissa).
Samanaikaisen lisäyksen lopussa silikaatin lisääminen lopetetaan ja hapon lisäämistä jatketaan vakionopeudella 0,073 1/min, kunnes reaktioseoksen pH stabiloituu arvoon 4,2.
20
Seos suodatetaan ja kosteaa suodoskakkua pestään deionisoidulla vedellä kunnes suodoksen johtavuus on alle 1 milli-siemeneiä.
25 Saatava kakku kuivatetaan sumuttamalla ja hienonnetaan "Jet Pulverizer"-tyyppisellä hienontimella, kunnes raekooksi saa-' daan 5 mikrometriä.
Saadun pii oksi di n -f yysi skemi ai 1 i set ominaisuudet ovat: 30 BET-pinta 50 m2 /g CTAB-pinta 30 m2 /g öl jynpidätyskyky 90 cm5/100 g pH 5-7.. na vedessä 5,0 35 Kokona!shuokosti1avuus 1,25 cm3/g
Huokosten keskimääräinen läpimitta 50 nm li 13 93824
Esimerkki 5
Spesifiseltä CTAB-pinnaltaan 50 m2/g olevan piioksidin syntetisointi 5 Reaktoriin, jossa on laitteet lämpötilan ja pH:n säätelyyn sekä turbiinisekoituslaite, pannaan 4 litraa natriumsi1ikastin vesiliuosta, 105 g/1, ja 80 g natriumsulfaatin vesiliuosta.
10 Kun sekoitin on kytketty päälle (350 kierrosta minuutissa), muodostuva pohjaosa kuumennetaan 90 "C:een.
Pohja-ainesosan pH säädetään arvoon 9,0 lisäämällä rikkihappoa, 80 g/1, vakiovirtausnopeus 0,138 1/min.
15
Lisätään samanaikaisesti 14,09 litraa natriumsi1ikaattia, piioksidipitoisuus 130 g/1, suhde Si02/N4O 3,5, virtausnopeus 0,235 litraa minuutissa, ja 8,28 litraa rikkihappoa, pitoisuus 80 g/1. Hapon virtausnopeus säädetään sellaiseksi, että 20 seoksen pH-arvo pysyy vakiona 9,2issa (keskimääräinen vir— tausnopeus 0,14 litraa minuutissa).
Samanaikaisen lisäyksen lopussa silikaatin lisääminen lopetetaan ja hapon lisäämistä jatketaan vakionopeudella 0,075 25 1/min, kunnes reaktioseoksen pH stabiloituu arvoon 4,2.
Seos suodatetaan ja kosteaa suodoskakkua pestään deionisoidulla vedellä kunnes suodoksen johtavuus on alle 1 miliisi emensi ä.
30
Saatava kakku kuivatetaan sumuttamalla ja hienonnetaan "Jet Pulverizer"-tyyppisellä hienontimel1 a, kunnes raekooksi saadaan 5 mikrometriä.
35 Saadun piioksidin fyysiskemiai 1iset ominaisuudet ovat: BET-pinta 60 m2 /g CTAB-pinta 50 m* /g öl jynpidätyskyky 100 cm3/100 g 14 93824 pH 5-7..na vedessä 5,0
Kokonaishuokosti1avuus 1,65 cm3/g
Huokosten keskimääräinen läpimitta 50 nm 5 Esimerkki 6
Spesi-f i sei tä CTAB-pinnal taan 100 m2/g olevan piioksidin syntetisointi
Reaktoriin, jossa on laitteet lämpötilan ja pH:n säätelyyn 10 sekä turbiinisekoituslaite, pannaan 4 litraa natriumsi1ikaa-tin vesiliuosta, 130 g/1 , ja BO g natriumsul-f aatin vesiliuosta.
Kun sekoitin on kytketty päälle (350 kierrosta minuutissa), 15 muodostuva pohjaosa kuumennetaan 90 eC:een.
Pohja-ainesosan pH säädetään arvoon 9,7 lisäämällä rikkihappoa, BO g/1, vakiovirtauusnopeudella 0,045 1/min.
20 Seuraavaksi lisätään samanaikaisesti 13,64 litraa natriumsi-likaattia, piioksidipitoisuus 130 g/1, suhde SiQ, /N^O 3,5, virtausnopeus 0,227 litraa minuutissa, ja 5,2 litraa rikkihappoa, pitoisuus 80 g/1. Hapon virtausnopeus säädetään sellaiseksi, että seoksen pH-arvo pysyy vakiona 9,5:ssa (keski-25 määräinen virtausnopeus 0,157 litraa minuutissa).
Samanaikaisen lisäyksen lopussa piioksidin lisääminen lopetetaan ja hapon lisäämistä jatketaan vakionopeudella 0,073 1/min, kunnes reaktioseoksen pH stabiloituu arvoon 4,2.
30
Seos suodatetaan ja kosteaa suodoskakkua pestään deionisoidulla vedellä kunnes suodoksen johtavuus on alle 1 milli-siemensiä.
35 Saatava kakku kuivatetaan sumuttamalla ja hienonnetaan "Jet Puiveri2er"-tyyppisellä hienontimel1 a, kunnes raekooksi saadaan 5 mikrometriä.
15 93824
Saadun piioksidin -fyysiskemial 1 iset ominaisuudet ovat: BET-pinta 150 m2 /g CTAB-pinta 100 m2 /g 5 öljynpidätyskyky 150 cm3/100 g pH 5-7.. na vedessä 5,0
Kokonaishuokosti1avuus 2,5 cm3/g
Huokosten keskimääräinen läpimitta 45 nm

Claims (19)

93S24
1. Utfälld kiseloxid med följande egenskaper: - specifik BET-yta 20-300 m2/g, - specifik CTAB-yta 10-200 m2/g, 15. oijeabsorptionsförmäga (DBP) 80-400 cm3/100 g, - porvolym 1-10 cm3/g, - porernas genomsnittliga diameter 10-50 nm.
1. Saostettu piioksidi, jonka ominaisuuksia ovat: - spesifinen pinta BET 20-300 m2/g, 5. spesifinen pinta CTAB 10-200 m2/g, - oljynimukyky (DBP) 80-400 cm3/100 g, - huokostilavuus 1-10 cm3/g, - huokosten keskimääräinen läpimitta 10-50 nm.
2. Kiseloxid enligt patentkrav 1, kännetecknad av att dess 20 specifika BET-yta är 60-200 m2/g.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen piioksidi, tunnettu sii tä, että sen spesifinen pinta BET on 60-200 m2/g.
3. Kiseloxid enligt patentkrav 1 eller 2, kännetecknad av att dess specifika CTAB-yta är 60-200 m2/g.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen piioksidi, tunnet-tu siitä, että sen spesifinen pinta CTAB on 60-200 m2/g. 15
4. Kiseloxid enligt nägot av patentkraven 1-3, känneteck nad av att dess oljeabsorptionsförmäga är 100-350 cm3/l00 g.
4. Jonkin patenttivaatimuksen 1-3 mukainen piioksidi, tunnettu siitä, että sen öljynimukyky on 100-350 cm3/100 g.
5. Kiseloxid enligt nägot av patentkraven 1-3, kännetecknad av att dess porvolym är 2-5 cm3/g. 30
5. Jonkin patenttivaatimuksen 1-3 mukainen piioksidi, tun-20 nettu siitä, että sen huokostilavuus on 2-5 cm3/g.
6. Kiseloxid enligt nägot av patentkraven 1-5, kännetecknad av att porernas genomsnittliga diameter är 20-30 nm.
6. Jonkin patenttivaatimuksen 1-5 mukainen piioksidi, tunnettu siitä, että huokosten keskimääräinen läpimitta on 20-30 nm. 25
7. Kiseloxid enligt nägot av patentkraven 1-5, känneteck-35 nad av att agglomeratens genomsnittliga diameter är 0,5-20 μιη, särskilt 1-10 μπ\. 93824
7. Jonkin patenttivaatimuksen 1-5 mukainen piioksidi, tunnettu siitä, että agglomeraattien keskimääräinen läpimitta on 0,5-20 μιη, erityisesti 1-10 μια.
8. Kiseloxid enligt nägot av patentkraven 1-7, känneteck-nad av att dess pH är 4,0-8,0, särskilt 5,0-7,0.
8. Jonkin patenttivaatimuksen 1-7 mukainen piioksidi, tun nettu siitä, että sen pH on 4,0-8,0, erityisesti 5,0-7,0.
9. Förfarande för framställning av kiseloxid enligt nägot 5 av patentkraven 1-8, kännetecknat av att det omfattar sam- tidig tillsats av silikat och syra tili en kolloid kisel-oxiddispersion, varvid en kiseloxidsuspension erhälls; pH-värdet sänks tills det när omrädet 3-7; kiseloxid separeras och torkas. 10
9. Jonkin patenttivaatimuksen 1-8 mukaisen piioksidin valmistusmenetelmä, tunnettu siitä, että siinä lisätään saman-35 aikaisesti silikaattia ja happoa kolloidiseen piioksididis-persioon, jolloin saadaan piioksidisuspensio; lasketaan pH-arvoa, kunnes se sijoittuu alueelle 3-7; erotetaan piioksidi ja kuivataan se. li 93824
10. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att det omfattar ytterligare tillsats av elektrolyt tili den kolloi-da kiseloxiddispersionen. 15 11. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att elektrolyten är ett organiskt eller oorganiskt sait.
10 Patentkrav
10. Patenttivaatimuksen 9 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että siinä kolloidiseen piioksididispersioon lisätään lisäksi elektrolyyttiä.
11. Patenttivaatimuksen 9 mukainen menetelmä, tunnettu sii tä, että elektrolyytti on orgaaninen tai epäorgaaninen suola .
12. Förfarande enligt patentkrav li, kännetecknat av att elektrolyten är ett oorganiskt eller organiskt sait av en 20 alkalimetall, särskilt natrium- eller ammoniumsalt.
12. Patenttivaatimuksen 11 mukainen menetelmä, tunnettu 10 siitä, että elektrolyytti on jonkin alkalimetallin epäorgaaninen tai orgaaninen suola, erityisesti natrium- tai am-moniumsuola.
13. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att de tvä reagenserna tillsätts samtidigt, sä att pH hälls kon-stant mellan 8-10, företrädesvis inom omrädet 8,5-9,5. 25
13. Patenttivaatimuksen 9 mukainen menetelmä, tunnettu sii-15 tä, että molemmat reagenssit lisätään samanaikaisesti, niin että pH pysyy vakiona arvojen 8-10 välillä, edullisesti alueella 8,5-9,5.
14. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att temperaturen är 60-95°C.
14. Patenttivaatimuksen 9 mukainen menetelmä, tunnettu sii-20 tä, että lämpötila on 60-95°C.
15. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att en 30 kolloid kiseloxiddispersion, som innehäller 1-150 g/1 kiseloxid, framställs genom att upphetta en vattenlösning av ki- _ seloxid tili 60-95°C, och syra tillsätts nämnda vattenlös ning tills pH-värdet 8,0-10,0, företrädesvis jämnt 9,5, er-hälls. 35
15. Patenttivaatimuksen 9 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kolloidinen piioksididispersio, joka sisältää pii-oksidia 1-150 g/1, valmistetaan kuumentamalla piioksidin ve- 25 siliuos 60-95°C:een ja lisätään happoa sanottuun vesiliuok-.· seen, kunnes pH-arvoksi tulee 8,0-10,0, edullisesti tasan 9,5.
16. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att si-likatlösningens kiseloxidhalt varierar mellan 40-250 g per liter kolloid kiseloxiddispersion, särskilt 80-150 g/1. 93824
16. Patenttivaatimuksen 9 mukainen menetelmä, tunnettu sii-30 tä, että silikaattiliuoksen piioksidipitoisuus vaihtelee välillä 40-250 g per litraa kolloidista piioksididisper-v. siota, erityisesti 80-150 g/1.
17. Förfarande enligt patentkrav 10, kännetecknat av att elektrolythalten varierar mellan 0-50 g per liter dispersion. 5 18. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att den slutligen erhallna suspensionen innehäller 10-20 volympro-cent kolloid kiseloxiddispersion, särskilt ca 15 volym-%.
17. Patenttivaatimuksen 10 mukainen menetelmä, tunnettu 35 siitä, että elektrolyyttipitoisuus vaihtelee välillä 0-50 g per litraa dispersiota. 93824
18. Patenttivaatimuksen 9 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kolloidista piioksididispersiota on 10-20 tilavuusprosenttia lopullisesta saatavasta suspensiosta, erityisesti noin 15 tilavuus%. 5
19. Patenttivaatimuksen 9 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että erotuksen jälkeen suoritetaan pesu vedellä tai hap-poliuoksella.
19. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att ef-10 ter separering utförs tvätt med vatten eller syralösning. I!
FI903335A 1989-07-03 1990-07-02 Säädellysti huokoinen piioksidi ja sen valmistusmenetelmä FI93824C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8908874 1989-07-03
FR8908874A FR2649089B1 (fr) 1989-07-03 1989-07-03 Silice a porosite controlee et son procede d'obtention

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI903335A0 FI903335A0 (fi) 1990-07-02
FI93824B true FI93824B (fi) 1995-02-28
FI93824C FI93824C (fi) 1995-06-12

Family

ID=9383384

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI903335A FI93824C (fi) 1989-07-03 1990-07-02 Säädellysti huokoinen piioksidi ja sen valmistusmenetelmä

Country Status (17)

Country Link
US (2) US5342598A (fi)
EP (1) EP0407262B1 (fi)
JP (1) JPH0649571B2 (fi)
KR (1) KR930002230B1 (fi)
CN (1) CN1023106C (fi)
AT (1) ATE106065T1 (fi)
AU (1) AU633595B2 (fi)
BR (1) BR9003128A (fi)
CA (1) CA2020131C (fi)
DE (1) DE69009110T2 (fi)
DK (1) DK0407262T3 (fi)
ES (1) ES2057468T3 (fi)
FI (1) FI93824C (fi)
FR (1) FR2649089B1 (fi)
MA (1) MA21892A1 (fi)
NO (1) NO302165B1 (fi)
ZA (1) ZA905146B (fi)

Families Citing this family (76)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2632185B1 (fr) * 1988-06-01 1992-05-22 Rhone Poulenc Chimie Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec le zinc
FR2649089B1 (fr) * 1989-07-03 1991-12-13 Rhone Poulenc Chimie Silice a porosite controlee et son procede d'obtention
FR2678259B1 (fr) * 1991-06-26 1993-11-05 Rhone Poulenc Chimie Nouvelles silices precipitees sous forme de granules ou de poudres, procedes de synthese et utilisation au renforcement des elastomeres.
TR28393A (tr) * 1992-07-16 1996-05-29 Rhone Poulenc Chimie Silis cökeltisi hazirlamada yeni yöntem, yeni silis cökeltileri ve bunlarin elastomerlerin güclendirilmesinde kullanimi.
US5624652A (en) † 1992-10-28 1997-04-29 Crosfield Limited Silicas
DK0643015T3 (da) * 1993-08-07 1996-12-23 Degussa Fremgangsmåde til fremstilling af fældningskiselsyre
FR2710629B1 (fr) * 1993-09-29 1995-12-29 Rhone Poulenc Chimie Nouveau procédé de préparation de silice précipitée, nouvelles silices précipitées et leur utilisation au renforcement des élastomères.
FR2723581B1 (fr) * 1994-08-12 1996-11-08 Rhone Poulenc Chimie Nouveau procede de preparation de silice precipitee
US6169135B1 (en) 1993-09-29 2001-01-02 Rhone Poulenc Chimie Precipitated silica
FR2710630B1 (fr) * 1993-09-29 1995-12-29 Rhone Poulenc Chimie Nouvelles silices précipitées, leur procédé de préparation et leur utilisation au renforcement des élastomères.
CN1047149C (zh) * 1993-09-29 1999-12-08 罗纳·布朗克化学公司 沉淀硅石
US6001322A (en) * 1993-09-29 1999-12-14 Rhone-Poulenc Chimie Precipitated silicas
DE4427137B4 (de) * 1993-10-07 2007-08-23 Degussa Gmbh Fällungskieselsäure
US6977065B1 (en) * 1993-10-07 2005-12-20 Degussa Ag Precipitated silicas
FR2714369B1 (fr) * 1993-12-29 1996-01-26 Rhone Poulenc Chimie Silices abrasives pour compositions dentifrices.
FR2732331B1 (fr) * 1995-03-29 1997-06-20 Rhone Poulenc Chimie Nouveau procede de preparation de silice precipitee, nouvelles silices precipitees contenant du zinc et leur utilisation au renforcement des elastomeres
US5846506A (en) * 1994-10-07 1998-12-08 Degussa Aktiengesellschaft Precipitated silicas
FR2729671B1 (fr) * 1995-01-20 1997-04-18 Michelin & Cie Enveloppe de pneumatique a base de silice precipitee presentant une resistance au roulement amelioree
FR2732329B1 (fr) * 1995-03-29 1997-06-20 Rhone Poulenc Chimie Nouveau procede de preparation de silice precipitee, nouvelles silices precipitees contenant de l'aluminium et leur utilisation au renforcement des elastomeres
FR2732260B1 (fr) * 1995-04-03 1997-05-09 Rhone Poulenc Chimie Procede de projection de beton ou de mortier
FR2732327B1 (fr) * 1995-04-03 1997-05-09 Rhone Poulenc Chimie Suspension aqueuse de silice et de sulfate d'aluminium ou d'alun, procedes de preparation et utilisations de ladite suspension
US5911963A (en) * 1995-05-12 1999-06-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Amorphous precipitated silica having a low proportion of small pores
IN188702B (fi) * 1995-06-01 2002-10-26 Degussa
BR9609526A (pt) * 1995-06-30 1999-02-23 Crosfield Joseph & Sons Sílica amorfa processo para sua preparação e composições oral e de pasta de dentes
DE19526476A1 (de) * 1995-07-20 1997-01-23 Degussa Fällungskieselsäure
DE19527278A1 (de) * 1995-07-26 1997-01-30 Degussa Fällungskieselsäure
US5647903A (en) * 1995-10-03 1997-07-15 Mcgill; Patrick D. Microporous high structure precipitated silicas and methods
US5605569A (en) * 1995-11-08 1997-02-25 Ppg Industries, Inc. Precipitated silica having high sodium sulfate content
FR2750692B1 (fr) * 1996-07-05 1998-10-16 Rhone Poulenc Chimie Nouvelle silice abrasive, utilisable dans les dentifrices, son procede de preparation et compositions dentifrices la contenant
US5891949A (en) * 1997-05-02 1999-04-06 J.M. Huber Corporation Natural rubber compound
US5929156A (en) * 1997-05-02 1999-07-27 J.M. Huber Corporation Silica product for use in elastomers
AU1600899A (en) * 1997-12-08 1999-06-28 J.M. Huber Corporation Precipitated amorphous silicas having improved physical properties
DE19807700A1 (de) * 1998-02-24 1999-08-26 Degussa Fällungskieselsäuregranulate
JPH11236208A (ja) * 1998-02-25 1999-08-31 Nippon Silica Ind Co Ltd ゴム補強用含水ケイ酸
JP2001089128A (ja) * 1998-04-10 2001-04-03 Asahi Glass Co Ltd 球状シリカ粒子の製造方法
JP2000127615A (ja) * 1998-10-27 2000-05-09 Nippon Silica Ind Co Ltd カラーインクジェット用紙用充填剤
US6573032B1 (en) * 1999-04-22 2003-06-03 J. M. Huber Corporation Very high structure, highly absorptive hybrid silica and method for making same
JP4199885B2 (ja) * 1999-10-14 2008-12-24 東ソー・シリカ株式会社 インクジェット記録シート用非晶質シリカおよびその製造方法
US6579929B1 (en) 2000-01-19 2003-06-17 Bridgestone Corporation Stabilized silica and method of making and using the same
JP4235337B2 (ja) * 2000-03-02 2009-03-11 東ソー・シリカ株式会社 インクジェット記録シート用填料
JP3479773B2 (ja) 2000-08-22 2003-12-15 日本航空電子工業株式会社 フラットケーブル用コネクタ
DE10146325A1 (de) * 2001-09-20 2003-04-10 Degussa Fällungskieselsäure mit hohem BET/CTAB-Verhältnis
EP1577263A4 (en) 2002-07-10 2010-04-14 Tokuyama Corp BLOCK OF EASILY DISPOSABLE FLEECE SKINIC ACID AND ITS MANUFACTURING PROCESS
JP4846193B2 (ja) * 2002-07-10 2011-12-28 株式会社トクヤマ 易分散性沈降シリカケーク及びその製造方法
FR2843894B1 (fr) * 2002-08-30 2004-11-12 Rhodia Chimie Sa Compose forme de silice precipitee et de phosphate et son utilisation comme support de liquide a apport nutritionnel et comme agent antimottant a apport nutritionnel
MXPA05007589A (es) * 2003-01-22 2005-09-30 Degussa Silices precipitadas por un metodo.
US6946119B2 (en) * 2003-02-14 2005-09-20 J.M. Huber Corporation Precipitated silica product with low surface area, dentifrices containing same, and processes
WO2004073539A2 (en) 2003-02-14 2004-09-02 J. M. Huber Corporation Precipitated silica product, dentrifices containing same, and processes
FR2864063B1 (fr) * 2003-12-19 2006-04-07 Rhodia Chimie Sa Silice de haute structure a faible reprise en eau
DE102004005411A1 (de) * 2004-02-03 2005-08-18 Degussa Ag Hydrophobe Fällungskieselsäure für Entschäumerformulierungen
US7037476B1 (en) 2004-12-27 2006-05-02 Council Of Scientific And Industrial Research Process for preparing amorphous silica from kimberlite tailing
FR2886285B1 (fr) * 2005-05-27 2008-05-30 Rhodia Chimie Sa Procede de preparation de silice precipitee, silice precipitee et utilisations, notamment comme charge dans les matrices silicones
WO2007054955A1 (en) * 2005-11-10 2007-05-18 Council Of Scientific & Industrial Research A process for the preparation of sodium silicate from kimberlite tailings
FR2902781B1 (fr) 2006-06-27 2008-09-05 Rhodia Recherches Et Technologies Sas Silice precipitee pour application papier
MX2009005975A (es) 2006-12-06 2009-06-16 Saint Gobain Ceramics Material de hidrato de alumina tratado, y usos del mismo.
JP5242588B2 (ja) 2006-12-06 2013-07-24 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス，インコーポレイティド 処理されたアルミナ水和物材料およびその用途
US7438895B2 (en) * 2006-12-27 2008-10-21 J.M. Huber Corporation Precipitated silica materials exhibiting high compatibility with cetylpyridinium chloride
EP2155607B1 (en) * 2007-05-03 2015-07-08 Council Of Scientific & Industrial Research Process for the preparation of finely divided precipitated silica
PL2222793T3 (pl) 2007-11-19 2018-03-30 Grace Gmbh & Co. Kg Cząstki antykorozyjne
CN101939172B (zh) * 2007-12-04 2013-06-19 格雷斯公司 耐磨介质
WO2009075828A1 (en) * 2007-12-12 2009-06-18 Alltech Associates, Inc. Metal oxide particles and methods of making and using the same
JP5697600B2 (ja) * 2008-11-25 2015-04-08 ザ プロクター アンド ギャンブルカンパニー 溶融シリカを有する口腔抗菌ケア組成物
US8551457B2 (en) 2008-11-25 2013-10-08 The Procter & Gamble Company Oral care compositions comprising spherical fused silica
AR074508A1 (es) * 2008-12-08 2011-01-19 Grace Gmbh & Co Kg Particulas anticorrosivas
US8114935B2 (en) * 2009-05-04 2012-02-14 Ppg Industries Ohio, Inc. Microporous precipitated silica
MX2011013371A (es) * 2009-07-03 2012-02-21 Evonik Degussa Gmbh Silice hidrofilica como rellenador para formulaciones de caucho de silicona.
WO2011150004A2 (en) 2010-05-25 2011-12-01 The Procter & Gamble Company Oral care compositions and methods of making oral care compositions comprising silica from plant materials
FR2962996B1 (fr) * 2010-07-23 2012-07-27 Rhodia Operations Nouveau procede de preparation de silices precipitees
US20130034653A1 (en) * 2011-08-01 2013-02-07 Intermolecular, Inc. Antireflective silica coatings based on sol-gel technique with controllable pore size, density, and distribution by manipulation of inter-particle interactions using pre-functionalized particles and additives
US9073041B2 (en) * 2011-11-04 2015-07-07 Ppg Industries Ohio, Inc. Precipitated silica sorbents and method of separating materials from a fluid stream
RU2608129C2 (ru) 2012-11-05 2017-01-13 Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани Термически обработанная осажденная двуокись кремния
JP2017518419A (ja) * 2014-06-03 2017-07-06 シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイＳｈｅｌｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｍａａｔｓｃｈａｐｐｉｊ Ｂｅｓｌｏｔｅｎ Ｖｅｎｎｏｏｔｓｈａｐ 脱泡剤およびその使用方法
JP7069604B2 (ja) * 2017-08-28 2022-05-18 味の素株式会社 沈降シリカの製造法
CN108439414A (zh) * 2018-02-11 2018-08-24 确成硅化学股份有限公司 一种pH值摆动法制备高分散大孔容沉淀二氧化硅的方法
CN109626384A (zh) * 2018-12-27 2019-04-16 通化双龙硅材料科技有限公司 一种牙膏用沉淀二氧化硅摩擦剂的制备方法
WO2021069256A1 (en) * 2019-10-07 2021-04-15 Rhodia Operations Silica for oral care compositions

Family Cites Families (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB710015A (en) * 1950-12-02 1954-06-02 Degussa An improved process for the production of finely divided silica
US2731326A (en) * 1951-08-31 1956-01-17 Du Pont Process of preparing dense amorphous silica aggregates and product
GB719918A (en) * 1951-12-11 1954-12-08 Wyandotte Chemicals Corp Production of pigment grade silica
US3070426A (en) * 1959-08-11 1962-12-25 Grace W R & Co Process for preparing low surface area silica
FR1327033A (fr) * 1960-12-24 1963-05-17 Chemische Fabrik Hoesch Kg Procédé pour l'obtention de produits d'addition très actifs d'oxydes métalliquesà la silice
DE1807714C2 (de) * 1968-11-08 1971-01-04 Degussa Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen Vorverdichten sowie gleichzeitigen Formen von feinteiligen Stoffen
US3963512A (en) * 1971-02-10 1976-06-15 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organization Modification of mineral surfaces
US3794712A (en) * 1971-10-26 1974-02-26 Nat Petro Chem Preparation of silica gels
US3800031A (en) * 1972-04-06 1974-03-26 Grace W R & Co Process for preparing silica hydrogel
US3803046A (en) * 1972-06-28 1974-04-09 Grace W R & Co Process for preparing silica organogel
US3893840A (en) * 1972-09-06 1975-07-08 Huber Corp J M Amorphous precipitated siliceous pigments and methods for their production
US3928541A (en) * 1972-09-05 1975-12-23 Huber Corp J M Amorphous precipitated siliceous pigments for cosmetic or dentrifrice use and methods for their production
US3988162A (en) * 1972-09-06 1976-10-26 J. M. Huber Corporation Amorphous precipitated silica products and method for their production
CA996307A (en) * 1972-09-06 1976-09-07 Satish K. Wason Amorphous precipitated siliceous pigments and methods for their production
US4216113A (en) * 1973-01-18 1980-08-05 W. R. Grace & Co. Process for preparing thickening grade of silica and process of using same
US3954944A (en) * 1973-03-08 1976-05-04 Joseph Crosfield & Sons, Ltd. Fine silicas
US4049781A (en) * 1973-11-02 1977-09-20 W. R. Grace & Co. Method of preparing loosely aggregated 200-500 millimicron silica
US4191742A (en) * 1974-05-22 1980-03-04 J. M. Huber Corporation Amorphous precipitated siliceous pigments and methods for their production
US4144321A (en) * 1974-10-31 1979-03-13 J. M. Huber Corporation Amorphous precipitated siliceous pigments and methods for their production
US4040858A (en) * 1974-10-31 1977-08-09 J. M. Huber Corporation Preparation of precipitated silicas having controlled refractive index
US4015996A (en) * 1974-10-31 1977-04-05 J. M. Huber Corporation Amorphous precipitated siliceous pigments
US4422880A (en) * 1975-03-12 1983-12-27 J. M. Huber Corporation Precipitated siliceous products
DE2544218A1 (de) * 1975-10-03 1977-04-21 Basf Ag Verfahren zur herstellung von zinkoxidhaltigen fuellstoffen
FR2353486A1 (fr) * 1976-06-04 1977-12-30 Rhone Poulenc Ind Nouvelle silice de synthese amorphe, procede pour son obtention et application de ladite silice dans les vulcanisats
GB1580672A (en) * 1977-03-23 1980-12-03 Mittex Anstalt Manufacture of silica gel
US4331706A (en) * 1977-12-12 1982-05-25 The Sherwin-Williams Company Composite zinc oxide coating on an inert pigment core product and process
US4272509A (en) * 1978-09-19 1981-06-09 J. M. Huber Corporation Precipitated silicon dioxide cleaning agent and dentifrice composition
FR2444700A1 (fr) * 1978-12-20 1980-07-18 Rhone Poulenc Ind Nouvel agent recurant non abrasif et composition lessivielle le renfermant
US4340583A (en) * 1979-05-23 1982-07-20 J. M. Huber Corporation High fluoride compatibility dentifrice abrasives and compositions
DE2929906C3 (de) * 1979-07-24 1982-01-21 Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH, 8000 München Rotor für einen Hubschrauber mit zumindest einem Paar einander gegenüberliegender Rotorblätter
US4274766A (en) * 1979-11-28 1981-06-23 The Valeron Corporation Cutter assembly for broaching
FR2471947A1 (fr) * 1979-12-20 1981-06-26 Rhone Poulenc Ind Silice de precipitation, notamment utilisable comme charge renforcante
ZA815196B (en) * 1980-08-09 1983-03-30 British Petroleum Co Corrosion inhibitors,methods of producing them and protective coatings containing them
US4508607A (en) * 1982-10-18 1985-04-02 W. R. Grace & Co. Particulate dialytic silica
JPS60105609A (ja) * 1983-03-04 1985-06-11 Taki Chem Co Ltd 歯磨用シリカ基剤及びその製造方法
JPS59163306A (ja) * 1983-03-08 1984-09-14 Taki Chem Co Ltd 歯磨用シリカ基剤及びその製法
JPS6046915A (ja) * 1983-08-24 1985-03-14 Taki Chem Co Ltd 合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩及びその製造方法
JPS60204613A (ja) * 1984-03-30 1985-10-16 Nippon Sheet Glass Co Ltd 高純度シリカゲルの製造方法
FR2562534B1 (fr) * 1984-04-06 1986-06-27 Rhone Poulenc Chim Base Nouvelle silice precipitee a caracteres morphologiques ameliores, procede pour son obtention et application, notamment comme charge
FR2567505B1 (fr) * 1984-07-11 1986-11-21 Rhone Poulenc Chim Base Silice a prise d'huile elevee et a structure primaire controlee et procede pour son obtention
US4562066A (en) * 1984-12-11 1985-12-31 Colgate-Palmolive Company Astringent dentifrice containing monofluorophosphate
US4562065A (en) * 1984-12-11 1985-12-31 Colgate-Palmolive Company Astringent dentifrice
DE3525802A1 (de) * 1985-07-19 1987-01-22 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von modifizierten faellungskieselsaeuren
JPS6256319A (ja) * 1985-09-03 1987-03-12 Nippon Chem Ind Co Ltd:The 高純度シリカの製造法
JPH0643246B2 (ja) * 1985-10-08 1994-06-08 川鉄鉱業株式会社 シリカの高純度化方法
GB8604985D0 (en) * 1986-02-28 1986-04-09 Unilever Plc Precipitated silicas
DE3639844A1 (de) * 1986-11-21 1988-06-01 Degussa Zahnpflegemittel
US4973462A (en) * 1987-05-25 1990-11-27 Kawatetsu Mining Company, Ltd. Process for producing high purity silica
US5614177A (en) * 1987-11-04 1997-03-25 Rhone-Poulenc Chimie Dentifrice-compatible silica particulates
US5286478A (en) * 1987-11-04 1994-02-15 Rhone-Poulenc Chimie Dentifrice-compatible silica particulates
FR2649089B1 (fr) * 1989-07-03 1991-12-13 Rhone Poulenc Chimie Silice a porosite controlee et son procede d'obtention

Also Published As

Publication number Publication date
NO902953L (no) 1991-01-04
FI93824C (fi) 1995-06-12
FR2649089B1 (fr) 1991-12-13
ATE106065T1 (de) 1994-06-15
KR930002230B1 (ko) 1993-03-27
DE69009110D1 (de) 1994-06-30
ES2057468T3 (es) 1994-10-16
JPH0649571B2 (ja) 1994-06-29
DE69009110T2 (de) 1994-09-01
BR9003128A (pt) 1991-08-27
MA21892A1 (fr) 1990-12-31
CN1048530A (zh) 1991-01-16
DK0407262T3 (da) 1994-07-04
NO902953D0 (no) 1990-07-02
NO302165B1 (no) 1998-02-02
CA2020131C (fr) 1999-07-06
CN1023106C (zh) 1993-12-15
US5342598A (en) 1994-08-30
JPH0345511A (ja) 1991-02-27
EP0407262B1 (fr) 1994-05-25
KR910002714A (ko) 1991-02-26
ZA905146B (en) 1991-04-24
EP0407262A1 (fr) 1991-01-09
FI903335A0 (fi) 1990-07-02
CA2020131A1 (fr) 1991-01-04
FR2649089A1 (fr) 1991-01-04
US5968470A (en) 1999-10-19
AU5806590A (en) 1991-01-03
AU633595B2 (en) 1993-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI93824B (fi) Säädellysti huokoinen piioksidi ja sen valmistusmenetelmä
JP4463474B2 (ja) アルミニウムを含有する沈降シリカの製造法
KR100609658B1 (ko) 제어된 입자 크기 분포를 갖는 익스팬디드 펄라이트 제품
RU2087417C1 (ru) Осажденный диоксид кремния (варианты) и способ его получения
KR20080111032A (ko) 코어 쉘형 실리카 및 그 제조 방법
JPS61117113A (ja) 高い吸油性能と制御された一次構造とを有するシリカ及びその製造方法
KR100551602B1 (ko) 중공 내부에 금속 나노입자를 포함하는 ｈｃｍｓ 캡슐구조체 및 그의 제조방법
CN1391531A (zh) 引入纳米尺寸粒子的中等结构材料
CN1431970A (zh) 来自苛性生物质灰分溶液的有或没有沉积碳的沉淀二氧化硅和硅胶以及制法
CN108557828A (zh) 一种弹性漆专用消光粉的制备方法
TW387859B (en) Amorphous precipitated silica
KR950006634B1 (ko) 실리카, 그의 제조방법 및 특히 종이용 충진제로서의 용도
JP2002326809A (ja) 少なくとも二つの珪酸フラクシヨンを含有する珪酸
EP0902758B1 (en) Amorphous precipitated silica
CN109437211B (zh) 一种高比表面积与高吸附voc型二氧化硅及其制备方法
JPH10324517A (ja) 破砕法によるシリカゲル粒子、その製法及びその用途
JP2007204293A (ja) 多孔質粒子およびその製造方法
CN103121856A (zh) 一种介孔氧化硅薄膜材料的制备方法
WO2004067646A1 (en) Composite pigment composition containing silica
GUAN et al. Morphology‐controlled Synthesis of SiO2 Hierarchical Structures Using Pollen Grains as Templates
CN105366683A (zh) 一种介孔二氧化硅微球的制备方法
CN115385347B (zh) 一种可调节孔径的沉淀型二氧化硅及其制备方法和应用
JP5057021B2 (ja) 球状シリカ系メソ多孔体及びその製造方法、並びにそれを用いた塩基性色素吸着材
RU2235684C2 (ru) Способ получения мелкодисперсного высокопористого диоксида кремния
CN117966513A (zh) 一种活性炭深层过滤纸板及制备方法和应用其的脱色工艺

Legal Events

Date Code Title Description
BB Publication of examined application
FG Patent granted

Owner name: RHONE-POULENC CHIMIE

MA Patent expired