FI73246B - Vaetealstrande elektrod och foerfarande foer dess framstaellning. - Google Patents
Vaetealstrande elektrod och foerfarande foer dess framstaellning. Download PDFInfo
- Publication number
- FI73246B FI73246B FI834109A FI834109A FI73246B FI 73246 B FI73246 B FI 73246B FI 834109 A FI834109 A FI 834109A FI 834109 A FI834109 A FI 834109A FI 73246 B FI73246 B FI 73246B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- electrode
- coating
- nickel
- oxide
- chromium
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 199
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 189
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 185
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 claims description 99
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 91
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 91
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 79
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 78
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 78
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 74
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 63
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 63
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 59
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical group [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 45
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 39
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 claims description 35
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 34
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000000306 component Substances 0.000 description 68
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 52
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 48
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 48
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 33
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 31
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 31
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 29
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 21
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 21
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 20
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 19
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 14
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 12
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- -1 or iron-bonded Chemical compound 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002421 anti-septic effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 3
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 3
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012255 powdered metal Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 3
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000756 V alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000963 austenitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K chromium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Cr+3] VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 2
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 238000010285 flame spraying Methods 0.000 description 2
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 2
- XVOFZWCCFLVFRR-UHFFFAOYSA-N oxochromium Chemical compound [Cr]=O XVOFZWCCFLVFRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229920003934 Aciplex® Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 235000010643 Leucaena leucocephala Nutrition 0.000 description 1
- 240000007472 Leucaena leucocephala Species 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAYFQAPISKPSSI-UHFFFAOYSA-N [N].C#C Chemical compound [N].C#C AAYFQAPISKPSSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000008055 alkyl aryl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N ammonium oxalate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C([O-])=O VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004599 antimicrobial Substances 0.000 description 1
- NGPGDYLVALNKEG-UHFFFAOYSA-N azanium;azane;2,3,4-trihydroxy-4-oxobutanoate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O NGPGDYLVALNKEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N chromium trinitrate Chemical class [Cr+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFCLHDBKGQITG-UHFFFAOYSA-N chromium(3+) nickel(2+) oxygen(2-) Chemical compound [Ni+2].[O-2].[Cr+3] OLFCLHDBKGQITG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBFMILMLANTYEU-UHFFFAOYSA-H chromium(3+);oxalate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O UBFMILMLANTYEU-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Cr+3].[Cr+3] UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASKVAEGIVYSGNY-UHFFFAOYSA-L cobalt(ii) hydroxide Chemical class [OH-].[OH-].[Co+2] ASKVAEGIVYSGNY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000009837 dry grinding Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000007603 infrared drying Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010446 mirabilite Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000012254 powdered material Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 description 1
- FZAALEMZYXVKJJ-UHFFFAOYSA-J sodium chromium(3+) dicarbonate Chemical compound [Na+].[Cr+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O FZAALEMZYXVKJJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PFUVRDFDKPNGAV-UHFFFAOYSA-N sodium peroxide Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][O-] PFUVRDFDKPNGAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfate decahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N triammonium citrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical class OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
73246
Vetyä kehittävä elektrodi ja menetelmä sen valmistamiseksi - Vätealstrande elektrod och förfarande för dess framställning
Keksintö kohdistuu vedynkehityselektrodiin, jolla ei 5 ole ainoastaan alhainen vedyn ylijännite ja hyvä stabiilisuus, vaan myös alhainen hinta, sekä menetelmään sen valmistamiseksi. Tarkemmin ilmaistuna keksintö koskee vedynkehityselektro-dia ja sen valmistusmenetelmää, joka elektrodi koostuu sähköä johtavasta substraatista, jolla on päällystekerros, joka si-10 sältää kromikomponenttia ja vähintään yhden metallin, joka on nikkeli tai koboltti, oksidia, jolloin kromipitoisuus päällys-tekerroksessa on 0,5-20 % myöhemmin määriteltävinä atomiosuuk-sina ilmaistuna.
Energiakustannusten voimakkaan kohoamisen vuoksi on vii-15 me aikoina tullut hyvin tärkeäksi yhä enemmän vähentää liiallista energian kulutusta alentamalla teollisessa elektrolyysissä käytetyn vedynkehityselektrodin vedyn ylijännitettä. Tässä tarkoituksessa on tehty useita tutkimuksia ja kehitelmiä. Vedynkehityselektrodin vedyn ylijännitteen alentamiseksi 20 on esimerkiksi yritetty lisätä elektrodin pinta-alaa tai tuoda elektrodiin elektrodikatalyyttiä esimerkiksi sähköisellä tai kemiallisella päällystysmenetelmällä tai levittämällä elektrodille päällystysliuosta, jonka jälkeen seuraa kuumennus ja sularuiskutus. Lisäksi on menetelmänä lisätä elektrodin 25 pinta-alaa tai tuoda elektrodiin elektrodikatalyyttiä ehdotettu poistettavaa metallikomponenttia sisältävän jauhemateriaa-lin ruiskuttamista substraatille, josta poistettava metalli-komponentti uutetaan, tai päällystysliuoksen lisäämistä substraatille, jota sueraa kuumennus pelkistävissä olosuhteissa ja 30 vastaavaa. Vedyn ylijännitettä alentavaksi elektrodikatalyy-tiksi on ehdotettu siirtymämetalleja, kuten kobolttia, molybdeenia, vanadiinia, mangaania ja wolfrämiä, jalometalleja, kuten platinaa, hopeaa, ruteniumia ja iridiumia tai näiden seosta, tai jotakin edellä mainittua metallia yhdessä poistettavan 35 metallikomponentin kanssa. Tähän mennessä ehdotettuihin elekt- 2 73246 rodeihin kuuluvat sellaiset, joissa aktiivisena materiaalina käytetään metallia, lejeerinkiä tai näiden seosta sekä sellaiset, joissa aktiivisena materiaalina käytetään metalliok-sidia tai tällaisten seosta.
5 Esimerkkeinä elektrodeista, joissa aktiivisena materiaa lina käytetään metallia, lejeerinkiä tai näiden seosta voidaan mainita kuparisubstraatista ja sen pinnalle saostamalla päällystetystä nikkeli-, vanadiini- ja molybdeenilejeeringis-tä koostuva elektrodi (US-patenttijulkaisu 4 033 837); elekt-10 rodi, jossa on sähköisesti saostamalla muodostettu koboltti-, molybdeeni- ja vanadiinilejeerinkiä oleva päällyste (JP-pa-tenttihakemus 33490/1981); mangaania ja rikkiä sisältävällä ohuella nikkelikerroksella päällystetty elektrodi (JP-hakemus-julkaisu 6715/1980); elektrodi, joka sisältää metallin, joka 15 on nikkeli tai koboltti, lejeerinkiä sekä metallia, joka on titaani tai magnesium (JP-hakemusjulkaisu 44955/1981); elektrodi, joka on valmistettu lisäämällä substraatille homogeenista liuosta, joka sisältää metallia ensimmäisestä ryhmästä, jonka muodostavat rauta, koboltti, nikkeli tai mangaani ja 20 metallia toisesta ryhmästä, jonka muodostavat molybdeeni, vanadiini tai wolframi, jota seuraa poltto oksidien seoksesta muodostuvan päällysteen saamiseksi, jota sitten kuumennetaan pelkistävissä olosuhteissa sen kovettamiseksi (EP-hakemusjulkaisu 9406); elektrodi, joka on valmistettu lisäämällä subst-25 raatille sularuiskuttamalla rautalejeeringin tai pääasiallisesti raudasta koostuvan metallikomponentin ja emäsliukoisen poistettavan metallin seosta ja uuttamalla poistettava metalli emäksellä (JP-patenttihakemus 115984/1980); elektrodi, joka on valmistettu lisäämällä substraatille sularuiskuttamalla 30 poistettavaa metallia sisältävää Raney-tyyppistä lejeerinkiä päällysteen muodostamiseksi, jonka jälkeen poistettava metalli uutetaan emäskäsittelyllä ja anodisella polarisoinnilla ja päällystämällä tämän jälkeen sen pinta metallilla, jolla on alhainen vedyn ylijännite (JP-patenttihakemus 122887/1980); 35 elektrodi, joka on valmistettu lisäämällä substraatille sula- ti 3 73246 ruiskutuksen mahdollistavan vesiliukoisen yhdisteen seosta päällysteen muodostamiseksi ja poistamalla yhdiste huokoisen nikkelipäällysteen muodostamiseksi (JP-hakemusjulkaisu 188689/ 1982); elektrodi, jonka pinnalla on päällyste, joka on muo-5 dostettu sularuiskuttamalla alhaisen vedyn ylijännitteen omaavaa jauhetta, joka on kobolttia, nikkeliä, platinaa, molybdeeniä, wolframia, mangaania, rautaa, tantaalia tai niobiumia, näiden karbidia, nitridiä, aluminidiä tai lejeerinkiä, tai näiden seosta (US-patenttijulkaisu 4 049 841); elektrodi, jo-10 ka on valmistettu lisäämällä substraatille sularuiskuttamalla päällysteen muodostamiseksi hienojakoista nikkeliä, hienojakoista kobolttia ja hienojakoista alumiinia sisältävää seosta ja poistamalla alumiini sularuiskutetusta päällysteestä uuttamalla (US-patenttijulkaisu 4 024 044).
15 Edellä mainituilla elektrodeilla, joissa aktiivisena ma teriaalina käytetään metallia, lejeerinkiä tai näiden seosta, on suurena haittana se, että käytettäessä niitä vedynkehitys-elektrodeina jatkuvassa elektrolyysissä, lisääntyy ajan myötä elektrodin vedyn ylijännite ja elektrodin aktiivisuus loppuu. 20 Mainitun tyyppisen elektrodin toisena haittana on se, että elektrolysoitaessa natriumkloridiliuosta ioninvaihtokalvoja ja mainittuja elektrodeja käyttäen, liukenee elektrodin roetal-likomponentti korrodoitumalla tai elektrodi passivoituu hapettumalla, joka johtuu vastakkaissuuntaisesta virrasta, jota 25 esiintyy elektrolyysin keskeyttämisen aikana, joista syistä elektrodi on lyhytikäinen.
Sellaisiin elektrodeihin, joissa aktiivinen materiaali on metallityyppinen, liittyvien yllä mainittujen haittojen eliminoimiseksi on ehdotettu elektrodeja, joissa aktiivisena 30 materiaalina käytetään metallioksidia, sekaoksideja tai metal-lioksidien seoksia. Esimerkkeinä mainitun tyyppisistä elektrodeista voidaan mainita vedyn elektrolyyttiseen kehittämiseen käytettävä elektrodi, jonka pinta oleellisesti muodostuu spi-nelli-tyyppisestä sekaoksidista, jolloin sekaoksidilla on kaa-35 va (Mjj)(Mj)2Ο4, jossa (M.^) on rauta, sinkki, mangaani, 4 73246 nikkeli, koboltti, magnesium, kadmium tai kupari ja on rauta, kromi, mangaani, nikkeli tai koboltti, ja jossa Mjjin ja Mjjjin suhteet summaan ovat atomiosuuksina ilmaistuina noin 33 % ja vastaavasti 67 % (US-patenttijulkai-5 su 4 243 497); ja elektrodi, joka koostuu nikkelillä, koboltilla tai raudalla sidotusta, titaania sisältävästi ei-stö-kiömetrisestä yhdisteestä, joka edelleen sisältää yhdisteen, jolla on kaavan ΑχΤΐ^Οζ (A on alkalimetalli) (US-patenttijulkaisu 4 080 278). Sellaisilla elektrodeilla, joissa aktiivi-10 sena materiaalina käytetään sekaoksidia, ei kuitenkaan voi olla riittävän alhaista vedyn ylijännitettä. EP-hakemusjulkaisussa 23368 kuvataan elektrodia, joka sisältää metalliok-sidia, joka on valmistettu hajottamalla termisesti lämmön vaikutuksesta hajoavaa koboltti-, rauta-, mangaani- tai nikkeli-15 yhdistettä. Tällaisella elektrodilla ei voi olla riittävän alhaista vedyn ylijännitettä, tai mainitun elektrodin metalliok-sidi pelkistyy melko nopeasti metalliksi vetyä kehittävällä reaktiolla. Näin pelkistettyä metallioksidia sisältävällä elektrodilla, samoin kuin elektrodilla, jossa aktiivinen ma-20 teriaali on metalli tai vastaava, on haittana, että vedyn yli-jännite kasvaa jonkin ajan kuluttua elektrolyysissä, johon liittyy vedynkehitysreaktio ja että elektrodin aktiivisuus katoaa vastakkaissuuntaisen virran aiheuttaman metallikompo-nentin liukenemisen johdosta.
25 Edelleen on esitetty elektrodi, jonka pinnalla on pääl lyste sularuiskutettua seosta, joka koostuu oleellisesti hienojakoisesta koboltista ja hienojakoisesta zirkoniumoksidista (US-patenttijulkaisu 3 992 278). Vaikka tässä elektrodissa on metallin ja metallioksidin yhdistelmästä koostuva päällyste, 30 ei silläkään ole riittävän alhaista vedyn ylijännitettä eikä se siitä syystä sovellu käytettäväksi vedynkehityselektrodina. Edelleen on edellä mainitun elektrodin vedynkehitysjännite elektrolyysin aikana vähemmän jalo kuin rautaionien sähkösaos-tumisjännite, joita ioneja on vähäisissä määrin liuenneina 35 elektrolyytissä. Tästä johtuen saostuvat rautaionit sähköi- il 5 73246 sesti elektrodille, jolloin mainitun tyyppisen elektrodin päällysteen teho katoaa lyhyessä ajassa.
Teollisesti käyttökelpoiselta vedynkehtiyselektrodilta vaaditaan riittävän alhaisen vedyn ylijännitteen lisäksi si-5 tä, että elektrodin aktiivisuus voidaan säilyttää riittävän kauan ja että elektrodin hinta on alhainen siitä saatavaan hyötyyn verrattuna. Kuten edellä mainittiin, ei tähän mennessä ole kuitenkaan tuotettu elektrodia, joka täyttää edellä mainitut vaatimukset, erityisesti elektrodin iälle asetetta-10 van vaatimuksen.
Tarkoituksena kehittää käytännöllinen ja taloudellinen vedynkehityselektrodi, jolla on alhainen vedyn ylijännite ja joka on myös kestävä, ovat tämän keksinnön tekijät suorittaneet laajoja ja intensiivisiä tutkimuksia. Ensin huomio koh-15 distui sellaisiin metallioksideihin, jotka muodostavat aktiivisia kohtia vedynkehtiyselektrodiin. Esimerkkeinä metalliok-sideista, jotka muodostavat elektrodiin aktiivisia kohtia, voidaan mainita mm. rauta-, koboltti-, nikkeli-, mangaani-, kromi-, molybdeeni-, wolframi-, vanadiini-, viobium-, tantaa-20 li-, titaani-, zirkonium-, kupari-, hopea-, kulta-, sinkki-, kadmium-, alumiini-, gallium-, tina-, rutenium-, rodium-, palladium-, osmium-, iridium- ja platinaoksidit. Näistä ovat nikkelin ja koboltin oksidit edullisia tarkasteltaessa suurta katalyyttistä aktiivisuutta, stabiilisuutta elektrolyytissä se-25 kä saatavuutta teollisena materiaalina. Toisin sanoen vedynkehityselektrodi, jolla on nikkelioksidista ja/tai kobolttioksidista koostuva päällyste on edullinen ottaen huomioon korkean katalyyttisen aktiivisuuden, stabiilisuuden elektrolyytissä ja saatavuuden. Käytettäessä sellaista elektrodia jatkuvasti 30 yli vuoden ajan elektrolyysissä, johon liittyy vedynkehitys-reaktio, pyrkii elektrodin aktiivisuus kuitenkin alenemaan. Aktiivisuuden alentumisen syyn selvittämiseksi ovat tämän keksinnön tekijät tutkineet tällaisen elektrodin aktiivisuuden alentumista. Tällöin on havaittu, että päällysteen hapettumis-35 aste (jota selostetaan myöhemmin) on huomattavasti alentunut pitkän elektrolyysijakson jälkeen. Edelleen on havaittu, että elektrodipäällysteen hapettumisasteen ollessa alle 30 %, pyr- 6 73246 kii elektrodin synnyttämä vedyn ylijännite huomattavasti kasvamaan ajan myötä. Tämän keksinnön tekijät ovat edelleen tehneet laajoja ja intensiivisiä tutkimuksia elektrodipäällysteen hapettumisasteen alentamisen ehkäisemiseksi. Tällöin on havait-5 tu, että vietäessä aktiivisia kohtia muodostamaan pystyvää oksidia sisältävään elektrodipäällysteeseen kromia, vanadiinia, titaania, mangaania, biobiumia tai näiden yhdisteitä, voidaan päällysteessä olevan oksidin pelkistyminen estää eli päällysteen hapettumisasteen alentuminen voidaan estää. Kek-10 sinnön tekijät ovat edelleen suorittaneet tutkimuksen yllä mainittujen materiaalien vaikutuksesta elektrodin aktiivisuuteen ja kemialliseen ja sähkökemialliseen stabiilisuuteen. Tuloksena on havaittu, että kromi ja titaani sekä näiden yhdisteet ovat edullisia ja että näistä ovat edullisimpia kromi 15 ja sen yhdisteet. Kromi ja sen yhdisteet ovat erinomaisia elektrodin aktiivisuuden alenemisen estäjiä verrattuina titaaniin ja sen yhdisteisiin.
Edellä esitettyihin havaintoihin perustuen ovat tämän keksinnön tekijät edelleen tehneet intensiivistä tutkimustyö-20 tä päämääränä kehittää vedynkehityselektrodi, jolla on alhaisen vedyn ylijännitteen lisäksi hyvä kestävyys. Tuloksena on havaittu, että elektrodipäällysteen sisältäessä vähintään yhden metallin, joka on nikkeli tai koboltti, oksidia ja lisäksi kromikomponenttia (joka määritellään myöhemmin) 0,5-20 %:n 25 atomiosuuksina ilmaistuna, on elektrodilla äärimmäisen alhainen vedyn ylijännite sekä hyvä kestävyys.
Tämä keksintö perustuu edellä esitettyihin uusiin havaintoihin .
Keksinnön kohteena on siis vedynkehityselektrodi, jolla 30 on alhainen vedyn ylijännite sekä hyvä kestävyys.
Keksinnön toisena kohteena on menetelmä edellä kuvatun elektrodin valmistamiseksi, joka menetelmä voidaan toteuttaa helposti ja suurella saannolla.
Keksinnön edellä esitetyt ja muut kohteet, yksityiskoh-35 dat ja edut ovat ilmeisiä alan asiantuntijoille seuraavan yksityiskohtaisen selostuksen perusteella, johon liittyvissä kuvioissa 7 73246 kuvio 1-(1) on käyrä, joka osoittaa kromikomponenttipi-toisuuden, vedyn ylijännitteen ja hapettumisasteen riippuvuuden toisistaan nikkelioksidi/kromi-tyyppisessä päällystetyssä elektrodissa elektrolyysin alkuvaiheessa; 5 kuvio 1-(2) on käyrä, joka osoittaa kromikomponenttipi- toisuuden, vedyn ylijännitteen ja hapettumisasteen riippuvuuden toisistaan nikkelioksidi/kromi-tyyppisessä päällystetyssä elektrodissa elektrolyysin jatkuttua 10 kuukauden ajan; kuvio 2 esittää nikkelioksidi/kromi-tyyppisen päällys-10 teen, jonka kromikomponenttipitoisuus atomiosuuksina ilmaistuna on 9,0 % ja hapettumisaste 86 %, röntgendiffraktiokuvion (skaala: noin kolmannes täysimittaisesta), joka saatiin rönt-gensädediffraktometriällä seuraavissa olosuhteissa:
Kohde : Co 15 kV-mA : 30-10
Suodatin : Fe 3 Täysi skaala : 4x10 c/s
Aikavakio : 2 sek.
Pyyhkäisynopeus : 4°/min 20 Karttanopeus : 40 mm/min
Solaarinen rako : 0,3°
Divergenssirako : 1°
Vastaanottorako : 0,3 mm
Detektori : tuikelaskija; 25 kuvio 3 esittää nikkelioksidi/kromi-tyyppisen päällys teen, jonka kromikomponenttipitoisuus atomiosuuksina ilmaistuna on 20 % ja hapettumisaste 89 %, röntgendiffraktiokuvion (skaala: noin kolmannes täysimittaisesta), joka saatiin rönt-gensädediffraktometrialla seuraavissa olosuhteissa: 30 Kohde : Co kV-mA : 30-10
Suodatin : Fe 3 Täysi skaala : 2x10 c/s
Aikavakio : 2 sek.
35 Pyyhkäisynopeus : 4°/min
Karttanopeus : 40 mm/min
Solaarinen rako : 0,3° 73246
Divergenssirako : 1°
Vastaanottorako : 0,3 mm
Detektori : tuikelaskija; kuvio 4 esittää nikkelioksidi/kromi-tyyppisen päällys-5 teen, jonka kromikomponenttipitoisuus atomiosuuksina ilmaistuna on 33 % ja hapettumisaste 91 %, röntgendiffraktiokuvion (skaala: noin kolmannes täysimittaisesta), joka saatiin rönt-gensädediffraktometrialla seuraavissa olosuhteissa:
Kohde : Co 10 kV-mA : 30-10
Suodatin : Fe 3 Täysi skaala : 2 x 10 c/s
Aikavakio : 2 sek.
Pyyhkäisynopeus : 4°/min 15 Karttanopeus : 40 nun/min
Solaarinen rako : 0,3°
Divergenssirako : 1°
Vastaanottorako : 0,3 mm
Detektori : tuikelaskija.
20 Keksinnön yhtenä kohteena on vedynkehityselektrodi, jo ka käsittää sähköä johtavan substraatin, jolla on päällyste, joka sisältää kromikomponenttia ja nikkeli- ja/tai koboltti-oksidia, jolloin kromipitoisuus päällysteessä on 0,5-20 % ilmaistuna atomiosuuksina, jotka määritetään kaavalla ACr -- x 100 (I)
AT
25 jossa ACr esittää kromiatomien lukumäärää päällysteessä ja A^ kromiatomien ja mainitun metallin atomien yhteislukumäärää päällysteessä.
Keksinnön mukaan voi päällyste koostua kromikomponentis-ta ja nikkeli- ja/tai kobolttioksidista tai kromikomponentis-30 ta, nikkeli- ja/tai kobolttioksidista ja nikkelistä ja/tai koboltista. Erityisen edullinen on kromikomponenttia, nikkeliä ja nikkelioksidia sisältävä päällyste.
Tässä yhteydessä käytetty ilmaisu "kromikomponentti" tarkoittaa itse kromia ja/tai kromista ja siihen liittyneistä 9 73246 atomeista koostuvaa ainesta, joka viedään päällysteeseen su-laruiskuttamalla seosta, joka sisältää ainakin yhden jäsenen ryhmästä, johon kuuluvat nikkeli, koboltti, nikkeli- ja kobolttioksidit, nikkeli- ja kobolttihydroksidit, nikkelin ja 5 koboltin suolat orgaanisten ja epäorgaanisten happojen kanssa, sekä vähintään yhden jäsenen ryhmästä, johon kuuluvat kromi, kromioksidi, kromihydroksidi, kromin suolat orgaanisten ja epäorgaanisten happojen kanssa; joka kromikomponentti viedään päällysteeseen levittämällä substraatille homogeenista liuos-10 ta, joka sisältää nikkelin ja/tai koboltin suolaa sekä kromi-suolaa, jota seuraa sintraus happea sisältävässä ilmakehässä; tai joka kromikomponentti viedään päällysteeseen päällystämällä sähköisesti ja/tai kemiallisesti substraattia homogeenisessa liuoksessa, joka sisältää nikkeli- ja/tai kbolttisuolaa se-15 kä kromisuolaa, jota seuraa hapettava kalsinointi happea sisältävässä ilmakehässä.
Kuten edellä esitettiin ilmaistaan päällysteen krornikom-ponenttipitoisuus atomiosuuksina kaavalla ACr - . x 100 (I)
**IJI
jossa A^r esittää kromiatomien lukumäärää päällysteessä ja Α,ρ 20 esittää kromiatomien ja nikkeli- ja/tai kobolttiatomien yhteis-lukumäärää päällysteessä.
Kromikomponenttipitoisuus päällysteessä voidaan määrittää atomiabsorptiomenetelmällä.
Ilmaisun "nikkeli- ja/tai kobolttioksidi" piiriin kuu-25 kuvat nikkelioksidi, kobolttioksidi ja nikkelioksidin ja kobolttioksidin seos.
Ilmaisu "hapettumisaste" tässä yhteydessä käytettynä esittää kaavasta H1 -ΗΊ + H0 * 100 saatavaa arvoa (%), jossa kaavassa HQ esittää nikkelin tai ko-30 boltin suurinta intensiteettia osoittavan röntgendiffraktio-viivan piikin korkeutta analysoitaessa päällystettä röntgen-sädediffrakiometrisesti, tai esittää nikkelin ja koboltin 10 73246 suurinta intensiteettiä osoittavien röntgendiffraktioviivojen piikkien korkeuksien artimeettista keskiarvoa päällysteen sisältäessä sekä nikkeliä että kobolttia; H1 esittää mainitun metallin oksidin suurinta intensiteettiä osoittavan röntgen-5 diffraktioviivan piikin korkeutta, tai esittää nikkelioksidin ja kobolttioksidin suurinta intensiteettiä osoittavien röntgendiffraktioviivojen piikkien korkeuksien aritmeettista keskiarvoa päällysteen sisältäessä sekä nikkelioksidia että kobolttioksidia.
10 Ilmaisu "pelkistysresistanssi" tarkoittaa tässä yhtey dessä käytettynä sitä, ettei oksidi elektrodipäällysteen aktiivisena materiaalina pelkisty ja pysyy oksidina sellaisen jatkuvan elektrolyysin jälkeen, jossa tapahtuu vedynkehitys-reaktio.
15 Keksinnön mukaisessa elektrodissa mahdollistaa päällys teen sisältämä nikkeli- ja/tai kobolttioksidi sen, että elektrodilla on korkea katalyyttinen aktiivisuus, jolloin elektrodilla on alhainen vedyn ylijännite. Toisaalta tuo elektrodin päällysteen sisältämä kromikomponentti päällysteen aktiivise-20 na materiaalina toimivalle oksidille pelkistysresistanssia.
Keksinnön mukaan elektrodipäällyste sisältää kromikompo-nenttia 0,5-20 % määriteltynä kaavan (1) mukaisina atomiosuuk-sina. Elektrodipäällysteessä olevan kromikomponentin pitoisuuden ollessa alle 0,5 %, on päällysteessä olevan oksidin 25 pelkistysresistanssi alhainen, jolloin hapettumisaste päällysteessä alenee huomattavasti elektrolyysin aikana, jonka seurauksena elektrodin aktiivisuus katoaa ja vedyn ylijännite kasvaa. Elektrodipäällysteessä olevan kromipitoisuuden ollessa toisaalta yli 20 %, on päällysteessä olevan oksidin pelkis-30 tysresistanssi niin korkea, että päällysteen hapettumisaste tuskin alenee. Tässä tapauksessa elektrodin aktiivisuus on kuitenkin alhainen jo elektrolyysin alkuvaiheessa eikä vedyn ylijännitteen alentamista voida saavuttaa. Tätä seikkaa on kuvattu kuvioissa 1 — (1) ja 1 — (2). Kuvion 1 — {1) käyrä esittää 35 nikkelioksidi/kromi-tyyppisen elektrodipäällysteen hapettumis-asteen, elektrodipäällysteen kromikomponenttipitoisuuden ja elektrodin tuottaman vedyn ylijänniteen keskinäistä riippu- li 11 73246 vuutta elektrolyysin alussa. Kuvion Ί — (2) käyrä esittää nik-kelioksidi/kromi-tyyppisen päällysteen hapetturaisasteen, elektrodipäällysteen kromikomponenttipitoisuuden ja elektrodin tuottaman vedyn ylijännitteen keskinäistä riippuvuutta 5 elektrolyysin jatkuttua 10 kuukauden ajan. Käyrien aikaansaamiseksi valmistettiin koe-elektrodeja oleellisesti myöhemmin esitettävässä esimerkissä 1 kuvatulla tavalla, ,jtta vaihdellen sularuiskutettavan kromioksidin määrää; kunkin elektrodin tuottama vedyn ylijännite määritettiin myöhemmin kuvattavalla 10 tavalla oleellisesti samoissa elektrolyysiolosuhteissa kuin esimerkissä 1; ja kussakin elektrodipäällysteessä oleva kro-mikomponenttipitoisuus määritettiin myöhemmin kuvattavalla menetelmällä. Kuvioista 1 — (1) ja 1-(2) havaitaan, että vaikka kromikomponenttipitoisuus on melko korkea, alenee päällysteen 15 hapettumisaste 10 kuukauden elektrolyysin aikana vain noin 10 % siitä, mitä se oli elektrolyysin alussa. Tämä ei tarkoita sitä, että päällysteessä oleva oksid pelkistyisi elektrolyysin aikana. Tämän uskotaan johtuvan siitä, että oksidin epästabiili osa poistuu päällysteestä melko alkuvaiheessa elekt-20 rolyysiä. Kuviot 1 — (1) ja 1-(2) osoittavat, että päällysteen kromikomponenttipitoisuuden ollessa määrätyllä alueella, on elektrodilla alhainen vedyn ylijännite sekä hyvä kestävyys. Keksinnön mukaisella elektrodilla, jossa päällyste sisältää kromikomponenttia 0,5-20 % määriteltynä kaavan (1) mukaisina 25 atomiosuuksina, on äärimmäisen alhainen vedyn ylijännite silloinkin, kun elektrodia on käytetty jatkuvasti yli vuoden ajan elektrolyysissä, johon liittyy vedynkehitysreaktio. Kuvioiden 1 — (1) ja 1-(2) yhteydessä esitetty selitys soveltuu myös ko-bolttioksidi/kromi-tyyppiseen tai nikkelioksidi/kobolttioksi- 30 di/kromi-tyyppiseen elektrodiin.
Kuvioissa 2-4 esitetään elektrodipäällysteiden röntgen-diffraktiokuviot.
Röntgendiffraktioanalyysi suoritettiin käyttäen diffrak-tiolaitetta SG-7 ja röntgensädegeneraattoria 4036 A-2 (molem-35 pia valmistaa ja myy Rigaku Corporation Japanissa). Kuviossa 2 esitetään myöhemmin esitettävän esimerkin 1 mukaisesti valmistetun elektrodipäällysteen röntgendiffraktiokuvio, joka 12 73246 päällyste sisältää kromikomponenttia 9 % määriteltynä kaavan (1) mukaisina atomiosuuksina ja jonka hapettumisaste on 86 %. Kuviossa 3 esitetään myöhemmin esitettävän esimerkin 5 mukaisesti valmistetun elektrodipäällysteen röntgendiffraktioku-5 vio, joka päällyste sisältää kromikomponenttia 20 % määriteltynä kaavan (1) mukaisina atomiosuuksina ja jonka hapettumisaste on 89 %. Kuvioissa 2 ja 3 havaitaan vain nikkelioksidiin (NiO) liittyviä piikkejä sekä metallisen nikkeliin (Ni) liittyviä piikkejä, mutta ei nikkeli/kromisekaoksidiin (NiC^O^) 10 liittyviä piikkejä. Kuvioissa 2 ja 3 ei havaita kromioksidiin (Cr20.j) eikä metalliseen kromiin (Cr) liittyviä piikkejä. Tämän mukaan kromioksidi (C^O^) ja/tai kromi (Cr) ovat päällysteessä joko amorfisessa tilassa tai kiinteänä liuoksena. Kuviossa 4 esitetään myöhemmin esitettävän vertailuesimerkin 4 15 mukaisesti valmistetun elektrodipäällysteen röntgendiffraktio-kuvio, joka päällyste sisältää kromikomponenttia 33 % määriteltynä kaavan (1) mukaisina atomiosuuksina ja jonka hepttu-misaste on 91 %. Kuviossa 4 havaitaan nikkeli/kromisekaoksidiin (NiCr204) liittyviä piikkejäa ja kromioksidiin (Cr202) 20 liittyviä piikkejä sekä nikkelioksidiin (NiO) ja metalliseen nikkeliin (Ni) liittyviä piikkejä. Elektrodilla, jolla on päällyste, jonka röntgendiifraktiokuvio on esitetty kuviossa 4 ja jonka kromikomponenttipitoisuus määriteltynä kaavan (1) mukaisina atomiosuuksina on yli 20 %, on alhainen aktiivisuus ja 25 ja korkea vedyn ylijännite. Kuvioiden 2 ja 3 yhteydessä annettu selitys soveltuu myös tapauksiin, joissa käytetään elektrodeja, joilla on kobolttioksidi/kromi-tyyppinen päällyste tai nikkelioksidi/kobolttioksidi/kromi-tyyppinen päällyste. Keksinnön mukaisen elektrodin päällyste sisältää kromikomponent-30 tia 0,5-20 % määriteltynä kaavan (1) mukaisina atomiosuuksina, mutta ei sisällä lainkaan sekaoksideja, joita voi mahdollisesti muodostua nikkelistä, koboltista ja kromista ja joilla on alhainen aktiivisuus.
Tämän keksinnön mukaisessa päällysteessä oleva vähin-35 tään yhden metallin, joka on nikkeli ja/tai koboltti, oksidi voi olla nikkelioksidi, kobolttioksidi tai näiden seos. Keksinnössä käytettäväksi ei kuitenkaan sovellu nikkeliä tai ko- 13 73246 bolttia sisältävä sekaoksidi, jonka katalyyttinen aktiivisuus on heikko. Nikkelioksidi on edullisin keksinnön mukaiseen elektrodipäällysteeseen sisällytettävä oksidi. Kobolttioksidi sopii käytettäväksi keksinnössä. Yksityiskohtainen vertai-5 lu nikkelioksidin ja kobolttioksidin välillä osoittaa kuitenkin, että nikkelioksidin aktiivisuus verrattuna kobolttioksidin aktiivisuuteen on erinomainen.
Keksinnön mukaan voi elektrodipäällysteen hapettumisas-te olla 100 %, jolloin päällyste voi koostua kromikomponen-10 tista ja nikkeli- ja/tai kobolttioksidista. Edullisesti voi elektrodipäällysteen hapettumisaste olla 20 - alle 100 %, edullisemmin 30-90 %. Kuten edellä esitettiin määritetään elektrodipäällysteen hapettumisaste röngendiffraktiometrialla. Kokeellisesti on vahvistettu, että nikkeli- ja/tai koboltti-15 oksidia sisältävän elektrodipäällysteen hapettumisaste on lähes sama kuin oksidipitoisuus päällystekoostumuksessa mooli-prosentteina ilmaistuna. Elektrodipäällysteen kromikomponent-tipitoisuuden ollessa 0,5-20 %, mutta hapettumisasteen ollessa alle 20 %, alenee elektrodipäällysteen metalliosan aktii-20 visuus elektrolyysin aikana, jolloin koko elektrodin aktiivisuus alenee. Siksi on hapettumisaste mieluiten yli 20 %, kuten aiemmin mainittiin.
Edellä on kuvattu elektrodia, jolla on päällyste, joka koostuu kromikomponentista ja nikkeli- ja/tai kobolttioksi-25 dista sekä elektrodia, jolla on päällyste, joka koostuu kromikomponentista, nikkeli- ja/tai kobolttioksidista sekä nikkelistä ja/tai koboltista. Keksinnön mukaisen elektrodin päällyste voi kuitenkin kromikomponentin, nikkeli- ja/tai kobolttioksidin sekä nikkelin ja/tai koboltin lisäksi sisältää yhtä 30 tai useampaa muuta metallia tai metallia sisältävää ainetta. Esimerkkeinä sellaisista muista metalleista tai metalleja si-sältävisät aineista, joita voidaan käyttää tässä keksinnössä, voidaan mainita mm. sinkki, sinkkioksidi, alumiini, piidioksidi, molybdeeni ja molybdeenioksidi. Tällaisten meta-lien 35 tai metalleja sisältävien aineiden käyttö parantaa edelleen saadun elektrodin aktiivisuutta ja edelleen alentaa vedyn ylijännitettä. Päällysteen sisältäessä tällaisia muita metal- 1" 73246 leja tai metalleja sisältäviä aineita, on suotavaa, että pääl-lystekoostumus vastaa seuraavia kahta tapausta.
Tapaus 1: kun elektrodipäällyste ei sisällä metallista nikkeliä eikä metallista kobolttia, päällysteessä olevan kro-5 mikomponentin sekä nikkeli- ja/tai kobolttioksidin kokonaispitoisuus atomiosuuksina ilmaistaan kaavalla &Cr * *Μ0 x 100 (2)
T
jossa A^r tarkoittaa päällysteessä olevien kromiatomien lukumäärää; Amo tarkoittaa päällysteessä olevien, oksideiksi sitoutuneiden nikkeli- ja/tai kobolttiatomien lukumäärä; ja AT 10 tarkoittaa kromiatomien, oksideiksi sitoutuneiden nikkeleja/ tai kobolttiatomien sekä yhden tai useamman muun metallin tai muita metalleja sisältävien yhdisteiden metallien atomien yhteislukumäärää päällysteessä.
Keksinnön mukaan kromikomponentin ja nikkeli- ja/tai ko-15 bolttioksidin kokonaispitoisuus päällysteessä on edullisesti yli 60 % kaavan (2) mukaisina atomiosuuksina määriteltynä. Elektrodin aktiivisuuden ja kestävyyden vuoksi on kromikomponentin ja nikkeli- ja/tai kobolttioksidin yhteispitoisuus päällysteessä edullisesti yli 80 % kaavan (2) mukaisina ato-20 miosuuksina määriteltynä.
Tapaus 2: elektrodipäällysteen sisältäessä myös metallista nikkeliä ja/tai kobolttia, päällysteessä olevan kromi-komponentin ja nikkeli- ja/tai kobolttioksidin sekä metallisen nikkelin ja/tai kobltin kokonaispitoisuus päällysteessä atomi-25 osuuksian ilmaistaan kaavalla —--ίϋ x 100 (3)
Α|ρ II
jossa ACr tarkoittaa päällysteessä olevien kromiatomin lukumäärää; Amq tarkoittaa päällysteessä olevien, oksideiksi sitoutuneiden nikkeli- ja/tai kobolttiatomien lukumäärää; A^ tarkoittaa päällysteessä olevien nikkeli- ja/tai koboltti-30 atomien lukumäärää; AT„ tarkoittaa kromiatomien, oksideiksi sitoutuneiden nikkeli- ja/tai kobolttiatomien, metallimuodos-sa olevien nikkeli- ja/tai kobolttiatomien sekä yhten tai
II
15 73246 useamman muun metallin tai metalliyhdisteen metallin atomien kokonaismäärää.
Tällaisessa tapauksessa kromikomponentin, nikkeli- ja/ tai kobolttioksidin ja metallisen nikkelin ja/tai koboltin 5 kokonaispitoisuus päällysteessä on edullisesti yli 60 % kaavan (3) mukaisina atomiosuuksina määriteltynä ja elektrodin aktiivisuuden ja kestävyyden vuoksi edullisesti yli 80 %.
Kromikomponentin nikkeli- ja/tai kobolttioksidin koko-naispito-suus sekä kromikomponentin, nikkeli- ja/tai koboltti-10 oksidin ja metallisen nikkelin ja/tai koboltin kokonaispitoisuus voidaan määrittää myös atomiabsorptiomenetelmällä.
Seuraavassa kuvataan keksinnössä käytettävää sähköä johtavaa substraattia. Elektrodin sähköä johtavan substraatin tulisi olla elektrolyyttiliuosta kestävän elektrolyysin aika-15 na vallitsevalla substraatin potentiaalilla, mutta myös sillä substraatin potentiaalilla, joka vallitsee silloin kun elektrolyysiä ei suoriteta. Substraatilla, jolla on aktiivinen, huokoinen päällyste, on potentiaali, joka on jalo verrattuna päällysteen pinnan potentiaaliin silloinkin, kun vetyä kehit-20 tyy elektrodipinnan päällysteen luona. Siksi ei ole epätavallista, että substraatin pinnan potentiaali on jalo verrattuna raudan liukenemis/saostumis-tasapainopotentiaaliin.
Tästä johtuen rauta korrodoituu ja liukenee substraatin pinnasta mikäli elektrodin substraattina käytetään rautaa.
25 Tällöin elektrolyyttiliuos ja elektrodipäällyste saastuvat ja äärimmäisissä tapauksissa elektrodin päällyste irtoaa elektrodista, jolloin elektrodin aktiivisuus alenee huomattavasti. Esimerkkeinä materiaaleista, joilla on riittävä vastustuskyky korroosiota vastaan, jotta niitä voidaan käyttää keksinnön 30 mukaisen elektrodin substraattina ja joita on kaupallisesti helposti saatavissa, voidaan mainita mm. nikkeli, nikkelile-jeerinki, austeniittityyppinen ruostumaton teräs ja ferriitti-tyyppinen ruostumaton teräs. Näistä materiaaleista ovat edullisia nikkeli, nikkelilejeerinki ja austeniittityyppinen ruos-35 tumaton teräs ja kaikkein edullisimpia nikkeli ja nikkelile- jeerinki. Elektrodin substraattina voidaan edullisesti käyttää myös materiaaleja, joiden pinnalla on nikkelistä, nikkelile- 16 73246 jeeringistä, austeniittityyppisestä ruostumattomasta teräksestä tai ferriittityyppisestä ruostumattomasta teräksestä koostuva ei-huokoinen päällyste. Tällainen ei-huokoinen ja korroosiota vastustava päällyste voidaan muodostaa tunnetuil-5 la menetelmillä, kuten päällystämällä sähköisesti tai ilman sähköä, sulapäällystämällä, räjäyttämällä, höyrystämällä tai ionisointitekniikalla.
Elektrodin substraatti on edullisesti muodoltaan sellainen, että elektrolyysin aikana sillä kehittyvä vetykaasu 10 irtaa siitä tasaisesti, jotta vältetään vetykaasun virtaa suo-jaavasta vaikutuksesta aiheutuva jännitteen aleneminen, sekä pinta-alaltaan niin suuri, ettei virran tiivistymistä esiinny. Mainitun muodon omaava substraatti voidaan valmistaa me-tallilankaverkosta, kunhan lankojen paksuus ja vierekkäisten 15 lankojen etäisyys toisistaan valitaan sopiviksi, sopivan paksuuden, aukkokoon ja aukkojen keskinäisen järjestelyn omaavasta rei'itetysta metallista tai sopivan pituuden ja paksuuden omaavasta paisutetusta metallista.
Keksinnön mukaisen päällysteen muodostumisessa sähköä 20 johtavalle substraatille voidaan käyttää eri menetelmiä, kuten menetelmää, jossa substraatille levitetään homogeenista liuosta, joka sisältää nikkeli- ja/tai kobolttisuolaa ja kro-misuolaa, jota seuraa kuumennus happea sisältävässä ilmakehässä; menetelmää, jossa sularuiskutetaan, kuten plasma- tai 25 liekkiruiskutetaan seosta, joka sisältää jauhemaista nikkeli-ja/tai kobolttioksidia tai näiden sellaista yhdistettä, joka kykenee muodostamaan oksidin, sekä jauhemaista kromia tai kromioksidia tai kromioksidia muodostamaan kykenevää yhdistettä; ja menetelmää, jossa substraattia päällystetään sähköisesti 30 ja/tai kemiallisesti homogeenisessa liuoksessa, joka sisältää nikkeli- ja/tai kobolttisuolaa sekä kromisuolaa, jota seuraa hapettava kalsinointi happea sisältävässä ilmakehässä.
Edellä mainitussa menetelmässä, johon kuuluu metallisuo-lojen homogeenisen liuoksen käyttö ja kuumennus, ovat sopivia 35 metallisuoloja nikkeli-, koboltti- ja krominitraatit, -kloridit, -formiaatit, -asetaatit ja -oksalaatit.
Edellä mainitussa menetelmässä, johon kuuluu sularuis-
II
17 73246 kutus voidaan esimerkkeinä sopivista jauhemaisista materiaaleista mainita jauhemaiset nikkeli-, koboltti- ja kromioksidit, -hydroksidit, -karbonaatit, -formiaatit ja/tai -oksalaa-tit ja/tai itse jauhemaiset metallit. Edullisimpia ovat näi-5 den metallien jauhemaiset oksidit.
Edellä mainitussa menetelmässä, johon kuuluu sähköinen ja/tai kemiallinen päällystys ja sitä seuraava hapettava kal-sinointi voidaan sopivina esimerkkeinä nikkeli-, koboltti- ja kromisuoloista mainita sulfaatit, kloridit, nitraatit, asetaa-10 tit ja triklooriasetaatit.
Näistä menetelmistä edullisin on sularuiskutusmenetelmä, sillä sillä saadaan ennalta määrätyn koostumuksen omaava täydellinen päällyste sekä suuren aktiivisuuden omaava elektrodi, jota voidaan käyttää pitkiä aikoja. Kuvainnollisesti sanoen 15 voidaan tällä menetelmällä jauheen sulatus ja kiinteytys sekä sulan materiaalin muodostaminen päällysteeksi substraatille suorittaa samanaikaisesti. Tästä johtuen pyrkii muodostumaan ei-stökiömetrinen koostumus. Tämän uskotaan olevan syynä siihen, että sularuiskuttamalla voidaan aikaansaada suuren aktii-20 visuuden omaava elektrodipäällyste. Edelleen voidaan varmuudella aikaansaada useista komponenteista muodostuva tasainen koostumus käyttäen melko helppoja ja varmoja toimenpiteitä, kuten sekoitusta ja rakeistusta. Tällaista tasalaatuista koostumusta sularuiskuttamalla on mahdollista tuottaa haluttu 25 elektrodipäällyste. Sularuiskutus on siitä syystä yksi keksinnön kannalta sopivimmista menetelmistä valmistettaessa suuren aktiivisuuden ja pitkän iän omaava vedynkehityselektrodi, jossa on useista komponenteista koostuva päällyste. Käytettäessä sularuiskutusmenetelmää on tärkeätä parantaa affiniteettia 30 elektrodin aktiivisen materiaalin ja elektrodille pelkistys-resistanssia antavan materiaalin välillä, jotta nämä voivat täyttää niille asetetut tehtävät. Täten saavutetaan tämän keksinnön tarkoitus, jona on suuren aktiivisuuden ja pitkän iän omaavan vedynkehityselektrodin tuottaminen. Tästä johtuen on 35 edullista, että elektrodille aktiivisuutta antavan materiaalin ja elektrodille pelkistysresistanssia antavan materiaalin muodostamat jauhemaiset lähtöaineet sekoitetaan, jauhetaan ja is 73246 rakeistetaan ennen sularuiskutusta.
Keksinnössä lähtöaineena käytettävän jauheen osaskoko tai halkaisija on edullisesti alle 5 μπι, mieluiten 0,02-5 ym. Lähtöaineena käytettävän jauheen osaskoon ollessa yli 5 ym, 5 on suotavaa pienentää osaskokoa jauhamalla ja seulomalla.
Jauhaminen voidaan suorittaa käyttäen tavanomaisia jauhamis-laitteita, kuten pallomyllyä, keskipakomyllyä, sauvamyllyä, keskipakorullamyllyä, suurinopeuksista pyörivää vasaramyllyä, kolloidimyllyä sekä myllyä nimeltä Pearl Mill (pallosilla ja 10 pyörivällä sekoittajalla varustetun märkämyllyn kauppanimi, valmistaja ja myyjä Drais Co, Saksan Liittotasavalta). On kuitenkin huomattava, että keksinnössä voidaan käyttää muitakin myllyjä. Yleensä on märkäjauhaminen edullisempaa kuin kuiva-jauhaminen, koska sillä saadaan hyvä osasten jakautuminen, 15 joka puolestaan edistää saadun materiaalin tasalaatuisuutta. Jauhamisen tarkoituksena on joka tapauksessa yksittäisten osasten pinta-alan lisääminen ja erilaisten lähtömateriaalien kontaktipintojen kasvattaminen, jotta aikaansaadaan parantuneen aktiivisuuden ja pelkistysresistanssin omaava elektrodi. 20 Alle 5 ym:n osaskoon omaavat jauheet rakeistetaan. Il maisu "rakeistaminen" tarkoittaa tässä yhteydessä käytettynä tasaisen muodon ja koon omaavien rakeiden muodostamiseksi joukosta hyvin pieniä osasia, joissa rakeissa kukin komponentti on tasaisesti jakautunut ja sitoutunut tasaisella sidosvoimal-25 la. Sularuiskutettaessa hienojakoista jauhetta ilman edellä kuvattua rkeistusta, pyrkivät elektrodin aktiiviset kohdat muodostavat komponentit erottumaan aktiivisille kohdille pel-kistysresistanssia antavista komponenteista johtuen erilaisista osaskoista ja ominaispainoista. Tästä johtuen on vaikea 30 aikaansaada suotuisaa vuorovaikutusta kahden erityyppisen komponentin välille. Tämän seurauksena pyrkii elektrodin ylijännite lisääntymään ajan mittaan. Tästä johtuen on vaikeata valmistaa pysyvän suorityskyvyn omaavaa elektrodia ilman rakeis-tusta. On myös vaikea ilman moninaisia ongelmia suorittaa su-35 larakeistusta kaupallisessa mittakaavassa ilman rakeistusta. Esimerkiksi on vaikea syöttää rakeistamatonta jauhetta tasaisella nopeudella sularuiskutusliekkiin. Tällöin esiintyy myös n 19 73246 suuri määrä työympäristöä haittaavaa pölyä ja sularuiskutus-saanto ja tuottavuus alenevat huomattavasti. On siis edullista rakeistaa jauheet. Osaskoon alle 5 ym omaavia jauheita ei keksinnön mukaan tarvitse rakeistaa. Edellä lueteltuja ongel-5 mia esiintyy kuitenkin jauheiden käytön yhteydessä.
Voidaan käyttää erilaisia rakeistusmenetelmiä. Nämä voidaan luokitella useisiin kategorioihin riippuen mm. laitetyy-pistä, lähtömateriaalin luonteesta ja rakeistusmekanismista. Jauheiden rakeistaminen voidaan suorittaa esimerkiksi pyöri-10 vässä rummussa tai kiekossa, jossa jauheen ja nesteen seos rakeistetaan kapillaarisen absorption ja/tai kemiallisen reaktion vaikutuksesta. Se voidaan suorittaa myös ruiskutus/kui-vatus-tyyppisellä laitteella, jossa liuoksena tai suspensiona oleva materiaali rakeistetaan pintajännityksen, kuivauksen ja 15 kiteytymisen vaikutuksesta. Se voidaan suorittaa myös ruiskutuksella ja ilmajäähdytyksellä tai ruiskutuksella ja vesijääh-dytyksellä vaurstetussa laitteessa, jossa sula materiaali rakeistetaan pintajännityksen, jäähdytyksen ja kiteytymisen vaikutuksesta. Kaikki edellä kuvatut rakeistusmenetelmät tuotta-20 vat oleellisesti pyöreitä rakeita. Rakeistusmenetelmistä on edullisin ruiskutus/kuivaus-tyyppisellä laitteella suoritettava, koska sillä on sellaisia etuja kuin aktiivisen päällysteen muodostamisen helpottuminen, koska saadaan tasahuokoisia rakeita, hyvin koossa pysyvien rakeiden muodostuminen, rae-25 koon tarkkailun helppous sekä alhainen hinta.
Seuraavassa selostetaan yksityiskohtaisemmin ruiskutus/ kuivaus-tyyppisellä laitteella suoritettavaa rakeistusmenetel-mää. Menetelmän mukaan valmistetaan ensin jauheesta, sideaineesta ja vedestä homogeeninen suspensio tai liuos. Sitten 30 suspensio tai liuos ruiskutetaan esim. pyörivän kiekon, kaksikanavaisen suuttimen tai painesuuttimen kautta nestepisa-roiksi. Tämän jälkeen nestepisarat kuivataan, jolloin saadaan rakeita, joilla on tasainen kosotumus, tasainen muoto ja tasainen koko, ja joissa komponentit on sidottu toisiinsa tasai-35 sella sidosvoimalla.
Keksinnön mukaisten rakeiden valmistukseen käytettävänä sideaineena voidaan käyttää vesiliukoisia polymeerisiä orgaa- 20 7 3 2 4 6 nisiä materiaaleja, kuten polyvinyylialkoholia, polyvinyyli-asetaattia, arabikumia, karboksimetyyliselluloosaa, metyyli-selluloosaa tai etyyliselluloosaa. Nämä polymeeriset orgaaniset materiaalit toimivat hienojakoisten komponenttien side-5 aineina rakeistusvaiheessa, jolloin saadaan rakeita, joissa komponentit ovat sidottuja toisiinsa tietyllä sidosvoimalla. Kuitenkin ne sularuiskutusvaiheessa häviävät melkein täydellisesti palamalla tai hajoamalla, joten niillä ei ole haitallista vaikutusta saatuun elektrodipäällysteeseen.
10 Edellä mainitun suspension tai liuoksen, jota käytetään tasalaatuisten rakeiden valmistamisessa, stabilisoimiseksi voidaan lisätä dispergointiainetta, flokkuloitumista estävää ainetta, pinta-aktiivista ainetta, antiseptistä ainetta jne. Näitä aineita valittaessa tulee erityistä huomiota kiinnittää 15 siihen vaikutukseen, joka niillä on elektrodin pinnalla olevaan aktiiviseen päällysteeseen. Esimerkkeinä dispergoivista 3 aineita voidaan mainta mm. vähintään molekyylipainon 200 x 10 omaava karboksimetyyliselluloosan natriumsuola, vähintään molekyylipainon 140 x 10 omaava metyyliselluloosa ja vähintään 3 20 molekyylipainon 120 x 10 omaava polyetyleeniglykoli. Esimerkkeinä flokkuloitumista estävistä aineista voidaan mainita mm. natriumheksametafosfaatti, ammoniumsitraatti, ammoniumoksa-laatti, ammoniumtartraatti ja monoetyyliamiini. Esimerkkeinä pinta-aktiivisista aineista voidaan mainita mm. alkyyliaryy-25 lofosfaatit, alkyyliaryylisulfonaatti ja rasvahapposaippua.
Esimerkkeinä antiseptisistä aineista voidaan mainita mm. nat-riumf er.oksidi, fenoli, fenoli johdannaiset ja formaldehydi. Yleensä on edullista, että jauheen pitoisuus suspensiossa tai liuoksessa on 30-90 paino-%.
30 Keksinnössä käytettävien rakeiden koko on edullisesti alueella 1-200 ym, mieluiten 5-100 ym. Raekoon ollessa liian pienen, erityisesti alle 1 ym, esiintyy sularuiskutusvaiheessa paljon pölyä. Tämä alentaa huomattavasti sularuiskutuksen saantoa, jolloin sularuiskutuksen surittaminen kaupallisessa 35 mittakaavassa on vaikeata. Raekoon ollessa toisaalta liian suuren, erityisesti yli 200 ym, esiintyy sellaisia ongelmia kuin elektrodin aktiivisuuden alenemista, elektrodin iän ly- 21 73246 henemistä, päällysteen lujuuden alenemista ja sularuiskutuk-sen saannon alenemista, jotka etupäässä johtuvat materiaalin epätäydellisestä sulamisesta.
On edullista, että rakeiden murskauslujuus on vähintään 5 0,5 g/rae. Tällainen murskauslujuustaso tarvitaan rakeiden morfologian säilyttämiseksi varastoinnin ja kuljetuksen aikana. Rakeiden murskauslujuutta voidaan vaihdella muuttamalla käytetyn sideaineen määrää ja/tai laatua.
Sopivana menetelmänä rakeiden sularuiskuttamiseksi voi-10 daan mainita esimerkiksi liekkiruiskutus ja plasmaruiskutus. Näistä on plasmaruiskutus edullisempi.
Seuraavassa selostetaan yksityiskohtaisemmin plasmaruis-kutusmenetelmää. Menetelmän mukaan aikaansaadaan vähintään yhden kaasun, joka on argon, typpi, vety, helium tai muu kaasu, 15 dissosioituminen ja ionisoituminen saattamalla kaasu kulkemaan tasavirtakaaren raon kautta. Näin aikaansaadaan plasma-liekki, jonka lämpötila on niinkin korkea kuin useista tuhansista aina muutamaan kymmeneen tuhanteen Celsius-astetta ja jolla on tietty lämpökapasiteetti ja suuri nopeus. Rakeet voi-20 daan kuljettaa plasmaliekkiin inertin kaasun avulla. Plasma- liekkiin viedyt rakeet sulavat, lentävät ja törmäävät elektro-disubstraattiin. Sula materiaali elektrodisubstraatilla voidaan sitten jäähdyttää ja kiinteyttää. Edellä mainitut materiaalin sulatus, lennätys ja törmäys voidaan suorittaa saman-25 aikaisesti, yleensä esimerkiksi 0,1-10 millisekunnin aikana. Plastmaliekin lämpötila, lämpökapasiteetti ja nopeus riippuvat ensisijaisesti käytetyn kaasun laadusta ja kaaren voimakkuudesta. Sopivana plasmallekin synnyttämiseen käytettävänä kaasuna voidaan mainita kaasuseokset, kuten argonin ja typen 30 seos, argonin ja vedyn seos sekä typen ja vedyn seos. Kaaren voimakkuus määritellään kaaren virran ja jännitteen avulla. Tiettyä kaarivirtaa vastaava kaarijännite määritetään sisäisen elektrodin etäisyyden ja plasmakaasun laadun ja virtausnopeuden avulla. Käyttäessä kaasua, esim. typpeä, joka vaatii run-35 säästi energiaa molekyylien dissosioitumiseen ja ionisoitumi-seen, pyrkii kaarijännite yleensä kasvamaan. Käytettäessä toisaalta kaasua, joka koostuu yksiatomisista molekyyliestä ja 22 73246 joka voidaan helposti ionisoida, kuten argonia, pyrkii kaari-jännite yleensä laskemaan. Joka tapauksessa tulee kaaren voimakkuuden olla riittävä tuottamaan plasmaliekki, jonka lämpötila ja lämpökapasiteetti riittävät hetkessä sulattamaan ra-5 keina olevan jauhemaisen materiaalin.
Muina sularuiskutukseen vaikuttavina olosuhteina voidaan mainita ruiskusuuttimen etäisyys päällystettävään substraattiin sekä kulma jossa ruiskusuutin sijaitsee päällystettävän substraatin pintaan nähden. Yleensä on ruiskusuuttimen etäi-10 syys päällystettävästä substraatista edullisesti 50-300 mm ja ruiskusuuttimen ja päällystettävän substraatin pinnan välinen kulma on edullisesti 30-150°. Myös tapa, jolla jauhe tai rakeet viedään plasmaliekkiin ja tapa, jolla sularuiskutettu materiaali jäähdytetään voivat vaikuttaa sularuiskutukseen.
15 Nämä olosuhteet eivät kuitenkaan ole kriittisiä ja ne voidaan valita tavanomaisten olosuhteiden joukosta.
Hapettumisastetta voidaan vaihdella muuttamalla jauhemaisen metallin määräsuhdetta jauhemaiseen metallioksidiin nähden ja/tai muuttamalla sularuiskutusympäristön happipitoi-20 suutta.
Elektrodin aktiivisuutta lisäävän materiaalin ja pelkis-tysresistanssia parantavan materiaalin lisäksi voidaan keksinnössä käytettävään jauheeseen sisällyyttää kolmatta komponenttia, joka voi olla sinkki, sinkkioksidi, alumiini, piidioksi-25 di, molybdeeni, molybdeenioksidi tai muu yhdiste. Tämä on edullista, sillä näin parannetaan saadun elektrodin aktiivisuutta ja edelleen alennetaan vedyn ylijännitettä.
Elektrodipäällysteen paksuus on edullisesti 10-300 ym. Päällysteen paksuuden ollessa alle 10 ym, ei voida saada 30 elektrodia, jolla on riittävästi alentunut vedyn ylijännite. Toisaalta päällysteen paksuuden lisääntyminen arvoon yli 300 ym ei ole edullista taloudellisesti, koska päällysteen paksuuden ollessa yli 300 ym, ei vedyn ylijännite alita tiettyä arvoa, jolloin ainoastaan päällysteen aiheuttamat kustannuk-35 set kasvavat ilman vastaavaa hyötyä. Päällystettävän elektrodin muodolle ei aseteta erityisiä rajoituksia. Tarpeen mukaan voidaan päällyste muodostaa elektrodin yhdelle tai molemmille ti 23 73246 pinnoille tai osapinnoille. Määritettäessä elektrodin päällystettävää pintaa voidaan ottaa huomioon elektrodin ylijännitteen haluttu alentumisaste. Elektrodin niihin osiin, joissa esiintyy suuri virrantiheys, voidaan muodostaa suhteelli-5 sen paksu päällyste, kun taas niihin osiin, joissa virrantiheys on pienempi, voidaan muodostaa vain ohut kalvo.
On edullista suorittaa sähköä johtavalle substraatille esikäsittely ennen sularuiskutusta. Esikäsittelyllä substraatin pinnasta poistetaan rasva ja se karhennetaan. Esikäsitte-10 lyllä poistetaan tahrat substraatin pinnalta ja pinta karhennetaan, jolloin saavutetaan hyvä sitoutuminen substraatin ja sularuiskutetun päällysteen välillä. Esikäsittelytavalle ei aseteta erityisiä rajoituksia. Tavallisesti voidaan käyttää karhennusta happokäsiitelyllä, väliainepuhalluksella (esim.
15 sora-, hauli-, heikka- tai nestepuhalluksella), eleketrolyyt-tistä karhennusta tai vastaavaa yhdessä rasvanpoiston kanssa, joka suoritetaan käyttämällä esim. orgaanista nestettä, pinta-aktiivista ainetta, höyryä tai polttoa.
Keksinnön mukaista elektrodia voidaan tehokkaasti käyt-20 tää vetyä kehittävänä katodina mm. elektrolysoitaessa natrium-kloridia ioninvaihtokalvoa käyttävällä menetelmällä, elektrolysoitaessa muita alkalimetallihalogenideja kuin natriumklo-ridia, elektrolysoitaessa vettä ja elektrolysoitaessa Glauber-suolaa. On edullista, että keksinnön mukaisen elektrodin kans-25 sa kosketuksessa oleva elektrolyyttiliuos on emäksinen. Keksinnön mukaisen elektrodin kanssa käytettävä elektrolyyttinen kenno voi olla monopolaarinen ja bipolaarinen. Käytettäessä keksinnön mukaista elektrodia veden elektrolyysiin, voidaan sitä käyttää bipolaarisena elektrodina.
30 Keksintöä kuvataan edelleen yksityiskohtaisemmin seuraa- vissa esimerkissä, joita ei tule käsittää keksinnön suojapii-riä rajoittaviksi.
Esimerkeissä suoritettiin eri mittaukset seuraavasti.
Elektrodipäällysteen kromikomponenttipitoisuus määrite-35 tään atomiabsorptiomenetelmällä seuraavasti.
Yksi paino-osa elektrodipäällystettä sekoitetaan 50 paino-osan "flussia" kanssa (kahden paino-osan natriumperok- 24 7324 6 sidia ja yhden paino-osan natriumkarbonaattia seos) ja saatu seos sulatetaan. Seokseen lisätään homogeenisen liuoksen muodostamiseksi ennalta määrätty määrä kuumaa vettä ja rikkihapon 50-prosenttista vesiliuosta. Saatua liuosta käytetään 5 näytteenä. Seuraavassa esitetään koeolosuhteet (aallonpituus ja liekkityyppi) sekä käytetty laite.
Atomi Aallonpi- Liekkityyppi Laite _tuus (A)_
Ni 2320 asetyleeni-ilma atomiabsorptioanalysaatto- 10 ri AA 1 (valmistaa ja myy
Nippon Jarrell-Ash Co. Ltd, Japani)
Co 2407
Cr 3579
Si 2516 asetyleeni-typpi- atomiabsorptioanalysaatto- 15 oksiduuli ri AA 8500 (valmistaa ja myy Nippon Jarrell-Ash Co. _Ltd, Japani)_
Seuraavat arvot saadaan seuraavasti.
Rakeiden halkaisija 20 Elektronimikroskooppimenetelmä
Rakeiden vesipitoisuus
Infrapunakuivausmenetelmä
Ruiskutussaanto . . .
-- Elektrodin paino (g) -
Substraatin paino (g) 25 Ruiskutussaanto (%) = —r~.—itt-: r-:-: x 100
Lisätyn jauheen paino (g)
Murskauslujuus
Erotetaan seulomalla rakeita, joiden halkaisija on 30-44 ym. Määritetään 30 rakelle niiden murskaamiseen vaadittava minimikuorma (g). Saaduista kuormisarvoista (g) otetaan 30 keskiarvo.
Hapettumisaste Röntgendiffraktiometria Esimerkki 1: 100 paino-osaa jauhemaista nikkelioksidia (NiO), jonka 35 osaskoko oli 0,2-2 ym ja 10 paino-osaa jauhemaista kromioksidia (Cr2C>3) , jonka osaskoko oli 0,5-3 ym lisättiin vesiliuokseen, joka koostui 100 paino-osasta vettä, 2,25 paino-osasta arabikumi-sideainetta, 0,7 paino-osasta natriumkarboksimetyy-
II
73246 25 liselluloosaa dispergoivana aineena, 0,1 paino-osasta natrium-heksametafosfaattia flokkuloitumista estävänä aineena, 0,001 paino-osasta natriumlauryylisulfaattia pinta-aktiivisena aineena ja 0,1 paino-osasta fenolia antiseptisenä aineena. Saatua 5 seosta sekoitettiin voimakkaasti homogeenisen suspension aikaansaamiseksi .
Saatu suspensio kuivattiin ja rakeistettiin spraykuivaa-jatyyppisessä rakeistuskammiossa (jota jäljempänä kutsutaan "rakeistuskammioksi"), jonka halkaisja oli 1 m ja korkeus 0,7 10 m ja jonka huippu oli vastustettu pyörivällä kiekolla. Tässä vaiheessa suspensiota pumpattiin rakeistuskammioon, jossa kiekkoa pyöritettiin nopeudella 25000 rpm, nopeudella 40 kg/h, jolloin suspensio muuttui pisaroiksi ja dispergoitui pudoten kohti rakeistuskammion pohjaa. Rakeistuskammioon syötettiin 15 kuumaa ilmaa, 330°C, samaan suuntaan kuin pisarat putosivat. Kuuman ilman syöttönopeutta säädettiin siten, että ilman lämpötila oli 120°C sen poistuessa rakeistuskammion pohjan vierestä. Muodostui lämpötilaltaan 95-100°C olevia pyöreitä rakeita nopeudella 18 kg/h. Rakeet poistettiin rakeistuskammion 20 pohjalta ja niiden annettiin jäähtyä. Rakeiden halkaisija elektronimikroskoopilla määritettynä oli 5-50 ym, muraskaus-lujuus oli 5 g/rae ja vesipitoisuus alle 0,1 %.
5 cm x 5 cm:n kokoisesta nikkelilankaverkosta (langan paksuus 0,7 cm; 12 mesh) poistettiin rasva trikleenillä ja 25 puhallettiin Al203:lla, jonka osakoko oli 0,73-2,12 mm. Puhalletun verkon (substraatti) kumpikin puoli päällystettiin sularuiskuttamalla edellä valmistetuilla rakeilla plasmaruis-kuttamalla alempana kuvatulla tavalla. Plasmaruiskutus toistettiin verkom kummallekin puolelle 3 kertaa elektrodin tuot-30 tamiseksi, jonka kummallakin puolella oli 120 ym:n paksuinen päällyste.
Plasmaruiskutus suoritettiin käyttäen seuraavia keskimääräisiä ruiskutusparametrejä.
Argonista ja typestä koostuvan plasmakaasun syöttöno- 3 3 35 peus: 1 m (normaalitilassa)/h (argon) ja 0,8 m (normaalitilassa) /h (typpi).
26 732 4 6
Plasmakaasuun syöttölaitteesta syötettävien rakeiden syöttönopeus: (kantajakaasu: arbon): 5,0 kg/h
Plasmakaaren virranvoimakkuus: 700 A
5 Jännite elektrodien välillä: noin 50 V
Etäisyys substraatin ja ruiskusuutti- men välillä (ruiskutusetäisyys): 10 cm
Plasmallekin kulma substraatin pintaan nähden: 90°
Rakeiden ruiskutussaanto oli 60 %, toisin sanoen subst-10 raatti päällystyi rakeilla nopeudella 3,0 kg/h.
Saatu elektrodi analysoitiin röntgendiffraktometrialla päällysteen hapettumisasteen määrittämiseksi laskemalla NiO:n kidepintaan (012) ja Ni:n kidepintaan (111) liittyvien piikkien korkeuksista. Päällysteen hapettumisaste (NiO/NiO + Ni 15 (x 100)) oli 86 %, mutta ei 100 %. Tämä johtuu nikkelioksidin osittaisesta pelkistymisestä plasmaliekissä. Röntgendiffraktometrialla suoritettu analyysi osoitti, ettei päällyste sisältänyt nikkeli-kromi-sekaoksidia (NiCr2C>4) . Päällysteen kromi-komponenttipitoisuus oli 9,0 %. Eleketrodipäällysteen röntgen-20 diffraktiokuvio esitetään kuviossa 2.
Valmistettiin elektrolyysikenno, joka jaettiin karbok-syylihappotyyppisellä kationinvaihtokalvolla, jota on saatavissa kauppanimellä "Aciplex K-105" (valmistaa ja myy Asahi Kasei Kogyo K.K., Japani) katodin sisältäväksi katodiosastok-25 si ja anodiosastoksi, jossa oli titaanista valmistetusta paisutetusta metallista valmistettu anodi, jolla oli ruteniumok-sidista, zirkoniumoksidista ja titaanioksidista muodostettu päällyste. Elektrolyysikennossa käytettiin katodina edellä valmistettua elektrodia. Syöttämällä anodiosastoon suolaliuos-30 ta, jonka NaCl-pitoisuus oli 175 g/litra ja katodiosastoon natriumhydroksidin 30-prosenttista vesiliuosta suoritettiin 2 jatkuvaa elektrolyysiä virrantiheydellä 40 A/dm lämpötilassa 90°C. Vedyn ylijännite mitattiin virrankeskeytysmenetelmällä ja liittämällä Luggin-kapillaari vertailuelektrodiin (Hg/HgO; 35 25°C) nestelukon kautta sekä kationivaihtokalvoa vastapäätä olevan katodin pintaan.
Tulokset esitetään taulukossa 1.
27 7 3 2 4 6
Taulukko 1 alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua kuluttua
Vedyn ylijännite, mV (40 A/dirT) 160 150 150
Hapettumisaste (%)* 86 78 78
NiiO
Huora.: * x 100
NiO + Ni
Kuten taulukosta 1 on havaittavissa, on elektrodipääl-lysteen hapettumisaste alentunut 5 kuukauden kuluttua elektrolyysin aloittamisesta 8 prosenttia verrattuna hapettumisas-teeseen elektrolyysin alussa, joten hapettumisaste ei alentu-5 nut olennaisella tavalla.
Esimerkit 2-5: 100 paino-osaa jauhemaista nikkelioksidia (NiO), jonka osaskoko oli 0,2-2 ym ja jauhemaista kromioksidia (Cr^O^), jonka osaskoko oli 0,5-3 ym (0,6 paino-osaa esimerkissä 2, 10 3,2 paino-osaa esimerkissä 3, 5,3 paino-osaa esimerkissä 4 ja 25,5 paino-osaa esimerkissä 5) sekoitettiin kuivina ja seosta kuivattiin kuivassa ilmavirrassa lämpötilassa 100°C kahden tunnin ajan.
Toistettiin oleellisesti esimerkin 1 toimenpiteet elekt-15 rodin valmistamiseksi plasmaruiskuttamalla, paitsi että edellä valmistettuja nikkelioksidin ja kromioksidin jauhemaisia seoksia käytettiin sellaisinaan ilman rakeistusta ja että elektrodin toisella pinnalla oli 100 ym:n paksuinen päällyste ja toisella pinnalla 50 ym:n paksuinen päällyste.
20 Edellä esitetyllä tavalla valmistetun elektrodipäällys- teen kromipomponenttipitoisuus oli 0,5 % esimerkissä 2, 3,0 % esimerkissä 3, 5 % esimerkissä 4 ja 20 % esimerkissä 5. Elektrodien päällysteiden hapettumisaste (NiO/NiO + Ni (x 100)) oli 90 % esimerkeissä 2-4 ja 89 % esimerkissä 5. Röntgendiff-25 ratiometrialla suoritettu analysointi osoitti, että jokaisen elektrodin päällyste sisälsi nikkelioksidia (NiO) ja metallista nikkeliä (Ni) ja ettei minkään elektrodin päällysteessä esiintynyt kromin ja nikkelin sekaoksidia. Esimerkin 5 mukaisesti valmistetun elektrodipäällysteen röntgendiffraktiokuvio 28 7 32 4 6 esitetään kuviossa 3.
Elektrodin suorituskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysejä olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektro-5 dia sijoitettuna katodiosastoon siten, että 100 ym:n paksuinen elektrodipinta oli kationinvaihtokalvoa vastapäätä. Tulokset esitetään taulukossa 2.
Taulukko 2
Vedyn ylijännite, mV
(40 A/dm2) Hapettumisaste (%)* alku- 5 kuu- 10 kuu- alku- 5 kuu- 10 kuu-
Esim. vai- kauden kauden vai- kauden kauden n:o heessa kuluttua kuluttua heessa_kuluttua kuluttua 2 160 150 150 90 50 50 3 160 150 150 90 60 60 4 160 150 150 90 70 70 5 170 160 160 89 80 80
Huom-: * Ni5Nv°iir x 100
Esimerkit 6-9: 10 Valmistettiin neljä erilaista elektrodia oleellisesti samoin kuin esimerkissä 1, paitsi että 100 paino-osan jauhemaista nikkelioksidia (NiO) sijasta käytettiin 100 paino-osaa jauhemaista kobolttioksidia (CoO), jonka osaskoko oli 0,4-2 ym ja että jauhemaisen kromioksidin (C^O^) , jonka osaskoko 15 oli 0,5-3 ym määrää vaihdeltiin siten, että se oli 0,6 paino-osaa esimerkissä 6, 5,4 paino-osaa esimerkissä 7, 11,3 paino-osaa esimerkissä 8 ja 25,4 paino-osaa esimerkissä 9.
Edellä esitetyllä tavalla valmistetun elektrodipäällys-teen kromikomponenttipitoisuus oli 0,5 % esimerkissä 6, 5,0 % 20 esimerkissä 7, 10 % esimerkissä 8 ja 20 % esimerkissä 9. Kaikkien esimerkkien 6-9 mukaisesti valmistettujen elektrodipääl-lysteiden hapettumisaste (CoO/CoO + Co (x 100)) oli 95 %. Röntgendiffraktioanalyysi osoitti, että jokainen elektrodi-päällyste sisälsi kobolttioksidia (CoO) ja metallista kobolt-25 tia ja ettei minkään elektrodin päällysteessä esiintynyt ko- 29 7324 6 boltin ja kromin sekaoksidia.
Elektrodin suorityskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysejä olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektro-5 dia.
Saadut tulokset on esitetty taulukossa 3.
Taulukko 3
Vedyn ylijännite, mV
(40 A/dm2) Hapettumisaste (%)* alku- 5 kuu- 10 kuu- alku- 5 kuu- 10 kuu-
Esim. vai- kauden kauden vai- kauden kauden n:o heessa kuluttua kuluttua _ heessa_kuluttua kuluttua 6 170 160 160 95 50 50 7 170 160 160 95 70 70 8 170 160 160 95 75 75 9 170 160 160 95 80 80
Huom-: * co0C°0co x 100
Esimerkki 10:
Valmistettiin elektrodi oleellisesti samoin kuin esimerkissä 1, paitsi että jauhemaisen kromioksidin (C^O-j) , jon-10 ka osastoko oli 0,5-3 ym määrä vaihdettiin 11,4 paino-osaksi ja käytettiin lisäkomponenttina 8,1 paino-osaa jauhemaista piioksidia (SiC^) , jonka osaskoko oli 0,5-3 μη.
Näin saadun elektrdipäällysteen kromikomponenttipitoi-suus oli 10 % ja piikomponenttipitoisuus 4,2 %. Röntgendiffrak-15 tiometrinen analyysi osoitti, että elektrodipäällyste sisälsi nikkelioksidia (NiO) ja metallista nikkeliä (Ni) ja ettei elektrodipäällysteessä esiintynyt nikkelin ja kromin sekaoksidia. Edellä kuvatulla tavalla saadun elektrodin päällysteen hapettumisaste (NiO/NiO + Ni (x 100)] oli 90 %.
20 Saatu elektrodi upotettiin natriumhydroksidin 30-pro- senttiseen vesiliuokseen lämpötilassa 90°C 24 tunniksi. Elektrodin suorituskyvyn arvioimiseksi suoritettiin tämän jälkeen elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia.
30 73246
Saadut tulokset on esitetty taulukossa 4.
Taulukko 4
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn ylijännite mV (40 A/dm2) 140 130 130
Hapettumisaste (%)* 90 75 75
Huom. : * —x 100
NiO + Ni
Esimerkki 11 : 100 paino-osaa nikkelioksidia (NiO), jonka osaskoko oli 10-25 ym ja 10 paino-osaa kromioksidia (C^O^), jonka osasko-5 ko oli 8-30 ym lisättiin vesiliuokseen, joka koostui 100 paino-osasta vettä, 2,25 paino-osasta arabikumia sideaineena, 0,7 paino-osasta natriumkarboksimetyyliselluloosaa dispergoi-vana aineena, 0,1 paino-osasta natriumheksametafosfaattia flokkuloitumista estävänä aineena, 0,001 paino-osasta natrium-10 lauryyiisulfaattia pinta-aktiivisena aineena sekä 0,1 paino-osasta fenolia antiseptisenä aineena. Saatua seosta sekoitettiin voimakkaasti homogeenisen suspension aikaansaamiseksi.
Saatua suspensiota syötettiin tilavuudeltaan 15 litran astialla varustetun jatkuvatoimisen märkämyllyn pohjalle 15 ("Pearl Mill", valmistaja ja myyjä Drais Corp., Saksan Liittotasavalta) nopeudella 70 kg/h. 70 % astian tilavuudesta oli täytetty keraamisilla pallosilla. Astian sisäseinä oli varustettu lukuisilla hyvin kovilla väkäsillä. Astian keskelle oli asennettu sekoittaja, jolla oli useita kiekkoja, joissa myös 20 oli lukuisia hyvin kovia väkäsiä. Astiassa olevaa suspensiota sekoitettiin sekoittajaa pyörittämällä, jolloin dispergoi-tuneet metallioksidihiukkaset jauhaantuivat. Käsitelty suspensio poistettiin astian huipulta. Käsittely toistettiin kahdesti .
25 NiO:n ja C^O^n osaskoot olivat jauhetuksen jälkeen luokkaa 0,3 ym tai tämän alle.
Käsitelty suspensio rakeistettiin oleellisesti esimerkin 1 mukaisella tavalla ja saadut rakeet sularuiskutettiin substraattina käytetylle lankaverkolle elektrodin muodosta-30 miseksi.
li 31 73246
Saadun elektrodin päällysteen kromikomponenttipitoisuus oli 8,1 %. Röntgendiffraktiometrinen analyysi osoitti, että elektrodin päällyste sisälsi nikkelioksidia (NiO) ja metallista nikkeliä (Ni) ja ettei läsnä ollut nikkelin ja kromin 5 sekaoksidia. Päällysteen hapettumisaste (NiO/NiO + Ni (x 100)) oli 90 %.
Elektrodin suorituskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia.
10 Saadut tulokset esitetään taulukossa 5.
Taulukko 5
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn ylijännite, mV (40 A/dm2) 160 150 150
Hapettumisaste (%)* 90 85 85
Huom.: * rrr^—τ,— x 100 NiO + Ni
Esimerkki 12;
Valmistettiin elektrodi oleellisesti esimerkissä 1 kuvatulla tavalla, paitsi että käytettiin 100 paino-osaa metallista nikkeliä (Ni), jonka osaskoko oli 0,3-0,7 ym 100 paino-osan 15 nikkelioksidia sijasta ja että kromioksidin (C^O^), jonka osaskoko oli 0,5-3 ym, määrä muutettiin 13 paino-osaksi.
Saadun elektrodin päällysteen kromikomponenttipitoisuus oli 9,5 %. Röntgendiffraktiometrinen analyysi osoitti, että elektrodipäällyste sisälsi nikkelioksidia (NiO) ja metallista 20 nikkeliä (Ni) eikä läsnä ollut nikkelin ja kromin sekaoksidia. Päällysteen hapettumiste (NiO/NiO + Ni (x 100)) oli 60 %.
Elektrodin suorituskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia.
25 Saadut tulokset esitetään taulukossa 6.
32 73246
Taulukko 6
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua__
Vedyn ylijännite, mV (40 A/dm2) 170 170 170
Hapettumisaste (%)* 60 50 50
Huom. : * - · . x 100
NiO + Ni
Vertailuesimerkki 1:
Valmistettiin elektrodi olennaisesti esimerkissä 1 kuvatulla tavalla, paitsi että päällysteen muodostavana materiaalina käytettiin yksinomaan 100 paino-osaa nikkelioksidia 5 (NiO), jonka osaskoko oli 0,2-2 ym.
Saadun elektrodin päällysteen hapettumisaste (NiO/NiO + Ni (x 100)) oli 90 %.
Elektrodin suorityskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysi olenniasesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että 10 käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia. Saadut tulokset esitetään taulukossa 7.
Taulukko 7
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn ylijännite, mV (40 A/dm2) 200 220 360
Hapettumisaste (%)* 90 30 0
Huom.: * x 100
NiO + Ni Tämän elektrodin päällysteen hapettumisaste aleni ajan mittaan alkuarvosta 90 % ja oli nolla (0) 10 kuukauden kuluttua elektrolyysin aloittamisesta. Hapettumisasteen pudotessa 15 lisääntyi elektrodin vedyn ylijännite. Havaitaan, että tämän elektrodin päällyste kadotti melkein kokonaan kykynsä alentaa vedyn ylijännitettä 10 kuukauden ajan jatkuneen elektrolyysin aikana.
Vertailuesimerkki 2: 20 Valmistettiin elektrodi olennaisesti esimerkissä 1 ku vatulla tava-la, paitsi että päällysteen muodostavana mate- 33 73246 riaalina käytettiin yksinomaan 100 paino-osaa jauhemaista kobolttioksidia (CoO), jonka osaskoko oli 0,4-2 ym.
Saadun elektrodin päällysteen hapettunisaste fcoO/CoO + Co (x 100) ) oli 100 %.
5 Elektrodin suorituskyvyn mittaamiseksi suoritettiin elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia. Saadut tulokset on esitetty taulukossa 8.
Taulukko 8
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn ylijännite, mV (A/dm2) 210 230 350
Hapettumisaste (%)* 100 30 0
Huom. : * —— x 100 CoO + Co
Vertailuesimerkki 3: 10 Valmistettiin elektrodi olennaisesti esimerkissä 1 ku vatulla tavalla, paitsi että päällysteen valmistamiseen käytettiin yksinomaan 100 paino-osaa jauhemaista kromioksidia (C^O^) , jonka osaskoko oli 0,5-3 ym.
Saadun elektrodin päällysteen hapettumisaste (c^O^/ 15 C^O.^ + Cr (x 100)) määritettynä röntgendiffraktometrisesti esimerkin 1 mukaisella tavalla, oli 95 %.
Elektrodin syorituskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia. 20 Saadut tulokset esitetään taulukossa 9.
Taulukko 9
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn ylijännite, mV (A/dm2) 270 290 350
Hapettumisaste (%)* 95 90 85
Cr 2^3
Huom.: * t;— -— x 100
Cr2°3 ♦ Cr 34 73246 Tämän elektrodin vedyn ylijännite oli korkea elektrolyysin alkuvaiheessa ja lisääntyi ajan mittaan. Hapettumisas-te aleni vähitelleen, mutta koko arvo oli korkea 10 kuukauden ajan suoritetun elektrolyysin ajan.
5 Vertailuesimerkki 4:
Valmistettiin elektrodi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että jauhemaisen kromioksidin (C^O^) , jonka osaskoko oli 0,5-3 ym määrä muutettiin 51 paino-osaksi. Saadun elektrodin päällysteen kromikomponenttipitoisuus oli 33 %. 10 Röntgendiffraktioanalyysi osoitti, että saadun elektrodin päällysteessä oli nikkelin ja kromin sekaoksidia (NiC^O^) sekä kromioksidia (C^O^). Elektrodin päällysteen hapettumis-aste (NiO/NiO + Ni (x 100)) oli 91 %. Saadun elektrodin päällysteen röntgendiffraktiokuvio esitetään kuviossa 4.
15 Elektrodin suorituskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia.
Saadut tulokset esitetään taulukossa 10.
Taulukko 10
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn ylijännite, mV (A/dm2) 270 290 290
Hapettumisaste (%)* 91 80 80
Huom.: * r— x 100
NiO + Ni Päällysteen hapettumisaste oli korkea koko 10 kuukautta 20 jatkuneen elektrolyysin ajan. Tämän elektrodin vedyn ylijännite oli kuitenkin korkea elektrolyysin alkuvaiheessa. Vertailuesimerkki 5:
Jauhemaista nikkelioksidia (NiO), jonka osaskoko oli 0,3-2 ym kuivattiin kahden tunnin ajan ilmavirrassa, jonka 25 lämpötila oli 100°C. Saatu jauhemainen nikkelioksidi sularuis-kutettiin substraattina käytetylle lankaverkolle olennaisesti esimerkin 1 mukaisella tavalla elektrodin valmistamiseksi, paitsi että jauhemaisen nikkelioksidin syöttönopeus plasma-liekkiin oli 1 kg/h.
Il 35 7 3246
Nikkelioksidin ruiskutussaanot oli 10 %, toisin sanoen NiO päällystyi substraatille nopeudella 0,1 kg/h. Tässä esimerkissä ei jatkuvaa plasmaruiskutusta voitu tasaisesti suorittaa, koska syöttö pyrki tukkeutumaan jauhamiasen nikkeli-5 oksidin vaikutuksesta. Plastaruiskutus toistettiin 90 kertaa elektrodin kummallekin puolelle, joille saatiin 120 pm:n paksuinen päällyste.
Elektrodin suorituskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että 10 käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia. Saadut utlokset esitetään taulukossa 11.
Taulukko 11
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn ylijännite, mV (40 A/dm2) 220 200 350
Hapettumisaste (%)* 90 50 0 HUOm': NiONSl· * 100 Päällysteen hapettumiaste aleni arvoon 0 % 10 kuukautta jatkuneen elektrolyysin jälkeen.
Esimerkki 13; 15 Valmistettiin elektrodi olennaisesti esimerkin 1 mukai sella tavalla, paitsi että jauhemaisen kromioksidin sijasta käytettiin 14 paino-osaa jauhemaista kromihydroksidia (CriOH)^)» jonka osaskoko oli 0,5-3 um. Saadun elektrodin päällysteen kromikomponenttipitoisuus oli 9,5 %. Elektrodin päällysteen 20 hapettumisaste (NiO/NiO + Ni (x 100)) oli 88 %. Röntgendiffrak-tometrinen analyysi osoitti, ettei elektrodin päällysteessä ollut nikkelin ja kromin sekaoksidia.
Elektrodin suorituskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että 25 käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia. Saadut tulokset esitetään taulukossa 12.
36 73246
Taulukko 12
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn Ylijännite, mV (40 A/dm2) 160 150 150
Hapettumisaste (%)* 88 73 73
Huom.: * ... - - x 100
NiO + Ni
Esimerkki 14:
Valmistettiin elektrodi olennaisesti esimerkin 1 mukaisella tavalla, paitsi että jauhamaisen kromioksidin sijasta käytettiin 32 paino-osaa natriumkromikarbonaattia 5 (Na2Cr (CO-j) 2*H2o) , jonka osaskoko oli 0,3-3 ym. Saadun elektrodin päällysteen kromikomponenttipitoisuus oli 8,8 %. Päällysteen hapettumisaste (NiO/NiO + Ni (x 100)) oli 86 %. RÖntgendiffraktometrinen analyysi osoitti, ettei elektrodin päällysteessä ollut nikkelin ja kromin sekaoksidia.
10 Elektrodin suorituskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistettua elektrodia. Saadut tulokset esitetään taulukossa 13.
Taulukko 13
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn ylijännite, mV (A/dm2) 160 150 150
Hapettumisaste (%)* 86 71 71
Huom.: * .T. ·.— x 1 00
NiO + Ni
Esimerkki 15: 15 Valmistettiin elektrodi olennaisesti esimerkissä 1 ku vatulla tavalla, paitsi että jauhemaisen kromioksidin sijasta käytettiin 26 paino-osaa jauhemaista kromioksalaattia (Cr2(C204)3*H20), jonka osaskoko oli 0,2-2,5 ym. Saadun elektrodin päällysteen kromikomponenttipitoisuus oli 9,2 %.
20 Elektrodin päällysteen hapettumisaste (NiO/NiO + Ni (x 100)) oli 88 %. RÖntgendiffraktometrinen analyysi osoitti, ettei 37 73246 päällysteessä ollut nikkelin ja kromin sekaoksidia.
Elektrodin suorityskyvyn arvioimiseksi suoritettiin elektrolyysi olennaisesti esimerkin 1 mukaisesti, paitsi että elektrodina käytettiin edellä kuvatulla tavalla valmistet-5 tua elektrodia.
Saadut tulokset esitetään taulukossa 14.
Taulukko 14
Alku- 5 kuukauden 10 kuukauden vaiheessa kuluttua_kuluttua_
Vedyn jännite, mV (A/dm2) 160 150 150
Hapettumisaste (%)* 88 75 75
Huom. : * Ni0‘ + Ni x 100
Claims (9)
1. Vedynkehityselektrodi, tunnettu siitä, että se käsittää sähköäjohtavan substraatin, jolla on kromikompo-nentista ja nikkeli- ja/tai kobolttioksidista koostuva pääl-5 lyste, jossa kromikomponenttipitoisuus on 0,5-20 %, ilmaistuna atomiprosenttiosuuksina, jotka määritetllään kaavalla ACr — x 100 (I) jossa ACr esittää päällysteessä olevien kromiatomien lukumäärää ja AT esittää päällysteessä olevien kromiatomien ja nikkeli- ja/tai kobolttiatomin yhteyslukumäärää.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen elektrodi, tun nettu siitä, että päällyste lisäksi sisältää metallista nikkeliä ja/tai kobolttia.
3. Patenttivaatimuksen 2 mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että päällyste sisältää nikkeli- ja/tai 15 kobolttioksidia 20 - alle 100 % ilmaistuna hapettumisastee-na, joka määritellään kaavalla H1 “h—Γη- x 100 H1 + H0 jossa H0 esittää nikkelin tai koboltin suurinta intensiteettiä osoittavan röntgendiffraktioviivan piikin korkeutta, tai esittää nikkelin ja koboltin suurinta intensiteettiä osoit- 20 tavan röntgendiffraktioviivojen piikkien korkeuksien aritmeettista keskiarvoa päällysteen sisältäessä sekä nikkeliä että kobolttia; esittää mainitun metallin oksidin suurinta intensiteettiä osoittavan röntgendiffraktioviivan piikin korkeutta tai esittää nikkelioksidin ja kobolttioksidin suu- 25 rinta intensiteettiä osoittavien röntgendiffraktioviivojen piikkien korkeuksien aritmeettista keskiarvoa päällysteen sisältäessä sekä nikkelioksidia että kobolttioksidia.
4. Jonkin patenttivaatimuksista 1-3 mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että mainittu sähköä johtava subst- 30 raatti. on valmistettu korroosiota kestävästä materiaalista, joka on nikkeli, nikkelilejeerinki tai austeniittityyppinen 39 7 3 2 4 6 ruostumaton teräs.
5. Jonkin patenttivaatimuksista 1-4 mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että päällyste muodostuu nikkelistä, nikkelioksidista ja kromikomponentista.
6. Menetelmä vedynkehityselektrodin valmistamiseksi, tunnettu siitä, että (1) muodostetaan seos, joka sisältää vähintään yhtä hienojakoista jauhetta valittuna ensimmäisestä ryhmästä, jonka muodostavat nikkeli, koboltti, nikkeli- ja kobolttioksi- 10 di, nikkeli- ja kobolttihydroksidi sekä nikkelin ja koboltin suolat orgaanisten ja epäorgaanisten happojen kanssa sekä vähintään yhtä hienojakoista jauhetta valittuna toisesta ryhmästä, jonka muodostavat kromi, kromioksidi, kromihydroksidi sekä kromin suolat orgaanisten ja epäorgaanisten happojen 15 kanssa, ja (2) viedään saatu seos sularuiskuttamalla sähköä johtavalle substraatille.
7. Patenttivaatimuksen 6 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että seoksen muodostaminen vaiheessa (1) 20 suoritetaan sekoittamalla jauheet, jotka seuraa rakeistus seoksen saattamiseksi raemuotoon.
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että ensimmäisen ryhmän hienojakoisen jauheen ja toisen ryhmän hienojakoisen jauheen osaskoot ovat 25 korkeintaan 5 ym.
9. Jonkin patenttivaatimuksista 6-8 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että muodostettaessa seosta vaiheessa (1) lisätään vähintään yhtä hienojakoista jauhetta valittuna kolmannesta ryhmästä, johon kuuluvat molybdeeni, 30 s.inkki, tina, wolframi, alumiini ja pii sekä näiden oksidit. 40 7 3 2 4 6
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57208653A JPS59100279A (ja) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | 水素発生用電極の製造方法 |
| JP20865382 | 1982-11-30 | ||
| JP3662083 | 1983-03-08 | ||
| JP58036620A JPS59162288A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | 水素発生用電極 |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI834109A0 FI834109A0 (fi) | 1983-11-09 |
| FI834109A7 FI834109A7 (fi) | 1984-05-31 |
| FI73246B true FI73246B (fi) | 1987-05-29 |
| FI73246C FI73246C (fi) | 1987-09-10 |
Family
ID=26375699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI834109A FI73246C (fi) | 1982-11-30 | 1983-11-09 | Vaetealstrande elektrod och foerfarande foer dess framstaellning. |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4605484A (fi) |
| EP (1) | EP0126189B1 (fi) |
| KR (1) | KR860001500B1 (fi) |
| AU (1) | AU565812B2 (fi) |
| BR (1) | BR8306378A (fi) |
| CA (1) | CA1246494A (fi) |
| DE (1) | DE3370833D1 (fi) |
| FI (1) | FI73246C (fi) |
| IN (1) | IN161390B (fi) |
| NO (1) | NO159736C (fi) |
| SG (1) | SG48287G (fi) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MX169643B (es) * | 1985-04-12 | 1993-07-16 | Oronzio De Nora Impianti | Electrodo para procesos electroquimicos, procedimiento para su produccion y cuba de electrolisis conteniendo dicho electrodo |
| JPS6286187A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-20 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 水素発生用の電極 |
| JPS6286186A (ja) * | 1985-10-11 | 1987-04-20 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 活性陰極のサ−ビスライフ延長方法 |
| US4790930A (en) * | 1987-05-29 | 1988-12-13 | Shell Oil Company | Two-step heterocyclic nitrogen extraction from petroleum oils |
| JPH0375392A (ja) * | 1989-08-18 | 1991-03-29 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 水素発生用電極 |
| CA2131872A1 (en) * | 1993-09-14 | 1995-03-15 | Hirofumi Sugikawa | Metallic porous sheet and method for manufacturing same |
| JPH1046314A (ja) * | 1996-08-06 | 1998-02-17 | Kubota Corp | 外面耐食管の製造方法 |
| US20070044513A1 (en) * | 1999-08-18 | 2007-03-01 | Kear Bernard H | Shrouded-plasma process and apparatus for the production of metastable nanostructured materials |
| DE10119233A1 (de) * | 2001-04-19 | 2002-11-07 | Sued Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Hydrotalcit-Vorläufern bzw. von Hydrotalciten |
| JP2008536699A (ja) * | 2005-04-14 | 2008-09-11 | プレジデント・アンド・フエローズ・オブ・ハーバード・カレツジ | マイクロ加工のための犠牲層における調節可能な溶解度 |
| EP1951927A4 (en) * | 2005-10-27 | 2010-12-08 | Univ British Columbia | PREPARATION OF ELECTRODE STRUCTURES BY THERMAL SPRAYING |
| DE102015120057A1 (de) | 2015-11-19 | 2017-05-24 | Zentrum für Sonnenenergie- und Wasserstoff-Forschung Baden-Württemberg Gemeinnützige Stiftung | Nickelelektrode, freitragende Nickelschicht, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE102017110863B4 (de) | 2017-05-18 | 2021-02-04 | Zentrum für Sonnenenergie- und Wasserstoff-Forschung Baden-Württemberg | Nickelelektrode, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| CN108315762B (zh) * | 2018-02-08 | 2020-06-09 | 华南师范大学 | 一种酸性环境下高活性的Ni-Mo-Co析氢催化剂的合成方法 |
| CN111424290A (zh) * | 2020-03-04 | 2020-07-17 | 中国船舶重工集团公司第七一八研究所 | 一种镍锡析氢电极 |
| CN113636626B (zh) * | 2021-08-20 | 2022-11-04 | 武昌理工学院 | 一种采用电化学法去除废料中六价铬的方法 |
| JP7559706B2 (ja) * | 2021-08-23 | 2024-10-02 | トヨタ自動車株式会社 | 負極活物質、アルカリ蓄電池および負極活物質の製造方法 |
| US20230366106A1 (en) * | 2022-05-11 | 2023-11-16 | Nooter/Eriksen, Inc. | Hydrogen generation and chemical energy storage |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1671481A1 (de) * | 1967-03-21 | 1971-09-16 | Siemens Ag | Elektrode fuer elektrochemische Zellen |
| DE2162699A1 (de) * | 1971-12-17 | 1973-06-28 | Daimler Benz Ag | Verfahren zur erhoehung der haftfestigkeit von durch thermisches spritzen aufgebrachten schichten |
| DE2630398C3 (de) * | 1975-07-08 | 1981-04-23 | Rhone-Poulenc Industries, 75360 Paris | Kathode für die Elektrolyse in alkalischem Medium |
| US4049841A (en) * | 1975-09-08 | 1977-09-20 | Basf Wyandotte Corporation | Sprayed cathodes |
| US4024044A (en) * | 1975-09-15 | 1977-05-17 | Diamond Shamrock Corporation | Electrolysis cathodes bearing a melt-sprayed and leached nickel or cobalt coating |
| US3992278A (en) * | 1975-09-15 | 1976-11-16 | Diamond Shamrock Corporation | Electrolysis cathodes having a melt-sprayed cobalt/zirconium dioxide coating |
| US4033837A (en) * | 1976-02-24 | 1977-07-05 | Olin Corporation | Plated metallic cathode |
| FR2434213A1 (fr) * | 1978-08-24 | 1980-03-21 | Solvay | Procede pour la production electrolytique d'hydrogene en milieu alcalin |
| AU5889880A (en) * | 1979-07-02 | 1981-01-15 | Olin Corporation | Manufacture of low overvoltage electrodes by cathodic sputtering |
| US4422920A (en) * | 1981-07-20 | 1983-12-27 | Occidental Chemical Corporation | Hydrogen cathode |
| US4410413A (en) * | 1981-10-05 | 1983-10-18 | Mpd Technology Corporation | Cathode for electrolytic production of hydrogen |
-
1983
- 1983-11-09 CA CA000440817A patent/CA1246494A/en not_active Expired
- 1983-11-09 FI FI834109A patent/FI73246C/fi not_active IP Right Cessation
- 1983-11-09 AU AU21095/83A patent/AU565812B2/en not_active Expired
- 1983-11-15 IN IN1397/CAL/83A patent/IN161390B/en unknown
- 1983-11-16 DE DE8383201635T patent/DE3370833D1/de not_active Expired
- 1983-11-16 EP EP83201635A patent/EP0126189B1/en not_active Expired
- 1983-11-21 BR BR8306378A patent/BR8306378A/pt not_active IP Right Cessation
- 1983-11-29 NO NO834394A patent/NO159736C/no unknown
- 1983-11-30 KR KR1019830005652A patent/KR860001500B1/ko not_active Expired
-
1985
- 1985-05-06 US US06/731,598 patent/US4605484A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-06-01 SG SG48287A patent/SG48287G/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IN161390B (fi) | 1987-11-21 |
| EP0126189B1 (en) | 1987-04-08 |
| KR860001500B1 (ko) | 1986-09-27 |
| NO159736B (no) | 1988-10-24 |
| US4605484A (en) | 1986-08-12 |
| DE3370833D1 (en) | 1987-05-14 |
| EP0126189A1 (en) | 1984-11-28 |
| FI73246C (fi) | 1987-09-10 |
| NO159736C (no) | 1989-02-01 |
| CA1246494A (en) | 1988-12-13 |
| BR8306378A (pt) | 1984-06-26 |
| SG48287G (en) | 1987-07-24 |
| FI834109A7 (fi) | 1984-05-31 |
| AU2109583A (en) | 1984-06-07 |
| FI834109A0 (fi) | 1983-11-09 |
| AU565812B2 (en) | 1987-10-01 |
| KR840006829A (ko) | 1984-12-03 |
| NO834394L (no) | 1984-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI73246B (fi) | Vaetealstrande elektrod och foerfarande foer dess framstaellning. | |
| US4392927A (en) | Novel electrode | |
| CN101292057B (zh) | 用于在电极上形成电催化表面的方法和该电极 | |
| CA1158600A (fr) | Cathode pour la production electrolytique d'hydrogene | |
| KR102360423B1 (ko) | 다공성 Ni-Fe-Al 촉매층이 형성된 알칼리 수전해용 양극 및 그 제조방법 | |
| CN101772597B (zh) | Fe3Al(Ru)型纳米晶体合金及其制造用于合成氯酸钠的电极的用途 | |
| EP0413480B1 (en) | A hydrogen-evolution electrode having high durability and stability | |
| WO2001000905A1 (en) | Method of producing copper foil | |
| CA1142129A (fr) | Procede pour la production electrolytique d'hydrogene en milieu alcalin | |
| RU2045583C1 (ru) | Способ получения электрода | |
| JPS5944392B2 (ja) | コバルト/二酸化ジルコニウム溶融噴霧被覆を有する電解陰極 | |
| Schiller et al. | Vacuum plasma sprayed electrodes for advanced alkaline water electrolysis | |
| US4839015A (en) | Hydrogen-evolution electrode and a method of producing the same | |
| EP0226291B1 (en) | Method for extending service life of a hydrogen-evolution electrode | |
| JP3364500B2 (ja) | 酸素発生用のセラミック陽極及びその製造方法と使用法 | |
| JP6222121B2 (ja) | 不溶性電極の製造方法 | |
| JPH0633483B2 (ja) | 水素発生用電極 | |
| KR840001428B1 (ko) | 수소 방출전극 | |
| JPH03166393A (ja) | 水素発生用の電極 | |
| Hashemniaye-Torshizi et al. | Tungsten-inert gas welding electrodes as low-cost, green and pH-universal electrocatalysts for the hydrogen evolution reaction | |
| JPH062194A (ja) | 電気メッキ方法 | |
| JPH0344154B2 (fi) | ||
| EP2007927B1 (en) | Amalgam decomposer for mercury cathode cells for alkali chloride electrolysis |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM | Patent lapsed | ||
| MM | Patent lapsed |
Owner name: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA |