FI72395C - Behandling av foer straolning kaensliga plattor. - Google Patents
Behandling av foer straolning kaensliga plattor. Download PDFInfo
- Publication number
- FI72395C FI72395C FI810229A FI810229A FI72395C FI 72395 C FI72395 C FI 72395C FI 810229 A FI810229 A FI 810229A FI 810229 A FI810229 A FI 810229A FI 72395 C FI72395 C FI 72395C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- acid
- developer
- carboxylic acid
- salt
- radiation
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
- Electrotherapy Devices (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
1 72395 Säteilylle herkkien levyjen käsitteleminen
Keksinnön kohteena on olennaisesti vesipitoinen kehite kuvakohtaisesti valotettujen, negatiivisesti toimivien säteily-5 herkkien levyjen käsittelemiseksi, joka kehite käsittää ei- ionisen pinta-aktiivisen aineen vesiliukoisen ja alifaattisen karboksyylihapon suolan, sekä tällaisen kehitteen käyttö kuvakohtaisesti valotetun, negatiivisesti toimivan säteilyherkän levyn kehityksessä esimerkiksi valmistettaessa laakapainolevy-10 jä.
Laakapainolevyt käsittävät painoväriä imeviä vettähylkiviä painavia pintoja ja vettä imeviä painoväriä hylkiviä painamattomia pintoja. Painavat ja painamattomat pinnat ovat pääasiallisesti samantasoisia. Painamisen aikana levylle levi-15 tetään vesipitoista väliainetta. Tämä kostuttaa painattomat pinnat, mutta painavat pinnat hylkivät sitä. Sitten levitettään oleofiilinen painoväri, jota painavat pinnat imevät, mutta jota märät painamattomat pinnat hylkivät. Painoväri siirretään sitten painavilta pinnoilta painettavalle alustalle. 20 Tällaisia painolevyjä valmistetaan tavallisesti fotome- kaanisesti. Tällöin sopiva alusta päällystetään säteiluher-källä aineella ja syntynyttä säteilyherkkää levyä säteilyte-tään kuvakohtaisesti. Tämä tapahtuu käyttäen läpikuultavaa filmiä, jossa on läpikuultamattomia alueita. Jäljennettäväksi 25 halutun kuvan negatiivista kuultokuvaa käytetään ns. negatiivisesti toimivan säteilyherkän levyn säteilyttämiseen ja positiivista kuultokuvaa käytetään ns. positiivisesti toimivan säteilyherkän levyn säteilytykseen. Siten esimerkiksi negatiivisesti toimivien levyjen tapauksessa negatiivisen kuulto-30 kuvan puhtaat alueet vastaavat kuvaa ja säteily, joka kulkee näiden puhtaiden pintojen läpi, saa säteilyherkässä päällysteessä aikaan reaktion, joka tekee päällysteen liukenemattomaksi kuvan alueella. Säteily ei kuitenkaan läpäise kuulto-kuvan läpikuultamattomia alueita, niin että tällaisten alueiden 35 alla oleva säteilyherkkä päällyste pysyy muuttumattomana.
Säteilytettyä levyä käsitellään sitten poistamalla selektiivi- 2 72395 sesti päällysteen alueet, johon säteily ei ole vaikuttanut, käyttäen sopivaa kehitettä alla olevan substraatti-pinnan siten paljastamiseksi. Jos paljastettu pinta ei ole hydrofiilinen, se tehdään sellaiseksi ja se toimii levyn 5 painamattomana pintana. Alustaan jäävä liukenemattomaksi tehty päällyste muodostaa sitten kehittämisen jälkeen levyn painavat pinnat.
Tyypillinen säteilyherkkä aine, jota tavallisesti käytetään negatiivisesti toimiville levyille on valon 10 vaikutuksesta silloittuva aine, joka sisältää ryhmiä, joilla on rakenne -CH=CH-CO-, kuten esimerkiksi polyvi-nyyli kinnamaatti. Samalla kun painolevyt, jotka on muodostettu näihin aineisiin perustuvista säteilyherkis-tä levyistä, ovat tyydyttäviä painatuskestoiän, ts.
15 tuotettujen tyydyttävien kopioiden lukumäärän kannalta, ja säteilyherkillä levyillä on tyydyttävä varastoimis-ikä, ts. niitä voidaan varastoida huomattava aika ennen säteilyttämistä ja kehittämistä, näillä aineilla on se haitta, että niitä ei voida kehittää vesipitoisis-20 sa väliaineissa. Siten kehittämisvaiheessa on käytettävä kehitteitä, jotka pohjautuvat pääasiallisesti voimakkaisiin orgaanisiin liuotinnesteisiin. Monet näistä liuottimista ovat myrkyllisiä, epämiellyttäviä käyttää tai niiden hävittämiseen liittyy ongelmia. Esimerkkejä 25 tällaisista liuotinnesteistä ovat sykloheksanoni, me-toksibutyyliasetaatti, 2-metoksietyyliasetaatti ja di-metyyliformamidi.
Ottaen huomioon yhä lisääntyvän huolenpidon terveydestä ja saastumisesta painolevyjä valmistava teolli-30 suus yritti aikaansaada negatiivisesti toimivan esiherkistetyn levyn, joka ei vaatinut näiden liuotinnesteiden käyttöä, vaan joka silti olisi tyydyttävä painatuksen ja varastoinnin kestoiän kannalta. Ongelma ratkaistiin osittain käyttämällä säteilyherkkänä aineena vesiliukois-35 ta diatso-hartsia, esimerkiksi 4-diatsodifenyyliamiini-fosfaatin ja formaldehydin kondensaatiotuotetta. Samalla kun tällaiset aineet olivat tyydyttäviä sikäli, että
II
3 72395 kehitteenä voitiin käyttää vettä, niistä muodostetuilla levyillä ei ollut riittävän hyvää painatuskestoikää, ellei niitä käsitelty sopivasti, esimerkiksi lujittavalla lakkauksella , eikä niistä muodostetuilla säteilyherkil-5 lä levyillä ollut riittävän hyvää varastointi-ikää.
Nämä ongelmat voitettiin käyttämällä orgaaniseen liuotti-meen liukenevia diatso-hartseja, jollaisia on kuvattu esimerkiksi brittiläisissä patenteissa nro 944 276 (esimerkki 2), nro 1 010 203 (esimerkki III), 10 nro 1 041 463 (esimerkit 2 ja 3), nro 1 055 079 ja nro 1 388 038 ja japanilaisessa patenttihakemuksessa 66/6813. Tällaisia orgaaniseen liuottimeen liukenevia diatso-hartseja ei rasita edellä mainittu haitta, vaan niitä voidaan käsitellä kehitteillä, jotka koostuvat pää-15 asiallisesti vedestä, esimerkiksi vesipitoisella liuoksella, joka sisältää propanolia, sulfonihappoa ja ei-ionista pinta-aktiivista ainetta. Joissakin tapauksissa n-propanolin tai sulfonihapon määrä, joka tarvitaan poistamaan alueet, joihin säteily ei ole vaikuttanut, 20 on kuitenkin sellainen,että vaikutetaan myös alueisiin, joihin säteily ei ole vaikuttanut, mikä aiheuttaa levyn ylikehittymisen. Lisäksi, samalla kun n-propanoli on parempi edellä mainitussa suhteessa verrattuna orgaanisiin liuottimiin, joita tavallisesti käytetään fotopoly-25 meroituville aineille, se on hyvin sytyttävää, haihtuu nopeasti ja sillä on epämiellyttävä haju. Sillä on kuitenkin se etu, että se vaimentaa pinta-aktiivisen aineen vaah-toamiskyvyn ja sen poissaolo voi saattaa kehitteen kehittämään liikaa vaahtoa , kun sitä käytetään automaattisella 30 käsittelykoneella.
Yllättäen on nyt keksitty, että tiettyjen alifaat-tisten karboksyylihappojen suolojen sisällyttämisellä oleellisesti vesipitoisiin kehitteisiin on merkittävä vaahtoa-mista estävä vaikutus.
4 72395
Keksinnön mukaiselle olennaisesti vesipitoiselle kehitteelle, joka käsittää ei-ionisen pinta-aktiivisen aineen vesiliukoisen ja alifaattisen karboksyylihapon suolan, on tunnusomaista, että alifaattinen karboksyylihappo sisältää hiili-5 atomeja 9:ään asti ja että liuos sisältää lisäksi aromaattisen karboksyylihapon suolan.
Happo voi olla tyydyttynyt tai tyydyttämätön ja suola voi olla esimerkiksi natrium-, kalium- tai muu alkalimetalli-suola, ammoniumsuola tai trietanoliamiinisuola.
10 10 tai useampia hiiliatomeja sisältävien happojen suo loilla ei ole vaahdonestovaikutusta. Sitävastoin ne pyrkivät lisäämään ja stabiloimaan vaahtoa. Edullisesti happo sisältää 7 tai 8 hiiliatomia, koska näiden happojen suolat lisäävät kehitteen vaikutusta ja toimivat myös vaahdonestoaineina.
15 Esimerkkejä sopivista hapoista ovat propaani-, valeriaana-, oktaani-, 2-etyyliheksaani-, nonaani-, heptaani- ja sorbiini-hapot. Myös alifaatisten happosuolojen seoksia voidaan käyttää.
Kehitteessä olevan alifaattisen hapon suolan määrän 20 tulisi olla ainakin määrä, joka on tarpeen merkittävän vaah-donestovaikutuksen aikaansaamiseksi. Siten kehitteen tulisi esimerkiksi sisältää vähintään n. 20 g/1 alifaattista happosuo-laa. Periaatteessa kehite voi sisältää niin paljon alifaattista happosuolaa kuin on tarpeen kyllästetyn liuoksen muodos-25 tamiseksi. Käytännössä kehitteen tulisi kuitenkin sisältää melkoisesti tätä vähemmän alifaattista happosuolaa ja tyypillinen happosuolan enimmäismäärä on n. 300 g/1.
Kehitteessä läsnäolevan pinta-aktiivisen aineen määrä vaihtelee huomattavasti riippuen säteilyherkän aineen luon-30 teestä. Tyypilliset määrät ovat väliltä n. 5 - n. 30% tila-vuus/tilavuus ja esimerkkejä käyttökelpoisista pinta-aktiivi-sista aineista ovat ei-ioniset pinta-aktiiviset aineet, joita on selostettu sivuilla 249-252 julkaisussa Surfacants (U.K.), Directory of Surface Active Agents, jota on saatavissa Yhdis-35 tetyssä Kuningaskunnassa, 2. painos, 1979, koonnut ja toiminut Hollis. Edullisia pinta-aktiivisia aineita ovat valin- 5 72395 naisesti modifioidut alkoholi-alkoksylaatit tai fenolialkok-sylaatit. Myös ei-ionisten pinta-aktiivisten aineiden seoksia voidaan käyttää.
Kehitteen sisältämä aromaattisen karboksyylihapon suola 5 voi olla esimerkiksi natrium-, kalium- tai muu alkalimetalli-suola, ammoniumsuola tai trietanoliamiini-auola. On havaittu, että alifaattisten ja aromaatisten happojen suolojen yhdistelmällä on tehostunut vaikutus sikäli, että yhdistelmällä on parempi kehittämisvaikutus kuin jommallakummalla suolalla 10 yksinään. Tyypillisesti kehite sisältää 20 - 300 g/1 aromaattista happosuolaa. Myös aromaattisten happosuolojen seoksia voidaan käyttää. Esimerkkejä sopivista aromaattisista karbok-syylihapoista ovat bentsoe- ja toluhapot.
Edullisesti kehitteen pH on 11.
15 Tämän keksinnön kehitteet voivat lisäksi sisältää tehokkaita määriä väriaineita ja hajusteita sekä myös pieniä määriä veden kanssa sekoittuvia orgaanisia liuottimia, ani-onisia pinta-aktiivisia aineita ja dispergoimisaineita.
Tämän keksinnön kehite on erityisen sopiva käytettä-20 väksi säteilyherkille levyille, jotka perustuvat säteilyher-kille aineille, jotka tavallisesti kehitetään vesipitoisissa väliaineissa, kuten edellä mainituille orgaaniseen liuottimeen liukeneville diatso-hartseille. Esimerkkejä tällaisista hartseista ovat 4-diatsodifenyyliamiinibisulfaatti tai -fos-25 faatti/formaldehydi-kondensaatiotuotteet, jotka on modifioitu reaktiolla jonkun suolan, kuten natriumtri-isopropyylinafta-leenisulfonaatin, natriumdodekyylibentseenisulfonaatin tai natrium 4-nitrobentseenisulfonaatin kanssa niiden tekemiseksi vähemmän vesiliukoisiksi.
30 On kuitenkin myös havaittu, että tämä keksinnön kehit teitä voidaan käyttää säteilyherkkien aineiden kehittämiseen, joka pohjautuvat tiettyihin valon avulla silloittuviin hart-seihin, kuten GB-patenttijulkaisussa 1 377 747 esitettyihin, ja myös säteilyherkkien aineiden kehittämiseen, jotka pohjau-35 tuvat tiettyihin fotopolymeroituviin olefiinisesti tyydytty-mättömiin yhdisteisiin, kuten pentaerytritolitriakrylaattiin; 72395 nestemäisen bisfenoli A-epoksihartsin diakrylaattiin (esim. Epokryl DRH-302, valmistaja Shell Chemicals); akrylaatti-uretaani oligomeeriin (esim. UCAR Actomer X-116, valmistaja Union Carbide); 2,2,5,5,-tetra-alkyylioksimetyylisyklopen-5 tanoniin; ja Bisfenoli A-diglysidyylieetterin diakrylaattiin. Seuraavat esimerkit valaisevat keksintöä.
Esimerkki 1 ^ Alumiinilevy karhennettiin sähkökemiallisesti, käsi teltiin anodisesti, käsiteltiin polyvinyylifosfonihapolla ja pyörrepäällystettiin sitten valoherkällä päällysteellä, joka koostui 4-diatsodifenyyliamiinibisulfaatti/formaldehydi- kondensaatin ja natriumtri-isopropyylinaftaleenisulfonaatin 15 reaktiotuotteesta negatiivisesti toimivan sateilyherkan levyn 2 muodostamiseksi. Päällystyspaino oli 0,7 g/m . Ultraviolettivalolla valottamisen jälkeen negatiivisen kuultokuvan läpi levyn kehitettiin käyttäen liuosta, jossa oli 4% paino/tilav. natriumpropanoaattia, 10% paino/tilav. natriumbentsoaattia ja 20 20% tilav./tilav. Ethylan HB4:ää, lopun liuoksesta ollessa vettä. Ethylan HB4 on fenolietoksylaatti, jota valmistaa Diamond Sharmarock Ltd.
Kehitetyn levyn valoherkkyys poistettiin tavalliseen tapaan ja se tuotti painokoneessa useita tyydyttäviä jäljen-25 nöksiä. Vaahtoamisongelmia ei esiintynyt, kun kehitettä käytettiin Howson-Algraphy negatiivisesti toimivassa koneessa joukon levyjä kehittämiseen.
tl 7 72395
Esimerkki 2
Esimerkki 1 toistettiin, paitsi että kehitteenä oli liuos, joka sisälsi 5 % paino/tilav. natriumvaleri-anaattia, 10 % paino/tilav.natriumbentsoaattia, 10 % 5 tilav./tilav. Ethylan HB4:ää ja 10% tilav/tilav. Antarox LF 330:tä, lopun ollessa vettä. Antarox LF 330 on modifioitu alkoholi-etoksylaatti, jota valmistaa GAF Surfactants. Saatiin samanlaiset tulokset.
Esimerkki 3 10 Esimerkki 1 toistettiin käyttäen kehitteenä vesi pitoista liuosta, joka sisälsi 15 % paino/tilav. natri-umoktanoaattia ja 15 % tilav./tilav. Antarox LF330:tä, lopun ollessa vettä. Saatiin jälleen samanlaiset tulokset.
15 Esimerkki 4
Alumiinilevy, joka oli valmistettu samalla tavalla kuin esimerkissä 1, pyörrepäällystettiin 4-diatso-difenyyliamiinibisulfaatti/formaldehydikondensaatiotuotteen ja dodekyylibentseenisulfonihapon natriumsuolan reak- 2 20 tiotuotteella päällystepainolla 0,8 g/m . Saatua säteily- herkkää levyä valotettiin sitten kovakohtaisesti ja kehitettiin käyttäen vesipitoista liuosta, joka sisälsi 9% paino/ti- lav. natrium-2-etyyliheksanoaattia, 9% paino/tilav. natrium-toluaattia ja 15 % tilav./tilav. Antarox LF330:tä, lopun ol-25 lessa vettä. Saatiin tuloksia, jotka olivat samanlaiset kuin esimerkeissä 1-3.
Esimerkki 5
Esimerkki 3 toistettiin, paitsi että natr iumoktano-aatti korvattiin samanlaisella määrällä natriumnonanoaat-30 tia. Saatiin samanlaiset tulokset.
Esimerkki 6
Esimerkki 1 toistettiin, paitsi että (i) natrium-tri-isopropyylinaftaleenisulfonaatti korvattiin 4-nitro-bentseenisulfonihapon natriumsuolalla, (ii) päällyste 35 sisälsi myös 5 g Victoria Cyan'ia (BASF) 100 g kohti 72395 8 hartsia ja (iii) kehite oli vesipitoinen liuos, joka sisälsi 10 % paino/tilav. kaliumbentsoaattia, 10 % paino/ tilav. kaliumheptanoaattia ja 15 % tilav./tilav. Ethylan CPG945:tä, lopun ollessa vettä. Ethylan CPG945 on modifioi-5 tu alkoholi-etoksylaatti, jota valmistaa Diamond Shamrock Ltd. Saatiin jälleen samanlaiset tulokset.
Esimerkki 7
Esimerkki 6 toistettiin, paitsi että kehite oli vesipitoinen liuos, joka sisälsi 6 % paino/tilav. natrium 10 sorbaattia, 10 % paino/tilav. natriumbentsoaattia ja 20 % tilav./tilav. Ethylan HB4:ää, lopun ollessa vettä. Jälleen saatiin samanlaiset tulokset.
Esimerkki 8
Esimerkin 7 kehitettä käytettiin kehittämään kuva-15 kohtaisesti valotettu levy, jonka säteilyherkkä päällyste koostui 4 paino-osasta 4-diatsodifenyyliamiinibisulfaat-ti/formaldehydi-kondensaatin ja natrium-tri-isopropyyli-naftaleenisulfonaatin reaktiotuotetta ja 1 paino-osasta täysin hydrosyloitua styreeni/maleiinihappoanhydridi-20 sekapolymeeriä. Saatiin samanlaiset tulokset.
Esimerkki 9
Esimerkin 1 mukaisesti valmistettu alumiinilevy pyörrepäällystettiin seoksella, jossa oli (a) 4-diatsodi-fenyyliamiinifosfaatti/formaldehydikondensaatin ja dode-25 kyylibentseenisulfonihapon natriumsuolan reaktiotuotetta ja (b) yhtä suuri painomäärä akryylihartsia (Macronal SN510, jota valmistaa Resinous Chemicals, eräs Hoechst AG:n osasto). Saatua säteilyherkkää levyä valotettiin UV-valolla negatiivisen kuultokuvan läpi ja kehitettiin 30 sitten käyttäen vesipitoista liuosta, joka sisälsi 9 % paino/tilav. kaliumoktanoaattia, 9 % paino/tilav. kaliumbentsoaattia, 15 % tilav./tilav. bentsyylialkoholia ja 15 % tilav./tilav. Plurafac RA40:tä, lopun ollessa vettä. Plurafac RA40 on modifioitu alkoholi-etoksylaatti, jota ti 72395 9 valmistaa Pechiney-Ugine-Kulmann. Saatiin samanlaiset tulokset.
Esimerkki 10
Vertailua varten kehitettiin esimerkin 3 mukai-5 sesti valmistettu levy käyttäen vesipitoista liuosta, joka sisälsi 15 % paino/tilav. natriumbentsoaattia ja 15 % tila./tilav. Antarox LF 330:tä, lopun ollessa vettä. Ei-kuva-alueiden havaittiin värjäytyneen ja kun joukko levyjä oli kehitetty käyttäen käsittelykonetta, kehite 10 tuotti pian ei-hyväksyttäviä vaahtomääriä.
Esimerkki 11
Alifaattisen ja aromaattisen happosuolan yhdistelmän tehostuneen vaikutuksen osoittamiseksi valotettiin kolme esimerkin 1 mukaisesti valmistettua levyä porras-15 kiilan läpi ja kehitettiin vastaavasti esimerkin 3 (levy 1), esimerkin 4 (levy 2) ja esimerkin 10 (levy 3) kehittimillä.
Levyssä 1 oli puhtaita kuvattomia alueita ja por-raskiila näytti yhtenäisen portaan 6 ja tyhjiin menneen 20 portaan 17. Levyssä 2 oli samoin puhtaat kuvattomat alueet ja yhtenäinen porras 6 ja tyhjiinmennyt porras 15. Levyssä 3 oli pahoin tahriintuneet kuvattomat alueet ja porraskiilan loppupäätä oli mahdoton määrittää levyn vaahtoamisen takia tällä alueella.
25 Esimerkki 12
Vaahdon tukehduttamisvaikutusten osoittamiseksi saatettiin esimerkkien 3, 4, 5 ja 10 kehitteet ja pelkästään ei-ionisen pinta-aktiivisen aineen (Antarox LF330) liuos vaahtoamistestiin, joka käsitti 200 ml:n 30 testattavaa liuosta kääntämistä ylösalaisin suljetussa mittasylinterissä ja alkuvaahdon tilavuuden ja vaahdon tilavuuden mittaamisen puolen minuutin väliajoin. Tulokset on esitetty taulukossa 1.
10 72395
Taulukko 1 3
Vaahdon tilavuus (cm )
5 Aika (min ) | Λ I, |. I · ' * ,! ι ι I
, 0 jl jli | 2 | 2\ , 3 j 3¾ (4 (4$ ( 5 ι 15 %v/v Anta- t , ι ι ι ' , ι ι < rox LF330 < 234 >234 1226 *200 *177 »133 '1301 127 illQl 90*59
Esimerkki 3 1 82| 821 8 2 I 8 2 | 65| 40 1 2 7 | 26 | 25| 23 I 15ι io _ ’lii11· ι , ι
Esimerkki 4 I 1001 881 841 781 70 | 52 I 44 | 36 I 251 20 ι 151 __1 1 I ί I I I I | | ι ,
Esimerkki 5 | 158115011401 110 j 80 1 38 l 18| 15 12, 6 ' 5i __: I | I I I ι |,i 15 Esimerkki 10 | 210, 210, 210^ 195,180 |155 I 123 t 75 ,50 35 | 3d _ 1 ι I t ι 1_< I_I ι |
Esimerkki 13 20 Alumiinilevy karhennettiin sähkäkemiallisesti ja käsiteltiin anodisesti ja päällystettiin sitten epoksi-hartsin (Epikote 1004) ja 4-atsido-alfa-syaani-delta-kloo-ri--kinnamylideenietikkahapon reaktiotuotteella. Saatu säteilyherkkä levy valotettiin kuvakohtaisesti ultravio-25 lettivalolla negatiivisen läpikuultokuvan alla ja kehitettiin vesipitoisella liuoksella, joka sisälsi 5 % paino/ti-lav, natriumoktanoaattia, 5 % paino/tilav. natriumbentso-aattia, 15 % tilav./tilav. 2-(2-metoksietoksi)etanolia Gnetyylidioksitolia) ja 15 % tilav./tilav. Ukanil 50:tä, lopun 30 ollessa vettä. Ukanil 50 on alkoholi-etoksylaatti-pinta-aktiivinen aine, jota valmistaa Pechiney Ugine Kuhlraann. Kehitetyn levyn valonherkkyys poistettiin tavalliseen tapaan ja se antoi monta tyydyttävää jäljennöstä. Minkäänlaisia vaahtoamisongelmia ei esiintynyt, kun joukkoa täl-35 laisia levyjä kehitettiin samalla tavalla käyttäen levyn-käsittelykonetta.
Il 11 72395
Esimerkki 14
Esimerkin 6 kehitettä käytettiin käsittelemään kuvakohtaisesti valotettua levyä, jolla oli säteily-herkkä päällyste, joka koostui 3-metoksidifenyyliamii-5 ni-4-diatsoniumsulfaatti/4'-bis-metoksimetyylidifenyy- lieetteri-kondensaatiotuotteen ja 2-mesityleeni-sulfo-nihapon reaktiotuotteesta, saatiin samanlaiset tulokset.
Diatso-yhdisteen valmistus on kuvattu GB-patentti-julkaisussa 1 312 926.
10 Esimerkki 15
Esimerkin 6 kehitettä käytettiin käsittelemään kuvakohtaisesti valotettu levy, jolla oli säteilyherk-kä päällyste, joka käsitti 2 moolin p-(N-etyyli-N- -hyd-roksietyyli)-aminobentseenidiatsoniumkloorisinkaattia ja 1 15 moolin sebasyylikloridia kondensaatiotuotteen ja 2-hyd-roksi-4-metoksibentsofenoni-5-sulfonihapon reaktiotuotteen. Saatiin samanlaiset tulokset.
Diatso-yhdisteen valmistus on kuvattu brittiläisessä patenttihakemuksessa 2 003 147.
20 Esimerkki 16
Esimerkin 1 mukaisesti valmistettu alumiinilevy pyörrepäällystettiin säteilyherkällä yhdistelmällä, jossa oli (i) 8,5 paino-osaa 2 moolin akryylihappoa ja 1 moolin bisfenoli A-diglysidyylieetteriä reaktiotuotetta, 25 (li) 2,1 paino-osaa akryylihartsia (Surcol 1339-Allied
Colloids) ja (iii) 0,43 paino-osaa 2-(4'-metoksistyryyli)- 4,6-bis(trikloorimetyyli)-S-triatsiinia.
Saatua säteilyherkkää levyä valotettiin kuvakohtaisesti kuultokuvalla ja kehitettiin käyttäen vesi-50 pitoista liuosta, jossa oli 12,5 % paino/tilav. natrium-oktanoaattia ja 12,5 % paino/tilav. Ethylan HB4 :ää, lopun ollessa vettä. Liuoksen pH asetettiin 10,5 reen lisäämällä trinatriumfosfaattia. Saatiin samanlaiset tulokset.
Claims (9)
1. Olennaisesti vesipitoinen kehite kuvakohtaisesti valotettujen, negatiivisesti toimivien säteilyherkkien levy-5 jen käsittelemiseksi, joka kehite käsittää ei-ionisen pinta-aktiivisen aineen vesiliuoksen ja alifaattisen karboksyyli-hapon suolan, tunnettu siitä, että alifaattinen kar-boksyylihappo sisältää hiiliatomeja 9:ään asti ja että liuos sisältää lisäksi aromaattisen karboksyylihapon suolan.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehite, tun nettu siitä, että alifaattinen karboksyylihappo on propaanihappo, valeriaanahappo, sorbiinihappo tai nonaa-nihappo.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehite, t u n -15 n e t t u siitä, että alifaattinen karboksyylihappo sisältää 7 tai 8 hiiliatomia.
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen kehite, tunnettu siitä, että alifaattinen karboksyylihappo on heptaanihappo, oktaanihappo tai 2-etyyliheksaanihappo.
5. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukai nen kehite, tunnettu siitä, että se sisältää 20-300 g/1 alifaattisen karboksyylihapon suolaa.
6. Jonkin patenttivaatimuksista 1-5 mukainen kehite, tunnettu siitä, että aromaattinen karboksyylihappo 25 on bentsoehappo tai toluhappo.
7. Jonkin patenttivaatimuksista 1-6 mukainen kehite, tunnettu siitä, että se sisältää aromaattisen karboksyylihapon suolaa määrään 300 g/1 asti.
8. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukai-30 nen kehite, tunnettu siitä, että sen pH on 6-11.
9. Jonkin patenttivaatimuksista 1-8 mukaisen kehitteen käyttö kuvakohtaisesti valotetun, negatiivisesti toimivan säteilyherkän levyn kehityksessä.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8002934 | 1980-01-29 | ||
GB8002934 | 1980-01-29 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI810229L FI810229L (fi) | 1981-07-30 |
FI72395B FI72395B (fi) | 1987-01-30 |
FI72395C true FI72395C (fi) | 1987-05-11 |
Family
ID=10510965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI810229A FI72395C (fi) | 1980-01-29 | 1981-01-27 | Behandling av foer straolning kaensliga plattor. |
Country Status (19)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4350756A (fi) |
EP (1) | EP0033232B2 (fi) |
AT (1) | ATE7823T1 (fi) |
AU (1) | AU543918B2 (fi) |
BR (1) | BR8100520A (fi) |
CA (1) | CA1165610A (fi) |
DE (1) | DE3162627D1 (fi) |
DK (1) | DK160848C (fi) |
ES (1) | ES8204348A1 (fi) |
FI (1) | FI72395C (fi) |
GB (1) | GB2068136B (fi) |
HU (1) | HU187293B (fi) |
IE (1) | IE50592B1 (fi) |
KE (1) | KE3465A (fi) |
MW (1) | MW481A1 (fi) |
NO (1) | NO810299L (fi) |
NZ (1) | NZ196110A (fi) |
ZA (1) | ZA81518B (fi) |
ZW (1) | ZW1781A1 (fi) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3100259A1 (de) * | 1981-01-08 | 1982-08-05 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten |
DE3140186A1 (de) * | 1981-10-09 | 1983-04-28 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Entwickler und verfahren zum entwickeln fuer belichtete negativ-arbeitende reproduktionsschichten |
US4436807A (en) | 1982-07-15 | 1984-03-13 | American Hoechst Corporation | Developer composition with sodium, lithium and/or potassium salts for developing negative working imaged photographic material |
US4824769A (en) * | 1984-10-15 | 1989-04-25 | Allied Corporation | High contrast photoresist developer |
DE3439597A1 (de) * | 1984-10-30 | 1986-04-30 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers |
GB2167572A (en) * | 1984-11-23 | 1986-05-29 | Colin George Thompson | Photo mechanical imaging |
US4786582A (en) * | 1985-08-02 | 1988-11-22 | Hoechst Celanese Corporation | Organic solvent free developer for photosensitive coatings |
US4714670A (en) * | 1986-06-09 | 1987-12-22 | Imperial Metal & Chemical Company | Developer including an aliphatic cyclic carbonate in the oil phase emulsion |
US4780396A (en) * | 1987-02-17 | 1988-10-25 | Hoechst Celanese Corporation | Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant |
US5081003A (en) * | 1987-07-27 | 1992-01-14 | Hoechst Celanese Corporation | Developer compositions for newspaper plates |
US4851324A (en) * | 1987-07-27 | 1989-07-25 | Hoechst Celanese Corporation | Phenoxy propanol containing developer compositions for lithographic plates having neutral pH |
US4873174A (en) * | 1988-02-03 | 1989-10-10 | Hoechst Celanese Corporation | Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates |
US4912021A (en) * | 1988-02-03 | 1990-03-27 | Hoechst Celanese Corporation | Developer-finisher compositions for lithographic plates |
US5278030A (en) * | 1988-10-24 | 1994-01-11 | Du Pont-Howson Limited | Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12 |
GB8918161D0 (en) * | 1989-08-09 | 1989-09-20 | Du Pont | Improvements in or relating to radiation sensitive compounds |
US5122438A (en) * | 1989-11-02 | 1992-06-16 | Konica Corporation | Method for developing a waterless light-sensitive lithographic plate |
US5316892A (en) * | 1992-07-23 | 1994-05-31 | Eastman Kodak Company | Method for developing lithographic printing plates |
US5279927A (en) * | 1992-07-23 | 1994-01-18 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability |
US5380623A (en) * | 1992-12-17 | 1995-01-10 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity |
DE69315046T2 (de) * | 1992-12-17 | 1998-06-04 | Eastman Kodak Co | Wässriger Entwickler für lithographische Druckplatten der zu einer verringerten Schlammbildung führt |
US5582964A (en) * | 1994-04-14 | 1996-12-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographic material having a syndiotactic styrenic polymer containing support |
EP0732628A1 (en) | 1995-03-07 | 1996-09-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aqueous alkaline solution for developing offset printing plate |
US6383717B1 (en) | 2000-10-11 | 2002-05-07 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Aqueous developer for negative working lithographic printing plates |
US7316891B2 (en) * | 2002-03-06 | 2008-01-08 | Agfa Graphics Nv | Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution |
PL1751625T3 (pl) * | 2004-05-19 | 2012-04-30 | Agfa Nv | Sposób wytwarzania fotopolimerowej płyty drukarskiej |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE624160A (fi) * | 1961-10-30 | |||
GB1220808A (en) * | 1967-05-18 | 1971-01-27 | Howson Algraphy Ltd | Processing of presensitized photolithographic printing plate |
US3547632A (en) * | 1967-11-16 | 1970-12-15 | Eastman Kodak Co | Method of lithographic reproduction and solution to render image areas oleophilic |
DE1767384A1 (de) * | 1968-05-04 | 1971-11-18 | Henkel & Cie Gmbh | Schaumarme Spuel- und Reinigungsmittel fuer die Geschirreinigung |
US3707373A (en) * | 1969-03-17 | 1972-12-26 | Eastman Kodak Co | Lithographic plate developers |
US3745028A (en) * | 1971-04-26 | 1973-07-10 | Eastman Kodak Co | Lithographic plate desensitizer formulations |
US4147545A (en) * | 1972-11-02 | 1979-04-03 | Polychrome Corporation | Photolithographic developing composition with organic lithium compound |
US4055515A (en) * | 1975-12-31 | 1977-10-25 | Borden, Inc. | Developer for printing plates |
DE2925363C2 (de) * | 1978-06-23 | 1985-09-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten |
JPS5542890A (en) * | 1978-09-22 | 1980-03-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Desensitizing solution for lithographic printing |
US4287082A (en) * | 1980-02-22 | 1981-09-01 | The Procter & Gamble Company | Homogeneous enzyme-containing liquid detergent compositions containing saturated acids |
-
1981
- 1981-01-23 AT AT81300301T patent/ATE7823T1/de not_active IP Right Cessation
- 1981-01-23 EP EP81300301A patent/EP0033232B2/en not_active Expired
- 1981-01-23 DE DE8181300301T patent/DE3162627D1/de not_active Expired
- 1981-01-23 GB GB8102097A patent/GB2068136B/en not_active Expired
- 1981-01-26 ZA ZA00810518A patent/ZA81518B/xx unknown
- 1981-01-26 NZ NZ196110A patent/NZ196110A/xx unknown
- 1981-01-27 FI FI810229A patent/FI72395C/fi not_active IP Right Cessation
- 1981-01-28 ZW ZW17/81A patent/ZW1781A1/xx unknown
- 1981-01-28 NO NO810299A patent/NO810299L/no unknown
- 1981-01-28 CA CA000369521A patent/CA1165610A/en not_active Expired
- 1981-01-28 HU HU81186A patent/HU187293B/hu unknown
- 1981-01-28 DK DK037881A patent/DK160848C/da not_active IP Right Cessation
- 1981-01-28 IE IE163/81A patent/IE50592B1/en not_active IP Right Cessation
- 1981-01-28 ES ES498879A patent/ES8204348A1/es not_active Expired
- 1981-01-29 AU AU66699/81A patent/AU543918B2/en not_active Ceased
- 1981-01-29 MW MW4/81A patent/MW481A1/xx unknown
- 1981-01-29 BR BR8100520A patent/BR8100520A/pt unknown
- 1981-02-04 US US06/231,416 patent/US4350756A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-10-05 KE KE3465A patent/KE3465A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2068136B (en) | 1984-09-05 |
DK37881A (da) | 1981-07-30 |
DE3162627D1 (en) | 1984-07-12 |
DK160848B (da) | 1991-04-22 |
IE50592B1 (en) | 1986-05-14 |
EP0033232B2 (en) | 1988-08-24 |
AU6669981A (en) | 1981-08-06 |
GB2068136A (en) | 1981-08-05 |
ES498879A0 (es) | 1982-05-01 |
AU543918B2 (en) | 1985-05-09 |
FI810229L (fi) | 1981-07-30 |
KE3465A (en) | 1984-11-09 |
US4350756A (en) | 1982-09-21 |
MW481A1 (en) | 1982-07-14 |
NO810299L (no) | 1981-07-30 |
EP0033232A1 (en) | 1981-08-05 |
NZ196110A (en) | 1983-06-17 |
ZW1781A1 (en) | 1981-12-09 |
DK160848C (da) | 1991-10-07 |
EP0033232B1 (en) | 1984-06-06 |
ZA81518B (en) | 1982-02-24 |
ES8204348A1 (es) | 1982-05-01 |
ATE7823T1 (de) | 1984-06-15 |
FI72395B (fi) | 1987-01-30 |
CA1165610A (en) | 1984-04-17 |
IE810163L (en) | 1981-07-29 |
HU187293B (en) | 1985-12-28 |
BR8100520A (pt) | 1981-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI72395B (fi) | Behandling av foer straolning kaensliga plattor | |
US4186006A (en) | Method for developing a lithographic printing plate | |
CA1094376A (en) | Process for the preparation of planographic printing forms using laser beams | |
US4822723A (en) | Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates | |
US4147545A (en) | Photolithographic developing composition with organic lithium compound | |
US4851324A (en) | Phenoxy propanol containing developer compositions for lithographic plates having neutral pH | |
JPH0519460A (ja) | 水現像しうるジアゾベース平版印刷版 | |
US4339530A (en) | Developer mixture for developing exposed light-sensistive copying layers | |
US4592992A (en) | Developer compositions for lithographic plates | |
US4780396A (en) | Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant | |
JP3295504B2 (ja) | 親油性を改良した平板印刷版の水性現像液 | |
US3669664A (en) | Process of strengthening presensitized lithographic plate with lacquer emulsion | |
EP0314248B1 (en) | Presensitized imaging element suitable for use as a lithographic printing plate | |
US4786580A (en) | Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition | |
US5279927A (en) | Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability | |
JPS6120939A (ja) | 平版印刷版用感光性組成物 | |
EP0397407B1 (en) | Lithographic plate finisher | |
US4530897A (en) | Process for desensitizing diazo lithographic printing forms using desensitizing solution with light absorbing compound | |
EP0580532B1 (en) | Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability | |
US5081003A (en) | Developer compositions for newspaper plates | |
WO2000043837A1 (fr) | Procede de production d'une plaque d'impression | |
JPH02189545A (ja) | 平版印刷版の製造方法 | |
GB1603700A (en) | Developers for lithographic printing plates | |
JPH08202048A (ja) | 感光性組成物及び該組成物の層を有する感光性平版印刷版の処理方法 | |
JPS6385542A (ja) | 感光材料用現像液組成物及び現像方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: E.I. DU PONT DE NEMOURS & COMPANY |