HU187293B - Composition for treating plates sensible to radiation - Google Patents

Composition for treating plates sensible to radiation Download PDF

Info

Publication number
HU187293B
HU187293B HU81186A HU18681A HU187293B HU 187293 B HU187293 B HU 187293B HU 81186 A HU81186 A HU 81186A HU 18681 A HU18681 A HU 18681A HU 187293 B HU187293 B HU 187293B
Authority
HU
Hungary
Prior art keywords
acid
developer
radiation
salt
sodium
Prior art date
Application number
HU81186A
Other languages
English (en)
Inventor
Jeremy R Burch
David E Murray
Original Assignee
Vickers Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=10510965&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=HU187293(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Vickers Ltd filed Critical Vickers Ltd
Publication of HU187293B publication Critical patent/HU187293B/hu

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
  • Electrotherapy Devices (AREA)

Description

A találmány sugárzásra érzékeny lemezek kezelésére alkalmas, lényegében vizes előhívó készítményre vonatkozik, mely nem-ionos felületaktív anyag vizes oldatát és legfeljebb 9 szénatomos alifás karbonsav sóját foglalja magában, képszerűen exponált, negatív működésű, sugárzásra érzékeny lemezek feldolgozásához.
A találmány szerinti készítményt előnyösen litográfiái nyomólezemek kezelésénél alkalmazzuk.
A litográfiái nyomólemezek festékre érzékeny víztaszító nyomófelületeket és vízre érzékeny festéktaszító nem-nyomó felületeket foglalnak magukban. A nyomó és nem-nyomó felületek lényegében közös síkban vannak. A nyomás során vizes közeget alkalmazunk. Ez nedvesíti a nem-nyomó felületet, de taszítja a nyomó felületet. Oleofil nyomdafestéket alkalmazunk és ezt felveszik a nyomó felületek, de taszítják a nedves nem-nyomó felületek. A festék ezután a nyomó felületről a nyomandó részre megy át.
Ilyen nyomólemezeket szokásosan fotomechanikus úton készítenek. E módszer szerint valamely alkalmas hordozót sugárzásra érzékeny anyaggal vonnak be és a keletkező sugárzásra érzékeny lapot kép-szerűen sugárzás hatásának teszik ki. Ezt úgy végzik, hogy átlátszatlan felületekkel rendelkező átlátszó filmet használnak. A reprodukálni kívánt kép negatív átlátszóságát használják úgynevezett negativ-müködésü sugárzásra érzékeny lap besugárzására és pozitív átlátszóságát használják úgynevezett pozitív-működésű sugárzásra érzékeny lap besugárzására. így például a negatív-működésű lapok esetében a negatív átlátszóság világos felületei a képnek felelnek meg, és az ezeken az átlátszó felületeken átmenő sugárzás olyan reakciót idéz elő a suggárzásra érzékeny bevonatban, amely oldhatatlanná teszi a bevonatot a képfelületekben. A sugárzás nem megy át az átlátszatlan felületeken, így az ilyen felületek alatti sugárzásra érzékeny bevonat érintetlen marad. A besugárzott lapot ezután előhívják, oly módon, hogy szelektív módon eltávolítják a bevonat be nem sugárzott, vak felületeit a megfelelő előhívó segítségével, így feltárják a hordozónak a bevonat alatt lévő felületét. Abban az esetben, ha a feltárt felület nem hidrofil, akkor változatlan marad, és a lemez nem-nyomó felületeiként szolgál. Az előhívás után a hordozón maradó, oldhatatlanná tett bevonat a lemez nyomófelületét alkotja.
A negativ-müködésü lemezekhez általában használt sugárzásra érzékeny anyagok jellegzetes képviselője valamely —CH | CH—CO — szerkezetű csoportokat tartalmazó, fény hatására térhálósítható anyag, például a polivinil-cinnamát. Jóllehet ilyen anyagokon alapuló sugárzásra érzékeny lemezekből kialakított nyomólemezek kielégítőek a nyomás élettartamának szempontjából, így nagy számú megfelelő kópia készíthető velük, és a sugárzásra érzékeny lemezek megfelelő ideig tárolhatók, így elég hosszú ideig raktározhatok megvilágítás és előhívás előtt, mégis ezeknek az anyagoknak az a hátrányuk, hogy nem hívhatók elő vizes közegben, így ebben az esetben lényegében erős szerves oldószereken alapuló előhívókat kell használni az előhíváshoz. Az ilyen oldószerek közül a legtöbb mérgező, használatuk kedvezőtlen vagy nehézségek jelentkeznek eltávolításuknál. Ilyen oldószerek például a ciklohexanon, a metoxí-butil-acetát, a 2-metoxi-etil-acetát és a dimetil-formamid.
Az egészségi ártalom miatt és a szennyezés veszélyének a kiküszöbölése érdekében a nyomólemezeket gyártó ipar olyan negativ-müködésü előérzékenyített lemez készítését kezdte meg, amely nem igényli ezeknek az oldószereknek a használatát, de amely még kielégíti az élettartam és a tárolási idő téren támasztott követelményeket. A problémát részben megoldották azzal, hogy sugárzásra érzékeny anyagként valamely vízoldható diazogyantát, például 4-diazo-difenil-amm-foszfát-formaldehid kondenzációs terméket használtak. Bár az ilyen anyagok alkalmasak annyiból, hogy ezeknél víz használható előhívóként, de a kialakított nyomólemezeknek nem elég jó a nyomási élettartama, kivéve, ha alkalmas kezelést, például lakkerősítést kaptak. A belőlük készült sugárzásra érzékeny lemezeknek nem elég jó a tárolási élettartama sem. Ezeket a nehézségeket azzal küszöbölték ki, hogy szerves oldószerben oldható diazo-gyantákat alkalmaztak, amelyek a 944 276. számú (2 példa), az 1 010 203 (3. példa), az 1 041 463. (2. és 3. példa), az 1 055 079. és az 1 388 038. számú brit, valamint a 06/6813. számú japán szabadalmi leírásokban vannak leírva. Ilyen szerves oldószerekben oldható diazo-gyanták a fenti hátrány ellenére még feldolgozhatok lényegében vizes előhívóval, például propaiolt, szulfonsavat és nem-ionos felületaktív an,/agot tartalmazó vizes oldat alkalmazása mellett. Bizonyos esetekben azonban a nem-besugárzori felületek eltávolításához szükséges n-propanol vagy szulfonsav megtámadja a besugárzott felületeke* és ez a lemez túlhívását okozza. Ezenkívül, bár az n-propanol kedvezőbb - a fenti szempontok figyelembevételével - mint a fotopolimerizálható anyagokhoz szokásosan használt szerves oldószerek, de igen gyúlékony, gyorsan elpárolog és kellemetlen szagú. Előnye azonban, hogy visszaszorítja a felületaktív anyag habzását és hiánya olyan előhívót eredményez, amely sok habot képez, automatikvs előhívó gépben való feldolgozásánál.
Meglepő módon azt találtuk, hogy bizonyos alifás karbonsavak sóinak és egy aromos karbonsav sójának egyidejű alkalmazása a lényegében vizes előhívókban jelentős mérvű habzásgátló hatást vált ki A találmány tárgya ennek megfelelően olyan típusú vizes előhívó, amely nem-ionos felületaktív aiyagot is tartalmaz és alkalmas képszerűen exponált negatív működésű sugárzásra érzékeny lemezek feldolgozására, mely készítmény egy nem-ionos felületaktív anyagot és egy alifás karbonsav sóját vizes oldatban tartalmazza és amelyre az jellemző,
187.293 hogy az alifás monokarbonsav valamely sóját 20-300 g/1 mennyiségben, továbbá egy aromás karbonsav, azaz az - a magban adott esetben helyettesített - benzoesav vagy toluilsav sóját is tartalmazza és pH-ja 6—11.
A só például nátrium-, kálium-, vagy más alkálifémsó, ammóniumsó vagy trietanol-amin só lehet.
Tapasztalatunk szerint a tíz- vagy több-szénatomos alifás karbonsavak sói nem fejtenek ki habzásgát'ó hatást, hanem ellenkezőleg, olyan tendenciát mutatnak, hogy növeljék vagy stabilizálják a habot. A 7- vagy 8-szénatomos savak, valamint ezek sói előnyösen javítják az előhívó hatást és habzásgátlókként hatnak. Alkalmas savak például a propánsav, valeriánsav, oktánsav, o-etil-hexánsav, nonánsav, heptánsav és a szorbinsav. Alifás savak sóinak az elegyei ugyancsak használhatók erre a célra.
Az előhívóban jelenlévő alifás sav sójának hatásos mennyisége annyi kell, hogy legyen, amennyi jelentős habzásgátio hatást fejt ki. így például az előhívó legalább 20 g fenti sót tartalmaz literenként. Elvileg az előhívó az alifás monokarbonsav sójából olyan mennyiséget tartalmazhat, amennyi telített oldat képzéséhez szükséges. A gyakorlatban azonban az előhívó ennél kevesebb sót tartalmaz és a legnagyobb mennyiség 300 g literenként.
Az előhívóban jelenlévő felületaktív anyag mennyisége nagy mértékben függ a sugárzásra érzékeny anyag természetétől. A felületaktív anyag mennyisége körülbelül 5-30 tf%. A felületaktív anyagok például nem ionos felületaktív anyagok lehetnek, ezek a „Surfactants” (Nagy-Britannia) c. mű 249-252. oldalain vannak leírva (Directory of Surface Active Agenís, 2. kiadás, 1979., Hollis kiadó). Előnyös felületaktív anyagok az - adott esetben módosított - alkohol-alkoxilátok vagy a fenolalkoxilátok. A nem-ionos felületaktív anyagok elegyei is használhatók.
Az előhívó még az - a magban adott esetben helyettesített ·-- benzoesav vagy toluilsav sóját is tartalmazza körülbelül 20 300 g/1 mennyiségben. Ez a só például nátrium-, kálium- vagy más alkálifémsó, ammóniumsó vagy trietanol-amin-só lehet. Azt találtuk, hogy az alifás és aromás savak sóinak a kombinációja szinergetikus hatással rendelkezik, mivel a kombinációnak jobb az előhívó hatása, mint bármelyik sav sójáé. Alkalmas aromás karbonsav a benzoesav és a toluilsav, valamint a szalicilsav.
Az előhívó pH ja előnyösen 6-11 tartományban van.
A találmány szerinti előhívók tartalmazhatnak még hatásos mennyiségű színező és illatosító anyagokat, továbbá kis mennyiségű szerves oldószert, anionos felületaktív anyagokat és diszpergálószereket.
A találmány szerinti készítmény különösen alkalmas olyan sugárzásra érzékeny anyag alapú lemezek kezelésére, amelyek szokásosan előhívhatók vizes közegben, ilyenek a fent említett szerves oldószerben oldható di a 20-gyan ták. Diazo-gyanták példáiként a 4-diazo-dífenil-amin-biszuifát vagy - foszfát/formaldehid kondenzációs termékeket nevezzük meg, melyeket valamely sóval, így nátriumtri-izopropil-naftalin-szulfonáttal, nátrium-dodecil-benzol-szulfonáttal vagy nátrium-4-nitrobenzol-szulfonáttal való reakcióban módosítunk, annak érdekében, hogy csökkentsük azok vízoldhatóságát.
Azt találtuk továbbá, hogy a találmány szerinti előhívók bizonyos, fény hatására térhálósodó gyanta-alapú sugárzásra érzékeny anyagok, így az 1 377 747. számú brit szabadalmi leírásban ismertetett anyagok előhívására használhatók. Ugyancsak alkalmazhatók ezek bizonyos, fény hatására polimerizálható olefinesen telítetlen vegyületeken alapuló, sugárzásra érzékeny anyagok, így a pentaeritritol-triakrilát, folyékony biszfenol A epoxi-diakrilát-gyanta (például Epocryl DRH-302), valamely akrilát-uretán oligomer (például UCAR Actomer X-116), a 2,2,5,5-tetraakril-oxi-metil-ciklopentanon és biszfenol A diglicidiléter-diakrilát alapú anyagok előhívására.
A következő példák a találmány szerinti előhívó bemutatására szolgálnak. ,
1. példa
Alumíniumlemezt elektrokémiai úton szemcsésítünk, eloxálunk, polivinil-foszfonsavval kezelünk és utána centrifugális úton bevonjuk az így kezelt lemezt olyan fényérzékeny réteggel, amely 4-diazodifenil-amin-biszulfát/Formaldehid-kondenzátum és nátrium-tri-izopropil-naftalin-szulfonát reakciótermékét tartalmazza és így negatív működésű sugárzásra érzékeny lemezt kapunk. A bevonat súlya 0,7 g/m2. A lemezt ultraibolya fénnyel megvilágítjuk negatív átnézeti kép útján és utána előhívjuk olyan oldattal, amely 4 s% nátrium-propanoátot, 10 s% nátrium-benzoátot és 20 tí% Ethylan HB4-et tartalmaz, míg az oldal hiányzó részét víz teszi ki. Az Ethylan HB4 egy fenol-etoxilát.
Az előhívott lemez érzékenységét hagyományos módon megszüntetjük és számos megfelelő kópiát készítünk nyomás útján. Semmiféle habzási probléma nem merült fel egy Howson-Algraphy negatív működésű gépben használt előhívó esetén nagy számú lemez előhívása során.
2. példa
Az 1. példa szerinti eljárást megismételjük azzal az.eltéréssel, hogy előhívóként olyan oldatot használunk, amely 5 s% nátriumvalerátot, 10 s% nátriumbenzoátot, 10 tf% Ethylan HB4-et és 10 tf% Antarox LF 330-at tartalmaz, a fennmaradó menynyiséget pedig víz alkotja. Az Antarox LF 330 egy
187.293 amely 6 s% nátriumszorbátot, 10 s% nátriumbenzoátot és 20 tf°/o Ethylan HB4-et tartalmaz, a fennmaradó részt pedig víz teszi ki. A kapott eredmények hasonlóak az előzőekben elért eredményekhez.
módosított alkohol-etoxilát. Ily módon az előző példában megadott eredményekhez hasonló eredményeket kapunk.
3. példa
Az 1. példa szerinti eljárást megismételjük azzal az eltéréssel, hogy előhívóként olyan vizes oldatot használunk, amely 15 s% nátriumoktanoátot és 15 tf% Antarox LF 330-at tartalmaz, a fennmaradó részt pedig ismét víz alkotja. Ily módon az előzőekhez hasonló eredményeket érünk el.
4. példa.
Alumíniumlemezt készítünk az 1. példában megadott módon, amelyet centrifugális úton 4-diazodifenilamin-biszulfát/formaldehid kondenzációs termék és dodecilbenzolszulfonsav-nátriumsó reakciótermékével vonunk be. A bevonat súlya 0,8 g/ m2. A keletkező sugárzásra érzékeny lemezt ezután képszerűen megvilágítjuk és előhívjuk olyan vizes oldattal, amely 9 s% nátrium-2-etilhexanoátot, 9 s% nátriumtoluátot és 15 tf% Antarox LF 330-at tartalmaz, a fennmaradó részt pedig víz alkotja. A kapott eredmények hasonlóak az 1-3. példáknál elért eredményekhez.
5. példa
A 3. példát megismételjük azzal az eltéréssel, hogy a nátriumoktanoátot hasonló mennyiségű nátriumnonanoáttal helyettesítjük. A kapott eredmények az előzőekben elért eredményekhez hasonlók.
8. példa
A 7. példában leírt előhívót használjuk egy olyan képszerűen megvilágított sugárzásra érzékeny lemez előhívására, amelynek a bevonata 4 súlyrész mennyiségben 4-diazodifenilamin-biszulfát/ formaldehid kondenzátum és nátrium-tri-izopropilnaftalinszulfonát reakeióterméket tartalmazza és 1 súlyrész teljesen hidrolizált sztirol/maleinsavanhidrid kopolimert foglal magában. A kapott eredmények hasonlóak az előző példák eredményeihez.
9. példa
Valamely 1. példa szerint készített alumínium'emezt centrifugálisan bevonunk olyan eleggyel, amely a) 4-diazodifenil-aminfoszfát/forma!dehid kondenzátumnak és dodecilbenzolszulfonsavnátriumsónak a reakciótermékét tartalmazza és egyenértéknyi mennyiségű akrilgyantát (Macronal SN510) foglal magában. A keletkező sugárzásra érzékeny lemezt ultraibolya fény hatásának tesszük ki negatív átnézeti kép útján és utána előhívjuk olyan oldattal, amely 9 s% íáliumoktanoátot, 9 s% káliumbenzoátot, 15 tf% benzilalkoholt és 15 tf% Plurafac RA40-et tartalmaz, a fennmaradó részt pedig víz teszi ki. A Plurafac RA40 egy módosított alKoholetoxilát. A kapott eredmények hasonlóak az előző példák eredményeihez.
6. példa
Az 1. példában leírt módon járunk el azzal az eltéréssel, hogy (i) a nálrium-tri-izopropilnaftalinszulfonátot 4-nitro-benzolszulfonsav-nátriumsóval helyettesítjük, (ii) a bevonat tartalmaz még 5 g Victoria Cyan-t is 100 g gyantára számítva, továbbá (iii) előhívóként olyan vizes oldatot használunk, amely 10 s% káliumbenzoátot, 10 s% káliumheptanoátot és 15 tf% Ethylan CPG945-öt tartalmaz, a fennmaradó részt pedig víz alkotja. Az Ethylan CPG945 egy módosított alkoholetoxilát. Az elért eredmények hasonlóak az előző példák eredményeihez.
7. példa
A 6. példát megismételjük azzal az eltéréssel, hogy előhívóként olyan vizes oldatot használunk,
10. példa összehasonlításként egy 3. példa szerint készített lemezt olyan vizes oldattal hívunk elő, amely 15 s% nátriumbenzoátot és 15 tf% Antarox LF 330-at tartalmaz, a fennmaradó részt pedig víz alkotja. A nem-képszerű felületek foltosak és számos lemez gtpben való előhívása után az előhívó megengedhetetlen habszintet létesít.
11. példa
Valamely alifás és aromás savak sóinak a kombinációjából eredő szinergetikus hatás bemutatása érdekében három lemezt készítünk az 1, példában leírt módon és ezeket a lapokat fénycsökkentőn keresztül világítjuk meg, majd előhívjuk őket, mégpedig a 3. példa szerinti (1. lemez), a 4. példa szerinti (2. lemez) és a 10. példa szerinti (3. lemez) előhí-42
187.293 vóval.
Az 1. lemez felülete tiszta nem-képszerű felületekkel rendelkezik és a fénycsökkentő ék 6-os alapfokozatot és 17-es Csúcsfokozatot mutat. A 2. le- 5 mez ugyancsak tiszta nem-képszerű felületekkel rendelkezik. Az alapfokozat 6 és a csúcsfokozat 15.
A 3. lemez rosszul színszemcsézett nem-képszerű felületekkel rendelkezik és a fénycsökkentő ék csúcsfokozatát nem lehet meghatározni a felületnél 10 jelentkező habzásnak köszönhetően.
12. példa
A habzasgatló halasok bemutatása érdekében a 3., 4., 5. és 10. példa szerinti előhívókat, valamint egy nem-ionos felületaktív anyag (Antarox LF 330) vizes oldatát magában habzási vizsgálatnak vetjük alá oly módon, hogy a vizsgálandó folyadékok ρθ 200 200 ml-nyi mennyiségét mérőhengerekben zárva megfordítjuk és mérjük a kezdeti habtérfogatot, valamint fél perces időszakaszokban a habtérfogatot. A kapott eredményeket az 1. táblázatban adjuk meg. ««/. Táblázat
Habtérfogat (cm3)
Idő (perc) 0 0,5 1 1,5 2, 2,5 3. 3,5 4 4,5 5
15lfv
Antarox 234 234 226 200 177 133 130 127 110 90 59
LF 330
3. példa 82 82 82 82 65 40 27 26 25 23 15
4. példa TOT 88 84 78 70 52 44 36 25 TJ
5. példa 158 150 140 ΙΪ0 80 38 18 15 12 6 5
10. példa 210 210 210 195 180 155 123 75 50 25 30
13. példa
Egy aluminiumlemezt elektrokémiai úton szem- 4g csésítünk és eloxálunk, majd bevonjuk valamely epoxigyanta (Epikote 1004) és 4-azido-alfa-cianodelta-klór-cinnamildiénecetsav reakciótermékével.
A keletkező sugárzásra érzékeny lemezt képszerűen megvilágítjuk ultraibolya fénnyel negatív átnézeti gg kép alatt és olyan vizes oldattal hívjuk elő, amely 5 s% nátriumoktoátot, 5 s% nátriumbenzoátot, 15 tf% 2-(2-metoxietoxi)etanolt (metildioxitol) és 15 tf% Ukanil 50-t tartalmaz, a fennmaradó részt pedig víz teszi ki. Ukanil 50 egy alkoholetoxilát felületaktív anyag. Az előhívott lemez érzékenységét öí> megszüntetjük hagyományos módon és számos megfelelő kópiát készítünk. Semmiféle habzási probléma sem jelentkezett, ha nagy számú ilyen lemezt hasonló módon előhívtunk egy lemezelőhívó gépben.
Kiadja az Országos Találmányi Hivatal A kiadásért felel: Himer Zoltán osztályvezető Szedte a Nyomdaipari Fcnyszedő Üzem (877671/09)
Kódex
14. példa
A 6. példa szerinti előhívót használjuk olyan képszerűen megvilágított lemez kezeléséhez, amely 3-metoxi-difenilamin-4-dÍazónium-szulfát/4'-biszmetoximetil-difeniléter kondenzációs termék és 2-mezitilénszulfonsav reakciótermékét tartalmazza bevonatként. A kapott eredmények az előző példákban elért eredményekhez hasonlóak.
A diazovegyület előállítása az 1 312 926 számú brit szabadalmi leírásban van leírva.
15. példa
A 6. példa szerinti előhívót használjuk olyan képszerűen megvilágított lemez előhívására, amely 2 mól p-(N-etil-N-P-hidroxietil)-aminobenzoldiazóniumklórcinkát/1 mól szebacilklorid-kondenzátum és 2-hidroxi-4-metoxibenzofenon-5-szulfonsav reakciótermékét tartalmazó sugárzásra érzékeny bevonattal van ellátva. Ily módon az előző példák eredményeihez hasonló eredményeket kapunk.
A diazovegyület előállítása a 2 003 147 számú brit szabadalmi leírásban megadott módon történik.

Claims (5)

  1. Szabadalmi igénypontok
    1. Vizes előhívó készítmény, amely nem-ionos felületaktív anyag vizes oldatát és legfeljebb 9-szénatomos alifás karbonsav sóját foglalja magában és képszerűen megvilágított, negatív-működésű, sugárzásra érzékeny lemezek előhívására alkalmas, azzal jellemezve, hogy a 3-9 szénatomos alifás karbonsav sójának mennyisége 20-300 g/liter és az előhívó - a magban adott esetben helyettesített benzoesav vagy toluilsav sóját is tartalmazza 20-300 g/liter mennyiségben, a készítmény pH-ja pedig előnyösen 6— 11.
  2. 2. Az !. igénypont szerinti készítmény, azzal jellemezve, hogy az alifás karbonsav propánsav, valeriánsav, szorbinsav vagy nonánsav.
  3. 3. Az 1. igénypont szerinti készítmény, azzaljellemezve, hogy az alifás karbonsav 7 vagy 8 szénatomot tartalmaz.
  4. 4. A 3. igénypont szerinti készítmény, azzaljellemezve, hogy az alifás karbonsav heptánsav, oktánsav vagy 2-etil-hexánsav.
  5. 5. Az 1. igénypont szerinti készítmény, azzal jellemezve, hogy az előhívó benzoesavat vagy toluilsavat tartalmaz.
HU81186A 1980-01-29 1981-01-28 Composition for treating plates sensible to radiation HU187293B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8002934 1980-01-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
HU187293B true HU187293B (en) 1985-12-28

Family

ID=10510965

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
HU81186A HU187293B (en) 1980-01-29 1981-01-28 Composition for treating plates sensible to radiation

Country Status (19)

Country Link
US (1) US4350756A (hu)
EP (1) EP0033232B2 (hu)
AT (1) ATE7823T1 (hu)
AU (1) AU543918B2 (hu)
BR (1) BR8100520A (hu)
CA (1) CA1165610A (hu)
DE (1) DE3162627D1 (hu)
DK (1) DK160848C (hu)
ES (1) ES8204348A1 (hu)
FI (1) FI72395C (hu)
GB (1) GB2068136B (hu)
HU (1) HU187293B (hu)
IE (1) IE50592B1 (hu)
KE (1) KE3465A (hu)
MW (1) MW481A1 (hu)
NO (1) NO810299L (hu)
NZ (1) NZ196110A (hu)
ZA (1) ZA81518B (hu)
ZW (1) ZW1781A1 (hu)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3100259A1 (de) * 1981-01-08 1982-08-05 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten
DE3140186A1 (de) * 1981-10-09 1983-04-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Entwickler und verfahren zum entwickeln fuer belichtete negativ-arbeitende reproduktionsschichten
US4436807A (en) 1982-07-15 1984-03-13 American Hoechst Corporation Developer composition with sodium, lithium and/or potassium salts for developing negative working imaged photographic material
US4824769A (en) * 1984-10-15 1989-04-25 Allied Corporation High contrast photoresist developer
DE3439597A1 (de) * 1984-10-30 1986-04-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers
GB2167572A (en) * 1984-11-23 1986-05-29 Colin George Thompson Photo mechanical imaging
US4786582A (en) * 1985-08-02 1988-11-22 Hoechst Celanese Corporation Organic solvent free developer for photosensitive coatings
US4714670A (en) * 1986-06-09 1987-12-22 Imperial Metal & Chemical Company Developer including an aliphatic cyclic carbonate in the oil phase emulsion
US4780396A (en) * 1987-02-17 1988-10-25 Hoechst Celanese Corporation Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant
US5081003A (en) * 1987-07-27 1992-01-14 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for newspaper plates
US4851324A (en) * 1987-07-27 1989-07-25 Hoechst Celanese Corporation Phenoxy propanol containing developer compositions for lithographic plates having neutral pH
US4912021A (en) * 1988-02-03 1990-03-27 Hoechst Celanese Corporation Developer-finisher compositions for lithographic plates
US4873174A (en) * 1988-02-03 1989-10-10 Hoechst Celanese Corporation Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates
US5278030A (en) * 1988-10-24 1994-01-11 Du Pont-Howson Limited Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12
GB8918161D0 (en) * 1989-08-09 1989-09-20 Du Pont Improvements in or relating to radiation sensitive compounds
US5122438A (en) * 1989-11-02 1992-06-16 Konica Corporation Method for developing a waterless light-sensitive lithographic plate
US5279927A (en) * 1992-07-23 1994-01-18 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US5316892A (en) * 1992-07-23 1994-05-31 Eastman Kodak Company Method for developing lithographic printing plates
US5380623A (en) * 1992-12-17 1995-01-10 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity
DE69315046T2 (de) * 1992-12-17 1998-06-04 Eastman Kodak Co Wässriger Entwickler für lithographische Druckplatten der zu einer verringerten Schlammbildung führt
US5582964A (en) * 1994-04-14 1996-12-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photographic material having a syndiotactic styrenic polymer containing support
EP0732628A1 (en) 1995-03-07 1996-09-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous alkaline solution for developing offset printing plate
US6383717B1 (en) 2000-10-11 2002-05-07 Kodak Polychrome Graphics, Llc Aqueous developer for negative working lithographic printing plates
US7316891B2 (en) * 2002-03-06 2008-01-08 Agfa Graphics Nv Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution
PL1751625T3 (pl) * 2004-05-19 2012-04-30 Agfa Nv Sposób wytwarzania fotopolimerowej płyty drukarskiej

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE624160A (hu) * 1961-10-30
GB1220808A (en) * 1967-05-18 1971-01-27 Howson Algraphy Ltd Processing of presensitized photolithographic printing plate
US3547632A (en) * 1967-11-16 1970-12-15 Eastman Kodak Co Method of lithographic reproduction and solution to render image areas oleophilic
DE1767384A1 (de) * 1968-05-04 1971-11-18 Henkel & Cie Gmbh Schaumarme Spuel- und Reinigungsmittel fuer die Geschirreinigung
US3707373A (en) * 1969-03-17 1972-12-26 Eastman Kodak Co Lithographic plate developers
US3745028A (en) * 1971-04-26 1973-07-10 Eastman Kodak Co Lithographic plate desensitizer formulations
US4147545A (en) * 1972-11-02 1979-04-03 Polychrome Corporation Photolithographic developing composition with organic lithium compound
US4055515A (en) * 1975-12-31 1977-10-25 Borden, Inc. Developer for printing plates
DE2925363C2 (de) * 1978-06-23 1985-09-05 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten
JPS5542890A (en) * 1978-09-22 1980-03-26 Fuji Photo Film Co Ltd Desensitizing solution for lithographic printing
US4287082A (en) * 1980-02-22 1981-09-01 The Procter & Gamble Company Homogeneous enzyme-containing liquid detergent compositions containing saturated acids

Also Published As

Publication number Publication date
ES498879A0 (es) 1982-05-01
FI810229L (fi) 1981-07-30
EP0033232B2 (en) 1988-08-24
DK160848B (da) 1991-04-22
CA1165610A (en) 1984-04-17
IE50592B1 (en) 1986-05-14
ZW1781A1 (en) 1981-12-09
DE3162627D1 (en) 1984-07-12
IE810163L (en) 1981-07-29
DK37881A (da) 1981-07-30
NO810299L (no) 1981-07-30
FI72395C (fi) 1987-05-11
FI72395B (fi) 1987-01-30
NZ196110A (en) 1983-06-17
MW481A1 (en) 1982-07-14
BR8100520A (pt) 1981-08-18
AU6669981A (en) 1981-08-06
ZA81518B (en) 1982-02-24
KE3465A (en) 1984-11-09
ATE7823T1 (de) 1984-06-15
AU543918B2 (en) 1985-05-09
EP0033232B1 (en) 1984-06-06
ES8204348A1 (es) 1982-05-01
US4350756A (en) 1982-09-21
GB2068136A (en) 1981-08-05
GB2068136B (en) 1984-09-05
EP0033232A1 (en) 1981-08-05
DK160848C (da) 1991-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
HU187293B (en) Composition for treating plates sensible to radiation
US6255042B1 (en) Developing system for alkaline-developable lithographic printing plates with different interlayers
US4329422A (en) Post-exposure treating solution for photosensitive graphic arts articles
US6143479A (en) Developing system for alkaline-developable lithographic printing plates
US4822723A (en) Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates
GB2123162A (en) Developing solution for light-sensitive printing plates
JP2000206706A (ja) 濃縮液、およびそれから製造した、像様露光された記録材料用の水性現像剤
US4851324A (en) Phenoxy propanol containing developer compositions for lithographic plates having neutral pH
US4147545A (en) Photolithographic developing composition with organic lithium compound
US5316892A (en) Method for developing lithographic printing plates
JP3295503B2 (ja) 低スラッジ生成を示す平板印刷版の水性現像液
JP3295504B2 (ja) 親油性を改良した平板印刷版の水性現像液
US4592992A (en) Developer compositions for lithographic plates
US4780396A (en) Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant
US5279927A (en) Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US4786580A (en) Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition
JPH07102753B2 (ja) 平版印刷版の製版方法及びバーニング前処理液
CA2098169C (en) Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
EP1006412B1 (en) Development of radiation sensitive compositions
US5081003A (en) Developer compositions for newspaper plates
NL9400920A (nl) Ontwikkelaarsamenstelling voor positiefwerkende lithografische drukplaten en werkwijze voor het ontwikkelen van positiefwerkende lithografische drukplaten.
JPH08202048A (ja) 感光性組成物及び該組成物の層を有する感光性平版印刷版の処理方法