FI126516B - Monitasoinen mikromekaaninen rakenne - Google Patents

Monitasoinen mikromekaaninen rakenne Download PDF

Info

Publication number
FI126516B
FI126516B FI20155843A FI20155843A FI126516B FI 126516 B FI126516 B FI 126516B FI 20155843 A FI20155843 A FI 20155843A FI 20155843 A FI20155843 A FI 20155843A FI 126516 B FI126516 B FI 126516B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
rotor
mask
stator
device wafer
layer
Prior art date
Application number
FI20155843A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI20155843A (fi
Inventor
Altti Torkkeli
Antti Iihola
Ville-Pekka Rytkönen
Matti Liukku
Original Assignee
Murata Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co filed Critical Murata Manufacturing Co
Priority to FI20155843A priority Critical patent/FI126516B/fi
Priority to TW105113943A priority patent/TWI636949B/zh
Priority to US15/147,197 priority patent/US9764942B2/en
Priority to CN201680027941.1A priority patent/CN107667067B/zh
Priority to JP2018511536A priority patent/JP6558495B2/ja
Priority to PCT/IB2016/052630 priority patent/WO2016185313A1/en
Priority to EP16725234.5A priority patent/EP3294664A1/en
Publication of FI20155843A publication Critical patent/FI20155843A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI126516B publication Critical patent/FI126516B/fi

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • B81B3/0064—Constitution or structural means for improving or controlling the physical properties of a device
    • B81B3/0086—Electrical characteristics, e.g. reducing driving voltage, improving resistance to peak voltage
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00436—Shaping materials, i.e. techniques for structuring the substrate or the layers on the substrate
    • B81C1/00555—Achieving a desired geometry, i.e. controlling etch rates, anisotropy or selectivity
    • B81C1/00603—Aligning features and geometries on both sides of a substrate, e.g. when double side etching

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Claims (6)

1. Mikromekaaninen laite, joka käsittää laitekerroksen, joka käsittää vain homogeenista laitekiekkomateriaalia, joka laitekerros käsittää monikerroksisen kamparakenteen, jossa on ainakin roottori (512) ja ainakin kaksi staattoria (510, 511), tunnettu siitä, että ainakin jotkut mainitusta roottorista (512) ja ainakin kahdesta staattorista (510, 511) on upotettu ainakin osittain ainakin kahteen eri upotussyvyyteen (d2', d4) laitekerroksen (100) ensimmäiseltä pinnalta ja ainakin jotkut mainitusta roottorista (512) ja ainakin kahdesta staattorista (510, 511) on upotettu ainakin osittain ainakin kahteen eri upotussyvyyteen (d3', d5') laitekerroksen toiselta pinnalta.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen mikromekaaninen laite, jossa mainitut roottori (512) ja ainakin kaksi staattoria (510, 511) muodostavat kamparakenteen, jolla on kaksoislineaarinen vastefunktio, joka kamparakenne koostuu ensimmäisestä elektrodiparista, jonka muodostavat ensimmäinen staattori (510) ja roottori (512) ja toisesta elektrodiparista, jonka muodostavat toinen staattori (511) ja roottori (512), joiden elektrodiparien elektrodit sijaitsevat pystysuunnassa ainakin kolmella eri tasolla, ja jossa ensimmäisen elektrodiparin lähtöarvon muutos on päinvastainen kuin toisen elektrodiparin lähtöarvon muutos.
3. Jonkin patenttivaatimuksista 1-2 mukainen mikromekaaninen laite, joka sisältää ensimmäisen staattorin (510) ja roottorin (512) muodostaman ensimmäisestä elektrodiparin ja toisen staattorin (511) ja roottorin (512) muodostaman toisen elektrodiparin, jossa kulloisenkin ensimmäisen ja toisen elektrodiparin staattorilla ja roottorilla on esiasetettu määrä pystysuuntaista limittymää tasapainoasemassa, joka pystysuuntainen limittymä on vähemmän kuin vastaavan elektrodiparin kummankaan roottorin tai staattorin pystyulottuvuus, niin että sen alueen, jolla ensimmäisen elektrodiparin ja toisen elektrodiparin vastetoiminnot muuttuvat lineaarisesti, määrittää vastaavaan elektrodipariin kuuluvan vastaavan staattorin ja roottorin suhteellinen paksuus ja kuhunkin vastaavaan elektrodipariin kuuluvan staattorin ja roottorin välisen pystysuuntaisen limittymän määrä tasapainoasemassa, jolloin elektrodiparien mainitut suhteelliset paksuudet ja mainitun pystysuuntaisen limittymän määrittää mainittujen rakenteiden laitekerroksen mainitulta ensimmäiseltä ja/tai mainitulta toiselta pinnalta suoritettava upotusmäärä (d2', d3', d4, d5')·
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen mikromekaaninen laite, jossa ainakin yksi mainituista staattoreista (510, 511) ja roottorista (512) limittyy tasapainoasemassa pystyulottuvuudeltaan määrällä, joka on pienempi kuin mainitun ainakin yhden staattorin kampasormen pystysuuntainen paksuus ja pienempi kuin roottorin kampasormen pystysuuntainen paksuus.
5. Jonkin patenttivaatimuksista 1-4 mukainen mikromekaaninen laite, jossa mainitun roottorin keskiosa (512a) on vähemmän upoksissa mainitun laitekerroksen (100) ainakin yhden pinnan alapuolella kuin mainitun roottorin ainakin yksi sormi (512b, 512c), joka on upotettu mainitun laitekerroksen (100) mainitun ainakin yhden pinnan alapuolelle.
6. Jonkin patenttivaatimuksista 1-4 mukainen mikromekaaninen laite, jossa mainitun roottorin keskiosa (512a) on enemmän upoksissa mainitun laitekerroksen ainakin yhden pinnan (100) alapuolella kuin mainitun roottorin ainakin yksi sormi (512b, 512c), joka on upotettu mainitun laitekerroksen (100) mainitun ainakin yhden pinnan alapuolelle.
FI20155843A 2015-05-15 2015-11-16 Monitasoinen mikromekaaninen rakenne FI126516B (fi)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20155843A FI126516B (fi) 2015-11-16 2015-11-16 Monitasoinen mikromekaaninen rakenne
TW105113943A TWI636949B (zh) 2015-05-15 2016-05-05 多層微機械結構
US15/147,197 US9764942B2 (en) 2015-05-15 2016-05-05 Multi-level micromechanical structure
CN201680027941.1A CN107667067B (zh) 2015-05-15 2016-05-09 多级微机械结构
JP2018511536A JP6558495B2 (ja) 2015-05-15 2016-05-09 マルチレベルマイクロメカニカル構造
PCT/IB2016/052630 WO2016185313A1 (en) 2015-05-15 2016-05-09 A multi-level micromechanical structure
EP16725234.5A EP3294664A1 (en) 2015-05-15 2016-05-09 A multi-level micromechanical structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20155843A FI126516B (fi) 2015-11-16 2015-11-16 Monitasoinen mikromekaaninen rakenne

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FI20155843A FI20155843A (fi) 2016-11-16
FI126516B true FI126516B (fi) 2017-01-13

Family

ID=57494788

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20155843A FI126516B (fi) 2015-05-15 2015-11-16 Monitasoinen mikromekaaninen rakenne

Country Status (1)

Country Link
FI (1) FI126516B (fi)

Also Published As

Publication number Publication date
FI20155843A (fi) 2016-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI126508B (fi) Monitasoisen mikromekaanisen rakenteen valmistusmenetelmä
US9764942B2 (en) Multi-level micromechanical structure
TWI628138B (zh) 一種製造一微機電系統結構的方法
JP2007309936A (ja) 改善された振動性能をもつｍｅｍｓ垂直櫛形駆動装置
JP2011022137A (ja) Ｍｅｍｓ装置及びその製造方法
JPH06123632A (ja) 力学量センサ
JP7196891B2 (ja) 密度を高めたｍｅｍｓ素子
FI126516B (fi) Monitasoinen mikromekaaninen rakenne
EP3855116A2 (en) Sensor device and method of fabrication
JP4362739B2 (ja) 振動型角速度センサ
CN104555894B (zh) 深沟槽中感应材料的成膜方法
US6938487B2 (en) Inertia sensor
CN117342516A (zh) 一种mems垂直电极结构的制造方法
KR100643402B1 (ko) 마이크로 센서의 부양체 및 그 제조방법
KR100658202B1 (ko) 마이크로 구조물의 부양체 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
FG Patent granted

Ref document number: 126516

Country of ref document: FI

Kind code of ref document: B