ES2934706T3 - Dispositivo de elevación para un sistema y método de procesamiento de vidrio - Google Patents

Dispositivo de elevación para un sistema y método de procesamiento de vidrio Download PDF

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Abstract

Un dispositivo elevador para levantar una lámina de vidrio en un sistema de procesamiento de vidrio incluye una matriz de chorros elevadores que tiene salidas de chorros elevadores periféricos y salidas de chorros elevadores internos dispuestas dentro de las salidas de chorros elevadores periféricos. Además, cada salida de chorro de elevación puede funcionar para permitir que el gas fluya hacia la hoja de vidrio. El dispositivo de elevación también incluye una unidad de control para controlar el funcionamiento de las salidas de los surtidores de elevación, y la unidad de control está configurada para iniciar la operación de al menos una de las salidas de los surtidores de elevación interiores antes de comenzar la operación de al menos una de las salidas de los surtidores de elevación periféricas. . (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)

Description

DESCRIPCIÓN
Dispositivo de elevación para un sistema y método de procesamiento de vidrio
Campo técnico
La presente invención se refiere a la elevación de una lámina de vidrio para el procesamiento de vidrio, según las reivindicaciones.
Antecedentes
Aparatos anteriores para elevar láminas de vidrio se divulgan en las patentes de EE.UU. n.° 4.204.854 y 4.356.018, por ejemplo. De forma adicional, la publicación estadounidense n.° 2015218030 A1 describe un sistema de formación y un método para formar una lámina de vidrio caliente con curvatura transversal. El sistema incluye un transportador que tiene múltiples rodillos en una estación de formación en prensa. La estación incluye una matriz de chorros de elevación de gas colocada debajo de un plano de transporte e incluye bombas de chorro de gas para elevar la lámina de vidrio. Las patentes de EE.UU. n.° 4202681, 4222763, 4356018, 4386952, 4514208 y 4865638, así como los documentos JP2001158631 y US2015274575, también fueron considerados.
Sumario
Un dispositivo de elevación, de acuerdo con la divulgación, para elevar una lámina de vidrio en un sistema de procesamiento de vidrio incluye una matriz de chorros de elevación que tiene salidas de chorros de elevación periféricas y salidas de chorros de elevación interiores dispuestas hacia dentro de las salidas de chorros de elevación periféricas. Además, cada salida de chorros de elevación es operable para permitir que el gas fluya hacia la lámina de vidrio. El dispositivo de elevación también incluye una unidad de control para controlar el funcionamiento de las salidas de chorros de elevación, y la unidad de control está configurada para iniciar el funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación interiores antes de iniciar el funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación periféricas.
De acuerdo con otro aspecto de la divulgación, un dispositivo de elevación para elevar una lámina de vidrio en un sistema de procesamiento de vidrio incluye una matriz de chorros de elevación que tiene múltiples salidas de chorros de elevación periféricas y múltiples salidas de chorros de elevación interiores dispuestas hacia el interior de las salidas de chorros de elevación periféricas. Al menos una salida de chorros de elevación periférica está en ángulo hacia un plano central de la matriz de chorros de elevación, y al menos una salida de chorros de elevación interior próxima al al menos un chorro de elevación periférico está en ángulo alejándose del plano central.
Un método de acuerdo con la divulgación de elevar una lámina de vidrio en un sistema de procesamiento de vidrio incluye colocar la lámina de vidrio sobre una matriz de chorros de elevación que incluye múltiples salidas de chorros de elevación periféricas y múltiples salidas de chorros de elevación interiores dispuestas hacia dentro de las salidas de chorros de elevación periféricas. El método incluye además el inicio del funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación interiores de tal manera que el gas fluya desde al menos una salida de chorros de elevación interior hacia la lámina de vidrio, y el inicio del funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación periféricas de manera que el gas fluye desde al menos una salida de chorros de elevación periférica hacia una parte periférica de la lámina de vidrio. Las salidas de chorros de elevación son operables para facilitar la elevación de la lámina de vidrio hacia una herramienta, y el inicio del funcionamiento de la al menos una salida de chorros de elevación periférica se realiza después de iniciar el funcionamiento de la al menos una salida de chorros de elevación interior para impedir que el gas fluya entre la lámina de vidrio y la herramienta.
Breve descripción de los dibujos
La figura 1 es una vista en alzado esquemática de un sistema de procesamiento de láminas de vidrio que incluye una estación de formación que tiene un dispositivo de elevación según la descripción para elevar una lámina de vidrio calentada;
la figura 2 es una vista en sección tomada a través de la estación de formación a lo largo de la dirección de la línea 2-2 en la figura 1 e ilustra un aparato de formación que incluye moldes superiores primero y segundo, un molde inferior y un molde de suministro para realizar la formación en tres fases de una lámina de vidrio caliente con curvatura transversal y su posterior suministro;
la figura 3 es una vista en perspectiva del primer molde superior con su superficie convexa de formación normalmente hacia abajo mostrada mirando generalmente hacia arriba con fines ilustrativos;
la figura 4 es una vista en perspectiva del segundo molde superior con su superficie convexa de formación normalmente hacia abajo, también mostrada mirando generalmente hacia arriba con fines ilustrativos;
la figura 5 es una vista en perspectiva del molde inferior que recibe la lámina de vidrio formada inicialmente desde el primer molde superior para el combado por gravedad y el movimiento hasta debajo del segundo molde superior para la subsiguiente formación en prensa;
la figura 6 es una vista tomada a lo largo de la dirección de la línea 6-6 de la figura 2 para mostrar la recogida inicial de la lámina de vidrio caliente de un sistema de transporte por el primer molde superior para la formación inicial;
la figura 7 es una vista en alzado tomada en la misma dirección que la figura 2 e ilustra el movimiento de la lámina de vidrio en el molde inferior desde el primer molde superior hasta debajo del segundo molde superior para la formación en prensa con curvatura transversal;
la figura 8 es una vista en alzado tomada en la misma dirección que la figura 7 e ilustra el funcionamiento del molde de suministro para suministrar la lámina de vidrio formada desde la estación de formación;
la figura 9 es una vista en planta tomada a lo largo de la dirección de la línea 9-9 en la figura 6 para ilustrar el dispositivo de elevación que incluye una matriz de chorros de elevación de gas que funciona para realizar la recogida inicial de la lámina de vidrio del sistema de transporte por el primer molde superior;
la figura 10 es una vista en perspectiva del dispositivo de elevación para elevar la lámina de vidrio desde una condición generalmente plana en el sistema de transporte hasta una condición levantada y doblada, que se muestra en líneas transparentes (el sistema de transporte no se muestra para fines de claridad);
la figura 11 es una vista lateral del dispositivo de elevación y el sistema de transporte, mostrando la lámina de vidrio en la condición levantada y doblada;
la figura 12 es una vista lateral ampliada de una parte del dispositivo de elevación que se muestra en la figura 11;
la figura 13 es un diagrama de flujo que ilustra la operación de formación de láminas de vidrio calientes en tres fases;
la figura 14 es una vista tomada en la misma dirección que la figura 2 pero que ilustra otra realización de una estación de formación de tres fases que incluye un dispositivo de elevación según la descripción;
las figuras 15 y 16 son vistas parciales de la estación de formación de la figura 14 que ilustran el procesamiento de láminas de vidrio durante un ciclo de funcionamiento del sistema; y
la figura 17 es un diagrama de flujo que ilustra la operación de formación de láminas de vidrio calientes en tres fases de la realización de la estación de formación de las figuras 14-16.
Descripción detallada
Tal y como se requiere, las realizaciones detalladas se divulgan en el presente documento; sin embargo, debe entenderse que las realizaciones divulgadas son meramente ilustrativas y que son posibles formas diversas y alternativas. Las figuras no están necesariamente a escala; algunas características pueden exagerarse o minimizarse para mostrar detalles de componentes particulares. Por lo tanto, los detalles estructurales y funcionales específicos divulgados en el presente documento no se deben interpretar como limitaciones, sino simplemente como una base representativa para enseñar a un experto en la materia a emplear de diversas formas la presente divulgación. Además, como entenderán los expertos en la materia, diversas características de las realizaciones ilustradas y descritas con referencia a una cualquiera de las figuras pueden combinarse con características ilustradas en una o más de otras figuras para producir realizaciones que no se ilustran o describen explícitamente. De forma adicional, se pueden practicar otras realizaciones sin una o más de las características específicas explicadas en la siguiente descripción.
Durante la fabricación de un producto de lámina de vidrio, tal como un panel de espejo de vidrio para una aplicación de recolección de energía solar, un parabrisas de un vehículo, luneta trasera, o cualquier otro producto adecuado, puede ser deseable elevar una lámina de vidrio en relación con una operación de formación o doblado (p. ej., para levantar la lámina de vidrio contra una herramienta de molde), o en relación con cualquier otra operación de procesamiento de vidrio, para facilitar el procesamiento de la lámina de vidrio. En la presente divulgación, se proporcionan métodos y aparatos para elevar láminas de vidrio durante tales operaciones para mejorar el procesamiento del vidrio (p. ej., de modo que se puedan lograr tolerancias de forma ajustadas y/o una óptica mejorada).
Haciendo referencia a las figuras 1 y 2, se muestra un sistema de procesamiento de vidrio 10 para procesar láminas de vidrio G. El sistema 10 incluye un aparato o estación de calentamiento, tal como un horno 12, para calentar las láminas de vidrio G; una estación de formación o doblado 14 para formar o doblar cada lámina de vidrio G hasta la forma deseada; y una estación de enfriamiento, tal como una estación de recocido o una estación de templado 16, configurada para enfriar cada lámina de vidrio G. En la realización que se muestra en las figuras 1 y 2, el sistema 10 incluye además un dispositivo de elevación 18, de acuerdo con la presente divulgación, colocado en la estación de doblado 14 para elevar láminas de vidrio G durante el proceso de formación o doblado, como se explica a continuación en detalle.
El horno 12 puede tener cualquier configuración adecuada para calentar las láminas de vidrio G. Por ejemplo, el horno 12 puede incluir cualquier elemento de calentamiento adecuado (no mostrado) colocado encima y/o debajo de un transportador o sistema de transporte 20, que puede usarse para transportar las láminas de vidrio G en una orientación que se extiende generalmente horizontalmente a lo largo de un plano de transporte C a través del horno 12. Como un ejemplo más detallado, los elementos de calentamiento pueden incluir elementos de calentamiento radiantes, tal como calentadores eléctricos y/o elementos de calentamiento por convección, tal como distribuidores de gas caliente o aire caliente. El sistema de transporte 20 puede ser de tipo transportador de rodillos que incluya rodillos 21 como los divulgados en las patentes de los Estados Unidos N.s: 3.806.312 McMaster; 3.934.970 McMaster et al,, 3.947.242 McMaster et al,; y 3.994.711 McMaster et al,
De la misma forma, la estación de doblado 14 puede tener cualquier configuración adecuada para la formación o doblado de vidrio caliente de cada lámina de vidrio G en una forma particular. Por ejemplo, la estación de doblado 14 puede tener un transportador o sistema de transporte 22, que puede ser un sistema de transporte separado o parte del sistema de transporte 20, para recibir una lámina de vidrio calentada G; y un aparato de formación de láminas de vidrio o un aparato de doblado 24, que se muestra esquemáticamente en la figura 1, para formar o doblar la lámina de vidrio G. Además, la estación de doblado 14 tiene una carcasa aislada 25 que define una cámara calentada 26 (p. ej., calentada a una temperatura en el intervalo de 610 a 725 grados centígrados (°C), o al menos 600 °C) en la que se ubica el aparato de doblado 24. Aunque los rodillos 21 del sistema de transporte 22 se muestran contenidos dentro de la carcasa 25 en la figura 2, los extremos de cada rodillo 21 pueden extenderse lateralmente más allá de las paredes laterales de la carcasa 25.
Haciendo referencia a la figura 2, el aparato de doblado 24 puede configurarse como un aparato de doblado de múltiples fases para doblar una lámina de vidrio G en múltiples fases (p. ej., tres fases). En la realización mostrada en la figura 2, el aparato de doblado 24 incluye un primer molde superior 27 que funciona durante una primera fase de formación o doblado de la lámina de vidrio caliente, un segundo molde superior 28 que funciona durante una fase de formación en prensa de la formación de láminas de vidrio calientes, un molde inferior 30 que recibe la lámina de vidrio G desde el primer molde superior 27 para el combado por gravedad y mueve la lámina de vidrio G desde el primer molde superior 27 al segundo molde superior 28 y coopera con el segundo molde superior 28 para proporcionar la formación en prensa, y un molde de suministro 32 que recibe la lámina de vidrio formada G desde el segundo molde superior 28 para entregarla desde la estación de doblado 14 a la estación de templado 16.
Con referencia continua a la figura 2, un accionador 34 indicado esquemáticamente, tal como uno o más cilindros, tiene una o más conexiones 36 al primer molde superior 27 para proporcionar movimiento del mismo entre una posición superior por encima del sistema de transporte 22 y, como se muestra en la figura 6, una posición inferior adyacente al sistema de transporte 22 y una lámina de vidrio caliente transportada G. El primer molde superior 27 tiene una superficie orientada hacia abajo 38 que tiene una forma convexa hacia abajo que se muestra en la figura 6 e ilustrada por la línea transparente 40 en la figura 3. La superficie del molde 38 también tiene elementos de línea recta, tal como se ilustra por la línea transparente 42 que puede proporcionarse por una forma cilíndrica o una forma cónica parcial.
El dispositivo de elevación 18 en la estación de doblado 14 puede configurarse como una matriz de chorros de elevación de gas 44 para elevar y doblar la lámina de vidrio calentada G. Haciendo referencia a las figuras 2 y 6, la matriz de chorros de elevación 44 está ubicada debajo del plano de transporte C de la lámina de vidrio caliente G e incluye múltiples salidas de chorros de elevación espaciadas o salidas de chorros de gas 46, tal como boquillas, espitas o bombas, que suministran chorros de gas dirigidos hacia arriba 48 (p. ej., corrientes de chorro) para elevar la lámina de vidrio G hacia arriba desde el sistema de transporte 22 para formar y soportar inicialmente la lámina de vidrio contra la superficie orientada hacia abajo 38 del primer molde superior 27, que luego se mueve hacia arriba a su posición superior con la lámina de vidrio G soportada contra su superficie orientada hacia abajo 38, como se muestra en la figura 2. La superficie orientada hacia abajo 38 del primer molde superior 27 también puede tener una matriz de orificios de vacío 49 a través de los cuales se puede aspirar un vacío para ayudar en la elevación inicial de la lámina de vidrio G y luego soportar la lámina de vidrio como se describe a continuación.
Como se muestra en la figura 6, la matriz de chorros de elevación 44 puede configurarse de manera que los chorros de gas 48 de las salidas de chorros de gas 46 pasen entre los rodillos de transporte 21. En ese sentido, algunos chorros de gas 48 pueden fluir generalmente verticalmente, mientras que otros chorros de gas 48 pueden fluir en ángulo con respecto a un plano vertical. Tal configuración puede ser particularmente ventajosa cuando la separación entre los rodillos de transporte 21 adyacentes es fija, o cuando los rodillos de transporte 21 no pueden ajustarse fácilmente. Además, cada salida de chorro de gas 46 puede estar hecha de cualquier material adecuado, tales como acero inoxidable o cualquier otro metal adecuado, y puede ser del tipo divulgado en las patentes de EE. UU. n.° 4.204.854 y 4.356.018, de manera que un flujo de gas primario desde allí induce un flujo de gas secundario muchas veces la extensión del flujo de gas primario para proporcionar la elevación.
Haciendo referencia a la figura 9, las salidas de chorros de gas 46 del dispositivo de elevación 18 incluyen múltiples salidas de chorros de gas periféricas o exteriores 46a y múltiples salidas de chorros de gas interiores 46b dispuestas hacia dentro de las salidas de chorros de gas periféricas 46a. Las salidas de chorros de gas periféricas 46a están configuradas para elevar y soportar partes periféricas de la lámina de vidrio G, y las salidas de chorros de gas interiores 46b están configuradas para elevar y soportar partes periféricas de la lámina de vidrio G y/o partes interiores de la lámina de vidrio G (es decir., partes de la lámina de vidrio G dispuestas hacia el interior de las partes periféricas). Además, las salidas de chorros de elevación periféricas 46a pueden definir un contorno que es diferente de la periferia de la lámina de vidrio G cuando la lámina de vidrio G está situada por encima de la matriz de chorros de elevación 44 y no en un estado elevado.
Las salidas de chorros de gas 46 pueden proporcionarse en una o más partes o zonas controlables. En la realización mostrada en la figura 9, por ejemplo, las salidas de chorros de gas 46 se dividen en cinco zonas, Z1-Z5, que son controlables por separado. Por ejemplo, el dispositivo de elevación 18 puede incluir un controlador o unidad de control 50, una fuente 52 de gas presurizado (p. ej., aire) (p. ej., tanque, bomba o soplador) y múltiples válvulas controlables 54 que son controlables de forma ajustable, tal como por la unidad de control 50, para proporcionar gas a una presión deseada a cada uno de los múltiples conductos de suministro 56 que suministran gas a las cinco zonas, como se explica a continuación con mayor detalle. Además, la unidad de control 50 puede incluir cualquier hardware y/o software adecuado para controlar el funcionamiento del dispositivo de elevación 18 (p. ej., para realizar los algoritmos particulares representados por las funciones descritas en el presente documento). Por ejemplo, la unidad de control 50 puede incluir uno o más procesadores en comunicación con uno o más dispositivos de almacenamiento o unidades de memoria, que incluyen instrucciones de programa legibles por ordenador que son ejecutables por los uno o más procesadores para que la unidad de control 50 pueda controlar el funcionamiento de la fuente de gas 52, válvulas 54, etc. La unidad de control 50 puede también, o en su lugar, incluir uno o más circuitos integrados para aplicaciones específicas (ASIC), matrices de puertas programables, dispositivos lógicos programables y/o procesadores de señales digitales.
Haciendo referencia a las figuras 10-12, una o más (p. ej., al menos una, dos, tres o cuatro) de las salidas de chorros de gas periféricas 46a pueden colocarse fuera de la lámina de vidrio G cuando la lámina de vidrio G se coloca sobre la matriz de chorros de elevación 44 en un estado no elevado, y la una o más salidas de chorros de gas periféricas 46a pueden estar en ángulo hacia un plano central CP, p. ej., plano central vertical, de la matriz de chorros de elevación 44. Por ejemplo, una, dos, tres o cuatro de las salidas de chorros de gas periféricas 46a pueden colocarse fuera de la lámina de vidrio G y cada una en ángulo hacia el plano central CP en un ángulo en el intervalo de 51 a 89,9 grados (medido entre un eje central 58a de la respectiva salida de chorro de gas periférica 46a y un plano base BP, p. ej., plano horizontal u otro plano que sea perpendicular al plano central CP, de la matriz de chorros de elevación 44), o más particularmente en un ángulo en el intervalo de 59,9 a 78,9 grados, cuando la lámina de vidrio G se coloca por encima de la matriz de chorros de elevación 44 y no en un estado elevado. En la realización mostrada en la figura 10, al menos cinco salidas de chorros de gas periféricas 46a están colocadas fuera de la lámina de vidrio G en cada extremo de la lámina de vidrio G cuando la lámina de vidrio G está en un estado no elevado (véase la lámina de vidrio G mostrada en líneas continuas), y cada una de esas salidas de chorros de gas periféricas 46a están inclinadas hacia el plano central CP.
En uno o ambos extremos de la matriz de chorros de elevación 44, una o más (p. ej., al menos una, dos, tres o cuatro) de las salidas de chorros de gas interiores 46b, que están colocadas hacia el interior de la periferia de la lámina de vidrio G cuando la lámina de vidrio G está en el estado no elevado, puede estar en ángulo lejos del plano central CP. Por ejemplo, en cada extremo de la matriz de chorros de elevación 44, una o más de las salidas de chorros de gas interiores 46b, que se colocan en el mismo lado del plano central CP como la una o más salidas de chorros de gas periféricas 46a que están inclinadas hacia el plano central CP o que están colocadas próximas (p. ej., dentro de 100 a 230 mm - 10 a 23 cm - de, o más particularmente dentro de 132 a 188 mm - 13,2 a 18,8 cm - de) a una de las una o más salidas de chorros de gas periféricas 46a, cada una puede estar en ángulo lejos del plano central CP en un ángulo en el intervalo de 51 a 89,9 grados (medido entre un eje central 58b de la respectiva salida de chorros de gas interior 46b y el plano base BP de la matriz de chorros de elevación 44) o más particularmente en un ángulo en el intervalo de 59,9 a 78,9 grados. En la realización mostrada en las figuras 10 y 11, al menos tres salidas de chorros de gas interiores 46b en cada extremo de la matriz de chorro de elevación 44 están en ángulo alejándose del plano central CP.
Además, en cada extremo de la matriz de chorros de elevación 44, una o más de otras salidas de chorros de gas interiores 46b, que están colocadas hacia el interior de la periferia de la lámina de vidrio G cuando la lámina de vidrio G está en el estado no elevado, pueden estar inclinadas hacia el plano central CP. Por ejemplo, una o más salidas de chorros de gas interiores 46b, que se colocan en el mismo lado del plano central CP como la una o más salidas de chorros de gas periféricas 46a que están inclinadas hacia el plano central CP o que están colocadas próximas (p. ej., dentro de 100 a 230 mm (10 a 23 cm) de, o más particularmente dentro de 132 a 188 mm 13,2 a 18,8 cm de) a una de las una o más salidas de chorros de gas periféricas 46a, cada una puede estar en ángulo hacia el plano central CP en un ángulo en el intervalo de 51 a 89,9 grados (medido entre un eje central 58b de la respectiva salida de chorros de gas interior 46b y el plano base BP de la matriz de chorros de elevación 44)) o más particularmente en un ángulo en el intervalo de 59,9 a 78,9 grados.
Con la configuración anterior, el dispositivo de elevación 18 es operable para elevar efectiva y eficientemente una lámina de vidrio G, p. ej., fuera del sistema de transporte 22 y hacia el primer molde superior 27. Además, las salidas de chorros de gas 46 de la matriz de chorros de elevación 44 pueden controlarse secuencialmente para proporcionar una elevación eficaz, mientras se inhibe el flujo de gas entre la lámina de vidrio G y el primer molde superior 27. Por ejemplo, la unidad de control 50 puede estar configurada para iniciar secuencialmente el funcionamiento de las salidas de chorros de elevación, de modo que el funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación interiores 46b pueda iniciarse antes de iniciar el funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación periféricas 46a. Como un ejemplo más detallado, el funcionamiento de las salidas de chorros de gas 46 en la primera a la cuarta zona Z1-Z4 puede iniciarse primero para levantar la lámina de vidrio G fuera del sistema de transporte 22 y comenzar a doblar la lámina de vidrio G. Después de elevar y/o doblar lo suficiente la lámina de vidrio G, p. ej., después de 0,1 a 0,5 segundos, o más particularmente después de aproximadamente 0,2 segundos, de funcionamiento de las salidas de chorros de gas 46 de las zonas Z1-Z4, el funcionamiento de las salidas de chorros de gas periféricas 46a de la quinta zona Z5 puede iniciarse para elevar y/o doblar aún más las partes de extremo de la lámina de vidrio G lo suficiente hacia el primer molde superior 27. Debido a que las salidas de chorros de gas periféricas 46a de la quinta zona Z5 están dispuestas hacia el exterior de la lámina de vidrio G y están inclinadas hacia el plano central CP, se puede evitar que el gas fluya entre la lámina de vidrio G y el primer molde superior 27 iniciando el funcionamiento de esas salidas de chorros de gas 46a después de comenzar el funcionamiento de las otras salidas de chorros de gas 46.
Además, ya que las salidas de chorros de gas periféricas 46a de la quinta zona Z5 pueden estar inclinadas hacia el plano central CP, los chorros 48 emitidos desde allí pueden hacer contacto con la lámina de vidrio G en ángulos más deseables (p. ej., ángulos en el intervalo de 50 a 90 grados). Como resultado, las salidas de chorros de gas periféricas 46a de la quinta zona Z5 pueden proporcionar una elevación y/o doblado eficaz de la lámina de vidrio G hacia la superficie orientada hacia abajo 38 del primer molde superior 27. De forma adicional, como se muestra en la figura 12, los chorros de gas 48 de diferentes salidas de gas 46 pueden converger en la lámina de vidrio G, o de lo contrario, en general, hacer contacto con la misma área o parte de la lámina de vidrio G, para facilitar la elevación y/o doblado de la lámina de vidrio G. Por ejemplo, un chorro de gas 48a de una salida de gas periférica 46a que está en ángulo hacia el plano central CP puede converger en la lámina de vidrio G con un chorro de gas 48b de una salida de gas interior 46b que está en ángulo alejándose del plano central CP.
Volviendo a la figura 2, el segundo molde superior 28 de la estación de doblado 14 está separado horizontalmente del primer molde superior 27 dentro de la cámara calentada 26 de la carcasa 25 de la estación de doblado, y se puede mover verticalmente mediante un accionador 59 y una conexión 60 como el accionador y la conexión asociados con el primer molde superior 27. El movimiento vertical del segundo molde superior 28 es entre una posición superior situada por encima de la elevación del plano de transporte C y una posición más baja (figura 7) más cerca de la elevación del plano de transporte C. El segundo molde superior 28 tiene una superficie orientada hacia abajo 62 de una forma convexa hacia abajo con curvatura en direcciones transversales sin ningún elemento de línea recta como se muestra por las líneas transparentes curvadas 64 y 66 en la figura 4. El segundo molde superior 28 también tiene una matriz de orificios de vacío 68 en su superficie orientada hacia abajo 62 para formar y soportar la lámina de vidrio calentada G contra el segundo molde superior 28 durante el ciclo de formación.
También debe mencionarse que el primer y segundo molde superior 27 y 28 también se pueden mover hacia arriba y hacia abajo al mismo tiempo mediante un solo accionador en lugar de accionadores separados.
Como se muestra en la figura 2, una fuente de vacío 70 indicada esquemáticamente es operable para proporcionar un vacío en las superficies orientadas hacia abajo 38 y 62 del primer y segundo molde superior 27 y 28. De hecho, la fuente de vacío puede proporcionarse por aire a presión positiva suministrado a las bombas de chorros de gas 72 y 74 en el primer y segundo molde superior 27 y 28, y las bombas de chorro pueden ser del tipo divulgado en las patentes de EE.UU. n.° 4.202.681 y 4.222.763 para ser capaz de succionar diversos grados de vacío, así como proporcionar aire a presión positiva para proporcionar la liberación de la lámina de vidrio durante la operación de formación como se describe a continuación con más detalle.
El molde inferior 30, como se ilustra mejor en la figura 5, se orienta hacia arriba con una forma cóncava hacia arriba en direcciones transversales complementarias a la forma convexa hacia abajo de la superficie orientada hacia abajo 62 del segundo molde superior 28. Este molde inferior 30 se puede mover horizontalmente mediante un accionador 76 y una conexión 78 dentro de la cámara calentada 26 de la carcasa 25 de la estación de doblado a una ubicación debajo del primer molde superior 27 cuando el primer molde superior 27 está en su posición superior, como se muestra en la figura 7, con la lámina de vidrio G soportada contra su superficie orientada hacia abajo 38. El primer molde superior 27 luego se mueve hacia abajo para liberar la lámina de vidrio para transferirla al molde inferior 30. La liberación de la lámina de vidrio G puede proporcionarse por la terminación del vacío succionado y la terminación de los chorros de gas dirigidos hacia arriba proporcionados por la matriz de chorros de gas 44 descrita anteriormente, así como proporcionando gas a presión positiva a la superficie del molde 38. El primer molde superior 27 luego se mueve hacia arriba a su posición superior y el molde inferior 30 y la lámina de vidrio G soportada sobre el mismo se mueven horizontalmente a una ubicación debajo del segundo molde superior 28 mientras está en su posición superior como se muestra en la figura 2. Durante este movimiento, la lámina de vidrio G se comba por gravedad hacia la forma del molde inferior 30 con curvatura en direcciones transversales. El segundo molde superior 28 luego se mueve hacia abajo desde su posición superior que se muestra en la figura 2 a su posición inferior que se muestra en la figura 7 para cooperar con el molde inferior 30 para formar en prensa la lámina de vidrio G con curvatura en direcciones transversales, y el segundo molde superior 28 luego tiene un vacío succionado en su superficie orientada hacia abajo 62 para soportar la lámina de vidrio y se mueve hacia arriba a su posición superior que se muestra en la figura 8.
La operación de formación de vidrio continúa cuando el molde inferior 30 se saca de debajo del segundo molde superior 28 y vuelve a colocarse debajo del primer molde superior 27, como se muestra en la representación de líneas transparentes en la figura 7, mientras que el molde de suministro 32 se mueve desde su posición de la figura 2 en la estación de templado 16 a una ubicación debajo del segundo molde superior 28 para recibir la lámina de vidrio, como se muestra en la figura 8, a medida que el vacío termina en el segundo molde superior 28 de modo que la lámina de vidrio G cae sobre el molde de suministro 32. El molde de suministro 32 luego se mueve por su accionador 80 y la conexión 82 fuera de la estación de doblado 14 para el suministro o el procesamiento adicional de la lámina de vidrio formada en prensa, tal como por templado en la estación de templado 16 entre los cabezales de templado superior e inferior 84 y 86, como se muestra en la figura 2.
El sistema 10 puede incluir además un controlador o unidad de control 88, que se muestra en la figura 1, para controlar el funcionamiento de los componentes anteriores. La unidad de control 88 puede tener un paquete de conexiones 90 para conectarse con los diversos componentes del sistema 10, tal como el sistema de transporte 20, el sistema de transporte 22, el primer molde superior 27, el segundo molde superior 28, el molde inferior 30, el molde de suministro 32, el dispositivo de elevación 18, la fuente de vacío 70 y la estación de templado 16. Además, la unidad de control 88 puede incluir cualquier hardware y/o software adecuado para controlar el funcionamiento de los componentes anteriores con el fin de realizar la formación en prensa de la lámina de vidrio G, así como su suministro y templado (p. ej., para realizar los algoritmos particulares representados por las funciones descritas en el presente documento). Por ejemplo, la unidad de control 88 puede incluir uno o más procesadores en comunicación con uno o más dispositivos de almacenamiento o unidades de memoria, que incluyen instrucciones de programa legibles por ordenador que son ejecutables por los uno o más procesadores para que la unidad de control 88 pueda controlar el funcionamiento del sistema de transporte 20, el sistema de transporte 22, el primer molde superior 27, el segundo molde superior 28, el molde inferior 30, el molde de suministro 32, el dispositivo de elevación 18, la fuente de vacío 70, la estación de templado 16, etc. La unidad de control 88 puede también, o en su lugar, incluir uno o más circuitos integrados para aplicaciones específicas (ASIC), matrices de puertas programables, dispositivos lógicos programables y/o procesadores de señales digitales. En lugar de las conexiones 90, en cambio, la unidad de control 88 puede conectarse de forma inalámbrica a uno o más de los componentes anteriores. Además, la unidad de control 50 del dispositivo de elevación 18 puede ser parte de la unidad de control 88, o la unidad de control 50 puede estar separada de la unidad de control 88 pero configurada para comunicarse con la unidad de control 88.
En la estación de doblado de tres fases divulgada, la fuente de vacío 70 que se muestra en la figura 2 es operada por la unidad de control 88 que se muestra en la figura 1 para proporcionar un vacío a la superficie orientada hacia abajo 38 del primer molde superior 27 para cooperar con el dispositivo de elevación 18 para elevar la lámina de vidrio G desde el transportador de rodillos 22 en contacto con el primer molde superior 27 en su superficie orientada hacia abajo 38 para formar y soportar inicialmente la lámina de vidrio G. Después de que la lámina de vidrio G se mueva hacia arriba y entre en contacto con la superficie orientada hacia abajo 38 del primer molde superior 27, la unidad de control 88 puede terminar la operación de la matriz de chorros de elevación de gas 44 mientras continúa proporcionando el vacío que es entonces el único soporte de la lámina de vidrio G en el primer molde superior 27.
Volviendo a la figura 9, ahora se describirán con más detalle aspectos adicionales del dispositivo de elevación 18. Las salidas de chorros de gas 46 de la primera y segunda zonas Z1 y Z2, respectivamente, están configuradas para proporcionar elevación de las partes centrales de la lámina de vidrio G, las salidas de chorros de gas 46 de la tercera y cuarta zonas Z3 y Z4 están configuradas para proporcionar elevación de las partes intermedias y de extremo de la lámina de vidrio G, y las salidas de chorros de gas 46 de la quinta zona Z5, que se extienden más allá de las porciones de extremo opuestas de la lámina de vidrio G, están configuradas para proporcionar elevación de las partes de extremo de la lámina de vidrio G. En otra realización, las salidas de chorros de gas 46 en los extremos opuestos de la matriz de chorros de gas 44 pueden proporcionarse en zonas separadas. Además, como se ha mencionado anteriormente, el funcionamiento de las salidas de chorros de gas 46 de las zonas Z1 a Z5 puede iniciarse secuencialmente. Por ejemplo, la unidad de control 50 o la unidad de control 88 pueden controlar el funcionamiento de la fuente de gas 52 y las válvulas 54 de modo que las válvulas 54a-54d se abran primero para proporcionar gas calentado y presurizado (p. ej., aire) a través de los conductos 56a-56d y a las salidas de chorros de gas 46 de la primera a la cuarta zonas Z1-Z4 para comenzar a elevar y doblar la lámina de vidrio G. El gas presurizado de la fuente de gas 52 puede calentarse durante su flujo hacia y a través de un camino calentado en la cámara calentada 26 de la estación de doblado 14. Después de elevar y/o doblar lo suficiente la lámina de vidrio G, tal como contra el primer molde superior 27, las porciones de extremo de la lámina de vidrio G están alineadas con los ejes centrales 58a de las salidas de chorros de gas periféricas 46a de la quinta zona Z5. Las válvulas 54e pueden entonces abrirse para proporcionar gas calentado y presurizado (p. ej., aire) a las salidas de chorros de gas periféricas 46a de la quinta zona Z5 de modo que las corrientes de chorro 48 emitidas desde las salidas de chorros de gas periféricas 46a de la quinta zona Z5 puedan hacer contacto con las partes de extremo de la lámina de vidrio G y provocar que se doble y/o eleve aún más la lámina de vidrio G, tal como contra el primer molde superior 27. Sin tal operación secuencial, las corrientes de chorro 48a emitidas desde las salidas de chorros de gas periféricas 46a de la quinta zona Z5 pueden provocar la introducción de gas entre la lámina de gas G y el primer molde superior 27, lo que puede inhibir el doblado total deseado de la lámina de vidrio G y/o inhibir el soporte adecuado contra el primer molde superior 27 por el vacío succionado en la primera superficie 38 del molde superior.
Además de proporcionar control secuencial de las zonas Z1-Z5, las válvulas 54 se pueden controlar de forma ajustable para variar la presión del gas suministrado a los conductos 56 y las salidas de chorros de gas 46. Como otro ejemplo, las válvulas 54 pueden configurarse como válvulas de apertura/cierre, y el dispositivo de elevación 18 puede incluir además un regulador de presión (p. ej., regulador de presión proporcional electrónico programable) aguas arriba de cada válvula 54 para controlar la presión en cada respectivo conducto 56. Evidentemente, la válvula y el control para suministrar la matriz de chorros de gas 44 también se pueden construir de formas diferentes a la forma específica que se muestra para controlar de forma secuencial y ajustable la cantidad de elevación y soporte en las porciones central, intermedia y de extremo de la lámina de vidrio G. Además, esta operación tiene lugar después del movimiento hacia abajo del primer molde superior 27 para recibir la lámina de vidrio G para la primera fase de formación y luego puede terminarse mientras el vacío continúa aplicándose en la primera superficie 38 del molde superior para continuar el soporte de la lámina de vidrio G. El vacío puede continuar hasta que la lámina de vidrio G se libere sobre el molde inferior 30 y dicha terminación puede ir acompañada del suministro de aire a presión positiva suministrado por la bomba de chorro de gas 72.
También es posible ayudar a las salidas de chorros de gas 46 con presión mecánica de la lámina de vidrio G contra el primer molde superior 27 en su superficie orientada hacia abajo 38 para asegurar un contacto completo del vidrio con este incluso con curvatura abrupta en una o más ubicaciones. Por ejemplo, este tipo de prensado se puede realizar teniendo uno o más miembros de prensa montados en el primer molde superior 27 y operados por el controlador 88 a través de uno o más accionadores que se extienden entre el primer molde superior 27 y los miembros de prensa, que pueden pivotar o moverse de otra forma en relación con el primer molde superior 27. Véase la patente de EE.UU. n.° 4.514.208, que divulga el prensado mecánico contra un molde superior.
Con referencia al diagrama de flujo de la figura 13, el procesamiento de la lámina de vidrio G en el sistema 10 comienza calentando 100 la lámina de vidrio (tal como a una temperatura en el intervalo de 575 °C a 675 °C, o a una temperatura de al menos 575 °C) en el horno y su posterior transporte 102 después de calentar, p. ej., a una estación de doblado para comenzar la operación de formación en prensa o doblado. El primer molde superior se mueve entonces hacia abajo, como se ilustra en 104, para recibir la lámina de vidrio para la formación inicial con curvatura en la primera dirección y elementos de línea recta en la segunda dirección transversal. Como se ha mencionado anteriormente, el dispositivo de elevación de acuerdo con la presente divulgación funciona para elevar la lámina de vidrio hacia el primer molde superior, y el comienzo secuencial del funcionamiento de las salidas de chorros de gas interiores seguidas por las salidas de chorros de gas periféricas proporciona una elevación y doblado mejorados de la lámina de vidrio contra el primer molde superior. A continuación, el primer molde superior y la lámina de vidrio se mueven hacia arriba 106 y, como se muestra en 108, el molde inferior se mueve posteriormente debajo del primer molde superior elevado y la lámina de vidrio se libera sobre el molde inferior para el combado por gravedad que inicia la curvatura transversal. A continuación, el molde inferior y la lámina de vidrio se mueven como se muestra en 110 por debajo del segundo molde superior, que luego se mueve hacia abajo como se muestra por 112 para la formación en prensa de la lámina de vidrio con curvatura transversal. Luego, el segundo molde superior se mueve hacia arriba como se muestra en 114 y el molde inferior se saca de debajo del segundo molde superior, seguido por el movimiento del molde de suministro 116 por debajo del segundo molde superior para recibir la lámina de vidrio para su suministro. El movimiento hacia abajo del segundo molde superior mostrado por 112 inicia la formación en prensa de la lámina de vidrio con el molde inferior a medida que se suministra vacío al segundo molde superior para proporcionar a la formación en prensa en direcciones transversales una óptica mejorada por la formación inicial de la lámina de vidrio con elementos de línea recta seguidos por el combado por gravedad antes de la formación en prensa.
Haciendo referencia a la figura 14, se muestra otra realización 14' de una estación de formación o doblado de tres fases con la que se puede usar el dispositivo de elevación 18 según la presente divulgación. La estación de formación 14' es parte de un sistema de procesamiento de vidrio 10' que tiene un horno aguas arriba (no se muestra), como el sistema de procesamiento de vidrio 10 descrito anteriormente en detalle. Además, la estación de formación 14' tiene muchos de los mismos componentes que funcionan como los de la realización descrita anteriormente, tal que los números de referencia similares se aplican a componentes similares, excepto que los números de referencia para los componentes de la estación de formación 14' pueden incluir cada uno una marca principal. Además, gran parte de la descripción anterior es aplicable a la estación de formación 14' y, por tanto, no se repetirá.
En la estación de formación 14' ilustrada en las figuras 14-16, una lámina de vidrio calentada G en un transportador o sistema de transporte 22' puede elevarse de rollos o rodillos 21' del sistema de transporte 22' por el dispositivo de elevación 18, de modo que la lámina de vidrio G pueda recibirse por el primer molde superior 27'. Como se ha mencionado anteriormente, el primer molde superior 27' también puede tener una matriz de orificios de vacío a través de los cuales se puede succionar un vacío para ayudar en la elevación inicial de la lámina de vidrio G y luego soportar la lámina de vidrio contra el primer molde superior 27'.
En la realización mostrada en la figura 14, los rodillos 21' del sistema de transporte 22' tienen al menos un extremo dispuesto dentro de la carcasa 25'. Por ejemplo, cada rodillo 21' tiene un extremo 117 que puede extenderse hacia fuera de la carcasa 25' para accionarse rotativamente por un mecanismo de accionamiento 118 ilustrado esquemáticamente, mientras que otro extremo 119 de cada rodillo 21' está ubicado en un lugar calentado de la estación de formación 14' (p. ej., dentro de una cámara calentada, definida por la carcasa 25', que se calienta a una temperatura en el intervalo de 610 °C a 725 °C) y se recibe por una estructura de soporte de rodillos 120 ilustrada esquemáticamente en la figura 14 (la sección central del rodillo 21' que se muestra en la figura 14 se separa para mostrar chorros 48 del dispositivo de elevación 18). Además, la estructura de soporte de rodillos 120 puede tener una forma alargada a lo largo de la dirección de transporte C e incluir una unidad de enfriamiento alargada (no mostrada) que tiene una carcasa que define una cámara de enfriamiento que recibe y tiene cojinetes que soportan de forma giratoria el conjunto alineado de extremos de rodillos 119. Detalles adicionales del sistema de transporte 22' se describen en la solicitud de EE. UU. n.° de serie 14/929.763 (es decir, la publicación de EE. UU. n.° US20170121212A1).
Con la configuración anterior del sistema de transporte 22', el espacio entre los rodillos adyacentes 21' puede ser fijo o no ajustarse fácilmente (p. ej., los rodillos adyacentes 21' pueden estar separados por 10,16 cm (4 pulgadas), de centro a centro, y cada rodillo 21' puede tener un diámetro de 5,08 cm (2 © pulgadas)). Como se ha mencionado anteriormente, las salidas de gas 46 del dispositivo de elevación 18 pueden estar configuradas o dispuestas de manera que los chorros de gas asociados 48 pasen entre los rodillos 21'. Por ejemplo, algunas de las salidas de chorros de gas 46 pueden estar orientadas generalmente de forma vertical, y otras salidas de chorros de gas 46 pueden estar en ángulo como se mencionó anteriormente en detalle. Además, el ángulo de cada salida de chorro de gas 46 puede seleccionarse o diseñarse para tener en cuenta los factores que influyen en el flujo (p. ej., efecto Bernoulli, efecto Coanda, etc.) que pueden experimentarse cuando el chorro de gas asociado 48 pasa por uno o más rodillos 21'. Por ejemplo, un ángulo particular de una salida de chorros de gas 46 puede aumentarse o disminuirse para tener en cuenta la tendencia del chorro de gas 48 correspondiente a ser atraído por uno o ambos rodillos 21' entre los que pasa el chorro de gas 48.
Después de que la lámina de vidrio G esté soportada contra el primer molde superior 27' como se describió anteriormente, el primer molde superior 27' se mueve horizontalmente desde su posición de recogida mostrada en la figura 14 hasta una posición de suministro mostrada en la figura 15 donde la lámina de vidrio G se libera sobre el molde inferior 30'. Esto es diferente de la realización anterior donde el molde inferior 30 proporciona el movimiento horizontal. Una vez depositada la lámina de vidrio en el molde inferior 30' por el primer molde superior 27', el primer molde superior 27' se mueve hacia atrás desde su posición de suministro que se muestra en la figura 15 a su posición de recogida que se muestra en la figura 14 y el segundo molde superior 28 se mueve hacia abajo como se muestra en la figura 16 para cooperar con el molde inferior en la formación en prensa de la lámina de vidrio como se ha descrito previamente. Después de la formación en prensa, el segundo molde superior 28 se mueve hacia arriba con la lámina de vidrio soportada contra su superficie orientada hacia abajo 62 mediante un vacío succionado como se describió anteriormente y el molde de suministro 32 que se muestra en la figura 14 se mueve desde la estación de templado 16 a la estación de formación 14' para recibir el lámina de vidrio para el movimiento de regreso a la estación de templado entre los cabezales de templado inferior y superior 84 y 86 para el templado como también se describió anteriormente.
Como se muestra en la figura 14, el primer molde superior 27' tiene un armazón 121 que está soportado por vigas alargadas 122 (solo se muestra una) que se mueven por un accionador 123 a través de una conexión 124. Estas vigas 122 están soportadas por rodillos asociados 126 que están montados por accionadores 128 para proporcionar un movimiento vertical de las vigas y, por lo tanto, un movimiento vertical del primer molde superior 27' durante su funcionamiento. Más específicamente, el primer molde superior 27' se puede mover hacia abajo aproximadamente media pulgada (12 a 15 mm) desde el sistema de transporte 22' para la recogida inicial de la lámina de vidrio y luego se puede mover hacia arriba para pasar por encima de las cubiertas del mecanismo de accionamiento 130 ubicado en los extremos de los rodillos de transporte 21' para reducir el flujo de calor desde el interior de la estación de formación al ambiente de la fábrica. Unos rodillos laterales 132 también hacen contacto con las vigas para proporcionar un posicionamiento lateral durante el movimiento del primer molde superior 27' entre su posición de recogida que se muestra en la figura 14 y su posición de suministro que se muestra en la figura 15.
La estación de formación 14' ilustrada en las figuras 14-16 también tiene tres fases de funcionamiento en donde la lámina de vidrio se forma en el primer molde superior 27' con curvatura en una primera dirección y elementos de línea recta en una segunda dirección transversal a la primera dirección, por gravedad en el molde inferior 30' después de recibirse del primer molde superior 27' en su posición de suministro que se muestra en la figura 15, y finalmente por la formación en prensa entre el segundo molde superior 28 y el molde inferior 30' como se muestra en la figura 16.
El molde inferior 30' como se ilustra está soportado por un bastidor 134 que está soportado por accionadores 136, tal como gatos de tornillo, para el movimiento vertical. Este movimiento vertical puede ser hacia abajo para permitir que el primer molde superior 27' se mueva sobre el molde inferior 30' y luego hacia arriba de modo que la liberación de la lámina de vidrio esté en una relación más cercana para controlar el posicionamiento. De forma adicional, el movimiento vertical del molde inferior 30' también se puede usar en cooperación con el movimiento vertical del segundo molde superior 28 para realizar el doblado en prensa.
Con referencia al diagrama de flujo de la figura 17, la realización de las figuras 14-16 realiza la operación de formación en prensa comenzando por el calentamiento 138 de la lámina de vidrio G en el horno (tal como a una temperatura en el intervalo de 575 °C a 675 °C, o a una temperatura de al menos 575 °C) y su posterior transporte 140 a la estación de formación, seguido por el primer molde superior que recibe la lámina de vidrio del sistema de transporte para la formación inicial con elementos de línea recta en la primera fase 142, y luego el movimiento horizontal 144 del primer molde superior y la lámina de vidrio por encima del molde inferior. Entonces, la lámina de vidrio se libera 146 desde el primer molde superior al molde inferior para proporcionar el combado por gravedad en la segunda fase, que se puede realizar en un tiempo más corto que cuando el molde inferior se mueve horizontalmente. A continuación, el segundo molde superior se mueve hacia abajo en 148 hasta el molde inferior para la formación en prensa con curvatura transversal en la tercera fase. A continuación, el segundo molde superior y la lámina de vidrio se mueven hacia arriba en 150, seguido por el movimiento del molde de suministro 152 por debajo del segundo molde superior para recibir la lámina de vidrio formada en prensa. Luego, el molde de suministro se saca de la estación de formación para su suministro.
Ambas realizaciones pueden tener tiempos de ciclo reducidos por el posicionamiento vertical de las construcciones divulgadas. En la realización de las figuras 1-13, el posicionamiento vertical permite que tanto el molde inferior 30 como el molde de suministro 32 estén debajo del segundo molde superior 28 al mismo tiempo, de modo que los ciclos sucesivos se superponen para reducir el tiempo del ciclo. En la realización de las figuras 14-17, el posicionamiento vertical permite que tanto el primer molde superior 27' como el molde de suministro 32 estén debajo del segundo molde superior 28 al mismo tiempo, de modo que los ciclos sucesivos se superponen para reducir el tiempo del ciclo.
Se pueden encontrar detalles adicionales de las estaciones de formación o doblado de tres fases descritas anteriormente en la solicitud de EE. UU. n.° de serie 14/174.265 (es decir, la publicación de EE. UU. n.° US20150218029A1). Por supuesto, un dispositivo de elevación de acuerdo con la presente divulgación se puede usar con cualquier estación de doblado o sistema de procesamiento de vidrio adecuado. Por ejemplo, se puede usar un dispositivo de elevación de acuerdo con la presente divulgación para elevar una lámina de vidrio hacia cualquier herramienta adecuada (p. ej., molde, lanzadera, etc.).
Generalmente entonces, un método de acuerdo con la presente divulgación de elevar una lámina de vidrio en un sistema de procesamiento de vidrio incluye colocar la lámina de vidrio sobre una matriz de chorros de elevación que incluye múltiples salidas de chorros de elevación periféricas y múltiples salidas de chorros de elevación interiores dispuestas hacia dentro de las salidas de chorros de elevación periféricas. El método incluye además el inicio del funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación interiores de tal manera que el gas fluya desde al menos una salida de chorros de elevación interior hacia la lámina de vidrio, y el inicio del funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación periféricas de manera que el gas fluye desde al menos una salida de chorros de elevación periférica hacia una parte periférica de la lámina de vidrio. Las salidas de chorros de elevación son operables para facilitar la elevación de la lámina de vidrio hacia una herramienta, y en donde el inicio del funcionamiento de la al menos una salida de chorros de elevación periférica se realiza después de iniciar el funcionamiento de la al menos una salida de chorros de elevación interior para impedir que el gas fluya entre la lámina de vidrio y la herramienta.

Claims (15)

REIVINDICACIONES
1. Un dispositivo de elevación (18) para elevar una lámina de vidrio (G) en un sistema de procesamiento de vidrio (10, 10') que incluye un sistema de transporte (20, 22) que tiene una pluralidad de rodillos (21) para transportar la lámina de vidrio (G ), el dispositivo de elevación (18) comprende:
una matriz de chorros de elevación (44) que incluye salidas de chorros de elevación periféricas (46) y salidas de chorros de elevación interiores (46) dispuestas hacia dentro de las salidas de chorros de elevación periféricas (46), las salidas de chorros de elevación periféricas (46) y las salidas de chorros de elevación interiores (46) están dispuestas debajo de los rodillos (21) cuando el dispositivo de elevación (18) se usa con el sistema de procesamiento de vidrio (10), y cada salida de chorros de elevación es operable para permitir que el gas fluya hacia la lámina de vidrio (G); y
una unidad de control (50) para controlar el funcionamiento de las salidas de chorros de elevación (46), caracterizado porque la unidad de control (50) está configurada para iniciar el funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación interiores (46) antes de iniciar el funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación periféricas (46).
2. El dispositivo de elevación (18) de la reivindicación 1, en donde al menos una salida de chorros de elevación periférica (46) está configurada para colocarse hacia fuera de la lámina de vidrio (G) cuando la lámina de vidrio (G) se coloca por encima de la matriz de chorros de elevación (44), y la al menos una salida de chorros de elevación periférica está en ángulo hacia un plano central (CP) de la matriz de chorros de elevación.
3. El dispositivo de elevación (18) de la reivindicación 2, en donde al menos una de las salidas de chorros de elevación interiores (46) colocada cerca de la al menos una salida de chorros de elevación periférica está en ángulo lejos del plano central (CP) de la matriz de chorros de elevación.
4. El dispositivo de elevación (18) de la reivindicación 3, en donde al menos otra de las salidas de chorros de elevación interiores (46) colocada cerca de la al menos una salida de chorros de elevación periférica está en ángulo hacia el plano central (CP) de la matriz de chorros de elevación.
5. El dispositivo de elevación (18) de al menos una de las reivindicaciones 1-4, en donde la al menos una salida de chorros de elevación periférica está configurada para colocarse hacia fuera de la lámina de vidrio (G) cuando la lámina de vidrio (G) se coloca por encima de la matriz de chorros de elevación, la al menos una salida de chorros de elevación periférica está en ángulo hacia un plano central (CP) de la matriz de chorros de elevación, y al menos una de las salidas de chorros de elevación interiores (46) colocada en el mismo lado del plano central que la al menos una salida de chorros de elevación periférica está en ángulo lejos del plano central.
6. El dispositivo de elevación (18) de la reivindicación 5, en donde al menos otra de las salidas de chorros de elevación interiores (46) colocada en el mismo lado del plano central (CP) que la al menos una salida de chorros de elevación periférica está en ángulo hacia el plano central.
7. El dispositivo de elevación (18) de al menos una de las reivindicaciones 1 a 6, en donde múltiples salidas de chorros de elevación periféricas (46) están configuradas para colocarse hacia fuera de la lámina de vidrio (G) cuando la lámina de vidrio (G) se coloca sobre la matriz de chorros de elevación, y cada una de las múltiples salidas de chorros de elevación periféricas (46) está en ángulo hacia un plano central (CP) de la matriz de chorros de elevación.
8. El dispositivo de elevación (18) de la reivindicación 7, en donde las múltiples salidas de chorros de elevación periféricas (46) incluyen al menos dos salidas de chorros de elevación periféricas (46) en cada extremo de la matriz de chorros de elevación.
9. El dispositivo de elevación (18) de al menos una de las reivindicaciones 1 a 8, que comprende además un primer conducto de suministro para suministrar gas a la al menos una salida de chorros de elevación interior, un segundo conducto de suministro para suministrar gas a la al menos una salida de chorros de elevación periférica, una fuente de gas a presión conectada a los conductos de suministro primero y segundo, y válvulas controlables primera y segunda asociadas con los conductos de suministro primero y segundo, respectivamente, en donde la unidad de control (50) puede operarse para abrir la primera válvula controlable antes de abrir la segunda válvula controlable, de modo que una corriente de chorro emitida desde la al menos una salida de chorros de elevación periférica entre en contacto con la lámina de vidrio (G) después de que una corriente de chorro emitida desde la al menos una salida de chorros de elevación interior entre en contacto con la lámina de vidrio (G).
10. Un sistema de procesamiento de vidrio (10) que comprende:
una estación de doblado de láminas de vidrio (14) que incluye un sistema de transporte (20, 22) que tiene múltiples rodillos de transporte para transportar una lámina de vidrio calentada (G), y el dispositivo de elevación (18) según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores colocado debajo de los rodillos de transporte para elevar la lámina de vidrio (G) de los rodillos de transporte.
11. El dispositivo de elevación (18) de la reivindicación 1, en donde al menos una salida de chorros de elevación periférica está en ángulo hacia un plano central de la matriz de chorros de elevación, y al menos una salida de chorros de elevación interior próxima a la al menos una salida de chorros de elevación periférica está en ángulo alejándose del plano central.
12. El dispositivo de elevación (18) de la reivindicación 11, en donde las salidas de chorros de elevación periféricas (46) y las salidas de chorros de elevación interiores (46) comprenden, cada una, una boquilla, cada boquilla tiene una sola abertura de salida y las boquillas están separadas entre sí.
13. El dispositivo de elevación (18) de la reivindicación 12, en donde cada boquilla está configurada para proporcionar un solo chorro de gas en una sola dirección.
14. Un sistema de procesamiento de vidrio (10) que comprende:
una estación de formación de láminas de vidrio (G) que incluye un sistema de transporte (20, 22) que tiene múltiples rodillos de transporte para transportar una lámina de vidrio calentada (G), y el dispositivo de elevación (18) según una cualquiera de las reivindicaciones 11 a 13 colocado debajo de la rodillos de transporte para elevar la lámina de vidrio (G) de los rodillos de transporte.
15. Un método para elevar una lámina de vidrio (G) de rodillos de transporte en un sistema de procesamiento de vidrio (10, 10'), en donde el método comprende:
colocar la lámina de vidrio (G) sobre una matriz de chorros de elevación (44) que incluye múltiples salidas de chorros de elevación periféricas (46) y múltiples salidas de chorros de elevación interiores (46) dispuestas hacia dentro de las salidas de chorros de elevación periféricas (46), en donde las salidas de chorros de elevación periféricas (46) y las salidas de chorros de elevación interiores (46) están dispuestas debajo de los rodillos de transporte;
caracterizado por iniciar el funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación interiores (46) de manera que el gas fluya desde la al menos una salida de chorros de elevación interiores hacia la lámina de vidrio (G); e iniciar el funcionamiento de al menos una de las salidas de chorros de elevación periféricas (46) de manera que el gas fluya desde la al menos una salida de chorros de elevación periférica hacia una porción periférica de la lámina de vidrio (G);
en donde las salidas de chorros de elevación (46) son operables para facilitar la elevación de la lámina de vidrio (G) hacia una herramienta, y en donde el inicio del funcionamiento de la al menos una salida de chorros de elevación periférica se realiza después de iniciar el funcionamiento de la al menos una salida de chorros de elevación interior para impedir que el gas fluya entre la lámina de vidrio (G) y la herramienta.
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