ES2710352T3 - Cabezal de boquilla de limpieza para depósito giratorio que comprende una boquilla de auto-limpieza - Google Patents

Cabezal de boquilla de limpieza para depósito giratorio que comprende una boquilla de auto-limpieza Download PDF

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Abstract

Un aparato de expulsión de líquido (100) para la limpieza de un depósito (40), estando el aparato de expulsión de líquido (100) configurado para fijarse a un conducto de líquido (101) que se extiende en el depósito (40), y para recibir un líquido (L) procedente del conducto de líquido (101), comprendiendo el aparato de expulsión de líquido (100): un miembro de base (105) que tiene un primer extremo (105a) para recibir el líquido (L) procedente del conducto de líquido (101), y un segundo extremo (105b), en donde una circunferencia exterior (Cbm) de una sección (105d) del miembro de base (105) aumenta en una dirección hacia el segundo extremo (105b), un cabezal giratorio (106) que está conectado en giro al segundo extremo (105b) del miembro de base (105), un centro de boquilla giratoria (110) que está conectado en giro al cabezal giratorio (106) y comprende una boquilla de expulsión de líquido primaria (112) para expulsar el líquido (L), pudiendo el cabezal giratorio (106) girar alrededor de un primer eje geométrico (A1) y el centro de boquilla giratoria (110) pudiendo girar alrededor de un segundo eje geométrico (A2) que está dispuesto en un ángulo (ß) con respecto al primer eje geométrico (A1), de manera que el líquido (L) expulsado por la primaria boquilla de expulsión de líquido (112) es inyectado siguiendo un patrón hacia una superficie interior (41) del depósito (40), caracterizado por que el centro de boquilla giratoria (110) comprende una boquilla de expulsión de líquido secundaria (114, 114a, 114b) que está configurada para, durante al menos una parte de una revolución del centro de boquilla giratoria (110), expulsar el líquido (L) siguiendo un patrón hacia una superficie externa (105c) del miembro de base (105), estando la boquilla de expulsión de líquido secundaria (114, 114a, 114b) formada como un orificio pasante en una pared (110a) del centro de boquilla giratoria (110), teniendo el orificio pasante una salida (115a) que está a ras de una superficie envolvente anular (SAE) de una superficie externa (110c) del centro de boquilla giratoria (110).

Description

DESCRIPCION
Cabezal de boquilla de limpieza para deposito giratorio que comprende una boquilla de auto-limpieza
Campo tecnico
La presente invencion se refiere a un aparato de expulsion de llquido para la limpieza interna de depositos y/o para la mezcla de contenidos en los depositos, y en particular a un aparato de expulsion de llquido que tiene boquillas de expulsion de llquido para mejorar la limpieza.
Antecedentes de la tecnica
Los depositos o recipientes de contencion de llquidos se utilizan en una serie de procesos industriales tales como la fabricacion de alimentos, fabricacion de productos farmaceuticos, tratamiento qulmico, fermentacion de material y as! sucesivamente. A menudo es vital asegurarse de que el interior del deposito se encuentre libre de residuos y contaminantes no deseados. Por ejemplo, un deposito que se llena normalmente hasta un cierto nivel puede presentar un "anillo de banera" alrededor de su circunferencia interior en el nivel al que mas a menudo se llena el deposito. Ademas, diversos equipos dentro de un deposito, entradas y salidas del deposito, etc., pueden atrapar sedimentos o desechos que pueden, mas tarde, volver a entrar en el contenido del deposito durante su uso.
Los contaminantes no deseados en el deposito pueden influir negativamente en la calidad del producto acabado que esta siendo fabricado, procesado o almacenado en el deposito. Ademas, el interior de un deposito debe limpiarse correctamente si se deben seguir las regulaciones que se aplican a ciertas industrias, como las industrias farmaceuticas. Por lo tanto, es comun limpiar el interior de dichos depositos a ciertos intervalos, por ejemplo, despues de cada lote de proceso, para asegurar la calidad del producto y la adhesion a los reglamentos pertinentes.
Hay disponibles sistemas de limpieza de depositos que limpian la suciedad y los residuos desde el interior de los depositos y otros recipientes mediante el uso de lo que comunmente se conoce como la limpieza por impacto. Un tipo comun de tales sistemas emplea un aparato de limpieza que se inserta en el deposito y que tiene una manguera o tuberla que se extiende en el deposito. En un extremo de la tuberla que sobresale en el deposito, un cabezal de inyeccion giratorio se fija. El cabezal de inyeccion giratorio gira comunmente alrededor de uno o dos ejes y, en el ultimo caso, se orienta normalmente de tal manera que a medida que el cabezal de inyeccion gira alrededor de un eje de la tuberla, gira tambien en torno a un eje perpendicular a la tuberla.
Una relacion entre los giros alrededor de dos ejes depende de una relacion de transmision, que se selecciona de tal manera que una combinacion de una orientacion particular y la posicion del cabezal de inyeccion se repite solo despues de multiples revoluciones alrededor del eje de la tuberla. Esta tecnica intercala trazas posteriores de la pulverizacion contra un interior del deposito en cada revolucion del cabezal giratorio para asegurar que sustancialmente cada porcion del interior del deposito se exponga a la pulverizacion de limpieza en algun momento durante el proceso de limpieza. Las trazas conseguidas de la pulverizacion contra el deposito proporcionan un aparato de limpieza que pulveriza el llquido de limpieza siguiendo un patron predeterminado en la superficie interior del deposito.
Con el fin de asegurar que el interior de un deposito se limpie adecuadamente el llquido de limpieza se debe pulverizar siguiendo un patron predeterminado. Como alternativa, una duracion de limpieza puede prolongarse, lo que sin embargo puede dar lugar a un derroche excesivo de tiempo, llquido de limpieza, y energla.
Un aparato de limpieza de depositos es comunmente una instalacion fija en el sentido de que rara vez o incluso nunca se retirado del deposito en el que se instala. Esto significa que tambien el propio aparato de limpieza de depositos debera limpiarse preferentemente durante un proceso de limpieza con el fin de no complicar el proceso de limpieza requiriendo, por ejemplo, una limpieza posterior por separado del aparato de limpieza. Un aparato de limpieza limpiado de forma insatisfactoria puede dar como resultado que los desechos y residuos se quedan en el aparato de limpieza despues de completar un proceso de limpieza. Tales desechos y residuos restantes pueden mas tarde volver a entrar contenido del deposito lo que resulta que los contenidos puedan quedar afectados o contaminados negativamente.
Para asegurar una limpieza adecuada del deposito y del aparato de limpieza, se han sugerido y utilizado diferentes tecnicas. Por ejemplo, el documento de patente US 2012/0017951 A1 divulga un sistema de limpieza de depositos que utiliza boquillas para proporcionar corrientes de llquido de descarga en una superficie interior de un espacio cerrado, como un deposito. Una o mas de las boquillas utilizadas se disponen en una forma en angulo de tal manera que las corrientes del llquido de descarga de las boquillas en angulo inciden sobre la tuberla de llquido, en las que se monta el aparato de limpieza, en cierta medida, proporcionando de este modo un efecto de limpieza a la tuberla de llquido. El documento de patente, WO 2014/072087 A1, divulga, por otra parte, como la limpieza se mejora mediante el empleo de boquillas que tienen un patron de doble pulverizacion, lo que da como resultado que el interior del deposito se limpie, as! como el conducto de fluido en la que se monta el aparato de limpieza. Esto se logra mediante el patron de pulverizacion dual que se disena de tal manera que tanto el interior del deposito como la tuberla de llquido, en el que se monta el aparato de limpieza, se pulveriza en cierta medida. El documento DE 10 2004 052794 B3 divulga un dispositivo de limpieza de depositos que tiene un alojamiento del cabezal de boquilla giratoria y un cabezal de boquilla con boquillas para la limpieza del deposito y dispositivos de pulverizacion para golpear el alojamiento del cabezal de boquilla.
El aparato de limpieza se puede utilizar tambien para mezclar un contenido del deposito. Esto se hace normalmente por llenar el deposito con el contenido hasta que el cabezal de inyeccion giratorio quede totalmente debajo de una superficie del contenido. El contenido se mezcla a continuation haciendolo circular dese una salida del deposito y de nuevo en el deposito a traves del cabezal de inyeccion giratorio. Al igual que con la limpieza, la mezcla debe realizarse adecuadamente y es importante que esto se pueda hacer sin por ejemplo una circulation excesiva de contenido. Cuando un aparato de limpieza de depositos es capaz de realizar tambien la mezcla de un contenido del deposito, el aparato se refiere a menudo como un aparato de expulsion de llquido, en lugar de un aparato de limpieza.
Las tecnicas actuales proporcionan soluciones para la limpieza del interior de los depositos y la mezcla de los contenidos de un deposito. Por otra parte, las tecnicas actuales proporcionan soluciones para la limpieza de la tuberla o el conducto de llquido sobre la que se monta el aparato de limpieza o aparato de expulsion de llquido. Sin embargo, en algunos casos la limpieza del aparato de limpieza en si ha demostrado ser no satisfactoria, lo que da como resultado que los desechos o residuos permanezcan en el aparato de limpieza, incluso despues de completar un proceso de limpieza. Si los desechos o residuos permanecen en el aparato de limpieza despues de un proceso de limpieza, esto puede dar como resultado que el contenido del deposito se vea negativamente afectado o contaminado durante el uso posterior del deposito.
Por lo tanto, existe una necesidad de un aparato de expulsion de llquido mejorado.
Resumen
Un objetivo de la invention es mejorar las tecnicas anteriores y la tecnica anterior. En particular, un objetivo es proporcionar un aparato de expulsion de llquido, que pueda mejorar la limpieza del propio aparato de expulsion de llquido durante su uso. En otras palabras, en particular, un objetivo es proporcionar un aparato de expulsion de llquido, con mejores propiedades de auto-limpieza.
Para conseguir estos objetivos se proporciona un aparato de expulsion de llquido para la limpieza de un deposito de acuerdo con un primer aspecto. El aparato de expulsion de llquido estando configurado para fijarse a un conducto de llquido que se extiende en el deposito, y para recibir un llquido desde el conducto de llquido, comprendiendo el aparato de expulsion de llquido: un miembro de base que tiene un primer extremo para recibir el llquido del conducto de llquido, y un segundo extremo, en el que una circunferencia exterior de una section del miembro base aumenta en una direction hacia el segundo extremo, un cabezal giratorio que se conecta de forma giratoria al segundo extremo del miembro de base, un centro de boquilla giratoria que se conecta giratoriamente al cabezal giratorio y comprende una boquilla de expulsion de llquido primaria para expulsar el llquido, el cabezal giratorio puede girar alrededor de un primer eje geometrico y el eje de boquilla giratoria puede girar alrededor de un segundo eje geometrico que se dispone en un angulo con respecto al primer eje geometrico, de manera que el llquido expulsado por la boquilla de expulsion de llquido primaria se expulsa siguiendo un patron hacia una superficie interior del deposito, en el que el centro de boquilla giratoria comprende una boquilla de expulsion de llquido secundaria que se configura para, durante al menos una parte de una revolution del centro de boquilla giratoria, expulsar el llquido siguiendo un patron hacia una superficie externa del miembro base
El aparato de expulsion de llquido es ventajoso en que la boquilla de expulsion de llquido primaria y la boquilla de expulsion de llquido secundaria proporcionan una limpieza eficaz del interior del deposito, as! como del propio aparato de expulsion de llquido. La limpieza eficaz del deposito se consigue principalmente por la boquilla de expulsion de llquido primaria, pero tambien en cierta medida en combination con la boquilla de expulsion de llquido secundaria, expulsando el llquido siguiendo un patron hacia la superficie interior del deposito. La limpieza del propio aparato de expulsion de llquido se logra por la boquilla de expulsion de llquido secundaria que expulsa el llquido siguiendo un patron hacia una superficie externa del miembro de base durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria. Al expulsar el llquido siguiendo un patron hacia una superficie externa del miembro de base, el miembro de base se limpia de manera eficaz. Ademas, el llquido expulsado hacia el miembro de base incidira sobre el miembro de base y, posteriormente, seguira la superficie externa del miembro de base, lo que significa que el llquido continuara fluyendo hacia abajo a lo largo del miembro de base y en el cabezal giratorio. Esto significa que tambien el cabezal giratorio se limpia indirectamente por el llquido expulsado desde la boquilla de expulsion de llquido secundaria. El llquido expulsado desde la boquilla de expulsion de llquido secundaria continuara mas alla y proporcionara tambien un efecto de limpieza en el centro de boquilla giratoria y sus boquillas. El uso de la boquilla de expulsion de llquido primaria y de la boquilla de expulsion de llquido secundaria puede en un proceso de mezcla proporcionar tambien la mezcla eficaz de un contenido del deposito.
La boquilla de expulsion de llquido primaria puede tener una salida que es mas grande que una salida de la boquilla de expulsion de llquido secundaria, de tal manera que un flujo de llquido a traves de la boquilla de expulsion de llquido primaria puede ser al menos 8 veces mayor que un flujo de llquido a traves de la boquilla de expulsion de llquido secundaria, lo que es ventajoso en que la limpieza eficaz del propio aparato de expulsion de llquido se puede conseguir mientras se sigue utilizando solo una cantidad adicional limitada de llquido para esto. El uso de una cantidad limitada de llquidos para la limpieza del aparato de expulsion de llquido consigue realizar una limpieza con menos llquidos y menor consumo energetico. La limpieza del aparato de expulsion de llquido se hace, por tanto, mas economica.
Una salida de la boquilla de expulsion de llquido secundaria esta a nivel con una superficie externa del centro de boquilla giratoria, lo que es ventajoso en que una solucion que resulta en un menor numero de elementos salientes se puede realizar. Al tener menos elementos salientes desde el centro de boquilla giratoria, se reduce el riesgo de atrapar y acumular desechos o residuos. Por otra parte, una solucion solida con una disminucion de la sensibilidad a las influencias externas, tales como presion, impacto mecanico y similares, se puede realizar.
La boquilla de expulsion de llquido secundaria se forma como un orificio pasante en una pared del centro de boquilla giratoria, lo que es ventajoso en que se puede conseguir una solucion rentable y fiable.
La boquilla de expulsion de llquido secundaria se dispone en una superficie envolvente anular del centro de boquilla giratoria. Una conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria y el centro de boquilla giratoria se puede disponer en una superficie envolvente anular del centro de boquilla giratoria, teniendo la superficie envolvente anular una anchura que es igual a o menor que una anchura exterior de la boquilla de expulsion de llquido primaria en la conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria y el centro de boquilla giratoria. Mediante esta disposicion se consigue un diseno compacto del aparato de expulsion de llquido. Un diseno compacto puede dar como resultado una construccion mas fuerte que requiere menos material durante la fabricacion. Por otra parte, un diseno compacto puede requerir menos espacio durante su instalacion y uso, permitiendo que el aparato de limpieza se inserte a traves de pequenos orificios relativos en los depositos existentes.
El eje de boquilla giratoria puede comprender una cavidad interna en comunicacion llquida con el cabezal giratorio, en el que una entrada de la boquilla de expulsion de llquido secundaria y una entrada de la boquilla de expulsion de llquido primaria se separan entre si y forman en una pared de la cavidad interna, lo que es ventajoso en que el fluido puede alimentarse a las respectivas boquillas de manera eficaz y fiable.
Una entrada de la boquilla de expulsion de llquido secundaria y una entrada de la boquilla de expulsion de llquido primaria se puede disponer dentro de un volumen en forma de disco centrado en y que se extiende radial y perpendicularmente desde el segundo eje geometrico, y que tiene una anchura que es igual a una anchura exterior de la boquilla de expulsion de llquido primaria para una conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria y el centro de boquilla giratoria, lo que es ventajoso en que un diseno compacto de la cavidad interna del centro de la boquilla y, en consecuencia, del aparato de expulsion de llquido puede conseguirse.
Una salida de la boquilla de expulsion de llquido secundaria y una salida de la boquilla de expulsion de llquido primaria se puede disponer dentro de un volumen en forma de disco centrado en y que se extiende radial y perpendicularmente desde el segundo eje geometrico, y que tiene una anchura que es igual a una anchura exterior de la boquilla de expulsion de llquido primaria para una conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria y el centro de boquilla giratoria, lo que es ventajoso en que se puede conseguir un diseno compacto del aparato de expulsion de llquido. Un diseno compacto puede dar como resultado una construccion mas fuerte que requiere menos material durante su fabricacion.
La boquilla de expulsion de llquido primaria puede tener una superficie exterior, concava que se orienta hacia el cabezal giratorio. Por lo tanto, la superficie concava puede tener una direccion normal con un componente que se dirige hacia el cabezal giratorio. Esto es ventajoso en que un flujo del llquido en la superficie concava exterior de la boquilla primaria puede seguir a la superficie concava exterior limpiando de este modo la boquilla de expulsion de llquido primaria. Cabe senalar que en el contexto de esta solicitud, la expresion "superficie concava exterior" puede ser cualquier superficie exterior de la boquilla de expulsion de llquido primaria que presente una porcion concava cuando se define una seccion transversal a traves de la boquilla primaria a lo largo de una direccion longitudinal de la misma. La direccion longitudinal de la boquilla se puede definir como la direccion desde una entrada de la boquilla hasta una salida de la boquilla. En otras palabras, una seccion transversal de la boquilla de expulsion de llquido primaria en un plano definido por una direccion radial del centro de boquilla giratoria y el segundo eje geometrico puede tener una porcion concava que define la seccion transversal en una direccion orientada hacia el cabezal giratorio.
El aparato de expulsion de llquido puede comprender un hueco situado entre el miembro de base y el cabezal giratorio, para permitir que una cantidad del llquido fluya hacia fuera del hueco, en el que la superficie exterior, concava de la boquilla de expulsion de llquido primaria se coloca de tal manera que un flujo del llquido desde el hueco incide sobre la superficie exterior, concava de la boquilla de expulsion de llquido primaria durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria, lo que es ventajoso porque un flujo forzado de llquido que presenta un efecto de limpieza en la boquilla de expulsion de llquido primaria se puede conseguir.
El hueco puede dirigir el llquido hacia una seccion curva del cabezal giratorio, dirigiendo la seccion curva el llquido hacia una superficie de salida de llquido del cabezal giratorio, teniendo la superficie de salida de llquido una direccion tangencial que dirige el llquido hacia la superficie concava de la boquilla de expulsion de llquido primaria, durante al menos una parte de una revolution del centro de boquilla giratoria, lo que es ventajoso en que se puede conseguir un flujo forzado de llquido que exhibe un efecto de limpieza en la boquilla de expulsion de llquido primaria.
El aparato de expulsion de llquido puede comprender una pluralidad de boquillas de expulsion de llquido primarias que se disponen en el centro de boquilla giratoria, de tal manera que se forman espacios intermedios entre las boquillas de expulsion de llquido primarias, y una pluralidad de boquillas de expulsion de llquido secundarias que se encuentran en un espacio intermedio respectivo de los espacios intermedios entre las boquillas de expulsion de llquido primarias. Mediante esta disposition, el efecto de limpieza y el efecto de mezcla se pueden mejorar. El uso de una pluralidad de boquillas de expulsion de llquido primarias y una pluralidad de boquillas de expulsion de llquido secundarias permite un patron mas denso que tiene una pluralidad de chorros de llquido que estan siendo expulsados siguiendo un patron hacia una superficie interior del deposito. Esto da como resultado que se pueda reducir el tiempo necesario para la limpieza. Por otra parte, mediante la ubicacion de las boquillas de expulsion de llquido secundarias en los respectivos espacios intermedios, se puede conseguir un diseno compacto.
El aparato de expulsion de llquido puede comprender una pluralidad de boquillas de expulsion de llquido secundarias, en el que una primera boquilla de expulsion de llquido secundaria se inclina hacia el cabezal giratorio con un angulo de 10° a 50° con respecto al primer eje geometrico, de tal manera que el llquido expulsado por la primera boquilla de expulsion de llquido secundaria se expulsa, durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria, siguiendo un patron hacia una superficie externa del miembro de base, y en el que una segunda boquilla de expulsion de llquido secundaria puede inclinarse hacia el cabezal giratorio con un angulo de 1° a 10° en relation con el primer eje geometrico, de tal manera que el llquido expulsado por la segunda boquilla de expulsion de llquido secundaria, durante al menos una parte de una revolucion del cubo de boquilla giratoria, se expulsa siguiendo un patron hacia una superficie externa del conducto de llquido que se extiende hacia el tanque. El uso de una primera boquilla de expulsion de llquido secundaria y de una segunda boquilla de expulsion de llquido secundaria es ventajoso porque la limpieza del conducto de llquido que se extiende en el deposito puede mejorarse, puesto que llquido se puede expulsar siguiendo un patron hacia una superficie externa del conducto de llquido. Cabe senalar que, dentro del contexto de esta solicitud la expresion "inclinado hacia el cabezal giratorio con un angulo con respecto al primer eje geometrico" puede referirse a cualquier angulo hacia el cabezal giratorio (y el primer eje geometrico) cuando la salida de la boquilla de expulsion de llquido secundaria se dirige hacia el primer eje geometrico.
Una distancia mas corta desde un eje central, longitudinal del miembro de base y la boquilla de expulsion de llquido secundaria puede estar entre 65 y 120 mm, que es un intervalo ventajoso en que proporciona una optimization del diseno.
Una circunferencia del cabezal giratorio puede ser, en un extremo del cabezal giratorio dirigido hacia el centro de la boquilla, al menos un 20 % mas grande que una circunferencia del centro de boquilla giratoria, en una seccion del centro de boquilla giratoria donde el centro de boquilla giratoria se encuentra con el cabezal giratorio, lo que es ventajoso en poder conseguir un diseno que se ha optimizado con respecto a su tamano relativo.
Una superficie envolvente exterior de la boquilla de expulsion de llquido primaria puede tener una primera circunferencia en cualquier primera distancia radial desde el centro de boquilla giratoria y una segunda circunferencia que es igual a o menor que la primera circunferencia, en cualquier segunda distancia radial desde el centro de boquilla giratoria, siendo la segunda distancia radial mayor que la primera distancia radial.
De acuerdo con un segundo aspecto, se proporciona un aparato de expulsion de llquido para la limpieza de un deposito. El aparato de expulsion de llquido estando configurado para fijarse a un conducto de llquido que se extiende en el deposito, y para recibir un llquido desde el conducto de llquido, comprendiendo el aparato de expulsion de llquido: un miembro de base que tiene un primer extremo para recibir el llquido del conducto de llquido, y un segundo extremo, en el que una circunferencia exterior de una seccion del miembro base aumenta en una direccion hacia el segundo extremo, una cabezal giratorio que se conecta en giro al segundo extremo del miembro de base, un centro de boquilla giratoria que se conecta en giro al cabezal giratorio y comprende una boquilla de expulsion de llquido primaria para expulsar el llquido, pudiendo el cabezal giratorio girar alrededor de un primer eje geometrico y el centro de boquilla giratoria que puede girar alrededor de un segundo eje geometrico que se dispone en un angulo con respecto al primer eje geometrico, de manera que el llquido expulsado por la boquilla de expulsion de llquido primaria se expulsa en una patron hacia una superficie interior del deposito, en el que la boquilla de expulsion de llquido primaria tiene una superficie exterior, concava que se orienta hacia el cabezal giratorio. Por lo general, el segundo aspecto puede incorporar cualquiera de las caracterlsticas anteriores como se ha descrito junto con el aparato de expulsion de llquido de acuerdo con el primer aspecto. Por otra parte, las caracterlsticas del segundo aspecto del aparato proporcionan, por lo general, ventajas similares como se ha descrito anteriormente en relacion con el primer aspecto del aparato.
Breve descripcion de los dibujos
A continuacion se describiran las realizaciones de la invencion, a modo de ejemplo, con referenda a los dibujos esquematicos adjuntos, en los que
la Figura 1 es una vista esquematica de un sistema de expulsion de llquido que incluye un aparato de expulsion de llquido para la limpieza de una superficie interior de un deposito y para la mezcla de un contenido de un deposito,
las Figuras 2-4 ilustran un patron predeterminado principal del llquido expulsado como se ha generado por el aparato de expulsion de llquido del sistema de expulsion de llquido de la Figura 1 en tres puntos de tiempo consecutivos,
la Figura 5 es una vista en perspectiva del aparato de expulsion de llquido de la Figura 1,
la Figura 6 es una primera vista lateral en seccion transversal del aparato de expulsion de llquido de la Figura 1, y
la Figura 7 es una segunda vista lateral en seccion transversal del aparato de expulsion de llquido de la Figura 1.
Descripcion detallada
La presente invencion se describira a continuacion mas completamente con referencia a los dibujos adjuntos, en los que se muestran las realizaciones preferidas de la invencion. La presente invencion puede, sin embargo, realizarse de muchas formas diferentes y no debe interpretarse como limitada a las realizaciones expuestas en la presente memoria; mas bien, se proporcionan estas realizaciones para minuciosidad y completitud, y transmiten completamente el alcance de la invencion a la persona experta.
Haciendo referencia a continuacion a los dibujos y a la Figura 1 en particular, se representa conceptualmente una realizacion de un sistema de expulsion de llquido 2 que se configura para expulsar un llquido L dentro de un deposito 40. El sistema de expulsion de llquido 2 comprende un aparato de expulsion de llquido 100, y una unidad de procesamiento 30 que se configura para controlar un flujo del llquido L y de ese modo controlar indirectamente la operacion del aparato de expulsion de llquido 100. Cuando el aparato de expulsion de llquido 100 se opera por el flujo del llquido L, el aparato de expulsion de llquido 100 expulsara el llquido L en el deposito 40 siguiendo un patron predeterminado. El aparato de expulsion de llquido 100 de la realizacion representada se acciona as! por el flujo del llquido L.
El aparato de expulsion de llquido 100 tiene un conducto de llquido 101 en forma de una tuberla que se extiende en el deposito 40 a traves de una abertura en una porcion superior del deposito 40. El conducto de llquido puede ser, por ejemplo, una manguera en lugar de la tuberla. El conducto de llquido 101 esta provisto de una brida 102 que proporciona una conexion segura, as! como un sello hermetico al deposito 40. Una porcion superior del conducto de llquido 101, es decir, una porcion que se encuentra fuera del deposito 40, esta provista de una entrada 103 para recibir el llquido L. Una porcion inferior llquida de la tuberla 101, es decir, una porcion que se extiende en el deposito 40, es decir, en su extremo conectado al aparato de expulsion de llquido 100.
El aparato de expulsion de llquido 100 comprende un miembro de base 105 que se fija a el conducto de llquido 101. El miembro de base 105 de la realizacion representada tiene una seccion con una forma conica o troncoconica con una porcion mas estrecha orientada hacia el conducto de llquido 101. En otras palabras, la circunferencia exterior del miembro de base 105 en la proximidad del primer extremo o extremo superior 105a es mas pequena que una circunferencia exterior del miembro de base en las proximidades del segundo extremo o extremo inferior 105b.
Un cabezal giratorio 106 se conecta en giro al extremo inferior 105b del miembro de base 105. El cabezal giratorio 106 comprende un alojamiento 107 y puede girar alrededor de un primer eje geometrico A1 que es paralelo a y coincide con la extension longitudinal del conducto de llquido 101.
Haciendo referencia adicional a las Figuras 5 y 6, un primer cojinete 122 se dispone entre el miembro de base 105 y un extremo de entrada del cabezal giratorio 106 que se orienta se orienta hacia el miembro de base 105, de tal manera que el cabezal giratorio 106 puede girar en relacion con el miembro de base 105.
El cabezal giratorio 106 comprende un centro de boquilla giratoria 110 en el que un numero de boquillas de expulsion de llquido primarias 112 y un numero de boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b se disponen. En la realizacion ilustrada hay cuatro boquillas de expulsion de llquido primarias y cuatro boquillas de expulsion de llquido secundarias.
Un segundo cojinete 124 se dispone en entre el centro de boquilla giratoria 110 y un extremo de salida del cabezal giratorio 106 que se orienta hacia el centro de boquilla giratoria 110, de tal manera que el centro de boquilla giratoria 110 puede girar en relacion con el cabezal giratorio 106. El segundo cojinete 124 permite que el centro de boquilla giratoria 110 gire alrededor de un segundo eje geometrico A2 que normalmente esta desplazado del primer eje geometrico A1 por un angulo p de 80° -100°. En la realizacion representada el segundo eje A2 se dispone en un angulo p de 90° con respecto al primer eje geometrico A1. Por lo tanto, el centro de boquilla giratoria 110, las boquillas primarias 112 y las boquillas secundarias son capaces de girar alrededor del primer eje A1 y alrededor del segundo eje A2, como se ve con relacion a el conducto de llquido 101 o con relacion al deposito 40.
La entrada 103 y el conducto de llquido 101 tienen, cada uno, la forma principal de una tuberla convencional y son capaces de transportar el llquido L que se va a expulsar en el deposito 40. En la realizacion ilustrada, el aparato de expulsion de llquido 100 se conecta al conducto de llquido 101 a traves de un elemento de conexion 104, por ejemplo, mediante soldadura convencional o mediante roscas coincidentes. El llquido L entra a continuacion en la entrada 103, y a traves del elemento de conexion 104 se transporta en la tuberla 101 y hacia el aparato de expulsion de llquido 100. El llquido L entra, a continuacion, en el aparato de expulsion de llquido 100 a traves del miembro base 105 y continua en el cabezal giratorio 106 en la conexion del cabezal giratorio al miembro de base 105 y sale del cabezal giratorio 106 en la conexion del cabezal giratorio al centro de boquilla giratoria 110. El centro de boquilla giratoria 110 recibe as! el llquido del cabezal giratorio 106 y distribuye adicionalmente el llquido L a las boquillas primarias 112 y a las boquillas secundarias 114, 114a, 114b, que expulsan el llquido L en el deposito 40 de tal manera el llquido L impacta o incide en una superficie interior 41 del deposito 40, cuando se realiza la limpieza. Como alternativa, las boquillas 112 expulsan el llquido L en el deposito 40 de tal manera que el llquido L se transmite al contenido del deposito, hacia la superficie interior 41 del deposito 40, cuando se realiza la mezcla. El llquido L expulsado por al menos una de las boquillas de expulsion de llquido secundarias se expulsa, durante al menos una parte de una revolution del centro de boquilla giratoria 110, siguiendo un patron hacia una superficie externa del miembro de base 105 e incide sobre la misma cuando se realiza la limpieza.
El diseno del aparato de expulsion de llquido 100 se describira con mas detalle con referencia a las Figuras 5 y 6. Todavla haciendo referencia a la Figura 1, un circuito de llquido 50 se conecta al deposito 40 y al aparato de expulsion de llquido 100 para realizar un flujo del llquido L que se va a expulsar desde las boquillas primarias 112 y las boquillas secundarias 114, 114a, 114b en el deposito 40. El circuito de llquido 50 comprende, en una direction aguas abajo, una fuente de llquido 51, una primera valvula 52, un primer punto de conexion 53, una bomba 54, un segundo punto de conexion 55 y una segunda valvula 58. Despues de la segunda valvula 58, el circuito de llquido 50 se conecta a la entrada 103 del conducto de llquido 101. Una parte inferior del deposito 40 se conecta al circuito de llquido 50 en el primer punto de conexion 53. Una salida de llquido 57 se conecta, a traves de una tercera valvula 56, al segundo punto de conexion 55. Una segunda fuente de llquido 60 se conecta, a traves de una cuarta valvula 61, al deposito 40.
La bomba 54 puede ser, por ejemplo, una bomba de engranajes, una bomba de lubricante, una bomba centrlfuga o una bomba de cualquier otro tipo adecuado. Las valvulas 52, 56, las valvulas 58, 61 pueden ser valvulas de mariposa, valvulas de globo o valvulas de cualquier otro tipo adecuado. Un llquido procedente la fuente de llquido 51 es normalmente un llquido que se va a mezclar en o procesar en el deposito 40 o un llquido que constituye una parte importante de un llquido que se va a mezclar en o procesar en el deposito 40. Un contenido de llquido de la segunda fuente de llquido 60 puede ser un llquido que se va a mezclar con el llquido de la fuente de llquido 51, o puede ser un llquido que se va a utilizar para la limpieza del deposito 40. Fuentes de llquido adicionales, no mostradas, pueden conectarse al deposito 40, como se requerido por la aplicacion de mezcla o limpieza a mano. Mediante la abertura de la primera valvula 52 y mediante el cierre de la segunda valvula 58 y la tercera valvula 56 (o teniendo la bomba 54 inactiva, dependiendo del tipo de bomba), el llquido se puede alimentar desde la fuente de llquido 51 y en el deposito 40 a traves del primer punto de conexion 53. De esta manera, el deposito 40 se puede llenar con un contenido de llquido. Cuando el sistema de expulsion de llquido 2 deba realizar la mezcla, el deposito 40 se llena normalmente hasta que tal contenido de llquido en el deposito 40 cubre completamente el aparato de expulsion de llquido 100 o al menos el cabezal giratorio 106 incluyendo todas sus boquillas 112, 114, 114a, 114b. Mediante el cierre de la primera valvula 52 y la tercera valvula 56, y abriendo al mismo tiempo la segunda valvula 58 y operando la bomba 54, el contenido de llquido del deposito 40 se puede hacer circular a traves del circuito de llquido 50 y el aparato de expulsion de llquido 100. Esta circulation realiza la mezcla de un contenido de llquido puesto que el llquido L se expulsa, a continuacion, en el contenido de llquido, lo que hace de manera eficaz que el contenido de llquido se agite y se mezcle.
Mediante el cierre de la primera valvula 52 y la segunda valvula 58, y abriendo al mismo tiempo la tercera valvula 56 y operando la bomba 54, el contenido de llquido se puede expulsar desde el deposito 40 mediante el transporte del contenido de llquido hasta la salida de llquido 57. En este contexto, cuando el contenido de llquido se expulsa, parte del contenido esta normalmente todavla presente en el deposito 40, es decir, la expulsion de un contenido de llquido no significa necesariamente que cada parte del contenido de llquido en el deposito 40 se elimine por completo del deposito 40. El contenido que esta presente en el deposito 40 despues de la expulsion se limpia normalmente en un proceso de limpieza realizado por el aparato de expulsion de llquido 100.
El contenido de llquido de la segunda fuente de llquido 60 se puede introducir en el deposito 40 abriendo la cuarta valvula 61. Si esto se hace durante una operation de mezcla, el contenido de llquido de la segunda fuente de llquido 60 se mezcla de manera eficaz en el contenido del deposito 40.
Cuando el sistema de expulsion de llquido 2 debe efectuar la limpieza del deposito 40 el contenido de llquido de la segunda fuente de llquido 60 puede ser un llquido de limpieza. A continuacion se introduce el llquido de limpieza en el deposito 40 despues de que el contenido de llquido (mezclado) se expulsa. La limpieza se efectua a continuacion mediante el cierre de la primera valvula 52 y la tercera valvula 56, y abriendo al mismo tiempo la segunda valvula 58 y operando la bomba 54. El llquido L actua, a continuacion, como un llquido de limpieza que se eyecta, expulsado o pulveriza en el deposito 40 por medio del aparato de expulsion de llquido 100 y golpea la superficie interior 41 del deposito 40. El llquido L que golpea as! la superficie interior 41 del deposito 40 realiza la limpieza de la superficie interior 41. Por lo general, cuando la limpieza se efectua el llquido de limpieza en el deposito 40 no cubre el aparato de expulsion de llquido 100, lo que significa que el cabezal giratorio 106 y el centro de boquilla giratoria 110 no se sumergen entonces en un contenido de llquido. En lugar de ello, el llquido se expulsa siguiendo un patron predeterminado hacia la superficie interior 41 del deposito 40 y hacia una superficie externa 105c del miembro de base 105. En la practica, se expulsa el llquido siguiendo un patron predeterminado sobre la superficie interior 41 del deposito 40 y sobre la superficie externa 105c del miembro de base 105, dado que se utiliza una presion suficiente del llquido L.
Para controlar el sistema de expulsion de llquido 2, la unidad de procesamiento 30 tiene una unidad de procesamiento central 31 (CPU) que se conecta a y controla una interfaz de entrada/salida electronica 36 (I/O). La interfaz I/O 36 se conecta, a su vez, electricamente a la bomba 54 para proporcionar una serial de control Sp. La CPU 31 es preferentemente una unidad de procesamiento central o microprocesador de un tipo convencional y representa la porcion de la unidad de procesamiento 30 que es capaz de realizar las instrucciones de un programa informatico que se almacenan en una unidad de memoria 32 de la unidad de procesamiento 30. La CPU 31 es el elemento principal que realiza las funciones de la unidad de procesamiento 30. Ademas, la unidad de procesamiento 30 se puede configurar para controlar las valvulas 52, 56, 58, 61 del circuito de llquido 50 de tal manera que un flujo del llquido L en el circuito de llquido 50 se puede controlar.
El aparato de expulsion de llquido 100 se acciona, como se ha indicado anteriormente, por un flujo del llquido L, lo que significa que el aparato de expulsion de llquido 100 se opera por la operacion de la bomba 54 cuando las valvulas 52, 56, 58, 61 estan en los estados deseados como se ha descrito anteriormente.
Cuando el llquido se expulsa desde las boquillas primarias 112 y las boquillas secundarias 114, 114a, 114b para la limpieza de la superficie interior 41 del deposito 40, a continuacion, el centro de boquilla giratoria 110 gira alrededor del primer eje A1 y del segundo eje A2. El llquido se expulsa, en consecuencia, como haces de pulverizacion y/o haces de chorro siguiendo un patron predeterminado sobre la superficie interior 41. Las boquillas primarias 112 causan, por lo general, un efecto de limpieza importante de la superficie interior 41 del deposito 40, mientras que las boquillas secundarias causan, por lo general, un efecto de limpieza menor o ningun efecto de limpieza de la superficie interior 41 del deposito 40.
Las Figuras 2-4 ilustran un ejemplo de un patron predeterminado de este tipo del llquido L expulsado desde las boquillas primarias 112. El patron grueso en la Figura 2 se puede conseguir con las boquillas primarias 112 despues de por ejemplo, 1 minuto, el patron mas denso en la Figura 3 despues de 2,5 minutos, y un denominado patron completo como el de la Figura 4 despues de 7 minutos. Cuando el sistema de expulsion de llquido 2 realiza la mezcla, el centro rotatorio 110 gira alrededor del primer eje A1 y del segundo eje A2 como cuando se realiza la limpieza. Sin embargo, cuando se mezcla el llquido L generalmente no impacta o incide en la superficie interior 41 del deposito 40, sino que se inyecta directamente en un contenido del deposito 40. Sin embargo, la direccion de la inyeccion del llquido L por las boquillas primarias 112 sigue el mismo patron, como se muestra en las Figuras 2-4.
El diseno del aparato de expulsion de llquido 100 de la Figura 1 se describira a continuacion en mas detalle con referencia a las Figuras 5 y 6 en combination con la Figura 1. El aparato de expulsion de llquido 100 que se muestra en las Figuras 5 y 6 comprende el miembro de base 105 para recibir el llquido L del conducto de llquido 101, como se muestra en la Figura 1. El miembro de base 105 tiene, como se ha descrito anteriormente, un primer extremo 105a y un segundo extremo 105b. Una circunferencia exterior Cbm de una section 105d del miembro de base 105 se incrementa en una direccion hacia el segundo extremo 105b. Como puede verse, la circunferencia exterior Cbm aumenta en una direccion hacia el segundo extremo 105b sobre una seccion inferior del miembro de base 105, mientras que la circunferencia exterior Cbm es sustancialmente constante en una seccion superior del miembro de base 105. Por lo tanto, la circunferencia exterior Cbm de al menos una seccion del miembro de base 105 y no una circunferencia exterior de todo el miembro base 105 aumenta en una direccion hacia el segundo extremo 105b. El miembro de base 105 puede tener diferentes formas, lo que significa que la circunferencia exterior Cbm puede variar de diferentes maneras. La circunferencia exterior Cbm del miembro de base 105 puede, por ejemplo, aumentar hacia el segundo extremo 105b a lo largo de toda su longitud. Ademas, la circunferencia exterior Cbm puede, por ejemplo, aumentar sobre una seccion hacia el segundo extremo 105b pero puede disminuir con la otra seccion hacia el segundo extremo 105b. Por lo tanto, la circunferencia exterior Cbm puede variar de cualquier forma adecuada, con tal de que, para al menos una seccion del miembro de base 105, aumente en una direccion hacia el segundo extremo 105b.
El cabezal giratorio 106 se conecta en giro al segundo extremo 105b del miembro de base 105. El cabezal giratorio 106 se conecta al miembro de base 105 por medio del primer cojinete 122.
El centro de boquilla giratoria 110 se conecta, a su vez conectado, de forma giratoria l cabezal giratorio 106 por medio del segundo cojinete 124. El centro de boquilla giratoria 110 comprende boquillas de expulsion de llquido primarias 112 para expulsar el llquido L. El centro de boquilla giratoria 110 comprende tambien las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b. El cabezal giratorio 106 puede girar alrededor del primer eje geometrico A1. El centro de boquilla giratoria 110 puede girar alrededor del segundo eje geometrico A2. En la realizacion representada, el segundo eje A2 se dispone en un angulo p de 90° con respecto al primer eje A1, tal como se ha descrito anteriormente. Sin embargo, el angulo p puede tener un valor diferente. Si bien el primer eje A1 y el segundo eje A2 se disponen en un angulo p en relacion el uno al otro, el aparato de expulsion de llquido expulsara el llquido L siguiendo un patron tridimensional hacia una superficie interior 41 del deposito 40 cuando el cabezal giratorio 106 y el centro de boquilla giratoria 110 se hacen girar alrededor de sus respectivos ejes de giro A1, A2. El angulo p es preferentemente 80°-100°, pero otros valores de angulo pueden utilizarse.
Cuando el llquido L entra en el aparato de expulsion de llquido 100 en el primer extremo 105a del miembro de base 105, el llquido L se dirige a traves del miembro de base 105 y adicionalmente en el cabezal giratorio 106. Desde el cabezal giratorio 106, el llquido se dirige ademas al centro de boquilla giratoria 110, y mas especlficamente, a una cavidad interna 110b del centro de boquilla giratoria 110. Desde la cavidad interna 110b, el llquido L fluye hacia las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 y las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b. El llquido L se expulsa como haces de pulverizacion o haces de chorro de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 y las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b.
El giro del cabezal giratorio 106 y el centro de boquilla giratoria 110 alrededor de sus respectivos ejes A1, A2 se realiza por medio de un sistema de accionamiento 130. El sistema de accionamiento se acciona por el flujo del llquido L que entra en el miembro de base 105 en el primer extremo 105a. A fin de lograr el giro, un impulsor 132 se dispone en una trayectoria de flujo del llquido L, por ejemplo, despues de la entrada de llquido en el primer extremo 105a del miembro de base 105. En otras palabras, el impulsor 132 se dispone dentro del miembro de base 105. Un giro del impulsor 132 se induce por el flujo del llquido L que pasa por el impulsor 132. El impulsor 132 se puede situar en otros lugares, como en el conducto de llquido 101, es decir, en una direccion aguas arriba del aparato de expulsion de llquido 100. El impulsor 132 acciona una caja de engranajes 134 en forma de un engranaje planetario o epicicloidal. La caja de engranajes 134 reduce una velocidad de giro tal como se ha recibido por el impulsor 132, lo que da como resultado una velocidad de giro adecuada del cabezal giratorio 106. El experto en la materia se da cuenta de que cualquier tipo adecuado de caja de engranajes se puede utilizar. El centro de boquilla giratoria 110 girara alrededor del segundo eje A1 a medida que gira un engranaje planetario de la caja de engranajes 134, en virtud de una superficie dentada 136 del centro de boquilla giratoria. La superficie dentada 136 se implementa y opera en cooperacion con el engranaje planetario de la caja de engranajes 134 de acuerdo con tecnicas convencionales en el campo de los aparatos de expulsion de llquido. Cualquier tecnica adecuada para disponer el impulsor 132 y para transferir un movimiento de giro del impulsor 132 al cabezal giratorio 106 y al centro de boquilla giratoria 110 puede emplearse. Como alternativa, un impulsor tal como se describe en el documento de patente WO92/04994 se puede utilizar para realizar los giros alrededor del primer eje A1 y el segundo eje A2.
Ademas, el giro alrededor del primer eje A1 puede realizarse mediante un eje, no mostrado, que se extiende desde un extremo superior del conducto de llquido 101 y el cabezal giratorio 106 en el que se conecta al cabezal giratorio 106. El eje tiene preferentemente, a continuacion, un diametro que es mas pequeno que tanto un diametro interior de la tuberla de llquido 101, un diametro interior del miembro de base 105 como un diametro de una abertura en un extremo de entrada del cabezal giratorio 106. Esta disposicion permitira que el llquido L fluya mas alla del eje. Por lo tanto, cuando se hace girar el eje, el cabezal giratorio 106 se hara girar alrededor del primer eje A1. Un eje de este tipo se puede utilizar tambien para accionar el giro del centro de boquilla giratoria 110 alrededor del segundo eje A2 a traves de una caja de engranajes. Un eje de este tipo se puede alimentar, por ejemplo, por un motor electrico o cualquier otra fuente de alimentacion adecuada.
Preferentemente, el giro del cabezal giratorio 106 alrededor del primer eje A1 tiene una velocidad de giro de 0,2 a 6 rpm, y el giro del centro de boquilla giratoria 110 alrededor del segundo eje A2 tiene a una velocidad de giro de 0, 2 a 10 rpm. El cabezal giratorio 106 y el centro de boquilla giratoria se pueden disponer para girar en cualquier direccion alrededor de los ejes A1, A2 respectivos.
Cuando la bomba 54 bombea el llquido L a traves del aparato de expulsion de llquido 100, el llquido L se expulsara a traves de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 y las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b proporcionando chorros de llquido. Preferentemente, la bomba 54 alimenta el llquido L en el aparato de expulsion de llquido 100 a una presion de 1 a 9 bar y con un caudal de 10 a 250 litros por minuto.
En la realizacion ilustrada cuatro boquillas primarias 112 se disponen simetricamente en el centro de boquilla giratoria 110. Sin embargo, es posible tener por ejemplo solo una boquilla primaria 112 sobre el centro giratorio 110. Tambien es posible tener dos, tres o mas de cuatro boquillas de expulsion de llquido primarias 112 en el centro de boquilla giratoria 110. Si mas de una boquilla de expulsion de llquido primaria 112 se dispone en el centro de boquilla giratoria 110, estas boquillas 112 pueden ser identicas o diferentes.
El llquido L expulsado por las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b se expulsara siguiendo un patron hacia la superficie interna 41 del deposito 40, as! como siguiendo un patron hacia la superficie externa 105c del miembro de base 105. Esto significa que el llquido L como se expulsa por las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b incidira sobre la superficie interna 41 del deposito 40 durante la limpieza del deposito 40, as! como sobre la superficie externa 105c del miembro de base 105, dado que se utiliza una presion de llquido suficiente. En la realizacion representada, una de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114b se dirige de tal manera que el llquido L expulsado por la boquilla de expulsion de llquido secundaria 114b se expulsa, durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria 110, siguiendo un patron hacia una superficie externa del conducto de llquido 101. Esta disposicion de la boquilla de expulsion de llquido secundaria 114b se describira con mas detalle a continuacion.
Cuando el deposito 40 se limpia, el aparato de expulsion de llquido 100 se dispone generalmente por encima de una superficie de un contenido en el deposito 40 como se ha descrito anteriormente. Por otro lado, si el aparato de expulsion de llquido 100 se dispone debajo de una superficie de un contenido en el deposito 40, el aparato de expulsion de llquido 100 se mezcla el contenido del deposito como se ha descrito anteriormente. Por lo general, las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 preven un efecto de limpieza primaria o importante de la superficie interna 41 del deposito 40, mientras que las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b preven por lo general un efecto de limpieza secundaria o menor de la superficie interna 41 del deposito 40. Sin embargo, como las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b se dirigen hacia el miembro de base 105 (y el conducto de llquido 101), las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b proporcionaran un efecto de limpieza del propio aparato de expulsion de llquido 100.
En la realizacion ilustrada cuatro boquillas secundarias 114, 114a, 114b se disponen simetricamente en el centro de boquilla giratoria 110. Sin embargo, es posible tener, por ejemplo, solo una boquilla de expulsion de llquido secundaria 114, 114a, 114b en el centro de boquilla giratoria 110. Tambien es posible tener dos, tres o mas de cuatro boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b en el centro de boquilla giratoria 110. Si mas de una boquilla de expulsion de llquido secundaria 114, 114a, 114b se dispone en el centro de boquilla giratoria 110 estas boquillas 114, 114a, 114b pueden ser identicas o diferentes, como se describira en mas detalle mas adelante.
Como se ha descrito anteriormente, en la realizacion ilustrada cuatro boquillas primarias 112 y cuatro boquillas secundarias 114, 114a, 114b se disponen simetricamente en el centro de boquilla giratoria 110. Las boquillas primarias 112 dispuestas en el centro de boquilla giratoria 110, de tal manera que se forman espacios intermedios 110e entre las boquillas de expulsion de llquido primarias 112. Las boquillas de expulsion de llquido secundarias (114, 114a, 114b) se situan en un espacio intermedio respectivo (110e) de los espacios intermedios (110e) entre las boquillas de expulsion de llquido primarias (112).
A continuacion, se describiran las boquillas de expulsion de llquido primarias 112. Cada una de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 comprende, como se ve en una direccion desde una entrada 113b, una seccion cillndrica 112c seguida de la seccion 112t que se estrecha en una direccion hacia una salida 113a de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112. La seccion conica 112t esta provista de una superficie concava exterior 112s. La superficie concava exterior 112s es concava en el sentido de que una seccion transversal de la boquilla de expulsion de llquido primaria 112 a lo largo de una direccion longitudinal de la misma presenta una porcion concava que define la seccion transversal. La seccion conica 112t puede tener una forma o conicidad en una forma diferente. Ademas, en algunas realizaciones, las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 pueden tener cualquier forma adecuada y puede por consiguiente, por ejemplo, tener un espesor uniforme o tener varias secciones diferentes que varlan en espesor. Ademas, las salidas 113a de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 respectivas pueden tener cualquier forma o tamano adecuado, para proporcionar un chorro de llquido deseado. Por ejemplo, las salidas 113a pueden tener una seccion transversal circular, cuadrada u ovalada. Las salidas 113a pueden realizarse de acuerdo con cualquier tecnica convencional en el campo de la limpieza de depositos y aparatos de mezcla.
En la realizacion representada, la seccion cillndrica 112c esta provista de un recorte plano 112p para permitir que una herramienta, tal como una llave inglesa ajustable, se acople a las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 para la fijacion y la liberacion de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 a y desde el centro 112 de boquilla giratoria. La conexion de las boquillas de expulsion de llquido 112 al centro de boquilla giratoria 110 puede realizarse de acuerdo con cualquier tecnica convencional en el campo de la limpieza de depositos y aparatos de mezcla.
La superficie concava exterior 112s de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 permite una autolimpieza mejorada de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112. Esto se consigue al proporcionar un hueco 120 entre el miembro de base 105 y el cabezal giratorio 106. El hueco 120 permite que una cantidad de llquido L fluya hacia afuera a traves del hueco 120. El flujo de llquido que sale del hueco 120 se dirige, despues de salir del hueco 120, en una direccion sustancialmente paralela al segundo eje A2, es decir, en la direccion hacia la derecha de la Figura 6, por medio de una seccion de superficie exterior abombada o una seccion curva 106s del cabezal giratorio 106. En otras palabras, la seccion de superficie exterior abombada 106s dirige el flujo de llquido que sale del hueco 120 en una direccion hacia las boquillas de expulsion de llquido primarias 112. Las respectivas superficies concavas exteriores 112s de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 se situan de tal manera que el flujo de llquido del hueco 120 incide en las superficies concavas exteriores 112s de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 durante al menos una parte de una revolucion del cubo de boquilla giratoria 110. En otras palabras, el flujo de llquido del hueco 120 incide en las en las superficies concavas exteriores 112s respectivas a medida que las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 estan girando, en virtud de que el llquido (L) forma el hueco 120 que es dirigido por la seccion de superficie exterior abombada 106 hacia las superficies concavas 112. Cuando son golpeadas por un llquido que proviene originalmente del hueco 120, las superficies concavas exteriores 112s de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 dirigen el flujo de llquido en una direccion hacia la salida 113a de las respectivas boquillas de expulsion de llquido primarias 112, proporcionando as! un efecto de limpieza a las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 respectivas. La forma de la seccion de superficie exterior abombada 106s puede variarse para dirigir el flujo de llquido que sale del hueco 120 en otras direcciones. Sin embargo, la seccion de la superficie exterior abombada 106 deberla tener preferentemente una forma tal que el flujo de llquido procedente del hueco 120 incida en las superficies concavas exteriores 112 de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 durante al menos una parte de una revolucion del cubo de boquilla giratoria 110.
En detalle y con referencia adicional a la Figura 7, el llquido L que proviene del hueco 12 se dirige, por la seccion superficial 106s, hacia una superficie de salida de llquido 106e del cabezal giratorio 106. La superficie de salida de llquido 106e tiene una direccion tangencial que dirige el llquido L hacia la superficie concava 112s de la boquilla de expulsion de llquido primaria 112, durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria 110. La superficie concava 112s tiene un punto de partida 112b desde donde la superficie concava 112s comienza a extenderse hacia la salida 113a. La superficie de salida de llquido 106e se puede situar a una primera distancia R1 desde el segundo eje Geometrico A2, y el punto de partida 112b se puede situar a una segunda distancia R2 del segundo eje geometrico A2. La primera distancia R1 es preferentemente mayor que la segunda distancia R2.
Por ejemplo, la seccion de superficie exterior abombada 106s se puede inclinar en una direccion hacia abajo, lo que significa que el flujo de llquido que sale del hueco 120 se dirigira hacia abajo. Ademas, la seccion de superficie exterior abombada 106s puede inclinarse en una direccion hacia arriba, lo que significa que el flujo de llquido que sale del hueco 120 se dirigira hacia arriba. Esto puede, por ejemplo, lograrse conseguirse proporcionando un bulto, no mostrado, donde el flujo de llquido que sale del hueco 120 abandona la seccion de superficie exterior abombada 106s.
A continuation, se describira la configuration de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b. En la realization representada, las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b se proporcionan como orificios pasantes en la pared 110a del centro de boquilla giratoria 110. Las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b se pueden proporcionar como perforaciones, orificios entubados o similares. Los orificios pasantes que constituyen las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b se extienden de este modo entre la cavidad interna 110b del centro de boquilla giratoria 110 y una superficie externa 110c del centro de boquilla giratoria 110. Los extremos respectivos de los orificios pasantes que conforman las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b estan por tanto actuando como las entradas 115b y salidas 115a de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b respectivas.
En la realizacion representada, las salidas 115a de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b respectivas estan al nivel de la superficie externa 110c del centro de boquilla giratoria. Los orificios que conforman las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b respectivas pueden tener cualquier forma o tamano adecuado. Por ejemplo, los orificios pueden ser circulares, de forma cuadrada, ovalada o similar. Ademas, se puede formar un orificio relativamente grande, en el que el orificio esta posteriormente provisto de un inserto, no mostrado. Al proporcionar un inserto, el tamano, la forma y la ubicacion de las salidas 115a pueden alterarse. Por otra parte, el uso de un inserto permite la sustitucion eficaz en caso de que el inserto se dane o vea negativamente afectado de cualquier otra manera. Tambien al usar un inserto, la salida 115a se puede disponer a nivel con la superficie externa 110c del centro de boquilla giratoria 110.
Preferentemente, las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 tienen salidas 113a que son mas grandes que las salidas 115a de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b, de tal manera que un flujo de llquido a traves de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 es al menos 8 veces mayor que un flujo de llquido a traves de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b.
Cualquier relation adecuada entre el flujo de llquido a traves de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 y el flujo de llquido a traves de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b puede utilizarse tambien.
En la realizacion representada, las entradas 113b de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 y las entradas 115b de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b se forman en una pared 110a de la cavidad interna 110b, lo que significa que las boquillas 112, 114, 114a, 114b respectivas tienen todas entradas individuales 113b, 115b en la cavidad interna 110b. Esto significa tambien que todas las entradas 113b, 115b de las boquillas 112, 114, 114a, 114b respectivas estan provistas, durante su uso, del llquido L procedente de la cavidad interna 110b del centro de boquilla giratoria 110.
En la realizacion representada, una primera boquilla de expulsion de llquido secundaria 114a se inclina hacia el cabezal giratorio 106 con un angulo a de 56° con respecto una direccion radial Dr del centro de boquilla giratoria 110. Esto significa que el llquido L expulsado por la primera boquilla de expulsion de llquido secundaria 114a, durante al menos una parte de una revolution del centro de boquilla giratoria 110, se expulsara siguiendo un patron hacia la superficie externa 105c del miembro de base 105, como se ha descrito anteriormente. Preferentemente, la primera boquilla de expulsion de llquido secundaria 114a se inclina hacia el cabezal giratorio 106 con un angulo a de 10° a 50°. Sin embargo, cualquier otro angulo a puede utilizarse.
En la realization representada, una segunda boquilla de expulsion de llquido secundaria 114b se inclina hacia el cabezal giratorio 106 con un angulo a de 5° con relation a la direction radial Dr del centro de boquilla giratoria 110. Esto significa que el llquido L expulsado por la segunda boquilla de expulsion de llquido secundaria 114b durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria 110 se expulsara siguiendo un patron hacia una superficie externa del conducto de llquido 101 que se extiende en el deposito 40. Por supuesto, esto supone que el conducto de llquido 101 es suficientemente larga para golpearse por el llquido L (un angulo a de 5° es un valor que es adecuado para la mayorla de las implementaciones de limpieza de depositos). Preferentemente, la segunda boquilla de expulsion de llquido secundaria 114b se inclina hacia el cabezal giratorio 106 con un angulo a de 1° a 10°. Sin embargo, cualquier otro angulo a puede utilizarse.
En la realizacion representada hay cuatro boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b. Preferentemente, las cuatro boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b se disponen en los angulos a de 2,8°, 5°, 56° y 56°, lo que hace que el llquido L expulsado por dos de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a (56° y 56°) durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria 110 se expulse siguiendo un patron hacia la superficie externa 105c del miembro de base 105, y que el llquido L expulsado por las dos boquillas de inyeccion de llquido secundarias 114, 114b restantes (2,8° y 5°) durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria 110 se expulse siguiendo un patron hacia la superficie externa del conducto de llquido 101 que se extiende en el deposito 40, en dos lugares diferentes en el conducto de llquido 101.
Una distancia mas corta Ds desde un eje central, longitudinal A1 del miembro de base 105 y las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b puede estar entre 65 y 120 mm.
Una circunferencia Crh del cabezal giratorio 106 puede, en un extremo 106a del cabezal giratorio 106 orientado hacia el centro de boquilla giratoria 110, ser al menos un 20 % mas grande que una circunferencia Cnh del centro de boquilla giratoria 110, en un extremo 110d del centro de boquilla giratoria 110 orientado hacia el cabezal giratorio 106. Sin embargo, otras relaciones entre las circunferencias Crh, Cnh puede utilizarse.
Las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b son conexiones entre las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 y el centro de boquilla giratoria 110 se pueden disponer en una superficie envolvente anular Sae del centro de boquilla giratoria 110, como es el caso de la realizacion representada. Una anchura Wae de la superficie envolvente anular Sae puede ser igual a o menor que una anchura exterior Wpn de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 al menos una de las conexiones entre las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 y el centro de boquilla giratoria 110. Al disponer las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b y las conexiones entre las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 y el centro de boquilla giratoria 110 en una superficie envolvente Sae que tiene una anchura limitada Wpn, se puede conseguir un aparato de expulsion de llquido 100 que tiene una extension limitada a lo largo del segundo eje geometrico A2.
En la realizacion representada, las entradas 115b de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b y las entradas 113b de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 se disponen en un volumen en forma de disco, imaginario Vd. El volumen en forma de disco Vd se centra en y se extiende desde el segundo eje geometrico A2, como se muestra en las Figuras 5 y 6. El volumen en forma de disco Vd tiene una anchura Wd que es igual a una anchura exterior Wpn de al menos una de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 en una conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria 112 y el centro de boquilla giratoria 110. El volumen en forma de disco Vd tiene normalmente un radio que se extiende desde el segundo eje geometrico A2, y al menos un poco mas alla (por ejemplo, 1 mm mas alla) de las salidas 113a de la boquilla de expulsion de llquido primaria 112. Ademas, el volumen en forma de disco Vd encierra la conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria 112 y el centro de boquilla giratoria 110. Esta disposition de las entradas 113b, 115b respectivas de las boquillas 112, 114, 114a, 114b respectivas hace que todas las entradas se proporcionen en la cavidad interna 110b a lo largo de una distancia limitada como se ve a lo largo del segundo eje geometrico A2, lo que hace que un diseno compacto del aparato de expulsion de llquido 100 se pueda conseguir como se ha descrito anteriormente. Las entradas 113b, 115b respectivas de las boquillas 112, 114, 114a, 114b respectivas pueden, en otras realizaciones, proporcionarse en diferentes lugares no limitadas por el volumen en forma de disco Vd.
En la realizacion representada, las salidas 115a de las boquillas de expulsion de llquido secundarias 114, 114a, 114b y las salidas 113a de las boquillas de expulsion de llquido primarias 112 se disponen dentro del volumen en forma de disco Vd descrito anteriormente. Esta disposicion de las salidas 113a, 115a respectivas de las boquillas 112, 114, 114a, 114b respectivas hace que todas las salidas 113a, 115a se proporcionen a lo largo de una distancia limitada como se ve a lo largo del segundo eje geometrico A2, lo que hace que un diseno compacto del aparato de expulsion de llquido 100 se pueda conseguir como se ha descrito anteriormente.
Aunque la invencion se ha descrito con referenda a realizaciones especlficas a modo de ejemplo de la misma, muchas alteraciones, modificaciones y similares diferentes seran evidentes para los expertos en la materia. Las variaciones de las realizaciones descritas se pueden entender y efectuar pro el destinatario experto en la implementacion de la invencion reivindicada, a partir de un estudio de los dibujos, la divulgacion y las reivindicaciones adjuntas. Ademas, en las reivindicaciones, la palabra "comprendiendo" no excluye otros elementos o etapas, y el artlculo indefinido "un" o "uno" no excluye una pluralidad.

Claims (13)

REIVINDICACIONES
1. Un aparato de expulsion de llquido (100) para la limpieza de un deposito (40), estando el aparato de expulsion de llquido (100) configurado para fijarse a un conducto de llquido (101) que se extiende en el deposito (40), y para recibir un llquido (L) procedente del conducto de llquido (101), comprendiendo el aparato de expulsion de llquido (100):
un miembro de base (105) que tiene un primer extremo (105a) para recibir el llquido (L) procedente del conducto de llquido (101), y un segundo extremo (105b), en donde una circunferencia exterior (Cbm) de una seccion (105d) del miembro de base (105) aumenta en una direccion hacia el segundo extremo (105b),
un cabezal giratorio (106) que esta conectado en giro al segundo extremo (105b) del miembro de base (105), un centro de boquilla giratoria (110) que esta conectado en giro al cabezal giratorio (106) y comprende una boquilla de expulsion de llquido primaria (112) para expulsar el llquido (L), pudiendo el cabezal giratorio (106) girar alrededor de un primer eje geometrico (A1) y el centro de boquilla giratoria (110) pudiendo girar alrededor de un segundo eje geometrico (A2) que esta dispuesto en un angulo (p) con respecto al primer eje geometrico (A1), de manera que el llquido (L) expulsado por la primaria boquilla de expulsion de llquido (112) es inyectado siguiendo un patron hacia una superficie interior (41) del deposito (40),
caracterizado por que el centro de boquilla giratoria (110) comprende una boquilla de expulsion de llquido secundaria (114, 114a, 114b) que esta configurada para, durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria (110), expulsar el llquido (L) siguiendo un patron hacia una superficie externa (105c) del miembro de base (105), estando la boquilla de expulsion de llquido secundaria (114, 114a, 114b) formada como un orificio pasante en una pared (110a) del centro de boquilla giratoria (110), teniendo el orificio pasante una salida (115a) que esta a ras de una superficie envolvente anular (SAE) de una superficie externa (110c) del centro de boquilla giratoria (110).
2. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con la reivindicacion 1, en el que la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) tiene una salida (113a) que es mas grande que la salida (115a) de la boquilla de expulsion de llquido secundaria (114, 114a, 114b), de manera que un flujo de llquido a traves de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) es al menos 8 veces mayor que un flujo de llquido a traves de la boquilla de expulsion de llquido secundaria (114, 114a, 114b).
3. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que una conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) y el centro de boquilla giratoria (110) estan dispuestos en la superficie envolvente anular (Sae) del centro de boquilla giratoria (110), teniendo la superficie envolvente anular (Sae) una anchura (Wae), que es igual o menor que una anchura exterior (Wpn) de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) en la conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria (112 ) y el centro de boquilla giratoria (110).
4. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el centro de boquilla giratoria (110) comprende una cavidad interna (110b) en comunicacion llquida con el cabezal giratorio (106), en donde una entrada (115b) de la boquilla de expulsion de llquido secundaria (114, 114a, 114b) y una entrada (113b) de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) estan separadas entre si y formadas en una pared (110a) de la cavidad interna (110b).
5. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que una entrada (115b) de la boquilla de expulsion de llquido secundaria (114, 114a, 114b) y una entrada (113b) de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) estan dispuestas dentro de un volumen en forma de disco (Vd) centrado en y que se extiende radial y perpendicularmente desde el segundo eje geometrico (A2), y que tiene una anchura (Wd) que es igual a una anchura exterior (Wpn) de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) en una conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) y el centro de boquilla giratoria (110).
6. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la salida (115a) de la boquilla de expulsion de llquido secundaria (114, 114a, 114b) y una salida (113a) de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) estan dispuestas dentro de un volumen en forma de disco (Vd) centrado en y que se extiende radial y perpendicularmente desde el segundo eje geometrico (A2), y que tiene una anchura (Wd) que es igual a una anchura exterior (Wpn) de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) en una conexion entre la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) y el centro de boquilla giratoria (110).
7. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) tiene una superficie concava exterior (112s) que esta orientada hacia el cabezal giratorio (106).
8. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con la reivindicacion 7, que comprende un hueco (120) situado entre el miembro de base (105) y el cabezal giratorio (106), para permitir que una cantidad del llquido (L) fluya hacia fuera del hueco ( 120), en donde la superficie concava exterior (112s) de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) esta situada de tal manera que un flujo del llquido (L) procedente del hueco (120) incide sobre la superficie concava exterior (112s) de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112) durante al menos una parte de una revolution del centro de boquilla giratoria (110).
9. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con la revindication 8, en el que el espacio de separation (120) dirige el llquido (L) hacia una section curva (106s) del cabezal giratorio (106), dirigiendo la section curva (106s) el llquido (L) hacia una superficie de salida de llquido (106e) del cabezal giratorio (106), teniendo la superficie de salida de llquido (106e) una direction tangencial que dirige el llquido (L) hacia la superficie concava (112s) de la boquilla de expulsion de llquido primaria (112), durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria (110).
10. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el aparato de expulsion de llquido (100) comprende una pluralidad de boquillas de expulsion de llquido primarias (112) que estan dispuestas en el centro de boquilla giratoria (110), de manera se forman espacios intermedios (110e) entre las boquillas de expulsion de llquido primarias (112), y una pluralidad de boquillas de expulsion de llquido secundarias (114, 114a, 114b) que se encuentran en un espacio intermedio (110e) respectivo de los espacios intermedios (110e) entre la boquillas de expulsion de llquido primarias (112).
11. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que comprende una pluralidad de boquillas de expulsion de llquido secundarias (114, 114a, 114b), en el que una primera boquilla de expulsion de llquido secundaria (114a) esta inclinada hacia el cabezal giratorio (106) con un angulo (a) de 10° a 50° con respecto al primer eje geometrico (A1), de manera que el llquido (L) expulsado por la primera boquilla de expulsion de llquido secundaria (114a) durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria (110) es expulsado siguiendo un patron hacia una superficie externa (105c) del miembro de base (105), y en donde
una segunda boquilla de expulsion de llquido secundaria (114b) esta inclinada hacia el cabezal giratorio (106) con un angulo (a) de 1° a 10° con respecto al primer eje geometrico (A1), de tal manera que el llquido (L) expulsado por la segunda boquilla de expulsion de llquido secundaria (114b) durante al menos una parte de una revolucion del centro de boquilla giratoria (110) es expulsado siguiendo un patron hacia una superficie externa del conducto de llquido (101) que se extiende en el deposito (40) .
12. Aparato para la inyeccion de llquido (100) de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la distancia mas corta (Ds) desde un eje longitudinal central (A1) del miembro de base (105) y la boquilla de expulsion de llquido secundaria (114, 114a, 114b) es de entre 65 y 120 mm.
13. Aparato de expulsion de llquido (100) de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que una circunferencia (Crh) del cabezal giratorio (106) es, en un extremo (106a) del cabezal giratorio (106) dirigido hacia el centro de boquilla (110), al menos un 20 % mas grande que una circunferencia (Cnh) del centro de boquilla giratoria (110), en una seccion (110d) del centro de boquilla giratoria (110), donde el centro de boquilla giratoria (110) se encuentra con el cabezal giratorio (106) .
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