ES2311048T3 - Unidad de purificacion de gas. - Google Patents

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ES2311048T3 ES02250974T ES02250974T ES2311048T3 ES 2311048 T3 ES2311048 T3 ES 2311048T3 ES 02250974 T ES02250974 T ES 02250974T ES 02250974 T ES02250974 T ES 02250974T ES 2311048 T3 ES2311048 T3 ES 2311048T3
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John Irven
Dao Hong Zheng
Graham Alan Leggett
Jonathan Davey
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Air Products and Chemicals Inc
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Abstract

Una unidad depuradora de gas (202, 302, 402, 502b) adecuada para depurar un gas antes de que dicho gas sea dispensado desde un recipiente de gas licuado que tiene un conjunto de válvula para descargar gas desde el recipiente, comprendiendo dicha unidad (202, 302, 402, 502b): un cuerpo hueco (204, 304) que tiene un primer extremo (206) y un segundo extremo (208) y que está lleno, al menos parcialmente, entre dichos extremos de material depurador de gas (214); una salida de gas (210, 410) dispuesta en el primer extremo (206) del cuerpo y adaptada para conexión a dicho conjunto de válvula de modo que el cuerpo se extiende dentro del recipiente; y medios de entrada de gas que permiten flujo de gas desde el recipiente al segundo extremo (208) del cuerpo, caracterizada porque el segundo extremo (208) del cuerpo está cerrado, y los medios de entrada de gas comprenden medios de conducto (226) que tienen una boca (212, 412, 512b) en o cerca del primer extremo (206) del cuerpo, extendiéndose dichos medios de conducto (226) hasta el segundo extremo (208) del cuerpo.

Description

Unidad de purificación de gas.
El presente invento se refiere a una unidad depuradora de gas. En particular, el presente invento se refiere a una unidad depuradora de gas para depurar un gas antes de que dicho gas sea dispensado desde un recipiente de gas licuado, tal como un cilindro.
En muchos procesos comerciales, en particular en las industrias de electrónica y de semiconductores, se precisan gases y mezclas de gases de alta pureza, es decir, gases y mezclas de gases que estén sustancialmente libres de uno o más componentes no deseados ("impurezas"). En muchas aplicaciones, los gases y las mezclas de gases de alta pureza deben contener menos de un total de 50 partes por millón ("ppm") de nitrógeno, oxígeno, monóxido de carbono, bióxido de carbono, compuestos de hidrocarburos y agua. En otras aplicaciones, el único requisito puede ser que el gas o la mezcla de gases de alta pureza contengan menos de unas pocas ppm de una impureza específica, por ejemplo, de agua.
En ciertos casos, un nivel de impurezas inaceptable puede ser del orden de varias partes por billón (10^{9}) ("ppb").
La humedad está reconocida por la industria de los semiconductores como una impureza clave, cuya presencia produce un impacto directo en el rendimiento de los dispositivos semiconductores. Está también reconocida en general como la impureza más difícil de eliminar de un modo efectivo de los sistemas de distribución de gas. La tendencia de la industria es hacia mayores diámetros de la pastilla de semiconductor, lo que a su vez conducirá a presiones y flujos de gas menores. En esas condiciones, la humedad adsorbida sobre las superficies interiores del equipo de procesado es fácilmente desadsorbida en la corriente de gas, lo que afecta a las actuaciones del proceso de fabricación de los semiconductores.
Los gases corrosivos usados en los procesos de fabricación de semiconductores, y en particular el cloruro de hidrógeno ("HCl") son frecuentemente fuente de contaminación por humedad. El HCl suministrado en recipientes para uso en aplicaciones de fabricación de semiconductores tiene una especificación de humedad de 1 ppm (grado VLSI) (Very Large Scale Integration o Integración a Escala Muy Grande) o de 2 ppm (grado electrónico). Se suministra en forma líquida a alta presión. Mientras se está consumiendo, el HCl líquido hierve para formar el HCl gaseoso, el cual es suministrado al proceso. Después de que se haya evaporado la mayor parte del líquido, el último pequeño tanto por ciento de líquido y gas que queda se conoce como "los restos". Aunque la gran parte del contenido del recipiente satisfará la especificación de humedad, se produce un significativo aumento de la concentración de humedad al usar los restos del recipiente, y esa especificación de la humedad pude muy bien ser excedida, lo que podría tener un efecto significativo adverso en el proceso de fabricación de semiconductores. En la Figura 6 se ha representado cómo aumenta la concentración de humedad medida al usar los restos del recipiente.
Un modo de afrontar la contaminación por humedad de un gas, consiste en eliminar la humedad del gas en el punto de uso ("POU") del gas.
En el documento US-A-5403387 (de Flynn y otros, publicado con fecha de 4 de abril de 1995) se describe un dispositivo para eliminar la humedad de un flujo de gas para proporcionar aire u otro gas que tenga una humedad relativamente baja, El dispositivo comprende un alojamiento alargado y una cabeza de conexión que juntos forman un bote. La cabeza de conexión define una entrada de gas, una salida de gas y una superficie de cierre. La entrada de gas está conectada a un tubo de distribución que se extiende hacia el fondo del interior del bote. Se proporciona un material desecante, preferiblemente uno que pueda ser rejuvenecido por cocción en horno, por ejemplo, gel de sílice, dentro del alojamiento, alrededor del tuno de distribución. El gas se desplaza al alojamiento por la entrada de gas y el tubo de distribución, pasa a través del material desecante, donde es desecado, y sale luego del dispositivo por la salida de gas. El dispositivo está diseñado para ser usado fuera de un recipiente de gas a ser desecado. En la única aplicación que se cita como ejemplo, se usa el dispositivo para desecar un suministro de aire comprimido para un proceso de pintura por rociado.
En el documento EP-A-0288931 (de Glenn; publicado con fecha de 2 de noviembre de 1968) se describe un bloque de válvulas que puede ser unido al receptáculo para formar un recipiente adecuado para uso en la industria de los semiconductores, principalmente para almacenamiento de líquido/dispensación de vapor, pero también para aplicaciones de depuración de gases. El bloque de válvulas se caracteriza por tener una configuración de triple válvula que permite que los gases que ocupen los espacios muertos sean fácilmente purgados de un sistema de distribución de gas mediante un bucle de derivación de purga integral. En las aplicaciones para la depuración de gases, se llena el recipiente con un material absorbente el cual, en el único ejemplo que se da, es un eliminador de la arsina. Desde el bloque de válvulas se extiende hacia abajo un tubo de inmersión para dirigir el gas a ser depurado al fondo del lecho de material absorbente. El gas se desplaza a través del material absorbente y sale del recipiente por una válvula en el bloque de válvulas. Para todas las aplicaciones, el recipiente está situado fuera del recipiente de gas que contiene el gas a ser depurado.
En el documento US-A-5409526 (de Zheng y otros, publicado con fecha de 25 de abril de 1995) se describe un aparato para suministrar gas de alta pureza, que comprende un recipiente que tiene una válvula con dos lumbreras internas. Una lumbrera interna se usa para llenar el recipiente, mientras que la otra tiene acoplada una unidad depuradora de gas que se extiende dentro del recipiente y que elimina las partículas y las impurezas del gas al salir éste del recipiente.
En la Figura 1 se ha representado un ejemplo del tipo de unidad depuradora de gas descrito en el documento de Zheng. La unidad 102 comprende un cuerpo tubular 104 que tiene un primer extremo 106 y un segundo extremo 108. El primer extremo 106 tiene una salida de gas 110 que está adaptada para conexión a una válvula, y el segundo extremo 108 tiene una entrada de gas 112. La unidad 102 comprende además un disco de filtro 114 adyacente a la entrada, que es mantenido en posición con una pinza circular 116. La depuración del gas se efectúa mediante la combinación de una capa 118 de un material adsorbente emparedado entre dos capas 120, 122 de tamices moleculares. Esta combinación de capas se mantiene entre dos tapones 124, 128 de lana de vidrio. La salida de gas 110 está provista de un filtro de acero inoxidable 128.
En uso, el gas entra en la unidad 102 a través de la boca de la entrada de gas 112 en el fondo de la unidad. El gas pasa a través del disco de filtro 114, del primer tapón de lana de vidrio 124, de las diversas capas 118, 120, 122 de material depurador, del segundo tapón de lana de vidrio 126, y del filtro de acero inoxidable 128, y sale por la salida de gas 110 en la parte superior de la unidad, desde donde sale del recipiente por el conjunto de válvula.
En el documento EP-A-0916891 (de Zheng y otros, publicado con fecha de 19 de mayo de 1999), se describe un dispositivo de control de un gas para uso con un recipiente de gas comprimido. El dispositivo de control del gas puede comprender una unidad depuradora situada dentro del recipiente. Se describe que la unidad depuradora puede ser convenientemente tal como la que se describe en el documento US-A-5409526.
Aunque esta disposición funciona bien con gases permanentes, tiene asociadas varias desventajas para la unidad depuradora de gas descrita en el documento de Zheng, cuando funciona con gases licuados. Una de esas desventajas es la de que si el nivel de gas licuado dentro de un recipiente está por encima de la boca de entrada de gas, la unidad actuaría como un tubo de inmersión y permitiría que el gas licuado escapase del recipiente.
La Figura 5a representa una unidad depuradora de gas 502a, del tipo ilustrado en la Figura 1, unida in situ a un conjunto de válvula 506a montado en un recipiente de gas licuado 504a. El conjunto de válvula incluye regulación de la presión interna. La entrada 512a está situada en el extremo inferior de la unidad 502a y, por consiguiente, si se sumerge el extremo inferior de la unidad en el gas licuado, el gas licuado es entonces aspirado del recipiente 504a. El gas licuado retirado de ese modo podría originar una inundación no deseada y posiblemente peligrosa del sistema de distribución de gas. Tal inundación afectaría a la productividad, no solamente por inutilizar posiblemente un lote de artículos en producción, sino también por requerir que se emplee tiempo y dinero para limpiarlo. El tiempo de inactividad del aparato del proceso durante la limpieza podría producir un efecto significativo en cuanto a la productividad.
Estos problemas pueden superarse asegurando para ello que el nivel de gas licuado en el recipiente no esté por encima de la boca de entrada de gas de la unidad depuradora. Esto se puede conseguir llenando parcialmente el recipiente, para lo que se requiere el uso de un recipiente mayor si se ha de almacenar la misma cantidad de gas licuado.
Sin embargo, las soluciones de este tipo pueden no ser las de mejor relación de coste/eficacia. Llenar parcialmente el recipiente significa que necesariamente se ha de sustituir antes el recipiente (con lo que se aumentan los costes por transportes y el tiempo de inactividad del aparato en el proceso, etc.), y el uso de un recipiente mayor supondría un gasto superfluo y no sería eficiente. Puesto que una unidad depuradora convencional puede extenderse en una fracción significativa de la longitud del recipiente de gas licuado, una parte significativa del recipiente estará vacía. Evidentemente, existe la necesidad de una unidad depuradora de gas que pueda ser usada con recipientes para gas licuado convencionales, que superen estos problemas sin incurrir en penalización significativa en cuanto a
coste.
En consecuencia, se proporciona, en un primer aspecto del presente invento, una unidad depuradora de gas adecuada para depurar un gas antes de que dicho gas sea dispensado desde un recipiente de gas licuado que tenga un conjunto de válvula para descargar gas desde el recipiente, comprendiendo dicha unidad:
un cuerpo hueco que tiene un primer extremo y un segundo extremo, y que está lleno, al menos parcialmente, entre dichos extremos, de material depurador de gas;
una salida de gas dispuesta en el primer extremo del cuerpo y adaptada para conexión con dicho conjunto de válvula de modo que el cuerpo se extienda dentro del recipiente; y
medios de entrada de gas que permiten el flujo de gas desde el recipiente al segundo extremo del cuerpo,
caracterizada porque el segundo extremo del cuerpo está cerrado y los medios de entrada de gas comprenden medios de conducto que tienen una boca en, o cerca de, el primer extremo del cuerpo, extendiéndose dichos medios de conducto hasta el segundo extremo del cuerpo.
Supuesto que el nivel de gas licuado en el recipiente no excede del nivel de la boca de entrada de gas en. o cerca de, el primer extremo del cuerpo de la unidad, se puede entonces sumergir la unidad parcialmente en gas licuado, sin efecto alguno adverso.
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Los medios de conducto pueden extenderse fuera del cuerpo de la unidad pero preferiblemente los medios de conducto están dentro del cuerpo de la unidad. Dentro de los medios de conducto se puede disponer material depurador de gas, pero preferiblemente los medios de conducto están desprovistos de material depurador de gas.
La unidad depuradora de gas puede comprender además una lumbrera para rellenar con material, que puede cerrarse, por medio de la cual se llena el cuerpo de material depurador de gas. Preferiblemente, una vez lleno el cuerpo, se cierra la lumbrera de llenado para sellar el segundo extremo del cuerpo. La lumbrera de llenado puede cerrarse con una tapa Swagelok^{TM}, o bien con un acoplamiento para impacto con conicidad.
Preferiblemente, la unidad es capaz de depurar gases hasta dejarlos con un alto grado de pureza. Por ejemplo, en una realización preferida el presente invento es capaz de reducir la concentración de HCl desde un número de una sola cifra de ppm hasta un nivel de aproximadamente 0,1 ppm.
El material depurador puede ser cualquier material adecuado para eliminar las impurezas presentes en el gas o mezcla de gases particular que se dispense desde el recipiente. El material puede ser uno absorbente o uno adsorbente, o una combinación de ambas clases. El material adsorbente puede ser una zeolita o un tamiz molecular, en particular los tamices moleculares de 4A. El absorbente puede comprender un producto químico para eliminar las impurezas (un "adsorbente metálico") y/o un compuesto organo-metálico. El material depurador puede también comprender un catalizador para potenciar la función del adsorbente o del absorbente,
Se prefiere en particular que el material depurador elimine el agua del gas. El material depurador comprende preferiblemente cloruro magnésico sobre un soporte inerte adecuado. Se puede usar la alúmina como el soporte, pero se prefiere en particular un soporte de carbón amorfo, tal como el descrito en el documento US-A-5958356 (de Dong y otros).
Ha de quedar entendido que el presente invento puede usarse para depurar cualquier gas, siempre que en el cuerpo de la unidad se use un material depurador adecuado. Sin embargo, el presente invento se usa preferiblemente cuando el gas a ser depurado es corrosivo, y en particular cuando ese gas es el HCl. En este caso, se prefiere que, cuando sea apropiado, los componentes de la unidad estén hechos de acero inoxidable 316L. Para gases todavía más corrosivos, se pueden requerir materiales tales como el Hastelloy^{TM} (fabricado por la firma Haynes Stellite (1929).
La unidad puede comprender además al menos un filtro para material en partículas. Los filtros adecuados incluyen discos de filtro sinterizados, lana de vidrio, y fibras de acero inoxidable.
En un segundo aspecto del presente invento, se proporciona un conjunto de válvula para la salida de un recipiente de gas licuado, comprendiendo dicho conjunto de válvula un alojamiento de válvula para montar dicho conjunto en la salida del recipiente, al menos un camino para el flujo de gas a través del alojamiento, una válvula de control del flujo de gas a través de dicho camino, y una unidad depuradora de gas aguas arriba de dicho camino para el flujo de gas, para depurar el gas admitido en dicho camino procedente del recipiente, siendo dicha unidad como se ha definido en el primer aspecto del presente invento.
El conjunto de válvula puede comprender cualquiera de las características opcionales de la unidad depuradora de gas, tal como se han descrito en lo que antecede, ya sea solas o ya sea en cualquier combinación. La presión del gas a ser dispensado puede regularse usando un regulador de presión. El regulador de presión puede proporcionar reducción de la presión desde un valor más alto en el recipiente hasta un valor más bajo en el lado de aguas abajo. Si se emplea un regulador de la presión absoluta, éste puede ajustarse a un valor tal que a través del regulador no sea entregado gas hasta que la presión en la línea de salida se haya reducido hasta un nivel inferior al de la presión atmosférica.
En un tercer aspecto del presente invento, se proporciona un sistema de recipiente de gas licuado que comprende un recipiente de gas licuado que tiene una salida y un conjunto de válvula montado en la salida del recipiente, para controlar la descarga de gas a su través, siendo dicho conjunto de válvula como se ha definido en el segundo aspecto del presente invento.
El recipiente de gas licuado puede comprender cualquiera de las características opcionales de la unidad depuradora de gas tal como se ha descrito en lo que antecede, ya sea solas o ya sea en cualquier combinación.
A continuación se hace una descripción, únicamente a modo de ejemplo y con referencia a los dibujos que se acompañan, de realizaciones actualmente preferidas del invento. En los dibujos:
La Figura 1 es una representación en corte transversal de una unidad depuradora de gas conocida en la técnica;
La Figura 2 es una representación en corte transversal de una primera realización del presente invento, que comprende una tapa de Swagelok:
La Figura 3 es una representación en corte transversal de una segunda realización del presente invento, que comprende un acoplamiento de impacto con conicidad;
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La Figura 4 es una representación esquemática en corte transversal de la primera realización del presente invento representado en la Figura 2, en uso en combinación con un sistema de recipiente de gas licuado;
La Figura 5a es una representación en corte transversal de una unidad depuradora de gas conocida en la técnica in situ con un conjunto de válvula montado en un recipiente de gas licuado;
La Figura 5b es una representación en corte transversal de una unidad depuradora de gas de acuerdo con el presente invento in situ con un conjunto de válvula montado en un recipiente de gas licuado; y
La Figura 6 es un gráfico que representa el cambio en la concentración de humedad (en ppm) en vapor de HCl, en función de la fracción de vapor del recipiente, para un recipiente sin la unidad depuradora de gas, y para un recipiente con la unidad depuradora de gas.
Con referencia a la Figura 2, la unidad depuradora de gas 202 comprende un cuerpo tubular 204 que tiene un primer extremo 206 y un segundo extremo 208. El primer extremo 206 tiene una salida de gas 210 que está adaptada para conexión a una válvula. La unidad 202 tiene también una entrada de gas. La depuración del gas se efectúa mediante una capa 214 de cloruro de magnesio sobre un soporte de carbón amorfo. Esta capa 214 está retenida entre dos tapones 216, 218 de lana de vidrio. La salida de gas 210 está provista de un filtro de acero inoxidable 220. La unidad tiene una lumbrera de llenado 222 que está tapada con una tapa 224 de Swagelok^{TM}.
La boca 212 de la entrada de gas está dispuesta en el primer extremo 206 del cuerpo 204. La entrada de gas se extiende por tanto a través de los medios de conducto 226 hasta el segundo extremo 208 del cuerpo 204, donde termina dentro del tapón 216 de lana de vidrio.
En uso, el gas entra en la unidad 202 por la boca 212 de la entrada de gas en el primer extremo 206 del cuerpo, y es dirigido a través de los medios de conducto 228 al segundo extremo 208 del cuerpo. El gas fluye después a través de la capa 214 de material depurador de gas (MgCl_{2} sobre carbón amorfo) y sale de la unidad por el filtro de acero inoxidable 220 situado en la salida 210. En la Figura 4 se ha representado el flujo de gas.
La unidad 302 representada en la Figura 3 solamente difiere de la unidad 202 representada en la Figura 2 en que la lumbrera para el llenado con material está en el extremo abierto del cuerpo 304 y la tapa 224 de Swagelok ha sido sustituida por un acoplamiento de impacto con conicidad 306 soldado en posición 308.
La unidad depuradora de gas 402 representada en la Figura 4 es idéntica a la representada en la Figura 2, representando las flechas el flujo de gas a través de la unidad. La unidad está situada dentro de un recipiente 404 de gas licuado. La salida de gas 410 de la unidad 402 está conectada a un conjunto de válvula 408 que a su vez está en comunicación de flujo de gas con un sistema 414 de distribución de gas. Esta Figura muestra claramente cómo la boca de la entrada de gas 412 está por encima del nivel de la fase líquida 406 del gas, incluso cuando la parte inferior de la unidad esté sumergida por debajo de la interfaz entre la fase gaseosa 416 y la fase líquida 406. En este ejemplo, el gas licuado es HCl.
Con referencia a la Figura 5b, una unidad depuradora de gas 502b de acuerdo con el presente invento está situada in situ a un conjunto de válvula 506b montado en un recipiente 504b de gas licuado. El conjunto de válvula 506b incluye regulación de la presión interna. La boca 512b de la entrada está situada en el extremo superior de la unidad 502b y, por consiguiente, el cuerpo de la unidad 502b puede estar sumergido en el gas licuado hasta cualquier nivel por debajo de la boca 512b de la entrada, sin que sea aspirado a la unidad gas licuado. El nivel máximo práctico de llenado del recipiente 504b es, por lo tanto, mayor que para el recipiente 504a representado en la Figura 5a.
El gráfico de la Figura 6 muestra que la concentración de humedad en vapor de HCl puede ser mantenida en el bajo nivel de aproximadamente 0,1 ppm, usando una unidad depuradora de gas (designada en la Figura como LBIP) de acuerdo con el presente invento, incluso cuando se dispense la parte de restos del gas. En contraposición, la concentración de humedad en la parte de restos de HCl llega a ser de aproximadamente 2,0 ppm, si se dispensa el gas sin usar una unidad depuradora de gas.
Una ventaja adicional del presente invento es la de que puede ser activado antes de su uso, empleando un dispositivo de activación normal, siendo necesarias únicamente ligeras modificaciones en el dispositivo con objeto de proporcionar conducción por tubería para una entrada alternativa de un gas de purga. El recipiente de gas licuado sería preparado y llenado de la misma forma que un recipiente estándar, y el sistema operaría del mismo modo en el Punto de Uso.
La unidad del presente invento garantiza que se cumple la especificación en cuanto a impurezas para todos los contenidos del recipiente. También garantiza que la calidad del gas es consistente de un recipiente a otro.
Se apreciará que el invento no queda limitado a los detalles que se han descrito en lo que antecede con referencia a las realizaciones preferidas, sino que pueden efectuarse numerosas modificaciones y variaciones sin rebasar el alcance del invento, tal como éste queda definido en las reivindicaciones que siguen.

Claims (15)

1. Una unidad depuradora de gas (202, 302, 402, 502b) adecuada para depurar un gas antes de que dicho gas sea dispensado desde un recipiente de gas licuado que tiene un conjunto de válvula para descargar gas desde el recipiente, comprendiendo dicha unidad (202, 302, 402, 502b):
un cuerpo hueco (204, 304) que tiene un primer extremo (206) y un segundo extremo (208) y que está lleno, al menos parcialmente, entre dichos extremos de material depurador de gas (214);
una salida de gas (210, 410) dispuesta en el primer extremo (206) del cuerpo y adaptada para conexión a dicho conjunto de válvula de modo que el cuerpo se extiende dentro del recipiente; y
medios de entrada de gas que permiten flujo de gas desde el recipiente al segundo extremo (208) del cuerpo,
caracterizada porque el segundo extremo (208) del cuerpo está cerrado, y los medios de entrada de gas comprenden medios de conducto (226) que tienen una boca (212, 412, 512b) en o cerca del primer extremo (206) del cuerpo, extendiéndose dichos medios de conducto (226) hasta el segundo extremo (208) del cuerpo.
2. Una unidad (202, 302, 402, 502b) según la reivindicación 1, en la que dichos medios de conducto (226) están dentro del cuerpo (204, 304) de la unidad.
3. Una unidad (202, 302, 402, 502b) según la reivindicación 1 ó la reivindicación 2, en la que dichos medios de conducto (226) están desprovistos de material depurador de gas (214).
4. Una unidad (202, 302, 402, 502b) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, que comprende además una lumbrera (222) para llenado con material, que puede cerrarse, por medio de la cual se llena el cuerpo (204, 304) de material depurador de gas (214).
5. Una unidad (202, 302) según la reivindicación 4, en la que la lumbrera de llenado (222) se cierra para sellar el segundo extremo (208) del cuerpo (204, 304) una vez lleno el cuerpo de material depurador de gas (214).
6. Una unidad (202) según la reivindicación 4 ó la reivindicación 5, en la que la lumbrera 222 para llenado de material está cerrada con una tapa (224) de Swagelok^{TM}.
7. Una unidad (302) según la reivindicación 4 ó la reivindicación 5, en la que la lumbrera para llenado de material se cierra con un acoplamiento de impacto con conicidad (306).
8. Una unidad (202, 302, 402, 502b) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, en la que la unidad (202, 302, 402, 502b) es capaz de depurar gas hasta conseguir un alto grado de pureza.
9. Una unidad (202, 302, 402, 502b) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, en la que el material depurador (214) elimina el agua del gas.
10. Una unidad (202, 302, 402, 502b) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, en la que el material depurador (214) es cloruro de magnesio sobre un soporte de carbón amorfo.
11. Una unidad (202, 302, 402, 502b) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10, en la que el gas a ser depurado es corrosivo.
12. Una unidad (202, 302, 402, 502b) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, en la que el gas a ser depurado es cloruro de hidrógeno.
13. Una unidad (202, 302, 402, 502b) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12, que comprende además al menos un filtro (216, 218, 220) para material en partículas.
14. Un conjunto de válvula (408, 506b) para la salida de un recipiente de gas licuado (404, 504b), comprendiendo dicho conjunto de válvula (408, 506b) un alojamiento de válvula para montar dicho conjunto (408, 506b) en la salida del recipiente, al menos un camino para el flujo de gas a través del alojamiento, una válvula que controla el flujo de gas a lo largo de dicho camino, y una unidad depuradora de gas (202, 302, 402, 502b) aguas arriba de dicho camino para el flujo de gas, para depurar el gas admitido en dicho camino procedente del recipiente (404, 504b), siendo dicha unidad (202, 302, 402, 502b) como se ha definido en la reivindicación 1.
15. Un sistema de recipiente de gas licuado que comprende un recipiente de gas licuado (404, 504b) que tiene una salida y un conjunto de válvula (408, 506b) montado en la salida del recipiente (404, 504b) para controlar la descarga de gas a su través, siendo dicho conjunto de válvula (408, 506b) como se ha definido en la reivindicación 14.
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