ES2273963T3 - Procedimiento para la produccion de gas hci sustancialmente libre de hbr y solucion de hci acuosa sustancialmente libre de hbr. - Google Patents
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Abstract
Procedimiento para la producción de gas HCl o de solución de HCl acuosa, encontrándose el contenido en HBr en el gas HCl o en la solución de HCl acuosa por debajo de 10 ppm y presentando el procedimiento las siguientes etapas: a) preparar el gas HCl que contiene HBr; b) conducir el gas HCl que contiene HBr a través de una solución de HCl acuosa saturada con HCl; c) separar la solución de HCl acuosa saturada con HCl que contiene HBr; d) dado el caso conducir el gas HCl sustancialmente libre de HBr, obtenido en la etapa b), en agua para la obtención de la solución de HCl acuosa sustancialmente libre de HBr; dado el caso llevando la solución de HCl acuosa sustancialmente libre de HBr generada en la etapa d) a la etapa b) del procedimiento.
Description
Procedimiento para la producción de gas HCl
sustancialmente libre de HBr y solución de HCl acuosa
sustancialmente libre de HBr.
La invención se refiere a un procedimiento para
la producción de gas HCl sustancialmente libre de HBr y de solución
de HCl acuosa sustancialmente libre de HBr, encontrándose el
contenido en HBr en el gas HCl o en la solución acuosa por debajo de
10 ppm.
La solución de HCl acuosa (ácido clorhídrico
acuoso), que debe utilizarse en la industria de semiconductores,
solamente permite un contenido en HBr extremadamente reducido así
como en otras impurezas tales como por ejemplo cloro y cloruros
metálicos. En el caso de la producción de piezas electrónicas, a
saber la incorporación de átomos ajenos no deseados en las piezas
tiene un efecto especialmente perturbador.
En el procedimiento del documento WO 01/25144 se
consigue esta finalidad porque se expulsa el gas HCl de un ácido
clorhídrico acuoso con un contenido en HCl superior al 21% en peso
mediante calentamiento, se conduce el gas HCl así obtenido por una
columna de retención y un separador de aerosol, que se componen de
poliolefinas fluoradas o perfluoradas, y posteriormente este gas
HCl se disuelve en agua muy pura en una columna de absorción. El
ácido clorhídrico así obtenido tiene una proporción de HBr < 1
ppm. Sin embargo este procedimiento es energéticamente muy costoso
por la etapa de destilación. Además se produce ácido clorhídrico
diluido en grandes
cantidades.
cantidades.
El documento US 5.846.387 describe un
procedimiento también energéticamente costoso, en el que se separa
gas HCl de un deposito de almacenamiento con gas HCl libre de agua
o se expulsa del ácido clorhídrico acuoso y en una columna de
empaquetamiento circula en contracorriente agua con un valor de pH
bajo, preferiblemente ácido clorhídrico acuoso. Mediante este
lavado de gas pueden separarse las impurezas tales como óxidos,
carbonatos, hidruros, haluros metálicos de metales de transición y
metales del primer, segundo y tercer grupo principal, así como
hidruros y haluros de fósforo/de arsénico/de antimonio.
Posteriormente se conduce parcialmente el gas HCl así purificado en
agua pura, preferiblemente desionizada, para obtener ácido
clorhídrico adecuado para la aplicación en la industria de
semiconductores. Entre estas etapas individuales pueden acoplarse
las etapas de destilación. No se menciona la separación de HBr.
Es ahora objetivo de la presente invención, un
procedimiento económico y fácil para la producción de gas HCl
sustancialmente libre de HBr así como preparar la solución de HCl
acuosa sustancialmente libre de HBr, mediante la que se evitan las
desventajas del estado de la técnica.
El objetivo se soluciona según la invención
mediante un procedimiento para la producción de gas HCl
sustancialmente libre de HBr o de solución de HCl acuosa
sustancialmente libre de HBr, encontrándose el contenido en HBr en
el gas HCl o en la solución acuosa por debajo de 10 ppm y
presentando el procedimiento las siguientes etapas:
a) preparar el gas HCl que contiene HBr;
b) conducir el gas HCl que contiene HBr a través
de una solución de HCl acuosa saturada con HCl;
c) separar la solución de HCl acuosa saturada
con HCl que contiene HBr;
d) dado el caso conducir el gas HCl
sustancialmente libre de HBr, obtenido en la etapa b), en agua para
la obtención de la solución de HCl acuosa sustancialmente libre de
HBr;
dado el caso llevando la solución de HCl acuosa
sustancialmente libre de HBr generada en la etapa d) a la etapa b)
del procedimiento.
Mediante el procedimiento según la invención es
posible producir la solución de HCl acuosa, que satisface los
requisitos de pureza elevados en el caso del uso en la industria de
semiconductores. El contenido en HBr del gas HCl o de la solución
de HCl acuosa obtenidos mediante el procedimiento según la invención
se encuentra por lo general por debajo de 10 ppm, preferiblemente
por debajo de 2 ppm, especialmente preferible por debajo de 1 ppm.
Mediante la etapa b) de purificación también se separan cationes y
cloro, de modo que el contenido en cationes en la solución de HCl
sustancialmente libre de HBr obtenida según la invención se
encuentra por debajo de 10 ppm, preferiblemente por debajo de 1
ppm, y el contenido en Cl_{2} de la solución de HCl
sustancialmente libre de HBr obtenida según la invención se
encuentra por debajo de 5 ppm, preferiblemente por debajo de 0,5
ppm. Las etapas individuales del procedimiento según la invención se
aclaran ahora individualmente con más detalle.
Etapa
a)
El gas HCl que contiene HBr puede producirse
según cualquier procedimiento conocido a partir del estado de la
técnica. Es posible así obtener gas HCl mediante la síntesis de los
elementos hidrógeno y cloro, mediante la reacción de cloruros
metálicos (especialmente cloruro de sodio) con ácido sulfúrico o
hidrogenosulfato, como subproducto en la cloración de
hidrocarburos, mediante la descomposición térmica de cloruros de
metales pesados hidrogenados o mediante la combustión de residuo
orgánico que contiene Cl_{2}, siempre que existan trazas de bromo
en los materiales de partida.
Preferiblemente se usa el gas HCl, que se
produjo a partir de los elementos hidrógeno y cloro, procediendo el
cloro especialmente de la electrolisis cloroalcalina según el
procedimiento de membrana, de diafragma o de amalgama. De manera
especialmente preferible se usa el gas HCl, que se produjo mediante
la reacción de cloro con un exceso de hidrógeno al 20% en moles.
Según cada material de partida el contenido en
HBr del gas HCl puede alcanzar de 30 a 2000 ppm.
Etapa
b)
La saturación de una solución acuosa con HCl es
dependiente de la temperatura. Por ejemplo puede conseguirse a
temperatura ambiente un grado de saturación del 40%, es decir, que
la solución acuosa tiene un contenido en HCl del 40% en peso. Por
una solución de HCl acuosa saturada con HCl (ácido clorhídrico
acuoso saturado) se entiende en el contexto de la invención una
solución acuosa que contiene de desde el 35 hasta el 40% en peso de
HCl a temperaturas de desde 20 hasta 30ºC.
La solución de HCl acuosa saturada con HCl
utilizada en la etapa b) puede contener principalmente ya una cierta
porción de HBr, sin embargo no puede conseguirse todavía el limite
de saturación de HBr. Preferiblemente, se utiliza una solución de
HCl acuosa saturada con HCl, cuyo contenido en HBr se encuentra por
debajo de 10 ppm. De manera especialmente preferible, se utiliza
una solución de HCl acuosa saturada con HCl que se obtiene en la
etapa d) del procedimiento.
Mientras que por lo general el gas HCl que
contiene HBr presenta una temperatura ambiental, es decir una
temperatura de desde 10 hasta 30ºC, la solución de HCl acuosa
saturada con HCl que se alimenta tiene por lo general una
temperatura de desde 30 hasta 35ºC. Es decir, la purificación se
realiza por lo general a temperaturas de desde 30 hasta 40ºC.
El gas HCl que contiene HBr se conduce por lo
general con un ligero exceso de presión de desde 80 hasta 100 mbar
al recipiente de reacción utilizado en la etapa b).
El gas HCl que contiene HBr puede conducirse
tanto en equicorriente como en contracorriente a través de la
solución de HCl acuosa saturada con HCl. Sin embargo preferiblemente
se conduce el gas HCl que contiene HBr en contracorriente a través
de la solución de HCl acuosa saturada con HCl.
La etapa b) del procedimiento puede realizarse
especialmente en cualquiera de cada una de las columnas de plato.
De manera especialmente preferible se utilizan columnas de fondo
perforado, muy especialmente preferible aquéllas cuyos fondos
perforados están compuestos fundamentalmente de polímeros tales como
poli(fluoruro de vinilideno), poli(cloruro de
vinilo), poli(acetato de vinilo) politetrafluoroetileno,
polímeros de perfluoroalcoxilo, sus copolímeros y sus mezclas. De
los polímeros mencionados se prefieren poli(fluoruro de
vinilideno) y polímeros de perfluoroalcoxilo.
Si se utilizan columnas de empaquetamiento o
columnas de cuerpos llenadores, cuyos empaquetamientos o cuerpos
llenadores de poca pérdida de presión (anillos Raschig, anillos de
Pall, Melapak® de la empresa Sulzer en Winterthur/
Suiza) fundamentalmente están compuestos de los polímeros mencionados anteriormente, entonces no se garantiza que se mojen completamente las superficies de estos empaquetamientos o cuerpos llenadores. Sin embargo, debido a que el grado de acción empeoraría claramente por esto y como compensación debería aumentarse la cantidad de la solución de HCl acuosa saturada con HCl que se alimenta.
Suiza) fundamentalmente están compuestos de los polímeros mencionados anteriormente, entonces no se garantiza que se mojen completamente las superficies de estos empaquetamientos o cuerpos llenadores. Sin embargo, debido a que el grado de acción empeoraría claramente por esto y como compensación debería aumentarse la cantidad de la solución de HCl acuosa saturada con HCl que se alimenta.
Frente a esto se garantiza en el caso de las
columnas de fondo perforado con fondos basados en polímeros, que
tenga lugar un lavado eficaz también con cargas de líquidos
reducidas. Por esta razón las columnas de fondo perforado en
comparación con las columnas de cuerpos llenadores o de
empaquetamiento no deben construirse tan altas como las columnas de
cuerpos llenadores o de empaquetamiento correspondientes, para
obtener el mismo efecto. Por tanto las columnas de fondo perforado
son también favorables por los costes de inversión.
Para minimizar el consumo de la solución de HCl
acuosa saturada con HCl se hace funcionar la columna por lo general
con una carga de líquido inferior a 2 m^{3} de solución de HCl
acuosa saturada con HCl por m^{2} de superficie de contacto y por
hora, preferiblemente con una carga de líquido inferior a 1,5
m^{3}/m^{2}\cdoth, especialmente preferible con una carga de
líquido \leq 1 m^{3}/m^{2}\cdoth.
En el caso de la utilización de columnas de
fondo perforado, se introduce por lo general el gas HCl que contiene
HBr en el tercio inferior de la columna, mientras que se alimenta la
solución de HCl acuosa saturada con HCl en el tercio superior de la
columna. Preferiblemente, se alimenta el gas HCl que contiene HBr
por debajo del fondo perforado inferior y por encima del flujo de
salida del resto líquido y/o la solución de HCl acuosa saturada con
HCl se introduce por encima del fondo perforado superior.
En una variante de realización muy especialmente
preferida se utilizan columnas de fondo perforado con al menos 8
platos.
Si se pone en marcha una columna de este tipo
para la realización de la etapa b) por primera vez, entonces se
genera en primer lugar in situ la solución de HCl acuosa
saturada con HCL, añadiendo a la columna agua en vez de la solución
de HCl acuosa saturada con HCl. Entonces, el gas HCl se disuelve en
el agua, hasta que se obtiene una solución de HCl acuosa saturada
con HCl. A partir de este momento, a partir del que se encuentra una
solución de HCl acuosa saturada con HCl, el gas HCl circulará
fundamentalmente sin absorción a través de la solución. En el caso
de la utilización de agua en vez de la solución de HCl acuosa
saturada con HCl, se utilizan elementos de refrigeración adicionales
en la columna.
Al recipiente de reacción que se utiliza en la
etapa b), especialmente una columna de fondo perforado, se le
conecta a continuación un separador de gotitas. Éste puede tanto
configurarse como pieza separada como integrarse en la cabeza de
las columnas de fondo perforado. En una variante de realización
preferida se integra en la cabeza de las columnas de fondo
perforado. Habitualmente se utilizan para el separador de gotitas
los mismos materiales que para los fondos perforados, es decir
fundamentalmente polímeros tales como poli(fluoruro de
vinilideno), poli(cloruro de vinilo), poli(acetato de
vinilo), politetrafluoroetileno, polímeros de perfluoroalcoxilo, sus
copolímeros y sus mezclas.
Etapa
c)
El HBr se disuelve muy bien en la solución de
HCl acuosa saturada con HCl, mientras que el gas HCl circula a
través de la solución de HCl acuosa saturada con HCl
(fundamentalmente sin absorción adicional). La solución de HCl
acuosa saturada con HCl que contiene HBr se acumular en el resto
líquido de las columnas, y se separa allí de manera continua o de
vez en cuando. Se prefiere la separación de manera continua. Si se
separa la solución de HCl acuosa saturada con HCl que contiene HBr
de manera discontinua, entonces esto debe tener lugar como muy
tarde cuando se satura con HBr la solución de HCl acuosa saturada
con HCl. La solución de HCl acuosa saturada con HCl que contiene
HBr puede todavía utilizarse para aplicaciones en las que sólo es
necesario un grado técnico de la
solución.
solución.
Mediante las etapas b) y c) puede obtenerse el
gas HCl cuyo contenido en HBr se encuentra por debajo de 10 ppm (mg
de HBr por kg de solución de HCl acuosa), preferiblemente por debajo
de 2 ppm, especialmente preferible por debajo de 1 ppm. Con el
procedimiento según la invención también es posible separar el HBr
del gas HCl tanto que el contenido en HBr se encuentre por debajo
del límite de identificación analítica de 0,2 ppm (cromatografía de
iones). Este gas HCl o esta solución de HCl acuosa puede utilizarse
para cualquier aplicación, que requiera una pureza tal,
especialmente para aquellas aplicaciones en la industria de
semiconductores.
Etapa
d)
El gas HCl sustancialmente libre de HBr se
desprende en la cabeza de la columna utilizada en la etapa b) y c) y
entonces se conduce a un recipiente de reacción en agua, para
obtener la solución de HCl acuosa sustancialmente libre de HBr. A
este respecto, el gas HCl que contiene HBr tiene por lo general un
ligero exceso de presión de desde 30 hasta 70 mbar.
Preferiblemente se utiliza en la etapa d) una
columna de absorción, especialmente una columna de cuerpos
llenadores o de empaquetamiento, cuya estructura interna
espacialmente está compuesta fundamentalmente de polímeros tales
como poli(fluoruro de vinilideno), poli(cloruro de
vinilo), poli(acetato de vinilo), politetrafluoroetileno,
polímeros de perfluoroalcoxilo, sus copolímeros y sus mezclas. En
una variante de realización muy especialmente preferida se utiliza
una columna de cuerpos llenadores rellena de anillos de Pall de
poli(fluoruro de vinilideno). Sin embargo como relleno
también son adecuadas otras estructuras de poca pérdida de presión
conocidas por el experto. Debido a esto puede garantizarse una
superficie lo más grande posible para la buena distribución del
líquido simultáneamente con una pérdida de presión reducida.
También en la etapa d) se alimenta el gas HCl
preferiblemente en contracorriente al agua. De manera especialmente
preferible se introduce el gas HCl en el tercio inferior de la
columna de absorción, mientras que el agua se conduce en el tercio
superior de la columna de absorción.
Si se produce la solución de HCl acuosa con el
procedimiento según la invención para la utilización en la industria
de semiconductores, entonces se conduce el gas HCl sustancialmente
libre de HBr en la etapa d) en agua muy pura. Por agua muy pura se
entiende el agua que se purifica especialmente en un equipo de
intercambio iónico, especialmente desionizada sustancialmente.
Mediante el procedimiento según la invención
puede producirse la solución de HCl acuosa sustancialmente libre de
HBr de cualquier concentración.
El punto de ebullición de la solución de HCl
acuosa depende del contenido en HCl; con un contenido en HCl
creciente, disminuye el punto de ebullición. Si debe producirse la
solución de HCl acuosa sustancialmente libre de HBr con una
concentración \geq 30% en peso, entonces se ha demostrado por
tanto como ventajoso, debido al tono térmico exotérmico en la zona
media o de la mitad inferior de la columna de absorción extraer
líquido, refrigerar el líquido extraído y alimentar de nuevo más
abajo el líquido refrigerado a la columna de absorción. En el caso
de los materiales poliméricos que se usan para la producción de las
columnas de absorción no es posible la construcción integrada de un
refrigerador en la columna de absorción. La refrigeración se realiza
mediante un refrigerador externo económico. Para la extracción del
líquido de la columna de absorción se construyen dos platos
distribuidores especialmente en la zona media o la mitad inferior de
la columna de absorción. El líquido caliente se extrae entonces por
encima del superior de los dos platos distribuidores, mientras que
el líquido refrigerado se alimenta de nuevo a la parte inferior de
los dos platos distribuidores de la columna de absorción. Mediante
este modo de procedimiento pueden ahorrarse elementos de
refrigeración costosos en la zona superior de la columna de
absorción, por lo que disminuyen los costes de inversión de un
equipo para la realización del procedimiento según la
invención.
invención.
El producto de valor deseado, la solución de HCl
acuosa sustancialmente libre de HBr, se extrae del resto líquido de
la columna de absorción tras conseguir la concentración deseada. Los
gases de escape se extraen de la cabeza de la columna de absorción
y de manera ventajosa se evacúan tras su refrigeración y conducción
a través de una segunda columna de absorción conectada a
continuación.
Si se produce la solución de HCl acuosa saturada
con HCl en la etapa d) del procedimiento, entonces una parte de
esta solución puede usarse de manera ventajosa en la etapa b) del
procedimiento. A este respecto la solución de HCl acuosa saturada
con HCl se refrigera preferiblemente hasta temperaturas inferiores a
30ºC.
Las temperaturas en la columna de absorción se
encuentran habitualmente entre 30 y 110ºC, preferiblemente entre 60
y 108ºC.
Un dispositivo para la realización del
procedimiento según la invención presenta las siguientes
unidades:
- i)
- una columna de platos para el lavado del gas HCl que contiene HBr con una solución de HCl acuosa saturada con HCl;
- ii)
- un separador de gotitas;
- iii)
- una unidad de purificación para la producción de agua muy pura;
- iv)
- una columna de absorción para la reacción del gas HCl sustancialmente libre de HBr que se purifica en la columna de plato i) con el agua pura obtenida en la unidad de purificación iii) para dar la solución de HCl acuosa sustancialmente libre de HBr,
así como conducciones entre las
unidades
individuales.
Los dispositivos i), ii) y iv) ya se
describieron anteriormente, la columna de plato y el separador de
gotitas en la etapa b), la columna de absorción en la etapa d).
En el caso de la unidad de purificación para la
obtención del agua muy pura se trata de un equipo de intercambio
iónico.
Las conducciones entre las unidades individuales
están compuestas generalmente de los mismos materiales que la
columna de fondo perforado y la de absorción, o sea de polímeros
resistentes a la acidez tales como poli(fluoruro de
vinilideno), poli(cloruro de vinilo), poli(acetato de
vinilo), politetrafluoroetileno, polímeros de perfluoroalcoxilo, sus
copolímeros o sus mezclas.
El dibujo adjunto muestra en la
Figura 1 esquemáticamente un equipo, en el que
se realiza preferiblemente el procedimiento según la invención para
la producción de una solución de HCl acuosa sustancialmente libre de
HBr.
En una primera columna 6 (columna de fondo
perforado con 8 platos) se introduce a través de la conducción 1
desde abajo gas HCl que contiene HBr con una temperatura de desde 10
hasta 30ºC (temperatura ambiente) y un ligero exceso de presión de
desde 50 hasta 100 mbar, y se rocía con una solución de HCl acuosa
(conducida a la columna desde arriba a través de una conducción 4)
con una temperatura de desde 30 hasta 35ºC.
Dado que el HBr se disuelve especialmente bien
en una solución de HCl acuosa saturada en HCl, éste se acumula
mediante la solución de HCl acuosa saturada en HCl contaminada con
HBr en el resto líquido de la columna, en el que puede evacuarse a
través de una conducción 2 de manera continua. La solución de HCl
acuosa saturada con HCl contaminada de esta manera con HBr es
adecuada todavía para aplicaciones, en las que puede utilizarse
ácido clorhídrico industrial.
El gas HCl sustancialmente libre de HBr mediante
el lavado con solución de HCl acuosa saturada con HCl, con una
temperatura que es normalmente 5ºC superior a la temperatura
ambiente, y un exceso de presión de desde 30 hasta 70 mbar, se
extrae a través de una conducción 3 de la cabeza de la columna 6 y
se introduce desde abajo a una segunda columna 7 (columna de
absorción).
Se añade agua muy pura con una temperatura de
desde 20 hasta 30ºC a través de una conducción 12 desde arriba a la
columna y se circula en contracorriente el gas HCl. La temperatura
en la columna 7 se encuentra en general entre 30 y 110ºC.
Si se pretende producir una solución de HCl con
un contenido en HCl > 30% en peso, entonces se extrae de la
columna 7 de manera continua líquido a través de una evacuación 9
lateral, se refrigera a través de un intercambiador 8 de calor, y se
alimenta a través de una alimentación lateral, que se encuentra
preferiblemente algo por debajo del punto de extracción, de nuevo a
la columna 7.
El producto de valor deseado, la solución de HCl
sustancialmente libre de HBr se extrae a través de una conducción
11 del resto líquido de la columna 7 y dado el caso se refrigera,
evacuándose una parte de la solución de HCl acuosa extraída y dado
el caso refrigerada (siempre que esté saturada en HCl) a la
conducción 4 para el lavado del gas HCl que contiene HBr.
Los gases de escape se extraen de la cabeza de
la columna, se condensan mediante un intercambiador 8 de calor, se
recirculan parcialmente a la columna de absorción, pero se alimentan
parcialmente a través de una conducción 5 a una columna de absorción
adicional, y tras un nuevo lavado con agua se liberan al medio
ambiente.
El siguiente ejemplo de realización explica
adicionalmente la invención.
Ejemplo de
realización
En una columna de fondo perforado con un
diámetro de 400 mm, una altura de 6000 mm y con 8 platos de
poli(fluoruro de vinilideno) se introducen por debajo del
primer plato por hora 350 kg de gas HCl que contiene HBr, que se
obtuvo mediante la reacción de hidrógeno y cloro con exceso de
H_{2} al 20% en moles. El contenido en HBr de este gas HCl se
encuentra en aproximadamente 215 mg de bromo como HBr por kg de gas
HCl (215 ppm). Por encima del quinto plato se introducen por hora
141 kg de solución de HCl acuosa al 36% en peso con un contenido en
HBr inferior a 1 ppm en la columna de fondo perforado. La solución
de HCl acuosa contaminada extraída en el resto líquido de la
columna de fondo perforado presenta un contenido del 40,6% en peso
en HCl, así como un contenido en bromo (HBr) de 473 ppm. El gas HCl
evacuado en la cabeza de la columna presenta un contenido en HBr
inferior a 1 ppm y se conduce desde abajo a una columna de absorción
con un diámetro de 400 mm y una altura de 8000 mm. Se añade agua muy
pura en una cantidad de 6001 por hora desde arriba a la columna de
absorción. En el tercio inferior de la columna de absorción se
extrae de manera continua líquido con una temperatura de desde 74
hasta 78ºC de la columna de absorción. Tras la refrigeración del
líquido hasta de 5 a 6ºC se alimenta de nuevo a la columna de
absorción en un punto, que se encuentra un poco más abajo que el
punto de extracción, de la columna de absorción. En el resto líquido
de la columna de absorción se extrae el producto de valor deseado,
la solución de HCl acuosa con un contenido en HCl del 36% en peso y
un contenido en HBr inferior a 1 ppm.
- 1
- gas HCl que contiene HBr
- 2
- solución de HCl acuosa saturada con HCl, enriquecida con HBr
- 3
- gas HCl sustancialmente libre de HBr
- 4
- recirculación de la solución de HCl acuosa saturada con HCl
- 5
- gas de escape
- 6
- columna 1 (columna de plato)
- 7
- columna 2 (columna de absorción)
- 8
- intercambiador de calor/dispositivo de refrigeración
- 9
- separación de la solución de HCl acuosa caliente
- 10
- alimentación de la solución de HCl acuosa refrigerada
- 11
- flujo de salida de la solución de HCl acuosa sustancialmente libre de HBr
- 12
- alimentación de agua muy pura.
Claims (7)
1. Procedimiento para la producción de gas HCl o
de solución de HCl acuosa, encontrándose el contenido en HBr en el
gas HCl o en la solución de HCl acuosa por debajo de 10 ppm y
presentando el procedimiento las siguientes etapas:
a) preparar el gas HCl que contiene HBr;
b) conducir el gas HCl que contiene HBr a través
de una solución de HCl acuosa saturada con HCl;
c) separar la solución de HCl acuosa saturada
con HCl que contiene HBr;
d) dado el caso conducir el gas HCl
sustancialmente libre de HBr, obtenido en la etapa b), en agua para
la obtención de la solución de HCl acuosa sustancialmente libre de
HBr;
dado el caso llevando la solución de HCl acuosa
sustancialmente libre de HBr generada en la etapa d) a la etapa b)
del procedimiento.
2. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque se realiza la etapa b) del procedimiento
en una columna de plato y/o la etapa d) del procedimiento en una
columna de absorción.
3. Procedimiento según la reivindicación 2,
caracterizado porque se hace funcionar la columna de plato
utilizada en la etapa b) del procedimiento con una carga de líquido
inferior a 2 m^{3}/m^{2}\cdoth.
4. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque se realiza la
etapa b) del procedimiento en una columna de fondo perforado,
estando compuestos preferiblemente los fondos perforados
fundamentalmente de un material seleccionado del grupo de
poli(fluoruro de vinilideno), poli(cloruro de vinilo),
poli(acetato de vinilo) politetrafluoroetileno, polímeros de
perfluoroalcoxilo, sus copolímeros y sus mezclas.
5. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque una parte de la
solución de HCl acuosa que se obtiene mediante la etapa d) se separa
de una columna de absorción utilizada en la etapa d), se enfría y se
alimenta de nuevo a esta columna de absorción.
6. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 5, caracterizado porque se produce la
solución de HCl acuosa sustancialmente libre de HBr con una
concentración \geq 30% en peso de HCl.
7. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque se conduce en la
etapa b) del procedimiento, el gas HCl que contiene HBr en
contracorriente a través de la solución de HCl acuosa que saturada
con HCl.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10160598 | 2001-12-10 | ||
| DE10160598A DE10160598A1 (de) | 2001-12-10 | 2001-12-10 | Verfahren zur Herstellung von weitgehend HBr-freiem HCI-Gas und weitgehend HBr-freier wäßriger HCI-Lösung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2273963T3 true ES2273963T3 (es) | 2007-05-16 |
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ID=7708664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES02027545T Expired - Lifetime ES2273963T3 (es) | 2001-12-10 | 2002-12-09 | Procedimiento para la produccion de gas hci sustancialmente libre de hbr y solucion de hci acuosa sustancialmente libre de hbr. |
Country Status (6)
| Country | Link |
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