ES2204100T3 - Gel de silice que incorpora motivos poliazacicloalcanicos. - Google Patents

Gel de silice que incorpora motivos poliazacicloalcanicos.

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ES2204100T3 ES99901626T ES99901626T ES2204100T3 ES 2204100 T3 ES2204100 T3 ES 2204100T3 ES 99901626 T ES99901626 T ES 99901626T ES 99901626 T ES99901626 T ES 99901626T ES 2204100 T3 ES2204100 T3 ES 2204100T3
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Gerard Dubois
Claude Chuit
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Gilles Lagrange
Stephane Brandes
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Abstract

Compuesto de **fórmula** en la cual: W1, W2 y W3, idénticos o diferentes, representan independientemente unos de otros, cada uno un radical divalente elegido entre los representados por la fórmula general (A): -[(CT1T2)n-[N(R4)]p-(CT3T4)m]l- (A) en la cual: p representa un número entero igual a 0 o a 1, l representa un número entero igual a 1 o a 2, n y m, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente uno de otro, un número entero menor o igual a 3 y mayor o igual a 1, T1, T2, T3 y T4, idénticos o diferentes, representan bien cada uno, independientemente unos de otros, un átomo de hidrógeno, un radical alquilo, lineal o ramificado, que tiene de 1 a 15 átomos de carbono, o un radical [(hetero)aril]alquilo que tiene de 7 a 12 átomos de carbono, o bien CT1T2 y/o CT3T4 representan un grupo divalente (C=O)-, R1, R2, R3 y R4 representan un radical representado por la fórmula general (B) R5-Si(X1)(X2)(X3) (B) en la cual: X1, X2 y X3, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente unos de otros, un átomo de hidrógeno, un átomo de halógeno o un radical OR6.

Description

Gel de sílice que incorpora motivos poliazacicloalcánicos.
La invención tiene por objeto un nuevo material, utilizable en el campo de la separación y de la purificación de gases. Las técnicas actuales de separación, como la destilación criogénica o la adsorción sobre zeolitas, y las técnicas de purificación por destilación criogénica o catalítica de los gases industriales, no están siempre optimizadas, ni en términos económicos ni en términos de pureza. Numerosos trabajos han mostrado por otra parte que gases tales como el oxígeno, el hidrógeno o el monóxido de carbono reaccionan selectiva y reversiblemente con complejos de metales de transición.
Así, los complejos de cobalto (II) del ciclam o del cicleno fijan fácilmente el oxígeno del aire (Machida R., Kimura E., Kodama M., Inorg. Chem. 1983, 22, 2055-2061.), y conducen a especies \mu-peroxídicas en medios acuosos. Sin embargo, la duración de vida de los complejos oxigenados en disolución está limitada porque estos últimos pueden sufrir reacciones de degradación irreversibles (Martell A. E., Basak A. K., Raleigh C. J., Pure Appl. Chem. 1988, 60, 1325-1329). Por otra parte, la desoxigenación de estas especies no puede realizarse por la simple disminución de la presión parcial de dioxígeno. Una mejora de la reversibilidad, necesaria en un procedimiento de separación, necesita una estabilización de la especie intermedia superoxídica. La inserción del ligando sobre una matriz sólida debe, a la vez, moderar la evolución de la especie superoxídica en especie \mu-peroxídica, limitar las reacciones de hidrólisis y facilitar la manipulación del complejo activo (Tsuchida E., Nishide, H. Top. Curr. Chem. 1986, 32, 63-99). La incorporación de complejos de cobalto con porfirinas, ftalocianinas, o ciclidenos, en polímeros orgánicos o inorgánicos, tales como los geles de sílice, y el estudio de la interacción de estos materiales con el oxígeno, ha sido ya el objeto de varios trabajos. De manera más frecuente, el complejo se sintetiza en una primera etapa, después se inmoviliza sobre el polímero por un enlace dativo entre un átomo de nitrógeno de un motivo de piridina o imidazol y el metal (Nishide H., Suzuki T., Kawakami H., Tsuchida E., J. Phys. Chem. 1994, 98, 5084-5088; Cameron J. H., Graham S., J. Chem. Soc. Dalton Trans. 1992, 385-391; Bowman R. G., Basolo F., Burwell Jr. R. L., J. Am. Chem. Soc. 1975, 97, 5125-5129). Otro enfoque consiste en fijar en un primer momento el ligando sobre el polímero por un enlace covalente, y metalar después (Wöhrle D., Gitzel J., Krawczyk G., Tsuchida E., Ohno H., Okura I., Nishisaka T., J. Macromol. Sci. Chem. 1988, A25, 1227-1254; Barnes M. J., Drago R. S., Balkus Jr. K. J., J. Am. Chem. Soc. 1988, 110, 6780- 6785). Así, se ha realizado la inserción sobre gel de sílice de ligandos tetraazamacrocíclicos y el estudio de la metalización de estos materiales (Gros C., Rabiet F., Denat F., Brandes S., Chollet H., Guilard R., J. Chem. Soc. Dalton Trans. 1996, 1209-1214). El proceso sol-gel ha sido estudiado detalladamente (Hench L. L., West J. K., Chem. Rev. 1990, 90, 33-72), y presenta una importancia mayor en la química de los materiales. Uno de los principales intereses de este procedimiento reside en una gran homogeneidad de los materiales obtenidos, confiriéndoles así propiedades específicas. Los precursores de tipo alcóxido están entre los más utilizados. Así, la hidrólisis del tetraetoxisilano en disolución en un disolvente orgánico, por ejemplo un alcohol, conduce a una dispersión coloidal de partículas procedentes de la polimerización del precursor llamado sol. Este sol evoluciona hacia la formación de un gel. El secado de este gel por evaporación conduce a un xerogel que puede él mismo ser transformado en cristal o cerámica. Más recientemente, esta técnica ha permitido la elaboración de nuevos materiales híbridos orgánicos-inorgánicos (Corriu R. J. P., Leclercq, D., Angew. Chem. Int. Ed. 1996, 35, 1420-1436; Schubert U., Hüsing N., Lorenz A., Chem. Mater. 1995, 7, 2010-2027). El precursor es entonces un compuesto orgánico portador de una o más terminaciones del tipo trialcoxisililo [Si(OR_{3})] o sililo [SiH_{3}]. Se han utilizado diversas especies orgánicas, tales como compuestos aromáticos, motivos acetilénicos o aminas lineales y cíclicas (Corriu R. J. P., Leclercq D., Angew. Chem. Int. Ed. 1996, 35, 1420-1436; Khatib I. S., Parish R. V., J. Organomet. Chem. 1989, 369, 9-16; Tsuda T., Fujiwara T., J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1992, 1659-1661). Battioni y col. han incorporado, por esta vía, porfirinas de manganeso y de hierro en un gel de sílice, y han probado las propiedades catalíticas de estos nuevos materiales (Battioni P., Cardin E., Louloudi M., Schöllhorn B., Spyroulias G. A., Mansuy D., Traylor T. G., Chem. Commun. 1996, 2037-2038).
El anclaje de un complejo en un polímero por un enlace dativo entre una base y el metal, presenta la ventaja de activar el complejo y de estabilizar la especie superoxídica por el impedimento de una de las caras del complejo. Sin embargo, el enlace así formado es débil. En cuanto a la inserción del ligando por un enlace covalente, conduce a un material más resistente. De manera general, los métodos de incorporación de los complejos de metales de transición en matrices orgánicas o inorgánicas no han podido hasta ahora conducir a materiales compatibles con las exigencias del genio de los procedimientos y por tanto utilizables en procedimientos industriales. En particular, las características de tal material se deben poder ajustar en términos de superficie específica, de porosidad, del radio, forma o distribución del tamaño de los poros, y de la granulometría. Se ha encontrado que el material objeto de la presente invención permite resolver los problemas expuestos aquí arriba. La invención tiene por objeto un compuesto de fórmula (I):
1
en la cual:
W_{1}, W_{2} y W_{3}, idénticos o diferentes, representan independientemente unos de otros, cada uno un radical divalente elegido entre los representados por la fórmula general (A):
(A)-[(CT_{1}T_{2})_{n}-[N(R_{4})]_{p}-(CT_{3}T_{4})_{m}]_{l}-
en la cual:
p representa un número entero igual a 0 o a 1,
l representa un número entero igual a 1 o a 2,
n y m, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente el uno del otro, un número entero menor o igual a 3 y mayor o igual a 1,
T_{1}, T_{2}, T_{3} y T_{4}, idénticos o diferentes, representan bien cada uno, independientemente unos de otros, un átomo de hidrógeno, un radical alquilo, lineal o ramificado, que tiene de 1 a 15 átomos de carbono, o un radical [(hetero)aril]alquilo que tiene de 7 a 12 átomos de carbono, o bien CT_{1}T_{2} y/o CT_{3}T_{4} representan un grupo divalente -(C=O)-,
R_{1}, R_{2}, R_{3} y R_{4} representan un radical representado por la fórmula general (B):
(B)R_{5}-Si(X_{1})(X_{2})(X_{3})
en la cual:
X_{1}, X_{2} y X_{3}, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente unos de otros, un átomo de hidrógeno, un átomo de halógeno o un radical OR_{6} en el cual
R_{6} representa un átomo de hidrógeno o un radical alquilo que tiene de 1 a 4 átomos de carbono,
R_{5} representa un radical divalente derivado de una cadena hidrocarbonada alifática saturada o insaturada que tiene de 1 a 10 átomos de carbono, en la cual están eventualmente intercalados, uno o más eslabones estructurales elegidos entre el grupo arileno, o los fragmentos -O-, -S-, -O-C(=O)-, -N(R_{7})-C(=O)-, o -N(R_{7})-, en los cuales R_{7} representa un átomo de hidrógeno, un radical hidrocarbonado alifático que tiene de 1 a 6 átomos de carbono, un radical bencilo o un radical fenetilo, estando dicha cadena no sustituida o sustituida con uno o más radicales elegidos entre los átomos de halógeno, el grupo hidroxi, los radicales alquilo que tienen de 1 a 4 átomos de carbono o los radicales bencilo o fenetilo;
entendiéndose que:
O bien W_{1}, W_{2} y W_{3}, idénticos o diferentes, representan un radical de fórmula (A_{1}) que corresponde a la fórmula (A), en la cual p es igual a 0, y la suma n + m es igual a 2 o a 3,
O bien W_{1} representa un radical divalente de fórmula (A_{2}), que corresponde a la fórmula (A) en la cual p es igual a 1, y la suma n + m es igual a 2 o a 3, y W_{2} y W_{3}, idénticos o diferentes, representan un radical de fórmula (A_{1}),
O bien W_{1} y W_{2}, idénticos o diferentes, representan un radical divalente de fórmula (A_{2}), que corresponde a la fórmula (A) en la cual p es igual a 1, y la suma n + m es igual a 2 o a 3, y W_{3} representa un radical de fórmula (A_{1}) que corresponde a la fórmula (A), en la cual p es igual a 0, y la suma n + m es igual a 2 o a 3.
Como compuestos de fórmula (I) que tienen tres átomos de nitrógeno cíclicos, se pueden citar, por ejemplo, los compuestos derivados del 1,4,7-triazaciclononano, del 1,4,7-triazaciclodecano o del 1,5,8-triazaciclododecano. Como compuesto de fórmula (I) que tienen cuatro átomos de nitrógeno cíclicos, se pueden citar, por ejemplo, los compuestos derivados del 1,4,7,10-tetraazaciclododecano (cicleno), del 1,4,7,10-tetraazaciclotridecano, del 1,4,7,10-tetraazaciclotetradecano, del 1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano (ciclam), del 1,4,8,12-tetraazaciclopentadecano, del 1,5,9,13-tetraazaciclohexadecano, o del 1,5,10,14-tetraazaciclooctadecano. Como compuestos de la fórmula (I) que tienen cinco átomos de nitrógeno cíclicos, se pueden citar, por ejemplo, los compuestos derivados del 1,4,7,10, 13-pentaazaciclopentadecano, del 1,4,7,11,15-pentaazaciclooctadecano, o del 1,5,9,13,17-pentaazaciclo-octadecano.
Como compuestos de fórmula (I) que tienen seis átomos de nitrógeno cíclicos, se pueden citar, por ejemplo, los compuestos derivados del 1,4,7,10,13, 16-hexaazaciclo-octadecano o del 1,5,9,13,17,20-hexaazaciclotetracosano.
La invención tiene más particularmente por objeto,
- bien el compuesto de fórmula (Ia_{1}), que corresponde a la fórmula (Ia) tal como se define anteriormente, en la cual 1 es igual a 1 y, o bien W_{1}, W_{2} y W_{3} representan cada uno el radical divalente -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-, o bien uno cualquiera de los tres grupos W_{1}, W_{2} o W_{3} representa el radical divalente -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-, y cada uno de los otros dos W_{2} y W_{3}, representa el radical divalente -CH_{2}-CH_{2}-;
- o bien el compuesto de fórmula (Ib_{1}), que corresponde a la fórmula (Ib) tal como se define anteriormente, en la cual 1 es igual a 1 y, o bien uno cualquiera de los tres grupos W_{1}, W_{2} o W_{3} representa el radical -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2} -N(R_{4})-CH_{2}-CH_{2}-, uno cualquiera de los dos grupos restantes representa el radical -CH_{2}-CH_{2}-, y el último grupo representa el radical -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-, o bien uno cualquiera de los tres grupos W_{1}, W_{2} o W_{3} representa el radical -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-N(R_{4})-CH_{2}-CH_{2} -CH_{2}-, y los otros dos grupos representan cada uno el radical -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-.
El compuesto de la fórmula (I) puede estar no sustituido o sustituido; cuando está sustituido, se trata por ejemplo de aquel sustituido con uno o más radicales alquilo que tienen de 1 a 15 átomos de carbono, los radicales bencilo, picolilo o fenetilo, tal como, por ejemplo, el 6-dodecil-1,4,8, 11-tetraazaciclotetradecano, el 3-dodecil-1,5,9,13-tetraazaciclohexadecano, el 3-dodecil-1,5,10,14-tetraazaciclooctadecano, el 5,5,7,12,12, 14-hexametil-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano, el 1,4,7,10, 13-penta-etil-1,4,7,10,13,16-hexaazaciclooctadecano, el 1,4,7, 10-tetraetil-1,4,7,10,13-pentaazaciclopentadecano, el 1-metil-1, 4,8,11-tetraazaciclotetradecano, el 1-bencil-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano, el 1-[(2-piridil)metil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano, el 1-[(3-piridil)metil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano, o el 1,4-dibencil-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano.
Según un aspecto particular de la presente invención, ésta tiene por objeto el compuesto de fórmula (I), tal como se define anteriormente, en la cual el radical de fórmula (B) es un radical de formula (B_{1}):
(B_{1}),-[CH_{2}-CH(OH)] _{y}-(CH_{2})_{o}-(Q) _{q}-(CH_{2})_{r}-(Ar) _{s}-(CH_{2})_{t} (U) _{u}-(CH_{2})_{v}-Si(X) _{3}
en la cual:
o, r, t, v, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente unos de otros, un número entero mayor o igual a 0 y menor o igual a 6,
y, q, s y u, idénticos o diferentes, representan independientemente unos de otros, un número entero mayor o igual a 0 y menor o igual a 1,
Q y U, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente uno del otro, un átomo de oxígeno, un átomo de azufre o uno de los grupos -O-CO-, -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH- o -NH-,
Ar representa un grupo arileno, y particularmente un grupo fenileno,
X representa un átomo de hidrógeno o uno de los radicales metoxi o etoxi,
entendiéndose que,
cuando q es igual a 1, la suma y + o es distinta de 0,
cuando q es igual a 1 y u es igual a 0, la suma r+s+t+v es distinta de 0,
cuando u es igual a 1, v es distinto de 0,
cuando u es igual a 1 y q es igual a 0, la suma y+o+r+s+t es distinta de 0,
cuando s es igual a 0, y q y u son cada uno iguales a 1, la suma r+t es distinta de 0, y
la suma y+o+r+t+v es menor o igual a 12.
En una variante preferida de la presente invención, el radical de fórmula (B_{1}), tal como se define anteriormente, se elige entre los radicales 3-sililpropilo, (4-sililfenil)metilo, 3-(trietoxisilil)propilo, 3-[[3-(tri-etoxisilil)propil]oxi]-2-hidroxipropilo, [4-[[[3-(trietoxisilil)propil]amino]metil]fenil]metilo, 4-[(trietoxisilil)fenil]propilo, 3-oxo-3-[[3-(trietoxisilil)propil]oxi]propilo o 2-oxo-2-[[3-(trietoxisilil)propil]amino]etilo.
La invención tiene particularmente por objeto los compuestos siguientes:
el 1,4,8,11-tetraquis[3-(trietoxisilil)propil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano,
el 1,4,8,11-tetraquis[[4-(trietoxisilil)fenil]metil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano;
el 1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano-1,4,8,11-tetra-propanoato de tetra[3-(trietoxisilil)propilo];
el 1,4,8,11-tetraquis(3-sililpropil)-1,4,8,11-tetra-azaciclotetradecano;
el 1,4,8,11-tetraquis[(4-sililfenil)metil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano;
el N_{1},N_{2},N_{3},N_{4}-tetraquis[3-(trietoxisilil)propil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecan-1,4,8,11-tetraacetamida;
el 4,11-bis[[4-(trietoxisilil)fenil]metil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecan-7,14-diona.
Según otro aspecto de la presente invención, ésta tiene como objeto un procedimiento de preparación del compuesto de fórmula (I), tal como se define anteriormente, caracterizado porque
a) se hace reaccionar un compuesto de fórmula (C)
(C)Z-R' \ _{5}-Si(X_{1})(X_{2})(X_{3})
en la cual:
X_{1}, X_{2} y X_{3}, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente el uno del otro, un átomo de hidrógeno, un átomo de halógeno o un radical OR_{6}, en el cual R_{6} representa un átomo de hidrógeno o un radical alquilo que tiene de 1 a 4 átomos de carbonos,
R'_{5} representa un radical divalente derivado de una cadena hidrocarbonada alifática saturada o insaturada que tiene de 1 a 10 átomos de carbono, en la cual están eventualmente intercalados uno o más eslabones estructurales elegidos entre el grupo arileno o los fragmentos -O-, -S-, O-C(=O)-, -N(R_{7})-C(=O)-, o -N(R_{7})-, en los cuales R_{7} representa un átomo de hidrógeno, un radical hidrocarbonado alifático que tiene de 1 a 6 átomos de carbono, un radical bencilo o un radical fenetilo, estando dicha cadena no sustituida o sustituida con uno o más radicales elegidos entre los átomos de halógeno, el grupo hidroxi, los radicales alquilo que tienen de 1 a 4 átomos de carbono o los radicales bencilo o fenetilo, Z representa un grupo funcional capaz de reaccionar con una función amina secundaria, -NH- para formar un enlace covalente N-C, con un compuesto de fórmula (I'):
2
en la cual:
W'_{1}, W'_{2} y W'_{3}, idénticos o diferentes, representan independientemente unos de otros, cada uno un radical divalente elegido entre los representados por la fórmula general (A'):
(A')-[(CT_{1}T_{2})_{n}-[N(R' \ _{4})] _{p}-(CT_{3}T_{4})_{m}]_{l}-
en la cual:
l, p, n, m, T_{1}, T_{2}, T_{3} y T_{4} tienen la misma definición que para la fórmula (A), tal como se define anteriormente y
R'_{1}, R'_{2}, R'_{3} y R'_{4} representan un átomo de hidrógeno.
Por grupo funcional capaz de reaccionar con una amina secundaria, se designa particularmente por Z aquéllos que reaccionan según un mecanismo de sustitución nucleófila, tal como, por ejemplo, los radicales halógeno y particularmente los radicales bromo o yodo, o aquéllos que reaccionan según un mecanismo de adición electrófila, tales como, por ejemplo, la función epoxi que conduce a un fragmento N-CH_{2}-CH(OH)-; se puede tratar también de una función carboxi libre salificada o esterificada, o de un grupo insaturado CH_{2}=CH- que conduce a un fragmento N-CH_{2}-CH_{2}-, por una reacción del tipo "Michael", según un mecanismo de adición nucleófila.
Estos ejemplos no tienen un carácter limitativo, y está claro que todo grupo funcional conocido por el experto en la técnica en la fecha de presentación de la presente solicitud de patente, que es capaz de reaccionar con una función amina secundaria para formar un enlace covalente N-C, forma parte integrante de la descripción de la presente invención.
\newpage
Los compuestos de fórmula (C_{1}):
(C_{1}),Z'-(CH_{2})_{o}-(Q)_{q}-(CH_{2})_{r}-(Ar)_{s}-(CH_{2})_{t}-(U)_{u}-(CH_{2})_{v}-Si(X) _{3}
en la cual:
o, q, r, s, t, u, v, Q, Ar, U y X tienen la misma definición para la fórmula (B_{1}) tal como se define anteriormente,
Z' representa bien un radical halo, particularmente un radical bromo o un radical yodo, o bien un grupo oxiran-2-ilo, o bien un grupo etenilo,
la suma q + s es igual a 0 o a 1, entendiéndose
que cuando q es igual a 1, y Z' representa un radical halo, o es distinto de 0,
que cuando q es igual a 1 y u es igual a 0, la suma r+s+t+v es distinta de 0,
que cuando u es igual a 1, v es distinto de 0,
que cuando u es igual a 1 y q es igual a 0, la suma o+r+s+t es distinta de 0,
que cuando s es igual a 0, y q y u son cada uno iguales a 1, la suma r+t es distinta de 0, y
que la suma o+r+t+v, es menor que 6,
y especialmente el (trietoxi)(3-yodopropil)silano, el 2-[[[3-(trietoxisilil)propil]oxi]metil]oxirano, el N-[[4-(bromo-
metil)fenil]metil]-N-[3-(trietoxisilil)propil]amina, el (trietoxi)[(4-yodometil)fenil]silano, el propenoato de 3-(trietoxi-
silil)propilo o el N-[3-(trietoxisilil)propil]-bromoacetamida, son particularmente apropiados para la llevada a cabo del procedimiento según la invención.
Según otro aspecto de la presente invención, ésta tiene por objeto un gel de polisiloxano (III) que incorpora poliazamacrociclos y complejos metálicos de estos ligandos nitrogenados, caracterizado porque es susceptible de ser obtenido a partir de la hidrólisis de un compuesto de fórmula (I), tal como se define anteriormente, que conduce a la formación de un gel de polisiloxano que incorpora motivos de poliazamacrociclos no metalados (III'), seguido de la acción de una sal metálica sobre dicho gel (III'), así como tiene por objeto el procedimiento de preparación del gel de polisiloxano (III) realizado de este modo, a partir de un compuesto de la fórmula (I) tal como se define anteriormente.
Según otro aspecto de la presente invención, ésta tiene por objeto un gel de polisiloxano (IV) que incorpora poliazamacrociclos y complejos metálicos de estos ligandos nitrogenados, caracterizado porque es susceptible de ser obtenido a partir de la acción de una sal metálica sobre un compuesto de fórmula (I), tal como se define anteriormente, que conduce a la formación de un complejo organometálico de dicho metal con dicho compuesto de fórmula (I), seguido de la hidrólisis de dicho complejo organometálico, así como tiene por objeto el procedimiento de preparación del gel de polisiloxano (IV) así realizado, a partir de un compuesto de la fórmula (I) tal como se define anteriormente.
El metal que interviene en la composición del gel de polisiloxano (III) o (IV) se elige especialmente entre U, Pu, Am, Eu, Ce, Cr, Gd, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ag, Cd, Au, Hg o Pb.
Más particularmente la presente invención tiene por objeto los materiales híbridos (III_{1}) y (IV_{1}), que corresponden respectivamente a los compuestos híbridos (III) y (IV) en los cuales el elemento metálico se elige entre el cobalto o el cobre; y más particularmente los materiales (III_{1a}) y (IV_{1a}) susceptibles de ser obtenidos a partir de un compuesto de fórmula (Ia), (Ib) o (Ic).
En un último aspecto de la presente invención, ésta tiene por objeto la utilización de estos geles híbridos metalados tales como se definen anteriormente, para separar un gas determinado de una mezcla de gas; esta utilización se caracteriza por la puesta en contacto de dicha mezcla de gas con uno de los geles híbridos metalados (III) o (IV), tales como se definen anteriormente, en condiciones que permitan la adsorción de dicho gas a separar, seguido de una fase de desorción de dicho gas fijado sobre dicho gel y de una fase de recuperación de dicho gas desorbido. Esta utilización, preferentemente, se aplica a la separación del oxígeno del aire, bien a fin de producir un oxígeno puro, o bien a fin de eliminar el oxígeno del aire.
Los geles no metalados (III') se pueden también poner en funcionamiento para purificar los gases por adsorción de las impurezas gaseosas no deseadas.
Los ejemplos siguientes ilustran la invención y especialmente las dos vías de síntesis descritas anteriormente, según un procedimiento sol-gel, de nuevos polisiloxanos que incorporan poliazacicloalcanos y complejos metálicos de estos ligandos nitrogenados.
Como muestran estos ejemplos, la diversidad de los precursores utilizados, la adición eventual de tetraalcoxisilano durante la etapa de gelificación, las variaciones en las condiciones de funcionamiento, permiten obtener materiales de composición y de texturas variables, tanto en términos de concentración del ligando o de complejo en el sólido, como de porosidad y superficie específica. En condiciones de síntesis rigurosamente idénticas, los sólidos obtenidos presentan características idénticas, mostrando así una buena reproducibilidad del método.
Las ventajas de este método residen entonces esencialmente en la posibilidad de ajustar las características del material en función de las exigencias del genio de los materiales.
Parte experimental
Se sintetizaron diferentes geles de sílice eligiendo el 1,4,8, 11-tetraazaciclotetradecano (o ciclam) como ligando orgánico para la coordinación del elemento metálico. Los diferentes precursores han sido obtenidos, según el esquema siguiente, por acción del ciclam sobre cuatro equivalentes de diferentes reactivos sililados de fórmula (C), para formar los compuestos de fórmula (I) correspondientes. Se han utilizado varios sustituyentes que terminan en un agrupamiento -Si(OEt)_{3} o -SiH_{3}: una cadena alifática, unos sustituyentes que tienen motivos aromáticos, una función éster o amida.
3
Así se han preparado los compuestos siguientes:
Compuesto 1 1,4,8,11-tetraquis[3-(trietoxisilil)propil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano
En un Schlenk de 200 ml, en atmósfera de nitrógeno, se colocan 2 g (0,01 moles) de ciclam, 12,41 g (0,09 moles) de K_{2}CO_{3} en 100 ml de CH_{3}CN (destilado sobre P_{2}O_{5}). Se añaden entonces 13,27 g (0,04 moles) de (trietoxi)(3-yodo-propil)silano. El medio de reacción se lleva a reflujo durante 12 h. Después de la evaporación del disolvente, el residuo se recoge en 100 ml de pentano, se filtra, y el precipitado se lava dos veces con 30 ml de pentano. Se reúnen los filtrados, se evapora el pentano y se obtiene el compuesto 1 en forma de un aceite ligeramente turbio (9,85 g, 97%).
RMN ^{1}H (200 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 0,58 (m, 8H); 1,23 (t, 36H); 1,55 (m, 12H); 2,39 (m, 8H); 2,51 (m, 8H); 2,54 (s, 8H); 3,83 (q, 24H).
RMN ^{13}C (50 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 7,0; 17,3; 19,6; 21,9; 49,5; 50,4; 57,3; 57,9.
RMN ^{29}Si (40 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): -44,6.
Análisis elemental para C_{46}H_{104}N_{4}O_{12}Si_{4}
Calculado C. 54,33; H. 10,24; N. 5,51
Encontrado C. 53,9; H. 9,93; N. 6,27
Compuesto 2 1,4,8,11-tetraquis[[4-(trietoxisilil)fenil]metil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano
Procediendo de la misma manera que para el compuesto 1, a partir de 1,5 g (0,0075 moles) de ciclam, 9,32 g (0,0675 moles) de K_{2}CO_{3} y 11,4 g (0,03 moles) de (trietoxi)[4-(yodometil)fenil]silano, se obtiene un sólido beige y, después de la recristalización en 15 ml de etanol, se obtiene el compuesto 2 en forma de un polvo blanco (6,5 g, 72%).
F = 99,5-100,5ºC.
RMN ^{1}H (200 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 1,29 (t, 36H); 1,77 (m, 4H); 2,54 (t, 8H); 2,63 (s, 8H); 3,46 (s, 8H); 3,90 (q, 24H); 7,34 (d, 8H); 7,60 (d, 8H).
RMN ^{13}C (50 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 18,6; 24,4; 50,8; 51,9; 59,1; 59,8; 128,8; 129,3; 135,0; 142,9.
RMN ^{29}Si (40 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): -56,9.
Análisis elemental para C_{62}H_{104}N_{4}O_{12}Si_{4}
Calculado C. 61,58; H. 8,61; N. 4,63
Encontrado C. 61,45; H. 8,81; N. 4,59
Compuesto 3 1,4,8,11-tetraazaciclotetradecan-1,4,8,11-tetrapropanoato de tetra[3-(trietoxisilil)propilo]
En un Schlenk de 100 ml, en atmósfera de nitrógeno, se colocan 0,5 g (0,0025 moles) de ciclam en 20 ml de etanol. Se añaden entonces 2,76 g (0,01 moles) de acrilato de 3-(trietoxisilil)propilo. El medio de reacción se lleva a reflujo durante 12 h. Después de la evaporación del disolvente, se obtiene un aceite turbio que se recoge en 10 ml de pentano y se deja durante 1 h a -20ºC. El precipitado blanco formado se filtra, el filtrado se concentra y se obtiene el compuesto 3 en forma de un aceite claro (2,36 g, 72%).
RMN ^{1}H (200 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 0,51 (m, 8H); 1,24 (t, 36H); 1,44 (m, 4H); 1,61 (m, 8H); 2,35 (t, 8H); 2,41 (t, 8H); 2,44 (s, 8H); 2,61 (t, 8H); 3,69 (q, 24H); 3,90 (t, 8H).
RMN ^{13}C (50 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 6,9; 18,7; 22,6; 24,5; 32,9; 50,8; 51,1; 51,5; 58,7; 66,7; 173,1.
RMN ^{29}Si (40 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): -45,6.
Análisis elemental para C_{58}H_{120}N_{4}O_{20}Si_{4}
Calculado C 53,37; H 9,20; N 4,29
Encontrado C 53,17; H 9,18; N 4,85
Procediendo de la misma manera que antes, con acrilato de 2-(trietoxisilil)etilo, se obtiene el 1,4,8,11-tetraazaciclotetradecan-1,4,8,11-tetrapropanoato de tetra-[2-(trietoxisilil)etilo] (compuesto 8).
Compuesto 4 1,4,8,11-tetraquis(3-sililpropil)-1,4,8,11-tetraazaciclo-tetradecano
En un Schlenk de 150 ml, en atmósfera de nitrógeno, se colocan 7,47 g (0,00735 moles) del compuesto obtenido en el ejemplo 1, en 40 ml de éter anhidro. Se añade entonces gota a gota una disolución de 1,68 g (0,041 moles) de LiAlH_{4} en 30 ml de éter anhidro, a 0ºC. El medio de reacción se agita durante 24 h a temperatura ambiente, después el LiAlH_{4} en exceso se destruye con 5,5 ml de acetato de etilo a 0ºC. Después de 30 min a temperatura ambiente, se evaporan los disolventes. El residuo se recoge con un pentano, el sólido se filtra, se lava dos veces con un pentano y se obtiene el compuesto 4 en forma de un aceite (2,83 g, 80%).
RMN ^{1}H (200 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 0,74 (m, 8H); 1,57 (m, 12H); 2,42 (t, 8H); 2,52(t, 8H); 2,55 (s, 8H); 3,53 (t, 12H).
RMN ^{13}C (50 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 2,8; 21,9; 23,1; 49,5; 50,5; 56,9;
RMN ^{29}Si (40 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): -58,7.
Compuesto 5 1,4,8,11-tetraquis[4-sililfenil)metil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano
En un Schlenk de 200 ml, en atmósfera de nitrógeno, se colocan 3,75 g (0,0031 moles) del compuesto obtenido en el ejemplo 2, en 50 ml de THF. Se añade entonces gota a gota una disolución de 0,70 g (0,018 moles) de LiAlH_{4} en 20 ml de THF, a 0ºC. Se agita la mezcla de reacción 1 h a 0ºC, después 12 h a temperatura ambiente. El exceso de LiAlH_{4} se destruye con 3 ml de acetato de etilo. La mezcla de reacción se filtra sobre 20 g de Florisil®, y se evapora el disolvente. El residuo se recoge en 50 ml de CH_{2}Cl_{2}, se filtra, y después se evapora el disolvente. Se obtiene 1,41 g del compuesto 5 en forma de un polvo blanco (70%).
RMN ^{1}H (200 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 1,77 (m, 4H); 2,55 (t, 8H); 2,63 (s, 8H); 3,45 (d, 8H); 4,23 (s, 12H); 7,32 (d, 8H); 7,51 (d, 8H).
RMN ^{13}C (50 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 25,3; 51,0; 51,9; 59,8; 126,5; 129,1; 136,1; 142,4.
RMN ^{29}Si (40 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): -59,3.
Análisis elemental para C_{38}H_{56}N_{4}Si_{4}
Calculado C 67,06; H 8,24; N 8,24
Encontrado C 66,76; H 8,00; N 8,06
Compuesto 6 N_{1},N_{2},N_{3},N_{4}-tetraquis[3-(trietoxisilil)propil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecan-1,4,8,11-tetraacetamida
a) En un Schlenk de 150 ml, se disuelven 38,2 ml (0,16 moles) de aminopropiltrietoxisilano y 23,6 ml (0,17 moles) de trietilamina en 70 ml de CH_{2}Cl_{2}, y después se añade una punta de espátula de 4-dimetilaminopiridina (DMAP). Se añaden gota a gota a -30ºC 26,95 g (0,17 moles) de cloruro de bromoetanoílo, disuelto en 20 ml de CH_{2}Cl_{2}, con agitación. Se agita 2 h a temperatura ambiente la disolución viscosa y roja obtenida, y después se evapora el disolvente. El residuo se recoge en 150 ml de éter; las sales se filtran, y se evapora el disolvente. Se obtienen 48,84 g de un producto marrón muy viscoso que, por destilación (127-132º / 0,05 mm), conduce a 11,71 g (20%) de 2-bromo-N-[3-(trietoxisilil)propil]acetamida, [BrCH_{2}CONH(CH_{2})_{3}Si(OEt)_{3}].
b) En un Schlenk de 60 ml, se introducen 0,5 g (0,0025 moles) de ciclam, 25 ml de acetonitrilo y 3,1 g de K_{2}CO_{3} (0,0022 moles). Se añaden 3,76 g (0,011 moles) del 2-bromo-N-[3-(trietoxisilil)propil]acetamida preparada en la etapa a), gota a gota con agitación. La mezcla de reacción se lleva a reflujo durante 20 h. Después, se evapora el disolvente. El residuo se lava con 2 x 30 ml de pentano caliente, después se recoge en 70 ml de CH_{2}Cl_{2}. Después de la filtración y evaporación de CH_{2}Cl_{2}, se recuperan 1,59 g (51%) del compuesto 6 en forma de un polvo blanco.
RMN ^{1}H (200 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 0,64 (t, 8H); 1,23 (t, 36H); 1,63 (m, 12H); 2,64 (m, 16H); 3,04 (s, 8H); 3,26 (m, 8H); 3,81 (q, 24H); 7,06 (m, 4H).
RMN ^{13}C (50 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): 8,4; 18,7; 23,9; 24,9; 42,1; 51,4; 52,6; 58,8; 59,1; 170,9.
RMN ^{29}Si (40 MHz, CDCl_{3}) \delta (ppm): -45,8.
Análisis elemental para C_{54}H_{116}N_{8}O_{16}Si_{4}
Calculado C 52,09; H 9,32; N 9,00
Encontrado C 49,55; H 8,78; N 9,34
La hidrólisis de estos compuestos de fórmula (I) según la vía A, o de sus complejos metálicos correspondientes (vía B), conduce a unos sólidos (III) y (IV) que presentan texturas diferentes:
4
Se ha realizado la co-gelificación a fin de estudiar la influencia de la adición de Si(OEt)_{4} en proporciones variables sobre la textura del material obtenido. Los otros factores de gelificación estudiados son la naturaleza del disolvente (MeOH, EtOH, THF, CH_{2}Cl_{2}, HCONH_{2}), la concentración del precursor (0,05 a 4 moles/dm^{3}), la presencia o ausencia de catalizador (NH_{3} o fluoruro de tetraalquilamonio, tal como TBAF), y la temperatura (-20ºC a 150ºC). Los resultados se dan en la tabla 1 siguiente; que muestran que, siguiendo las condiciones de gelificación, se obtienen geles más o menos condensados, siendo esta propiedad deducida de un estudio por RMN ^{29}Si en el estado sólido; el grado de condensación aumenta en el orden T^{0} < T^{1} < T^{2} < T^{3} (Shea K. J., Loy D. A., Webster O. W.; Chem. Mater, 1989, 1, 572-574). Muestran también, por un análisis de BET, que estos geles, más o menos condensados, presentan superficies específicas y porosidades diferentes.
En el caso de un precursor de fórmula (I), que tiene varios átomos de nitrógeno cíclicos sustituidos con un radical de fórmula general (B), tal como se define anteriormente, se preparan también co-geles por adición de tetraalcoxisilanos, tales como por ejemplo, el tetraetoxisilano.
TABLA 1
Factores que influyen en la textura de los geles obtenidos por hidrólisis (6H_{2}O) de
Influencia del disolvente (1 M / TBAF / 20ºC)
(a) EtOH 17 min 370 m^{2}/g T^{3} > T^{2}
(b) THF 27 min 343 m^{2}/g
(c) HCONH_{2} 30 min 2 m^{2}/g
(d) CH_{2}Cl_{2} 55 min 454 m^{2}/g
Influencia de la concentración (EtOH / TBAF / 20ºC)
(a) 1 M 17 min 370 m^{2}/g T^{3} > T^{2}
(e) 2 M 10 min 470 m^{2}/g T^{3} \sim T^{2}
(f) 3 M 7 min 414 m^{2}/g T^{3} > T^{2}
Influencia del catalizador (EtOH / 1M / 20ºC)
(g) sin 36 h 2 m^{2}/g T^{0} > T^{1} \sim T^{2} \sim T_{3}
(a) TBAF 17 min 370 m^{2}/g T^{3} > T_{2}
(h) TBAF (sono) 15 min 410 m^{2}/g T^{3} > T^{0} \sim T_{1} \sim T^{2}
(i) NH_{3} < 24 h 0 m^{2}/g
Influencia de la temperatura (EtOH / TBAF / 1M)
(a) 20ºC 17 min 370 m^{2}/g T^{3} > T^{2}
(j) 100ºC < 30 min \sim800 m^{2}/g
Dilución por n Si(OEt)_{4} (EtOH / TBAF / 1 M / 20ºC)
(a) n=0 17 min 370 m^{2}/g T^{3} > T^{2}
(k) n=1 < 30 min 386 m^{2}/g (292^{a} + 95^{b}) T^{3} > T^{2} Q^{3}=Q^{4}
(l) n=2 < 30 min 428 m^{2}/g (290^{a} + 138^{b}) T^{3} < T^{2} Q^{3}=Q^{4}
(m) n=5 < 30 min 515 m^{2}/g (299^{a} + 216^{b})
Si(OEt)_{4} 3 - 4 h 470 m^{2}/g (296^{a} + 174^{2})
^{a}superifice microporosa
^{b}superficie externa
5
Se han obtenido materiales de texturas diferentes a partir de los compuestos precursores (1) a (6). Siguiendo las condiciones experimentales (precursor de partida, temperatura, disolvente, catalizador), ha sido posible obtener materiales con superficies específicas determinadas que oscilan de 10 m^{2} / g a 800 m^{2} / g, pudiendo ser los sólidos microporosos, mesoporos o los dos a la vez. Los resultados se dan en la tabla 2:
TABLA 2
Influencia de la naturaleza de los sustituyentes en la textura del material
Compuesto precursor 20ºC/EtOH 20ºC/THF 20ºC/CH_{2}Cl_{2} 100ºC/EtOH 100ºC/CH_{2}Cl_{2}
(1) 370 m^{2}/g 350 m^{2}/g 460 m^{2}/g 800 m^{2}/g -
microporos microporos microporos microporos
gel (a) gel (b) gel (d) gel (j)
(2) <10 m^{2}/g - 200 m^{2}/g - 400 m^{2}/g gel (r_{2})
microporos
mesoporos
gel (r_{1})
(3) <10 m^{2}/g gel (s) - - - -
(6) <10 m^{2}/g gel (t) - - - -
(4) - 350 m^{2}/g - - -
microporos
mesoporos gel (u)
(5) - <10 m^{2}/g gel (v) - - -
Se han utilizado varias sales metálicas para la metalación, antes o después de la gelificación. Se trata de Cu(OAc)
\hbox{ _{2} ,}
CuCl_{2}, Cu(BF_{4})_{2}, Cu[B(C_{6}H_{5})_{4}]_{2}, Cu[(PF_{6})]_{2}, CuSiF_{6}, Co(OAc)_{2}, CoCl_{2}, Co(BF_{4})_{2}, Co[B(C_{6}H_{5})_{4}]_{2},
\hbox{Co[PF _{6} ] _{2} ,}
y CoSiF_{6}. La cantidad de metal en los geles metalados se ha determinado por espectroscopia de fluorescencia X. Los resultados se dan en las tablas 3 a 6. TABLA 3
Metalación de los geles y co-geles por CuCl_{2} (vía A)
Gel Superficie específica antes de Estequiometría Superficie específica [Cu^{++}](mmoles/g)
la metalación (m^{2}/g) ligando/metal después de la
metalación (m^{2}/g)
gel (j) 800 (mesoporos) ½ 80 1,33
gel (j) 800 1/1 250 0,83
gel (a) 370 (microporos) ½ <10 1,31
TABLA 3 (continuación)
Metalación de los geles y co-geles por CuCl_{2} (vía A)
Gel Superficie específica antes de Estequiometría Superficie específica [Cu^{++}](mmoles/g)
la metalación (m^{2}/g) ligando/metal después de la
metalación (m^{2}/g)
gel (a) 370 1/1 <10 1,02
gel (g) <10 ½ <10 1,33
gel (g) <10 1/1 <10 -
gel (k) 390 ½ <10 1,46
gel (l) 430 ½ <10 1,25
gel (m) 510 ½ 15 0,74
gel (n) 690 ½ 550 0,59
gel (n) 690 1/1 625 -
gel (o) 690 ½ 410 -
gel (o) 690 1/1 550 -
gel (p) 470 ½ 450 0
gel (r) 400 1/1 <10 0,92
gel (r) 200 ½ <10 1,59
gel (u) 350 ½ 100 1,78
gel (v) <10 ½ <10 0,55
TABLA 4
Metalación de los geles por diferentes sales de Cu (II) (influencia del contra-ion) (vía A)
Gel Superficie específica antes de Sal metálica Superficie específica [Cu^{++}](mmoles/g)
la metalación (m^{2}/g) después de la
metalación (m^{2}/g)
gel (j) 800 (mesoporos) CuCl_{2} 250 0,83
gel (j) 800 (mesoporos) CuSiF_{6} <10 -
gel (j) 800 (mesoporos) Cu(OAc)_{2},H_{2}O 280 0,85
gel (a) 370 (microporos) CuCl_{2} <10 1,02
gel (a) 370 (microporos) CuSiF_{6} <10 -
gel (a) 370 (microporos) Cu(OAc)_{2},H_{2}O <10 -
gel (a) 370 (microporos) 2Cu(OAc)_{2},2H_{2}O <10 1,27
gel (g) <10 CuCl_{2} <10 -
TABLA 4 (continuación)
Metalación de los geles por diferentes sales de Cu (II) (influencia del contra-ion) (vía A)
Gel Superficie específica antes de Sal metálica Superficie específica [Cu^{++}](mmoles/g)
la metalación (m^{2}/g) después de la
metalación (m^{2}/g)
gel (g) <10 CuSiF_{6} <10 -
gel (g) <10 Cu(OAc)_{2},H_{2}O <10 -
gel (g) <10 2Cu(OAc)_{2},2H_{2}O <10 1,44
TABLA 5
Metalación de los geles y co-geles por CuCl_{2} (vía A)
Gel Superficie específica antes de Estequiometría Superficie específica [Cu^{++}](mmoles/g)
la metalación (m^{2}/g) ligando/metal después de la
metalación (m^{2}/g)
gel (j) 800 (mesoporos) ½ 500 1,38
gel (j) 800 (mesoporos) 1/1 600 0,95
gel (a) 370 (microporos) ½ <10 -
gel (a) 370 (microporos) 1/1 200 0,95
gel (m) 510 ½ 320 0,86
gel (r) 200 ½ 100 1,5
gel (r) 200 1/1 - 0,66
gel (u) 350 ½ 250 1,62
gel (v) <10 ½ <10 1,56
TABLA 6
Gelificación a 20ºC de precursores complejados (vía B)
Compuesto precursor Metal del complejo: Superficie específica (m^{2}/g) [metal] (mmoles/g)
Compuesto precursor/metal
Compuesto 1 Cu <10 0,95
Compuesto 1 Co 10-20 0,90
Compuesto 2 Cu <10 0,97
Las condiciones experimentales generales son las siguientes:
Metalación de los precursores
La metalación de los precursores se realiza con uno o dos equivalentes de sal metálica, a reflujo durante 24 h. Los sólidos obtenidos se lavan con un pentano, y después se secan a vacío.
Síntesis de los geles
En un aparato para hacer pastillas, se colocan en el orden siguiente el precursor, el disolvente, la cantidad necesaria de agua y el catalizador. El tiempo de gelificación t_{g} se mide a partir del momento en el que se han introducido todos los reactivos. Después se han aplicado tres tratamientos diferentes a los geles obtenidos:
a) envejecimiento durante 5 días a temperatura ambiente, trituración durante 1 min, lavado con etanol y éter dietílico; después secado a 120ºC / 3-20 mmHg (399-2666 Pa) durante 12 h
b) envejecimiento durante 2 días a temperatura ambiente, y después el mismo tratamiento que a)
c) envejecimiento durante 5 días a 100ºC (gelificación en tubos sellados), y después el mismo tratamiento que a).
Metalación de los geles
Las metalaciones se realizan siguiendo dos metodologías:
a) Complejos de Cu(II).
En un matraz de 100 ml, se colocan el material y la sal de cobre (1 ó 2 eq.) en 20 ml de etanol absoluto. El medio de reacción se lleva a reflujo durante 12 h, el material metalado se filtra, se lava con etanol y éter dietílico y finalmente se seca a 120ºC/3-20 mmHg durante 12h.
b) Complejos de Co(II).
En un Schlenk de 100 ml, en atmósfera de nitrógeno, se colocan el material y la sal de cobalto (1 ó 2 eq.) en 20 ml de etanol destilado. El medio de reacción se lleva a reflujo durante 12 h, el material metalado se filtra, y se lava con etanol.
Gelificación de los precursores metalados
Los precursores metalados se gelifican siguiendo un modo operatorio idéntico a la gelificación de los precursores no metalados.
Durante las etapas de gelificación descritas aquí arriba, se utilizan generalmente los disolventes siguientes:
-
la dimetilformamida (DMF), el etanol, el metanol, el tetrahidrofurano (THF), el acetonitrilo, el dioxano del ácido acético;
-
el catalizador se elige generalmente entre los catalizadores ácido (H^{+}) básico (OH^{-}), o nucleofílico, tal como el F en forma de fluoruro de amonio o de fluoruro de tetrabutilamonio, el N,N-dimetilaminopiridina (DMAP), el N-metilimidazol o la hexametilfosforamida (HMPA).
Se han realizado varias pruebas de oxigenación sobre geles metalados utilizando un banco de adsorción automático basado en el principio de la volumetría. Los resultados se dan en la tabla 7.
TABLA 7
Gel Sal metálica Estequiometría Superficie [Co^{++}](mmoles/g) Vol de O_{2}
ligando/metal específica adsorbido (Ncc/g)
(m^{2}/g)
gel (o) CoCl_{2} 1/1 690 0,19 1,23
gel (a) CoCl_{2} 1/1 600 0,95 1,70
gel (j) CoCl_{2} 1/1 200 0,95 2,30
Se preparó una nueva serie de geles y/o co-geles, y se estudió la reactividad de estos materiales en comparación con el dioxígeno y el dinitrógeno midiendo la adsorción a 294K de dicho gas mediante el decrecimiento de la presión a volumen constante, con la ayuda de un banco de adsorción Micromeritics TM.
Los resultados se dan en la tabla siguiente:
TABLA 8
Precursor Gel (BET Metal Contra-ion Desgasificación N_{2} O_{2} [M^{2+}] Selectividad
en m^{2}.g^{-1}) 10^{6} torr Ncc/g Ncc/g mmoles/g O_{2}/N_{2}
Compuesto (1a) Cu^{2+} 2 Cl^{-} 1^{er} ciclo: 0,40 6,19 0,86 15,5
(1) (480, 20ºC, 24h
(meso)) 2º ciclo: 1,57 3,9
20ºC, 3h
Compuesto (1b) (75, Cu^{2+} 2 Cl^{-} 1^{er} ciclo: 0,18 4,61 1,00 25,6
(1) (meso)) 20ºC, 24h
2º ciclo: 2,50 13,8
20ºC, 18h
Compuesto (1c) Cu^{2+} 2 Cl^{-} 1^{er} ciclo: 0,40 7,01 1,12 17,5
(1) 20ºC, 24h
2º ciclo: nd 11,07 27,6
120ºC, 24h
3^{er} ciclo: 0,35 7,20 20,6
120ºC, 24h
Compuesto (1d) ½ Cu^{2+} Cl^{-} 1er ciclo: 0,45 0,47 0,21 1
(1) + 10 Si 20ºC, 24h
(OEt)_{4} 2º ciclo: 0,54 0,75 1,38
120ºC, 24h
Compuesto (1e) Co^{2+} 2 Cl^{-} 1^{er} ciclo: 0,51 0,51 1,49 1
(1) 20ºC, 24h
2º ciclo: 0,41 0,43 1
120ºC, 24h
Compuesto (1f) ((417, ½ Co^{2+} Cl^{-} 20ºC, 24h 0,61 0,66 1,05 1,08
(1) (meso))
Compuesto (2a) Co^{2+} Cl^{-} 20ºC, 24h Nd 0,66 1,64 nd
(2)

Claims (17)

1. Compuesto de fórmula (I):
6
en la cual:
W_{1}, W_{2} y W_{3}, idénticos o diferentes, representan independientemente unos de otros, cada uno un radical divalente elegido entre los representados por la fórmula general (A):
(A)-[(CT_{1}T_{2})_{n}-[N(R_{4})] _{p}-(CT_{3}T_{4})_{m}]_{l}-
en la cual:
p representa un número entero igual a 0 o a 1,
l representa un número entero igual a 1 o a 2,
n y m, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente uno de otro, un número entero menor o igual a 3 y mayor o igual a 1,
T_{1}, T_{2}, T_{3} y T_{4}, idénticos o diferentes, representan bien cada uno, independientemente unos de otros, un átomo de hidrógeno, un radical alquilo, lineal o ramificado, que tiene de 1 a 15 átomos de carbono, o un radical [(hetero)aril]alquilo que tiene de 7 a 12 átomos de carbono, o bien CT_{1}T_{2} y/o CT_{3}T_{4} representan un grupo divalente (C=O)-,
R_{1}, R_{2}, R_{3} y R_{4} representan un radical representado por la fórmula general (B)
(B) R_{5}-Si(X_{1})(X_{2})(X_{3})
en la cual: X_{1}, X_{2} y X_{3}, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente unos de otros, un átomo de hidrógeno, un átomo de halógeno o un radical OR_{6} en el cual
R_{6} representa un átomo de hidrógeno o un radical alquilo que tiene de 1 a 4 átomos de carbono,
R_{5} representa un radical divalente derivado de una cadena hidrocarbonada alifática saturada o insaturada que tiene de 1 a 10 átomos de carbono, en la cual se intercalan eventualmente uno o más eslabones estructurales elegidos entre el grupo arileno, o los fragmentos -O-, -S-, -O-C(=O)-, -N(R_{7})-C(=O)-, o -N(R_{7})-, en los cuales R_{7} representa un átomo de hidrógeno, un radical hidrocarbonado alifático que tiene de 1 a 6 átomos de carbono, un radical bencilo o un radical fenetilo, estando dicha cadena no sustituida o sustituida con uno o más radicales elegidos entre los átomos de halógeno, el grupo hidroxi, los radicales alquilo que tienen de 1 a 4 átomos de carbono o los radicales bencilo o fenetilo;
entendiéndose que:
O bien W_{1}, W_{2} y W_{3}, idénticos o diferentes, representan un radical de fórmula (A_{1}) que corresponde a la fórmula (A), en la cual p es igual a 0, y la suma n + m es igual a 2 o a 3,
O bien W_{1} representa un radical divalente de fórmula (A_{2}), que corresponde a la fórmula (A) en la cual p es igual a 1, y la suma n + m es igual a 2 o a 3, y W_{2} y W_{3}, idénticos o diferentes, representan un radical de fórmula (A_{1}),
\newpage
O bien W_{1} y W_{2}, idénticos o diferentes, representan un radical divalente de fórmula (A_{2}), que corresponde a la fórmula (A) en la cual p es igual a 1, y la suma n + m es igual a 2 o a 3, y W_{3} representa un radical divalente de fórmula (A_{1}) que corresponde a la fórmula (A), en la cual p es igual a 0, y la suma n + m es igual a 2 o a 3.
2. Compuesto de la fórmula (Ia1), que corresponde a la fórmula (I) tal como se define en la reivindicación 1, en el cual 1 es igual a 1 y, o bien W_{1}, W_{2} y W_{3}, representan cada uno el radical divalente -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-, o bien uno cualquiera de los tres grupos W_{1}, W_{2} o W_{3}, representan el radical divalente -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-, y cada uno de los otros dos W_{2} y W_{3}, representa el radical divalente -CH_{2}-CH_{2}-.
3. Compuesto de la fórmula (Ib1), que corresponde a la fórmula (I) tal como se define en la reivindicación 1, en el cual 1 es igual a 1 y, o bien uno cualquiera de los tres grupos W_{1}, W_{2} o W_{3}, representa el radical -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-N(R_{4})-CH_{2}-CH_{2}-, uno cualquiera de los otros dos grupos que quedan representa el radical -CH_{2}-CH_{2}-, y el último grupo representa el radical -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-, o bien uno de cualquiera de los tres grupos W_{1}, W_{2} o W_{3}, representa el radical -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-N(R_{4})-CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-, y los otros dos grupos que quedan representan cada uno el radical -CH_{2}-CH_{2}-CH_{2}-.
4. Compuesto de fórmula (I) tal como se define en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en el cual el radical de fórmula (B), es un radical de fórmula (B_{1}):
-[CH_{2}-CH(OH)]_{y}-(CH_{2})_{o}-(Q)_{q}-(CH_{2})_{r}-(Ar) _{s}-(CH_{2})_{t}-(U)_{u}-(CH_{2})_{v}-Si(X)_{3} (B_{1}),
en la cual:
o, r, t, v, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente unos de otros, un número entero mayor o igual a 0 y menor o igual a 6,
y, q, s y u, idénticos o diferentes, representan independientemente unos de otros un número entero mayor o igual a 0 y menor o igual a 1,
Q y U, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente uno del otro, un átomo de oxígeno, un átomo de azufre o uno de los grupos, -O-CO-, -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH- o -NH-,
Ar representa un grupo arileno, y especialmente un grupo fenileno,
X representa un átomo de hidrógeno o uno de los radicales metoxi o etoxi,
entendiéndose que,
cuando q es igual a 1, la suma y + o es distinta de 0,
cuando q es igual a 1 y u es igual a 0, la suma r+t+s+v es distinta de 0,
cuando u es igual a 1, v es distinto de 0,
cuando u es igual a 1 y q es igual a 0, la suma y+o+r+s+t es distinta de 0,
cuando s es igual a 0, y q y u son cada uno iguales a 1, la suma r + t es distinta de 0.
5. Compuesto de la fórmula (I) tal como se define en la reivindicación 4, en el cual el radical de fórmula (B_{1}) se elige entre los radicales 3-sililpropilo, (4-sililfenil)metilo, 3-(trietoxisilil)propilo, 3-[[3-(trietoxisilil)propil]oxi]-2-hidroxipropilo,[4-[[[3-(trietoxisilil)propil]amino]metil]fenil]metilo, 4-[(trietoxisilil)fenil]propilo, 3-oxo-3-[[3-(trieto-
xisilil)propil]oxi]propilo o 2-oxo-2-[[3-(trietoxisilil)propil]amino]etilo.
6. Compuesto de fórmula (I) tal como se define en una de las reivindicaciones 1 a 5, en el que son los siguientes:
el 1,4,8,11-tetraquis[3-(trietoxisilil)propil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano,
el 1,4,8,11-tetraquis[[4-(trietoxisilil)fenil]metil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecano;
el 1,4,8,11-tetraazaciclotetradecan-1,4,8,11-tetra-propanoato de tetra[3-(trietoxisilil)propilo];
el 1,4,8,11-tetraquis(3-sililpropil)-1,4,8,11-tetra-azaciclotetradecano;
el 1,4,8,11-tetraquis[(4-sililfenil)metil]-1,4,8,11-tetrazaciclotetradecano;
el N_{1},N_{2},N_{3}, N_{4}-tetraquis[3-(trietoxisilil)propil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecan-1,4,8,11-tetraacetamida,
el 4,11-bis[[4-(trietoxisilil)fenil]metil]-1,4,8,11-tetraazaciclotetradecan-7,14-diona.
7. Procedimiento de preparación del compuesto de fórmula (I) tal como se define en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque se hace reaccionar un compuesto de fórmula (C)
(C)Z-R'_{5}-Si(X_{1})(X_{2})(X_{3})
en la cual:
X_{1}, X_{2} y X_{3}, idénticos o diferentes, representan cada uno, independientemente uno del otro, un átomo de hidrógeno, un átomo de halógeno o un radical OR_{6}, en el cual R_{6} representa un átomo de hidrógeno o un radical alquilo que tiene de 1 a 4 átomos de carbono,
R'_{5} representa un radical divalente derivado de una cadena hidrocarbonada alifática, saturada o insaturada, que tiene de 1 a 10 átomos de carbono, en la cual están eventualmente intercalados uno o más eslabones estructurales elegidos entre el grupo arileno, o los fragmentos -O-, -S-, O-C(=O)-, -N(R_{7})-C(=O)-, o -N(R_{7})-, en los cuales R_{7} representa un átomo de hidrógeno, un radical hidrocarbonado alifático que tiene de 1 a 6 átomos de carbono, un radical bencilo o un radical fenetilo, estando dicha cadena no sustituida o sustituida con uno o más radicales elegidos entre los átomos de halógeno, el grupo hidroxi, los radicales alquilo que tienen de 1 a 4 átomos de carbono o los radicales bencilo o fenetilo, Z representa un grupo funcional capaz de reaccionar con una función amina secundaria, -NH-, para formar un enlace covalente N-C, con un compuesto de fórmula (I'):
7
en la cual:
W'_{1}, W'_{2} y W'_{3}, idénticos o diferentes, representan independientemente unos de otros, cada uno, un radical divalente elegido entre los representados por la fórmula general (A'):
(A')-[(CT_{1}T_{2})_{n}-[N(R'_{4})]_{p}-(CT_{3}T_{4}) _{m}]_{l}-
en la cual:
l, p, n, m, T_{1}, T_{2}, T_{3} y T_{4} tienen la misma definición que para la fórmula (A), tal como se define anteriormente, y
R'_{1}, R'_{2}, R'_{3} y R'_{4} representan un átomo de hidrógeno.
8. Variante del procedimiento de preparación según la reivindicación 7, llevada a cabo con un compuesto de la fórmula (C_{1}):
(C_{1}),Z'-(CH_{2})_{o}-(Q)_{q}-(CH_{2}) _{r}-(Ar)_{s}-(CH_{2})_{t}-(U)_{u}-(CH_{2})_{v}-Si(X)_{3}
en la cual
o, q, r, s, t, u, v, Q, Ar, U y X tienen la misma definición que para la fórmula (B_{1}), tal como se define anteriormente,
Z' representa bien un radical halo, particularmente un radical bromo o un radical yodo, o bien un grupo oxiran-2-ilo, o bien un grupo etenilo,
la suma q + s es igual a 0 o a 1, entendiéndose
que cuando q es igual a 1, y Z' representa un radical halo, o es distinto de 0,
que cuando q es igual a 1 y u es igual a 0, la suma r+s+t+v es distinta de 0,
que cuando u es igual a 1, v es distinto de 0,
que cuando u es igual a 1 y q es igual a 0, la suma o+r+s+t es distinta de 0,
que cuando s es igual a 0, y q y u son cada uno iguales a 1, la suma r+t es distinta de 0, y
que la suma o+r+t+v, es menor que 6,
y más particularmente el (trietoxi)(3-yodopropil)-silano, el 2-[[[3-(trietoxisilil)propil]oxi]metil]oxirano, el N-[[4-(bromometil)fenil]metil]-N-[3-(trietoxisilil)-propil]amina, el (trietoxi)[(4-yodometil)fenil]silano, el propenoato de 3-(trietoxisilil)propilo o el N-[3-(trietoxisilil)propil]bromoacetamida.
9. Gel de polisiloxano (III) de un compuesto de fórmula (I) tal como se define en una de las reivindicaciones 1 a 6, que incorpora dicho compuesto y un complejo organometálico de dicho compuesto, caracterizado porque es susceptible de ser obtenido a partir de la hidrólisis de dicho compuesto, para formar un gel de polisiloxano no metalado (III'), seguido de la acción de una sal metálica sobre dicho gel (III'), y más particularmente el gel de polisiloxano (III_{1}) en el cual el elemento metálico se elige entre el cobalto o el cobre.
10. Gel de polisiloxano (IV) de un compuesto de fórmula (I) tal como se define en una de las reivindicaciones 1 a 6, que incorpora dicho compuesto y un complejo metálico de dicho compuesto, caracterizado porque es susceptible de ser obtenido a partir de la acción de una sal metálica sobre dicho compuesto, lo que conduce a la formación de un complejo organometálico de dicho metal con dicho compuesto, seguido de la hidrólisis de dicho complejo, y más particularmente el gel de polisiloxano (IV_{1}) en el cual el elemento metálico se elige entre el cobalto y el cobre.
11. Procedimiento de preparación del gel de polisiloxano (III) tal como se define en la reivindicación 9, caracterizado porque se somete un compuesto de fórmula (I) a una hidrólisis, conduciendo al gel no metalado (III'), y después el gel (III') se hace reaccionar con una sal metálica.
12. Procedimiento de preparación del gel de polisiloxano (IV) tal como se define en la reivindicación 10, caracterizado porque se hace reaccionar un compuesto de fórmula (I) con una sal metálica conduciendo a la formación de un complejo organometálico de dicho metal con dicho compuesto, y después porque dicho complejo organometálico se somete a una hidrólisis.
13. Variante del procedimiento tal como se define en una de las reivindicaciones 11 ó 12, en la cual el catión metálico que interviene en la composición del gel de polisiloxano (III) o (IV) se elige entre los cationes de U, Pu, Am, Eu, Ce, Cr, Gd, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ag, Cd, Au, Hg o Pb, y preferentemente es un catión Cu^{2+} o Co^{2+}.
14. Utilización de los geles híbridos metalados tales como se definen en una de las reivindicaciones 9 ó 10, para separar un gas determinado de una mezcla de gases, caracterizada porque la puesta en contacto de dicha mezcla de gas con geles híbridos metalados (III) o (IV), tales como se definen anteriormente, en condiciones que permitan la adsorción de dicho gas a separar, seguido de una fase de desorción de dicho gas fijado sobre dicho gel y de una fase de recuperación de dicho gas desorbido.
15. Utilización tal como se define en la reivindicación 14, aplicada para la separación del oxígeno del aire, bien a fin de producir un oxígeno puro, o bien a fin de eliminar el oxígeno del aire.
16. Gel no metalado (III') tal como se define en la reivindicación 9.
17. Utilización del gel (III') tal como se define en la reivindicación 9, para purificar los gases por adsorción de las impurezas gaseosas no deseables.
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