EP3871474A1

EP3871474A1 - Plasma-behandlungsgerät mit bürstenkopf

Info

Publication number: EP3871474A1
Application number: EP19794957.1A
Authority: EP
Inventors: Dirk Wandke; Mirko HAHNL; Karl-Otto Storck; Leonhard Trutwig; Melanie RICKE
Original assignee: Cinogy GmbH
Current assignee: Cinogy GmbH
Priority date: 2018-10-24
Filing date: 2019-10-23
Publication date: 2021-09-01
Also published as: WO2020083992A1; US20220117073A1; DE102018126489A1

Abstract

Ein Plasma-Behandlungsgerät (1), ausgebildet zur Behandlung einer Oberfläche mit einem dielektrisch behinderten Plasma, mit einer mindestens eine Elektrode (3) aufweisenden Elektrodenanordnung (5) und mit einem Dielektrikum (7), das die Elektrode (3) zu der zu behandelnden Oberfläche hin vollständig abdeckt, und mit einem Gehäuse (9), das eine mindestens eine Hochspannungszuleitung (10, 10a, 10b) umfassende Leitungsanordnung (11) enthält, wobei die Elektrode (3) mit der Leitungs- anordnung (11) verbunden ist und über die Hochspannungszuleitung (10, 10a, 10b) mit einem an die Hochspannungszuleitung (10, 10a, 10b) anlegbaren Hochspannungssignal (13a, 13b) beaufschlagt werden kann, ermöglicht in einfacher Weise die Kombination einer effektiven Plasmabehandlung mit einer effektiven mechanischen Behandlung der zu behandelnden Oberfläche dadurch, dass das Plasma-Behandlungsgerät (1) einen Bürstenkopf (15) hat, der ein Borstenfeld (17) und einen Borstenträger (19) mit einer Basisfläche (21) aufweist, wobei das Borstenfeld (17) eine Vielzahl flexibler Borsten (23) und Zwischenräume zwischen den Borsten (23) aufweist und die Borsten (23) von der Basisfläche (21) des Borstenträgers (19) abragen in Richtung einer Anlagefläche (27), welche durch die von der Basisfläche (21) abgewandten Enden der längsten Borsten (23) des Borstenfelds (17) definiert wird, wobei das Borstenfeld (17) eine durch den Abstand zwischen Basisfläche (21) und Anlagefläche (27) definierte erste Länge aufweist und wobei die mindestens eine Elektrode (3) der Elektrodenanordnung (5) sich ausgehend von der Basisfläche (21) mit einer zweiten Länge, die kleiner als die erste Länge oder gleich der ersten Länge ist und mindestens 30 % der ersten Länge beträgt, in Richtung der Anlagefläche (27) in das Borstenfeld (17) hinein erstreckt.

Description

Plasma-Behandlungsgerät mit Bürstenkopf

Die Erfindung betrifft ein Plasma-Behandlungsgerät, ausgebildet zur Behandlung ei- ner Oberfläche mit einem dielektrisch behinderten Plasma, mit einer mindestens eine Elektrode aufweisenden Elektrodenanordnung und mit einem Dielektrikum, das die Elektrode zu der zu behandelnden Oberfläche hin vollständig abdeckt, und mit einem Gehäuse, das eine mindestens eine Hochspannungszuleitung umfassende Leitungs- anordnung enthält, wobei die Elektrode mit der Leitungsanordnung verbunden ist und über die Hochspannungszuleitung mit einem an die Hochspannungszuleitung anleg- baren Hochspannungssignal beaufschlagt werden kann.

Die mindestens eine Hochspannungszuleitung ist mit einer für die Plasmaerzeugung benötigten Hochspannung, die vorzugsweise als Wechselhochspannung verwendet wird, verbindbar oder verbunden. Auf diese Weise kann die Elektrode über die Hoch- spannungszuleitung mit einem Hochspannungssignal beaufschlagt werden, das vor- zugsweise als Wechselhochspannungssignal ausgebildet ist.

Das erfindungsgemäße Plasma-Behandlungsgerät kann dazu ausgebildet sein, mit einer externen Hochspannungsquelle verbunden zu werden. Bevorzugt ist jedoch, dass das Plasma-Behandlungsgerät dazu ausgebildet ist, die Hochspannung in dem Plasma-Behandlungsgerät selbst zu generieren. Dabei kann dem Plasma-Behand- lungsgerät eine normale Versorgungsspannung (z.B. 230 V oder 110 V Netzspan- nung) zugeführt werden. Das Gehäuse des Plasma-Behandlungsgeräts kann zu die- sem Zweck eine Hochspannungsstufe zur Erzeugung einer Hochspannung, bspw. einen Hochspannungsgenerator, enthalten, die ausgangsseitig mit der mindestens einen Hochspannungszuleitung der Leitungsanordnung verbunden ist. Ein solcher Aufbau des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts bietet den Vorteil, dass außerhalb des Geräts keine Hochspannung geführt werden muss, sodass die erfor- derliche Gerätesicherheit wesentlich einfacher zu gewährleisten ist.

Das Gehäuse des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts kann eine Durch- gangsöffnung zur Durchführung eines Anschlusskabels aufweisen. Über dieses An- schlusskabel kann das Plasma-Behandlungsgerät mit einer Hochspannung oder be- vorzugt mit einer normalen Versorgungsspannung der zuvor genannten Art versorgt werden.

In einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung kann das Plasma-Behandlungs- gerät aber auch eine Batterie aufweisen, welche die benötigte Versorgungsspannung zur Verfügung stellt. Die Batterie kann dabei eine wiederaufladbare Batterie (Akku- mulator) oder eine nicht wiederaufladbare Batterie sein. Vorteilhaft kann insbeson- dere das Gehäuse des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts die Batterie enthalten. Aus der von der Batterie bereitgestellten Versorgungsspannung kann die Hochspannungsstufe die benötigte Hochspannung erzeugen.

Die Elektrodenanordnung des Plasma-Behandlungsgeräts kann vorteilhaft insbeson- dere dazu eingerichtet sein, dass als Gegenelektrode die zu behandelnde Oberflä- che verwendet wird. Hierzu muss die zu behandelnde Oberfläche die Oberfläche ei- nes elektrisch leitenden Körpers sein. Ein solcher elektrisch leitender Körper kann bspw. ein menschlicher oder tierischer Körper, dessen Hautoberfläche behandelt werden soll, oder ein anderer elektrisch leitender Körper sein.

Die zu behandelnde Oberfläche bzw. der zugehörige Körper kann dabei als soge- nannte floatende Gegenelektrode fungieren. Eine solche floatende Gegenelektrode folgt dem Potentialwechsel des an der Elektrode anliegenden Hochspannungssignals nur sehr träge. Wird als Hochspannungssignal ein Wechselhochspannungssignal verwendet, so verharrt das Potential der floatenden Gegenelektrode im Wesentlichen auf einem Mittenpotential, welches im Allgemeinen das Bezugspotential sein wird.

Die zu behandelnde Oberfläche bzw. der zugehörige Körper kann daher als Masse fungieren. Beispielsweise ist es möglich, nur eine einzige Elektrode für die Generierung des Plasmas zu verwenden und die Oberfläche bzw. den zugehörigen Körper als Gegen- elektrode (Masse) zu verwenden. Hierdurch wird vorteilhaft eine große Behandlungs- tiefe innerhalb des Körpers erreicht.

Es ist ferner bspw. möglich, eine Mehrzahl von Elektroden, d.h. mindestens zwei Elektroden, in der Elektrodenanordnung vorzusehen, die mit demselben Hochspan- nungssignal beaufschlagt werden. Dabei fungiert die zu behandelnde Oberfläche als Gegenelektrode für die Plasmabildung. Alternativ ist es bspw. möglich, die mindes- tens zwei Elektroden der Elektrodenanordnung mit verschiedenen Wechselhoch- spannungssignalen, insbesondere mit zueinander gegenphasigen Wechselhoch- spannungssignalen, zu versorgen. Auch hierbei kann die zu behandelnde Oberfläche wiederum als Gegenelektrode fungieren.

Es ist bspw. aber auch möglich, die mindestens zwei Elektroden der Mehrzahl von Elektroden als Elektrode und Gegenelektrode zu verwenden, sodass das Plasma zwischen den Elektroden entsteht und als Oberflächenplasma wirksam werden kann. Hierdurch werden aber bei einem normalen Energieeintrag nur geringe Behand- lungstiefen ermöglicht.

Für ein Plasma-Behandlungsgerät der eingangs genannten Art ist es wesentlich, dass das Dielektrikum die mindestens eine Elektrode zu der zu behandelnden Ober- fläche hin vollständig abdeckt. Die mindestens eine Elektrode ist auf diese Weise von der zu behandelnden Oberfläche abgeschirmt. Dadurch, dass das Dielektrikum die mindestens eine Elektrode zu der zu behandelnden Oberfläche hin vollständig ab- deckt, wird ein direkter oder galvanischer Stromfluss zwischen der mindestens einen Elektrode und der zu behandelnden Oberfläche verhindert.

Das Dielektrikum oder Teile des Dielektrikums können insbesondere flexibel ausge- bildet sein. Geeignete Materialien für die Fertigung des flexiblen Dielektrikums sind bspw. flexible Silikone, insbesondere Silikonkautschuke. Durch die DE 10 2015 111 401 B3 ist ein Behandlungsgerät zur Behandlung einer Oberfläche mit einem dielektrisch behinderten Plasma bekannt. Das Behandlungsge- rät weist ein Gehäuse mit einer Stirnwand und eine Elektrode auf. Die Elektrode ist mit einem Hochspannungsgenerator verbindbar und wird durch ein wenigstens einen Teil der Stirnwand bildendes Dielektrikum zu der zu behandelnden Oberfläche abge- schirmt. Die Stirnwand weist wenigstens einen Abstandshalter auf, mit dem beim An- liegen des Abstandshalters an der zu behandelnden Oberfläche wenigstens ein Gas- raum gebildet wird, in dem sich das dielektrisch behinderte Plasma für die Behand- lung ausbildet.

Durch die DE 10 2012 015 482 A1 ist des Weiteren eine Elektrodenanordnung zur Ausbildung eines dielektrisch behinderten Plasmas zwischen einer Wirkfläche der Elektrodenanordnung und einer als Gegenelektrode fungierenden Oberfläche be- kannt. Diese Elektrodenanordnung weist eine flexible, flächige Elektrode, die mit ei- ner Hochspannungsquelle verbindbar ist, und ein flächiges, flexibles und die Wirkflä- che bildendes Dielektrikum auf, das mit der flächigen Elektrode zu einem Elektroden- element verbunden ist und die Elektrode zu der zu behandelnden Oberfläche hin vollständig abdeckt. Um die Anpassbarkeit an unregelmäßige Oberflächen zu ver- bessern, weist diese Elektrodenanordnung außerdem auf der der Oberfläche abge- wandten Rückseite des Elektrodenelementes ein flächenelastisches Andruckmittel auf, durch welches das flächige Elektrodenelement gleichmäßig in Richtung der zu behandelnden Oberfläche gedrückt wird.

Die Anwendungsmöglichkeiten solcher Vorrichtungen zur Behandlung von Oberflä- chen mit einem dielektrisch behinderten Plasma sind überaus vielfältig. Sie liegen insbesondere im therapeutischen und kosmetischen Bereich, sind allerdings keines- wegs hierauf beschränkt. Die bekannten Vorrichtungen zur Behandlung von Oberflä- chen mit einem dielektrisch behinderten Plasma haben sich bewährt und sind insbe- sondere für die Behandlung der Hautoberfläche eines menschlichen oder tierischen Körpers geeignet. Durch die Plasmabehandlung können beispielsweise therapeuti- sche oder kosmetische Wirkstoffe verbessert aufgenommen werden, sodass die Plasmabehandlung die angestrebte therapeutische oder kosmetische Wirkung ver- stärkt. Darüber hinaus sorgt die Plasmabehandlung für eine wirksame Keimreduk- tion, da sie Mikroorganismen zerstört und insbesondere eine bakterizide und fungi- zide Wirkung auf der Haut ausübt. Weiterhin führt die Plasmabehandlung zu einer Erhöhung der Mikrozirkulation im Gewebe.

Bei vielen der mannigfaltigen Anwendungen derartiger Plasmabehandlungen ist es wünschenswert, die Plasmabehandlung mit einer mechanischen Behandlung der Oberfläche kombinieren zu können, um bspw. eine Reinigungs- und/oder Massage- wirkung zu erzielen. Eine mechanische Behandlung einer Oberfläche der zuvor er- wähnten Art zur Erzielung einer Reinigungs- und/oder Massagewirkung erlauben die oben genannten vorbekannten Vorrichtungen zur Plasmabehandlung allerdings nicht.

Ausgehend hiervon liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, die be- währten vorbekannten Vorrichtungen zur Plasmabehandlung dahingehend zu ver- bessern, dass sie sowohl eine effektive Plasmabehandlung als auch eine effektive mechanische Behandlung der zu behandelnden Oberfläche zur Erzielung einer Rei- nigungs- und/oder Massagewirkung erlauben.

Zur Lösung dieser Aufgabe ist ein Plasma-Behandlungsgerät der eingangs erwähn- ten Art erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet, dass das Plasma-Behandlungs- gerät einen Bürstenkopf hat, der ein Borstenfeld und einen Borstenträger mit einer Basisfläche aufweist. Das Borstenfeld weist dabei eine Vielzahl flexibler Borsten und Zwischenräume zwischen den Borsten auf und die Borsten ragen von der Basisflä- che des Borstenträgers ab in Richtung einer Anlagefläche, welche durch die von der Basisfläche abgewandten Enden der längsten Borsten des Borstenfelds definiert wird. Das Borstenfeld weist eine durch den Abstand zwischen Basisfläche und Anla- gefläche definierte erste Länge auf und die mindestens eine Elektrode der Elektro- denanordnung erstreckt sich ausgehend von der Basisfläche mit einer zweiten Länge, die kleiner als die erste Länge oder gleich der ersten Länge ist und mindes- tens 30 % der ersten Länge beträgt, in Richtung der Anlagefläche in das Borstenfeld hinein. Das erfindungsgemäße Plasma-Behandlungsgerät ermöglicht durch seinen Bürsten- kopf und die flexiblen Borsten des Borstenfelds in vorteilhafter Weise die Kombina- tion einer Plasmabehandlung mit einer mechanischen Behandlung der zu behandeln- den Oberfläche. Die Plasmabehandlung kann dadurch in einem Arbeitsgang bspw. mit einer Reinigung und/oder einer Massage der zu behandelnden Oberfläche ver- bunden werden.

Die Plasmabehandlung und die mechanische Behandlung der zu behandelnden Oberfläche mit dem erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgerät können dabei gleichzeitig erfolgen. Die Plasmabehandlung und die mechanische Behandlung kön- nen grundsätzlich aber auch in beliebiger zeitlicher Reihenfolge nacheinander erfol- gen. Das Plasma-Behandlungsgerät kann demnach dazu ausgebildet sein, gleichzei- tig und/oder nacheinander eine Plasmabehandlung und eine mechanische Behand- lung der zu behandelnden Oberfläche durchzuführen.

Ein beispielhaftes Anwendungsgebiet des erfindungsgemäßen Plasma-Behand- lungsgeräts liegt im Bereich der Hautpflege. Beispielsweise ist es in vorteilhafter Weise möglich, in Verbindung mit einer Plasmabehandlung einer Hautoberfläche ei- nes menschlichen oder tierischen Körpers die Hautoberfläche zu reinigen und/oder zu massieren. Durch die mechanische Behandlung einer Hautoberfläche mit dem er- findungsgemäßen Plasma-Behandlungsgerät kann in vorteilhafter weise insbeson- dere die Durchblutung angeregt werden. In vorteilhafter weise kann das erfindungs- gemäße Plasma-Behandlungsgerät bspw. auch dazu verwendet werden, um eine Plasmabehandlung mit einem Peeling der Haut zu kombinieren.

Durch die mechanische Behandlung der Oberfläche kann darüber hinaus die Wirk- samkeit der Plasmabehandlung verbessert werden, bspw. dadurch, dass die Poren der zu behandelnden Oberfläche durch die mechanische Einwirkung geöffnet wer- den. Bei der Behandlung einer Hautoberfläche kann eine Anregung der Durchblutung zu einer verbesserten Wirksamkeit der Plasmabehandlung beitragen.

Die Behandlung der zu behandelnden Oberfläche mit dem erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgerät kann vorteilhaft unter Verwendung therapeutischer und/oder kosmetischer Wirkstoffe erfolgen. Die Behandlung der zu behandelnden Oberfläche mit dem erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgerät kann vorteilhaft beispielsweise unter Verwendung einer Reinigungscreme und/oder einer Pflege- creme erfolgen. Die Behandlung der zu behandelnden Oberfläche kann vorteilhaft aber auch trocken und/oder ohne eine Verwendung therapeutischer oder kosmeti- scher Wirkstoffe, Reinigungscremes oder Pflegecremes erfolgen.

Die von der Basisfläche abgewandten Enden der längsten Borsten des Borstenfelds definieren eine Anlagefläche, die bei dem bestimmungsgemäßen Gebrauch des Plasma-Behandlungsgeräts an der zu behandelnden Oberfläche anliegt. Die Borsten des Borstenfelds können dabei bspw. eine einheitliche Länge aufweisen. In diesem Fall wird die Anlagefläche durch die von der Basisfläche abgewandten Enden sämtli- cher Borsten des Borstenfelds definiert. Alternativ können die Borsten des Borsten- felds aber auch unterschiedliche Längen aufweisen, d.h. einige Borsten des Borsten- felds können kürzer sein als andere Borsten des Borstenfelds. In diesem Fall wird die Anlagefläche durch die von der Basisfläche abgewandten Enden derjenigen Borsten des Borstenfelds definiert, welche die größte Länge aufweisen und somit bei einem bestimmungsgemäßen Gebrauch des Plasma-Behandlungsgeräts stets auf der zu behandelnden Oberfläche aufliegen.

Neben einer effektiven mechanischen Behandlung wird mit dem erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgerät in vorteilhafter weise eine effektive Plasmabehandlung der zu behandelnden Oberfläche dadurch erreicht, dass sich die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung in das Borstenfeld hinein erstreckt. Auf diese Weise kann während des bestimmungsgemäßen Gebrauchs des Plasma-Behand- lungsgeräts, d. h. während der Behandlung der Oberfläche, ein geringer Abstand zwischen der sich in das Borstenfeld hinein erstreckenden Elektrode und der zu be- handelnden Oberfläche unabhängig von der Länge der Borsten gewährleistet wer- den. Durch den geringen Abstand zwischen der mindestens einen Elektrode und der zu behandelnden Oberfläche werden in vorteilhafter Weise eine effektive Ausbildung des Plasmas im Bereich der zu behandelnden Oberfläche und eine große Behand- lungstiefe erreicht.

Die zweite Länge ist dabei kleiner als die erste Länge oder gleich der ersten Länge. Die erste Länge und die zweite Länge sind demnach so gewählt, dass die Länge des Borstenfelds (erste Länge), welche durch die Länge der längsten Borsten des Bors- tenfelds vorgegeben wird, größer als die zweite Länge oder gleich der zweiten Länge ist, mit der sich die mindestens eine Elektrode in das Borstenfeld hinein erstreckt, so- dass die mindestens eine sich in das Borstenfeld hinein erstreckende Elektrode das Borstenfeld nicht überragt.

Die Elektrodenanordnung des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts kann in vorteilhaften Ausführungsformen insbesondere eine Mehrzahl von Elektroden auf- weisen, die sich in der beschriebenen Art und Weise in Richtung der Anlagefläche in das Borstenfeld hinein erstrecken. Die verschiedenen Elektroden der Mehrzahl von Elektroden können dabei elektrisch leitend miteinander verbunden sein und/oder mit demselben elektrischen Potential verbunden sein. Die verschiedenen Elektroden der Mehrzahl von Elektroden können aber auch galvanisch voneinander getrennt und/oder mit verschiedenen elektrischen Potentialen verbunden sein.

Die Borsten des Borstenfelds können winklig, insbesondere annähernd rechtwinklig, von der Basisfläche des Borstenträgers abragen.

Die Borsten des Borstenfelds können in einer vorteilhaften Ausführungsform der Er- findung aus einem hochflexiblen dielektrischen Kunststoff gefertigt sein. Hierfür eig nen sich bspw. flexible Silikone, insbesondere Silikonkautschuke. Die Borsten kön- nen aber auch aus einem anderen Material gefertigt sein. Die Borsten können grund- sätzlich in an sich bekannter Weise aus einem beliebigen hierfür geeigneten Material gefertigt sein.

In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung können sich insbesondere mindes- tens drei Elektroden oder mindestens vier Elektroden oder mindestens fünf Elektro- den oder mindestens sechs Elektroden oder mindestens acht Elektroden oder min- destens zehn Elektroden oder mindestens 15 Elektroden oder mindestens 20 Elekt- roden oder mindestens 25 Elektroden oder mindestens 30 Elektroden oder mindes- tens 40 Elektroden oder mindestens 50 Elektroden in das Borstenfeld hinein erstre- cken. In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann das erfindungsgemäße Plasma-Behandlungsgerät insbesondere nicht für eine Behandlung innerhalb der Mundhöhle eines Lebewesens mit einem dielektrisch behinderten Plasma ausgebil- det sein. Vorteilhaft kann das erfindungsgemäße Plasma-Behandlungsgerät insbe- sondere zur Behandlung einer Oberfläche außerhalb der Mundhöhle eines Lebewe- sens mit einem dielektrisch behinderten Plasma ausgebildet sein.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann der Bürstenkopf des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts nicht in einer für eine spezielle Be- handlung speziellen Form ausgebildet sein.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann das erfindungsge- mäße Plasma-Behandlungsgerät insbesondere so ausgebildet sein, dass der Bürs- tenkopf keinen flächigen Bodenabschnitt mit einer Länge und einer Breite aufweist, aus dem sich über die Länge mehrere sich über die Breite erstreckende Stege erhe- ben, die zum Einführen in Zahnzwischenräume ausgebildet sind und in die sich die Elektrodenanordnung einstückig hinein erstreckt.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann das erfindungsge- mäße Plasma-Behandlungsgerät insbesondere so ausgebildet sein, dass sich von der Basisfläche des Borstenträgers nicht mehrere Stege erheben, die zum Einführen in Zahnzwischenräume ausgebildet sind und in die sich die Elektrodenanordnung einstückig hinein erstreckt. In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfin dung kann das erfindungsgemäße Plasma-Behandlungsgerät insbesondere so aus- gebildet sein, dass sich von der Basisfläche des Borstenträgers nicht mehrere Stege erheben, in die sich die Elektrodenanordnung einstückig hinein erstreckt. In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann das erfindungsgemäße Plasma-Behandlungsgerät insbesondere so ausgebildet sein, dass sich von der Ba- sisfläche des Borstenträgers nicht mehrere Stege erheben, in die sich die Elektro- denanordnung hinein erstreckt.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung sich in die Zwischenräume des Borstenfelds hinein erstreckt. Die mindestens eine sich in das Borstenfeld hinein erstreckende Elektrode kann da- bei insbesondere in einer im Wesentlichen parallel zur Anlagefläche verlaufenden Ebene allseitig von dem Borstenfeld umgeben werden. Das erfindungsgemäße Plasma-Behandlungsgerät kann demnach so ausgebildet sein, dass sich die mindes- tens eine Elektrode, die sich in das Borstenfeld hinein erstreckt, in der im Wesentli- chen parallel zur Anlagefläche verlaufenden Ebene nicht bis zum Rand des Borsten- felds erstreckt.

Eine Elektrode, die sich im Sinne der vorliegenden Erfindung in das Borstenfeld hin ein erstreckt, kann demnach eine Elektrode sein, die sich in die Zwischenräume des Borstenfelds hinein erstreckt.

Eine Elektrode, die sich im Sinne der vorliegenden Erfindung in das Borstenfeld hin ein erstreckt, kann grundsätzlich aber auch eine Elektrode sein, die sich neben den Borsten des Borstenfelds, insbesondere im Wesentlichen parallel zu den Borsten des Borstenfelds, in Richtung der Anlagefläche erstreckt.

Die mindestens eine sich in das Borstenfeld hinein erstreckende Elektrode ist dem- nach nicht notwendigerweise so angeordnet, dass sie in der im Wesentlichen parallel zur Anlagefläche verlaufenden Ebene von den Borsten des Borstenfelds umgeben wird, sondern sie kann in dieser Ebene auch neben den Borsten angeordnet sein. In einer solchen Ausführungsform ist beispielsweise auch denkbar, dass das Borsten- feld in der im Wesentlichen parallel zur Anlagefläche verlaufenden Ebene von der mindestens einen Elektrode umgeben wird. Dabei kann das Borstenfeld in der im Wesentlichen parallel zur Anlagefläche verlaufenden Ebene insbesondere allseitig, beispielsweise ringförmig, von der mindestens einen Elektrode umgeben werden.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung sich in mindestens eine Borste hinein erstreckt. Eine Elektrode, die sich im Sinne der vorliegenden Erfindung in das Borstenfeld hin ein erstreckt, kann somit auch eine Elektrode sein, die sich in eine Borste des Bors- tenfelds hinein erstreckt.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass zu mindest einige der Borsten teilweise oder vollständig aus dem Dielektrikum gebildet sind. Vorteilhaft können insbesondere sämtliche Borsten teilweise oder vollständig aus dem Dielektrikum gebildet sein. Vorteilhaft können insbesondere einige der Bors- ten oder sämtliche Borsten, in die sich die mindestens eine Elektrode der Elektro- denanordnung hinein erstreckt, teilweise oder vollständig aus dem Dielektrikum ge- bildet sein.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass zu mindest einige der Borsten als hohle Borsten ausgebildet sind, die jeweils einen sich in Längsrichtung der Borste erstreckenden Hohlraum aufweisen, in den sich eine Elektrode der Elektrodenanordnung hinein erstreckt.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung aus einem gießfähigen, mit leit- fähigen Zusätzen versehenen Kunststoff besteht. Vorteilhaft kann dabei insbeson- dere die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung, die sich in mindestens eine Borste hinein erstreckt, aus einem gießfähigen, mit leitfähigen Zusätzen verse- henen Kunststoff bestehen.

Durch die leitfähigen Zusätze wird eine elektrische Leitfähigkeit des Kunststoffs her- gestellt, sodass dieser zur Fertigung der Elektrode verwendet werden kann. Der gießfähige Kunststoff kann dabei insbesondere ein Silikon sein. Als leitfähige Zu- sätze eignen sich bspw. Metallpartikel, Kohlestoffpartikel oder Ähnliches.

Eine solche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit einer Elektrode aus einem gießfähigen, mit leitfähigen Zusätzen versehenen Kunststoff ist besonders vorteilhaft, da sie eine materialschlüssige Verbindung zwi schen der Elektrode und einem ebenfalls aus Kunststoff gefertigten, die Elektrode abdeckenden Dielektrikum ermöglicht. Die materialschlüssige Verbindung ergibt sich dabei durch die Kunststoffe selbst und erfordert keine zusätzliche Klebeschicht an der Grenzschicht zwischen der Elektrode und dem Dielektrikum. Die Elektrode und das die Elektrode abdeckende Dielektrikum können somit gleichsam als einheitliches Material ausgebildet werden und gehen dadurch eine besonders haltbare Verbin- dung ein. Dies ist insbesondere deswegen von Bedeutung, da die mindestens eine sich in das Borstenfeld hinein erstreckende Elektrode während der Behandlung star- ken Biegungen ausgesetzt sein kann.

Vorteilhaft ist dies insbesondere dann, wenn sich die aus einem gießfähigen, mit leit- fähigen Zusätzen versehenen Kunststoff bestehende Elektrode der Elektrodenanord- nung in mindestens eine Borste hinein erstreckt, die teilweise oder vollständig aus dem Dielektrikum gebildet ist. Dadurch ergibt sich eine besonders einfache und da- her kostengünstig zu fertigende Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma- Behandlungsgeräts, bei der sich die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanord- nung in mindestens eine Borste hinein erstreckt.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung aus einer leitfähigen Keramik besteht. Die Keramik kann dabei mit leitfähigen Zusätzen versehen sein. Durch die leitfähigen Zusätze wird eine elektrische Leitfähigkeit der Keramik hergestellt, sodass diese zur Fertigung der Elektrode verwendet werden kann. Als leitfähige Zusätze eig nen sich bspw. Metallpartikel, Kohlestoffpartikel oder Ähnliches.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Elektrodenanordnung teilweise in den Borstenträger eingebettet ist, wobei die min- destens eine Elektrode der Elektrodenanordnung in Richtung der Anlagefläche aus dem Borstenträger herausragt. Der aus dem Borstenträger herausragende Teil der Elektrode ist dabei zu der zu behandelnden Oberfläche hin vollständig von dem Die- lektrikum abgedeckt.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass der Borstenträger teilweise oder vollständig aus dem Dielektrikum gebildet ist. Vorteilhaft kann das den Borstenträger teilweise oder vollständig bildende Dielektrikum ein fle- xibles Dielektrikum sein. Das den Borstenträger teilweise oder vollständig bildende Dielektrikum kann insbesondere aus Silikon, insbesondere aus Silikonkautschuk ge- fertigt sein. Das den Borstenträger teilweise oder vollständig bildende Dielektrikum kann aber bspw. auch aus einem biegesteifen Kunststoff gefertigt sein.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die mindestens eine Elektrode in einer im Wesentlichen parallel zur Anlagefläche verlau- fenden Ebene allseitig von dem Borstenfeld umgeben ist. Der Bürstenkopf kann ins- besondere ein als Borstenkranz ausgebildetes Borstenfeld aufweisen, wobei der Borstenkranz die mindestens eine Elektrode in der im Wesentlichen parallel zur Anla- gefläche verlaufenden Ebene allseitig umgibt.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass der Borstenträger eine Durchgangsöffnung aufweist, durch welche sich die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung hindurch erstreckt. Die sich durch die Durchgangsöffnung hindurch erstreckende Elektrode kann dabei in einer im Wesent- lichen parallel zur Anlagefläche verlaufenden Ebene allseitig von dem Borstenfeld umgeben sein. Der Bürstenkopf kann dabei insbesondere ein als Borstenkranz aus- gebildetes Borstenfeld aufweisen, wobei der Borstenkranz die sich durch die Durch- gangsöffnung hindurch erstreckende Elektrode in der im Wesentlichen parallel zur Anlagefläche verlaufenden Ebene allseitig umgibt.

Eine solche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts, bei welcher der Borstenträger eine Durchgangsöffnung aufweist, durch welche sich die Elektrode hindurch erstreckt, bietet den Vorteil, dass sich eine einfache konstruk- tive Lösung realisieren lässt, bei welcher der Borstenträger und das Borstenfeld zum Reinigen oder Auswechseln von dem Plasma-Behandlungsgerät gelöst werden kön- nen, während die sich im zusammengesetzten Zustand durch die Durchgangsöff- nung des Borstenträgers hindurch erstreckende Elektrode am Gerät verbleibt.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung flexibel ist. Die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung kann zu diesem Zweck aus einem flexiblen und elektrisch leitfähigen Material bestehen. Die Flexibilität kann sich dabei aus einer elastischen Verformbarkeit, aber auch aus einer plastischen Verformbarkeit des Ma- terials der Elektrode ergeben. Die mindestens eine flexible Elektrode der Elektro- denanordnung kann zu diesem Zweck bspw. aus einem leitfähigen und flexiblen Kunststoff, einem leitfähigen Kunststoffpulver, einem leitfähigen Kunststoffgranulat, einem Metallpulver und/oder einem Metallgranulat gefertigt sein. Als elektrisch leitfä higer Kunststoff kann insbesondere elektrisch leitfähiges Silikon dienen. Die elektri sche Leitfähigkeit des Kunststoffs kann dabei in der zuvor beschriebenen Art und Weise dadurch erzeugt werden, dass der Kunststoff mit leitfähigen Zusätzen verse- hen ist.

Eine solche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts, bei der die mindestens eine Elektrode flexibel ist, bietet den Vorteil, dass nicht nur die flexiblen Borsten des Borstenfelds ihre Form an die zu behandelnde Oberfläche anpassen können, sondern auch die Elektrode während der Behandlung ihre Form an die zu behandelnde Oberfläche anpassen kann. Dadurch wird eine besonders hohe Effektivität sowohl der Plasmabehandlung als auch der mechanischen Behand- lung erreicht.

In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung kann die mindestens eine Elektrode der Elektrodenanordnung aber auch starr sein.

Selbstverständlich ist es auch möglich, dass die Elektrodenanordnung eine Mehrzahl von Elektroden aufweist und sowohl flexible als auch starre Elektroden umfasst. Die Elektrodenanordnung kann demnach mindestens eine flexible Elektrode und/oder mindestens eine starre Elektrode aufweisen.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass der Borstenträger einen kreisförmigen oder ellipsenförmigen oder ringförmigen Quer- schnitt hat. Dies bietet sowohl den Vorteil einer guten Handhabbarkeit als auch den Vorteil, dass sich diese Form des Borstenträgers gut dazu eignet, den Borstenträger bewegbar, insbesondere rotatorisch bewegbar, auszubilden. In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Elektrodenanordnung eine Mehrzahl fingerförmiger Elektroden aufweist, die von ei- ner Dielektrikumsschicht umgeben sind und von der Basisfläche des Borstenträgers in das Borstenfeld hineinragen. Die fingerförmigen Elektroden und die sie umge- bende Dielektrikumsschicht können dabei insbesondere flexibel ausgebildet sein.

Das Plasma-Behandlungsgerät kann demnach eine Mehrzahl von Elektrodenfingern aufweisen, die jeweils aus einer fingerförmigen Elektrode und einer die fingerförmige Elektrode umgebenden Dielektrikumsschicht gebildet sind. Die Elektrodenfinger ra- gen dabei von der Basisfläche des Borstenträgers in Richtung der Anlagefläche ab. Die Elektrodenfinger können sich dabei in die Zwischenräume des Borstenfelds hin ein erstrecken.

Der Querschnitt der einzelnen fingerförmigen Elektroden und/oder der einzelnen Elektrodenfinger kann dabei insbesondere im Wesentlichen kreisförmig und/oder el- lipsenförmig und/oder im Wesentlichen quadratisch sein. Vorteilhaft kann der Quer- schnitt der einzelnen fingerförmigen Elektroden und/oder der einzelnen Elektroden- finger eine längste und eine kürzeste Seite aufweisen, wobei die längste Seite eine Länge aufweist, die nicht mehr als das Zweieinhalbfache, insbesondere nicht mehr als das Zweifache, insbesondere nicht mehr als das Eineinhalbfache der Länge der kürzesten Seite beträgt.

Die Elektrodenfinger können vorteilhaft insbesondere so dünn und flexibel ausgebil- det sein, dass sie im Wesentlichen die Erscheinung und die mechanischen Eigen- schaften von Borsten, insbesondere von Borsten einer herkömmlichen Bürste, auf- weisen.

Eine solche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts, die eine Mehrzahl fingerförmiger, von einer Dielektrikumsschicht umgebener Elektro- den aufweist, bietet den Vorteil, dass eine Vielzahl sich in das Borstenfeld hinein er- streckender Elektroden innerhalb des Borstenfelds verteilt werden kann. Auf diese Weise lässt sich eine besonders homogene Dichte der Borsten innerhalb des Bors- tenfelds realisieren, die eine besonders effektive mechanische Behandlung der zu behandelnden Oberfläche ermöglicht. In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die mindestens eine sich in das Borstenfeld hinein erstreckende Elektrode der Elektro- denanordnung eine der Anlagefläche zugewandte flächige Stirnseite aufweist, die von einer flächigen Stirnwand des Dielektrikums zu der Anlagefläche hin abgedeckt wird.

Eine solche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit einer Elektrode, die eine der Anlagefläche zugewandte flächige Stirnseite auf- weist, bietet den Vorteil, dass auf diese Weise eine besonders effektive und gleich- mäßige Ausbildung des Plasmas zwischen der die flächige Stirnseite abdeckenden flächigen Stirnwand des Dielektrikums und der zu behandelnden Oberfläche erreicht wird.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die flächige Stirnwand des Dielektrikums auf ihrer der Anlagefläche zugewandten Seite mindestens einen Abstandshalter aufweist. Vorteilhaft kann die flächige Stirnwand des Dielektrikums auf ihrer der Anlagefläche zugewandten Seite eine Mehrzahl von Abstandshaltern aufweisen. Der mindestens eine Abstandshalter kann dabei vorteil- haft aus dem Dielektrikum gebildet sein. Der mindestens eine Abstandshalter kann insbesondere einstückig mit der flächigen Stirnwand des Dielektrikums ausgebildet sein.

Eine solche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit mindestens einem Abstandshalter auf der flächigen Stirnwand des Dielektrikums bietet den Vorteil, dass ein definierter Abstand zwischen der flächigen Stirnwand des Dielektrikums und der zu behandelnden Oberfläche während der Behandlung sicher- gestellt werden kann. Dadurch wird während der Behandlung das Vorhandensein ei- nes Zwischenraums zwischen der flächigen Stirnwand und der zu behandelnden Oberfläche gewährleistet, in dem sich das Plasma ausbilden kann.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass ei- nige oder sämtliche Borsten des Borstenfelds auf der der Anlagefläche zugewandten Seite des Borstenfelds die mindestens eine sich in das Borstenfeld hinein erstre- ckende Elektrode der Elektrodenanordnung und das die Elektrode abdeckende Die- lektrikum überragen.

Die die Elektrode überragenden Borsten stellen in vorteilhafter weise sicher, dass während der Behandlung ein Abstand zwischen der zu behandelnden Oberfläche und dem der zu behandelnden Oberfläche zugewandten Ende der mindestens einen Elektrode eingehalten wird, wenn die Enden der Borsten auf der zu behandelnden Oberfläche aufliegen. In dem daraus resultierenden Zwischenraum zwischen der mindestens einen Elektrode und der zu behandelnden Oberfläche kann sich das Plasma in unmittelbarer Nähe zu der zu behandelnden Oberfläche ausbilden, sodass eine besonders effektive Plasmabehandlung erreicht wird.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die zweite Länge mindestens 40 % oder mindestens 50 % oder mindestens 60 % oder mindestens 70 % oder mindestens 80 % oder mindestens 90 % oder mindestens 95 % oder mindestens 99 % der ersten Länge beträgt.

Da ein größeres Verhältnis von zweiter Länge zu erster Länge gleichbedeutend ist mit einer sich weiter in das Borstenfeld hinein erstreckenden Elektrode, bietet eine in Relation zur ersten Länge größer gewählte zweite Länge den Vorteil, dass die sich in das Borstenfeld hinein erstreckende Elektrode während der Behandlung einen gerin- geren Abstand zu der zu behandelnden Oberfläche aufweist, wenn die Enden der Borsten des Borstenfelds auf der zu behandelnden Oberfläche aufliegen. Die Effekti- vität der Plasmaausbildung im Bereich der zu behandelnden Oberfläche kann auf diese Weise verbessert werden, da ein größerer Abstand zwischen Elektrode und zu behandelnder Oberfläche die Ausbildung des Plasmas erschwert.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass der Borstenträger beweglich gelagert ist und das Behandlungsgerät eine Antriebseinheit aufweist, die dazu eingerichtet ist, eine Bewegung des Borstenträgers anzutreiben. Der Borstenträger kann dabei vorteilhaft insbesondere rotatorisch beweglich gelagert sein. Die Antriebseinheit kann dabei insbesondere dazu eingerichtet sein, eine rota- torische Bewegung und/oder eine rotatorisch oszillierende Bewegung des Borsten- trägers anzutreiben. Die Antriebseinheit kann insbesondere eine elektrische An- triebseinheit sein.

Eine solche Weiterbildung der Erfindung bietet den Vorteil, dass die Effektivität der mechanischen Behandlung der zu behandelnden Oberfläche verbessert und die Handhabung des Plasma-Behandlungsgeräts während der Behandlung vereinfacht werden kann.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Elektrodenanordnung eine Mehrzahl von Elektroden umfasst und mindestens eine elektrisch leitende Verteilerscheibe aufweist. Die Verteilerscheibe ist dabei mit der Hochspannungszuleitung und mehreren Elektroden verbunden und dazu eingerich- tet, das Hochspannungssignal an die mit der Verteilerscheibe verbundenen Elektro- den zu verteilen.

Eine solche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit einer Verteilerscheibe bietet den Vorteil einer verlustarmen und zugleich kon- struktiv einfach zu realisierenden Verteilung des Hochspannungssignals an die Mehr- zahl von Elektroden der Elektrodenanordnung.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Leitungsanordnung eine Mehrzahl von Hochspannungszuleitungen umfasst, an die unterschiedliche Hochspannungssignale angelegt werden können, und dass die Elektrodenanordnung eine Mehrzahl von Elektroden umfasst, die eine Mehrzahl elektrisch voneinander isolierter Elektrodengruppen bilden. Die verschiedenen Elekt- rodengruppen sind dabei mit verschiedenen Hochspannungszuleitungen verbunden und können mit unterschiedlichen Hochspannungssignalen beaufschlagt werden.

Es wird somit vorgeschlagen, dass die Elektrodenanordnung eine Mehrzahl von Elektrodengruppen aufweist, die mit unterschiedlichen Hochspannungssignalen be- aufschlagt werden können. Im einfachsten Fall kann die Elektrodenanordnung dabei zwei elektrisch voneinander isolierte Elektroden aufweisen, die jeweils eine aus le- diglich einer Elektrode bestehende Elektrodengruppe bilden. Vorteilhaft können die verschiedenen Elektrodengruppen dabei mit unterschiedlichen Hochspannungssignalen beaufschlagt werden, die zueinander gegenpolig sind. Die unterschiedlichen Hochspannungssignale können dabei insbesondere gegenpolig und betragsmäßig von gleicher Größe sein. Vorteilhaft können die Hochspannungs- signale insbesondere als Wechselhochspannungssignale ausgebildet sein und die verschiedenen Elektrodengruppen mit gegenphasigen Wechselhochspannungssig- nalen beaufschlagt werden. Die gegenphasigen Wechselhochspannungssignale kön- nen dabei insbesondere einen im Wesentlichen gleichen Scheitelwert aufweisen.

Eine solche Ausführungsform bietet den Vorteil, dass sich die entstehenden elektri- schen Felder in ihrem Überlappungsbereich destruktiv überlagern und sich in einiger Entfernung zu den Elektroden gegenseitig auslöschen, sodass das für die Plasmabil- dung erforderliche elektrische Feld auf den für die Plasmabehandlung relevanten Nahbereich beschränkt bleibt. Des Weiteren bietet dies den Vorteil, dass uner- wünschte Feldspitzen, die aus einer konstruktiven Überlagerung der von den ver- schiedenen Elektrodengruppen erzeugten elektrischen Felder in deren Überlap- pungsbereich resultieren könnten, vermieden werden können.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Elektrodenanordnung eine Mehrzahl elektrisch voneinander isolierter Verteilerschei- ben aufweist, wobei die Elektroden der verschiedenen Elektrodengruppen mit ver- schiedenen Verteilerscheiben verbunden sind und die verschiedenen Verteilerschei- ben mit verschiedenen Hochspannungszuleitungen verbunden sind.

Es ist somit vorgesehen, dass die Elektrodenanordnung eine Mehrzahl elektrisch lei- tender und elektrisch voneinander isolierter Verteilerscheiben aufweist, wobei jede Verteilerscheibe mit mehreren Elektroden und mit einer der Hochspannungszuleitun- gen verbunden ist und dazu eingerichtet ist, das Hochspannungssignal an die mit der Verteilerscheibe verbundenen Elektroden zu verteilen und wobei die Elektroden der verschiedenen Elektrodengruppen mit verschiedenen Verteilerscheiben verbunden sind und die verschiedenen Verteilerscheiben mit verschiedenen Hochspannungszu- leitungen verbunden sind. Eine solche Weiterbildung des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit einer Mehrzahl elektrisch voneinander isolierter Verteilerscheiben bietet den Vorteil, dass sie eine verlustarme und zugleich einfach zu realisierende Verteilung unter- schiedlicher Hochspannungssignale an verschiedene Elektrodengruppen ermöglicht.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die verschiedenen Verteilerscheiben der Mehrzahl elektrisch voneinander isolierter Ver- teilerscheiben in derselben Ebene angeordnet sind.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass min- destens eine der Verteilerscheiben im Querschnitt von einer anderen Verteiler- scheibe umgeben wird. Dies bietet den Vorteil einer einfachen konstruktiven Reali- sierung einer Mehrzahl von Verteilerscheiben, die sich auch für eine Ausführungs- form des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit einem rotatorisch be- weglich gelagerten und angetriebenen Borstenträger eignet.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass eine Verteilerscheibe mit kreisförmigem Querschnitt von mindestens einer anderen Vertei- lerscheibe mit kreisringförmigem Querschnitt umgeben wird. Alternativ oder ergän- zend hierzu können mehrere Verteilerscheiben mit kreisringförmigem Querschnitt und unterschiedlichem Durchmesser konzentrisch angeordnet sein.

Die verschiedenen Verteilerscheiben können auch in verschiedenen Ebenen ange- ordnet sein. Die verschiedenen Verteilerscheiben können dabei insbesondere von der Anlagefläche aus betrachtet hintereinander angeordnet sein.

Des Weiteren kann mindestens eine Verteilerscheibe mindestens ein Durchgangs- loch aufweisen, durch das sich mindestens eine mit einer anderen Verteilerscheibe verbundene Elektrode hindurch erstreckt. Dies bietet den Vorteil einer einfachen kon- struktiven Realisierung einer Mehrzahl von Verteilerscheiben, die in der zuvor be- schriebenen Art in verschiedenen Ebenen angeordnet sind.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass das Plasma-Behandlungsgerät ein Griffteil aufweist und zumindest ein den Borstenträger und das Borstenfeld umfassender abnehmbarer Teil des Bürstenkopfes mittels einer mechanischen Verbindungsanordnung lösbar und auswechselbar mit dem Griffteil verbunden ist.

Denkbar ist dabei auch, dass der gesamte Bürstenkopf als abnehmbarer Bürstenkopf ausgebildet ist, der mittels einer mechanischen Verbindungsanordnung lösbar und auswechselbar mit dem Griffteil verbunden ist.

Eine solche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit einem abnehmbaren Bürstenkopf oder zumindest einem abnehmbaren Teil des Bürstenkopfes, der den Borstenträger und das Borstenfeld umfasst, bietet den Vor- teil, dass der den Borstenträger und das Borstenfeld umfassende Teil des Bürsten- kopfes nach der Behandlung von dem Plasma-Behandlungsgerät entfernt und durch ein unbenutztes Exemplar ersetzt werden kann. Der den Borstenträger und das Borstenfeld umfassende Teil des Bürstenkopfes kann auf diese Weise vorteilhaft als Einmalartikel ausgebildet werden. Darüber hinaus bietet diese Ausführungsform den Vorteil, dass die nach der Behandlung erforderliche Reinigung des den Borstenträger und das Borstenfeld umfassenden Teils des Bürstenkopfes erheblich vereinfacht wird. Auf diese Weise kann die Einhaltung hoher Hygienestandards sichergestellt werden.

In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass der abnehmbare Teil des Bürstenkopfes einen Teil der Elektrodenanordnung oder die gesamte Elektrodenanordnung umfasst. Das Griffteil weist dabei eine Kontaktanord- nung auf und der abnehmbare Teil des Bürstenkopfes weist einen mit der Elektro- denanordnung verbundenen Anschluss auf, der die Kontaktanordnung des Griffteils bei der mittels der mechanischen Verbindungsanordnung erfolgenden Verbindung des abnehmbaren Teils des Bürstenkopfes mit dem Griffteil kontaktiert.

Eine solche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts bietet beispielsweise den Vorteil, dass sich ein abnehmbarer Bürstenkopf oder ein abnehmbarer Teil des Bürstenkopfes mit den zuvor erläuterten zugehörigen Vorteilen auch dann realisieren lässt, wenn die Elektrodenanordnung zumindest teilweise in den Borstenträger eingebettet ist. In einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Plasma-Be- handlungsgeräts ist vorgesehen, dass das Griffteil alle zur Generierung des Hoch- spannungssignals erforderlichen Stufen enthält.

Dies bietet zum einen den Vorteil, dass außerhalb des Geräts keine Hochspannung geführt werden muss, sodass die erforderliche Gerätesicherheit wesentlich einfacher zu gewährleisten ist. Zum anderen bietet dies den Vorteil, dass die vergleichsweise aufwendigen und daher teuren Komponenten zur Generierung des Hochspannungs- Signals in dem Plasma-Behandlungsgerät verbleiben und nicht ausgewechselt wer- den müssen, wenn der abnehmbare Teil des Bürstenkopfes oder der gesamte Bürs- tenkopf ausgewechselt wird. Hierdurch lässt sich der den Borstenträger und das Borstenfeld umfassende Teil des Bürstenkopfes oder der gesamte Bürstenkopf kos- tengünstig hersteilen und sogar als Einwegartikel realisieren.

Die eingangs genannte Aufgabe wird des Weiteren erfindungsgemäß gelöst durch einen Bürstenkopf eines Plasma-Behandlungsgeräts der zuvor beschriebenen Art.

Die eingangs genannte Aufgabe wird des Weiteren gelöst durch einen abnehmbaren Teil eines Bürstenkopfes eines Plasma-Behandlungsgeräts der zuvor beschriebenen Art.

Die Erfindung soll im Folgenden anhand der in den beigefügten Zeichnungen sche- matisch dargestellten Ausführungsbeispiele näher erläutert werden. Es zeigen:

Figur 1 a) eine Ansicht auf eine Oberseite einer ersten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts;

Figur 1 b) einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 1 a);

Figur 1 c) eine Ansicht auf eine Anlageseite der ersten Ausführungsform des

Plasma-Behandlungsgeräts;

Figur 2a) eine Ansicht auf eine Oberseite der ersten Ausführungsform des

Plasma-Behandlungsgeräts mit abgenommenen Bürstenkopf;

Figur 2b) einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 2a);

Figur 2c) eine Ansicht auf die Anlageseite der ersten Ausführungsform des

Plasma-Behandlungsgeräts;

Figur 3a) eine Ansicht auf eine Oberseite einer zweiten Ausführungsform ei- nes erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts;

Figur 3b) einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 3a);

Figur 3c) einen Querschnitt entlang der Linie D-D in Figur 3b);

Figur 4a) eine Ansicht auf eine Oberseite der zweiten Ausführungsform des

Plasma-Behandlungsgeräts mit abgenommenen Bürstenkopf;

Figur 4b) einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 4a);

Figur 4c) einen Querschnitt entlang der Linie D-D in Figur 4b);

Figur 5a) eine Ansicht auf eine Oberseite einer dritten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts;

Figur 5b) einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 5a);

Figur 5c) einen Querschnitt entlang der Linie E-E in Figur 5b);

Figur 5d) einen Querschnitt entlang der Linie F-F in Figur 5b);

Figur 6a) eine Ansicht auf eine Oberseite der dritten Ausführungsform des

Plasma-Behandlungsgeräts mit abgenommenen Bürstenkopf;

Figur 6b) einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 6a);

Figur 6c) einen Querschnitt entlang der Linie E-E in Figur 6b);

Figur 6d) einen Querschnitt entlang der Linie F-F in Figur 6b);

Figur 7a) eine Ansicht auf eine Oberseite einer vierten Ausführungsform ei- nes erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit abgenom- menen Bürstenkopf; Figur 7b) - einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 7a);

Figur 7c) eine Ansicht auf eine Anlageseite der vierten Ausführungsform des

Plasma-Behandlungsgeräts;

Figur 8a) eine Ansicht auf eine Oberseite einer fünften Ausführungsform ei- nes erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit abgenom- menen Bürstenkopf;

Figur 8b) - einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 8a);

Figur 8c) einen Querschnitt entlang der Linie C-C in Figur 8b);

Figur 9a) - eine Ansicht auf eine Oberseite einer sechsten Ausführungsform ei- nes erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts;

Figur 9b) - einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 9a);

Figur 9c) einen Querschnitt entlang der Linie E-E in Figur 9b);

Figur 9d) - einen Querschnitt entlang der Linie F-F in Figur 9b);

Figur 10a) - eine Ansicht auf eine Oberseite einer siebten Ausführungsform ei- nes erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts mit abgenom- menen Bürstenkopf;

Figur 10b) - einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 10a);

Figur 10c) - einen Querschnitt entlang der Linie E-E in Figur 10b);

Figur 10d) - einen Querschnitt entlang der Linie F-F in Figur 10b);

Figur 11 a) - eine perspektivische Ansicht von Komponenten der siebten Ausfüh- rungsform des Plasma-Behandlungsgeräts mit zwei Elektroden- gruppen, die mit gegenphasigen Wechselhochspannungssignalen beaufschlagt werden;

Figur 11 b) - einen Längsschnitt der in der Figur 11a) dargestellten Komponen- ten;

Figur 12a) - eine perspektivische Ansicht von Komponenten einer achten Aus- führungsform eines erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsge- räts mit zwei Elektrodengruppen, die mit gegenphasigen Wechsel- hochspannungssignalen beaufschlagt werden;

Figur 12b) - einen Längsschnitt der in Figur 12a) dargestellten Komponenten.

In den Figuren werden gleiche Bezugszeichen für einander entsprechende Elemente verwendet. Das in Figur 1 a) gezeigte Ausführungsbeispiel zeigt eine Ansicht auf eine Ober- seite 51 einer ersten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Plasma-Behand- lungsgeräts 1 , das zur Behandlung einer Oberfläche mit einem dielektrisch behinder- ten Plasma ausgebildet ist. Weitere Einzelheiten des Aufbaus dieser ersten Ausfüh- rungsform können dem in Figur 1 b) dargestellten Längsschnitt und der in Figur 1 c) dargestellten Ansicht auf eine Anlageseite 57 des Plasma-Behandlungsgeräts 1 ent- nommen werden.

In den Figuren 1 a) und 1 b) ist zu erkennen, dass das Plasma-Behandlungsgerät ne- ben der Oberseite 51 und der Anlageseite 57 eine Unterseite 53 und eine Rückseite 55 aufweist. Des Weiteren ist zu erkennen, dass das Plasma-Behandlungsgerät in dieser ersten Ausführungsform eine Elektrodenanordnung mit einer einzigen Elekt rode 3 aufweist, die von einem Dielektrikum 7 zu der zu behandelnden Oberfläche hin vollständig abgedeckt wird. Das Dielektrikum 7 deckt die Elektrode 3 somit insbe- sondere zu der Anlageseite 57 hin vollständig ab. Das Plasma-Behandlungsgerät weist des Weiteren ein Gehäuse 9 auf, das eine Leitungsanordnung mit einer Hoch- spannungszuleitung 10 enthält. Die Elektrode 3 ist mit der Leitungsanordnung ver- bunden und kann über die Hochspannungszuleitung 10 mit einem an die Hochspan- nungszuleitung 10 anlegbaren Hochspannungssignal beaufschlagt werden.

Des Weiteren ist erkennbar, dass das Plasma-Behandlungsgerät 1 einen Bürsten- kopf 15 hat. Der Bürstenkopf 15 weist ein Borstenfeld 17 mit einer Vielzahl flexibler Borsten 23 und mit Zwischenräumen 25 zwischen den Borsten 23 auf. Die Bors- ten 23 sind dabei in Borstenbündeln 24 angeordnet, die jeweils eine Mehrzahl von Borsten 23 umfassen. Das Borstenfeld 17 weist somit eine Vielzahl von aus Bors- ten 23 gebildeten Borstenbündeln 24 auf. Der Bürstenkopf 15 weist des Weiteren ei- nen Borstenträger 19 auf, der eine Basisfläche 21 hat, von der die Borsten 23 des Borstenfelds 17 in Richtung einer Anlagefläche 27 abragen. Die Anlagefläche 27 wird dabei durch die von der Basisfläche 21 abgewandten Enden der längsten Borsten 23 des Borstenfelds 17 definiert. Der Borstenträger 19 weist außerdem Verankerungs- bereiche 49 auf, in denen die Borsten 23 verankert sind. Dabei ist in dem gezeigten Ausführungsbeispiel in jedem Verankerungsbereich 49 jeweils ein Borstenbündel 24 verankert. Die Figur 1 b) lässt des Weiteren erkennen, dass das Borstenfeld 17 eine durch den Abstand zwischen Basisfläche 21 und Anlagefläche 27 definierte erste Länge d1 auf- weist und die Elektrode 3 sich ausgehend von der Basisfläche 21 mit einer zweiten Länge d2 in Richtung der Anlagefläche 27 in das Borstenfeld 17 hinein erstreckt. Die zweite Länge d2 ist dabei kleiner als die erste Länge d1 und beträgt in dieser ersten Ausführungsform näherungsweise 50 % der ersten Länge d1.

Das Borstenfeld 17 weist eine Vielzahl kleinerer Zwischenräume 25 zwischen den Borsten 23 auf. Wie insbesondere in Figur 1 c) deutlich wird, weist das Borstenfeld 17 darüber hinaus in dieser ersten Ausführungsform einen größeren, im Querschnitt kreisförmigen Zwischenraum 25 auf, der von den Borsten 23 des Borstenfelds 17 umgeben wird und in den sich die Elektrode 3 hinein erstreckt. Die Borsten 23 des Borstenfelds 17 bilden dabei einen Borstenkranz aus, der die Elektrode 3 umgibt. In dem gezeigten Ausführungsbeispiel wird die Elektrode 3 dabei im Querschnitt allsei tig von dem aus den Borsten 23 des Borstenfelds 17 gebildeten Borstenkranz umge- ben.

Die sich in das Borstenfeld 17 hinein erstreckende Elektrode 3 ist in der in Figur 1 gezeigten ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsge- räts als massive, zylindrische Elektrode ausgebildet, die von einem topfförmigen Die- lektrikum 7 umschlossen wird. Die Elektrode 3 weist eine der Anlagefläche 27 zuge- wandte flächige Stirnseite 35 auf, die von einer flächigen und im Querschnitt kreisför- migen Stirnwand 37 des Dielektrikums 7 zu der Anlagefläche 27 hin abgedeckt wird. Die flächige Stirnwand 37 des Dielektrikums 7 deckt die flächige Stirnseite 35 der Elektrode 3 somit zu der Anlageseite 57 hin ab. Die flächige Stirnwand 37 des Die- lektrikums 7 weist auf ihrer der Anlagefläche 27 zugewandten Seite insgesamt fünf Abstandshalter 47 auf, deren Anordnung in Figur 1 c) zu erkennen ist. Die Abstands- halter 47 sind aus dem Dielektrikum 7 gebildet und einstückig mit der flächigen Stirn- wand 37 des Dielektrikums 7 ausgebildet.

Die Elektrodenanordnung des Plasma-Behandlungsgeräts 1 ist in dem in der Figur 1 gezeigten Ausführungsbeispiel ebenso wie in allen in den folgenden Figuren gezeig- ten Ausführungsbeispielen dazu eingerichtet, dass als Gegenelektrode die zu behan- delnde Oberfläche verwendet wird. Der in der Figur 1 b) dargestellte Längsschnitt lässt des Weiteren erkennen, dass das Plasma-Behandlungsgerät 1 in dieser ersten Ausführungsform eine Batterie 61 auf- weist, welche die benötigte Versorgungsspannung zur Verfügung stellt und als wie- deraufladbare Batterie (Akkumulator) ausgebildet ist. Die Batterie 61 ist dabei im In- nenraum 67 des Gehäuses 9 angeordnet, d.h. das Gehäuse 9 enthält die Batte- rie 61. Außerdem wird erkennbar, dass das Plasma-Behandlungsgerät 1 eine in dem Gehäuse 9 angeordnete Hochspannungsstufe 65 aufweist, die ausgangsseitig mit der Hochspannungszuleitung 10 der Leitungsanordnung verbunden ist. Darüber hin- aus enthält das Gehäuse 9 eine elektronische Steuerung 63 und eine Zwischen- stufe 64, mittels derer aus einer von der Batterie 61 gelieferten Gleichspannung ein Wechselspannungssignal generiert wird, das mittels der Hochspannungsstufe 65 in ein als Wechselhochspannungssignal ausgebildetes Hochspannungssignal übersetzt wird.

Die elektronische Steuerung 63 steuert zu diesem Zweck die Zwischenstufe 64, mit der in an sich bekannter Weise aus der Gleichspannung der Batterie 61 eine Wech- selspannung mit einer erhöhten Scheitelspannung erzeugt wird, die bspw. zwischen 50 V und 500 V liegen kann. Die Zwischenstufe 64 speist über ihren Ausgang die Hochspannungsstufe 65, in der bspw. Hochspannungsimpulse von 13 kV bis 15 kV erzeugt werden.

Die Elektrode 3 kann auf diese Weise über die Hochspannungszuleitung 10 mit dem Wechselhochspannungssignal beaufschlagt werden. Das Plasma-Behandlungsge- rät 1 ist in diesem Ausführungsbeispiel somit dazu ausgebildet, die für die Plasmaer- zeugung benötigte Hochspannung selbst zu generieren.

Die Figur 1 c) lässt erkennen, dass der Borstenträger 19 dieser ersten Ausführungs- form des Plasma-Behandlungsgeräts 1 einen ringförmigen Querschnitt hat. Die in Borstenbündeln 24 gebündelten Borsten 23 sind über den Querschnitt des Borsten- trägers 19 verteilt angeordnet und bilden einen Borstenkranz, der die im Querschnitt kreisförmige und von dem Dielektrikum 7 abgedeckte Elektrode 3 umgibt. Der Borstenträger 19 ist in dieser ersten Ausführungsform des Plasma-Behandlungs- geräts 1 des Weiteren rotatorisch bewegbar ausgebildet. Der Borstenträger 19 ist zu diesem Zweck rotatorisch beweglich gelagert und weist eine elektrische Antriebsein- heit (in Figur 1 nicht gezeigt) auf, die dazu eingerichtet ist, eine rotatorisch oszillie- rende Bewegung des Borstenträgers anzutreiben. Im Innenraum 67 des Gehäuses 9 ist hierzu eine Steuerleitung 59 angeordnet, welche zur Ansteuerung der elektrischen Antriebseinheit dient.

Die Figur 2a) zeigt eine Ansicht auf eine Oberseite der ersten Ausführungsform des Plasma-Behandlungsgeräts 1 mit abgenommenem Bürstenkopf 15. Die Figur 2b) zeigt hierzu einen Längsschnitt entlang der Linie A-A in Figur 2a) und die Figur 2c) zeigt eine Ansicht auf die Anlageseite Seite 57 des Plasma-Behandlungsgeräts 1.

Dabei wird noch einmal deutlich, dass sich in dieser Ausführungsform die Elekt rode 3, wenn der Bürstenkopf 15 nicht abgenommen ist, in einen im Querschnitt kreisförmigen Zwischenraum 25 des Borstenfeldes 17 erstreckt, der von den Bors- ten 23 umgeben wird. Des Weiteren wird in der Darstellung der Figuren 2a) und 2b) erkennbar, das der Borstenträger 19 in dieser ersten Ausführungsform eine Durch- gangsöffnung 29 aufweist, durch die sich die zylindrische Elektrode 3 hindurch er- streckt, wenn der Bürstenkopf 15 nicht abgenommen ist.

Darüber hinaus zeigen die Figuren 2a) und 2b), dass das Plasma-Behandlungsge- rät 1 ein Griffteil 43 aufweist und das der den Borstenträger 19 und das Borsten- feld 17 umfassende Bürstenkopf 15 mittels einer mechanischen Verbindungsanord- nung lösbar und auswechselbar mit dem Griffteil 43 verbunden ist. Der zumindest den Borstenträger 19 und das Borstenfeld 17 umfassende abnehmbare Teil 45 des Bürstenkopfs 15 wird in diesem Ausführungsbeispiel somit durch den gesamten Bürstenkopf 15 gebildet. Die mechanische Verbindung zwischen dem abnehmbaren Teil 45 des Bürstenkopfes 15 und dem Griffteil 43 ist dabei vorzugsweise als

Schnappverbindung ausgebildet, kann aber auch als Schraubverbindung, Bajonett- verbindung oder sonstige mechanische Verbindung ausgebildet sein. Die Elektrode 3 ist in der in den Figuren 2a) und 2b) gezeigten ersten Ausführungs- form fest mit dem Griffteil 43 des Plasma-Behandlungsgeräts 1 verbunden und ver- bleibt an dem Griffteil 43, wenn der abnehmbare Teil 45 des Bürstenkopfes 15 von dem Griffteil 43 abgenommen wird. Durch die Durchgangsöffnung 29 des Borstenträ- gers 19 kann sich die fest mit dem Griffteil 43 verbundene Elektrode 3 in das Bors- tenfeld 17 hinein erstrecken, nachdem der abnehmbare Teil 45 des Bürstenkop- fes 15 wieder mit dem Griffteil 43 verbunden wurde.

Das Griffteil des Plasma-Behandlungsgeräts enthält dabei, wie die Figur 2b) erken- nen lässt, alle zur Generierung des Flochspannungssignals erforderlichen Stufen. In diesem Ausführungsbeispiel sind dies die elektronische Steuerung 63, die Zwischen- stufe 64 und die Flochspannungsstufe 65.

Die Figur 3a) zeigt eine Ansicht auf eine Oberseite einer zweiten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts 1. Weitere Einzelheiten des Aufbaus dieser zweiten Ausführungsform können dem in Figur 3b) dargestellten Längsschnitt und dem in Figur 3c) dargestellten Querschnitt des Plasma-Behand- lungsgeräts 1 entnommen werden.

Zu erkennen ist dabei, dass die Elektrodenanordnung 5 in dieser zweiten Ausfüh- rungsform abweichend von der zuvor erläuterten ersten Ausführungsform eine Mehr- zahl von Elektroden 3 aufweist. Die Elektroden 3 sind dabei als fingerförmige Elektro- den ausgebildet, die von einer Dielektrikumsschicht 33 umgeben sind und sich von der Basisfläche 21 des Borstenträgers 19 in das Borstenfeld 17 hinein erstrecken. Dabei bilden jeweils eine fingerförmige Elektrode 3 und eine zugehörige, die finger- förmige Elektrode 3 umgebende Dielektrikumsschicht 33 einen Elektrodenfinger 31.

In dieser zweiten Ausführungsform weist das Plasma-Behandlungsgerät demnach eine Mehrzahl von Elektrodenfingern 31 auf, die von der Basisfläche 21 des Borsten- trägers 19 in Richtung der Anlagefläche 27 abragen. Die Elektrodenfinger 31 erstre- cken sich dabei in die Zwischenräume 25 des Borstenfelds 17 hinein. Die fingerförmi- gen Elektroden 3 sind in diesem Ausführungsbeispiel ebenso wie die sie umgebende Dielektrikumsschicht 33 flexibel ausgebildet. Hierzu ist die Dielektrikumsschicht 33 aus einem Silikonkautschuk gefertigt. Die fingerförmigen Elektroden 3 der Elektro- denanordnung 5 bestehen aus einem gießfähigen, mit leitfähigen Zusätzen verse- henden Kunststoff, nämlich aus Silikon, das mit leitfähigen Partikeln versehen ist.

Des Weiteren lässt der in Figur 3b) dargestellte Längsschnitt erkennen, dass das Borstenfeld 17 in Übereinstimmung mit der zuvor erläuterten ersten Ausführungsform eine durch den Abstand zwischen Basisfläche 21 und Anlagefläche 27 definierte erste Länge d1 aufweist und die Elektrode 3 sich ausgehend von der Basisfläche 21 mit einer zweiten Länge d2 in Richtung der Anlagefläche 27 in das Borstenfeld 17 hinein erstreckt. Die zweite Länge d2 ist dabei kleiner als die erste Länge d1 und be- trägt in dieser zweiten Ausführungsform näherungsweise 75 % der ersten Länge d1 .

Darüber hinaus lässt die Figur 3b) erkennen, dass die Elektrodenanordnung 5 neben der Mehrzahl von Elektroden 3 eine elektrisch leitende Verteilerscheibe 41 aufweist, die mit der Hochspannungszuleitung 10 und sämtlichen Elektroden 3 verbunden ist. Die Verteilerscheibe 41 ist dazu eingerichtet, das an die Hochspannungszuleitung 10 anlegbare Hochspannungssignal an die mit der Verteilerscheibe 41 verbundenen Elektroden 3 zu verteilen.

Des Weiteren lässt die Figur 3b) erkennen, dass die Elektrodenanordnung 5 teil- weise, nämlich mit einem Teil der fingerförmigen Elektroden 3 und mit der Verteiler- scheibe 41 , in den Borstenträger 19 eingebettet ist, wobei die Elektroden 3 der Elekt- rodenanordnung 5 in Richtung der Anlagefläche 27 aus dem Borstenträger 19 her- ausragen. Der Borstenträger 19 ist in diesem Ausführungsbeispiel aus dem Dielektri kum 7 gebildet.

Des Weiteren wird aus den Figuren 3a) und 3b) ersichtlich, dass in der dort gezeig- ten zweiten Ausführungsform die Borsten 23 des Borstenfeldes 17 auf der der Anla- gefläche 27 zugewandten Seite des Borstenfelds 17, d.h. auf der Anlageseite 57 des Plasma-Behandlungsgeräts, die sich in das Borstenfeld 17 hinein erstreckenden Elektrodenfinger 31 überragen. Die Borsten 23 überragen somit auf der der Anlage- fläche 27 zugewandten Seite des Borstenfelds 17 die sich in das Borstenfeld 17 hin ein erstreckenden Elektroden 3 und das die Elektroden 3 abdeckende Dielektri- kum 7. Aus der Darstellung der Figur 3c) wird ersichtlich, dass der Borstenträger 19 in dieser zweiten Ausführungsform einen kreisförmigen Querschnitt hat. Darüber hinaus lässt die Figur 3c) erkennen, das die Elektrodenfinger 31 , d.h. die fingerförmigen Elektro- den 3 und die sie umgebenden Dielektrikumsschichten 33, über die Basisfläche 21 des Borstenträgers 19 verteilt angeordnet sind. Dabei ist eine Elektrode 3 mittig auf der Basisfläche 21 des Borstenträgers 19 angeordnet. Außerdem ist eine Mehrzahl von Elektroden 3 auf konzentrischen Kreisen um einen Mittelpunkt des kreisförmigen Querschnitts des Borstenträgers 19 angeordnet.

Die Figuren 4a), 4b) und 4c) zeigen eine Ansicht auf eine Oberseite 51 , einen Längs- schnitt bzw. einen Querschnitt der zweiten Ausführungsform des Plasma-Behand- lungsgeräts mit abgenommenem Bürstenkopf 15. In diesen Darstellungen wird er- kennbar, dass die hier gezeigte zweite Ausführungsform in Übereinstimmung mit der zuvor erörterten ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma- Behand- lungsgeräts 1 einen Bürstenkopf 15 aufweist, der mittels einer mechanischen Verbin- dungsanordnung lösbar und auswechselbar mit einem Griffteil 43 verbunden ist. Ab- weichend von der zuvor erläuternden ersten Ausführungsform ist bei der hier gezeig- ten zweiten Ausführungsform, wie aus der in Figur 4b) gezeigten Längsschnitt deut- lich wird, vorgesehen, das der abnehmbare Teil 45 des Bürstenkopfes 15 zumindest einen Teil der Elektrodenanordnung 5, in dem hier gezeigten Ausführungsbeispiel nämlich sogar die gesamte Elektrodenanordnung, umfasst.

Um eine elektrische Kontaktierung des abnehmbaren Teils 45 des Bürstenkopfes 15, der in diesem Fall durch den gesamten Bürstenkopf 15 gebildet wird, mit dem Griff teil 43 zu ermöglichen, weist der abnehmbare Teil 45 des Bürstenkopfes 15 einen mit der Elektrodenanordnung 5 verbundenen Anschluss 73 auf, der in diesem Ausfüh- rungsbeispiel als Anschlussstift ausgebildet ist, und das Griffteil 43 weist eine Kon- taktanordnung 71 auf, die in diesem Ausführungsbeispiel als Anschlussbuchse aus- gebildet ist. Die Kontaktanordnung 71 und der Anschluss 73 sind dabei so ausgebil- det, dass im montierten Zustand des abnehmbaren Teils 45 des Bürstenkopfes 15, d.h. bei der mittels der mechanischen Verbindungsanordnung erfolgenden Verbin- dung des abnehmbaren Teils 45 des Bürstenkopfes 15 mit dem Griffteil 43, der An- schluss 73 die Kontaktanordnung 71 elektrisch kontaktiert. Im Übrigen kann bezüglich der in den Figuren 3 und 4 gezeigten zweiten Ausfüh- rungsform wegen der Gemeinsamkeiten der ersten und zweiten Ausführungsform auf die obigen Ausführungen zu der in den Figuren 1 und 2 gezeigten ersten Ausfüh- rungsform verwiesen werden.

Die Figur 5a) zeigt eine Ansicht auf eine Oberseite 51 einer dritten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts 1. Weitere Einzelheiten des Aufbaus dieser dritten Ausführungsform können dem in Figur 5b) dargestellten Längsschnitt sowie den in den Figuren 5c) und 5d) gezeigten Querschnitten entnom- men werden.

Die hier gezeigte dritte Ausführungsform ähnelt der zuvor erläuterten zweiten Aus- führungsform des Plasma-Behandlungsgeräts 1. Im Unterschied hierzu umfasst die Leitungsanordnung 11 der hier gezeigten dritten Ausführungsform, wie aus der Fi- gur 5b) ersichtlich wird, allerdings eine Mehrzahl von Hochspannungszuleitungen 10, nämlich eine erste Hochspannungszuleitung 10a und eine zweite Hochspannungszu- leitungen 10b, an die unterschiedliche Hochspannungssignale angelegt werden kön- nen. Darüber hinaus umfasst die Elektrodenanordnung 5 in dieser dritten Ausfüh- rungsform eine Mehrzahl von Elektroden 3, die eine Mehrzahl elektrisch voneinander isolierter Elektrodengruppen bilden. Im hier gezeigten Ausführungsbeispiel sind dies die zwei elektrisch voneinander isolierten Elektrodengruppen 39a, 39b.

In Übereinstimmung mit der in den Figuren 3 und 4 gezeigten zweiten Ausführungs- form sind die Elektroden 3 dabei, wie die Figur 5d) erkennen lässt, derart angeord- net, dass eine Elektrode 3 mittig auf der Basisfläche 21 des Borstenträgers 19 ange- ordnet ist und die übrigen Elektroden 3 in drei konzentrischen Kreisen, nämlich ei- nem inneren Kreis, einem mittleren Kreis und einem äußeren Kreis, um einen Mittel- punkt des kreisförmigen Querschnitts des Borstenträgers 19 angeordnet sind. Aus der Figur 5b) wird dabei in Verbindung mit der Figur 5d) ersichtlich, dass in dieser dritten Ausführungsform die mittig angeordnete Elektrode 3 und die auf dem inneren Kreis angeordneten Elektroden 3 eine erste Elektrodengruppe 39a bilden und dass die auf dem mittleren Kreis und dem äußeren Kreis angeordneten Elektroden 3 eine zweite Elektrodengruppe 39b bilden. Die beiden Elektrodengruppen 39a, 39b sind dabei elektrisch voneinander isoliert.

Des Weiteren wird aus der Figur 5b) ersichtlich, dass die verschieden Elektroden- gruppen 39a, 39b mit verschieden Hochspannungszuleitungen 10a, 10b verbunden sind. In dem hier gezeigten Ausführungsbeispiel ist die erste Elektrodengruppe 39a mit der ersten Hochspannungszuleitung 10a verbunden und die zweite Elektroden- gruppe 39b ist mit der zweiten Hochspannungszuleitung 10b verbunden. Die ver- schiedenen Elektrodengruppen 39a, 39b können auf diese Weise mit unterschiedli- chen Hochspannungssignalen beaufschlagt werden.

Darüber hinaus zeigt der in der Figur 5c) dargestellte Querschnitt, das die Elektro- denanordnung 5 in dieser dritten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma- Behandlungsgeräts 1 eine Mehrzahl elektrisch voneinander isolierter Verteilerschei- ben 41 , nämlich zwei Verteilerscheiben 41 a, 41 b, aufweist. Die verschiedenen Ver- teilerscheiben 41 a, 41 b sind dabei in derselben Ebene angeordnet. Die erste Vertei- lerscheibe 41 a hat einen kreisförmigen Querschnitt und die zweite Verteilerscheibe 41 b hat einen kreisringförmigen Querschnitt, wobei die erste Verteilerscheibe 41 a im Querschnitt von der zweiten Verteilerscheibe 41 b umgeben wird. Die erste Verteiler- scheibe 41 a und die zweite Verteilerscheibe 41 b sind durch eine Isolierschicht 42 elektrisch voneinander isoliert.

Der in der Figur 5b) dargestellte Längsschnitt lässt erkennen, dass die Elektroden 3 der verschiedenen Elektrodengruppen 39a, 39b mit verschiedenen Verteilerscheiben 41 a, 41 b verbunden sind und die verschiedenen Verteilerscheiben 41 a, 41 b mit ver- schiedenen Hochspannungszuleitungen 10a, 10b verbunden sind. In diesem Ausfüh- rungsbeispiel sind die Elektroden 3 der ersten Elektrodengruppe 39a mit der ersten Verteilerscheibe 41 a verbunden und die Elektroden 3 der zweiten Elektroden- gruppe 39b sind mit der zweiten Verteilerscheibe 41 b verbunden. Die erste Verteiler- scheibe 41 a ist mit der ersten Hochspannungszuleitung 10a verbunden und die zweite Verteilerscheibe 41 b ist mit der zweiten Hochspannungszuleitung 10b verbun- den. Die Verteilerscheiben 41 a, 41 b sind auf diese Weise dazu eingerichtet, das Hochspannungssignal an die mit der jeweiligen Verteilerscheibe 41 a, 41 b verbunde- nen Elektroden 3 zu verteilen. Die Figur 6a) zeigt eine Ansicht auf eine Oberseite 51 der dritten Ausführungsform des Plasma-Behandlungsgeräts 1 mit abgenommenem Bürstenkopf 15. Einzelheiten des Aufbaus werden aus dem in Figur 6b) dargestellten Längsschnitt und den in den Figuren 6c) und 6d) dargestellten Querschnitten ersichtlich. Die Figuren 6a) und 6b) lassen dabei erkennen, dass auch in der hier gezeigten dritten Ausführungsform das Plasma-Behandlungsgerät 1 ein Griffteil 43 und einen abnehmbaren Teil 45 des Bürstenkopfes 15 aufweist, der mittels einer mechanischen Verbindungsanordnung lösbar und auswechselbar mit dem Griffteil 43 verbunden werden kann. Der abnehm- bare Teil 45 des Bürstenkopfes 15 umfasst dabei in Übereinstimmung mit der zuvor erläuterten zweiten Ausführungsform die gesamte Elektrodenanordnung 5 und weist einen Anschluss auf, der im montierten Zustand eine Kontaktanordnung des Griff teils 43 kontaktiert.

Im Übrigen kann wegen der Gemeinsamkeiten der in den Figuren 5 und 6 gezeigten dritten Ausführungsform mit der ersten und der zweiten Ausführungsform auf die Ausführungen zu den zuvor erläuterten Ausführungsformen verwiesen werden.

Die Figuren 7a), 7b) und 7c) zeigen eine Ansicht auf eine Oberseite 51 , einen Längs- schnitt und eine Ansicht auf eine Anlageseite 57 einer vierten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts 1 mit abgenommenem Bürsten- kopf 15. Die dargestellte vierte Ausführungsform ähnelt der in den Figuren 1 und 2 gezeigten ersten Ausführungsform.

Die Figuren 8a), 8b) und 8c) zeigen eine Ansicht auf eine Oberseite 51 , einen Längs- schnitt und einen Querschnitt einer fünften Ausführungsform eines erfindungsgemä- ßen Plasma-Behandlungsgeräts 1 mit abgenommenem Bürstenkopf 15. Die darge- stellte fünfte Ausführungsform ähnelt der in den Figuren 3 und 4 gezeigten zweiten Ausführungsform.

Die Figuren 9a), 9b), 9c) und 9d) zeigen eine Ansicht auf eine Oberseite 51 , einen Längsschnitt und zwei Querschnitte einer sechsten Ausführungsform eines erfin- dungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts 1. Die dargestellte sechste Ausfüh- rungsform ähnelt der in den Figuren 5 und 6 gezeigten dritten Ausführungsform. Wie die Figuren 7b), 8b) und 9b) erkennen lassen, enthält auch in der dort jeweils gezeigten vierten, fünften bzw. sechsten Ausführungsform das Gehäuse 9 jeweils eine elektronische Steuerung 63, eine Zwischenstufe 64 und eine Hochspannungs- stufe 65, die im Innenraum 67 des Gehäuses 9 angeordnet sind.

Abweichend von den in den Figuren 1 bis 6 dargestellten Ausführungsformen weist das Plasma-Behandlungsgerät 1 in der in den Figuren 7, 8 und 9 dargestellten vier- ten, fünften bzw. sechsten Ausführungsform allerdings keine die Versorgungsspan- nung liefernde Batterie 61 auf, sondern ist dazu eingerichtet, mit einer externen Spannungsquelle 75 verbunden zu werden. Flierzu ist in dem Gehäuse 9 des

Plasma-Behandlungsgeräts 1 jeweils eine Kabeldurchführung 79 vorgesehen, durch die ein Kabel 77 geführt ist, das mit der externen Spannungsquelle 75 verbindbar ist. Die externe Spannungsquelle 75 liefert dabei in den gezeigten Ausführungsbeispie- len als Versorgungsspannung eine Netzspannung in Form einer Niederspannung, nämlich eine Wechselspannung mit einem Nennwert von 230 V und einer Frequenz von 50 Flz. Über das mit der elektronischen Steuerung 63 verbundene Kabel 77 wird die von der Spannungsquelle 75 bereitgestellte Versorgungsspannung der elektroni- schen Steuerung 63 zugeführt. Mittels der elektronischen Steuerung 63, der Zwi- schenstufe 64 und der Flochspannungsstufe 65 wird aus der Netzspannung ein Wechselhochspannungssignal erzeugt. Das auf diese Weise erzeugte Wechselspan- nungssignal kann in Übereinstimmung mit der zuvor erläuterten ersten, zweiten bzw. dritten Ausführungsform über die Flochspannungszuleitungen 10a, 10b, der Elektro- denanordnung 5 zugeführt werden, um die mindestens eine Elektrode 3 mit dem Flochspannungssignal zu beaufschlagen.

Im Übrigen kann bezüglich der in den Figuren 7, 8 und 9 gezeigten vierten, fünften und sechsten Ausführungsform im FHinblick auf die jeweiligen Übereinstimmungen mit der ersten, zweiten und dritten Ausführungsform auf die diesbezüglichen obigen Aus- führungen verwiesen werden.

Die Figur 10a) zeigt eine Ansicht auf eine Oberseite 51 einer siebten Ausführungs- form eines erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgerät 1 mit abgenommenen Bürstenkopf 15. Weitere Einzelheiten des Aufbaus dieser siebten Ausführungsform können den in Figur 10b) dargestellten Längsschnitt und den in den Figuren 10c) und 10d) dargestellten Querschnitten entnommen werden.

Die hier gezeigte siebte Ausführungsform ähnelt der in den Figuren 5 und 6 gezeig- ten dritten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgerät 1. In Übereinstimmung mit der zuvor erläuterten dritten Ausführungsform weist die Lei- tungsanordnung 11 , wie aus der Figur 10b) ersichtlich wird, zwei Hochspannungszu- leitungen auf, nämlich eine erste Hochspannungszuleitung 10a und eine zweite Hochspannungszuleitung 10b, an die unterschiedliche Hochspannungssignale ange- legt werden können. Des Weiteren umfasst die Elektrodenanordnung 5 auch in die ser Ausführungsform eine Mehrzahl von Elektroden 3, die zwei elektrisch voneinan- der isolierte Elektrodengruppen bilden, nämlich eine erste Elektrodengruppe 39a und eine zweite Elektrodengruppe 39b. Dabei sind die verschiedenen Elektrodengruppen 39a, 39b mit verschiedenen Hochspannungszuleitungen 10a, 10b derart verbunden, dass die erste Elektrodengruppe 39a mit der ersten Hochspannungszuleitung 10a und die zweite Elektrodengruppe 39b mit der zweiten Hochspannungszuleitung 10b verbunden ist. Die verschiedenen Elektrodengruppen 39a, 39b können auf diese Weise mit unterschiedlichen Hochspannungssignalen beaufschlagt werden.

Die in der Figur 10 gezeigte siebte Ausführungsform unterscheidet sich von der zu- vor erläuterten dritten Ausführungsform, wie die Figur 10b) in Verbindung mit der Fi- gur 10d) erkennen lässt, durch die Anordnung der Elektroden 3 und der durch die Elektroden 3 gebildeten Elektrodengruppen 39a, 39b. So ist in dieser siebten Ausfüh- rungsform eine Elektrode 3 der ersten Elektrodengruppe 39a mittig auf der Basisflä- che 21 des Borstenträgers 19 angeordnet und die übrigen Elektroden 3 der beiden Elektrodengruppen 39a, 39b sind auf vier konzentrischen Kreisen um den Mittelpunkt des kreisförmigen Querschnitts des Borstenträgers 19 angeordnet. Diese konzentri- schen Kreise werden im Folgenden als erster Kreis, zweiter Kreis, dritter Kreis und vierter Kreis bezeichnet, wobei der erste Kreis den kleinsten Durchmesser, der zweite Kreis den zweitkleinsten Durchmesser, der dritte Kreis den zweitgrößten Durchmesser und der vierte Kreis den größten Durchmesser aufweist. Aus dem in Fi- gur 10b) dargestellten Längsschnitt wird in Verbindung mit dem in Figur 10d) darge- stellten Querschnitt erkennbar, dass auf dem zweiten und vierten Kreis die Elektro- den 3 der ersten Elektrodengruppe 39a angeordnet sind, während auf dem ersten und dritten Kreis die Elektroden 3 der zweiten Elektrodengruppe 39b angeordnet sind.

Die Elektroden 3 der verschiedenen Elektrodengruppen 39a, 39b können demnach in verschiedenen Abständen zu einem Mittelpunkt der Basisfläche 21 des Borstenträ- gers 19 angeordnet sein. Die Elektroden 3 der verschiedenen Elektrodengrup- pen 39a, 39b können insbesondere auf verschiedenen konzentrischen Kreisen mit unterschiedlichem Durchmesser um einem Mittelpunkt der Basisfläche 21 des Bors- tenträgers 19 angeordnet sein.

Die verschiedenen Elektrodengruppen 39a, 39b können demnach außerdem ab- wechselnd auf der Basisfläche 21 des Borstenträgers 19 angeordnet sein. Die ver- schiedenen Elektrodengruppen 39a, 39b können insbesondere in radialer Richtung abwechselnd auf der Basisfläche 21 des Borstenträgers 19 angeordnet sein.

Des Weiteren lässt die Figur 10b erkennen, dass sich die Hochspannungszuleitun- gen 10a, 10b auf ihrer der Elektrodenanordnung 5 zugewandten Seite in mehrere Zuleitungsabschnitte verzweigen, um die Elektroden 3 der verschiedenen Elektro- dengruppen 39a, 39b mit dem jeweiligen Hochspannungssignal beaufschlagen zu können. Die erste Hochspannungszuleitung 10a verzweigt sich dabei in diesem Aus- führungsbeispiel in drei Zuleitungsabschnitte und die zweite Hochspannungslei- tung 10b verzweigt sich in zwei Zuleitungsabschnitte.

Darüber hinaus weist die Elektrodenanordnung 5 in dieser siebten Ausführungsform, wie die Figur 10c) erkennen lässt, vier elektrisch voneinander isolierte Verteilerschei- ben 41 a, 41 b, 41 c und 41 d mit kreisringförmigem Querschnitt und mit unterschiedli- chem Durchmesser auf, die konzentrisch angeordnet und dazu eingerichtet sind, das Hochspannungssignal an die mit der jeweiligen Verteilerscheibe 41 a, 41 b, 41 c, 41 d verbundenen Elektroden 3 zu verteilen. Die erste Verteilerscheibe 41 a weist dabei den kleinsten Durchmesser auf, die zweite Verteilerscheibe 41 b weist den zwei- kleinsten Durchmesser auf, die dritte Verteilerscheibe 41 c weist den zweitgrößten Durchmesser auf und die vierte Verteilerscheibe 41 d weist den größten Durchmesser auf. Zur Verteilung des Hochspannungssignals an die Elektroden 3 sind die erste Vertei- lerscheibe 41 a und die dritte Verteilerscheibe 41 c mit den Elektroden 3 der zweiten Elektrodengruppe 39b verbunden, während die zweite Verteilerscheibe 41 b und die vierte Verteilerscheibe 41 d mit den Elektroden 3 der ersten Elektrodengruppe 39a verbunden sind. Des Weiteren sind zu diesem Zweck die Verteilerscheiben 41 a, 41 b, 41 c und 41 d auf ihren den Hochspannungszuleitungen 10a, 10b zugewandten Seiten mit den Zuleitungsabschnitten der Hochspannungszuleitungen 10a, 10b derart ver- bunden, dass die zweite Verteilerscheibe 41 b und die vierte Verteilerscheibe 41 d je weils mit einem Zuleitungsabschnitt der ersten Hochspannungszuleitung 10a verbun- den sind, während die erste Verteilerscheibe 41 a und die dritte Verteilerscheibe 41 c jeweils mit einem Zuleitungsabschnitt der zweiten Hochspannungszuleitung 10b ver- bunden sind. Die mittig auf der Basisfläche 21 des Borstenträgers 19 angeordnete Elektrode 3 ist mit einem dritten Zuleitungsabschnitt der ersten Hochspannungszulei- tung 10a verbunden. Auf diese Weise ist es möglich, die abwechselnd auf dem Bors- tenträger 19 angeordneten Elektrodengruppen 39a, 39b mit unterschiedlichen Hoch- spannungssignalen zu beaufschlagen, wie im Folgenden anhand der Figuren 1 1 a) und 1 1 b) exemplarisch näher erläutert wird.

Die Figur 1 1 a) zeigt eine perspektivische Ansicht von Komponenten der zuvor bereits erläuterten siebten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungs- gerät 1 mit den zwei Elektrodengruppen 39a, 39b, die mit gegenphasigen Wechsel- hochspannungssignalen 13a, 13b beaufschlagt werden. Die Figur 1 1 b) zeigt einen Längsschnitt der in der Figur 1 1 a) dargestellten Komponenten.

Gezeigt sind die erste Hochspannungszuleitung 10a, die in drei Leitungsabschnitte verzweigt ist, und die zweite Hochspannungszuleitung 10b, die in zwei Leitungsab- schnitte verzweigt ist. Wie bereits im Zusammenhang mit der Figur 10b) erläutert wurde, ist die erste Hochspannungszuleitung 10a dabei mit der mittig auf der Basis- fläche 21 des Borstenträgers 19 angeordneten Elektrode 3, die Bestandteil der ers- ten Elektrodengruppe 39a ist, sowie mit der zweiten Verteilerscheibe 41 b und der vierten Verteilerscheibe 41d verbunden. Die zweite Verteilerscheibe 41 b und die vierte Verteilerscheibe 41 d verteilen dabei das an die Hochspannungszuleitung 10a angelegte Hochspannungssignal 13a an die Elektroden 3 der ersten Elektroden- gruppe 39a. Auf diese Weise können sämtliche Elektroden 3 der ersten Elektroden- gruppe 39a mit dem an die Hochspannungszuleitung 10a angelegten Hochspan- nungssignal 13a beaufschlagt werden.

Die zweite Hochspannungszuleitung 10b ist mit der ersten Verteilerscheibe 41 a und der dritten Verteilerscheibe 41 c verbunden. Die erste Verteilerscheibe 41 a und die dritte Verteilerscheibe 41 c verteilen dabei das an die zweite Hochspannungszulei- tung 10b angelegte Hochspannungssignal 13b an die Elektroden 3 der zweiten Elekt rodengruppe 39b. Auf diese Weise können sämtliche Elektroden 3 der zweiten Elekt- rodengruppe 39b mit dem an die Hochspannungszuleitung 10b angelegten Hoch- spannungssignal 13b beaufschlagt werden.

In den Figuren 1 1 a) und 1 1 b) ist es des Weiteren schematisch dargestellt, dass die Hochspannungssignale 13a, 13b als Wechselhochspannungssignale ausgebildet sind. Die Wechselhochspannungssignale 13a, 13b sind dabei zueinander gegenpha- sig und weisen einen im Wesentlichen gleichen Scheitelwert auf. Das erste Wechsel- hochspannungssignal 13b ist demnach um ca. 180 Grad zu dem ersten Wechsel- hochspannungssignal 13a phasenverschoben. Auf diese Weise wird erreicht, dass die verschiedenen Elektrodengruppen 39a, 39b derart mit gegenphasigen Wechsel- hochspannungssignalen 13a, 13b beaufschlagt werden, dass die erste Elektroden- gruppe 39a mit dem ersten Wechselhochspannungssignal 13a wird und die zweite Elektrodengruppe 39b mit dem zu dem ersten Wechselhochspannungssignal 13a ge- genphasigen zweiten Wechselhochspannungssignal 13b beaufschlagt wird.

Die Figur 12a) zeigt eine perspektivische Ansicht von Komponenten einer achten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Plasma-Behandlungsgeräts 1 mit zwei Elektrodengruppen 39a, 39b, die mit gegenphasigen Wechselhochspannungssigna- len 13a, 13b beaufschlagt werden. Die Figur 12b) zeigt einen Längsschnitt der in der Figur 12a) dargestellten Komponenten.

Erkennbar ist, dass die Elektrodenanordnung 5 in dieser achten Ausführungsform des Plasma-Behandlungsgeräts 1 zwei Verteilerscheiben 41 a, 41 b aufweist, denen gegenphasige Wechselhochspannungssignale 13a, 13b zugeführt werden. Die erste Verteilerscheibe 41 a ist dabei mit den Elektroden 3 der ersten Elektrodengruppe 39a verbunden und die zweite Verteilerscheibe 41 b ist mit den Elektroden der zweiten Elektrodengruppe 39b verbunden. Auf diese Weise können die verschiedenen Elekt rodengruppen 39a, 39b mit unterschiedlichen Hochspannungssignalen, nämlich mit den gegenphasigen Wechselhochspannungssignalen 13a, 13b beaufschlagt werden.

Im Gegensatz zu den zuvor erläuterten Ausführungsformen sind die Verteilerschei- ben 41 a, 41 b in dieser achten Ausführungsform allerdings nicht in derselben Ebene, sondern in verschiedenen Ebenen angeordnet. Die Verteilerscheiben 41 a, 41 b sind in diesem Ausführungsbeispiel von der Anlagefläche 27 aus gesehen hintereinander angeordnet. Dabei ist die zweite Verteilerscheibe 41 b eine innere Verteilerscheibe und die erste Verteilerscheibe 41 a ist eine äußere Verteilerscheibe. Die zweite Ver- teilerscheibe 41 b ist angeordnet zwischen der ersten Verteilerscheibe 41 a und dem Borstenfeld 17. Um eine Verbindung zwischen den sich in das Borstenfeld 17 hinein erstreckenden Elektroden und der äußeren ersten Verteilerscheibe 41 a, die von der Anlagefläche 27 aus gesehen hinter der inneren zweiten Verteilerscheibe 41 b ange- ordnet ist, zu ermöglichen, weist die innere zweite Verteilerscheibe eine Mehrzahl von Durchgangslöchern 81 auf, durch welche sich die mit der äußeren ersten Elekt- rode 41 a verbundenen Elektroden hindurch erstrecken.

Bezugszeichenliste

1 Plasma-Behandlungsgerät

3 Elektrode

5 Elektrodenanordnung

7 Dielektrikum

9 Gehäuse

10, 10a, 10b Hochspannungszuleitung 1 1 Leitungsanordnung

13a, 13b Hochspannungssignal 15 Bürstenkopf

17 Borstenfeld

19 Borstenträger

21 Basisfläche

23 Borsten

24 Borstenbündel

25 Zwischenraum

27 Anlagefläche

29 Durchgangsöffnung 31 Elektrodenfinger

33 Dielektrikumsschicht 35 flächige Stirnseite

37 flächige Stirnwand

39a, 39b Elektrodengruppe

41 , 41 a, 41 b, 41 c, 41d Verteilerscheibe

42 Isolierschicht

43 Griffteil

45 abnehmbarer Teil

47 Abstandshalter

49 Verankerungsbereich 51 Oberseite

53 Unterseite

55 Rückseite

57 Anlageseite 59 Steuerleitung

61 Batterie

63 elektronische Steuerung

64 Zwischenstufe

65 Hochspannungsstufe

67 Innenraum

71 Kontaktanordnung

73 Anschluss

75 externe Spannungsquelle 77 Kabel

79 Kabeldurchführung 81 Durchgangsloch

Claims

Patentansprüche

1. Plasma-Behandlungsgerät (1 ), ausgebildet zur Behandlung einer Oberfläche mit einem dielektrisch behinderten Plasma, mit einer mindestens eine

Elektrode (3) aufweisenden Elektrodenanordnung (5) und mit einem

Dielektrikum (7), das die Elektrode (3) zu der zu behandelnden Oberfläche hin vollständig abdeckt, und mit einem Gehäuse (9), das eine mindestens eine Hochspannungszuleitung (10, 10a, 10b) umfassende Leitungsanordnung (11 ) enthält, wobei die Elektrode (3) mit der Leitungsanordnung (11 ) verbunden ist und über die Hochspannungszuleitung (10, 10a, 10b) mit einem an die

Hochspannungszuleitung (10, 10a, 10b) anlegbaren Hochspannungssignal (13a, 13b) beaufschlagt werden kann, dadurch gekennzeichnet, dass das Plasma-Behandlungsgerät (1 ) einen Bürstenkopf (15) hat, der ein Borstenfeld (17) und einen Borstenträger (19) mit einer Basisfläche (21 ) aufweist, wobei das

Borstenfeld (17) eine Vielzahl flexibler Borsten (23) und Zwischenräume zwischen den Borsten (23) aufweist und die Borsten (23) von der Basisfläche (21 ) des Borstenträgers (19) abragen in Richtung einer Anlagefläche (27), welche durch die von der Basisfläche (21 ) abgewandten Enden der längsten Borsten (23) des Borstenfelds (17) definiert wird, wobei das Borstenfeld (17) eine durch den Abstand zwischen Basisfläche (21 ) und Anlagefläche (27) definierte erste Länge aufweist und wobei die mindestens eine Elektrode (3) der Elektrodenanordnung (5) sich ausgehend von der Basisfläche (21 ) mit einer zweiten Länge, die kleiner als die erste Länge oder gleich der ersten Länge ist und mindestens 30 % der ersten Länge beträgt, in Richtung der Anlagefläche

(27) in das Borstenfeld (17) hinein erstreckt.

2. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Elektrode (3) der Elektrodenanordnung (5) sich in die Zwischenräume des Borstenfelds (17) hinein erstreckt.

3. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Elektrode (3) der Elektrodenanordnung (5) sich in mindestens eine Borste hinein erstreckt.

4. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Elektrode (3) der

Elektrodenanordnung (5) aus einem gießfähigen, mit leitfähigen Zusätzen versehenen Kunststoff besteht.

5. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest einige der Borsten (23), insbesondere die Borsten (23), in die sich die mindestens eine Elektrode (3) der

Elektrodenanordnung (5) hinein erstreckt, teilweise oder vollständig aus dem Dielektrikum (7) gebildet sind.

6. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrodenanordnung (5) teilweise in den Borstenträger (19) eingebettet ist, wobei die mindestens eine Elektrode (3) der Elektrodenanordnung (5) in Richtung der Anlagefläche (27) aus dem

Borstenträger (19) herausragt.

7. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Borstenträger (19) eine Durchgangsöffnung (29) aufweist, durch welche sich die mindestens eine Elektrode (3) der

Elektrodenanordnung (5) hindurch erstreckt.

8. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Elektrode (3) der

Elektrodenanordnung (5) flexibel ist.

9. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrodenanordnung (5) eine Mehrzahl fingerförmiger Elektroden (3) aufweist, die von einer Dielektrikumsschicht (33) umgeben sind und von der Basisfläche (21 ) des Borstenträgers (19) in das Borstenfeld (17) hineinragen.

10. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine sich in das Borstenfeld (17) hinein erstreckende Elektrode (3) der Elektrodenanordnung (5) eine der Anlagefläche (27) zugewandte flächige Stirnseite (35) aufweist, die von einer flächigen Stirnwand (37) des Dielektrikums (7) zu der Anlagefläche (27) hin abgedeckt wird.

11. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass einige oder sämtliche Borsten (23) des

Borstenfelds (17) auf der der Anlagefläche (27) zugewandten Seite des

Borstenfelds (17) die mindestens eine sich in das Borstenfeld (17) hinein erstreckende Elektrode (3) der Elektrodenanordnung (5) und das die Elektrode (3) abdeckende Dielektrikum (7) überragen.

12. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Länge mindestens 40 % oder mindestens 50 % oder mindestens 60 % oder mindestens 70 % oder mindestens 80 % oder mindestens 90 % oder mindestens 95 % oder mindestens 99 % der ersten Länge beträgt.

13. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Borstenträger (19) beweglich gelagert ist, insbesondere rotatorisch beweglich gelagert ist, und das Behandlungsgerät eine Antriebseinheit aufweist, die dazu eingerichtet ist, eine Bewegung des Borstenträgers (19), insbesondere eine rotatorische Bewegung und/oder eine rotatorisch oszillierende Bewegung des Borstenträgers (19), anzutreiben.

14. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Leitungsanordnung (11 ) eine Mehrzahl von Hochspannungszuleitungen (10, 10a, 10b) umfasst, an die unterschiedliche Hochspannungssignale (13a, 13b) angelegt werden können, und die

Elektrodenanordnung (5) eine Mehrzahl von Elektroden (3) umfasst, die eine Mehrzahl elektrisch voneinander isolierter Elektrodengruppen (39a, 39b) bilden, wobei die verschiedenen Elektrodengruppen (39a, 39b) mit verschiedenen Hochspannungszuleitungen (10, 10a, 10b) verbunden sind und mit

unterschiedlichen Hochspannungssignalen (13a, 13b) beaufschlagt werden können.

15. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrodenanordnung (5) eine Mehrzahl elektrisch leitender und elektrisch voneinander isolierter Verteilerscheiben (41 , 41 a, 41 b, 41 c, 41d) aufweist, wobei jede Verteilerscheibe (41 , 41 a, 41 b, 41 c, 41 d) mit mehreren Elektroden (3) und mit einer der Hochspannungszuleitungen (10, 10a, 10b) verbunden ist und dazu eingerichtet ist, das Hochspannungssignal (13a, 13b) an die mit der Verteilerscheibe (41 , 41 a, 41 b, 41 c, 41 d) verbundenen

Elektroden (3) zu verteilen und wobei die Elektroden (3) der verschiedenen Elektrodengruppen (39a, 39b) mit verschiedenen Verteilerscheiben (41 , 41 a, 41 b, 41 c, 41 d) verbunden sind und die verschiedenen Verteilerscheiben (41 ,

41 a, 41 b, 41 c, 41 d) mit verschiedenen Hochspannungszuleitungen (10, 10a, 10b) verbunden sind.

16. Plasma-Behandlungsgerät (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Plasma-Behandlungsgerät (1 ) ein Griffteil (43) aufweist und zumindest ein den Borstenträger (19) und das Borstenfeld (17) umfassender abnehmbarer Teil (45) des Bürstenkopfes (15) mittels einer mechanischen Verbindungsanordnung lösbar und auswechselbar mit dem Griffteil (43) verbunden ist.

17. Bürstenkopf (15) eines Plasma-Behandlungsgeräts (1 ) nach einem der

vorhergehenden Ansprüche.

18. Abnehmbarer Teil (45) eines Bürstenkopfes (15) eines Plasma- Behandlungsgeräts (1 ) nach Anspruch 16.