EP2691561A1 - Anlage für das behandeln von werkstücken mit einer prozessflüssigkeit - Google Patents

Anlage für das behandeln von werkstücken mit einer prozessflüssigkeit

Info

Publication number
EP2691561A1
EP2691561A1 EP12703469.2A EP12703469A EP2691561A1 EP 2691561 A1 EP2691561 A1 EP 2691561A1 EP 12703469 A EP12703469 A EP 12703469A EP 2691561 A1 EP2691561 A1 EP 2691561A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
liquid
process fluid
dirt particles
filter
cavity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP12703469.2A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP2691561B1 (de
Inventor
Stefanie WACHOWIAK
Christof KNÜSEL
Andreas Ulmer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Duerr Systems AG
Original Assignee
Duerr Systems AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Duerr Systems AG filed Critical Duerr Systems AG
Publication of EP2691561A1 publication Critical patent/EP2691561A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP2691561B1 publication Critical patent/EP2691561B1/de
Not-in-force legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/06—Filtering particles other than ions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/16—Regeneration of process solutions
    • C25D21/18—Regeneration of process solutions of electrolytes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/16—Regeneration of process solutions
    • C25D21/20—Regeneration of process solutions of rinse-solutions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/22—Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc

Definitions

  • the invention relates to a system for treating workpieces with a process fluid in a workpiece application area, which has a line system for circulating the process fluid and which contains a cleaning device for the process fluid circulated by means of the line system.
  • a process liquid also inherently contains dirt particles, for example anode sludge, anode flakes, decomposition products or even slag, which is introduced into the process liquid of galvanic plants on dissolution of metal in acid or alkaline baths.
  • dirt particles for example anode sludge, anode flakes, decomposition products or even slag
  • the process liquid is passed through a filter which retains the dirt particles according to their grain size on or in a filter medium. If the filter medium is added with dirt particles, it becomes impermeable. The filter media must then be cleaned and / or replaced.
  • the object of the invention is to provide a plant for the treatment of workpieces with recirculated process liquid, which contains no dirt particles whose grain size exceeds a threshold, and which can be operated over very long periods of low maintenance.
  • the cleaning device contains a separating device acted upon by an inlet opening with process fluid entrained in the process liquid, which emits process liquid through an overflow opening connected to the workpiece application area via a line section of the line system.
  • the dirt particles with a characteristic amount a Max exceeding grain size G are withdrawn, and which provides at an underflow opening process liquid containing the process liquid withdrawn at the overflow dirt particles.
  • the invention is based on the idea of separating a process fluid in a cleaning device, through which a process fluid is circulated in a system for treating workpieces, to separate dirt particles in the process fluid as a function of their particle size and to divide them into different flow paths of the process fluid.
  • the separation device therefor preferably contains at least one cyclone with a cyclone housing which surrounds a cavity extending in a longitudinal direction with a taper and which has an inlet for tangential inflow of liquid from the conduit system, which forms an external vortex in the cavity, which due to the tapering of the Cavity in an internal vortex merges, which emerges from the cavity formed by a formed on the housing, connected by a line section with the workpiece application area overflow.
  • the separation device makes it possible for the process fluid to be guided to the application area through a filter stage which does not have to filter out the dirt particles that have already been separated off. The result is that a filter medium is applied in this filter stage with less dirt particles. The filter body can then be operated with a longer service life.
  • the system can be designed in particular as a galvanic plant.
  • the process liquid is preferably supplied to the liquid process bath via the cleaning device from a solvent compartment for the production of process liquid, which is connected to the solvent compartment for the return of process liquid.
  • the cleaning device for the process fluid circulated by means of the conduit system has a filter stage connected to the underflow opening of the separation apparatus for filtering out dirt particles from liquid flowing in the conduit system by at least one filter medium.
  • This filter medium has favorably a separation grain size, which is greater than the separation grain size of the filter medium of the filter stage between the overflow opening of the separator and the workpiece application area.
  • a filter medium in the filter stages is suitable, for. a filter bag or a filter candle or a filter plate.
  • a circulating pump for circulating the process liquid in the piping system.
  • this circulating pump is connected to the inlet opening of the separating device.
  • the workpiece application area may be formed, for example, as a liquid process bath.
  • the workpiece application area may include an array of electrodes for electroplating workpieces in the liquid process bath.
  • This liquid process bath can contain, for example, sodium hydroxide, in which metallic zinc is dissolved.
  • a concentration K Na oH of sodium hydroxide in the liquid process bath in the range 30 g / l ⁇ K Na oH ⁇ 0Og / l and a bath temperature T, which is in the range 25 ° ⁇ T ⁇ 85 ° ,
  • a liquid process bath suitable for zinc plating may also contain potassium chloride acid in which metallic zinc is dissolved. It has been shown that here with a liquid process bath which has a pH of pH ⁇ 5 and a potassium chloride concentration K Ka ci with 250 g / l ⁇ K Ka ci, at a working temperature T in the range 50 ° ⁇ T ⁇ 50 ° high quality zinc surfaces can be produced.
  • a plurality of cyclones are arranged with a cyclone housing which surrounds a longitudinally extending cavity with a taper and which is an inlet for tangential flow of liquid from the pipe system has, in the cavity forms a primary vortex, which merges due to the taper of the cavity in a secondary vortex, which exits through an opening formed on the housing, connected by a line section with the filter stage overflow from the cavity.
  • the corrosion of assemblies of the cleaning device by acidic or alkaline process liquid can be prevented by the process liquid is guided in the system by modules that are at least partially made of plastic or coated with plastic or rubber.
  • acid and / or laugebe operatingr plastic is particularly suitable with zinc phosphate and / or titanium dioxide and / or iron oxide pigments added epoxy resin or polypropylene.
  • Fig. 1 shows a plant with cleaning device for the treatment of
  • the separation curve of a cyclone in the cleaning device. 1 shows a system 10 for the treatment of workpieces 12 with a process fluid 14.
  • the system 10 is a Galvanikstrom.
  • the workpieces 12 can be galvanized.
  • the workpieces 12 are arranged in a liquid process bath 16.
  • the liquid process bath 16 is filled with sodium hydroxide solution as process liquid in which metallic zinc is dissolved.
  • the galvanic plant 10 has a current source 18.
  • the positive pole of the current source 18 is connected to an immersed in the process liquid electrode 22, which acts as an anode.
  • the negative pole 24 of the current source 18 is connected to the workpieces 12.
  • the workpieces 12 in the process liquid act as electrodes.
  • Electrodes act as a cathode.
  • the metallic zinc dissolved in the process fluid 14 is deposited on the surface 26 of the workpieces 12.
  • the release compartment 32 is a liquid bath separate from the liquid processing bath 16.
  • metallic zinc 33 which is to be deposited on the workpieces 12, is dissolved in the process liquid 14.
  • dirt particles 87 are introduced into the process fluid 14 in the form of slag.
  • the process fluid 14 In order to achieve a high surface quality during the galvanizing of the workpieces 12 in the process fluid 14, the process fluid 14 must not contain any dirt particles 86, 87 in the process bath 16. If there are too many dirt particles 86, 87 in the process liquid 14 in the liquid bath 16, the zinc layer which acts on the workpieces 12 during electroplating has an undesirable roughness.
  • the line system 28 contains a circulation pump 34.
  • the process liquid 14 is circulated through the cleaning device 30.
  • the liquid volume in the liquid process bath 16 is thus passed through the cleaning device 30 between two and three times within one hour.
  • the circulation pump 34 With the circulation pump 34, the process fluid 14 is moved through the cleaning device 30.
  • the cleaning device 30 contains a separating device 58 with a plurality of cyclones 36.
  • the separating device 58 has an inlet opening 88. Through this inlet opening 88, the separating device 58 is supplied with process fluid 14 which contains dirt particles 86.
  • the separation device 58 has an overflow opening 90.
  • the separation device 58 delivers process fluid 14, from which, in particular, dirt particles 87 are separated, which have a characteristic amount a Max exceeding the grain size G. These separated dirt particles 87 are supplied with process liquid via an underflow opening 92 of the separation device 58 through the conduit system 28 to the release compartment 32 the system 10 fed again.
  • Each cyclone 36 is made of caustic soda chemically resistant plastic material.
  • Each cyclone has a cyclone body 38.
  • the cyclone body 38 surrounds a tapered cavity extending in a longitudinal direction 40.
  • the cyclone housing 38 has an inlet 44.
  • the inlet 44 opens into the cavity 42 with an opening 46.
  • the process fluid 14 circulated by the circulating pump 34 in the system 28 in accordance with the flow direction 48 is flowed into the cavity 42 tangentially.
  • the process fluid 14 circulated by the circulating pump 34 in the system 28 in accordance with the flow direction 48 is flowed into the cavity 42 tangentially.
  • In the cavity 42 thereby creates an outer vortex 50, which merges due to the taper of the cavity 42 in an Innnenwirbel 52.
  • the internal vortex 52 exits the cavity 42 through an overflow 54 formed on the housing 38.
  • In the cyclone housing 38 there is an underflow opening 56.
  • the cyclones 36 are arranged in a container 57 of the separating device 58.
  • the container 57 is made of stainless steel. It has a funnel-shaped bottom compartment 60, a central compartment 62 and a ceiling compartment 64.
  • the underflow opening 56 of each cyclone 36 opens into the bottom compartment 60.
  • the overflow 54 of each cyclone housing 38 has an opening located in the ceiling compartment 64.
  • the cleaning device 30 includes a first filter stage 66 and a second filter stage 68 for the filtration of dirt particles from the process liquid 14.
  • the second filter stage 68 is located in a line section 33 of the conduit system 28 between the release compartment 32 and the Trennvor- direction 58.
  • the ceiling compartment 64th of the container 58 is connected to the first filter stage 66.
  • the filter stage 66 is thus supplied with the process liquid 14 from the respective overflow 54 of a cyclone housing 38.
  • the bottom part 60, the middle part 62 and the ceiling compartment 64 are coated with a layer of ceramic particles 65. This causes the container 57 can not corrode.
  • this coating 65 ensures that the container wall is protected from abrasion by dirt particles 86, 87 entrained in the process fluid. It should be noted that a chemical Resistance and protection of the wall of the container 57 before abrasion can also be achieved by nickel plating or plasma coating.
  • the bottom compartment 60 of the container 58 is connected to the second filter stage 68.
  • the filter stages 66, 68 are each assigned a bypass section 70, 72 with shut-off valves 71, 73, 74, 76, 78, 80.
  • the line system 28 in the system 10 contains a line section 82, via which the process fluid 14 can flow back out of the process bath 16 into the release compartment 32.
  • the dissolved in the process liquid 16 zinc is passed through the cleaning device 30 with the process liquid 14 and the entrained dirt particles 86, 87.
  • the dirt particles 86, 87 are separated according to their grain size G in each cyclone 36 of the cleaning device.
  • Large grain diameter particulate matter 87 is carried outwardly in a cyclone 36 under the action of centrifugal force in the outer vertebra 50 and moved through the tapered cavity 42 in the cyclone housing 38 to the underflow opening 56.
  • Dirt particles 86 having a small grain diameter are received in the cyclone 36 with the inner vertebra 52. They arrive with the process fluid 14 to the overflow 54 of a cyclone 36.
  • Dirt particles 86, 87 with a grain size G at the lower run 56 and the overflow 54 of a cyclone 36 is.
  • the separation grain size a K of the cyclones 36 is about 15 ⁇ .
  • Dirt particles whose particle size G exceeds the amount a max do not reach the filter stage 66.
  • the filter stage 66 thus contains only dirt particles which have a relatively small particle diameter.
  • the filter stage 68 is acted upon by process fluid 14 containing dirt particles 87, whose grain size G is greater than the grain size a max and in which there are relatively few dirt particles with a small grain size.
  • the filter stages 66, 68 therefore contain a filter medium 67, 69 with a different separation grain size.
  • Ki of the filter medium 67 in the first filter stage 66 applies: ⁇ - ⁇ « ⁇ .
  • K 2 of the second filter stage 68 K 2 ⁇ 30 ⁇ » ⁇ - ⁇ .
  • As a filter medium in the filter stages 66, 68 are particularly filter plates, filter bags or filter cartridges.
  • the separation device 58 in the cleaning device 30 causes the continuous circulation of process fluid 14 from the release compartment 32 through the second filter stage 68. Because the separation grain size K 2 of the filter medium 69 of the second filter stage 68, however, is relatively large, only dirt particles 87 with a particle size G are here retained, which exceeds the separation grain size K 2 .
  • the first filter stage 66 receives only a few dirt particles with a large grain diameter.
  • filter medium 69 has a large separation particle size, so that it is not added by dirt particles having a comparatively small particle size.
  • the second filter stage 68 can therefore also be operated for a long time until a cleaning or replacement of the filter medium 69 is required.
  • a plant for treating workpieces 12 with a process fluid 14 has a workpiece application area 16.
  • the facility 10 contains a conduit system 28 for circulating the process fluid 17 used in the workpiece application area 16.
  • a cleaning device 30 for the process fluid circulated by means of the line system 29.
  • the cleaning device 30 contains a separating device 58 charged with process fluid 14 via an inlet opening 88 for dirt particles 86 entrained in the process fluid 14.
  • the separating device 58 transmits a connected via a line section 28 with the workpiece application area 16 from overflow liquid 14 from the dirt particles, in particular dirt particles 86 are withdrawn with a characteristic amount a Max exceeding grain size G.
  • the separation device 58 provides process fluid 14, which contains the dirt particles 86 extracted from the process fluid 14 at the overflow.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cyclones (AREA)

Abstract

Eine Anlage für das Behandeln von Werkstücken (12) mit einer Prozessflüssigkeit (14) hat einen Werkstück-Applikationsbereich (16). Die Anlage (10) enthält ein Leitungssystem (28) für das Umwälzen der Prozessflüssigkeit (17), die in dem Werkstück-Applikationsbereich (16) verwendet wird. In der Anlage (10) gibt es eine Reinigungseinrichtung (30) für die mittels des Leitungssystems (28) umgewälzte Prozessflüssigkeit (14). Erfindungsgemäß enthält die Reinigungseinrichtung (30) eine über eine Zulauföffnung (88) mit Prozessflüssigkeit (14) beaufschlagte Trennvorrichtung (58) für in der Prozessflüssigkeit (14) mitgeführte Schmutzpartikel (86). Die Trennvorrichtung (58) gibt durch eine über einen Leitungsabschnitt (29) des Leitungssystems (28) mit dem Werkstück-Applikationsbereich (16) verbundene Überlauföffnung (90) Prozessflüssigkeit (14) ab, der Schmutzpartikel (86), insbesondere Schmutzpartikel (86) mit einer einen charakteristischen Betrag aMax übersteigenden Korngröße G entzogen sind. An einer Unterlauföffnung (92) stellt die Trennvorrichtung (58) Prozessflüssigkeit (14) bereit, welche die der Prozessflüssigkeit (14) am Überlauf entzogenen Schmutzpartikeln (86) enthält.

Description

Anlage für das Behandeln von Werkstücken mit einer Prozessflüssigkeit
Beschreibung
Die Erfindung betrifft eine Anlage für das Behandeln von Werkstücken mit einer Prozessflüssigkeit in einem Werkstück-Applikationsbereich, die ein Leitungssystem für das Umwälzen der Prozessflüssigkeit aufweist und die eine Reinigungseinrichtung für die mittels des Leitungssystems umgewälzte Pro- zessflüssigkeit enthält.
Anlagen für das Behandeln von Werkstücken mit einer Prozessflüssigkeit werden in der industriellen Fertigung insbesondere zum Reinigen, zur Oberflächenbehandlung und Oberflächenveredelung sowie zur Galvanisierung eingesetzt. Weil viele Prozessflüssigkeiten sehr kostspielig sind und deren umweltgerechte Entsorgung häufig aufwändig und schwierig ist, wird die Prozessflüssigkeit in derartigen Anlagen umgewälzt. Es besteht jedoch das Bedürfnis, für das Behandeln der Werkstücke Prozessflüssigkeit zur Verfügung zu stellen, die keine oder allenfalls geringe Verunreinigungen mit Schmutzpartikeln enthält. Solche Schmutzpartikel können über die Werkstücke in die Prozessflüssigkeit eingetragen werden, etwa aufgrund von Abrieb, aber auch aufgrund von Verschmutzungen der Werkstücke z.B. in Form von Ölen, Fetten oder auch Metallspänen. Oft enthält eine Prozessflüssigkeit aber auch inhärent Schmutzpartikel, z.B. Anodenschlamm, Anodenflitter, Abbauprodukte oder auch Schlacke, die beim Auflösen von Metall in Säureoder Laugenbädern in die Prozessflüssigkeit von Galvanikanlagen eingetragen wird. Um Werkstücke in einer Anlage mit Prozessflüssigkeit zu behandeln, in der keinerlei oder allenfalls wenige Schmutzpartikel aufgenommen sind, ist es bekannt, die Prozessflüssigkeit beim Umwälzen in einer Filterstu- fe zu filtern. Die Prozessflüssigkeit wird durch ein Filter geführt, das die Schmutzpartikel entsprechend ihrer Korngröße an oder in einem Filtermedium zurückhält. Wenn das Filtermedium mit Schmutzpartikeln zugesetzt ist, wird es undurchlässig. Das Filtermedium muss dann gereinigt und/oder ausgetauscht werden.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Anlage für das Behandeln von Werkstücken mit umgewälzter Prozessflüssigkeit bereitzustellen, die keine Schmutzpartikel enthält, deren Korngröße einen Schwellwert übersteigt, und die über sehr lange Zeiträume hinweg wartungsarm betrieben werden kann.
Diese Aufgabe wird durch eine Anlage der eingangs genannte Art gelöst, bei der die Reinigungseinrichtung eine über eine Zulauföffnung mit Prozessflüssigkeit beaufschlagte Trennvorrichtung für in der Prozessflüssigkeit mitgeführte Schmutzpartikel enthält, die durch eine über einen Leitungsabschnitt des Leitungssystems mit dem Werkstück-Applikationsbereich verbundene Überlauföffnung Prozessflüssigkeit abgibt, der insbesondere Schmutzpartikel mit einer einen charakteristischen Betrag aMax übersteigenden Korngröße G entzogen sind, und die an einer Unterlauföffnung Prozessflüssigkeit bereitstellt, welche die der Prozessflüssigkeit am Überlauf entzogenen Schmutz- Partikeln enthält.
Der Erfindung liegt der Gedanke zugrunde, in einer Reinigungseinrichtung, durch welche in einer Anlage für das Behandeln von Werkstücken eine Prozessflüssigkeit umgewälzt wird, Schmutzpartikel in der Prozessflüssigkeit in Abhängigkeit ihrer Korngröße zu trennen und auf unterschiedliche Strömungswege der Prozessflüssigkeit aufzuteilen.
Bevorzugt enthält die Trennvorrichtung hierfür wenigstens einen Zyklon mit einem Zyklongehäuse, das einen sich mit Verjüngung in einer Längsrichtung erstreckenden Hohlraum umgibt und das einen Zulauf für tangentiales Einströmen von Flüssigkeit aus dem Leitungssystem hat, die in dem Hohlraum einen Außenwirbel bildet, der aufgrund der Verjüngung des Hohlraums in einen Innenwirbel übergeht, welcher durch einen an dem Gehäuse ausgebildeten, durch einen Leitungsabschnitt mit dem Werkstück- Applikationsbereich verbundenen Überlauf aus dem Hohlraum austritt. Die Trennvorrichtung ermöglicht, dass die Prozessflüssigkeit zu dem Applikationsbereich durch eine Filterstufe geführt werden kann, welche die bereits abgetrennten Schmutzpartikel nicht ausfiltern muss. Die Folge ist, dass ein Filtermedium in dieser Filterstufe mit weniger Schmutzpartikeln beaufschlagt wird. Der Filterkörper kann dann mit längeren Standzeiten betrieben werden.
Die Anlage kann insbesondere als Galvanikanlage ausgebildet sein. Bevorzugt wird dem Flüssigkeitsprozessbad die Prozessflüssigkeit über die Reinigungseinrichtung aus einem Löseabteil für das Erzeugen von Prozessflüssigkeit zugeführt, das für das Rückführen von Prozessflüssigkeit mit dem Löseabteil verbunden ist.
Hier ist es von Vorteil, wenn die Reinigungseinrichtung für die mittels des Leitungssystems umgewälzte Prozessflüssigkeit eine durch einen Leitungsabschnitt der Unterlauföffnung der Trennvorrichtung verbundene Filterstufe für das Ausfiltern von Schmutzpartikeln aus in dem Leitungssystem strömender Flüssigkeit durch Anströmen wenigstens eines Filtermediums aufweist. Dieses Filtermedium hat günstigerweise eine Trennkorngröße, die größer ist die Trennkorngröße des Filtermediums der Filterstufe zwischen der Überlauföffnung der Trennvorrichtung und dem Werkstückapplikations- bereich. Als Filtermedium in den Filterstufen eignet sich z.B. ein Filterbeutel oder eine Filterkerze oder eine Filterplatte.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Anlage gibt es für das Umwälzen der Prozessflüssigkeit in dem Leitungssystem eine Umwälzpumpe. Bevor- zugt ist diese Umwälzpumpe mit der Zulauföffnung der Trennvorrichtung verbunden. Der Werkstück-Applikationsbereich kann z.B. als Flüssigkeitsprozessbad ausgebildet sein. Insbesondere kann der Werkstück-Applikationsbereich eine Anordnung von Elektroden für das Galvanisieren von Werkstücken in dem Flüssigkeitsprozessbad aufweisen. Dieses Flüssigkeitsprozessbad kann z.B. Natronlauge enthalten, in der metallisches Zink gelöst ist. Für das Galvanisieren von Werkstücken in einem solchen Flüssigkeitsprozessbad ist ein pH-Wert mit pH > 14 und eine Konzentration KNaoH des Natriumhydroxids in dem Flüssigkeitsprozessbad mit 100 g/l < KNaoH < 60g/l und eine Badtemperatur T im Bereich 20° < T <45° von Vorteil.
Ebenfalls günstig für das Galvanisieren von Werkstücken in Natronlauge ist eine Konzentration KNaoH von Natriumhydroxid in dem Flüssigkeitsprozessbad im Bereich 30 g/l < KNaoH < 0Og/l und eine Badtemperatur T, die im Bereich 25° < T < 85° liegt.
Ein für das Zink-Galvanisieren geeignetes Flüssigkeitsprozessbad kann aber auch Kaliumchloridsäure enthalten, in der metallisches Zink gelöst ist. Es hat sich gezeigt, dass hier mit einem Flüssigkeitsprozessbad, das einen pH-Wert mit pH ~ 5 hat und eine Kaliumchloridkonzentration KKaci mit 250 g/l < KKaci aufweist, bei einer Arbeitstemperatur T im Bereich 50° <T < 50° qualitativ hochwertige Zinkoberflächen erzeugt werden können.
Um das Umwälzen großer Mengen von Reinigungsflüssigkeit zu ermöglichen, ist es von Vorteil, wenn in der Reinigungseinrichtung mehrere Zyklone mit einem Zyklongehäuse angeordnet sind, das einen sich mit Verjüngung in einer Längsrichtung erstreckenden Hohlraum umgibt und das einen Zulauf für tangentiales Einströmen von Flüssigkeit aus dem Leitungssystem hat, die in dem Hohlraum einen Primärwirbel bildet, der aufgrund der Verjüngung des Hohlraums in einen Sekundärwirbel übergeht, welcher durch einen an dem Gehäuse ausgebildeten, durch einen Leitungsabschnitt mit der Filterstufe verbundenen Überlauf aus dem Hohlraum austritt. Die Korrosion von Baugruppen der Reinigungseinrichtung durch saure oder alkalische Prozessflüssigkeit lässt sich unterbinden, indem die Prozessflüssigkeit in der Anlage durch Baugruppen geführt wird, die wenigstens teilweise aus Kunststoff bestehen oder mit Kunststoff oder Gummi beschichtet sind. Als säure- und/oder laugebeständiger Kunststoff eignet sich insbesondere mit Zinkphosphat und/oder Titandioxid und/oder Eisenoxidpigmenten versetztes Epoxidharz oder auch Polypropylen.
Im Folgenden wird die Erfindung anhand der in der Zeichnung in schemati- scher Weise dargestellten Ausführungsbeispiele näher erläutert.
Es zeigen
Fig. 1 eine Anlage mit Reinigungseinrichtung für das Behandeln von
Werkstücken mit einer mehrere Zyklone aufweisenden Trennvorrichtung enthält; und
Fig. 2 die Trennkurve eines Zyklons in der Reinigungseinrichtung. Die Fig. 1 zeigt eine Anlage 10 für das Behandeln von Werkstücken 12 mit einer Prozessflüssigkeit 14. Die Anlage 10 ist eine Galvanikanlage. In der Galvanikanlage 10 können die Werkstücke 12 verzinkt werden. Hierzu sind die Werkstücke 12 in einem Flüssigkeitsprozessbad 16 angeordnet. Das Flüssigkeitsprozessbad 16 ist mit Natronlauge als Prozessflüssigkeit befüllt, in der metallisches Zink gelöst ist. Die Galvanikanlage 10 hat eine Stromquelle 18. Der positive Pol der Stromquelle 18 ist an eine in die Prozessflüssigkeit eintauchende Elektrode 22 angeschlossen, die als Anode wirkt. Der negative Pol 24 der Stromquelle 18 ist an die Werkstücke 12 angeschlossen. Die Werkstücke 12 in der Prozessflüssigkeit wirken als Elektroden. Diese Elektroden fungieren als Katode. Bei Betrieb der Stromquelle 18 wird das in der Prozessflüssigkeit 14 gelöste metallische Zink an der Oberfläche 26 der Werkstücke 12 angelagert. In der Anlage 10 gibt es ein Löseabteil 32. Das Löseabteil 32 ist ein von dem Flüssigkeitsprozessbad 16 getrenntes Flüssigkeitsbad. In dem Flüssigkeitsprozessbad wird metallisches Zink 33, welches an den Werkstücken 12 ab- geschieden werden soll, in der Prozessflüssigkeit 14 gelöst. Dabei werden Schmutzpartikel 87 in Form von Schlacke in die Prozessflüssigkeit 14 eingetragen.
Um beim Galvanisieren der Werkstücke 12 in der Prozessflüssigkeit 14 eine hohe Oberflächengüte zu erreichen, darf die Prozessflüssigkeit 14 in dem Prozessbad 16 keine Schmutzpartikel 86, 87 enthalten. Wenn sich zu viele Schmutzpartikel 86, 87 in der Prozessflüssigkeit 14 im Flüssigkeitsbad 16 befinden, hat die auf den Werkstücken 12 beim Galvanisieren einwirkende Zinkschicht eine unerwünschte Rauhigkeit.
Aus dem Löseabteil 32 wird die Prozessflüssigkeit 14 mit dem darin gelösten Zink durch eine Reinigungseinrichtung 30 in das Prozessbad 16 geführt. Das Leitungssystem 28 enthält eine Umwälzpumpe 34. Damit wird die Prozessflüssigkeit 14 durch die Reinigungseinrichtung 30 umgewälzt. Das Flüssig- keitsvolumen in dem Flüssigkeitsprozessbad 16 wird so innerhalb einer Stunde zwischen zwei- und dreimal durch die Reinigungsvorrichtung 30 geführt. Mit der Umwälzpumpe 34 wird die Prozessflüssigkeit 14 durch die Reinigungseinrichtung 30 bewegt. Die Reinigungseinrichtung 30 enthält eine Trennvorrichtung 58 mit mehreren Zyklonen 36. Die Trennvorrichtung 58 hat eine Zulauföffnung 88. Durch diese Zulauföffnung 88 wird der Trennvorrichtung 58 Prozessflüssigkeit 14 zugeführt, die Schmutzpartikel 86 enthält. Die Trennvorrichtung 58 hat eine Überlauföffnung 90. Durch diese Überlauföffnung 90 gibt die Trennvorrichtung 58 Prozessflüssigkeit 14 ab, aus der insbesondere Schmutzpartikel 87 abgetrennt sind, die eine einen charakteristi- sehen Betrag aMax übersteigende Korngröße G haben. Diese abgetrennten Schmutzpartikel 87 werden mit Prozessflüssigkeit über eine Unterlauföffnung 92 der Trennvorrichtung 58 durch das Leitungssystem 28 dem Löseabteil 32 der Anlage 10 wieder zugeführt.
Ein jeder Zyklon 36 besteht aus für Natronlauge chemisch resistentem Kunststoffmaterial. Jeder Zyklon hat ein Zyklongehäuse 38. Das Zyklonge- häuse 38 umgibt einen sich verjüngenden Hohlraum, der sich in eine Längsrichtung 40 erstreckt. Das Zyklongehäuse 38 hat einen Zulauf 44. Der Zulauf 44 mündet mit einer Öffnung 46 in den Hohlraum 42. Die mit der Umwälzpumpe 34 in dem System 28 entsprechend der Strömungsrichtung 48 umgewälzte Prozessflüssigkeit 14 wird in den Hohlraum 42 tangential einge- strömt. In dem Hohlraum 42 entsteht dabei ein Außenwirbel 50, der aufgrund der Verjüngung des Hohlraums 42 in einen Innnenwirbel 52 übergeht. Der Innenwirbel 52 tritt durch einen an dem Gehäuse 38 ausgebildeten Überlauf 54 aus dem Hohlraum 42 aus. In dem Zyklongehäuse 38 gibt es eine Unterlauföffnung 56. Die Zyklone 36 sind in einem Behälter 57 der Trennvorrich- tung 58 angeordnet. Der Behälter 57 besteht aus Edelstahl. Er weist ein trichterförmiges Bodenabteil 60, ein Mittelabteil 62 und ein Deckenabteil 64 auf. Die Unterlauföffnung 56 eines jeden Zyklons 36 mündet in das Bodenabteil 60. Der Überlauf 54 eines jeden Zyklongehäuses 38 hat eine in dem Deckenabteil 64 liegende Öffnung.
Die Reinigungseinrichtung 30 enthält eine erste Filterstufe 66 und eine zweite Filterstufe 68 für das Ausfiltern von Schmutzpartikeln aus der Prozessflüssigkeit 14. Die zweite Filterstufe 68 befindet sich in einem Leitungsabschnitt 33 des Leitungssystems 28 zwischen dem Löseabteil 32 und dem Trennvor- richtung 58. Das Deckenabteil 64 des Behälters 58 ist mit der ersten Filterstufe 66 verbunden. Der Filterstufe 66 wird somit die Prozessflüssigkeit 14 aus dem jeweiligen Überlauf 54 eines Zyklongehäuses 38 zugeführt. Das Bodenteil 60, das Mittelteil 62 und das Deckenabteil 64 sind mit Schicht aus Keramikpartikeln 65 beschichtet. Das bewirkt, dass der Behälter 57 nicht korrodieren kann. Außerdem gewährleistet diese Beschichtung 65, dass die Behälterwandung vor Abrasion durch in der Prozessflüssigkeit mitgeführte Schmutzpartikel 86, 87 geschützt ist. Es sei bemerkt, dass eine chemische Resistenz und ein Schutz der Wandung des Behälters 57 vor Abrasion auch durch Vernickeln oder Plasmabeschichten erzielt werden kann.
Das Bodenabteil 60 des Behälters 58 ist mit der zweiten Filterstufe 68 ver- bunden. Für Wartungsarbeiten ist den Filterstufen 66, 68 jeweils ein Bypass- abschnitt 70, 72 mit Absperrventilen 71 , 73, 74, 76, 78, 80 zugeordnet.
Das Leitungssystem 28 in der Anlage 10 enthält einen Leitungsabschnitt 82, über den die Prozessflüssigkeit 14 aus dem Prozessbade 16 in das Löseab- teil 32 zurückströmen kann.
Das in der Prozessflüssigkeit 16 gelöste Zink wird mit der Prozessflüssigkeit 14 und den darin mitgeführten Schmutzpartikeln 86, 87 durch die Reinigungseinrichtung 30 geleitet. Dabei werden in einem jeden Zyklon 36 der Reinigungseinrichtung die Schmutzpartikel 86, 87 nach ihrer Korngröße G separiert. Schmutzpartikel 87 mit großem Korndurchmesser werden in einem Zyklon 36 unter Einwirkung der Fliehkraft in dem Außenwirbel 50 nach außen getragen und durch den sich verjüngenden Hohlraum 42 in dem Zyklongehäuse 38 zu der Unterlauföffnung 56 bewegt. Schmutzpartikel 86 mit klei- nem Korndurchmesser werden in dem Zyklon 36 mit dem Innenwirbel 52 aufgenommen. Sie gelangen mit der Prozessflüssigkeit 14 zu dem Überlauf 54 eines Zyklons 36.
Die Fig. 2 zeigt mit der Kurve 100 die Separationseffizienz S = Ρυ ^ und
Pz ß) mit der Kurve 102 die Durchlässigkeit D = PuE^ t wobei pz (G) die
Pz (G)
Schmutzpartikel-Konzentrationsdichte für Schmutzpartikel 86, 87 mit einer Korngröße G an dem Zulauf 44 eines Zyklons 36 in der Trennvorrichtung 58 ist, und pv (G) bzw. pUE(G) die Schmutzpartikel-Konzentrationsdichte für
Schmutzpartikel 86, 87 mit einer Korngröße G an dem Unterlauf 56 bzw. dem Überlauf 54 eines Zyklons 36 ist. Mittels der Zyklone 36 in der Trenn- Vorrichtung 58 werden die in der Prozessflüssigkeit 14 mitgeführten Schmutzpartikel 86, 87 in Abhängigkeit ihres Korndurchmessers G separiert. Die Trennkorngröße aK der Zyklone 36 beträgt etwa 15μηΊ. Schmutzpartikel, deren Korngröße G den Betrag aMax übersteigt, gelangen nicht zu der Filter- stufe 66. Die Filterstufe 66 enthält somit nur Schmutzpartikel, die einen relativ kleinen Korndurchmesser haben. Die Filterstufe 68 dagegen wird mit Prozessflüssigkeit 14 beaufschlagt, die Schmutzpartikel 87 enthält, deren Korngröße G größer ist als die Korngröße aMax und in der es dafür aber relativ wenige Schmutzpartikel mit einer kleinen Korngröße gibt.
Die Filterstufen 66, 68 enthalten deshalb ein Filtermedium 67, 69 mit einer unterschiedlichen Trennkorngröße. Für die Trennkorngröße Ki des Filtermediums 67 in der ersten Filterstufe 66 gilt: Κ-ι « δμηι. Für die Trennkorngröße K2 der zweiten Filterstufe 68 gilt: K2 ~ 30μηΊ » Κ-ι. Als Filtermedium in den Filterstufen 66, 68 eignen sich insbesondere Filterplatten, Filterbeutel oder Filterkerzen.
Die Trenngröße Ki des Filtermediums 67 der Filterstufe 66 gewährleistet, dass in das Flüssigkeitsprozessbad 16 über das Leitungssystem 28 für die Prozessflüssigkeit 14 keine Schmutzpartikel 86 geführte werden, deren Korngröße G den Wert G = K-i überschreitet. Das heißt, Schmutzpartikel mit einem Durchmesser G > Ki werden in dem Filterkörper 67 der Filterstufe 66 zurückgehalten. Die Trennvorrichtung 58 in der Reinigungseinrichtung 30 bewirkt das kontinuierliche Umwälzen von Prozessflüssigkeit 14 aus dem Löseabteil 32 durch die zweite Filterstufe 68. Weil die Trennkorngröße K2 des Filtermediums 69 der zweiten Filterstufe 68 dagegen vergleichsweise groß ist, werden hier nur Schmutzpartikel 87 mit einer Korngröße G zurückgehalten, welche die Trennkorngröße K2 übersteigt. Die erste Filterstufe 66 erhält nur wenige Schmutzpartikel mit großem Korndurchmesser. Sie kann deshalb sehr lange betrieben werden, ohne dass das Filtermedium 67 gereinigt oder ausge- tauscht werden muss. In der zweiten Filterstufe 68 hat Filtermedium 69 eine große Trennkorngröße, so dass es durch Schmutzpartikel mit vergleichsweise kleiner Korngröße nicht zugesetzt wird. Auch die zweite Filterstufe 68 kann daher lange betrieben werden, bis eine Reinigung oder ein Austausch des Filtermediums 69 erforderlich ist.
Zusammenfassend sind folgende bevorzugte Merkmale festzuhalten: Eine Anlage für das Behandeln von Werkstücken 12 mit einer Prozessflüssigkeit 14 hat einen Werkstück-Applikationsbereich 16. Die Anlage 10 enthält ein Leitungssystem 28 für das Umwälzen der Prozessflüssigkeit 17, die in dem Werkstück-Applikationsbereich 16 verwendet wird. In der Anlage 10 gibt es eine Reinigungseinrichtung 30 für die mittels des Leitungssystems 29 umgewälzte Prozessflüssigkeit 14. Die Reinigungseinrichtung 30 enthält eine über eine Zulauföffnung 88 mit Prozessflüssigkeit 14 beaufschlagte Trenn- Vorrichtung 58 für in der Prozessflüssigkeit 14 mitgeführte Schmutzpartikel 86. Die Trennvorrichtung 58 gibt durch eine über einen Leitungsabschnitt 28 mit dem Werkstück-Applikationsbereich 16 verbundene Überlaufflüssigkeit 14 ab, der Schmutzpartikel, insbesondere Schmutzpartikel 86 mit einer einen charakteristischen Betrag aMax übersteigenden Korngröße G entzogen sind. An einer Unterlauföffnung 92 stellt die Trennvorrichtung 58 Prozessflüssigkeit 14 bereit, welche die der Prozessflüssigkeit 14 am Überlauf entzogenen Schmutzpartikeln 86 enthält.

Claims

Patentansprüche
1 . Anlage (10) für das Behandeln von Werkstücken (12) mit einer Prozessflüssigkeit (14) mit einem Werkstück-Applikationsbereich (16); mit einem Leitungssystem (28) für das Umwälzen von Prozessflüssigkeit (14), die in dem Werkstück-Applikationsbereich (16) verwendet wird; und mit einer Reinigungseinrichtung (30) für die mittels des Leitungssystems (28) umgewälzte Prozessflüssigkeit (14), dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungseinrichtung (30) eine über eine Zulauföffnung (88) mit Prozessflüssigkeit (14) beaufschlagte Trennvorrichtung (58) für in der Prozessflüssigkeit (14) mitgeführte Schmutzpartikel (86) enthält, die durch eine über einen Leitungsabschnitt (29) bzw. ein Leitungssystem
(28) mit dem Werkstück-Applikationsbereich (16) verbundene Überlauföffnung (90) Prozessflüssigkeit (14) abgibt, der Schmutzpartikel (86), insbesondere Schmutzpartikel (86) mit einer einen charakteristischen Betrag aMax übersteigenden Korngröße G entzogen sind, und die an einer Unterlauföffnung (92) Prozessflüssigkeit (14) bereitstellt, welche die der Prozessflüssigkeit (14) am Überlauf entzogenen Schmutzpartikeln (86) enthält.
2. Anlage nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Trenn- Vorrichtung (58) wenigstens ein Zyklon (36) mit einem Zyklongehäuse
(38) aufweist, das einen sich mit Verjüngung in einer Längsrichtung erstreckenden Hohlraum (42) umgibt und das einen Zulauf (44) für tan- gentiales Einströmen von Flüssigkeit (14) aus dem Leitungssystem (28) hat, die in dem Hohlraum (42) einen Primärwirbel (50) bildet, der aufgrund der Verjüngung des Hohlraums (42) in einen Sekundärwirbel (52) übergeht, welcher durch einen an dem Gehäuse (32) ausgebildeten, durch einen Leitungsabschnitt mit dem Werkstück-Applikationsbereich (16) verbundenen Überlauf (54) aus dem Hohlraum (42) austritt.
Anlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungseinrichtung (30) eine Filterstufe (66) für das Ausfiltern von Schmutzpartikeln (87) aus in dem Leitungsabschnitt (29) strömender Prozessflüssigkeit (14) durch Anströmen wenigstens eines für die Prozessflüssigkeit durchlässigen Filtermediums (67) aufweist.
Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass dem Werkstück-Applikationsbereich (16) die Prozessflüssigkeit (14) über die Reinigungseinrichtung (30) aus einem Löseabteil (32) für das Erzeugen von Prozessflüssigkeit (14) zugeführt wird, wobei der Werkstück-Applikationsbereich (16) für das Rückführen von Prozessflüssigkeit (14) mit dem Löseabteil (32) verbunden ist.
Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 4 , dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungseinrichtung (30) für die mittels des Leitungssystems (28) umgewälzte Prozessflüssigkeit (14) eine durch einen Leitungsabschnitt (31 ) mit der Unterlauföffnung (92) der Trennvorrichtung (58) verbundene Filterstufe (68) für das Ausfiltern von Schmutzpartikeln (87) aus in dem Leitungssystem (28) strömender Flüssigkeit durch Anströmen wenigstens eines Filtermediums (69) aufweist.
Anlage nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Trennkorngröße des Filtermediums (69) größer ist als die Trennkorngröße des Filtermediums einer in einem die Überlauföffnung (90) mit dem Werkstück-Applikationsbereich (16) verbindenden Leitungsabschnitt (29) angeordnete Filterstufe (66).
7. Anlage nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Filtermedium (67, 69) einen Filterbeutel oder eine Filterkerze oder eine Fil- terplatte umfasst.
8. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Leitungssystem (28) eine Umwälzpumpe (34) mit einem Ablaufanschluss (35) angeordnet ist, der mit der Zulauföffnungen (88) der Trennvorrichtung (58) verbunden ist.
9. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Werkstück-Applikationsbereich als Flüssigkeitsprozessbad (16) ausgebildet ist.
10. Anlage nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Werkstück-Applikationsbereich (16) eine Einrichtung (19, 20, 22, 24) für das Galvanisieren von Werkstücken (12) in dem Flüssigkeitsprozessbad (16) umfasst.
1 1 . Anlage nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Flüssigkeitsprozessbad (16) Natronlauge enthält, in der metallisches Zink gelöst ist, insbesondere Natronlauge mit einem pH-Wert pH > 14, und einer Konzentration K von Natriumhydroxid in dem Bereich 100 g/l < K < 160g/l und einer in dem Temperaturbereich 20° < T <45° liegenden Temperatur T oder auch Natronlauge mit einer Konzentration KKaci von Natriumhydroxid in dem Bereich 30 g/l < KKaci < 10Og/l und einer in dem Temperaturbereich 25° <T <85° liegenden Temperatur T. 12. Anlage nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Flüssigkeitsprozessbad (12) Säure enthält, in der metallisches Zink gelöst ist, insbesondere Säure mit einer Temperatur T im Bereich 25° C < T <
50° C und mit einem pH-Wert von pH « 5, in der Kaliumchlorid gelöst ist, wobei für die Konzentration KKaci von Kaliumchlorid in dem Fllüssig- keitsprozessbad gilt: 250 g/l < KKaci-
Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungseinrichtung (30) mehrere Zyklone (36) mit einem Zyklongehäuse (38) enthält, das einen sich mit Verjüngung in einer Längsrichtung erstreckenden Hohlraum (42) umgibt und das einen Zulauf (44) für tangentiales Einströmen von Flüssigkeit (14) aus dem Leitungssystem (28) hat, die in dem Hohlraum (42) einen Primärwirbel (50) bildet, der aufgrund der Verjüngung des Hohlraums (42) in einen Sekundärwirbel (52) übergeht, welcher durch einen an dem Gehäuse (38) ausgebildeten, durch einen Leitungsabschnitt mit der Filterstufe (66) verbundenen Überlauf (54) aus dem Hohlraum (42) austritt.
Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Prozessflüssigkeit (14) durch eine oder mehrere Baugruppen (28, 36, 57) geführt ist, die wenigstens teilweise aus säure- und/oder laugebeständigem Kunststoff, insbesondere aus Polypropylen und/oder aus Keramik bestehen und/oder mit Kunststoff und/oder mit Keramikpartikeln beschichtet sind und/oder wenigstens teilweise vernickelt sind.
15. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Prozessflüssigkeit (14) durch eine oder mehrere Baugruppen (28, 36, 57) geführt ist, die wenigstens teilweise mit Kunststoff aus mit
Zinkphosphat und/oder Titandioxid und/oder Eisenoxidpigmenten versetztem Epoxidharz oder mit Gummi beschichtet sind.
EP12703469.2A 2011-03-31 2012-01-20 Anlage für das behandeln von werkstücken mit einer prozessflüssigkeit Not-in-force EP2691561B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE201110006616 DE102011006616A1 (de) 2011-03-31 2011-03-31 Anlage für das Behandeln von Werkstücken mit einer Prozessflüssigkeit
PCT/EP2012/050853 WO2012130491A1 (de) 2011-03-31 2012-01-20 Anlage für das behandeln von werkstücken mit einer prozessflüssigkeit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP2691561A1 true EP2691561A1 (de) 2014-02-05
EP2691561B1 EP2691561B1 (de) 2015-03-18

Family

ID=45581835

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP12703469.2A Not-in-force EP2691561B1 (de) 2011-03-31 2012-01-20 Anlage für das behandeln von werkstücken mit einer prozessflüssigkeit

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP2691561B1 (de)
CN (1) CN103476973B (de)
DE (1) DE102011006616A1 (de)
WO (1) WO2012130491A1 (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106801235B (zh) * 2015-05-12 2018-06-08 江苏理工学院 降低加工成本的超临界复合电铸体系回收利用装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE504437A (de) * 1950-07-04
BE646220A (de) * 1964-01-22 1964-07-31
US3994721A (en) * 1972-06-30 1976-11-30 Societa Mineraria E Metallurgica Di Pertusola Purifying a zinc-bearing solution by cementation
DE2729387A1 (de) * 1977-06-27 1979-01-18 Schering Ag Verfahren zur kontinuierlichen aufbereitung eines galvanischen nickelbades sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
JPS6141773A (ja) * 1984-07-31 1986-02-28 Hino Motors Ltd 無電解めつき液の添加微粒子分離装置
CN86203029U (zh) * 1986-05-24 1987-02-11 长海电镀厂 多效旁路式过滤机
DE3634122A1 (de) * 1986-10-07 1988-04-21 Brombach Hansjoerg Wirbelabscheider
DE4031979A1 (de) * 1990-09-26 1992-04-02 Huang Yun Fu Vorrichtung zum entfernen von verunreinigungen, die in chrom-galvanisierbaedern enthalten sind
US5766440A (en) * 1995-08-28 1998-06-16 Kawasaki Steel Corporation Method for treating sludge precipitated in a plating bath containing haloid ions
GB9802042D0 (en) * 1998-01-31 1998-03-25 Classic Chemicals Limited Improvements in electroless nickel plating
US8298395B2 (en) * 1999-06-30 2012-10-30 Chema Technology, Inc. Electroplating apparatus
JP2001131789A (ja) * 1999-10-29 2001-05-15 Nisshin Steel Co Ltd 電気めっき鋼板の前処理方法および前処理装置
US20040053132A1 (en) * 2002-09-12 2004-03-18 Smedley Stuart I. Improved fuel for a zinc-based fuel cell and regeneration thereof
JP4462851B2 (ja) * 2003-06-13 2010-05-12 三洋電機株式会社 導電部材の製造方法
DE102004038693B4 (de) * 2004-08-10 2010-02-25 Blasberg Werra Chemie Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Entfernung von Fremdstoffen aus Prozesslösungen und Verfahren zur Regenerierung eines Kationenaustauschers
CN2736375Y (zh) * 2004-08-30 2005-10-26 朱国富 一种镍槽液中锌、铜杂质去除机
US20090032457A1 (en) * 2005-08-12 2009-02-05 Oscar Castro Soto Hydrocyclones
EP1958699A1 (de) * 2006-07-01 2008-08-20 Genimin Verfahren und Vorrichtung zur Verbesserung des Betriebs der Hydrozyklonen
CN101245486A (zh) * 2008-03-17 2008-08-20 沈阳师范大学 老化铜箔电镀液有害杂质去除方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See references of WO2012130491A1 *

Also Published As

Publication number Publication date
EP2691561B1 (de) 2015-03-18
CN103476973B (zh) 2016-08-24
CN103476973A (zh) 2013-12-25
DE102011006616A1 (de) 2012-10-04
WO2012130491A1 (de) 2012-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102015005521B4 (de) Behandlungvorrichtung und Behandlungsverfahren zum Beizen und Phosphatieren von Metallteilen
EP0320798B1 (de) Verfahren zur Entschlammung von Phosphatierungsbädern und Vorrichtung für dieses Verfahren
EP2159197A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Wasser
CH646404A5 (en) Plant for electrochemical purification of waste water
DE3340343A1 (de) Verfahren und anlage zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung
EP2691561B1 (de) Anlage für das behandeln von werkstücken mit einer prozessflüssigkeit
DE4235834C2 (de) Vorrichtung zur Behandlung von Abwässern
DE4402185A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von Entfettungsmitteln
DE102018115289A1 (de) Tauchlackieranlage und Verfahren zum Betreiben einer solchen
DE2507492C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Entfernen von Metallionen aus einer Lösung
DE102013112302A1 (de) Vorrichtung zur Herstellung galvanischer Überzüge
DE10132349B4 (de) Verfahren und Anlage zur kataphoretischen Tauchlackierung von Gegenständen
DE102011006615A1 (de) Anlage für das Behandeln von Fluid mit Aktivkohle
DE102020115341A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Wasseraufbereitung
DE4137445A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum wiederaufbereiten von waessrigen, oel- und/oder fetthaltigen reinigungsloesungen
DE2218124A1 (de) Verfahren zur Verringerung des Metallgehaltes einer Lösung
EP4154279B1 (de) Verfahren zur nassdekontamination von radioaktiv kontaminierten werkstücken mit prozesswasseraufbereitung
DE202009017790U1 (de) Abwasserreinigungsanlage zur Behandlung von Abwässern der Ölfrüchte- und Getreideverarbeitung
EP0122963A1 (de) Anlage zum Regenerieren einer ammoniakalischen Ätzlösung
DE102020002499A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung und Wiedergewinnung gebrauchter Schmierstoffe und/oder Kühlschmierstoffe
DE102011008183A1 (de) Kontinuierliche Aufbereitung eines Kühlschmierstoffs
DE102018130593A1 (de) Oberflächenbehandlungsanlage, Präkonditionierungseinrichtung und Verfahren zum Aufbereiten von Prozessmedium und/oder Spülmedium
DE9214761U1 (de) Vorrichtung zur Reinigung und Aufbereitung von Schmutzwässern mittels Elektroflotation
EP1558527A1 (de) Vorrichtung zur verh tung von wasserstein in wasserf hr enden systemen
DE4340884C2 (de) Verfahren zur Aufbereitung des Waschwassers von Foto- und Filmentwicklungsprozessen

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20130827

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

DAX Request for extension of the european patent (deleted)
GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20141022

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20150129

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 716648

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20150415

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 502012002572

Country of ref document: DE

Effective date: 20150430

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: VDEP

Effective date: 20150318

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: VDEP

Effective date: 20150318

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150618

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

REG Reference to a national code

Ref country code: LT

Ref legal event code: MG4D

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: RS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150619

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150720

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: CZ

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150718

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R097

Ref document number: 502012002572

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 5

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

26N No opposition filed

Effective date: 20151221

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160131

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160120

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20160120

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R082

Ref document number: 502012002572

Country of ref document: DE

Representative=s name: WOLF, PFIZ & GAUSS PATENTANWAELTE PARTNERSCHAF, DE

Ref country code: DE

Ref legal event code: R081

Ref document number: 502012002572

Country of ref document: DE

Owner name: DUERR SYSTEMS AG, DE

Free format text: FORMER OWNER: DUERR SYSTEMS GMBH, 74321 BIETIGHEIM-BISSINGEN, DE

Ref country code: DE

Ref legal event code: R082

Ref document number: 502012002572

Country of ref document: DE

Representative=s name: PFIZ/GAUSS PATENTANWAELTE PARTMBB, DE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160131

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160131

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160120

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: MM4A

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 6

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160120

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: CD

Owner name: DURR SYSTEMS AG, DE

Effective date: 20170105

Ref country code: FR

Ref legal event code: CJ

Effective date: 20170105

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20170120

Year of fee payment: 6

Ref country code: FR

Payment date: 20170120

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Payment date: 20170124

Year of fee payment: 6

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R231

Ref document number: 502012002572

Country of ref document: DE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF THE APPLICANT RENOUNCES

Effective date: 20171209

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MM01

Ref document number: 716648

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20170120

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: RT

Effective date: 20180416

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT; INVALID AB INITIO

Effective date: 20120120

Ref country code: SM

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20170120

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

Ref country code: TR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20150318

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20180120

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20180416