EP2553503A1 - Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer mikrolinse - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer mikrolinse

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EP2553503A1
EP2553503A1 EP10732637A EP10732637A EP2553503A1 EP 2553503 A1 EP2553503 A1 EP 2553503A1 EP 10732637 A EP10732637 A EP 10732637A EP 10732637 A EP10732637 A EP 10732637A EP 2553503 A1 EP2553503 A1 EP 2553503A1
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EP
European Patent Office
Prior art keywords
lens
carrier wafer
punch
matrix
microlens
Prior art date
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Application number
EP10732637A
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English (en)
French (fr)
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EP2553503B1 (de
Inventor
Erich Thallner
Markus Wimplinger
Michael Kast
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EV Group GmbH
Original Assignee
EV Group GmbH
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Publication date
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Publication of EP2553503A1 publication Critical patent/EP2553503A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP2553503B1 publication Critical patent/EP2553503B1/de
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
    • G02B3/0031—Replication or moulding, e.g. hot embossing, UV-casting, injection moulding
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00365—Production of microlenses
    • B29D11/00375—Production of microlenses by moulding lenses in holes through a substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a microlens according to claim 1, a device for producing a microlens according to claim X and a microlens according to claim X.
  • Microlenses are primarily used for devices that require an optical focusing device, such as for cameras of mobile phones. Due to the Miniaturmaschinestiks the functional components are always smaller, which also applies to microlenses of the generic type. The further the microlenses are to be miniaturized, the more difficult is their optically correct production, because at the same time an enormous cost pressure for the ideally in
  • microscope lenses are produced on a carrier substrate by different manufacturing methods, as shown, for example, in US Pat. No. 6,846,137 B1, US Pat. No. 5,324,623, US Pat. No. 5,853,960 and US Pat. No. 5,887,188. All the aforementioned methods have in common that, in principle, a certain thickness is necessary and the light passing through the microscope lens must pass not only the lens but also the carrier substrate.
  • Luminous efficacy which is particularly crucial for micro-optics systems, since the image sensor occupies a usually very small area on which Licht occurs.
  • US Pat. No. 6,049,430 shows a lens inserted in an opening of a carrier substrate, wherein the production process shown in FIG. 2 requires a large number of steps and is therefore complicated and, because of the manufacturing accuracies that can be achieved here, for the above-mentioned
  • the present invention is therefore based on the object of enabling, as far as possible, a polyolefin to be produced, in particular in mass production indicate high light output and high Bril lance, which can be produced by a method according to the invention and a device according to the invention in a simple manner suitable for mass production with a flexible shape.
  • the invention is based on the idea of producing a microlens in that a lens is molded directly into a carrier wafer, so that the carrier wafer does not hinder the light beam passing through the lens or is arranged outside the beam path.
  • the lens is formed from two sides of the carrier wafer by an upper and lower lens punch, so that by, in particular co-linear, alignment of the upper lens punch to the lower
  • the invention makes it possible to make the lens shape more flexible, in particular in the field of previously from
  • the rigid carrier wafer ensures a dimensional stability in the
  • Device made possible simultaneous manufacture of a plurality of lenses with a carrier wafer matrix and two
  • Lens die matrices also ensure the carrier wafer the integrity of the optical axes of the lenses to each other.
  • the respective lattice positions of each corresponding upper and lower punch and the corresponding opening of the carrier wafer can thus be precisely aligned, since the carrier wafer does not support the
  • Lens punch matrices can be manufactured with a carrier wafer diameter of 200 mm approximately 2000 lenses with a process run according to the invention.
  • a microlens negative is present on each
  • Lens punches provided, the shape of which determines the curvature of the respective side of the microstructure prepared by the method according to the invention.
  • the shape of the lenses can be convex, planar or concave.
  • the Linsenprofi l can be according to the invention spherical or aspherical.
  • the lens is made of a UV-curable or thermally curable
  • Lens material formed wherein one of the two lens punches in the case of a UV-curable lens material is transparent UV-translucent.
  • the lens material is predominantly predominantly, preferably fully soluble, solvent-free and completely soluble
  • the carrier wafer according to the invention serves for holding and fixing the lens in the invention M ikrol inse and in particular as a spacer between the upper and the lower lens punch, so that, inter alia, the thickness of the M ikrolinse is influenced by the thickness of the carrier wafer.
  • the carrier wafer can also be advantageously used for the production of a large number of microscope lenses by forming many lenses in the carrier wafer which are later divided into individual microscope lenses. S oweit the carrier wafer is formed as a ring mi with an opening for receiving the lens, the lens is th supported on its entire circumference by the carrier wafer and stabilized.
  • the lens ring may be square on its inside and / or outside.
  • Inner ring with Vortei l a holding structure, in particular projections, for more effective fixation of the lens in the carrier wafer are provided, preferably as a formations of the carrier wafer, so in one piece with the carrier wafer.
  • the support structures project beyond the ring inner side by at least one fifth of the thickness of the carrier wafer.
  • the support structure is formed as a surface roughness of the inner ring of the carrier wafer on which the lens material and the cured lens are held in the direction of the optical axis. To avoid thermal expansion or
  • Carrier wafers have a different thermal
  • the lens according to the invention is formed so that the shape of the lens at different temperatures substantially scales, so that the lens at different temperatures
  • the invention has a larger thermal expansion coefficient in the cured state than the carrier wafer.
  • the larger coefficient of thermal expansion of the lens during cooling of the lens during the manufac turing a min imaler space between the carrier wafer and the Li nse accessiblebi Ldet serves as a buffer for the expansion of the lens at different temperatures.
  • heating may be provided during hardening of the lens material in order to achieve the above-mentioned effect.
  • the lens is therefore according to the invention form-fitting with the
  • Carrier wafer in particular with the inner ring of the carrier wafer, connected.
  • At least one stamp is provided with a drain for excess lens material.
  • the process sequence for the preparation of the M ikrol inse is preferably as follows:
  • the Mikrol insensegativ of the lower lens punch is fixed, in particular by fixing the Linsenstkovs m ittels one
  • Receiving device for receiving the lower lens punch is
  • the carrier wafer is aligned / adjusted so that the optical axis of the microlens negative and the longitudinal center axis of the carrier wafer are co-linear with the micro lens negative of the lower lens punch.
  • the carrier wafer is coplanarly aligned with the carrier substrate of the lower lens punch.
  • the fixation is conceivable by vacuum structures in the lens punches or electrostatically by electrostatic agents incorporated in the lens punches, but also mechanically by clamping and / or adhesion.
  • lens material in particular a UV or UV
  • thermoplastic thermosetting polymer in the opening of the carrier wafer on the M ikrolinsegegativ the lower lens punch, wherein the viscosity of the lens material is chosen during insertion such that the through the inner ring of the carrier wafer and the
  • Linsenstempel gebi ldete lens space is bubble-free fillable.
  • the amount of the introduced lens material is such that at m Subsequent embossing of the lens sufficient lens material is present to len the M ikrolinsennegativ the upper lens stamp let lac.
  • the deposition takes place completely on the carrier wafer / carrier wafer matrix, whereby the opening (s) is filled and excess lens material required for the carrier wafer projecting lens structures covers the carrier wafer / carrier wafer matrix.
  • the lens material is individually added into the opening (s) of the carrier wafer / carrier wafer matrix, in particular by metering with a drop dispenser or with a pipette.
  • the optical axis of the upper lens punch is colinear with the optical axis of the lower lens punch
  • the lens material is irradiated by UV light with sufficiently high intensity through the upper lens punch, which in this case is transparent or UV transmissive, and / or irradiated by the lower lens punch, and the polymer is crosslinked.
  • Thermoplastic curing is the material of the lens punches equipped with a sufficiently high thermal conductivity to the
  • the orientation of the lens punches with the carrier wafer is achieved by an alignment mechanism, in particular with a
  • the optical alignment means with an alignment accuracy of less than ⁇ ⁇ , especially less than 5 ⁇ , preferably less than 3 ⁇ deviation.
  • Alignment is particularly for the alignment of the upper and lower Li nsenstkovs or the upper and lower
  • Lens punch matrix advantageous.
  • Optic means are especially lasers or microscopes that enable accurate alignment by markings on the lens punches or on the lens ram matrices.
  • the alignment of the lens punches takes place by means of parallel processing
  • Axis (s) of the lens negatives is taken into account.
  • the lens punches are determined on the basis of FIG.
  • Parallel according to the invention means a deviation of less than ⁇ ⁇ across the width of each lens, which is between ⁇ ⁇ and 6mm. At most, the deviation of the parallelism is therefore 1 0%, in particular less than 7%, preferably less than 5%, more preferably less than 3%, ideally less than 1.5%. This enables a practically ideal match of the optical axes.
  • the height of the lenses is usually between 50 and 500 ⁇ m, the height in the case of the microlens according to the invention being able to be reduced essentially by the width of the carrier wafer in comparison with the prior art.
  • a microlens in particular parallel to the optical axis of the lens, a
  • Self-centering structure in particular as a shaping of the
  • Carrier wafer provided, for example, conditions for truci
  • an upper lens punch matrix is used which comprises many lens punches, in particular as a one-piece lens stamp structure.
  • the lower lens stamp matrix is formed analogously.
  • Carrier wafer is provided as a carrier wafer matrix, in particular in the form of a one-piece carrier wafer structure, with a plurality of openings.
  • Carrier wafer matrix in particular in the form of a one-piece carrier wafer structure, with a plurality of openings.
  • the carrier wafer matrix is enforceable by a spacer of the upper and / or lower
  • Carrier wafer after the production of the microlens at least partially, preferably completely removed. This further reduces the dimensions and weight of the lens. The removal takes place
  • Minor projections are designed in particular as a surface roughness of the inner ring.
  • Fig. 1 a schematic cross-sectional view of a
  • microlens matrix comprising a plurality of a lens formed in a carrier wafer structure
  • Fig. 2 a schematic representation of the invention
  • M ikrol inse, 3 shows a schematic illustration of a microlensing matrix according to the invention comprising a plurality of a lens molded in a carrier wafer structure according to an alternative embodiment
  • Fig. 5 a schematic representation of inventive
  • Fig. 6 a schematic presen- tation of an inventive
  • Apparatus for producing a plurality of microlenses Apparatus for producing a plurality of microlenses.
  • microlens matrix 3 1 in cross-section, which consists of a carrier wafer structure 32 and a plurality of lenses 14 formed in openings 2 of the carrier wafer structure 32 and the later carrier wafer 1 7, respectively.
  • the M ikrolinsenmatrix 3 1 can be separated by known separation process into individual microlenses 1, as shown isolated in an exploded view in Figure 2.
  • the microlens insen 1 can be mass-produced as a microlens matrix 3 1, but can also be produced individually.
  • FIG. 2 schematically shows the production on the basis of a single microlens 1. According to FIG. 2, the recording means are not illustrated
  • Carrier substrate 2 1 fixed, in particularêtkl ebten, lens mold 20 is.
  • a multiplicity of lenses 20 or a lens mold 20 m with a multiplicity of lens negatives 19 can be provided on the carrier substrate 2 1, the FIGS
  • Lensennegative 1 9 and di e lens molds 20 are applied to the carrier substrate 2 1 so that they are aligned with the openings 2 shown in Figure 1.
  • the lens negative 1 9 is surrounded by an orthogonal to the optical axis of the lens negative 1 9 arranged contact surface 22, on which the carrier wafer 1 7 with a corresponding, in vorl heeling
  • the carrier wafer 1 7 is fixed with its counter surface 23 on the contact surface 22, so that an inner ring 1 6 of the carrier wafer 1 7 and the lens mold 20 form a lens space 3, in which the lens 1 4th bi ldende lens material on Einbringmi medium is introduced. After the introduction of the lens material in the lens space 3, the lens 1 4 as
  • Lens stamp 9 provided upper lens punch 9 by
  • Alignment means for aligning the upper lens punch 9 with the Opening 1 4 and / or the lower lens punch 1 8 aligned, namely the optical axis A of a lens negative 1 2 one on a
  • the upper lens punch 9 is analogous to the lower lens punch 1 8 gebi LET and has a
  • the counter surface 7 is opposite to the counter surface 23 and paral lel arranged to this.
  • Lens stamp 9 is lowered along the optical axis A on the support wafer 17 and pressurized, with the lower
  • Linsenstempel 1 8 the corresponding back pressure is effected.
  • the lens material fills the lens space 3 bubble-free and any excess lens material can flow out of the lens space 3 or sucked through a not dargestel in the figures lete drainage system.
  • Lens material optimally acted upon, if by vacuum rubber at the same time a vacuum, in particular with a pressure ⁇ 500 mbar, preferably ⁇ 300mbar, more preferably ⁇ 200mbar, ideally ⁇ 1 00mbar, in the opening, in particular between the upper
  • the vacuum when pressurized is ⁇ 70 mbar, in particular ⁇ 40 mbar, preferably ⁇ 1 5 mbar, more preferably ⁇ 5 mbar.
  • Curing means of the device the lens material is cured, so that a hard lens 14 is formed, which corresponds in shape to the lens space 3.
  • the curing agents may be a Lichtquel le for UV light in UV-curable lens material or heating means in thermoplastically curable polymer as a lens material.
  • Carrier wafer 1 7 has a support structure 25 in the form of a pointed in the embodiment shown in Figure 2 in the direction of the optical axis A protruding from the inner ring 1 6 projection, go the lens 14 and the carrier wafer 1 7 a positive connection, which is not nondestructive solvable ,
  • FIG. 3 and 4 Alternative shapes of the support structure 25 are shown in FIG.
  • the alternative embodiment shown in Figures 3 and 4 corresponds to the difference that the lens 14 'in the one shown here
  • Embodiment receives a different form, i n the figures 1 and 2 shown embodiment of the invention.
  • Other changes in shape without functional changes affect the lens ⁇ , the upper carrier wafer 9 'and the lower carrier wafer 1 8'.
  • FIGS. 1 and 2 as well as FIG.
  • FIG. 6 shows a device for carrying out the method according to the invention with receiving means 50 for receiving the upper upper section of a plurality of upper lens punches 9, 9 4
  • T he recording means 50, 5 1 each consist of a chuck 52, 53 and in each case one on each jewei Chuck 52, 53, for example, via (not shown) vacuum webs, mounted, in cross-section U-shaped punch holder 54, 55th
  • the upper and / or the lower receiving means 50, 5 1 are movable up and down by a not dargestel LTE control.
  • Aligning means 56 for aligning the lower lens punch matrix 5 are provided on the lower lens punch matrix 5.
  • Aligning means 57 to align the lower lens punch matrix 5 are provided on the upper lens punch matrix 4.
  • Aligning means 58 for aligning the carrier wafer matrix 32 are provided on the carrier wafer matrix 32.
  • the alignment means 56, 57 and / or 58 comprise at least one (not illustrated) optics and are controlled by a control unit (not shown). Furthermore, the alignment means 56, 57 and / or 58 comprise movement means for moving the receiving means 50 and / or 5 1 parallel to the carrier wafer matrix 32.
  • introduction means 60 in the form of a syringe device 6 1 are provided with a syringe 62, in particular interchangeable syringe 62, which via a flexible fluid line 62 with a reservoir for
  • the syringe device 61 is designed as a drop dispenser and can drive each opening 2 of the carrier wafer structure and len filling a predetermined amount of Li nsenmaterial therein. Embossing agents for Druckbeaufsch lagung cause a settable
  • the device comprises means for curing the
  • Lens material during embossing in particular a UV light source and / or heating means acting on the lens material.

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse mit einem Trägerwafer, bei dem eine Linse in einer Öffnung des Trägerwafers durch Prägen der Linse in den Trägerwafer eingeformt wird sowie eine korrespondierende Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens und eine mit dem Verfahren hergestellte Mikrolinse. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Herstellung einer Mikrolinse sowie eine Mikrolinse.

Description

Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Mikrolinse
B e s c h r e i b u n g
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse nach Anspruch 1, eine Vorrichtung zur Herstellung einer Mikrolinse nach Anspruch X sowie eine Mikrolinse nach Anspruch X.
Mikrolinsen finden in erster Linie Anwendung für Geräte, die eine optische Fokussiereinrichtung benötigen, wie beispielsweise für Kameras von Mobiltelefonen. Auf Grund des Miniaturisierungsdrucks sollen die funktionalen Bauteile immer kleiner werden, was auch für Mikrolinsen der gattungsgemäßen Art gilt. Je weiter die Mikrolinsen miniaturisiert werden sollen, desto schwieriger wird deren optisch korrekte Herstellung, weil gleichzeitig ein enormer Kostendruck für die idealerweise in
Massenfertigung herzustellenden Mikrolinsen besteht.
BESTÄTIGUNGSKOPIE Im Stand der Technik werden M ikrolinsen auf einem Trägersubstrat durch unterschiedl iche Herstellverfahren erzeugt, wie beispielsweise i n der US 6,846, 1 37 B l , US 5 ,324,623 , US 5,853 ,960 und US 5,87 1 ,888 gezeigt. Al len vorgenannten Verfahren ist gemein, dass prinzipbedingt eine gewisse Dicke notwendig ist und das durch die M ikrolinse durchtretende Licht nicht nur die Linse, sondern auch das Trägersubstrat passieren muss.
Auf Grund der gleichzeitig geforderten hohen Qualität und der
Anforderungen an höhere Auflösung bei gleichzeitig höherer Brillanz, die unteren anderem von der Dicke und der Anzahl der Optiken entlang der optischen Achse, also des Strahlengangs, abhängt, ist eine weitere
Optimierung der M ikrolinsen gemäß dem Stand der Technik
wünschenswert.
Darüber hinaus besteht die Forderung nach einer mögl ichst hohen
Lichtausbeute, die insbesondere für M ikrooptiksysteme entscheidend ist, da der B i ldsensor eine meist sehr kleine Fläche einnimmt, auf die Licht auftri fft.
Die US 6,049,430 zeigt eine in einer Öffnung eines Trägersubstrats eingesetzte Linse, wobei der in Figur 2 gezei gte Herstellprozess eine Vielzahl von Schritten benötigt und daher aufwendig und wegen der hier erreichbaren Fertigungsgenauigkeiten für die oben genannten
Anforderungen zu ungenau sein dürfte. Nachteilig ist auch die Vielzahl der zu verwendenden Materialien.
Der vorl iegenden Erfindung l iegt daher die Aufgabe zu Grunde, eine, insbesondere in Massenfertigung herstel lbare, M i krol inse m i t mögl ichst hoher Lichtausbeute sowie hoher Bril lanz anzugeben, die durch ein erfindungsgemäßes Verfahren und eine erfindungsgemäße Vorrichtung auf einfache, für die Massenfertigung geeignete Art und Weise mit flexibler Form herstellbar ist.
Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen der Ansprüche 1 , X und X gelöst. Vortei lhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben. In den Rahmen der Erfindung fallen auch sämtliche
Kombinationen aus zumindest zwei von in der Beschreibung, den
Ansprüchen und/oder den Figuren angegebenen Merkmalen. Bei
angegebenen Wertebereichen sollen auch innerhalb der genannten
Grenzen liegende Werte als Grenzwerte offenbart gelten und in bel iebiger Kombination beanspruchbar sein.
Die Erfindung beruht auf dem Gedanken, eine Mikrolinse dadurch herzustellen, dass eine Linse direkt in einen Trägerwafer eingeformt wird, so dass der Trägerwafer den durch die Linse tretenden Lichtstrahl nicht behindert beziehungsweise außerhalb des Strahlengangs angeordnet ist. Somit wird die Linse von zwei Seiten des Trägerwafers durch einen oberen und unteren Linsenstempel geformt, so dass durch, insbesondere kolineare, Ausrichtung des oberen Linsenstempels zum unteren
Linsenstempel und/oder zum Trägerwafer eine hochgenaue Mikrolinse herstellbar ist. Durch das Abweichen von der bisherigen Vorgehensweise im Stand der Technik wird erfindungsgemäß ermöglicht, die Linsenform flexibler zu gestalten, insbesondere im Bereich der bisher vom
Trägerwafer belegten unteren Linsenseite. Der starre Trägerwafer sorgt dabei für eine Formstabilität bei der
Herstel lung der Linse, da diese meist eine Ausdehnung/Schrumpfung der Linse mit sich bringt.
Insbesondere bei der durch das vorliegende Verfahren und die
erfindungsgemäße Vorrichtung ermöglichte gleichzeitige Herstel len einer Vielzahl von Linsen mit einer Trägerwafermatrix und zwei
Linsenstempelmatrizen gewährleistet der Trägerwafer außerdem die Integrität der optischen Achsen der Linsen zueinander. Die jeweiligen Gitterpositionen jedes korrespondierenden oberen und unteren Stempels sowie der korrespondierenden Öffnung des Trägerwafers können somit genau ausgerichtet werden, da der Trägerwafer nicht den
Größenänderungen bei der Herstellung unterworfen ist. M it einer
Trägerwafermatrix und den zwei korrespondierenden
Linsenstempelmatrizen können bei einem Trägerwaferdurchmesser von 200mm ca. 2000 Linsen mit einem erfindungsgemäßen Prozesslauf hergestel lt werden.
Erfindungsgemäß ist dabei ein Mikrolinsennegativ an jedem
Linsenstempel vorgesehen, dessen Form die Krümmung der jeweiligen Seite der mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestel lten Mikrol inse bestimmt. Die Form der Linsen kann konvex, planar oder konkav ausgeführt werden. Das Linsenprofi l kann erfindungsgemäß sphärisch oder asphärisch sein.
Die Linse ist aus einem UV-härtbaren oder thermisch härtbaren
Linsenmaterial gebildet, wobei einer der beiden Linsenstempel im Falle eines UV-härtbaren Linsenmaterials UV-lichtdurchlässig ausgebi ldet ist. Das Linsenmaterial ist erfindungsgemäß zum indest überwiegend, vorzugsweise vol lständig, lösungsm ittel frei und zur vol lständigen
Vernetzung geeignet.
Der erfindungsgemäß vorgesehene Trägerwafer, in welchen die Linse einformbar ist beziehungsweise eingeformt wird, dient zur Halterung und Fix ierung der Linse in der erfindungsgemäß hergestellten M ikrol inse sowie insbesondere als Abstandhalter zwischen dem oberen und dem unteren Linsenstempel , so dass unter anderem die Dicke der M ikrolinse durch die Dicke des Trägerwafers beeinflusst wird. Der Trägerwafer kann mit Vorteil auch für die Herstellung einer Vielzahl von M ikrolinsen verwendet werden, indem in den Trägerwafer viele Linsen eingeformt werden, die später in einzelne M ikrolinsen geteilt werden. S oweit der Trägerwafer als Ring mi t einer Öffnung zur Aufnahme der Linse ausgebildet ist, wird die Linse an ihrem gesamten Umfang von dem Trägerwafer gehal ten und stabilisiert. Der Linsenring kann an seiner Ringinnenseite und/oder seiner Ri ngaußenseite quadratisch,
halbkreisförmig, dreieckig, ell iptisch ausgebildet sein, wobei am
Innenring mit Vortei l eine Haltestruktur, insbesondere Vorsprünge, zur wirksameren Fix ierung der Linse im Trägerwafer vorgesehen sind, vorzugsweise als Ausformungen des Trägerwafers, also einstückig mit dem Trägerwafer. Vorzugsweise überragen die Haltestrukturen die Ringinnenseite um mindestens ein Fünftel der Dicke des Trägerwafers.
Alternativ ist die Haltestruktur als Oberflächenrauigkeit des Innenrings des Trägerwafers ausgebildet, an der das Linsenmaterial und di e ausgehärtet Linse in Richtung der optischen Achse gehalten werden. Zur Vermeidung von Thermodehnungen beziehungsweise
Thermospannungen ist m it Vorteil vorgesehen, dass das Linsenmaterial und der Trägerwafer einen i n etwa gleichgroßen thermischen
Ausdehnungskoeffizienten aufweisen. Soweit die Linse und der
Trägerwafer einen unterschiedlichen thermischen
Ausdehnungskoeffizienten haben, wird die Linse erfindungsgemäß so ausgebildet, dass die Form der Linse bei unterschiedlichen Temperaturen im Wesentlichen skaliert, so dass die Linse bei unterschiedlichen
Temperaturzuständen selbstähnlich ist und ihre optischen Eigenschaften kaum ändert. In diesem Fall ist es von Vorteil, wenn die Linse
erfindungsgemäß einen größeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten im ausgehärteten Zustand aufweist als der Trägerwafer. Auf diese Weise wird bei der Herstellung der M ikrolinse durch den größeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Linse beim Abkühlen der Linse während der Herstel lung ein min imaler Leerraum zwischen dem Trägerwafer und der Li nse ausgebi ldet, der als Puffer für die Ausdehnung der Linse bei unterschiedlichen Temperaturen dient. Erfindungsgemäß kann bei der Herstellung der M ikrolinse, insbesondere bei einem UV-aushärtenden Linsenmaterial eine Erwärmung beim Härten des Linsenmaterials vorgesehen sein, um den oben genannten Effekt zu erzielen.
Die Linse ist demnach erfindungsgemäß formschlüssig mit dem
Trägerwafer, insbesondere mit dem Innenring des Trägerwafers, verbunden.
Die Linsenstempel bestehen in vorteilhafter Ausführungsform aus einem Trägersubstrat und einem an dem Trägersubstrat fixierten
M ikrolinsennegativ. Gemäß einer Ausführungsform des Linsenstempels ist mindestens ein Li nsenstempel mit ei nem Abfluss für überschüssiges Linsenmaterial versehen.
Der Prozessablauf zur Herstel lung der M ikrol inse ist vorzugsweise wie folgt:
Das Mikrol insennegativ des unteren Linsenstempels wird fixiert, insbesondere durch Fixierung des Linsenstempels m ittels einer
Aufnahmeeinrichtung zur Aufnahme des unteren Linsenstempels.
Anschließend wird der Trägerwafer so zum M ikrolinsennegativ des unteren Linsenstempels ausgerichtet/justiert, dass die optische Achse des Mikrolinsennegativs und die Längsmittel achse des Trägerwafers kolinear sind. Alternativ und insbesondere für die Herstellung von mehreren Linsen gleichzeitig mit einem Trägerwafer wird der Trägerwafer koplanar mit dem Trägersubstrat des unteren Linsenstempels justiert. Anschließend wird der Trägerwafer auf dem Trägersubstrat des M ikrolinsennegativs, also auf den Linsenstempel, abgelegt und fix iert. Die Fix ierung ist durch Vakuumstrukturen im Linsenstempel oder elektrostatisch durch in den Linsenstempel eingearbeitete Elektrostatikmittel, aber auch mechanisch durch Klemmen und/oder Adhäsion denkbar.
Anschließend wird Linsenmaterial, insbesondere ein UV- oder
thermoplastisch aushärtbares Polymer in die Öffnung des Trägerwafers über dem M ikrolinsennegativ des unteren Linsenstempels eingebracht, wobei die Viskosität des Linsematerials beim Einbringen derart gewählt wird, dass der durch den Innenring des Trägerwafers und den
Linsenstempel gebi ldete Linsenraum blasenfrei ausfüllbar ist. Die Menge des eingebrachten Linsenmaterials ist derart bemessen, dass bei m anschl ießenden Prägen der Linse ausreichend Linsenmaterial vorhanden ist, um das M ikrolinsennegativ des oberen Linsenstempels auszufül len .
Das Einbringen erfolgt in einer al ternativen Ausführungsform vollfläch ig auf dem Trägerwafer/der Trägerwafermatrix, wodurch die Öffnung(en) ausgefül lt wird/werden und überschüssiges beziehungsweise für den Trägerwafer überragende Linsenstrukturen benötigtes Linsenmaterial den Trägerwafer/die Trägerwafermatrix bedeckt.
Gemäß einer weiteren, alternativen Ausführungsform der Erfindung wird das Linsenmaterial einzeln in die Öffnung(en) des Trägerwafers/der Trägerwafermatrix eingefül lt, insbesondere durch Dosierung mit einem Tropfendispenser oder mit einer Pipette.
Anschließend wi rd die optische Achse des oberen Linsenstempels kol inear mit der optischen Achse des unteren Linsenstempels
beziehungsweise des Linsennegativs des unteren Linsenstempels und/oder mit der Längsmittelachse des Trägerwafers justiert. Anschl ießend wird der obere Linsenstempel mit Druck auf den unteren Linsenstempel und den dazwischen angeordneten Trägerwafer gepresst. Im Fal le der UV- Aushärtung wird das Linsenmaterial mittels UV-Licht mit genügend hoher Intensität durch den oberen Linsenstempel, der in diesem Fall transparent beziehungsweise UV-durchlässig ist, und/oder durch den unteren Linsenstempel bestrahlt und das Polymer vernetzt. Bei
thermoplastischer Aushärtung ist das Material der Linsenstempel mit einer ausreichend hohen Wärmeleitfähigkeit ausgestattet, um den
Wärmetransport zu begünstigen. Die Ausrichtung der Linsenstempel m it dem Trägerwafer erfolgt durch eine Ausrichtungsmechanik, insbesondere mit einer
Ausrichtungsgenauigkeit von weniger als 500μηι, insbesondere weniger als 200μιτι, vorzugsweise weniger als Ι ΟΟμιη, idealerweise weniger als 70μπι Abweichung und/oder mit optischen Ausrichtungsmitteln mit einer Ausrichtungsgenauigkeit von weniger als Ι Ομιτι, insbesondere weniger als 5μπι, vorzugsweise weniger als 3 μπι Abweichung. Die optische
Ausrichtung ist insbesondere für die Ausrichtung des oberen und unteren Li nsenstempels beziehungsweise der oberen und unteren
Linsenstempelmatrix vorteilhaft. Optikmittel sind insbesondere Laser oder Mikroskope, die durch Markierungen an den Linsenstempeln oder an den Linsenstempelmatrizen eine genaue Ausrichtung ermögl ichen.
Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung erfolgt die Ausrichtung der Linsenstempel, insbesondere zusätzl ich zu der Ausrichtung an dem Trägerwafer, durch paralleles Ausri chten der
Li nsenstempel zueinander, wobei auch die Position der optischen
Achse(n) der Linsennegative berücksichtigt wird.
Indem beim Prägen Anlageflächen der Linsenstempel zur koplanaren Ausrichtung der Linsenstempel an korrespondierenden Gegenflächen des Trägerwafers an l iegen, werden die Linsenstempel anhand der,
insbesondere parallelen, gegenüberl iegenden Gegenflächen des
Trägerwafers ausgerichtet, wodurch die optischen Achsen der
Linsennegative genau ausgerichtet werden.
Erfindungsgemäß parallel bedeutet eine Abweichung von weniger als Ι Ομπι über die Breite jeder Linse, die zwischen Ι ΟΟμηι und 6mm liegt. Höchstens beträgt die Abweichung der Parallelität daher 1 0%, insbesondere weniger als 7%, vorzugsweise weniger als 5%, noch bevorzugter wen iger als 3%, idealerweise weniger als 1 ,5%. Damit wird eine praktisch ideale Übereinstimmung der optischen Achsen ermöglicht. Di e Höhe der Linsen l iegt übl icherweise zwischen 50 und 500μ πι, wobei die Höhe bei der erfindungsgemäßen Mikrol inse im Vergleich zum Stand der Technik im Wesentlichen um die Breite des Trägerwafers reduziert werden kann.
Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist an der Mikrolinse, insbesondere parallel zur optischen Achse der Linse, eine
Selbstzentrierungsstruktur, insbesondere als Ausformung des
Trägerwafers, vorgesehen, die beispielsweise zur selbsttäti gen
Ausrichtung der M ikrolinse mit einer weiteren M ikrol inse dient, die eine korrespondierende, invertierte Struktur aufweist, insbesondere in Form von Kodierrippen. Die Selbstausrichtung funktioniert nach dem
Sch lüssel-Schloss-Prinzip oder nach Art einer Nut-Feder-Verbindung. Besonders bevorzugt ist eine konusartige Ausgestaltung der Nut-Feder- Verbindung.
Die Beschreibung des Verfahrens und der Vorrichtung zur Herstellung einer einzigen Mikrol inse bezieht sich analog auf die Herstel lung einer Vielzahl von M ikrolinsen mit der Besonderheit, dass diese erst durch die erfindungsgemäße Ausgestal tung ermögl icht wird. Statt eines oberen Linsenstempels wird eine obere Linsenstempelmatrix verwendet, die viele Linsenstempel, insbesondere als einstückige Linsenstempelstruktur, umfasst. Analog ist die untere Linsenstempelmatrix gebildet. Der
Trägerwafer ist als Trägerwafermatrix, insbesondere in Form einer einstückigen Trägerwaferstruktur, mit einer Vielzahl von Öffnungen versehen. Für die Beaufschlagung in der bevorzugten Alternative, bei der eine Ausrichtung der Linsenstempelmatrizen an Anlageflächen der
Linsenstempel matrizen erfolgt, ist die Trägerwafermatrix durchsetzbar von einem Abstandhalter der oberen und/oder unteren
Linstenstempelmatrix, der jeweils die Anlagefläche bildet und die Dicke der Li nse vorgibt.
Gemäß einer eigenständigen Ausführung der Erfindung wird der
Trägerwafer nach der Herstellung der Mikrolinse zumindest teilweise, vorzugsweise vollständig entfernt. Dadurch werden die Ab messungen und das Gewicht der Linse weiter reduziert. Das Entfernen erfolgt
vorzugsweise durch Ausstossen der Linse aus dem, insbesondere mit einer Haltestruktur mit geringfügi gen Vorsprüngen versehenen,
Trägerwafer erfolgen. Geringfügige Vorsprünge sind insbesondere als Oberflächenrauigkeit des Innenrings ausgestaltet.
Weitere Vortei le, Merkmale und Einzel heiten der Erfi ndung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele sowie an Hand der Zeichnungen. Diese zeigen in:
Fig. 1 : eine schematische Querschnittsansicht einer
erfindungsgemäßen Mikrol insenmatrix aus einer Vielzahl von einer in einer Trägerwaferstruktur eingeformten Linse,
Fig. 2: eine schematische Darstellung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung zur Herstellung einer erfindungsgemäßen
M ikrol inse, Fig. 3 : eine schemati sche Darstel lung einer erfindungsgemäßen M ikroli nsenmatrix aus einer Vielzahl von einer in einer Trägerwaferstruktur eingeformten Linse gemäß einer alternativen Ausführungsform,
Fig. 4 : ei ne schemati sche Darstellung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung zur Herstellung einer erfindungsgemäßen
Mikrolinse gemäß einer alternativen Ausführungsform,
Fig. 5 : eine schematische Darstellung von erfindungsgemäßen
Formen einer Haltestruktur und
Fig. 6 : eine schematische Darstel lung einer erfindungsgemäßen
Vorrichtung zur Herstellung einer Vielzahl von Mikrolinsen .
In den Figuren sind gleiche Bauteile und Bautei le mit der gleichen
Funktion mit den gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet.
In der Figur 1 ist eine Mikrolinsenmatrix 3 1 im Querschnitt dargestellt, die aus einer Trägerwaferstruktur 32 und einer Vielzahl von in Öffnungen 2 der Trägerwaferstruktur 32 beziehungsweise der späteren Trägerwafer 1 7 eingeformten Linsen 14 besteht. Die M ikrolinsenmatrix 3 1 kann durch bekannte Trennverfahren in einzelne Mikrolinsen 1 getrennt werden, wie sie vereinzelt in Explosionsdarstellung in Figur 2 gezeigt ist.
Die M ikrol insen 1 sind als M ikrolinsenmatrix 3 1 in Massenfertigung herstellbar, können aber auch einzeln erzeugt werden. In Figur 2 ist die Herstellung anhand einer einzelnen Mikrolinse 1 schematisch gezeigt. Gemäß Figur 2 ist auf nicht dargestel lten Aufnahmemitteln der
erfindungsgemäßen Vorrichtung ein unterer Linsenstempel 1 8
aufnehmbar, der aus einem Trägersubstrat 2 1 und einer auf dem
Trägersubstrat 2 1 fix ierten, insbesondere aufgekl ebten, Linsenform 20 besteht. Bei Massenfertigung können auf dem Trägersubstrat 2 1 eine Vielzahl von Linsen formen 20 beziehungsweise eine Linsen form 20 m it einer Vielzahl von Linsennegativen 1 9 vorgesehen sei n, wobei die
Linsennegative 1 9 beziehungsweise di e Linsenformen 20 so auf dem Trägersubstrat 2 1 aufgebracht sind, dass sie fluchtend mit den in Figur 1 gezeigten Öffnungen 2 ausrichtbar sind.
Das Linsennegativ 1 9 ist von einer orthogonal zur optischen Achse des Linsennegativs 1 9 angeordneten Anlagefläche 22 umgeben, auf der der Trägerwafer 1 7 mit einer korrespondierenden, im vorl iegenden
Ausführungsbeispiel ringförmi gen Gegenfläche 23 dichtend zur Anlage kommt.
Sobald der Trägerwafer 1 7, wie in Figur 2 gezeigt, mit seiner
Längsmittelachse zu der optischen Achse A ausgerichtet ist, wird der Trägerwafer 1 7 mit seiner Gegenfläche 23 auf der Anlagefläche 22 fixiert, so dass ein Innenring 1 6 des Trägerwafers 1 7 und die Linsenform 20 einen Linsenraum 3 bilden, in welchen das die Linse 1 4 bi ldende Linsenmaterial über Einbringmi ttel einbringbar ist. Nach dem Einbringen des Linsenmaterials in den Linsenraum 3 wird die Linse 1 4 wie
nachfolgend beschrieben geprägt.
H ierzu ist ein durch Aufnahmemittel zur Aufnahme ei nes oberen
Linsenstempels 9 vorgesehener oberer Linsenstempel 9 durch
Ausrichtungsm i ttel zur Ausrichtung des oberen Linsenstempels 9 mit der Ö ffnung 1 4 und/oder dem unteren Linsenstempel 1 8 ausrichtbar, und zwar zur optischen Achse A eines Linsennegativs 1 2 einer auf einem
Trägersubstrat 1 0 aufgebrachten Linsenform 1 1 . Der obere Linsenstempel 9 ist analog dem unteren Linsenstempel 1 8 gebi ldet und weist eine
Anlagefläche 8 zur, insbesondere dichtenden, Anlage des oberen
Linsenstempels 9 an einer Gegenfläche 7 des Trägerwafers 1 7 auf. Die Gegenfläche 7 ist gegenüberliegend zur Gegenfläche 23 und paral lel zu dieser angeordnet.
Nach Ausrichtung des oberen Linsenstempels 9 wird der obere
Linsenstempel 9 entlang der optischen Achse A auf den Trägerwafer 17 abgesenkt und mit Druck beaufschlagt, wobei über den unteren
Linsenstempel 1 8 der entsprechende Gegendruck bewirkt wird. Das Linsenmaterial füllt den Linsenraum 3 blasenfrei aus und etwaiges überschüssiges Linsenmaterial kann über einen in den Figuren nicht dargestel ltes Abflusssystem aus dem Linsenraum 3 abfließen oder abgesaugt werden.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist das
Linsenmaterial optimal beaufschlagbar, wenn durch Vakuummi ttel gleichzeitig ein Vakuum, insbesondere mit einem Druck <500mbar, vorzugsweise <300mbar, noch bevorzugter <200mbar, idealerweise < 1 00mbar, in der Öffnung, insbesondere zwischen dem oberen
Linsenstempel und dem Trägerwafer, angelegt wird.
Gemäß einer noch bevorzugteren Ausführungsform ist das Vakuum beim Beaufschlagen <70mbar, insbesondere <40mbar, vorzugsweise < 1 5mbar, noch bevorzugter <5mbar. Über Aushärtemittel der Vorrichtung wird das Linsenmaterial ausgehärtet, so dass eine harte Linse 14 entsteht, die der Form nach dem Linsenraum 3 entspricht. Die Aushärtemittel können eine Lichtquel le für UV-Licht bei UV-aushärtbarem Linsenmaterial oder Heizmittel bei thermoplastisch aushärtbarem Polymer als Linsenmaterial sein.
Indem der den Innenring 1 6 und einen Außenring 24 aufweisende
Trägerwafer 1 7 eine Haltestruktur 25 in Form von einem beim gezeigten Ausführungsbeispiel gemäß Figur 2 spitz in Richtung der optischen Achse A vom Innenring 1 6 hervorstehenden Vorsprung aufweist, gehen die Linse 14 und der Trägerwafer 1 7 eine formschlüssige Verbindung ein, die nicht zerstörungsfrei lösbar ist.
Alternative Formen der Haltestruktur 25 sind in Figur 5 gezeigt. Die in den Figuren 3 und 4 gezeigte alternative Ausführungsform entspricht mit dem Unterschi ed, dass die Linse 14 ' bei dem hier gezeigten
Ausführungsbeispiel eine andere Form erhält, der i n den Figuren 1 und 2 gezeigten Ausführungsform der Erfindung. Weitere Formänderungen ohne funktionale Änderungen betreffen die Linse Γ, den oberen Trägerwafer 9 ' und den unteren Trägerwafer 1 8 '. Es wird auf die Erläuterung zu Figur 1 und 2 sowie 5 Bezug genommen.
In Figur 6 ist eine Vorrichtung zur Ausübung des erfindungsgemäßen Verfahrens gezeigt mit Aufnahmemitteln 50 zur Aufnahme der eine Vielzahl oberer Linsenstempel 9, 94 aufweisenden oberen
Linsenstempelmatrix 4 sowie Aufnahmemitteln 5 1 zur Aufnahme der eine Vielzahl von unteren Linsenstempeln 1 8, 1 8' umfassenden unteren
Linsenstempel matrix 5. D ie Aufnahmemittel 50, 5 1 bestehen jeweils aus einem Chuck 52, 53 und jeweils einer am jewei ligen Chuck 52, 53 , beispielsweise über (nicht gezeigte) Vakuumbahnen, angebrachten, im Querschnitt U-förmigen Stempelaufnahme 54, 55.
Die obere und/oder die unteren Aufnahmemittel 50, 5 1 sind durch eine nicht dargestel lte Steuerung Auf und Ab bewegbar.
An der unteren Linsenstempelmatrix 5 sind Ausrichtungsmittel 56 zur Ausrichtung der unteren Linsenstempelmatrix 5 vorgesehen. An der oberen Linsenstempelmatrix 4 sind Ausrichtungsmittel 57 zur
Ausrichtung der oberen Linsenstempelmatrix 4 vorgesehen. An der Trägerwafermatrix 32 sind Ausrichtungsmittel 58 zur Ausrichtung der Trägerwafermatrix 32 vorgesehen.
Die Ausrichtungsmittel 56, 57 und/oder 58 umfassen m indestens eine (nicht dargestel lte) Optik und sind gesteuert durch eine nicht dargestellte Steuereinheit. Weiterhin umfassen die Ausrichtungsmi ttel 56, 57 und/oder 58 Bewegungsmittel zur Bewegung der Aufnahmemi ttel 50 und/oder 5 1 parallel zur Trägerwafermatrix 32.
Am unteren Aufnahmemittel 5 1 sind Fix iermittel 59 zur Fixierung der Trägerwafermatrix 32 mit der unteren Linsenstempelmatrix 5 nach
Ausrichtung durch die Ausrichtungsmittel 56 vorgesehen.
Weiterhin sind Einbringmittel 60 in Form einer Spritzeneinrichtung 6 1 mit einer - insbesondere austauschbaren - Spritze 62 vorgesehen, die über eine flexible Fluidleitung 62 mit einem Vorratsbehälter für
Linsenmaterial verbunden ist. Die Spritzeneinrichtung 61 ist als Drop Dispenser ausgeführt und kann jede Öffnung 2 der Trägerwaferstruktur an fahren und eine vorgegebene Menge an Li nsenmaterial darin einfül len. Prägemittel zur Druckbeaufsch lagung bewirken eine einstel lbare
Flächenkraft entlang der Trägerwafermatrix, insbesondere durch entgegengesetzt jeweils in Richtung der Trägerwafermatrix wirkende, an den Ausrichtungsm itteln 50, 5 1 anl iegende Kräfte Fo und Fu,
beispielsweise übertragen durch jewei ls einen Hydraul ikzyl inder.
Weiterhin umfasst die Vorrichtung M ittel zum Aushärten des
Linsenmaterials beim Prägen, insbesondere eine das Linsenmaterial beaufschlagende UV-Lichtquelle und/oder Heizmittel .
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Mikrolinse B ezu g s ze i c h e n l i s t e
Mikrolinse
Mikrolinse
Öffnung
Linsenraum
Linsenstempelmatrix
Linsenstempel matrix
Gegenfläche
Anlagefläche
oberer Linsenstempel
oberer Linsenstempel
Trägersubstrat
Linsenform
Linsennegativ
Linse
' Linse
Innenring
Trägerwafer
unterer Linsenstempel
' unterer Linsenstempel
Linsennegativ
Linsenform
Trägersubstrat Anlagefläche
Gegenfläche
Außenri ng
Hal testruktur
ikrolinsenmatrix
Trägerwaferstruktur/Trägerwafermatrix optische Achse
Aufnahmemittel
Aufnahmemittel
Chuck
Chuck
Stempelaufnahme
Stempelaufnahme
Ausrichtungsmittel
Ausrichtungsmittel
Ausrichtungsmittel
Fixiermittel
Einbringmittel
Spritzeneinrichtung
Fluidleitung

Claims

Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Mikrolinse P a t e n t a n s p rü c h e
1. Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse (1, 1') mit einem
Trägerwafer (17), bei dem eine Linse (14, 14') in einer Öffnung des Trägerwafers (17) durch Prägen der Linse (14, 14') in den
Trägerwafer eingeformt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Trägerwafer (17), insbesondere ausschließlich, außerhalb eines Strahlengangs der Mikrolinse (1, 1') angeordnet ist.
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem
beim Prägen gleichzeitig eine Vielzahl von Linsen (14, 14') in korrespondierende Öffnungen (2) einer korrespondierende
Trägerwafer (17) umfassenden Trägerwafermatrix (32) eingeformt wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem
beim Prägen Anlageflächen (8, 22) der Linsenstempel (9, 9', 18, 18') zur koplanaren Ausrichtung der Linsenstempel (9, 9', 18, 18') an korrespondierenden Gegenflächen (7, 23) des Trägerwafers (17) anliegen.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem beim Prägen eine Anlagefläche (8) des oberen Linsenstempels (9, 9') zur koplanaren Ausrichtung der Linsenstempel (9, 9', 18, 18') an einer korrespondierenden Anlagefläche (22) des Trägerwafers (17) anliegt.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit
folgendem Ablauf:
Ausrichtung und Fixierung eines unteren Linsenstempels (18, 18') mit der Öffnung des Trägerwafers (17),
- Einbringung eines die Linse (14, 14') bildenden
Linsenmaterials in die Öffnung (2),
- Prägen der Linse (14, 14') durch Beaufschlagung des
Linsenmaterials mit einem oberen Linsenstempel (9, 9') und
- Aushärten der Linse (14, 14').
7. Vorrichtung zur Herstellung einer Mikrolinse mit folgenden
Merkmalen:
- Aufnahmemittel (50) zur Aufnahme eines oberen
Linsenstempels (9, 9'),
- Aufnahmemittel (51) zur Aufnahme eines unteren
Linsenstempels (18, 18'),
- Ausrichtungsmittel (56) zur Ausrichtung des unteren
Linsenstempels (18, 18') mit einer Öffnung (2) eines auf dem unteren Linsenstempel (18, 18') aufnehmbaren Trägerwafers (Π),
Fixiermittel (59) zur Fixierung des Trägerwafers (17) mit dem unteren Linsenstempel (18, 18'),
- Ausrichtungsmittel (57) zur Ausrichtung des oberen
Linsenstempels (9, 9') mit der Öffnung (2) und/oder dem unteren Linsenstempel (18, 18'),
Einbringmittel (60) zur Einbringung eines eine Linse (14, 14') der Mikrolinse (1, ) bildenden Linsenmaterials in die Öffnung (2) des mit dem unteren Linsenstempel (18) fixierten Trägerwafers (17) und
- Prägemittel zur Beaufschlagung des in die Öffnung (2)
eingebrachten Linsenmaterials mit dem oberen
Linsenstempel (9, 9'). Vorrichtung zur Herstellung einer Vielzahl von Mikrolinse mit folgenden Merkmalen:
Aufnahmemittel (50) zur Aufnahme einer oberen
Linsenstempelmatrix (4),
- Aufnahmemittel (51) zur Aufnahme einer unteren
Linsenstempelmatrix (5),
Ausrichtungsmittel (56, 58) zur Ausrichtung der unteren Linsenstempelmatrix (5) mit einer Trägerwafermatrix (32), Fixiermittel (59) zur Fixierung der Trägerwafermatrix (32) mit der unteren Linsenstempelmatrix (5),
Ausrichtungsmittel (57, 58) zur Ausrichtung der oberen Linsenstempelmatrix (4) mit der Trägerwafermatrix (32) und/oder der unteren Linsenstempelmatrix (5),
Einbringmittel (60) zur Einbringung eines eine Vielzahl von Linsen (14, 14') der Mikrolinsen (1, 1') bildenden
Linsenmaterials in Öffnungen (2) der mit der unteren Linsenstempelmatrix (5) fixierten Trägerwafermatrix (32) und
Prägemittel zur Beaufschlagung des in die Öffnungen (2) eingebrachten Linsenmaterials mit der oberen
Linsenstempelmatrix (4).
Mikrolinse mit einer Linse (14), die durch Prägen in eine Öffnung eines Trägerwafers (17) eingeformt ist.
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