EP1407299A1 - Verzögerungselement aus kubischem kristall und optische systeme damit - Google Patents

Verzögerungselement aus kubischem kristall und optische systeme damit

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Publication number
EP1407299A1
EP1407299A1 EP02752986A EP02752986A EP1407299A1 EP 1407299 A1 EP1407299 A1 EP 1407299A1 EP 02752986 A EP02752986 A EP 02752986A EP 02752986 A EP02752986 A EP 02752986A EP 1407299 A1 EP1407299 A1 EP 1407299A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
delay element
delay
lens
plate
crystal
Prior art date
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Withdrawn
Application number
EP02752986A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Jürgen HARTMAIER
Damian Fiolka
Markus Zenzinger
Birgit Mecking
Olaf Dittmann
Toralf Gruner
Vladimir Kamenov
Martin Brunotte
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
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Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Publication of EP1407299A1 publication Critical patent/EP1407299A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/02—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G02B5/3091—Birefringent or phase retarding elements for use in the UV
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    • G03F7/70308—Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
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    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7095—Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
    • G03F7/70958—Optical materials or coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance or anti-reflection properties
    • G03F7/70966—Birefringence

Definitions

  • the invention relates to a delay element made of cubic crystal and optical systems with such delay elements.
  • Delay elements of this type are known, for example, from US Pat. No. 6,191,880 B.
  • a delay element is described in the form of a delay plate, that is to say a birefringent plate, which causes a phase shift between two orthogonally polarized transmitted beams and can be designed, for example, as a ⁇ / 4 or ⁇ / 2 plate.
  • the plate consists of calcium fluoride, which exhibits stress birefringence due to external forces or the manufacturing process. None is said about crystal orientation there.
  • cubic crystals Due to their symmetry, cubic crystals generally do not have birefringence.
  • High-quality delay elements for this wavelength range are required, for example, in projection exposure systems in microlithography, in particular in connection with catadioptric projection objectives. They are essential for projection lenses with polarization beam splitters as quarter-wave delay elements between the beam splitter and the concave mirror. With other types with deflecting mirrors with approx. 90 ° deflection, the reflection leads close to that Brewster angles to polarization-dependent reflectivities, which must be compensated.
  • the residual birefringence of fluoride crystal material with intrinsic birefringence, in particular calcium fluoride, which is maximal when the beam passes parallel to the ⁇ 110> crystal axis or parallel to an equivalent main axis of the crystal, and which has hitherto been regarded as a problem of lens systems made from this material was specifically used as a mechanism of action for retarders.
  • the element can be several millimeters or several centimeters thick.
  • the absolute thickness is also important for very precise delays only in an area which is problem-free for the production of optical elements.
  • the voltage birefringence due to manufacturing conditions in the claimed direction has a relatively high value according to US Pat. No. 6,201,634B.
  • the thickness of such a delay element with a desired delay for example as a quarter-wave retarder, can be determined from the measured value of the birefringence of the specific material batch and thus take into account both causes of the birefringence.
  • barium fluoride single crystal likewise has such birefringence, but with approximately twice the value of approximately 25 nm / cm. That is also Barium fluoride suitable in the same orientation and has the advantage of about half the thickness.
  • the use of CaF 2 or BaF 2 has the advantage that the thicknesses can be in the cm range. This extremely simplifies the manufacture of the delay elements.
  • the delay elements are the half-wave plates and the quarter-wave plates, the embodiment according to the invention made of relatively weakly birefringent materials being particularly suitable for representing zero-order plates.
  • the path difference is equal to (0 + 1/4) ⁇ or (0 + 1/2) ⁇ , so an ineffective path difference of a multiple of the wavelength is not additionally introduced.
  • plates made of magnesium fluoride this is unavoidable in order to achieve manageable plate thicknesses, but causes a reduction in the angle acceptance.
  • a delay plate carries a functional surface are particularly advantageous. Without an effective influence on the deceleration or the polarization rotation, one or both end faces can be provided with a structure that has a refractive or diffractive effect. Fresnel lenses, zone plates, refractive or diffractive grid plates and the like with structural heights up to the millimeter range can thus be provided without an additional component. Such components can be used, for example, in the lighting system of a microlithography
  • the polarization distribution can be influenced and the light conductance can be increased.
  • One or both end surfaces can also be spherical or aspherical or curved as a free-form surface, so that the retardation plate can simultaneously contribute to the correction of an optical system.
  • a considerably curved meniscus can also serve as the delay element according to the invention if the light path only corresponds sufficiently precisely to the desired delay over the entire cross section.
  • One or both interfaces or end surfaces can also have a considerable curvature, so that the delay element can form a, preferably meniscus-shaped, lens.
  • the delay element can thus also have positive or negative refractive power.
  • the integration of the decelerating effect, which is in the foreground here, with a lens effect can be used for material-saving, constructively favorable designs.
  • Such lenses can also be used in purely dioptric optical systems, particularly useful in microlithography projection lenses or lighting systems, and in catadioptric systems.
  • the intrinsic birefringence of the materials mentioned has its maximum value in ⁇ 110> crystal directions.
  • the amount of intrinsic birefringence shows a parabolically decreasing course with increasing angle, while the axes of the intrinsic birefringence approximately maintain the direction.
  • This fact can be used to even out the delay effect over the entire irradiated area.
  • the shape of the optical surfaces and the installation position of the delay element can be adapted to one another such that the light path of rays within the delay element between the optical surfaces is greater, the greater the angle between the beam and the optical axis or a ⁇ 110> direction of the delay element.
  • beams with a larger angle to the ⁇ 110> direction have to cover a longer light path, so that the retarding effect that results from the product between intrinsic birefringence and light path becomes approximately uniform over the entire effective area.
  • a delay element comprises a lens or lens group made of ⁇ 110> -oriented fluoride crystal which is arranged in the vicinity of the concave mirror and which is overall meniscus-shaped and has negative refractive power.
  • a lens or lens group of this type arranged in the vicinity of the pupil can have a largely constant or only slightly varying retarding effect over the entire pupil.
  • calcium fluoride or barium fluoride single crystal can be useful with all catadioptric or dioptric projection lenses.
  • a suitably dimensioned lens or lens group with the retarding effect of a ⁇ / 4 plate can be used, for example, in systems with a polarization-selective beam splitter as a (functionally necessary) retarder between the beam splitter and the concave mirror and / or elsewhere on a projection lens, for example between the object plane and the beam splitter and / or between beam splitter and image plane.
  • Fig. 1 shows a section of a catadioptric
  • Projection objective in which an embodiment of a meniscus-shaped delay element with a negative refractive power is arranged between a beam splitter surface and a concave mirror;
  • FIG. 2 is a schematic illustration of the catadioptric objective part of a projection objective with a physical beam splitter. The invention is first explained in more detail on the basis of exemplary embodiments of quarter-wave plates in comparison to designs made of magnesium fluoride.
  • a quarter-wave plate of zero order for the wavelength 157nm has a thickness of 39 mm made of calcium fluoride with a delay of 10nm / cm and a thickness of 15.7 mm made of barium fluoride with a delay of 25nm / cm.
  • the required thickness changes in proportion to the deviation in the delay. Plates of this thickness can be produced in the typical dimensions of lenses, currently in microlithography optics up to approx. 300 mm. They can be captured or stored using the technology available for lenses.
  • a corresponding zero-order quarter-wave plate for 157 nm made of magnesium fluoride has a thickness of only 5.5 ⁇ m (compare US Pat. No. 6,084,708 B).
  • the problem of stable storage can be solved by cracking onto a thicker element, such as a beam splitter prism.
  • the production of such a thin crystal plate with diameters over 100 mm remains a problem (see DE 197 04 936 A).
  • a twentieth-order quarter-wave plate also has a thickness of approximately 0.22 mm.
  • the deviation from the exact quarter-wave delay due to thickness variation has exactly the same relationship for zero or higher order plates. With magnesium fluoride, therefore, a thickness deviation of just 0.5 ⁇ m results in an unusable phase deviation of approx. 20%.
  • an error in the phase of 2% is likewise corresponding to a thickness error of likewise 2%. Due to the thickness of 39 mm this is 2% but 0.8 mm.
  • the normal manufacture optical elements is much more accurate, so thickness is not a manufacturing problem at all.
  • This permissible thickness tolerance now enables the end surfaces of the retardation plate to be processed as functional surfaces with a refractive or diffractive effect.
  • the exit surface is preferably suitable for this purpose, since within the retardation plate the light should propagate largely in the axial direction (i.e. essentially parallel to ⁇ 110>).
  • the loss of the linear degree of polarization remains below 2% for a 157 nm half-wave plate made of calcium fluoride, and it remains below 0.1% up to NA 0.15.
  • a zero-order half-wave plate made of magnesium fluoride allows a numerical aperture of up to 0.4 with the same quality. With higher-order plates, however, the angular acceptance decreases rapidly, with a twentieth-order half-wave plate it is only NA 0.1.
  • the materials of the delay plates according to the invention therefore offer greater angular acceptance in real terms.
  • the birefringence which varies several times over the azimuth angle, does not yet play a role either, owing to the birefringence properties which differ for other main axes and which can be disadvantageous especially for lenses.
  • planar plates are not provided for retardation plates, but rather single millimeter thick plates, or they are provided as a negligible thin layer on beam splitter prisms and the like.
  • centimeter-thick flat plates can be incorporated into the design with the help of experts who can easily make corrections. It complies with the fact that the end faces, as mentioned above, are even accessible to a certain extent as functional and correction means.
  • the applicant's EP 1 102 100 A shows a microlithographic catadioptric projection objective with a polarizing beam splitter cube, on which the beam path is largely collimated.
  • a quarter-wave plate is required between this and the concave mirror.
  • As a thick plate according to the invention it can be separated and derived, for example, from the thick, almost plano-convex lens in front of the concave mirror, also with a derivation for a wavelength of 157 nm.
  • a delay element 17 in the form of a ⁇ / 4 retarder that has been passed twice is arranged between the beam splitter 15 and the concave mirror 16.
  • This is a lens made of ⁇ 11 reoriented calcium fluoride crystal which is arranged in the vicinity of the concave mirror and which is overall meniscus-shaped and has negative refractive power.
  • the negative lens 17 arranged near the pupil has a double function.
  • it supports the chromatic correction of the projection lens as an optical lens together with the concave mirror 16.
  • it acts as a ⁇ / 4 delay element with a largely constant or only slightly varying delay effect over the entire pupil.
  • the (axial) thickness d of the delay element (in the z direction) is optimized as a function of the radial distance x from the optical axis in such a way that the light path of rays within the delay element between light entry and light exit becomes larger, the larger the angle ⁇ n between the beam and the optical axis of the delay element or the ⁇ 1 10> direction running parallel to it.
  • the adjustment is ideally such that the increase in thickness largely or completely compensates for the parabolic drop in intrinsic birefringence in the event of a deviation from the ⁇ 1 10> direction.
  • the beam splitter 15 can be a geometric beam splitter with one or more deflecting mirrors or a physical beam splitter with a beam splitter surface that is effective in a polarization-selective manner.
  • ⁇ n is the refractive index difference between the medium surrounding the delay element (normally air) and the material of the delay element, ⁇ _ the angle between the optical axis or the ⁇ 110> axis and the beam 18 in question and d (x) the thickness as a function of the radius x of the delay element.
  • the resulting lens thickness is considered to be unfavorable, it is also possible to distribute the delay over a plurality of delay lenses or combinations of delay lenses and delay plates, the total thickness of which can be determined, for example, according to the above (see FIG. 2).
  • the combined lens / delay element should be arranged in an area of incidence that is as small as possible.
  • the maximum angle of incidence in air should not be greater than approx. 39 °, since otherwise a crystallographic four-wave ripple of the deceleration as a function of the crystal direction can be noticeable. It is also favorable if the curvature of the lens is made smaller the smaller the angle m is.
  • the sum of the lens thicknesses should approximately correspond to the corresponding thickness of a ⁇ / 4 delay element made of the material. Small corrections to the overall thickness to adjust the retarding effect can be advantageous.
  • the retarding effect for marginal rays is set more precisely than for central rays. This can lead to a homogenization of the intensity distribution after double passage through the delay element.
  • the aspect of the invention also permits corrective measures in the event that the ideal total thickness determined is too large or too small. For example, a weakening of the delay is possible if two ⁇ 110> -cut lenses of approximately the same thickness are rotated relative to one another by 45 ° with respect to the ⁇ 110> axis. If the total thickness is too small, an additional, plane-parallel plate made of ⁇ 110> -oriented material can be provided, for example. It is particularly important to ensure that the inclination of the rays is not too great.
  • a polarization rotating device 23 with the effect of a ⁇ / 4 radar is arranged between the beam splitter 20 and the concave mirror 21.
  • the multi-part delay element 23 consists of two negative meniscus lenses 24, 25, each of which consists of ⁇ 110> -oriented calcium fluoride crystal.
  • the total axial thickness of the lenses in the central region near the axis corresponds to the corresponding thickness of a ⁇ / 4 retardation plate (for example approx. 36 mm for calcium fluoride at a working wavelength of 157 nm) and increases parabolically in the radial direction in order to equalize the retardation effect over the entire lens cross section in the range of Pupil arranged lenses 24, 25 to achieve.
  • the projection lens is designed for operation with circularly polarized input light and has a ⁇ / 4 plate 47 between object plane 26 and beam splitter 20 for converting the input light into light which is s-polarized with respect to beam splitter surface 28.
  • This plate 27 can consist, for example, of ⁇ 110> oriented calcium fluoride.
  • the light passes through the two lenses 24, 25 and is due to whose retarding effect is converted into circularly polarized light, which is reflected by the concave mirror 21 and runs back through the delay device 23. After passing through the retardation lenses 24, 25 again, the light is p-polarized with respect to the beam splitter layer 28 and passes through it with little loss in the direction of a deflecting mirror 29 which deflects the light in the direction of the object plane. It is hereby explained by way of example that the ⁇ / 4 redarder, which is necessary for such systems, between
  • Beam deflection device 20 and concave mirror can be formed by one or more lenses with a suitable retarding effect.
  • the conventionally required ⁇ / 4 plate between the beam splitter and the concave mirror can thus be omitted.
  • the cited documents should also be part of this application in full.
  • the invention is particularly advantageous at 157 nm and in its surroundings, since the intrinsic birefringence is particularly high here, but it also finds meaningful use in the 193 nm microlithography systems and other optical systems, for example inspection systems.

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Abstract

Als Verzögerungselemente für das tiefe Ultraviolett werden Zentimeter dicke Platten oder Linsen aus Kalziumfluorid oder Bariumfluorid mit Strahlausbreitung in Richtung der < 110 >-Kristallrichtung oder einer dazu äquivalenten Hauptachse vorgeschlagen, die spannungslos eingebaut werden. Eignung besonders für die Mikrolithographie bei 157 nm.

Description

Beschreibung Verzöqerunqselement aus kubischem Kristall und optische Systeme damit
Die Erfindung betrifft ein Verzögerungselement aus kubischem Kristall und optische Systeme mit derartigen Verzögerungselementen.
Verzögerungselemente dieser Art sind zum Beispiel aus der US 6,191 ,880 B der Anmelderin bekannt. Dort ist ein Verzögerungselement in Form einer Verzögerungsplatte beschrieben, also einer doppelbrechenden Platte, die eine Phasenverschiebung zwischen zwei orthogonal zueinander polarisierten durchtretenden Strahlen bewirkt und zum Beispiel als λ/4- oder λ/2-Platte ausgebildet sein kann. Die Platte besteht aus Kalziumfluorid, welches durch äußere Kräfte oder durch den Herstellprozess bedingt Spannungsdoppelbrechung aufweist. Zur Kristallorientierung ist dort nichts ausgesagt.
Regulär weisen kubische Kristalle aufgrund ihrer Symmetrie keine Doppelbrechung auf.
Herstellungsbedingte residuale Spannungsdoppelbrechung optischer Elemente aus Kalziumfluorid ist aus der US 6, 201 ,634 B 1 bekannt.
Klassische doppelbrechende Kristalle, wie Magnesiumfluorid, weisen eine derartig hohe Doppelbrechung auf, dass nur sehr dünne Platten benötigt werden, die aber technologische Probleme aufwerfen, wie beispielsweise der DE 197 04 936 A (US Ser. No. 09/017,159) und der US 6,084,708 B der Anmelderin zu entnehmen ist. An sich mögliche und gebräuchliche dickere Verzögerungsplatten mit einem Gangunterschied (n+1/4), d.h. λ-Verzögerungsplatten n-ter Ordnung, sind zwar dicker, benötigen aber die gleiche enge Dickentoleranz und haben eine weit geringere Winkeltoleranz für das Licht.
Viele andere bekannte Materialien für Verzögerungselemente stehen im Ultraviolettbereich von 200 bis 150 nm und darunter wegen zu hoher Absorption nicht zur Verfügung.
Aus der Internet-Publikation "Preliminary Determination of an Intrinsic Birefringence in CaF2" von John H. Burnett, Eric L. Shirley, and Zachary H. Levine, NIST Gaithersburg MD 20899 USA (verbreitet am 07.05.01) ist bekannt, dass Kalzium-Fluorid-Einkristalle auch nicht spannungsinduzierte, also intrinsische Doppelbrechung aufweisen. Die dort präsentierten Messungen zeigen, dass bei Strahlausbreitung in Richtung der <110>-Kristallachse eine Doppelbrechung von (6.5 ± 0.4) nm/cm bei einer Wellenlänge von λ = 156.1 nm auftritt. Messungen der Anmelderin zeigen 11 nm/cm. Die Doppelbrechung in den anderen Kristallachsrichtungen ist dagegen klein.
Es ist eine Aufgabe der Erfindung, eine alternative Bauart von Verzögerungselementen anzugeben, die für Wellenlängen im Bereich 200 bis 150 nm und darunter geeignet ist und sehr exakte Funktion bei mäßigem Fertigungsaufwand erlaubt. Es sollen auch günstige optische Systeme mit derartigen Verzögerungselementen bereitgestellt werden.
Hochwertige Verzögerungselemente für diesen Wellenlängenbereich werden z.B. in Projektionsbelichtungsanlagen der Mikrolithographie benötigt, insbesondere in Verbindung mit katadioptrischen Projektionsobjektiven. Zwingend werden sie bei Projektionsobjektiven mit Polarisationsstrahlteiler als Viertelwellen-Verzögerungselemente zwischen Strahlteiler und Konkavspiegel benötigt. Bei anderen Typen mit Umlenkspiegeln mit ca. 90° Umlenkung führt die Reflexion nahe dem Brewster-Winkel zu polarisationsabhängigen Reflektivitäten, welche kompensiert werden müssen.
Gelöst wird diese Aufgabe durch ein Verzögerungselement mit den Merkmalen von Anspruch 1. Vorteilhafte Weiterbildungen sind in abhängigen Ansprüchen angegeben. Der Wortlaut sämtlicher Ansprüche wird durch Bezugnahme zum Inhalt der Beschreibung gemacht.
Gemäß der Erfindung wird die residuale Doppelbrechung von Fluoridkrstallmaterial mit intrinsischer Doppelbrechung, insbesondere von Kalziumfluorid, die bei Strahldurchtritt parallel zur <110>- Kristallachse oder parallel zu einer dazu äquivalenten Hauptachse des Kristalls maximal ist, und die bisher als Problem von Linsensystemen aus diesem Material betrachtet wurde, gezielt als Wirkmechanismus für Verzögerungselemente (Retarder) eingesetzt. Wegen der verhältnismäßig geringen Doppelbrechung kann das Element mehrere Millimeter oder mehrere Zentimeter dick sein. Auf die absolute Dicke kommt es aber auch für sehr genaue Verzögerungen nur in einem für die Fertigung optischer Elemente problemlosen Bereich an.
Außer dieser intrinsischen Doppelbrechung hat auch die Spannungsdoppelbrechung aufgrund von Herstellungsbedingungen in der beanspruchten Richtung laut der US 6, 201 ,634 B einen relativ hohen Wert. Die Dicke eines derartigen Verzögerungselementes mit einer gewünschten Verzögerung, zum Beispiel als Viertelwellen- Retarder, kann aus dem gemessenen Wert der Doppelbrechung der konkreten Materialcharge bestimmt werden und somit beide Ursachen der Doppelbrechung berücksichtigen.
Zudem wurde von den Erfindern festgestellt, dass Bariumfluorid- Einkristall ebenfalls derartige Doppelbrechung aufweist, allerdings mit dem etwa doppelten Wert von ca. 25 nm/cm. Damit ist auch Bariumfluorid in gleicher Orientierung geeignet und hat den Vorteil etwa halber Dicke.
Es ist klar, dass auch alle anderen Kristalle, wenn sie eine ähnliche Doppelbrechung aufweisen, in gleicher Weise geeignet sind. Für andere im tiefen Ultraviolett transparente Fluorid-Kristalle sind diese Werte aber derzeit nicht bekannt. Lediglich für Strontiumfluorid ist in der US 6,201 ,634 B bezüglich der herstellbedingten Spannungsdoppelbrechung eine Angabe bekannt.
Im Vergleich zu extrem dünnen MgF2-Verzögerungsplatten hat die Verwendung von CaF2 oder BaF2 den Vorteil, dass die Dicken im cm- Bereich liegen können. Dies vereinfacht extrem die Fertigung der Verzögerungselemente.
Weitere Ausführungsformen sind Gegenstand der Unteransprüche.
Wichtige Ausführungen der Verzögerungselemente sind die Halbwellenplatten und die Viertelwellenplatten, wobei die erfindungsgemäße Ausführung aus relativ schwach doppelbrechenden Werkstoffen besonders geeignet ist zur Darstellung von Platten nullter Ordnung. Bei diesen ist der Gangunterschied gleich (0+1 /4)λ beziehungsweise (0+1/2)λ, es wird also nicht zusätzlich ein nicht wirksamer Gangunterschied von einem Vielfachen der Wellenlänge eingebracht. Bei Platten aus Magnesiumfluorid ist dies unumgänglich, um handhabbare Plattendicken zu erreichen, bewirkt aber eine Einschränkung der Winkelakzeptanz.
Eine spannungsfreie Lagerung ist möglich. Dies bedeutet beispielsweise, dass eine Verzögerungsplatte mit normalen Fassungen, wie sie auch für Linsen, Filterplatten und dergleichen benutzt werden, gelagert werden kann. Aufwendige Vorrichtungen zur homogenen Krafteinleitung, wie zum Beispiel nach der US 6,084,708 B, entfallen genauso wie Probleme der Halterung besonders dünner Elemente.
Besonders vorteilhaft sind Ausführungen, bei denen eine Verzögerungsplatte eine Funktionsfläche trägt. Ohne effektiven Einfluss auf die Verzögerung beziehungsweise die Polarisationsdrehung kann eine oder beide Endflächen mit einer Struktur versehen sein, die refraktiv oder diffraktiv wirkt. Fresnel-Linsen, Zonenplatten, refraktive oder diffraktive Rasterplatten und dergleichen mit Strukturhöhen bis zum Millimeter-Bereich können so ohne ein zusätzliches Bauteil bereitgestellt werden. Mit solchen Bauteilen kann zum Beispiel im Beleuchtungssystem einer Mikrolithographie-
Projektionsbelichtungsanlage zugleich die Polarisationsverteilung beeinflusst werden und der Lichtleitwert erhöht werden.
Auch kann eine oder beide Endflächen sphärisch oder asphärisch oder als Freiformfläche gekrümmt sein, so dass die Verzögerungsplatte zugleich zur Korrektur eines optischen Systems beitragen kann.
Es kann z.B. auch ein erheblich gekrümmter Meniskus als erfindungsgemäßes Verzögerungselement dienen, wenn der Lichtweg nur der gewünschten Verzögerung über den ganzen Querschnitt hinreichend genau entspricht. Eine oder beide Grenzflächen bzw. Endflächen können auch eine erhebliche Krümmung aufweisen, so dass das Verzögerungselement eine, vorzugsweise meniskusförmige, Linse bilden kann. Somit kann das Verzögerungselement auch positive oder negative Brechkraft aufweisen. Die Integration der hier im Vordergrund stehenden Verzögerungswirkung mit einer Linsenwirkung kann für materialsparende, konstruktiv günstige Designs genutzt werden. Solche Linsen können auch in rein dioptrischen optischen Systemen, insbesondere in Mikrolithographie-Projektionsobjektiven oder - Beleuchtungssystemen, und in katadioptrischen Systemen nützlich sein.
Die intrinsische Doppelbrechung der genannten Materialien hat ihren maximalen Wert in <110>-Kristallrichtungen. Für Strahlen, die unter einem Winkel zu <110>-Richtungen durch das Material laufen, zeigt der Betrag der intrinsischen Doppelbrechung einen mit wachsendem Winkel parabolisch abnehmenden Verlauf, während die Achsen der intrinsischen Doppelbrechung die Richtung näherungsweise beibehalten. Dieser Umstand kann zur Vergleichmäßigung der Verzögerungswirkung über die gesamte durchstrahlte Fläche genutzt werden. Hierzu können bei einem Verzögerungselement mit zwei optischen Flächen die Form der optischen Flächen und die Einbauposition des Verzögerungselementes derart aneinander angepasst werden, dass der Lichtweg von Strahlen innerhalb des Verzögerungselementes zwischen den optischen Flächen um so größer ist, je größer der Winkel zwischen dem Strahl und der optischen Achse bzw. einer <110>-Richtung des Verzögerungselementes ist. Dadurch haben Strahlen mit größerem Winkel zur <110>-Richtung einen längeren Lichtweg zurückzulegen, so dass die Verzögerungswirkung, die sich aus dem Produkt zwischen intrinsischer Doppelbrechung und Lichtweg ergibt, über die gesamte wirksame Fläche annähernd gleichmäßig wird.
Dieses Konzept wird später anhand von Ausführungsbeispielen katadioptrischer Projektionsobjektive erläutert, bei denen ein Verzögerungselement eine in der Nähe des Konkavspiegels angeordnete Linse oder Linsengruppe aus <110>-orientiertem Fluoridkristall umfasst, die insgesamt meniskusförmig ist und negative Brechkraft aufweist. Eine in Pupillennähe angeordnete Linse oder Linsengruppe dieser Art kann eine über die gesamte Pupille weitgehend konstante bzw. nur wenig variierende Verzögerungswirkung haben. Die Integration eines Verzögerungselementes mit einem Linsenelement durch Fertigung eines (mit Brechkraft versehenen) Linsenelementes aus einem <1 10>-orientierten Einkristall mit intrinsischer Doppelbrechung (z.B. Kalziumfluorid- oder Bariumfluorid-Einkristall) kann bei allen katadioptrischen oder dioptrischen Projektionsobjektiven nützlich sein. Eine geeignet dimensionierte Linse oder Linsengruppe mit der Verzögerungswirkung einer λ/4-Platte kann z.B. in Systemen mit polarisationsselektivem Strahlteiler als (funktionsnotwendiger) Retarder zwischen Strahlteiler und Konkavspiegel und/oder an anderer Stelle eines Projektionsobjektivs genutzt werden, z.B. zwischen Objektebene und Strahlteiler und/oder zwischen Strahlteiler und Bildebene.
Die vorstehenden und weiteren Merkmale gehen außer aus den Ansprüchen auch aus der Beschreibung und den Zeichnungen hervor, wobei die einzelnen Merkmale jeweils für sich alleine oder zu mehreren in Form von Unterkombinationen bei Ausführungsformen der Erfindung und auf anderen Gebieten verwirklicht sein und vorteilhafte sowie für sich schutzfähige Ausführungen darstellen können.
Fig. 1 zeigt einen Ausschnitt eines katadioptrischen
Projektionsobjektivs, bei dem zwischen einer Strahlteilerfläche und einem Konkavspiegel eine Ausführungsform eines meniskusförmigen Verzögerungselementes mit negativer Brechkraft angeordnet ist; und
Fig. 2 ist eine schematische Darstellung des katadioptrischen Objektivsteils eines Projektionsobjetivs mit physiaklischem Strahlteiler. Näher erläutert wird die Erfindung zunächst anhand von Ausführungsbeispielen von Viertelwellenplatten im Vergleich zu Ausführungen aus Magnesiumfluorid.
Eine Viertelwellenplatte nullter Ordnung für die Wellenlänge 157nm hat aus Kalziumfluorid mit Verzögerung 10nm/cm eine Dicke von 39 mm, aus Bariumfluorid mit Verzögerung 25nm/cm eine Dicke von 15,7 mm. Bei Abweichungen der Verzögerung bei einer Materialcharge - zum Beispiel durch Spannungsdoppelbrechung bedingt durch die Herstellung - ändert sich die erforderliche Dicke proportional zur Abweichung der Verzögerung. Platten solcher Dicke können in den typischen Abmessungen von Linsen, derzeit in der Mikrolithographie-Optik bis zu ca. 300 mm, gefertigt werden. Gefasst oder gelagert werden können sie mit der für Linsen bereitstehenden Technik.
Eine entsprechende Viertelwellenplatte nullter Ordnung für 157 nm aus Magnesiumfluorid hat eine Dicke von nur 5,5μm (vergleiche US 6,084,708 B). Das Problem der stabilen Lagerung kann durch Ansprengen an ein dickeres Element, wie beispielsweise ein Strahlteilerprisma, gelöst werden. Die Herstellung einer so dünnen Kristallplatte mit Durchmessern über 100 mm bleibt aber ein Problem (vergleiche DE 197 04 936 A). Auch eine Viertelwellenplatte zwanzigster Ordnung hat nur eine Dicke von ca. 0,22 mm. Die Abweichung von der genauen Viertelwellenverzögerung durch Dickenvariation hat bei Platten nullter oder höherer Ordnung genau den gleichen Zusammenhang. Bei Magnesiumfluorid bringen daher schon 0,5μm Dickenabweichung eine unbrauchbare Abweichung von ca. 20% in der Phase.
Bei der erfindungsgemäßen Verzögerungsplatte nullter Ordnung aus Kalziumfluorid ist ein Fehler in der Phase von 2% ebenfalls entsprechend einem Dickenfehler von ebenfalls 2%. Durch die Dicke von 39 mm sind diese 2% aber 0,8 mm. Die normale Herstellung optischer Elemente ist viel genauer, so dass die Dicke überhaupt kein Herstellungsproblem darstellt. Das gleiche gilt für die etwa halb so dicke Viertelwellenplatte aus Bariumfluorid. Ein Motiv für die Verwendung von Platten höherer Ordnung ist also hier nicht gegeben, obwohl sie natürlich auch möglich sind.
Diese zulässige Dickentoleranz ergibt nun die Möglichkeit, die Endflächen der Verzögerungsplatte als Funktionsflächen mit refraktiver oder diffraktiver Wirkung zu bearbeiten. Bevorzugt eignet sich dazu die Austrittsfläche, da innerhalb der Verzögerungsplatte die Lichtausbreitung weitgehend in Achsrichtung (d.h. im wesentlichen parallel zu <110>) erfolgen sollte.
Bis zu einem Sinus des Öffnungswinkels (numerische Apertur) von 0,2 bleibt bei einer 157 nm Halbwellenplatte aus Kalziumfluorid der Verlust des linearen Polarisationsgrads unter 2%, noch bis zu NA 0,15 bleibt er unter 0,1 %.
Eine Halbwellenplatte nullter Ordnung aus Magnesiumfluorid erlaubt zwar bei gleicher Güte eine numerische Apertur bis zu 0,4. Bei Platten höherer Ordnung verringert sich die Winkelakzeptanz aber schnell, bei einer Halbwellenplatte zwanzigster Ordnung beträgt sie nur noch NA 0,1.
Im Unterschied zu Magnesiumfluorid bieten die erfindungsgemäßen Werkstoffe der Verzögerungsplatten also real eine größere Winkelakzeptanz. Bei diesen Winkeln spielt auch die über den Azimutwinkel mehrzählig variierende Doppelbrechung aufgrund der für andere Hauptachsen abweichenden Doppelbrechungseigenschaften, die speziell bei Linsen nachteilig sein kann, noch keine Rolle. ln herkömmlichen optischen Designs, speziell in Beleuchtungssystemen und Projektionsobjektiven der Mikrolithographie, sind für Verzögerungsplatten keine Zentimeter dicken Planplatten vorgesehen, sondern einzelne Millimeter dicke Platten, oder sie sind als vernachlässigbar dünne Schicht auf Strahlteilerprismen und dergleichen vorgesehen. In allen Bereichen dieser Designs aber, wo die Strahlwinkel im obengenannten Bereich liegen, können die Zentimeter dicken Planplatten aber mit dem Fachmann leicht möglichen Korrekturen in das Design eingearbeitet werden. Entgegen kommt ihm dabei, dass die Endflächen, wie oben gesagt, als Funktions- und Korrekturmittel sogar in gewissem Umfang zugänglich sind.
Die EP 1 102 100 A der Anmelderin zeigt ein mikrolithographisches katadioptrisches Projektionsobjektiv mit einem Polarisationsstrahlteilerwürfel, an dem der Strahlengang weitgehend kollimiert ist. Zwischen diesem und dem Konkavspiegel wird eine Viertelwellenplatte benötigt. Als erfindungsgemäße dicke Platte kann sie zum Beispiel aus der dicken fast plankonvexen Linse vor dem Konkavspiegel abgetrennt und abgeleitet werden, auch zugleich mit einer Ableitung für 157nm Wellenlänge.
Anhand von Fig. 1 wird eine andere Ausführungsform eines katadioptrischen Projektionsobjektivs erläutert, bei dem zwischen dem Strahlteiler 15 und dem Konkavspiegel 16 ein Verzögerungselement 17 in Form eines zweimal durchtretenen λ/4-Retarders angeordnet ist. Dabei handelt es sich um eine in der Nähe des Konkavspiegels angeordnet Linse aus <11 umorientiertem Kalziumfluoridkristall, die insgesamt meniskusförmig ist und negative Brechkraft aufweist. Die in Pupillennähe angeordnete Negativlinse 17 hat eine Doppelfunktion. Sie unterstützt einerseits als optische Linse zusammen mit dem Konkavspiegel 16 die chromatische Korrektur des Projektionsobjektivs. Gleichzeitig wirkt sie als λ/4-Verzögerungselement mit einer über die gesamte Pupille weitgehend konstanten bzw. nur wenig variierenden Verzögerungswirkung. Es ist erkannt worden, dass eine weitgehend konstante Verteilung der Verzögerung über die Pupille dann erreicht werden kann, wenn die (axiale) Dicke d des Verzögerungselementes (in z-Richtung) als Funktion des radialen Abstands x von der optischen Achse so optimiert wird, dass der Lichtweg von Strahlen innerhalb des Verzögerungselements zwischen Lichteintritt und Lichtaustritt größer wird, je größer der Winkel \n zwischen dem Strahl und der optischen Achse des Verzögerungselementes bzw. der parallel zu dieser verlaufenden <1 10>-Richtung ist. Die Anpassung ist idealerweise so, dass durch die Dickenzunahme der parabolische Abfall der intrinsischen Doppelbrechung bei Abweichung von der <1 10>-Richtung weitgehend oder vollständig kompensiert wird.
Der Strahlteiler 15 kann ein geometrischer Strahlteiler mit einem oder mehreren Umlenkspiegeln oder ein physikalischer Strahlteiler mit polarisationsselektiv wirksamer Strahlteilerfläche sein.
Zur Ermittlung der idealen Krümmung im Zentralbereich des Verzögerungselementes betrachtet man ein Bündel von Strahlen 18 im Zentrum des Verzögerungselementes 17. Man stelle für alle Strahlen die Bedingung, dass die optische Weglänge im Material λ/4 beträgt. Dadurch wird eine Oberfläche definiert, die im zweidimensionalen Raum durch die Gleichungen
X = (λ/4 * sin (αin))/Δn(αin) und Z ≡ d(x) = (λ/4 * cos ( in))/Δn(αin)
Dabei ist Δn der Brechzahlunterschied zwischen dem das Verzögerungselement umgebenden Medium (normalerweise Luft) und dem Material des Verzögerungselementes, <_ der Winkel zwischen der optischen Achse bzw. der <110>-Achse und dem jeweils betrachteten Strahl 18 und d(x) die Dicke als Funktion des Radius x des Verzögerungselementes. Diese Berechnung ergibt einen etwa parabolischen Verlauf der Dicke in Radialrichtung des Verzögerungselementes, der bei der Negativ-Meniskuslinse 17 unter Berücksichtigung der aus optischen Gründen idealen Krümmungen von Eintrittsfläche und Austrittsfläche annähernd realisiert ist.
Falls die sich ergebende Linsendicke als ungünstig angesehen wird, ist es auch möglich, die Verzögerung auf mehrere Verzögerungslinsen oder Kombinationen aus Verzögerungslinsen und Verzögerungsplatten zu verteilen, deren Gesamtdicke beispielsweise gemäß der obigen Gleichen ermittelt werden kann (vgl. Fig. 2).
Um einen optimalen Nutzen aus diesem Aspekt der Erfindung ziehen zu können, sollte das kombinierte Linsen/Verzögerungselement in einem Bereich möglichst kleiner Einfallswinkel angeordnet sein. Idealerweise sollte der maximale Einfallswinkel in Luft nicht größer als ca. 39° sein, da sich sonst eine kristallographisch bedingte Vierwelligkeit der Verzögerung als Funktion der Kristallrichtung bemerkbar machen kann. Günstig ist es ebenfalls, wenn die Krümmung der Linse umso kleiner gemacht wird, je kleiner der Winkel m ist. Die Summe der Linsendicken sollte näherungsweise der entsprechenden Dicke eines aus dem Material bestehenden λ/4-Verzögerungselementes entsprechen. Kleine Korrekturen der Gesamtdicke zur Anpassung der Verzögerungswirkung können vorteilhaft sein. Beispielweise kann es günstiger sein, wenn die Verzögerungswirkung für Randstrahlen genauer eingestellt wird als für Zentralstrahlen. Dies kann zu einer Homogenisierung der Intensitätsverteilung nach doppelten Durchtritt durch das Verzögerungselement führen. Der Erfindungsaspekt lässt auch Korrekturmaßnahmen für den Fall zu, dass die ermittelte ideale Gesamtdicke zu groß oder zu klein ist. Beispielsweise ist eine Abschwächung der Verzögerung möglich, wenn man zwei etwa gleich dicke, <110>-geschnitte Linsen um 45° bezüglich der <110>-Achse gegeneinander verdreht. Ist die Gesamtdicke zu klein, kann beispielsweise eine zusätzliche, planparallele Platte aus <110>- orientiertem Material vorgesehen sein. Hier ist besonders darauf zu achten, dass die Neigung der Strahlen nicht zu groß ist.
Anhand von Fig. 2 wird eine Ausführungsform eines katadioptrischen Projektionsobjektivs mit einem polarisationsselektiven Strahlteiler 20 in Form eines Strahlteilerwürfels erläutert. Bei dieser Ausführungsform ist zwischen dem Strahlteiler 20 und dem Konkavspiegel 21 eine Polarisationsdreheinrichtung 23 mit der Wirkung eines λ/4-Radarders angeordnet. Das mehrteilig aufgebaute Verzögerungselement 23 besteht aus zwei Negativ-Meniskuslinsen 24, 25, die jeweils aus <110>- orientiertem Kalziumfluoridkristall bestehen. Die axiale Gesamtdicke der Linsen entspricht im achsnahen Zentralbereich der entsprechenden Dicke einer λ/4-Verzögerunsplatte (beispielsweise ca. 36mm für Kalziumfluorid bei 157nm Arbeitswellenlänge) und nimmt in radialer Richtung parabolisch zu, um eine Vergleichmäßigung der Verzögerungswirkung über den gesamten Linsenquerschnitt der im Bereich der Pupille angeordneten Linsen 24, 25 zu erzielen.
Das Projektionsobjektiv ist für den Betrieb mit zirkularpolarisiertem Eingangslicht ausgelegt und hat zwischen Objektebene 26 und Strahlteiler 20 eine λ/4-Platte 47 zur Umwandlung des Eingangslichtes in Licht, das in Bezug auf die Strahlteilerfläche 28 s-polarisiert ist. Diese Platte 27 kann z.B. aus <110> orientiertem Kalziumfluorid bestehen. Das Licht durchtritt die beiden Linsen 24, 25 und wird aufgrund von deren Verzögerungswirkung in zirkularpolarisiertes Licht umgewandelt, welches vom Konkavspiegel 21 reflektiert wird und durch die Verzögerungseinrichtung 23 zurückläuft. Nach erneutem Durchtritt durch die Verzögerungslinsen 24, 25 ist das Licht in Bezug auf die Strahlteilerschicht 28 p-polarisiert und durchtritt diese verlustarm in Richtung eines Umlenkspiegels 29, der das Licht Richtung Objektebene umlenkt. Hiermit ist beispielhaft erläutert, dass der bei derartigen Systemen funktionsnotwendige λ/4-Redarder zwischen
Strahlumlenkeinrichtung 20 und Konkavspiegel durch eine oder mehrere Linsen geeigneter Verzögerungswirkung gebildet werden kann. Die herkömmlich notwenige λ/4-Platte zwischen Strahlteiler und Konkavspiegel kann damit entfallen.
Die zitierten Schriften sollen vollumfänglich auch Teil dieser Anmeldung sein. Bei 157nm und in dessen Umgebung ist die Erfindung besonders vorteilhaft, da die intrinsische Doppelbrechung hier besonders hoch ist, aber auch bei den 193nm Mikrolithographiesystemen und anderen optischen Systemen, zum Beispiel Inspektionssystemen, findet sie sinnvolle Anwendung.

Claims

Patentansprüche
1. Verzögerungselement, insbesondere in einer Mikrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage, dadurch gekennzeichnet, dass das
Verzögerungselement aus Kalzium-Fluorid-Kristall oder Barium- Fluorid-Kristall besteht und die optische Achse des Verzögerungselementes annähernd in Richtung der <110>- Kristallachse oder einer dazu äquivalenten Hauptkristallachse weist.
2. Verzögerungselement nach Anspruch 1 , wobei das Verzögerungselement eine Verzögerungsplatte ist, insbesondere eine λ/2-Platte oder eine λ/4-Platte, vorzugsweise nullter Ordnung.
3. Verzögerungselement nach einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei das Verzögerungselement eine Verzögerungsplatte ist und die Verzögerungsplatte eine Dickenvariation bis zu 2% und/oder bis zu 1 mm aufweist.
4. Verzögerungselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Verzögerungselement eine Verzögerungsplatte ist und mindestens eine Endfläche, insbesondere die Lichtaustrittsfläche mit einer refraktiv oder diffraktiv wirksamen Struktur oder Form versehen ist.
5. Verzögerungselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Verzögerungselement einen Durchmesser im Bereich von 50 bis 300 mm aufweist.
6. Verzögerungselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei es spannungsfrei gelagert ist.
7. Verzögerungselement nach einem der Ansprüche 1 , 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass es als Linsenelement (17, 24, 25) mit positiver oder negativer Brechkraft ausgebildet ist, vorzugsweise als meniskusförmige Linse, insbesondere mit negativer Brechkraft.
8. Verzögerungselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem das Verzögerungselement (17) zwei optische Flächen aufweist, wobei die Form der optischen Flächen und die Einbauposition des Verzögerungselementes derart aneinander angepasst sind, dass der Lichtweg von Strahlen (18) innerhalb des Verzögerungselementes zwischen den optischen Flächen umso größer ist, je größer der Winkel zwischen einem durchtretenden Strahl und der optischen Achse des
Verzögerungselementes ist.
9. Verzögerungselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, welches eine Linse (17) aus einem kubischen Kristallmaterial mit intrinsischer Doppelbrechung ist, bei der die Dicke als Funktion des Radius einen annähernd parabolischen Verlauf mit radial zunehmender Dicke aufweist.
10. Katadioptrisches Projektionsobjektiv, insbesondere in einer Mikrolithographie Projektionsbelichtungsanlage, mit mindestens einem Verzögerungselement nach einem der Ansprüche 1-9.
11. Katadioptrisches Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in einer Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs, wobei zwischen der Objektebene und der Bildebene ein katadioptrischer Objektivteil mit einem Konkavspiegel (16, 21) und einem Strahlteiler (15, 20) mit einer Strahlteilerfläche angeordnet ist, wobei zwischen der Strahlteilerfläche und dem Konkavspiegel eine Verzögerungseinrichtung (17, 23) mit der Wirkung einer λ/4-Platte angeordnet ist, und wobei die Verzögerungseinrichtung mindestens ein als Linse ausgebildetes Verzögerungselement (17, 24, 25) aufweist, welches aus einem intrinsische Doppelbrechung aufweisenden kubischen Kristallmaterial, insbesondere aus Kalziumfluoridkristall oder Bariumfluoridkristall besteht, wobei die optische Achse des Verzögerungselementes annähernd in Richtung einer <110>-Kristallachse des Kristalls ausgerichtet ist.
12. Projektionsobjektiv nach Anspruch 11 , dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Verzögerungselement (17, 24, 25) als meniskusförmige Linse ausgebildet ist, insbesondere mit negativer Brechkraft.
13. Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 11 oder 12, bei dem mindestens ein Verzögerungselement (17, 24, 25) zwei optische Flächen aufweist, wobei die Form der optischen Flächen und die Einbauposition des Verzögerungselementes derart aneinander angepasst sind, dass der Lichtweg von Strahlen innerhalb des Verzögerungselementes zwischen den optischen Flächen umso größer ist, je größer der Winkel zwischen einem durchtretenden Strahl und der optischen Achse des
Verzögerungselementes ist.
14. Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei bei dem Verzögerungselement (17, 24, 25) die Gesamtdicke als
Funktion des Radius einen annähernd parabolischen Verlauf mit radial zunehmender Dicke aufweist.
15. Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 1 1 bis 14, bei dem die Verzögerungseinrichtung (17, 23) in der Nähe einer Pupillenebene des Projektionsobjektives, insbesondere in der Nähe des Konkavspiegels (16, 21 ), angeordnet ist.
16. Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 11 bis 15, bei dem zwischen dem Strahlteiler und dem Konkavspiegel (16, 21) keine λ/4-Platte angeordnet ist.
17. Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, umfassend ein Beleuchtungssystem und ein Projektionsobjektiv, das eine Struktur tragende Maske auf ein lichtempfindliches Substrat abbildet, dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens ein Verzögerungselement nach einem der Ansprüche 1 bis 9 aufweist.
18. Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass das Beleuchtungssystem ein Verzögerungselement nach einem der Ansprüche 1 bis 9 aufweist.
19. Verfahren zur Herstellung von Halbleiter-Bauelementen mit einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 17 oder 18.
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