DE4110296A1 - Optisches system zur katadioptrischen verkleinerungsprojektion - Google Patents
Optisches system zur katadioptrischen verkleinerungsprojektionInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Belichtungsvorrichtung zur Verwen
dung bei der Herstellung eines Halbleiterbauelements, und
insbesondere ein optisches System zur katadioptrischen Ver
kleinerungsprojektion eines vergrößerten realen Elementmusters,
auf ein Fadenkreuz beziehungsweise eine Strichplatte oder
eine Netzstruktur.
Integrierte Halbleiterschaltkreise sind mit Bezug auf ihre
Struktur zunehmend feiner und feiner geworden und eine Be
lichtungsvorrichtung zur Herstellung eines entsprechenden
Musters bedarf dementsprechend einer höheren Auflösung. Um
diese Erfordernis zu erfüllen, ist es notwendig, die Wellen
länge einer gegebenen Lichtquelle zu verkürzen und die Blenden
zahl (Numerische Apertur) des optischen Systems zu erhöhen.
Wenn die Wellenlänge jedoch verkürzt wird, so ist die Aus
wahl an Glasmaterial, das praktisch eingesetzt werden kann,
aufgrund der Lichtabsorption stark eingeschränkt.
Wenn die Wellenlänge kürzer ist als 300 nm, so kommen als
praktisch einsetzbare Glasmaterialien lediglich syntheti
siertes Quarz oder Flußspat (Calciumfluorid) in Betracht.
Flußspat ist jedoch durch eine unzulängliche Temperatur
charakteristik gekennzeichnet, so daß dieses Material
lediglich für einen kleinen Teil der optischen Elemente
des optischen Systems eingesetzt werden kann, auf keinen
Fall jedoch für die Mehrzahl dieser Elemente. Darüber
hinaus ist es sehr schwierig, ein optisches Projektions
system herzustellen, welches die vorstehend genannten An
forderungen durch lediglich ein Refraktionssystem beziehungs
weise Strahlenbrechungssystem erfüllt. Es ist nahezu unmöglich,
ein optisches Projektionssystem mit einer großen Blendenzahl
auf der Grundlage lediglich eines Reflexionssystems herzu
stellen, und zwar aufgrund von Problemen mit der Aberrations
korrektur.
Es sind in der Vergangenheit unterschiedliche Techniken vor
geschlagen worden, um das optische Projektionssystem durch
die Kombination eines Reflexionssystems mit einem Refraktions
system auszubilden. Ein derartiges Beispiel ist in dem US-Patent
47 47 678 beschrieben, und zwar anhand eines optischen Systems
auf der Grundlage eines ringförmigen Gesichtsfeldes. Bei diesem
optischen System werden achsenferne Lichtstrahlen eingesetzt,
um zwischen einem einfallenden und einem ausfallenden Licht
Interferenz herzustellen, wobei ausschließlich außerachsige
Ringbandabschnitte als Belichtungsbereiche eingesetzt werden.
Aufgrund dieser Anordnung ist es schwierig, die Blendenzahl
zu erhöhen. Da es ferner nicht möglich ist, einen vollständigen
Wafer mit Licht zu belichten, wenn ein Muster auf einer
Strichplatte oder einem Fadenkreuz oder einer Maske auf
den Wafer übertragen werden soll, ist es erforderlich, die
Belichtung durchzuführen, während die Strichplatte und der
Wafer mit unterschiedlichen Geschwindigkeiten bewegt werden,
die festgelegt sind durch das Verkleinerungsverhältnis des
optischen Systems. Aufgrund dieser Gegebenheit ist der
mechanische Aufbau dieser Anordnung kompliziert und es ist
ausgesprochen schwierig, die Übertragung eines hochfeinen
Musters mit hoher Präzision vorzunehmen.
Die US-PS 36 98 808 offenbart eine Projektionsbelichtungs
vorrichtung, die ein katadioptrisches System umfaßt, welches
ein vollständiges Strichplatten- oder Fadenkreuzbild projiziert,
und zwar mittels eines auf Achse liegenden Lichtstrahles unter
Verwendung eines Strahlenteilers innerhalb des optischen
Projektionssystems. Bei dieser bekannten Vorrichtung treten
aufgrund einer Reflexion in der Refraktionsebene des optischen
Systems vor dem Strahlenteiler viele Streulichtflecke auf, und
die Eigenschaften des Strahlenteilers, wie beispielsweise die
Unregelmäßigkeit des Reflexionsfaktors, der Absorption und
der Phasenänderung finden keine Berücksichtigung. Deshalb
ist die Auflösung bei dieser bekannten Vorrichtung gering,
weshalb sich diese Vorrichtung nicht als Belichtungsvorrichtung
bei der Herstellung eines Halbleiters eignet. Außerdem ist die
Lichtausbeute aufgrund des Intensitätsverlustes durch den
Strahlenteiler mit 25 bis 10% sehr niedrig.
Die japanische offengelegte Patentanmeldung Nr. 2-66 510,
entsprechend der US-Patentanmeldung Serien-Nr. 2 23 968, ein
gereicht am 15. Juli 1988, offenbart ein optisches System,
welches ein katadioptrisches optisches System umfaßt, und
zwar unter Verwendung eines Strahlenteilers innerhalb des
optischen Projektionssystems. Bei diesem optischen System
treten jedoch viele Streulichtflecke auf, und zwar ähnlich
dem vorstehend genannten optischen System. Weiterhin ist
der Lichtverlust groß und die Auflösung gering, und zwar
aufgrund der Unregelmäßigkeit des Reflexionsfaktors an dem
Strahlenteiler und der Unregelmäßigkeit der Phasenänderung
an einem Einfallwinkel, verursacht durch die Absorptions
charakteristik und den Mehrschichtenfilm. Dieses bekannte
optische System weist also bei der praktischen Anwendung
entscheidende Nachteile auf.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein
optisches Verkleinerungssystem zu schaffen, welches die
Nachteile des Standes der Technik nicht aufweist. Insbesondere
besteht ein Ziel der Erfindung darin, ein optisches Ver
kleinerungssystem zu schaffen, das auf der Grundlage eines
katadioptrischen Systems gute Fokussiereigenschaften aufweist.
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, ein optisches
System zur katadioptrischen Verkleinerungsprojektion mit einer
großen Blendenzahl zu schaffen, das im Betrieb wenig Streu
licht beziehungsweise eine geringe Anzahl an Streulicht
flecken erzeugt. Schließlich besteht ein Ziel der Erfindung
darin, ein optisches Verkleinerungssystem zu schaffen, das
innerhalb des optischen Projektionssystems einen Strahlen
teiler umfaßt, wobei die Herabsetzung der Auflösung verhindert
wird, die herkömmlicherweise verursacht ist durch die Unregel
mäßigkeit des Reflexionsfaktors am Strahlenteiler und die
Unregelmäßigkeit der Phasenänderung. Endlich besteht ein
Ziel der Erfindung darin, ein optisches Verkleinerungsprojek
tionssystem zu schaffen, bei dem Aberrationen korrigiert sind,
einschließlich des Astigmatismus, der Verzerrung (Verzeichnung)
und der chromatischen Aberration durch Kombination eines
Reflexionssystems, eines Refraktionssystems, eines Polarisa
tionsstrahlenteilers und eines Viertel-Wellenlängenplättchens,
wobei die genannte Korrektur auch in einem Wellenlängenband
erreicht wird, bei welchem das Projektionsobjektiv nicht aus
schließlich als Refraktionssystem hergestellt werden kann.
Das erfindungsgemäße optische Verkleinerungssystem umfaßt ein
optisches System in Gestalt einer Kombination eines Reflexions
systems und eines Refraktionssystems, und das System ist aus
gelegt zur Verkleinerungsprojektion eines vorbestimmten Musters,
das auf einer ersten Ebene vorliegt, auf eine zweite Ebene.
Grundsätzlich weist dieses System einen Aufbau auf, der
in dem US-Patent 36 98 808 offenbart ist.
Um eine Belichtung über einen ausgedehnten weiten Bereich
zu ermöglichen, wird ein auf Achse liegender Lichtstrahl
verwendet, und ein Polarisationsstrahlenteiler sowie ein
Viertel-Wellenlängenplättchen sind vorgesehen, um einfallendes
Licht von reflektiertem Licht zu trennen. Der Lichtstrahl,
mit welchem der Polarisationsstrahlenteiler beaufschlagt
wird, wird durch eine erste Linsengruppe mit positiver
Strahlenbrechung oder positiver Refraktion in einen im wesent
lichen kollimierten Lichtstrahl umgewandelt. Eine zweite
Linsengruppe zum Umleiten des Lichtstrahls ist zwischen
dem Polarisationsstrahlenteiler und einem konkaven Reflexions
spiegel angeordnet. Das durch den konkaven Spiegel reflektierte
Licht wird durch die zweite Linsengruppe in nahezu kollimiertem
Zustand an den Polarisationsstrahlenteiler zurückgeführt. Der
von der zweiten Linsengruppe über den Polarisationsstrahlen
teiler geführte Lichtstrahl wird durch eine dritte Linsen
gruppe fokussiert, die eine positive Brechkraft aufweist, um
ein verkleinertes Bild zu erzeugen.
Die vorliegende Erfindung soll nunmehr im einzelnen anhand
der in Fig. 1 gezeigten schematischen Anordnung näher be
schrieben werden. Das erfindungsgemäße optische System umfaßt
eine erste Linsengruppe G1 positiver Brechkraft, mit welcher
ein Lichtstrahl von einer ersten Ebene (entsprechend einer
Netz- oder Fadenkreuzebene) 10 in einen im wesentlichen
kollimierten Lichtstrahl umgewandelt wird, einen Polarisations
strahlenteiler 11 zum Teilen des Lichtstrahls von der ersten
Linsengruppe G1 in Reflexions- und Transmissionsanteile ent
sprechend dem Polarisationszustand, eine zweite Linsengruppe
G2, die eine negative Brechkraft aufweist und in einem Licht
strahl angeordnet ist, der durch den Polarisationsstrahlen
teiler 11 aufgeteilt ist, um den von dem Polarisationsstrahlen
teiler 11 abgegebenen Lichtstrahl zu divergieren oder zu
verbreitern, einen konkaven Reflexionsspiegel 13 zum Fokussieren
des verbreiterten Lichtstrahls von der zweiten Linsengruppe G2
und zum Zurückführen dieses Lichtstrahls zu dem Polarisations
strahlenteiler 11 über die zweite Linsengruppe G2, eine dritte
Linsengruppe G3, die eine positive Brechkraft aufweist, um
den von dem konkaven Reflexionsspiegel 13 reflektierten sowie
von dem Polarisationsstrahlenteiler 11 emittierten Lichtstrahl
zu bündeln, und zum Erzeugen eines verkleinerten Bildes des
Musters der ersten Ebene 10 auf eine zweite Ebene (entsprechend
einem Wafer) 20, und ein Viertel-Wellenlängenplättchen 12,
das zwischen dem Polarisationsstrahlenteiler und dem konkaven
Reflexionsspiegel angeordnet ist.
Vorzugsweise ist der Polarisationsstrahlenteiler so aufgebaut,
daß er den Lichtstrahl durchläßt, welcher den konkaven Reflexions
spiegel 13 von der ersten Ebene erreicht sowie so, daß er
den Lichtstrahl reflektiert, der von dem konkaven Reflexions
spiegel reflektiert worden ist und die zweite Ebene erreicht.
Der von der ersten Linsengruppe G1 gebündelte und auf den
Polarisationsstrahlenteiler gerichtete Lichtstrahl ist vor
zugsweise im wesentlichen parallel zu einer optischen Achse
AX1 ausgerichtet und der durch den konkaven Reflexionsspiegel
reflektierte und daraufhin durch den Polarisationsstrahlenteiler
reflektierte und auf die dritte Linsengruppe G3 gerichtete Licht
strahl verläuft ebenfalls im wesentlichen parallel zu einer
optischen Achse AX2.
Die Polarisationsebene beziehungsweise die Polarisationsauf
teilungsebene des Polarisationsstrahlenteilers kann auf einer
abgeschrägten Ebene vorgesehen sein, mit Bezug auf welche zwei
rechteckige Prismen miteinander verbunden sind, oder sie kann
auf einer dünnen planparallelen Platte ausgebildet sein, die
mit Bezug auf die optische Achse geneigt angeordnet ist.
Vorzugsweise wird für den erfindungsgemäßen Polarisations
strahlenteiler ein Strahlenteilerkubus eingesetzt, der eine
Polarisationsteilungsebene oder eine Polarisierebene eines
dielektrischen Mehrschichtenfilms aufweist, der auf einer
abgeschrägten Ebene ausgebildet ist, mit Bezug auf welche die
beiden Prismen miteinander verbunden sind.
Bevor näher auf die mit der Erfindung erzielbaren Vorteile
eingegangen wird, soll das Ergebnis einer Untersuchung mit
Bezug auf schädliches Streulicht und Lichtverlust darge
stellt werden, das für die Anordnung ermittelt worden ist,
die in der japanischen offengelegten Patentanmeldung Nr.
2-66 510 beschrieben ist.
Die Fig. 2 zeigt schematisch das in der japanischen offen
gelegten Patentanmeldung Nr. 2-66 510 beschriebene optische
System. Ein Lichtstrahl von einer Vorlage oder einer Strich
platte 1, auf welcher ein zu verkleinerndes Muster dargestellt
ist, passiert eine Linse 2 positiver Brechkraft, einen Strahlen
teiler 3 und eine Korrekturlinse 4 und wird durch einen konkaven
Spiegel 5 reflektiert. Der von dem konkaven Spiegel 5 reflek
tierte Lichtstrahl passiert erneut die Korrekturlinse 4 und
wird durch den Strahlenteiler 3 reflektiert sowie durch eine
Linse 6 positiver Brechkraft fokussiert, um ein verkleinertes
Bild des Vorlagenmusters auf dem Wafer 7 zu erzeugen.
Wenn der Lichtstrahl von der Vorlage 1 den Strahlenteiler 3
durchsetzt, wird das einfallende Licht durch einen transparenten
Film in einen reflektierten Lichtanteil und einen transmittierten
Lichtanteil aufgeteilt, wobei jedoch die Hälfte des Lichts re
flektiert wird, und wobei das Licht durch die Absorption durch
den transparenten Film weitgehend (mit Bezug auf seine Intensität)
verlorengeht. Da nahezu die Hälfte des reflektierten Lichts
reflektiert und gestreut wird durch die umgebende Linsen
und Strahlenteilerfassung, entsteht Streulicht (flare). Wenn das
von dem konkaven Spiegel 5 reflektierte Licht an den Strahlen
teiler 3 zurückgeführt und dabei reflektiert wird, so wird
nahezu die Hälfte des Lichts durchgelassen. Das transmittierte
oder durchgelassene Licht erzeugt einen Lichtverlust, und es
wird durch die Vorlage 1 reflektiert und passiert denselben
Lichtweg wie das fokussierte Licht und erreicht den Wafer 7.
Dementsprechend wird ein sehr starkes Geisterbild und zusätzlich
Streulicht erzeugt. Da außerdem das von der Oberfläche der
Linse 6 positiver Brechkraft sowie dem Wafer reflektierte
Licht durch den Strahlenteiler 3 und den konkaven Spiegel 5
reflektiert wird und erneut den Wafer erreicht, erzeugt auch
dieses reflektierte Licht Streulicht.
Wenn man annimmt, daß das Reflexionsvermögen des Strahlenteilers
3 50% beträgt und das Reflexionsvermögen des Wafers 3%, so
beläuft sich das Streulicht auf 4 bis 10% der Strahlungs
intensität (Belichtungsstärke), mit welcher die Vorlage be
aufschlagt wird. Da das für die Grenzauflösung zulässige
Streulicht ungefähr 2% beträgt, ist die herkömmliche Anordnung
entsprechend von Nachteil.
Für den herkömmlichen transparenten Strahlenteilerfilm
wird ein dünner metallischer Film eingesetzt. Da der
Metallfilm eine starke Lichtabsorption verursacht, ist
der Lichtverlust groß. Außerdem verursacht er eine
Änderung des Brechungsindex des optischen Systems sowie
eine Änderung mit Bezug auf seine Gestalt aufgrund von
durch die Lichtabsorption erzeugter Wärme, so daß dieses
optische System eine merkliche Aberration aufweist. Aus
diesem Grunde ist es notwendig, einen dielektrischen Mehr
lagenfilm als hocheffizienten transparenten Film zu verwenden.
Mit Bezug auf einen solchen transparenten Film in Gestalt eines
dielektrischen Mehrlagen- oder Mehrschichtenfilms ist jedoch
festgestellt worden, daß nicht nur die Winkelabhängigkeit der
Reflexion unregelmäßig ist, sondern auch die Winkelabhängig
keit der Phasenänderung, welche durch die Reflexionsänderungen
in signifikanter Weise hervorgerufen wird.
Die Unregelmäßigkeit oder Ungleichförmigkeit der Reflexion
und der Phasenänderung aufgrund des transparenten Films 3a
des Strahlenteilers 3 werden nachfolgend näher erläutert.
Der dielektrische Mehrschichtenfilm weist den Vorteil einer
geringen Absorption auf. Dahingegen ist dieser Film gekenn
zeichnet durch eine Winkelabhängikeit, weil die Durchlässig
keit und die Reflexion und zusätzlich die Phase sich mit
Winkeländerungen ändern. Wenn das auf den Strahlenteiler 3
gerichtete Licht kein kollimiertes Licht ist, sondern ein
konvergierender oder breiter Lichtstrahl, so ändern sich
die Durchlässigkeit und das Reflexionsvermögen von einem
Ort zum andern der Wellenebene. Dadurch verringert sich die
Lichtintensität an der Peripherie der Wellenebene ebenso wie
die effektive Blendenzahl (N.A.), so daß sich insgesamt die
Auflösung verringert. Da sich außerdem die Phase von einem
Ort zum andern der Wellenebene ändert, wird eine Wellenebenen
aberration erzeugt. Da mit dem herkömmlichen System also nicht
nur eine Herabsetzung der Auflösung verbunden ist, sondern
auch eine Verzerrung auftritt (Verzeichnungsfehler), ist
dieses System weniger geeignet als Vorrichtung zur Herstellung
feingemusterter Halbleiter.
Die Fig. 3A und 3B zeigen Beispiele des Reflexionsvermögens
und der Durchlässigkeit sowie des Phasenänderungsverlaufs des
Polarisationsstrahlenteilers. Bei der das Reflexionsvermögen
und die Durchlässigkeit betreffenden Fig. 3A ist auf der
Abszisse der Einfallswinkel und auf der Ordinate das Reflexions
vermögen und die Durchlässigkeit dargestellt. Die durchgezogene
Linie TA zeigt die Durchlässigkeit und die durchbrochene Linie
RA das Reflexionsvermögen. In der die Phasenänderung betref
fenden Fig. 3B ist auf der Abszisse der Einfallswinkel und
auf der Ordinate die Phasenänderung dargestellt. Die durch
gezogene Linie TA betrifft von dem transparenten Film durch
gelassenes Licht und die durchbrochene Linie RA betrifft
von dem transparenten Film reflektiertes Licht.
Nachfolgend soll näher dargestellt werden, in welcher Weise
die Ungleichmäßigkeit der Phasenänderung die Auflösung be
einträchtigt.
In Fig. 4 ist dargestellt, wie der von dem transparenten
Film 30 reflektierte Lichtstrahl auf einer vorbestimmten
Ebene durch die positive Linse 31 beziehungsweise die Linse
31 mit positiver Brechkraft fokussiert wird. Ein auf der
Achse liegendes Licht wird auf den transparenten Film 30
mit einem Einfallwinkel R0 gerichtet und mit einem Reflexions
winkel R0 reflektiert sowie auf die positive Linse 31 fokus
siert, um ein Bild zu erzeugen. Unter der Annahme, daß ein
Winkel zwischen einem Hauptlichtanteil des Lichtstrahls, der
einen achsenfernen Lichtpunkt erreicht und der optischen
Achse R1 beträgt, und der Winkel zwischen dem achsenfernen
Hauptlichtanteil und einem achsenfernen peripheren Lichtanteil
R2 beträgt, so liegt die Phasenänderung des Lichtstrahls, der
zur Bildung des achsenfernen Lichtpunkts beiträgt, wie in
Fig. 5 gezeigt, im Bereich von R1 ± R2. Fig. 5 zeigt die
Phasenänderung beziehungsweise den Phasenänderungsverlauf
des von dem transparenten Film reflektierten Lichts. Die
Breite oder Verbreiterung der Phasenänderung des Lichtstrahls
in diesem Bereich beträgt Δ Φ. Die Wellenebenenaberration
auf der Pupillenebene des optischen Systems weist eine
Breite oder Verbreiterung Δ Φ auf, welche der Breite der
Phasenänderung entspricht (siehe Fig. 6). Sie weist einen
Verlauf oder eine Charakeristik entsprechend dem Verlauf
oder der Charakteristik der Phasenänderung auf.
Wie in Fig. 6 durch eine tangentiale Linie 1 dargestellt,
gibt der Gradient im Zentrum der Pupillenebene an, daß ein
aktueller Fokussierpunkt von einem theoretischen Bildpunkt
auf der Bildebene versetzt ist. Da außerdem die Krümmung
der Wellenebene in der Einfallsebene (Zeichnungsebene) liegt,
findet die Defokussierung in dieser Ebene statt. Daraus
folgt, daß die Krümmung der Wellenebene in einer Richtung
senkrecht zu der Einfallsebene (Zeichnungsebene) gering ist
und ein deutlicher Astigmatismus erzeugt wird. Aufgrund der
in Fig. 6 dargestellten Wellenebenenaberration findet eine
Versetzung des Bildes und ein Astigmatismus statt, so das
die Bildqualität verschlechtert ist.
Zieht man die beiden außerhalb der Achse liegenden Licht
strahlen (mit dem Einfallswinkel R0 ± R1) um die optische
Achse in Betracht, so wird deutlich, daß der Gradient bei
R0-R1 und der Gradient bei R0+R1 voneinander verschieden
sind, und zwar aufgrund der Phasenänderungskurven von Fig. 5.
Das bedeutet, daß die Versetzungen des Bildpunkts ver
schieden sind, wodurch eine Verschlechterung oder Verzerrung
des Bildes erzeugt wird. Da es sich bei diesen Astigmatismus-
und Verzerrungsaberrationen um nicht punktsymmetrische Aber
rationen handelt, ist es schwierig, diese in einem normalen
optischen System zu korrigieren.
Daraus folgt, daß, wie in Fig. 3B dargestellt, die Größe TA
des durch den transparenten Film durchgelassenen Lichts sich
in einem großen Umfang linear ändert und sich die Größe RA
des reflektierten Lichts in großem Umfang krümmt. Aus diesem
Grunde ist bei einem derartigen transparenten Film, unabhängig
davon, ob oder wie weit die Fokussierqualität des Linsensystems
erhöht wird, die Herabsetzung der Auflösung aufgrund der
Phasenänderung in dem transparenten Film unvermeidbar. Das von
dem transparenten Film reflektierte Licht erzeugt einen signi
fikanten Astigmatismus, und außerdem ist die Verzerrungsaber
ration unvermeidlich.
Im Gegensatz zu der vorstehend beschriebenen herkömmlichen
Anordnung werden bei dem in Fig. 1 dargestellten erfindungs
gemäßen optischen System der Lichtverlust und das Streulicht
durch Verwendung des Polarisationsstrahlenteilers reduziert
und die Verschlechterung der Auflösung sowie die Verzerrungs
aberration können verhindert werden.
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben überraschender
weise herausgefunden, daß die Polarisierebene beziehungs
weise die Polarisationsteilungsebene in dem Polarisations
strahlenteiler, obwohl dieser Teiler eine Mehrlagenfilm
struktur aufweist, eine hinreichend stabile Phasenänderungs
eigenschaft in dem transparenten Film aufweist. Wie in Fig.
7B gezeigt, wird die Phasenänderung Tp eines p-polarisierten
Lichts, welches durch die Polarisationsebene hindurchgelassen
wird, durch eine mäßig gekrümmte im wesentliche gerade Linie
dargestellt, während die Phasenänderung Rs eines reflektierten
s-polarisierten Lichts durch eine im wesentlichen horizontale
gerade Linie dargestellt wird. Daraus ergibt sich, daß ein
fokussiertes Bild durch das p-polarisierte Licht, welches durch
die Polarisationsebene hindurchgelassen wird, eine Wellenebene
aufweist, die auf der Pupillenebene geringfügig geneigt ist
und eine geringfügige Versetzung des Bildpunktes auf der Bild
ebene erzeugt, wohingegen ein fokussiertes Bild durch das
s-polarisierte Licht, das durch die Polarisationsebene re
flektiert worden ist, einen im wesentlichen konstanten Phasen
änderungsverlauf über einen weiten Winkelbereich aufweist sowie
keinen Gradienten der Wellenebene, so daß das optische System
durch eine hochwertige Fokussierung gekennzeichnet ist. Fig.
7A zeigt den Verlauf des Reflexionsvermögens des Polarisations
strahlenteilers.
Aufgrund dieses Phasenänderungsverlaufs in der Polarisations
ebene, ist die vorliegende Erfindung dadurch gekennzeichnet,
daß die Polarisationsebene eine Eigenschaft aufweist, dem
nach der von der ersten Ebene auf den konkaven Reflexions
spiegel auftreffende Lichtstrahl als transmittierter oder
durchgelassener Lichtstrahl dient, während der von dem konkaven
Reflexionsspiegel reflektierte, die zweite Ebene erreichende
Lichtstrahl als reflektierter Lichtstrahl dient.
Vom Standpunkt der Aberrationskorrektur ist es relativ einfach,
den Lichtstrahl von der ersten Ebene durch die erste Linsen
gruppe G1 in einen im wesentlichen kollimierten Lichtstrahl
zu überführen. Um ein gewünschtes Verkleinerungsverhältnis zu
erreichen, ist es vom Standpunkt der Ausgewogenheit der
Aberrationskorrektur erforderlich, den Lichtstrahl in einem
gewissen Umfang zu konvergieren oder zu bündeln, der von dem
konkaven Reflexionsspiegel reflektiert und durch die zweite
Linsengruppe G2 negativ gebrochen wird. Die Erfinder vor
liegender Erfindung haben weiterhin herausgefunden, daß es
von Vorteil ist, die Eigenschaft des Polarisationsstrahlen
teilers auszunützen, die darin besteht, daß ein hohes Re
flexionsvermögen in einem großen Winkelbereich vorhanden
ist, wobei außerdem eine geringe Phasenänderung für den
Lichtstrahl erfolgt, der von dem konkaven Reflexionsspiegel
reflektiert und durch die zweite Linsengruppe G2 negativer
Brechkraft hindurchgelassen wird.
Wie in Fig. 7A gezeigt, ist der Polarisationsstrahlenteiler
gekennzeichnet durch eine hervorragende Polarisiereigenschaft,
demnach der Transmissionsfaktor Tp des p-polarisierten Lichts,
das mit einem Einlaßwinkel von nicht weniger als 46° hin
durchgelassen ist, nicht geringer ist als 90%, während das
Reflexionsvermögen des s-polarisierten Lichts Rs, das mit
einem Einfallswinkel von nicht mehr als 58° reflektiert wird,
nicht geringer ist als 90%. Weiterhin ist die Phasenänderung
im wesentlichen linear. Das gesamte Bild ist aufgrund der
linearen Phasenänderung seitlich verschoben, es findet jedoch
keine Aberrationsverzerrung statt. Da weiterhin der Gradient
des Phasenänderungsverlaufs klein ist, ist der Astigmatismus
gering und das Auflösungsvermögen ist nicht herabgesetzt.
Das Viertel-Wellenlängenplättchen, das zwischen dem Polari
sationsstrahlenteiler und dem konkaven Reflexionsspiegel an
geordnet ist, dient dazu, den Lichtverlust zu vermindern und
die Streustrahlung in der zweiten Ebene, in welcher der Wafer
angeordnet ist, signifikant zu reduzieren.
Ausschließlich in dem zuvor dargestellten Winkelbereich weist
der Polarisationsstrahlenteiler einen guten oder gutmütigen
Winkelverlauf auf. Dementsprechend ist es wünschenswert, daß
der auf den Polarisationsstrahlenteiler gerichtete Licht
strahl so parallel wie möglich zu der optischen Achse AX1 ver
läuft. Es ist außerdem wünschenswert, daß der von dem Polari
sationsstrahlenteiler reflektierte und auf die dritte
Linsengruppe gerichtete Lichtstrahl im wesentlichen parallel
zu der optischen Achse AX2 verläuft.
Unter einer bestimmten Bedingung für den Lichtstrahl ist es
bevorzugt, daß der Winkel zwischen dem periphären Lichtanteil
von dem auf Achse liegenden Objektpunkt, welcher Anteil von
dem Polarisationsstrahlenteiler auf die dritte Linsengruppe
G3 gerichtet wird, und der optischen Achse AX2 in dem Prisma
7° nicht übersteigt. Es ist außerdem bevorzugt, daß der
Winkel zwischen dem Hauptlichtanteil von dem außerhalb der
Achse liegenden Objektpunkt, welcher Anteil von dem Polari
sationsstrahlenteiler auf die dritte Linsengruppe G3 gerichtet
ist, in dem Prisma 5° nicht übersteigt. Der von dem Polari
sationsstrahlenteiler auf die dritte Linsengruppe G3 gerich
tete Lichtstrahl ist das s-polarisierte Licht, welches durch
das Viertel-Wellenlängenplättchen umgewandelt worden ist.
Wenn aus diesem Grunde der Winkel die vorstehend genannten
Bereiche überschreitet, wird keine hinreichende Reflexion des
s-polarisierten Lichts in dem Polarisationsstrahlenteiler er
reicht und der Lichtverlust, der zum Fokussieren des Bildes
beiträgt, nimmt zu, der Streulicht- und Fokussierverlauf wird
herabgesetzt, und es ist nicht möglich, ein hochqualitativ
fokussiertes Bild zu erzeugen.
Es ist außerdem bevorzugt, daß der Einfallswinkel des
periphären Lichtanteils von dem auf Achse liegenden
Objektpunkt und der Einfallswinkel des Hauptlichtanteils
von dem außerhalb der Achse liegenden Objektpunkt, wenn
das Licht von der ersten Linsengruppe G1 auf den Polari
sationsstrahlenteiler gerichtet wird, 4° nicht übersteigt.
Wenn der Winkel zu groß ist, nimmt der Lichtverlust aufgrund
des Verlaufs des Transmissionsfaktors des Polarisations
strahlenteilers zu.
Vom Standpunkt einer dünnen Filmeigenschaft des Polarisations
strahlenteilers ist es bevorzugt, daß das durch den Polari
sationsstrahlenteiler hindurchgelassene, im wesentlichen
kollimierte Licht nachfolgend durch die zweite Linsengruppe G2
auf dem Weg über die Reflexion durch den konkaven Reflexions
spiegel erneut kollimiert wird. Zu diesem Zweck ist die Brech
kraft des konkaven Reflexionsspiegels ungefähr doppelt so groß
wie die positive oder negative Brechkraft der zweiten Linsen
gruppe G2. Zur Erzielung einer guten Aberrationskorrektur ist
es wünschenswert, daß das Konvergenzvermögen Pr des konvexen
Reflexionsspiegels und die negative Brechkraft Pn der zweiten
Linsengruppe G2 die folgende Ungleichung erfüllt:
1,5|Pn|<Pr<4,0|Pn|.
1,5|Pn|<Pr<4,0|Pn|.
Wenn die vorstehend genannte obere Grenze überschritten
wird, so ist das positive Konvergenzvermögen des konkaven
Reflexionsspiegels zu groß. Dies ist zwar von Vorteil für
die Korrektur der chromatischen Aberration, jedoch nicht
für den Lichtverlust, der zu stark ansteigt, weil die
Dünnfilmeigenschaft des Polarisationsstrahlenteilers und
die Beleuchtungseffizienz herabgesetzt werden. Wenn die
untere Grenze unterschritten wird, wird das Konvergenz
vermögen des Reflexionsspiegels relativ geschwächt, und
es ist schwierig, das benötigte Verkleinerungsverhältnis
des konkaven Reflexionsspiegels zu erzielen. Daraus folgt,
daß die Zunahme der Brechkraft der ersten Linsengruppe G1
und der dritten Linsengruppe G3 notwendig sind und die
Aberrationen dieser Linsen signifikant zunehmen. Bei der
vorstehend beschriebenen erfindungsgemäßen Anordnung ist
es von Vorteil, den Krümmungsradius des konkaven Reflexions
spiegels so zu wählen, daß er den Durchmesser des effektiven
Bereichs (Bildkreis) des auf der zweiten Ebene erzeugten
Bildes um das Fünfzehn- bis Fünfundzwanzigfache überschreitet.
Die Verwendung des konkaven Reflexionsspiegels verursacht das
Verkleinerungsverhältnis bis zu einem gewissen Maße durch das
Konvergenzvermögens des Spiegels, und dieser Spiegel erlaubt
es außerdem, eine gute Aberrationsbalance mit Bezug auf das
Refraktionssystem aufrechtzuerhalten, welches die erste Linsen
gruppe G1, die zweite Linsengruppe G2 und die dritte Linsen
gruppe G3 umfaßt, weil dieser Spiegel die sogenannte Petzval
summe, den Astigmatismus und die Verzerrungsaberration korri
giert. Wenn der Krümmungsspiegel des konkaven Reflexionsspie
gels kleiner ist als das Fünfzehnfache des Durchmessers des
effektiven Bereichs des verkleinerten Bildes, so ist dies
zwar von Vorteil für die Korrektur der Chrominanzaberration,
die Petzvalsumme hingegen vergrößert sich auf einen positiven
Wert und der Astigmatismus und die Verzerrungsaberration nehmen
zu.
Um den den Polarisationsstrahlenteiler vor und nach der Reflexion
durch den konkaven Reflexionsspiegel durchsetzenden Lichtstrahl
im wesentlichen zu kollimieren, ist es notwendig, die Brech
kraft der zweiten Linsengruppe G2 zu erhöhen, wenn die Konver
genzkraft des Reflexionsspiegels zunimmt. Es ist außerdem
notwendig, die Brechkraft der dritten Linsengruppe G3 zu er
höhen, welche eine positive Brechkraft zur Korrektur der
sphärischen Aberration aufweist. Da die dritte Linsengruppe
G3 nahe an der Waferebene angeordnet ist, also nahe an der
Bildebene, benötigt diese eine größere Brechkraft als die
negative Brechkraft der zweiten Linsengruppe zur Korrektur
der Aberration. Infolge hiervon nimmt die Petzvalsumme er
heblich zu.
Zur besseren Korrektur der Aberrationen ist es vorteilhafter
weise vorgesehen, daß der Krümmungsradius des konkaven
Spiegels nicht geringer ist als das Neunzehnfache des
Durchmessers des effektiven Bereichs des verkleinerten Bildes.
Wenn andererseits der Krümmungsradius des konkaven Spiegels
über das Fünfundzwanzigfache des Durchmessers des effektiven
Bereichs des verkleinerten Bildes hinausgeht, so ist dies
zwar von Vorteil für die Korrektur des Astigmatismus und der
Verzerrungsaberration, dahingegen ist es schwierig, das ge
wünschte Verkleinerungsverhältnis zu erzielen, und die Korrek
tur der chromatischen Aberration ist unzureichend.
Erfindungsgemäß ist es vorteilhafterweise vorgesehen, daß der
Winkel R0 zwischen der optischen Achse AX1 zur Korrektur der
ersten Ebene und der Senkrechten auf die Polarisationsebene
des Polarisationsstrahlenteilers nicht kleiner ist als 45°.
Insbesondere ist es vorteilhaft, daß der Einfallswinkel und
der Reflexionswinkel des Lichtstrahls (s-polarisiertes Licht)
der von dem konkaven Spiegel und dem Strahlenteiler reflek
tiert wird, mit Bezug auf die Ebene des Strahlenteilers
größer ist als 45°. Diese Bedingung ist erforderlich, um den
Polarisationsstrahlenteiler unter einer guten und stabilen
Bedingung in dem Licht des Winkelverlaufs zu verwenden. Wenn
der Winkel R0 kleiner ist als 45°, ist der Winkelbereich,
bei welchem ein guter Winkelverlauf erzielt wird, einge
engt, und es ist notwendig, daß der Lichtstrahl, welcher
den Polarisationsstrahlenteiler durchsetzt, stärker kol
limiert wird. Auf diese Weise nimmt die Beschränkung der
Korrektur der Aberration des optischen Systems zu, und es
ist schwierig, eine gute Fokussierqualität aufrechtzuerhalten.
Es ist weiterhin wünschenswert, daß das Einfallslot der
Reflexionsebene des Polarisationsstrahlenteilers nicht
größer ist als 55°. Wenn der Winkel größer ist, so wird
zwangsweise das Prisma des Polarisationsstrahlenteilers
größer, der Abstand zwischen dem konkaven Reflexionsspiegel
und der ersten Ebene nimmt zu, die Größe des gesamten optischen
Systems nimmt zu, der Krümmungsradius des konkaven Reflexions
spiegels nimmt zu und die Brechkraft nimmt ab und die
Chrominanzaberration nimmt zu.
In der in Fig. 1 wiedergegebenen Prinzipdarstellung der
Erfindung kreuzen sich die optische Achse AX2 des reflektier
ten Lichtpfads in dem Strahlenteiler und die optische Achse
AX1 des transmittierten Lichtpfads nicht orthogonal. Dem
entsprechend ist ein zusätzliches Prisma 14 mit dem Strahlen
teiler verbunden, um die Austrittsebene des reflektierten Licht
strahls von dem Strahlenteiler in eine Stellung lotrecht zu
der optischen Achse zu bringen, um die Symmetrie der wesent
lichen Lichtpfade in dem Strahlenteilerkubus aufrechtzuerhalten,
und um das Auftreten einer Unsymmetrie zu verhindern.
Vorteilhafterweise wird aus den vorstehend genannten Gründen
für das Viertel-Wellenlängenplättchen ein einachsiger
Kristall (Bergkristall) verwendet, der wesentlich dünner
ist als übliche Kristalle. Wenn der das Viertel-Wellenlängen
plättchen durchsetzende Lichtstrahl von dem kollimierten
Licht abweicht, wird mit Bezug auf einen außerordentlichen
Strahl ein Astigmatismus erzeugt. Dieser Astigmatismus kann
nicht mittels eines Verfahrens korrigiert werden, das auf
einem herkömmlichen Viertel-Wellenlängenplättchen basiert,
bei dem zwei Kristalle mit ihren optischen Achsen um 90°
zueinander verdreht miteinander verbunden werden. Der Grund
liegt darin, daß der Astigmatismus sowohl für den normalen
Strahl wie den außerordentlichen Strahl auftritt. Der
Astigmatismus läßt sich darstellen als:
W = (n°-ne)dR2,
wobei W eine Wellenebenenaberration, (n°-ne) die Differenz zwischen der Brechkraft n° für den normalen Strahl und der Brechkraft ne für den außerordentlichen Strahl, d die Stärke des aus miteinander verbundenen Kristallen bestehenden Viertel- Wellenlängenplättchens und R ein Divergenzwinkel (oder Konver genzwinkel) des Lichtstrahls in dem Kristall ist.
W = (n°-ne)dR2,
wobei W eine Wellenebenenaberration, (n°-ne) die Differenz zwischen der Brechkraft n° für den normalen Strahl und der Brechkraft ne für den außerordentlichen Strahl, d die Stärke des aus miteinander verbundenen Kristallen bestehenden Viertel- Wellenlängenplättchens und R ein Divergenzwinkel (oder Konver genzwinkel) des Lichtstrahls in dem Kristall ist.
Wenn das Viertel-Wellenlängenplättchen gebildet wird durch
Bergkristall und unter der Annahme, daß (n°-ne) = 0,01
sowie unter der Annahme, daß der Divergenzwinkel (oder
Konvergenzwinkel) R des Lichtstrahls ungefähr 7° beträgt,
ist es notwendig, die Wellenebenenaberration W innerhalb
eines Viertels der Wellenlänge einzustellen, das heißt,
W<λ/4, um eine hinreichend hohe Fokussierqualität zu
gewährleisten. Aus diesem Grunde ist es vorteilhafterweise
vorgesehen, daß die Dicke d des Viertel-Wellenlängenplätt
chens folgender Ungleichung genügt:
d<200 µm.
d<200 µm.
Vorteilhafterweise ist das Viertel-Wellenlängenplättchen
zwischen dem Polarisationsstrahlenteiler und der zweiten
Linsengruppe angeordnet. Durch diese Anordnung kommt das
Viertel-Wellenlängenplättchen auf dem Weg des im wesentlichen
kollimierten Lichtstrahls zu liegen, und die Charakteristik
des Viertel-Wellenlängenplättchens wird verbessert.
Nachfolgend soll die Erfindung anhand der Zeichnung näher
erläutert werden; in dieser zeigen:
Fig. 1 den Strahlengang eines Grundaufbaus des erfindungs
gemäßen optischen Systems;
Fig. 2 den Strahlengang eines allgemeinen Aufbaus des
herkömmlichen optischen Systems;
Fig. 3A eine Kurvendarstellung des Verlaufs des Reflexions-/
Durchlaßvermögens eines transparenten Films;
Fig. 3B eine Kurvendarstellung des Verlaufs der Phasenänderung
des transparenten Films;
Fig. 4 den Fokussionsstrahlengang aufgrund einer Reflexion
an dem transparenten Film unter Einsatz einer Linse
mit positiver Brechkraft;
Fig. 5 eine Kurvendarstellung des Phasenänderungsverlaufs
des durch den transparenten Film reflektierten Lichts;
Fig. 6 die Wellenebenenaberration in der Pupille des optischen
Systems;
Fig. 7A eine Kurvendarstellung des Verlaufs des Reflexions-/
Durchlaßvermögens des erfindungsgemäßen Polarisations
strahlenteilers;
Fig. 7B eine Kurvendarstellung des Phasenänderungsverlaufs des
erfindungsgemäßen Polarisationsstrahlenteilers und
Fig. 8 den Strahlengang eines Ausführungsbeispiels des
erfindungsgemäß aufgebauten optischen Systems.
Die Fig. 1 bis 7 sind bereits einleitend näher beschrieben
worden. Nachfolgend wird das in Fig. 8 gezeigte optische
System bezüglich seines Aufbaus näher beschrieben.
Die erste Ebene oder Objektebene 10 wird durch ein linear
polarisiertes Licht (p-polarisiertes Licht) beleuchtet, das
von einem nicht dargestellten optischen Beleuchtungssystem
abgegeben und in einer Richtung parallel zur Zeichnungsebene
polarisiert ist. Ein Lichtstrahl vom Muster eines integrierten
Schaltkreises oder einer Strichplatte, das oder die auf der
ersten Ebene angebracht ist wird durch eine erste Linsengruppe
G1 positiver Brechkraft in einen im wesentlichen kollimierten
Lichtstrahl umgewandelt, der auf den Polarisationsstrahlen
teiler 11 gerichtet wird. Die erste Linsengruppe G1 umfaßt
in Aufeinanderfolge, beginnend mit der der ersten Ebene zuge
wandten Seite eine Frontgruppe mit einer doppelt konvexen
positiven Linse L11 und einer doppelt konkaven negativen
Linse L12 sowie eine hintengelegenen Gruppe mit einer nega
tiven Linse L13, einer Meniskuslinse L14, die eine der ersten
Ebene zugewandte konkave Ebene aufweist, einer positiven
Linse L15, einer doppelt konkaven negativen Linse L16 und
einer doppelt konvexen positiven Linse L17. Das Einfallslot
auf eine Ebene 11a des polarisierenden Mehrlagenfilms des
Polarisationsstrahlenteilers nimmt eine Neigung von 50°
an einer beziehungsweise mit Bezug auf eine optische Achse
eines Strahlengangs ein, der von der ersten Ebene 10 auf
den konkaven Reflexionsspiegel 13 gerichtet ist.
Die zweite Linsengruppe G2 negativer Brechkraft umfaßt ledig
lich eine negative Meniskuslinse L20 mit einer dem konkaven
Reflexionsspiegel 13 zugewandten konvexen Ebene. Die dritte
Linsengruppe G3 positiver Brechkraft zum Fokussieren des
Lichtstrahls, welcher durch den Polarisationsstrahlenteiler
11 auf die zweite Ebene 20 reflektiert wird, umfaßt, in der
Reihenfolge ausgehend von dem Polarisationsstrahlenteiler
11 eine positive Linse L31, eine doppelt konkave negative
Linse L32, eine doppelt konvexe positive Linse L33, eine
positive Linse L34 mit einer dem Strahlenteiler zugewandten
stark konvexen Ebene, eine negative Linse L35 mit einer der
zweiten Ebene 20 zugewandten stark konkaven Ebene und eine
positive Linse L36 mit einer dem Strahlenteiler 11 zuge
wandten stark konvexen Ebene.
Das polarisierte Licht (p-polarisiertes Licht) das durch den
Polarisationsstrahlenteiler 11 hindurchfällt, durchsetzt das
Viertel-Wellenlängenplättchen 11 und konvergiert in ein
rechts- (oder links-) drehendes zirkular polarisiertes Licht,
und dieses Licht wird durch die zweite Linsengruppe G2
negativer Brechkraft abgelenkt und auf den konkaven Re
flexionsspiegel 13 gerichtet. Die konvergierende Brech
kraft Pr des konkaven Reflexionsspiegels steht in folgender
Beziehung zu der Brechkraft Pn der zweiten Linsengruppe G2
negativer Brechkraft:
Pr = 2,8|Pn|.
Pr = 2,8|Pn|.
Vorzugsweise weist der Krümmungsradius des konkaven Spiegels
13 ungefähr die doppelte positive Brechkraft der zweiten
Linsengruppe G2 auf, und es ist wünschenswert, die Brechkraft
in einem vorstehend beschriebenen Bereich einzustellen, um
eine gute Aberrationskorrektur zu erreichen.
Das von dem konkaven Reflexionsspiegel 13 reflektierte Licht
wird in ein zirkular polarisiertes Licht entgegengesetzter
Richtung umgewandelt und durch die zweite Linsengruppe G2
und das Viertel-Wellenlängenplättchen 12 geschickt und dadurch
fokussiert und in ein s-polarisiertes Licht umgewandelt, das
auf den Polarisationsstrahlenteiler 11 gerichtet wird. Der
Winkel des Lichtes von dem auf Achse liegenden Objektpunkt
mit Bezug auf die optische Achse AX1 beträgt ungefähr 4°,
und der Winkel des Hauptlichtes relativ zu der optischen
Achse beträgt ungefähr 3°. Der s-polarisierte Lichtstrahl
wird durch den Polarisationsstrahlenteiler reflektiert und
bildet ein verkleinertes Bild des Strich- oder Vorlagen
musters auf der Waferebene ab, die in der zweiten Ebene
20 angeordnet ist, und zwar mittels der dritten Linsen
gruppe G3 positiver Brechkraft.
Bei der hier beschriebenen Ausführungsform beträgt die
Bezugswellenlänge 248 nm, die fokussierende Verstärkung
ist eine Verkleinerung um einen Faktor von 5 und die Blenden
zahl beträgt 0,45. Der Durchmesser des effektiven Bereichs
oder der effektiven Fläche (Bildkreis) des Verkleinerungs
projektionsbildes beträgt 20 mm und der Krümmungsradius der
konkaven Reflexionsebene ist ungefähr einundzwanzigmal größer
als der Durchmesser.
Der Winkel zwischen dem peripheren Licht (sogenanntes Land
licht) von dem durch den Polarisationsstrahlenteiler 11
durchgelassenen auf der Achse liegenden Objektpunkt und der
optischen Achse AX1 beträgt ungefähr 0° und ein maximaler
Winkel zwischen der optischen Achse AX1 und dem Hauptlicht
beträgt ungefähr 3°. Der Winkel zwischen dem Einfallslot auf
die Reflexionsebene 11a des Polarisationsstrahlenteilers 11
und der optischen Achse beträgt 50°. Dementsprechend ist bei
einer Betrachtung des Bereichs von 50° ± 3° der in den Figuren
7A und 7B dargestellten Kurvenverläufe der Transmissions
faktor für das p-polarisierte Licht nicht kleiner als 95%
und der Phasenwechsel ist mit Bezug auf den Einfallswinkel
linear. Mit Bezug auf das von dem Polarisationsstrahlenteiler
11 reflektierte s-polarisierte Licht beträgt der Winkel zwischen
dem peripheren Licht von dem auf der Achse liegenden Objekt
punkt und der optischen Achse ungefähr 4° und ein maximaler
Winkel relativ zu der optischen Achse des Hauptlichts beträgt
ungefähr 3°. Dementsprechend ist unter Bezug auf die Kurven
verläufe der Fig. 7A und 7B das Reflexionsvermögen des
s-polarisierten Lichts nicht kleiner als 95% im Bereich
von 50° ± 7° und die Phasenänderung ist für den Einfallswinkel
im wesentlichen konstant.
In der nachfolgenden Tabelle sind die Daten für ein Ausführungs
beispiel des erfindungsgemäßen optischen Systems dargestellt.
In der Tabelle sind aufgeführt der Krümmungsradius, der Abstand
von Ebene zu Ebene und das Glasmaterial in einer Abfolge, aus
gehend von der ersten Ebene, welche die Objektebene darstellt
und endend mit der zweiten Ebene, welche die Bildebene darstellt.
In der Tabelle ist die Lichtausbreitungsrichtung in der Fig.
8 von rechts nach links als positiv festgelegt, und die
Polaritäten des Krümmungsradius und der Brechungsindex jeder
Ebene sind mit Bezug auf die Lichtausbreitungsrichtung defi
niert.
Der Abstand von Ebene zu Ebene ist in demjenigen Medium als
positiv definiert, welches die positive Lichtausbreitungs
richtung aufweist sowie negativ in dem Medium, welches die
negative Lichtausbreitungsrichtung aufweist.
Die Brechungsindizes von Quarzglas und Flußspat mit Bezug
auf die Referenzwellenlänge (248 nm) sind folgende:
Quarzglas: 1,50855,
Flußspat: 1,46799.
Quarzglas: 1,50855,
Flußspat: 1,46799.
In der Tabelle ist angenommen, daß das Viertel-Wellenlängen
plättchen 12, welches auf dem Quarzglas angebracht ist,
mit dem Polarisationsstrahlenteiler 11 verbunden ist, und
die geringe Stärke des Plättchens ist vernachlässigt.
Da das Viertel-Wellenlängenplättchen 12 sehr dünn ist, muß es
mit dem Quarzglas verbunden oder mit diesem verklebt werden.
Die dünne Filmstruktur des Polarisationsstrahlenteilers,
der bei dem zur Rede stehenden Ausführungsbeispiel ver
wendet wird, umfaßt 21 Schichten oder Lagen, und Hafniumoxid
HfO2 wird als Material mit hohem Brechungsindex verwendet,
während Siliciumoxid SiO2 als Material niedrigen Brechungs
indexes verwendet wird und der Einfallswinkel ist auf 50°
festgelegt. Die Fig. 7A und 7B zeigen die Eigenschaften
des derart aufgebauten Polarisationsstrahlenteilers. Wie
aus dem Winkelverlauf der Kurven hervorgeht, ist das Reflexions
vermögen des s-polarisierten Lichts nicht geringer als 95% in
einem Bereich von 50° ± 7°, und der Transmissionsfaktor des
p-polarisierten Lichts ist nicht kleiner als 95% in einem
Bereich von 50° ± 3°. In diesem Bereich verläuft die Phasen
änderung als geringfügig gekrümmte gerade Linie oder Konstante,
und es tritt keine Verzerrungsaberration und keine Verschlechterung
des Bildes auf, wie dies bei dem herkömmlichen System der Fall
ist. Weitere vorliegend verwendbare Materialien mit hohem
Brechungsindex sind Y2O3, Sc2O3, Al2O3 und MgO und weitere
hier verwendbare Materialien mit niedrigem Brechungsindex sind
YF3, MgF2, LaF3, SiO2 und LiF.
Die in den Fig. 3A und 3B gezeigten Kurvenverläufe in
Abhängigkeit des Winkels sind ermittelt worden unter Verwen
dung von Aluminiumoxid Al2O3 als Material mit hohem Brechungs
index und Siliciumoxid SiO2 als Material mit niedrigem Brechungs
index unter Ausbildung von 31 Schichten oder Lagen sowie mit
einem Einfallswinkel von 45°.
Bei dem vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel des
optischen Systems umfaßt die zweite Linsengruppe G2 negativer
Brechkraft eine einzige negative Meniskuslinse. Die vorliegende
Erfindung ist jedoch nicht auf dieses Ausführungsbeispiel be
schränkt. Vielmehr können auch eine Vielzahl von Linsen zur
Verwendung gelangen. Durch Verwendung der konkaven Reflexions
fläche als hintere Reflexionsfläche der negativen Linse ist
es möglich, die zweite Linsengruppe G2 und die konkave
Reflexionsebene integral auszubilden.
Claims (10)
1. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion mit
- - einer ersten Linsengruppe positiver Brechkraft zum Umwandeln eines Lichtstrahls aus einer ersten Ebene, in welcher ein Objekt angebracht ist, in einen im wesentlichen kollimierten Lichtstrahl,
- - einem Polarisationsstrahlenteiler zum Aufteilen des Licht strahls der ersten Linsengruppe in einen reflektierten Lichtanteil und einen durchgelassenen Lichtanteil in Überein stimmung mit einem Polarisationszustand,
- - einer zweiten Linsengruppe negativer Brechkraft, die in einem der Strahlengänge angeordnet ist, welche durch den Polarisations strahlenteiler aufgeteilt worden sind zum Aufweiten des von dem Polarisationsstrahlenteiler emittierten Lichtstrahls,
- - einem konkaven Reflexionsspiegel zum Bündeln des Lichtstrahls von der zweiten Linsengruppe sowie zum Zurückrichten dieses Lichtstrahls auf den Polarisationsstrahlenteiler über die zweite Linsengruppe,
- - einer dritten Linsengruppe positiver Brechkraft zum Bündeln des Lichtstrahls, der von dem konkaven Reflexions spiegel reflektiert und durch den Polarisations strahlenteiler hindurchgelassen worden ist, um ein verkleinertes Bild des Objekts in der ersten Ebene auf einer zweiten Ebene abzubilden, und
- - einem Viertel-Wellenlängenplättchen, das zwischen dem Polarisationsstrahlenteiler und dem konkaven Reflexions spiegel angeordnet ist.
2. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion nach
Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Polarisationsstrahlenteiler den von der ersten Ebene
eintreffenden Lichtstrahl zu dem konkaven Reflexionsspiegel
durchläßt und Licht, welches von dem konkaven Reflexions
spiegel reflektiert worden ist und die Abbildungsebene
erreicht, reflektiert.
3. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion nach
Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Polarisationsstrahlenteiler einen Strahlenteilungskubus
umfaßt, der eine Mehrzahl Prismen aufweist sowie Polarisier
ebenen, welche zwischen den Ebenen ausgebildet sind,
wobei der Winkel zwischen einem peripheren Licht von
einem außer Achse liegenden Objektpunkt, das von dem
Strahlenteilerkubus auf die dritte Linsengruppe gerichtet
ist und der optischen Achse des optischen Systems 7° in
dem Prisma nicht übersteigt.
4. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion nach
Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Polarisationsstrahlenteiler einen Strahlenteilerkubus
umfaßt, der eine Mehrzahl Prismen aufweist sowie eine
Polarisationsebene, die zwischen den Prismen ausgebildet
ist, wobei ein Winkel zwischen dem Hauptlicht von einem
außer Achse gelegenem Objektpunkt, das von dem Strahlen
teilerkubus auf die dritte Linsengruppe gerichtet ist
und der optischen Achse des optischen Systems 5° nicht
übersteigt.
5. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion nach
Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Kraft Pr des konkaven Reflexionsspiegels und eine
negative Brechungskraft Pn der zweiten Linsengruppe G2
folgende Bedingung erfüllt:
1,5|Pn|<Pr<4,0|Pn|.
1,5|Pn|<Pr<4,0|Pn|.
6. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion nach
Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Krümmungsradius des konkaven Reflexionsspiegels das
Fünfzehn- bis Fünfundzwanzigfache des Durchmessers eines
effektiven Bereichs oder einer effektiven Fläche des
Bildes des Objekts beträgt, welches auf der zweiten Ebene
abgebildet wird.
7. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion nach
Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Polarisationsstrahlenteiler eine Polarisierebene auf
weist, wobei ein Winkel zwischen der optischen Achse eines
Strahlengangs von der ersten Ebene zu dem konkaven Reflexions
spiegel und einem Einfallslot auf die Polarisationsebene
nicht kleiner als 45° ist.
8. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion nach
Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
das Viertel-Wellenlängenplättchen aus einem Bergkristall
besteht und eine Stärke von nicht mehr als 200 µm aufweist.
9. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion nach
Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
das Viertel-Wellenlängenplättchen zwischen dem Polari
sationsstrahlenteiler und der zweiten Linsengruppe ange
ordnet ist.
10. Optisches System zur Verkleinerungsprojektion mit
- - einer ersten Linsengruppe positiver Brechkraft zum Umwandeln eines Lichtstrahls aus einer ersten Ebene, in welcher ein Objekt angebracht ist, in einen im wesentlichen kollimierten Lichtstrahl,
- - einem Strahlenteiler zum Aufteilen des Lichtstrahls von der ersten Linsengruppe,
- - einer zweiten Linsengruppe negativer Brechkraft, die in einem der Strahlengänge angeordnet ist, welche durch den Strahlenteiler aufgeteilt sind, um den von dem Strahlenteiler emittierten Lichtstrahl aufzuweiten oder zu divergieren,
- - einem konkaven Reflexionsspiegel zum Bündeln des Licht
strahls von der zweiten Linsengruppe sowie zum Zurück
richten dieses Strahls auf den Strahlenteiler über die
zweite Linsengruppe,
wobei der konkave Reflexionsspiegel folgende Bedingung
erfüllt:
1,5|Pn|<Pr<4,0|Pn|,
wobei Pr die Brechkraft des konkaven Reflexionsspiegels und Pn die negative Brechkraft der zweiten Linsengruppe G2 ist, und - - einer dritten Linsengruppe positiver Brechkraft zum Bündeln des Lichtstrahls, der von dem konkaven Reflexions spiegel reflektiert wird und durch den Polarisations strahlenteiler hindurchgelassen worden ist, um ein verkleinertes Bild des Objekts in der ersten Ebene auf einer zweiten Ebene abzubilden.
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