EP1260615B1 - Metallbeschichtung von Graphit - Google Patents

Metallbeschichtung von Graphit Download PDF

Info

Publication number
EP1260615B1
EP1260615B1 EP20010111708 EP01111708A EP1260615B1 EP 1260615 B1 EP1260615 B1 EP 1260615B1 EP 20010111708 EP20010111708 EP 20010111708 EP 01111708 A EP01111708 A EP 01111708A EP 1260615 B1 EP1260615 B1 EP 1260615B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
graphite
set forth
metal coating
electroplating
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP20010111708
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP1260615A1 (de
Inventor
Wolf-Dieter Franz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Franz Oberflaechentechnik GmbH and Co KG
Original Assignee
Franz Oberflaechentechnik GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Franz Oberflaechentechnik GmbH and Co KG filed Critical Franz Oberflaechentechnik GmbH and Co KG
Priority to DE50100123T priority Critical patent/DE50100123D1/de
Priority to AT01111708T priority patent/ATE234950T1/de
Priority to SI200130012T priority patent/SI1260615T1/xx
Priority to EP20010111708 priority patent/EP1260615B1/de
Priority to PCT/EP2002/003116 priority patent/WO2002092884A1/de
Publication of EP1260615A1 publication Critical patent/EP1260615A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP1260615B1 publication Critical patent/EP1260615B1/de
Priority to US10/712,458 priority patent/US20040094424A1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1851—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
    • C23C18/1896—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by electrochemical pretreatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1851—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
    • C23C18/1872—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by chemical pretreatment
    • C23C18/1875—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by chemical pretreatment only one step pretreatment
    • C23C18/1879—Use of metal, e.g. activation, sensitisation with noble metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54—Electroplating of non-metallic surfaces

Definitions

  • the present invention relates to a method for metal coating of Graphite.
  • Graphite finds a wide variety of applications as a material. In many Cases must use graphite parts for electrically conductive connections often only mechanically clamped and by pressing others electrically conductive parts is contacted (in particular by pressing Metal contacts). With numerous technical problems is however a connection required by soldering or other joining techniques, so that the graphite part needs a metallic surface.
  • GB 1 283 916 discloses the metallization of carbon fiber reinforced Plastic parts by anodic etching in sulfuric acid and subsequent galvanic coating with copper or nickel.
  • JP 3027175 (Derwent Abstract XP-002179035) relates to improving the orientation quality and the tensile strength of carbon fiber parts by anodic Etching in lithium, sodium or potassium hydroxide.
  • US 3,547,692 describes a two-stage electroless metallization process, each with subsequent Heating steps.
  • JP 60208495 refers to her Patent Abstract of Japan on the pretreatment of carbon material too an electrical coating with a slight alkaline etching and subsequent Germination with Pd or Ag.
  • the invention is based on the technical problem, a method for coating of graphite with metals.
  • a method for metal coating of graphite characterized by the following steps in the following order: an alkaline etching bath of graphite in anodic operation and a galvanic metal coating of graphite.
  • the invention is based on the idea that a metal coating of Graphite, so the application on the graphite more adhesive and not just overlying Metal layers, for electrical contacting and / or mechanical Attachment of graphite components makes a valuable contribution. To the one can on the applied metal layers other metallic contacts be pressed, with comparatively low contact resistance result. Second, the metal layers as Basis for solder joints or other methods for producing a Fixed connection with the component used, which is a metal surface provide.
  • the essential point is to ensure good adhesion between the applied metal layers and the actual graphite surface.
  • the inventor has found that good adhesion can be achieved when the graphite component first in an alkaline etching bath in anodic operation pretreated and activated and then a galvanic coating takes place.
  • the alkaline etching bath in anodic operation is the graphite surface not only thoroughly cleaned but also slightly etched, so that the subsequent galvanic coating is one of foreign contaminants as well as graphite dust largely free and slightly roughened Surface finds.
  • the metal layer can be good in the graphite surface dovetail, which essentially benefits the adhesive properties.
  • the alkaline etching bath creates the prerequisite for a highly adherent and temperature-resistant coating with metals.
  • the graphite surface before the galvanic metal coating be germinated with Pd.
  • Pd seeding a so-called chemical metal layer are deposited. It is it is an electroless deposition of a metal with a reducing agent. This electroless deposition is optional but preferably the Pd germination ahead.
  • Ni or Cu deposited the two metals also may be present together or in conjunction with other metals.
  • the cleaning effect of the alkaline etching bath can be achieved by ultrasonic treatment get supported. This helps in adhering to the surface particles detached from the surface and also supports the mixing and the concentration balance near the surface.
  • the ultrasound treatment however has several disadvantages. For some components it is because of mechanical stress sensitive parts undesirable. Furthermore it requires the installation of the parts in a suitable for ultrasonic treatment Contraption. To perfect the uniformity of ultrasonic treatment can in particular annular arrangements of the treated Batches of components are selected, but this relatively expensive apparatus is.
  • the mentioned galvanic metal coating of graphite can be applied to racks and run in drums with appropriate part geometry.
  • the galvanic Coating may preferably be with Cu, Ni or Sn, a mixture of these Metals or a mixture of one or more of these metals with others Metals are made.
  • Sn and Sn alloys have good soldering properties, so that the galvanic layer for a later (optional) soldering step makes a good foundation.
  • Preferred parameter ranges of the galvanic coating are a current density of 1-10 A / dm 2 and a treatment time, ie bath and turn-on time of the current, of 5-60 minutes.
  • the alkaline etching bath may preferably be in caustic soda solution (NaOH solution) or Potash solution (KOH solution) or a mixture of the two alkalis, for example in a concentration range of 10-60% by weight, particularly preferably 20-50 wt .-% and im according to findings of Inventor's best case between 30 and 40 wt .-%.
  • Of the preferred temperature range is between 55 ° and 65 ° C.
  • graphite in this invention is directed to all materials which contain graphite to such an extent and on the relevant surface occurs that the metal coating also just the graphite surfaces even for the technical result is essential. Of course, this includes first once all pure graphite materials as well as those with minor Additives. Preferably, however, the invention is also directed to plastic-bonded Graphite materials in which graphite particles in a plastic matrix are included. Such material has various technical applications, in which the inventive method of great advantage can.
  • the invention can be realized according to the following embodiment whose details are not to be understood as limiting:
  • a plastic-bonded graphite component of an electrical engineering Device is manufactured in a conventional manner so far that the final Shape is given. Then larger numbers of the component than batch in a commercially available device for electrolytic etching in 35 % By weight NaOH solution at 60 ° C. for 10 minutes in anodic operation etched and then added directly into a simple water bath Room temperature introduced. There, the solution foams in the environment of Components of the batch briefly on, the batch is further rinsed and then in known to germinate with Pd. These are commercial ionogenic or colloidal Pd solutions available. The Pd nuclei serve as a catalyst for the following metallization steps.
  • Ni layer chemically (without external power) deposited.
  • This nickel layer can, da it is very thin, then chemically nickel, chemically copper, galvanic nickel and / or electroplated copper.
  • soldering process is completely conventional, because only the surface of the Sn alloy plays a role.
  • the solder joint can not only for excellent electrical contacts to the Graphite component can be used. She also has such good adhesion the graphite component that it can also serve for mechanical fastening, so that the graphite component is no longer clamped or bored in the Graphite component screwed or otherwise with respect to the graphite component must be attached positively or non-positively. It may just be a suitable one Metal pocket can be used as an assembly aid.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Metallbeschichtung von Graphit.
Graphit findet als Werkstoff die unterschiedlichsten Anwendungen. In vielen Fällen müssen Graphitteile für elektrisch leitende Verbindungen eingesetzt werden, wobei häufig nur mechanisch geklemmt und durch Andrücken anderer elektrisch leitfähiger Teile kontaktiert wird (insbesondere durch Anpressen von Metallkontakten). Bei zahlreichen technischen Problemstellungen ist allerdings eine Verbindung durch Löten oder andere Verbindungstechniken gefordert, so dass das Graphitteil eine metallische Oberfläche benötigt.
Die GB 1 283 916 offenbart die Metallisierung von kohlefaserverstärkten Kunststoffteilen durch eine anodische Ätzung in Schwefelsäure und nachfolgende galvanische Beschichtung mit Kupfer oder Nickel. Die JP 3027175 (Derwent Abstract XP-002179035) bezieht sich auf die Verbesserung der Orientierungsqualität und der Zugfestigkeit von Kohlefaserteilen durch eine anodische Ätzung in Lithium-, Natrium- oder Kaliumlauge. Die US 3 547 692 beschreibt ein zweistufiges stromloses Metallisierungsverfahren mit jeweils nachfolgenden Heizschritten. Dabei wird auf Kohlenstoffmaterialien zunächst eine Carbidschicht gebildet und die zweite Metallschicht dann durch Diffusion auf der Carbidschicht verankert. Die JP 60208495 bezieht sich ausweislich ihres Patent Abstract of Japan auf die Vorbehandlung von Kohlenstoffmaterial zu einer elektrischen Beschichtung mit einer leichten alkalischen Ätzung und nachfolgenden Bekeimung mit Pd oder Ag.
Der Erfindung liegt das technische Problem zugrunde, ein Verfahren zur Beschichtung von Graphit mit Metallen anzugeben.
Erfindungsgemäß ist hierzu ein Verfahren zur Metallbeschichtung von Graphit vorgesehen, das gekennzeichnet ist durch folgende Schritte in folgender Reihenfolge: ein alkalisches Ätzbad des Graphits im anodischen Betrieb und eine galvanische Metallbeschichtung des Graphits.
Die Erfindung geht von dem Gedanken aus, dass eine Metallbeschichtung von Graphit, also das Aufbringen auf dem Graphit haftender und nicht nur aufliegender Metallschichten, zur elektrischen Kontaktierung und/oder zur mechanischen Befestigung von Graphitbauteilen einen wertvollen Beitrag leistet. Zum einen können auf die aufgebrachten Metallschichten andere metallische Kontaktstücke aufgedrückt werden, wobei sich vergleichsweise niedrige Übergangswiderstände ergeben. Zum zweiten können die Metallschichten als Grundlage für Lötverbindungen oder andere Verfahren zur Herstellung einer festen Verbindung mit dem Bauteil verwendet werden, die eine Metalloberfläche voraussetzen.
Der wesentliche Punkt ist dabei die Sicherstellung einer guten Haftung zwischen den aufzubringenden Metallschichten und der eigentlichen Graphitoberfläche. Der Erfinder hat festgestellt, dass sich eine gute Haftung erzielen lässt, wenn das Graphitbauteil zuerst in einem alkalischen Ätzbad im anodischen Betrieb vorbehandelt und aktiviert wird und anschließend eine galvanische Beschichtung stattfindet. Durch das alkalische Ätzbad im anodischen Betrieb wird die Graphitoberfläche nicht nur gründlich gereinigt sondern auch leicht angeätzt, so dass die nachfolgende galvanische Beschichtung eine von Fremdverunreinigungen sowie Graphitstaub weitgehend freie und leicht angerauhte Oberfläche vorfindet. Dadurch kann sich die Metallschicht gut in der Graphitoberfläche verzahnen, was den Hafteigenschaften wesentlich zugute kommt. Das alkalische Ätzbad schafft die Voraussetzung für eine hochgradig haftfeste und temperaturbeständige Beschichtung mit Metallen.
Optional kann die Graphitoberfläche vor der galvanischen Metallbeschichtung mit Pd bekeimt werden. Außerdem kann nachfolgend zu dieser Pd-Bekeimung eine sog. chemische Metallschicht abgeschieden werden. Dabei handelt es sich um eine außenstromlose Abscheidung eines Metalls mit einem Reduktionsmittel. Diese außenstromlose Abscheidung ist optional, setzt jedoch vorzugsweise die Pd-Bekeimung voraus. Vorzugsweise wird bei der außenstromlosen Abscheidung Ni oder Cu abgeschieden, wobei die beiden Metalle auch gemeinsam oder in Verbindung mit anderen Metallen vorliegen können.
Die Reinigungswirkung des alkalischen Ätzbades kann durch eine Ultraschallbehandlung unterstützt werden. Diese hilft, an der Oberfläche haftende Partikel von der Oberfläche abzulösen und unterstützt ferner die Durchmischung und den Konzentrationsausgleich in Oberflächennähe. Die Ultraschallbehandlung hat jedoch verschiedene Nachteile. Bei manchen Bauteilen ist sie wegen der mechanischen Beanspruchung empfindlicher Teile unerwünscht. Außerdem erfordert sie den Einbau der Teile in eine zur Ultraschallbehandlung geeignete Vorrichtung. Zur Perfektionierung der Gleichmäßigkeit der Ultraschallbehandlung können dabei insbesondere ringförmige Anordnungen der zu behandelnden Chargen von Bauteilen gewählt werden, was jedoch apparativ relativ aufwendig ist.
Gemäß einem besonders bevorzugten Merkmal der Erfindung wird auf die geschilderte Ultraschallbehandlung gänzlich verzichtet und damit der zeitliche und apparative Aufwand deutlich verringert. Stattdessen werden die behandelten Graphitteile aus dem alkalischen Ätzbad direkt, d.h. in unmittelbarem zeitlichen Zusammenhang und ohne weitere Zwischenbehandlung, in eine dünne wässrige Lösung oder in Wasser getaucht. Dabei entstehen auf den Oberflächen der Teile wegen der dort noch anhaftenden Reste der im Ätzbad verwendeten Lösung große Konzentrationsgradienten. Die Lösungsreste des Ätzbades reagieren mit dem Wasser oder der dünnen Lösung kurz und relativ heftig, was sich daran bemerkbar macht, dass die oberflächennahen Bereiche im Wasser oder in der wässrigen Lösung kurz aufschäumen. Dieses Aufschäumen hat nach Beobachtung des Erfinders eine dem Ultraschallbad vergleichbare Reinigungswirkung und entfernt die zuvor im Ätzbad bereits weggeätzten oder angelösten Verunreinigungen wirksam und einfach von der Oberfläche.
Die soeben beschriebene Vorgehensweise sollte also vorzugsweise dazu benutzt werden, eine Ultraschallbehandlung jedenfalls in diesem Bereich des Verfahrens ganz wegzulassen.
Die erwähnte galvanische Metallbeschichtung des Graphits kann auf Gestellen und bei entsprechender Teilegeometrie in Trommeln ablaufen. Die galvanische Beschichtung kann vorzugsweise mit Cu, Ni oder Sn, einer Mischung dieser Metalle oder einer Mischung eines oder mehrerer dieser Metalle mit anderen Metallen erfolgen. Insbesondere Sn und Sn-Legierungen haben gute Löteigenschaften, so dass die galvanische Schicht für einen späteren (optionalen) Lötschritt eine gute Grundlage bildet.
Somit kann nach dem Ätzvorgang vorzugsweise entweder
  • eine Pd-Bekeimung + chemisch Ni + Cu (oder Ni)
  • oder nach Spülen galvanisch Ni direkt
  • oder nach Spülen galvanisch Cu direkt
aufgebracht werden; auf diese Schichten erfolgt dann der weitere Schichtaufbau (Sn oder andere Metalle).
Bevorzugte Parameterbereiche der galvanischen Beschichtung sind eine Stromdichte von 1-10 A/dm2 und eine Behandlungszeit, d.h. Bad und Einschaltzeit des Stromes, von 5-60 Minuten.
Das alkalische Ätzbad kann vorzugsweise in Natronlauge (NaOH-Lösung) oder Kali-Lauge (KOH-Lösung) oder einer Mischung der beiden Laugen erfolgen, und zwar beispielsweise in einem Konzentrationsbereich von 10-60 Gew.-%, besonders bevorzugterweise 20-50 Gew.-% und im nach Feststellungen des Erfinders besten Fall zwischen 30 und 40 Gew.-%. Dabei haben sich Temperaturen von 20°-70°C bewährt, wobei Temperaturen über 30° bzw. 40° und im nach Feststellungen des Erfinders günstigsten Fall über 50° günstiger sind. Der bevorzugte Temperaturbereich liegt zwischen 55° und 65°C.
Der Begriff "Graphit" richtet sich bei dieser Erfindung auf alle Materialien, bei denen Graphit in solchem Umfang enthalten ist und auf der relevanten Oberfläche auftritt, daß die Metallbeschichtung eben auch der Graphitoberflächen selbst für das technische Ergebnis wesentlich ist. Dies umfaßt natürlich zunächst einmal alle reinen Graphitmaterialien sowie solche mit geringfügigen Zusätzen. Vorzugsweise richtet sich die Erfindung jedoch auch auf kunststoffgebundene Graphitmaterialien, bei denen Graphitpartikel in einer Kunststoffmatrix enthalten sind. Solches Material hat verschiedene technische Anwendungen, bei denen das erfindungsgemäße Verfahren von großem Vorteil sein kann.
Konkret kann die Erfindung gemäß folgendem Ausführungsbeispiel realisiert werden, dessen Einzelheiten jedoch nicht beschränkend zu verstehen sind:
Ein aus kunststoffgebundenem Graphit bestehendes Bauteil eines elektrotechnischen Geräts wird in konventioneller Weise soweit hergestellt, dass die endgültige Form gegeben ist. Dann werden größere Zahlen des Bauteils als Charge in einer handelsüblichen Einrichtung für elektrolytische Ätzvorgänge in 35 Gew.-%-iger NaOH-Lösung bei 60°C für 10 Minuten im anodischen Betrieb gereinigt und geätzt und anschließend direkt in ein einfaches Wasserbad bei Zimmertemperatur eingebracht. Dort schäumt die Lösung in der Umgebung der Bauteile der Charge kurz auf, die Charge wird weiter gespült und dann in an sich bekannter Weise mit Pd bekeimt. Dazu stehen kommerzielle ionogene oder kolloidale Pd-Lösungen zur Verfügung. Die Pd-Keime dienen als Katalysator für die folgende Metallisierungsschritte.
Auf die Pd-bekeimten Graphitbauteile wird dann eine 0,1-2 µm starke Ni-Schicht chemisch (außenstromlos) abgeschieden. Diese Nickelschicht kann, da sie sehr dünn ist, anschließend noch mit chemisch Nickel, chemisch Kupfer, galvanisch Nickel und/oder galvanisch Kupfer verstärkt werden.
Auf die chemische Metallschicht kann dann eine elektrolytische Sn-Legierung aufgebracht werden, die so dick ist (ca. 5-10 µ), dass direkt darauf die Lötstellen angebracht werden können. Der Lötvorgang ist völlig konventionell, weil dabei nur noch die Oberfläche der Sn-Legierung eine Rolle spielt.
Die Lötstelle kann nicht nur für hervorragende elektrische Kontakte zu dem Graphitbauteil verwendet werden. Sie hat außerdem eine so gute Haftung auf dem Graphitbauteil, dass sie auch zur mechanischen Befestigung dienen kann, so dass das Graphitbauteil nicht mehr geklemmt oder durch Bohrungen in dem Graphitbauteil angeschraubt oder anderweitig in bezug auf das Graphitbauteil form- oder kraftschlüssig befestigt werden muss. Es kann einfach eine geeignete Metallasche als Montagehilfe verwendet werden.

Claims (13)

  1. Verfahren zur Metallbeschichtung von Graphit,
    gekennzeichnet durch folgende Schritte in folgender Reihenfolge:
    anodisches Ätzen des Graphits in einem alkalisches Ätzbad
    und eine galvanische Metallbeschichtung des Graphits.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch folgenden Schritt zwischen dem alkalischen Ätzbad und der galvanischen Metallbeschichtung:
    eine Pd-Bekeimung des Graphits.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch folgenden Schritt zwischen der Pd-Bekeimung und der galvanischen Metallbeschichtung:
    eine außenstromlose Metallabscheidung zur Verstärkung der Pd-Schicht.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, bei dem bei der außenstromlosen Abscheidung zumindest Ni oder Cu abgeschieden wird.
  5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch folgenden Schritt zwischen dem alkalischen Ätzbad und dem nachfolgenden Schritt:
    ein direktes Einbringen des Graphits aus dem alkalischen Ätzbad in Wasser oder eine dünne wässrige Lösung.
  6. Verfahren nach Anspruch 5, bei dem zwischen dem alkalischen Ätzbad und der ersten nachfolgenden Metallbeschichtung keine Ultraschallbehandlung durchgeführt wird.
  7. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei dem bei der galvanischen Metallbeschichtung mit zumindest Cu, Ni oder Sn beschichtet wird.
  8. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei dem die Stromdichte bei der galvanischen Metallbeschichtung zwischen 1 und 10 A/dm2 liegt.
  9. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei dem die Stromzeit bei der galvanischen Metallbeschichtung zwischen 5 und 60 Minuten liegt.
  10. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei dem das alkalische Ätzbad in einer Lösung aus im wesentlichen 10-60 Gew.-%-iger Lösung von NaOH und/oder KOH durchgeführt wird.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, bei dem das alkalische Ätzbad bei einer Temperatur zwischen 20° und 70°C abläuft.
  12. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei dem es sich bei dem Graphit um kunststoffgebundene Graphitpartikel handelt.
  13. Verfahren zum Herstellen einer Lötverbindung mit einem Graphitbauteil, bei dem mit einem Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche eine Metallbeschichtung auf dem Graphitbauteil aufgebracht wird und danach auf der so hergestellten Metallschicht eine Lötstelle angebracht wird.
EP20010111708 2001-05-14 2001-05-14 Metallbeschichtung von Graphit Expired - Lifetime EP1260615B1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE50100123T DE50100123D1 (de) 2001-05-14 2001-05-14 Metallbeschichtung von Graphit
AT01111708T ATE234950T1 (de) 2001-05-14 2001-05-14 Metallbeschichtung von graphit
SI200130012T SI1260615T1 (en) 2001-05-14 2001-05-14 Metal coating of graphite
EP20010111708 EP1260615B1 (de) 2001-05-14 2001-05-14 Metallbeschichtung von Graphit
PCT/EP2002/003116 WO2002092884A1 (de) 2001-05-14 2002-03-20 Metallbeschichtung von graphit
US10/712,458 US20040094424A1 (en) 2001-05-14 2003-11-13 Graphite metal coating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP20010111708 EP1260615B1 (de) 2001-05-14 2001-05-14 Metallbeschichtung von Graphit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP1260615A1 EP1260615A1 (de) 2002-11-27
EP1260615B1 true EP1260615B1 (de) 2003-03-19

Family

ID=8177428

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP20010111708 Expired - Lifetime EP1260615B1 (de) 2001-05-14 2001-05-14 Metallbeschichtung von Graphit

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20040094424A1 (de)
EP (1) EP1260615B1 (de)
AT (1) ATE234950T1 (de)
DE (1) DE50100123D1 (de)
SI (1) SI1260615T1 (de)
WO (1) WO2002092884A1 (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6907917B2 (en) * 2003-01-10 2005-06-21 International Business Machines Corporation Graphite-based heat sinks and method and apparatus for the manufacture thereof
US8955580B2 (en) * 2009-08-14 2015-02-17 Wah Hong Industrial Corp. Use of a graphite heat-dissipation device including a plating metal layer
TW201035513A (en) * 2009-03-25 2010-10-01 Wah Hong Ind Corp Method for manufacturing heat dissipation interface device and product thereof
TW201105827A (en) * 2009-08-13 2011-02-16 guo-zhen Zhang Pretreatment method
CN103469182B (zh) * 2013-08-30 2015-05-13 西北工业大学 一种纳米石墨微片表面无钯化学镀铜的方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2547120A (en) * 1945-10-23 1951-04-03 Bendix Aviat Corp Process for plating a carbon or graphite part with chromium
GB1215002A (en) * 1967-02-02 1970-12-09 Courtaulds Ltd Coating carbon with metal
GB1283916A (en) * 1968-09-28 1972-08-02 Plessey Co Ltd Improvements relating to electro-deposition
US3547692A (en) * 1968-10-17 1970-12-15 Engelhard Min & Chem Metal coating carbon substrates
JPS60208495A (ja) * 1984-04-02 1985-10-21 Okuno Seiyaku Kogyo Kk カ−ボン材料に電気めつきを行なうための前処理方法
JPH0327175A (ja) * 1989-06-17 1991-02-05 Kobe Steel Ltd 炭素繊維の製造方法
US5591565A (en) * 1992-03-20 1997-01-07 Siemens Solar Gmbh Solar cell with combined metallization and process for producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
SI1260615T1 (en) 2003-12-31
US20040094424A1 (en) 2004-05-20
DE50100123D1 (de) 2003-04-24
EP1260615A1 (de) 2002-11-27
WO2002092884A1 (de) 2002-11-21
ATE234950T1 (de) 2003-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112007000680B4 (de) Edelmetallplattierung von Titankomponenten
US5464524A (en) Plating method for a nickel-titanium alloy member
DE3821073A1 (de) Verfahren zum galvanischen beschichten von aus aluminium oder aluminiumlegierungen gefertigten gegenstaenden mit einem vorzugsweise loetbaren metallueberzug
GB2254340A (en) Metal coated porous resin membrane.
US4652347A (en) Process for electroplating amorphous alloys
EP1260615B1 (de) Metallbeschichtung von Graphit
EP0283771A1 (de) Verfahren zur haftfesten Metallisierung von Kunststoffen
DE3312713A1 (de) Silberbeschichtete elektrische materialien und verfahren zu ihrer herstellung
EP0127857B1 (de) Lötbarer Gegenstand aus rostfreiem Stahl und Verfahren zu seiner Herstellung
US4767508A (en) Strike plating solution useful in applying primer plating to electronic parts
EP0799912B1 (de) Verfahren zur galvanotechnischen Metallisierung von Kunststoffoberflächen
US4604169A (en) Process for metal plating a stainless steel
JPS597359B2 (ja) メツキ方法
DE2946343C2 (de) Verfahren zur Vorbehandlung der Oberfläche von Polyamidsubstraten für die chemische Metallisierung
JPH0154438B2 (de)
DE3137587C2 (de)
DE2948133A1 (de) Verfahren zur vorbehandlung der oberflaechen von caprolactampolymerisaten fuer die chemische metallab dung
JPH07180085A (ja) 非シアン銀めっき方法及びそれに用いられる非シアン溶液
JPS5836071B2 (ja) 銀メッキ鉄及び鉄合金の製造方法
DE102005005127A1 (de) Elektrischer Kontakt und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2215364C3 (de) Verfahren zum Vergolden von Wolframoder Molybdänelektroden
JP2005272858A (ja) 軽金属材料の表面前処理方法
CN114150318A (zh) 一种铜镍硅合金的镀前处理方法及铜镍硅合金表面电镀银方法
JPS59116394A (ja) 電気接触子のメツキ方法
EP0023240A1 (de) Verfahren zur Aktivierung von Kunststoffoberflächen

Legal Events

Date Code Title Description
GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20020321

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE TR

AX Request for extension of the european patent

Free format text: AL;LT;LV;MK;RO;SI PAYMENT 20020321

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: SI

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030319

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030319

Ref country code: TR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030319

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030319

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030319

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: GERMAN

REF Corresponds to:

Ref document number: 50100123

Country of ref document: DE

Date of ref document: 20030424

Kind code of ref document: P

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20030514

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030514

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20030531

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20030531

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030619

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030619

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030620

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)
AKX Designation fees paid

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE TR

AXX Extension fees paid

Extension state: SI

Payment date: 20020321

LTIE Lt: invalidation of european patent or patent extension

Effective date: 20030319

NLV1 Nl: lapsed or annulled due to failure to fulfill the requirements of art. 29p and 29m of the patents act
PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20030930

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FD4D

Ref document number: 1260615E

Country of ref document: IE

BERE Be: lapsed

Owner name: *FRANZ OBERFLACHENTECHNIK G.M.B.H. & CO. K.G.

Effective date: 20030531

ET Fr: translation filed
PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed

Effective date: 20031222

REG Reference to a national code

Ref country code: SI

Ref legal event code: IF

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20050531

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20050531

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Payment date: 20080526

Year of fee payment: 8

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

Effective date: 20100129

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20090602

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20080519

Year of fee payment: 8

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20090514

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20120522

Year of fee payment: 12

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20130514

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130514

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20190522

Year of fee payment: 19

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 20190517

Year of fee payment: 19

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R119

Ref document number: 50100123

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MM01

Ref document number: 234950

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20200514

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20200514

REG Reference to a national code

Ref country code: SI

Ref legal event code: KO00

Effective date: 20210317

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20201201