EP0662164B1 - Process for phosphating galvanised steel surfaces - Google Patents

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Publication number
EP0662164B1
EP0662164B1 EP93920771A EP93920771A EP0662164B1 EP 0662164 B1 EP0662164 B1 EP 0662164B1 EP 93920771 A EP93920771 A EP 93920771A EP 93920771 A EP93920771 A EP 93920771A EP 0662164 B1 EP0662164 B1 EP 0662164B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
phosphating
quantities
cations
range
solutions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP93920771A
Other languages
German (de)
French (fr)
Other versions
EP0662164A1 (en
Inventor
Horst-Dieter Speckmann
Reinhard Seidel
Gerard Veldman
Karl-Dieter Brands
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Henkel AG and Co KGaA
Original Assignee
Henkel AG and Co KGaA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Henkel AG and Co KGaA filed Critical Henkel AG and Co KGaA
Publication of EP0662164A1 publication Critical patent/EP0662164A1/en
Application granted granted Critical
Publication of EP0662164B1 publication Critical patent/EP0662164B1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/36Phosphatising

Definitions

  • the present invention relates to a method for phosphating galvanized steel surfaces, preferably electrolytically or hot-dip galvanized steel strip surfaces, by treating them by immersion or spray-immersion with acidic, aqueous solutions which, in addition to zinc, phosphate and nitrate ions, also contain at least two ions contain further divalent metals, wherein the workpieces are simultaneously treated cathodically with a direct current.
  • EP-A-459 541 proposes the use of phosphating solutions which, in addition to 0.3 to 1.7 g / l zinc and 0.2 to 4.0 g / l manganese, also 1 to 30 mg / l Cu ( II) included.
  • the positive influence of copper on the formation of the phosphate layer has long been known in the prior art, compare, for example, W. Rausch, "The Phosphating of Metals", Eugen G. Leuze Verlag, 2nd Edition 1988, pages 20, 56, 79f and 107.
  • the copper ions can be added to the phosphating bath itself or to an upstream activation bath, for example based on colloidal titanium polyphosphates.
  • EP-A-454 211 describes an activation bath containing titanium phosphate, to which copper is added in the range of 1 to 100 mg / l.
  • titanium-free activation baths as described for example in EP-A-340 530, a favorable influence of a copper content in the quantity range between 1 and 100 mg / l can be expected.
  • JP-A-85/211 080 relates to a method for producing Corrosion protection layers on metal surfaces with the help of zinc phosphating solutions with temporary use of a cathodic current.
  • a corrosion-resistant protective layer is also produced on the edges of the metal surfaces to be treated.
  • EP-A-171 790 the metal surfaces are treated with an acidic, aqueous solution which contains zinc, phosphate and chlorine ions following a conventional zinc phosphating, a direct current being simultaneously applied to the anodically connected metal surfaces.
  • the applicant's unpublished DE-A-4111186 also describes a process for phosphating metal surfaces, preferably electrolytically or hot-dip galvanized steel strip surfaces, using acidic, aqueous phosphating solutions, the workpieces being simultaneously treated cathodically with a direct current.
  • the phosphating solutions used here contain zinc, nickel and / or cobalt cations as well as phosphate and nitrate anions.
  • material surfaces are made of electrolytically or hot-dip galvanized or else alloy galvanized steel, preferably electrolytically or hot-dip galvanized steel strip, understood.
  • steel is understood to mean unalloyed to low-alloy steel, as used, for example, in the form of sheets for body construction.
  • galvanized steel, especially electrolytically galvanized steel in strip form has become very important in recent years.
  • galvanized steel encompasses both galvanizing by electrolytic deposition and by hot-dip application and generally also relates to alloy-galvanized steel, the zinc alloys in particular being zinc / nickel alloys, zinc / iron alloys (galvanized) and zinc / aluminum -Alloys (Galfan, Galvalume) play an essential role.
  • the process according to the invention is preferably carried out in the so-called immersion process; in general, however, it is also possible to apply the phosphating solutions according to the invention to the substrate surfaces by spray immersion.
  • the workpieces to be treated are connected cathodically for the phosphating treatment, an electrode made of stainless steel, for example, being used as the counter electrode.
  • a metal container of the phosphating bath can also serve as a counterelectrode, furthermore there are also graphite electrodes, noble metal electrodes, for example made of platinum or gold, electrodes which only have a coating of the noble metals mentioned or in which such noble metals are implied, or in principle all of them Electrode materials known from the relevant prior art can be used as counter electrodes.
  • direct current is understood not only to mean “pure” direct currents, but rather also practically identical currents, for example those that can be generated by full wave rectification of a single phase alternating current or by rectification of a three phase alternating current. So-called pulsating direct currents and chopped direct currents can also be used for the purposes of the invention. Of importance in the sense of the invention is only the current density of the direct current, which should be in the range defined above.
  • suitable voltage values for the direct current which is to be used in the sense of the present invention, is deliberately dispensed with, since, taking into account the different conductivities of the phosphating baths on the one hand and the geometric arrangement of the electrodes on the other hand, there may be a different relationship between current and voltage.
  • concentration gradients which are determined by the current density and not by the bath voltage, are decisive for the formation mechanism of the phosphating layers.
  • the person skilled in the art will select suitable voltage values for carrying out the method according to the invention on the basis of the values given for the current density.
  • the following conditions are observed in the phosphating treatment of the workpieces: pH value of the phosphating solutions in the range from 2 to 3, Temperature of the phosphating solutions in the range from 40 to 70 ° C, Treatment duration in the range of 2 to 30 seconds.
  • the workpieces are treated cathodically with a direct current with a density in the range from 1 to 50 mA / cm.
  • the phosphating baths can additionally contain magnesium cations.
  • the incorporation of these cations into the phosphating layer is not significantly promoted by the use of direct current according to the invention, but it is not disturbed in any way.
  • phosphating solutions which additionally contain Mg+ cations in the range from 0.01 to 2 g / l, preferably from 0.1 to 1 g / l.
  • Mg+ cations in the range from 0.01 to 2 g / l, preferably from 0.1 to 1 g / l.
  • the use of fluoride ions leads to a more uniform degree of coverage of the phosphating layers on such surfaces.
  • the fluoride anions can also be used in the form of complex fluorine compounds, for example tetrafluoroborate or hexafluorosilicate.
  • the total acid score is then the number ml of 0.1 N NaOH required for titration of 10 ml bath solution using phenolphthalein as an indicator until the first pink color.
  • the phosphating solutions according to the invention generally have points of free acid in the range from 0.5 to 3 and of total acid in the range from 15 to 25.
  • the phosphating baths for carrying out the process according to the invention are generally prepared in the customary manner which is known per se to the person skilled in the art.
  • the following compounds can be considered as starting products for the preparation of the phosphating bath: Zinc: in the form of zinc oxide or zinc nitrate; Manganese: in the form of manganese carbonate; Copper: in the form of copper nitrate; Magnesium: in the form of magnesium nitrate, magnesium oxide, magnesium hydroxide or magnesium hydroxycarbonate; Phosphate: preferably in the form of phosphoric acid; Nitrate: in the form of the salts mentioned above, optionally also in the form of the sodium salt.
  • the fluoride ions which may be used in the bath are preferably used in the form of sodium fluoride or in the form of the complex compounds mentioned above.
  • the compounds mentioned above are dissolved in water in the concentration ranges essential for the invention; then, as has also been said above, the pH of the phosphating solutions is adjusted to the desired value.
  • the metal surface to be treated Before the actual phosphating treatment, the metal surface to be treated must be completely water wettable. For this purpose, it is generally necessary to clean and degrease the metal surfaces to be treated by methods known per se and sufficiently described in the prior art. For the purposes of the present invention, it is further preferred, after the cleaned and degreased workpieces have been rinsed with water, preferably with demineralized water, to subject the workpieces to be phosphated to an activation pretreatment known per se. In particular, titanium-containing activation solutions are used for this purpose, as are described, for example, in DE-A-20 38 105 or DE-A-20 43 085.
  • the metal surfaces subsequently to be phosphated are treated with solutions which are essentially titanium salts and Sodium phosphate, optionally together with organic components, for example alkyl phosphonates or polycarboxylic acids.
  • Soluble compounds of titanium such as potassium titanium fluoride and in particular titanyl sulfate, are preferred as the titanium component.
  • Disodium orthophosphate is generally used as the sodium phosphate. Titanium-containing compounds and sodium phosphate are used in such proportions that the titanium content is at least 0.005% by weight, based on the weight of the titanium-containing compound and the sodium phosphate.
  • the actual phosphating process then takes place after this activation treatment; the phosphated metal surfaces are then rinsed again with water, again preferably with demineralized water.
  • a passivation treatment can be carried out, for example, with dilute chromic acid or mixtures of chromic and phosphoric acid.
  • the concentration of chromic acid is generally between 0.01 and 1 g / l.
  • the phosphating layers produced with the aid of the method according to the invention can be used well in all fields in which phosphate coatings are used.
  • a particularly advantageous application is the preparation of the metal surfaces for painting, for example by spray painting or electrocoating, or for coating with organic foils.
  • Table 1 shows the compositions of the phosphating baths used, including the respective pH values and the values of the free acid and total acid content, for Examples 1 to 3 according to the invention and for Comparative Examples 1 to 3.
  • Examples 1 to 3 a cathodic direct current with different current densities was applied to the test sheets - during the entire immersion treatment of the same in the respective phosphating baths; the respective current densities are given in Table 2.
  • a platinum electrode served as the counter electrode.
  • Comparative Examples 1 to 3 the phosphating was carried out without such a direct current treatment.
  • the phosphating baths used for comparative examples 1 to 3 correspond, moreover, to those of examples 1 to 3 according to the invention.
  • test sheets were coated with an epoxy-based cathodic electrocoat material (Aqualux R K, ICI, Hilden).
  • the dry film density was 18 ⁇ 2 ⁇ m.
  • the corrosion protection of the respective phosphating layers was then determined by determining the infiltration of paint according to a cathodic polarization test.
  • the respective test sheets were provided with a single cut in accordance with DIN 53 167 and then immersed in a 10% by weight aqueous Na 2 SO 4 solution at a current flow of 0.75 A and a polarization time of 40 hours.
  • the paint infiltration was evaluated in accordance with DIN 53 167 (see Table 2).
  • the layer weights of the phosphating layers were determined by differential weighing (weight of the test plate: with phosphate layer. /. Weight of the test plate after the phosphate layer had been detached using chromic acid). Furthermore, the phosphating layers on the respective test sheets were detached with chromic acid to determine their composition and analyzed by AAS spectroscopy.
  • Table 2 Composition of the phosphating baths
  • S. points GS points each in [g / l] 1 1.6 0.01 1.0 2.3 12.3 2.7 1.5 20th 2nd 1.6 0.1 1.0 2.5 12.3 2.7 1.5 21 3rd 1.6 0.2 1.0 2.7 12.3 2.7 1.5 23 See 1 1.6 0.01 1.0 2.3 12.3 2.7 1.5 20th See 2 1.6 0.1 1.0 2.5 12.3 2.7 1.5 21 See 3 1.6 0.2 1.0 2.7 12.3 2.7 1.5 23 See comparative example; f. S.

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Abstract

PCT No. PCT/EP93/02538 Sec. 371 Date Mar. 28, 1995 Sec. 102(e) Date Mar. 28, 1995 PCT Filed Sep. 20, 1993 PCT Pub. No. WO94/08074 PCT Pub. Date Apr. 14, 1994.The invention relates to a process for phosphating galvanized steel surfaces, preferably electrolytically or hot-dip galvanized surfaces of steel strip, by treating them in a bath or spray with acidic aqueous phosphating solutions, wherein the workpieces are given a d.c. cathodic treatment at the same time. In the process, (a) the phosphating solutions contain Zn+2 cations in the range from 0.1 to 5 g/l, PO4-3 anions in the range from 5 to 50 g/l, NO3- anions in the range from 0.1 to 50 g/l, Mn+2 cations in the range from 0.1 to 5 g/l, and Cu+2 cations in the range from 0.001 to 1 g/l; (b) the following conditions are used: pH of the phosphating solution in the range from 1.5 to 4.5, temperature of the phosphating solution in the range from 10 DEG to 80 DEG C., treatment time in the range from 1 to 300 sec; and (c) the workpieces are also cathodically treated with a direct current with a density in the range from 0.01 to 100 mA/cm2 during phosphating.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Phosphatieren von verzinkten Stahloberflächen, vorzugsweise von elektrolytisch- oder schmelztauchverzinkten Stahlband-Oberflächen, durch Behandeln derselben im Tauchen oder Spritztauchen mit sauren, wäßrigen Lösungen, die neben Zink-, Phosphat- und Nitrat-Ionen ferner Ionen mindestens zweier weiterer zweiwertiger Metalle enthalten, wobei man gleichzeitig die Werkstücke kathodisch mit einem Gleichstrom behandelt.The present invention relates to a method for phosphating galvanized steel surfaces, preferably electrolytically or hot-dip galvanized steel strip surfaces, by treating them by immersion or spray-immersion with acidic, aqueous solutions which, in addition to zinc, phosphate and nitrate ions, also contain at least two ions contain further divalent metals, wherein the workpieces are simultaneously treated cathodically with a direct current.

Es ist dem Fachmann bereits seit geraumer Zeit bekannt, daß hohe Anteile an Schwermetallionen, insbesondere Nickelionen, in Phosphatschichten zu einem besonders guten Korrosionsschutz führen, vergleiche beispielsweise die W0-A-85/03 089. In diesem Zusammenhang ist jedoch auch bekannt, daß zur Erzielung hoher Nickelanteile in Phosphatschichten gleichfalls hohe Nickelanteile in den zu verwendenden Phosphatierlösungen erforderlich sind. Dies bedingt zum einen höhere Verfahrenskosten aufgrund des hohen Nickelpreises. Zum anderen müssen größere Mengen toxischer Nickel-Verbindungen aus den verbrauchten Phosphatierlösungen entsorgt werden, da in der Regel nur etwa 2 % des Nickels aus den Phosphatierlösungen in die Phosphatschichten eingebaut werden.It has been known to the person skilled in the art for some time that high proportions of heavy metal ions, in particular nickel ions, in phosphate layers lead to particularly good corrosion protection, compare, for example, WO-A-85/03 089. In this connection, however, it is also known that for Achieving high levels of nickel in phosphate layers also requires high levels of nickel in the phosphating solutions to be used. On the one hand, this means higher process costs due to the high nickel price. On the other hand, larger amounts of toxic nickel compounds have to be disposed of from the used phosphating solutions, since generally only about 2% of the nickel from the phosphating solutions is incorporated into the phosphate layers.

Aus ökologischen und arbeitsphysiologischen Gründen ist man daher bestrebt, auf das als toxikologisch besonders bedenklich eingestufte Nickel zu verzichten, ohne Nachteile hinsichtlich Korrosionsschutz und Lackhaftung in Kauf nehmen zu müssen. In der EP-A-459 541 wird hierzu der Einsatz von Phosphatierlösungen vorgeschlagen, die neben 0,3 bis 1,7 g/l Zink und 0,2 bis 4,0 g/l Mangan noch 1 bis 30 mg/l Cu(II) enthalten.For ecological and occupational physiological reasons, efforts are therefore made to dispense with nickel, which is classified as particularly toxicologically harmful, without having to accept disadvantages in terms of corrosion protection and paint adhesion. EP-A-459 541 proposes the use of phosphating solutions which, in addition to 0.3 to 1.7 g / l zinc and 0.2 to 4.0 g / l manganese, also 1 to 30 mg / l Cu ( II) included.

Der positive Einfluß von Kupfer auf die Ausbildung der Phosphatschicht ist im Stand der Technik schon seit längerem bekannt, vergleiche beispielsweise W. Rausch, "Die Phosphatierung von Metallen", Eugen G. Leuze Verlag, 2. Auflage 1988, Seiten 20, 56, 79f und 107. Die Kupferionen können dabei dem Phosphatierbad selbst oder einem vorgeschalteten Aktivierungsbad, beispielsweise auf Basis kolloider Titanpolyphosphate, zugesetzt werden. Beispielsweise beschreibt die EP-A-454 211 ein Titanphosphat-haltiges Aktivierungsbad, dem Kupfer im Mengenbereich von 1 bis 100 mg/l zugesetzt wird. Aber auch für titanfreie Aktivierungsbäder, wie sie beispielsweise in der EP-A-340 530 beschrieben werden, ist ein günstiger Einfluß eines Kupfergehaltes im Mengenbereich zwischen 1 und 100 mg/l zu erwarten.The positive influence of copper on the formation of the phosphate layer has long been known in the prior art, compare, for example, W. Rausch, "The Phosphating of Metals", Eugen G. Leuze Verlag, 2nd Edition 1988, pages 20, 56, 79f and 107. The copper ions can be added to the phosphating bath itself or to an upstream activation bath, for example based on colloidal titanium polyphosphates. For example, EP-A-454 211 describes an activation bath containing titanium phosphate, to which copper is added in the range of 1 to 100 mg / l. But also for titanium-free activation baths, as described for example in EP-A-340 530, a favorable influence of a copper content in the quantity range between 1 and 100 mg / l can be expected.

Ferner ist die Anwendung von elektrischem Strom bei Phosphatier-verfahren an sich bekannt. So führt eine kathodische Behandlung beispielsweise zu einer Beschleunigung des Phosphatierverfahrens (vergleiche M. H. Abbas, Finishing, Oktober 1984, Seiten 30-31). Auf verzinkten Stahloberflächen lassen sich mit Hilfe saurer, wäßriger Lösungen auf Basis von Aluminiumphosphat und/oder Magnesium-phosphat bzw. polykondensierter Phosphorsäure und gleichzeitiger Anwendung kathodischer Ströme Korrosionsschutzschichten abscheiden (vergleiche JP-A-77/047 537, JP-A-75/161 429 und JP-A-89/219 193). Die JP-A-85/211 080 betrifft ein Verfahren zur Erzeugung von Korrosionsschutzschichten auf Metalloberflächen mit Hilfe von Zink-Phosphatierlösungen unter zeitweiliger Anwendung eines kathodischen Stromes. Hierbei wird insbesondere auch an den Kanten der zu behandelnden Metalloberflächen eine korrosionsbeständige Schutzschicht erzeugt. Ein ähnliches Verfahren wird in der EP-A-171 790 beschrieben. Hierbei werden die Metalloberflächen im Anschluß an eine übliche Zink-Phosphatierung mit einer sauren, wäßrigen Lösung behandelt, die Zink-, Phosphat- und Chlor-Ionen enthält, wobei man an die anodisch geschalteten Metalloberflächen gleichzeitig einen Gleichstrom anlegt.Furthermore, the use of electric current in phosphating processes is known per se. For example, cathodic treatment accelerates the phosphating process (see MH Abbas, Finishing, October 1984, pages 30-31). Corrosion protection layers can be deposited on galvanized steel surfaces with the aid of acidic, aqueous solutions based on aluminum phosphate and / or magnesium phosphate or polycondensed phosphoric acid and simultaneous use of cathodic currents (compare JP-A-77/047 537, JP-A-75/161 429 and JP-A-89/219 193). JP-A-85/211 080 relates to a method for producing Corrosion protection layers on metal surfaces with the help of zinc phosphating solutions with temporary use of a cathodic current. Here, in particular, a corrosion-resistant protective layer is also produced on the edges of the metal surfaces to be treated. A similar process is described in EP-A-171 790. Here, the metal surfaces are treated with an acidic, aqueous solution which contains zinc, phosphate and chlorine ions following a conventional zinc phosphating, a direct current being simultaneously applied to the anodically connected metal surfaces.

Gemäß der JP-A-87/260 073 können mit Hilfe saurer Phosphatierungsbäder, welche Phosphorsäure, Mangan- und Kupfer-Ionen enthalten, unter gleichzeitiger Anwendung kathodischer Ströme auf Eisenmaterial Phosphatschichten mit hoher Abriebfestigkeit erzeugt werden. Die Phosphatierung von oberflächenveredeltem Material sowie der gleichzeitige Einsatz von Zink-Ionen wird jedoch hier nicht erwähnt. Eine Phosphatierung von elektrolytisch- oder schmelztauchverzinkten Stahloberflächen mit Hilfe dieses Verfahrens führte nicht zum gewünschten Erfolg.According to JP-A-87/260 073, with the aid of acidic phosphating baths which contain phosphoric acid, manganese and copper ions, phosphate layers with high abrasion resistance can be produced with the simultaneous application of cathodic currents on iron material. The phosphating of surface-finished material and the simultaneous use of zinc ions are not mentioned here. Phosphating of electrolytically or hot-dip galvanized steel surfaces with the help of this process did not lead to the desired success.

In der nicht vorveröffentlichten DE-A-4111186 der Anmelderin wird ferner ein Verfahren zum Phosphatieren von Metalloberflächen, vorzugsweise von elektrolytisch- oder schmelztauchverzinkten Stahlband-Oberflächen, mit Hilfe saurer, wäßriger Phosphatierlösungen beschrieben, wobei man die Werkstücke gleichzeitig kathodisch mit einem Gleichstrom behandelt. Die hierbei verwendeten Phosphatierlösungen enthalten Zink-, Nickel- und/oder Kobalt-Kationen sowie Phosphat- und Nitrat-Anionen.The applicant's unpublished DE-A-4111186 also describes a process for phosphating metal surfaces, preferably electrolytically or hot-dip galvanized steel strip surfaces, using acidic, aqueous phosphating solutions, the workpieces being simultaneously treated cathodically with a direct current. The phosphating solutions used here contain zinc, nickel and / or cobalt cations as well as phosphate and nitrate anions.

Demgegenüber ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Phosphatieren von verzinkten Stahloberflächen bereitzustellen, bei welchem man - trotz des bewußten Verzichts auf den Einsatz der heute unerwünschten Nickel-Ionen - durch die Verwendung von Mangan-Ionen in den Zink-haltigen Phosphatierlösungen einen vergleichbar guten Korrosionsschutz erzielt. Zudem ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Einbaurate des Mangans in den ausgebildeten Phosphatüberzügen wesentlich zu steigern, obgleich in den verwendeten Phosphatierlösungen nur vergleichsweise geringe Konzentrationen an Mangan-Kationen vorliegen.In contrast, it is the object of the present invention to provide a method for phosphating galvanized steel surfaces To provide, in which - despite the deliberate avoidance of the use of the currently undesirable nickel ions - by using manganese ions in the zinc-containing phosphating solutions a comparable good protection against corrosion is achieved. In addition, it is the object of the present invention to significantly increase the incorporation rate of the manganese in the phosphate coatings formed, although only comparatively low concentrations of manganese cations are present in the phosphating solutions used.

Dementsprechend betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Phosphatieren von verzinkten Stahloberflächen, vorzugsweise von elektrolytisch- oder schmelztauchverzinkten Stahlband-Oberflächen, durch Behandeln derselben im Tauchen oder Spritztauchen mit sauren, wäßrigen Lösungen, die neben Zink-, Phosphat- und Nitrat-Ionen ferner Ionen mindestens zweier weiterer zweiwertiger Metalle enthalten, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß man

  • a) mit Phosphatierlösungen arbeitet, die die folgenden Komponenten enthalten:
    • Zn⁺-Kationen im Bereich von 0,1 bis 5 g/l,
    • PO43--Anionen im Bereich von 5 bis 50 g/l,
    • NO3--Anionen im Bereich von 0,1 bis 50 g/l, sowie
    • Mn⁺-Kationen im Bereich von 0,1 bis 5 g/l, und
    • Cu⁺-Kationen im Bereich von 0,001 bis 1 g/l,
  • b) wobei man die folgenden Bedingungen einhält:
    pH-Wert der Phosphatierlösungen im Bereich von 1,5 bis 4,5,
    Temperatur der Phosphatierlösungen im Bereich von 10 bis 80 °C,
    Behandlungsdauer im Bereich von 1 bis 300 Sekunden,
  • c) und wobei man ferner während der Phosphatierung die Werkstücke kathodisch mit einem Gleichstrom einer Dichte im Bereich von 0,01 bis 100 mA/cm behandelt.
Accordingly, the present invention relates to a method for phosphating galvanized steel surfaces, preferably electrolytically or hot-dip galvanized steel strip surfaces, by treating them by immersion or spray-immersion with acidic, aqueous solutions which, in addition to zinc, phosphate and nitrate ions, also contain at least ions contain two further divalent metals, which is characterized in that
  • a) works with phosphating solutions that contain the following components:
    • Zn⁺ cations in the range from 0.1 to 5 g / l,
    • PO 4 3- anions in the range from 5 to 50 g / l,
    • NO 3 - anions in the range of 0.1 to 50 g / l, as well
    • Mn⁺ cations in the range of 0.1 to 5 g / l, and
    • Cu⁺ cations in the range from 0.001 to 1 g / l,
  • b) observing the following conditions:
    pH value of the phosphating solutions in the range from 1.5 to 4.5,
    Temperature of the phosphating solutions in the range from 10 to 80 ° C,
    Treatment duration in the range of 1 to 300 seconds,
  • c) and wherein the workpieces are further treated cathodically during the phosphating with a direct current with a density in the range from 0.01 to 100 mA / cm.

Überraschenderweise wurde nämlich festgestellt, daß durch das Anlegen eines kathodischen Gleichstroms an das Werkstück während der Phosphatierung und durch die gleichzeitige Anwesenheit von Kupfer-Kationen in den Zink-haltigen Phosphatierlösungen die Einbaurate von Mangan in die Phosphatschichten wesentlich gesteigert werden kann, so daß auch bei vergleichsweise geringeren Konzentrationen an Mangan-Kationen in der Phosphatierlösung ähnlich hohe Gehalte in den Phosphatierschichten erzielt werden können, wie es bislang nur dann möglich war, wenn die Phosphatierlösungen vergleichsweise hohe Konzentrationen an Mangan-Kationen aufweisen. Ein weiterer Vorteil der vorliegenden Erfindung ist darin zu sehen, daß die mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens erzielten Phosphatierschichten einen vergleichbar guten Korrosionsschutz aufweisen, wie er sonst mit Nickel-haltigen Phosphatierlösungen erzielt werden kann.Surprisingly, it was found that by applying a cathodic direct current to the workpiece during the phosphating and by the simultaneous presence of copper cations in the zinc-containing phosphating solutions, the rate of incorporation of manganese into the phosphate layers can be increased significantly, so that even in comparison Lower concentrations of manganese cations in the phosphating solution can achieve similarly high contents in the phosphating layers, as was previously only possible if the phosphating solutions had comparatively high concentrations of manganese cations. Another advantage of the present invention can be seen in the fact that the phosphating layers achieved with the aid of the method according to the invention have comparable corrosion protection as can otherwise be achieved with nickel-containing phosphating solutions.

Im Sinne der vorliegenden Erfindung ist es von wesentlicher Bedeutung, daß man bei der Durchführung des Phosphatierverfahrens sämtliche der vorstehend aufgeführten Parameter einhält. Mit anderen Worten heißt dies, daß die kathodische Gleichstrombehandlung der Werkstücke während der Phosphatierung nur in entsprechenden Zink-haltigen Phosphatierlösungen, die Mangan- und Kupfer-Kationen gemeinsam enthalten, - wie sie vorstehend im einzelnen definiert sind - zu dem erwünschten Ziel führt.For the purposes of the present invention, it is essential that all of the parameters listed above be observed when carrying out the phosphating process. In other words, the cathodic direct current treatment of the workpieces during the phosphating only leads to the desired goal in corresponding zinc-containing phosphating solutions which contain manganese and copper cations together, as defined in detail above.

Wenn im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung von verzinkten Metalloberflächen die Rede ist, so werden darunter Werkstoff-Oberflächen aus elektrolytisch- oder schmelztauchverzinktem oder auch legierungsverzinktem Stahl, vorzugsweise elektrolytisch- oder schmelztauchverzinktem Bandstahl, verstanden. Unter dem Begriff Stahl wird un- bis niedrig-legierter Stahl verstanden, wie er beispielsweise in Form von Blechen für den Karosseriebau Verwendung findet. Die Verwendung von verzinktem Stahl, speziell elektrolytisch verzinktem Stahl in Bandform, hat in den letzten Jahren sehr an Bedeutung gewonnen. Hierbei umfaßt der Begriff "verzinkter Stahl" sowohl Verzinkungen durch elektrolytische Abscheidung als auch durch Schmelztauch-Applikation und bezieht sich generell auch auf legierungsverzinkten Stahl, wobei als Zinklegierungen insbesondere Zink/Nickel-Legierungen, Zink/Eisen-Legierungen (Galvanealed) und Zink/Aluminium-Legierungen (Galfan, Galvalume) eine wesentliche Rolle spielen.If in connection with the present invention one speaks of galvanized metal surfaces, then material surfaces are made of electrolytically or hot-dip galvanized or else alloy galvanized steel, preferably electrolytically or hot-dip galvanized steel strip, understood. The term steel is understood to mean unalloyed to low-alloy steel, as used, for example, in the form of sheets for body construction. The use of galvanized steel, especially electrolytically galvanized steel in strip form, has become very important in recent years. Here, the term "galvanized steel" encompasses both galvanizing by electrolytic deposition and by hot-dip application and generally also relates to alloy-galvanized steel, the zinc alloys in particular being zinc / nickel alloys, zinc / iron alloys (galvanized) and zinc / aluminum -Alloys (Galfan, Galvalume) play an essential role.

Die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens erfolgt vorzugsweise im sogenannten Tauchverfahren; generell ist es jedoch auch möglich, die erfindungsgemäßen Phosphatierlösungen durch Spritztauchen auf die Substratoberflächen aufzubringen. Die zu behandelnden Werkstücke werden für die Phosphatierbehandlung kathodisch geschaltet, wobei als Gegenelektrode beispielsweise eine Elektrode aus Edelstahl Verwendung findet. Generell kann auch ein Metallbehälter des Phosphatierbades als Gegenelektrode dienen, ferner kommen auch Graphit-Elektroden, Edelmetall-Elektroden, beispielsweise aus Platin oder Gold, Elektroden, die lediglich eine Beschichtung aus den genannten Edelmetallen aufweisen oder in die derartige Edelmetalle implatiert sind, oder prinzipiell alle aus dem einschlägigen Stand der Technik bekannten Elektroden-Materialien als Gegenelektrode in Frage.The process according to the invention is preferably carried out in the so-called immersion process; in general, however, it is also possible to apply the phosphating solutions according to the invention to the substrate surfaces by spray immersion. The workpieces to be treated are connected cathodically for the phosphating treatment, an electrode made of stainless steel, for example, being used as the counter electrode. In general, a metal container of the phosphating bath can also serve as a counterelectrode, furthermore there are also graphite electrodes, noble metal electrodes, for example made of platinum or gold, electrodes which only have a coating of the noble metals mentioned or in which such noble metals are implied, or in principle all of them Electrode materials known from the relevant prior art can be used as counter electrodes.

Im Sinne der vorliegenden Erfindung werden unter dem Begriff "Gleichstrom" nicht nur "reine" Gleichströme verstanden, sondern vielmehr auch praktisch gleichartige Ströme, beispielsweise solche, die durch Vollweggleichrichtung eines Einphasenwechselstroms oder durch Gleichrichtung eines Dreiphasenwechselstroms erzeugt werden können. Auch sogenannte pulsierende Gleichströme und zerhackte Gleichströme sind im Sinne der Erfindung anwendbar. Von Bedeutung im Sinne der Erfindung ist lediglich die Stromdichte des Gleichstroms, welche in dem vorstehend definierten Bereich liegen soll. Auf die Angabe von geeigneten Spannungswerten für den Gleichstrom, der im Sinne der vorliegenden Erfindung Verwendung finden soll, wird bewußt verzichtet, da unter Berücksichtigung der unterschiedlichen Leitfähigkeiten der Phosphatierbäder einerseits und der geometrischen Anordnung der Elektroden andererseits ein unterschiedlicher Zusammenhang zwischen Strom und Spannung bestehen kann. Darüber hinaus sind für den Bildungsmechanismus der Phosphatierschichten Konzentrationsgradienten entscheidend, welche durch die Stromdichte und nicht durch die Badspannung bestimmt werden. Der Fachmann wird im Einzelfall für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens anhand der angegebenen Werte für die Stromdichte geeignete Spannungswerte auswählen.For the purposes of the present invention, the term “direct current” is understood not only to mean “pure” direct currents, but rather also practically identical currents, for example those that can be generated by full wave rectification of a single phase alternating current or by rectification of a three phase alternating current. So-called pulsating direct currents and chopped direct currents can also be used for the purposes of the invention. Of importance in the sense of the invention is only the current density of the direct current, which should be in the range defined above. The specification of suitable voltage values for the direct current, which is to be used in the sense of the present invention, is deliberately dispensed with, since, taking into account the different conductivities of the phosphating baths on the one hand and the geometric arrangement of the electrodes on the other hand, there may be a different relationship between current and voltage. In addition, concentration gradients, which are determined by the current density and not by the bath voltage, are decisive for the formation mechanism of the phosphating layers. In individual cases, the person skilled in the art will select suitable voltage values for carrying out the method according to the invention on the basis of the values given for the current density.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung arbeitet man mit Phosphatierlösungen, die die folgenden Komponenten enthalten:

  • Zn⁺-Kationen im Bereich von 0,5 bis 2 g/l,
  • PO43--Anionen im Bereich von 10 bis 20 g/l,
  • NO3--Anionen im Bereich von 1 bis 30 g/l sowie
  • Mn⁺-Kationen im Bereich von 0,5 bis 2 g/l und
  • Cu⁺-Kationen im Bereich von 0,01 bis 0,5 g/l.
According to a preferred embodiment of the present invention, phosphating solutions are used which contain the following components:
  • Zn⁺ cations in the range from 0.5 to 2 g / l,
  • PO 4 3- anions in the range from 10 to 20 g / l,
  • NO 3 - anions in the range from 1 to 30 g / l as well
  • Mn⁺ cations in the range of 0.5 to 2 g / l and
  • Cu⁺ cations in the range of 0.01 to 0.5 g / l.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens hält man bei der Phosphatierbehandlung der Werkstücke die folgenden Bedingungen ein:
pH-Wert der Phosphatierlösungen im Bereich von 2 bis 3,
Temperatur der Phosphatierlösungen im Bereich von 40 bis 70 °C,
Behandlungsdauer im Bereich von 2 bis 30 Sekunden.
According to a further preferred embodiment of the method according to the invention, the following conditions are observed in the phosphating treatment of the workpieces:
pH value of the phosphating solutions in the range from 2 to 3,
Temperature of the phosphating solutions in the range from 40 to 70 ° C,
Treatment duration in the range of 2 to 30 seconds.

Im Sinne der vorliegenden Erfindung ist es ferner bevorzugt, daß man während der Phosphatierung die Werkstücke kathodisch mit einem Gleichstrom einer Dichte im Bereich von 1 bis 50 mA/cm behandelt.For the purposes of the present invention, it is further preferred that during the phosphating the workpieces are treated cathodically with a direct current with a density in the range from 1 to 50 mA / cm.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens können die Phosphatierbäder ferner zusätzlich Magnesium-Kationen enthalten. Der Einbau dieser Kationen in die Phosphatierschicht wird zwar durch die erfindungsgemäße Anwendung des Gleichstromes nicht wesentlich gefördert, jedoch auch in keiner Weise gestört.According to a further embodiment of the method according to the invention, the phosphating baths can additionally contain magnesium cations. The incorporation of these cations into the phosphating layer is not significantly promoted by the use of direct current according to the invention, but it is not disturbed in any way.

In diesem Sinne ist es erfindungsgemäß bevorzugt, daß man mit Phosphatierlösungen arbeitet, die zusätzlich Mg⁺-Kationen im Bereich von 0,01 bis 2 g/l, vorzugsweise von 0,1 bis 1 g/l, enthalten. Die zusätzliche Verwendung von Magnesium-Kationen in den erfindungsgemäßen Phosphatierbädern bedingt eine Verbesserung der Korrosionsbeständigkeit der hiermit erzielten Phosphatierschichten.In this sense, it is preferred according to the invention that one works with phosphating solutions which additionally contain Mg⁺ cations in the range from 0.01 to 2 g / l, preferably from 0.1 to 1 g / l. The additional use of magnesium cations in the phosphating baths according to the invention results in an improvement in the corrosion resistance of the phosphating layers achieved thereby.

Im Falle der Phosphatierung von schmelztauchverzinkten oder legierungsverzinkten Stahloberflächen mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens führt der Einsatz von Fluoridionen zu einem gleichmäßigeren Deckungsgrad der Phosphatierschichten auf derartigen Oberflächen. In diesem Sinne ist es erfindungsgemäß bevorzugt, daß man mit Phosphatierlösungen arbeitet, die zusätzlich einfache oder komplexe Fluorid-Anionen im Bereich von 0,1 bis 50 g/l, vorzugsweise von 0,2 bis 2 g/l, enthalten. Bei der Phosphatierung von elektrolytisch-verzinkten Stahloberflächen ist die Anwesenheit von Fluorid-Anionen nicht erforderlich, jedoch stört die Anwesenheit von Fluorid-Anionen das erfindungsgemäße Phosphatier-Verfahren auch in diesen Fällen nicht. Die Fluorid-Anionen können erfindungsgemäß auch in Form komplexer Fluorverbindungen, beispielsweise Tetrafluorborat oder Hexafluorosilicat, eingesetzt werden.In the case of the phosphating of hot-dip galvanized or alloy-galvanized steel surfaces with the aid of the method according to the invention, the use of fluoride ions leads to a more uniform degree of coverage of the phosphating layers on such surfaces. In this sense, it is preferred according to the invention that one works with phosphating solutions which additionally contain simple or complex fluoride anions in the range from 0.1 to 50 g / l, preferably from 0.2 to 2 g / l. In the phosphating of electrolytically galvanized steel surfaces, the presence of fluoride anions is not necessary, but the presence of fluoride anions does not interfere with the phosphating process according to the invention in these cases either. According to the invention, the fluoride anions can also be used in the form of complex fluorine compounds, for example tetrafluoroborate or hexafluorosilicate.

Wie bereits ausgeführt, ist für die optimale Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens die Einhaltung aller vorstehend genannten Parameter von wesentlicher Bedeutung. Hierzu zählt unter anderem der angegebene Bereich des einzuhaltenden pH-Wertes. Sollte der pH-Wert des Phosphatierbades nicht im angegebenen Bereich liegen, so ist es erforderlich, das Phosphatierbad auf pH-Werte im angegebenen Bereich durch Zugabe von Säure, beispielsweise Phosphorsäure, oder aber durch Zugabe einer Lauge, beispielsweise Natronlauge, einzustellen. Sofern in den nachstehenden Beispielen Werte zum Gehalt der Phosphatierlösungen an freier Säure bzw. an Gesamtsäure angeführt sind, so wurden diese in der in der Literatur beschriebenen Art und Weise ermittelt. Die sogenannte Punktzahl an freier Säure wird dementsprechend definiert als die Anzahl ml von 0,1 N Na0H, die zur Titration von 10 ml Badlösung gegen Dimethylgelb, Methylorange oder Bromphenolblau erforderlich ist. Die Punktzahl der Gesamtsäure ergibt sich hiernach als die Anzahl ml von 0,1 N NaOH, die bei der Titration von 10 ml Badlösung unter Verwendung von Phenolphthalein als Indikator bis zur ersten Rosafärbung erforderlich ist. Die erfindungsgemäßen Phosphatierlösungen weisen in der Regel Punktzahlen an freier Säure im Bereich von 0,5 bis 3 und an Gesamtsäure im Bereich von 15 bis 25 auf.As already stated, compliance with all of the parameters mentioned above is essential for the optimal implementation of the method according to the invention. This includes the specified range of the pH to be observed. If the pH of the phosphating bath is not in the specified range, it is necessary to adjust the phosphating bath to pH values in the specified range by adding acid, for example phosphoric acid, or by adding an alkali, for example sodium hydroxide solution. If values for the free acid or total acid content of the phosphating solutions are given in the examples below, these were determined in the manner described in the literature. The so-called free acid score is accordingly defined as the number ml of 0.1 N NaOH required to titrate 10 ml bath solution against dimethyl yellow, methyl orange or bromophenol blue. The total acid score is then the number ml of 0.1 N NaOH required for titration of 10 ml bath solution using phenolphthalein as an indicator until the first pink color. The phosphating solutions according to the invention generally have points of free acid in the range from 0.5 to 3 and of total acid in the range from 15 to 25.

Die Herstellung der Phosphatierungsbäder zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens erfolgt im allgemeinen in der üblichen Weise, die dem Fachmann an sich bekannt ist. Als Ausgangsprodukte zur Herstellung des Phosphatierungsbades kommen beispielsweise die folgenden Verbindungen in Betracht: Zink: in Form von Zinkoxid oder Zinknitrat; Mangan: in Form von Mangancarbonat; Kupfer: in Form von Kupfernitrat; Magnesium: in Form von Magnesiumnitrat, Magnesiumoxid, Magnesiumhydroxid oder Magnesiumhydroxycarbonat; Phosphat: vorzugsweise in Form von Phosphorsäure; Nitrat: in Form der vorstehend genannten Salze, gegebenenfalls auch in Form des Natriumsalzes. Die gegebenenfalls im Bad zu verwendenden Fluoridionen werden bevorzugt in Form von Natriumfluorid oder in Form der vorstehend genannten komplexen Verbindungen eingesetzt. Die vorstehend genannten Verbindungen werden - in den für die Erfindung wesentlichen Konzentrationsbereichen - in Wasser aufgelöst; anschließend wird, wie gleichfalls vorstehend bereits gesagt, der pH-Wert der Phosphatierungslösungen auf den gewünschten Wert eingestellt.The phosphating baths for carrying out the process according to the invention are generally prepared in the customary manner which is known per se to the person skilled in the art. The following compounds can be considered as starting products for the preparation of the phosphating bath: Zinc: in the form of zinc oxide or zinc nitrate; Manganese: in the form of manganese carbonate; Copper: in the form of copper nitrate; Magnesium: in the form of magnesium nitrate, magnesium oxide, magnesium hydroxide or magnesium hydroxycarbonate; Phosphate: preferably in the form of phosphoric acid; Nitrate: in the form of the salts mentioned above, optionally also in the form of the sodium salt. The fluoride ions which may be used in the bath are preferably used in the form of sodium fluoride or in the form of the complex compounds mentioned above. The compounds mentioned above are dissolved in water in the concentration ranges essential for the invention; then, as has also been said above, the pH of the phosphating solutions is adjusted to the desired value.

Vor der eigentlichen Phosphatierungsbehandlung muß die zu behandelnde Metalloberfläche vollständig wasserbenetzbar sein. Hierzu ist es im allgemeinen erforderlich, die zu behandelnden Metalloberflächen nach an sich bekannten und im Stand der Technik hinreichend beschriebenen Verfahren zu reinigen und zu entfetten. Im Sinne der vorliegenden Erfindung ist es ferner bevorzugt, nach einer Spülung der gereinigten und entfetteten Werkstücke mit Wasser, vorzugsweise mit vollentsalztem Wasser, die zu phosphatierenden Werkstücke einer an sich bekannten Aktivierungs-Vorbehandlung zu unterwerfen. Insbesondere werden hierzu titanhaltige Aktivierungslösungen eingesetzt, wie sie beispielsweise in DE-A-20 38 105 oder DE-A-20 43 085 beschrieben werden. Demgemäß werden die anschließend zu phosphatierenden Metalloberflächen mit Lösungen behandelt, die als Aktivierungsmittel im wesentlichen Titansalze und Natriumphosphat, gegebenenfalls zusammen mit organischen Komponenten, beispielsweise Alkylphosphonaten oder Polycarbonsäuren, enthalten. Als Titankomponente kommen bevorzugt lösliche Verbindungen des Titans, wie Kaliumtitanfluorid und insbesondere Titanylsulfat, in Frage. Als Natriumphosphat kommt im allgemeinen Dinatriumorthophosphat zum Einsatz. Titanhaltige Verbindungen und Natriumphosphat werden in solchen Mengenverhältnissen verwendet, daß der Titangehalt mindestens 0,005 Gew.-% beträgt, bezogen auf das Gewicht der titanhaltigen Verbindung und des Natriumphosphats.Before the actual phosphating treatment, the metal surface to be treated must be completely water wettable. For this purpose, it is generally necessary to clean and degrease the metal surfaces to be treated by methods known per se and sufficiently described in the prior art. For the purposes of the present invention, it is further preferred, after the cleaned and degreased workpieces have been rinsed with water, preferably with demineralized water, to subject the workpieces to be phosphated to an activation pretreatment known per se. In particular, titanium-containing activation solutions are used for this purpose, as are described, for example, in DE-A-20 38 105 or DE-A-20 43 085. Accordingly, the metal surfaces subsequently to be phosphated are treated with solutions which are essentially titanium salts and Sodium phosphate, optionally together with organic components, for example alkyl phosphonates or polycarboxylic acids. Soluble compounds of titanium, such as potassium titanium fluoride and in particular titanyl sulfate, are preferred as the titanium component. Disodium orthophosphate is generally used as the sodium phosphate. Titanium-containing compounds and sodium phosphate are used in such proportions that the titanium content is at least 0.005% by weight, based on the weight of the titanium-containing compound and the sodium phosphate.

Im Anschluß an diese Aktivierungsbehandlung erfolgt dann das eigentliche Phosphatierverfahren; die phosphatierten Metalloberflächen werden dann nachfolgend erneut mit Wasser, wiederum bevorzugt mit vollentsalztem Wasser, gespült. In bestimmten Fällen kann es von Vorteil sein, in einer nachfolgenden Verfahrensstufe die so erzeugten Phosphatschichten zu passivieren. Eine solche Passivierung ist immer dann sinnvoll und von Vorteil, wenn die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren phosphatierten Metalloberflächen anschließend lackiert oder auf andere Weise mit organischen Materialien beschichtet werden. Wie dem Fachmann hinreichend bekannt ist, kann eine derartige Passivierungsbehandlung beispielsweise mit verdünnter Chromsäure oder Mischungen von Chrom- und Phosphorsäure erfolgen. Die Konzentration der Chromsäure liegt dabei im allgemeinen zwischen 0,01 und 1 g/l. Eine Alternative hierzu stellt eine Passivierungsbehandlung mit chromfreien Produkten dar, wie sie beispielsweise in DE-A-31 46 265 oder DE-A-40 31 817 beschrieben ist. Sofern jedoch die phosphatierten Substrate anschließend zunächst einem mechanischen Verformungsprozeß unterworfen und nachfolgend erneut phosphatiert werden, wie dies zum Beispiel beim Karroseriebau in Frage kommt, so sollte eine Passivierungsbehandlung unterbleiben.The actual phosphating process then takes place after this activation treatment; the phosphated metal surfaces are then rinsed again with water, again preferably with demineralized water. In certain cases, it may be advantageous to passivate the phosphate layers produced in a subsequent process step. Passivation of this type is always sensible and advantageous if the metal surfaces phosphated by the process according to the invention are subsequently painted or coated in another way with organic materials. As is well known to the person skilled in the art, such a passivation treatment can be carried out, for example, with dilute chromic acid or mixtures of chromic and phosphoric acid. The concentration of chromic acid is generally between 0.01 and 1 g / l. An alternative to this is a passivation treatment with chromium-free products, as described, for example, in DE-A-31 46 265 or DE-A-40 31 817. If, however, the phosphated substrates are first subjected to a mechanical deformation process and subsequently phosphated again, as is the case, for example, in car body construction, then a passivation treatment should be avoided.

Die mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens erzeugten Phosphatierschichten sind auf allen Gebieten, auf denen Phosphatüberzüge angewendet werden, gut einsetzbar. Ein besonders vorteilhafter Anwendungsfall liegt in der Vorbereitung der Metalloberflächen für die Lackierung, beispielsweise durch Spritzlackierung oder Elektrotauchlackierung, oder für die Beschichtung mit organischen Folien.The phosphating layers produced with the aid of the method according to the invention can be used well in all fields in which phosphate coatings are used. A particularly advantageous application is the preparation of the metal surfaces for painting, for example by spray painting or electrocoating, or for coating with organic foils.

Die nachfolgenden Beispiele schildern die erfindungsgemäße Arbeitsweise.The following examples describe the procedure according to the invention.

BeispieleExamples

In der nachstehenden Tabelle 1 sind für die erfindungsgemäßen Beispiele 1 bis 3 sowie für die Vergleichsbeispiele 1 bis 3 die Zusammensetzungen der verwendeten Phosphatierbäder einschließlich der jeweiligen pH-Werte sowie der Werte des Gehaltes an freier Säure und Gesamtsäure angegeben.Table 1 below shows the compositions of the phosphating baths used, including the respective pH values and the values of the free acid and total acid content, for Examples 1 to 3 according to the invention and for Comparative Examples 1 to 3.

Bei den erfindungsgemäßen Beispielen 1 bis 3 wurde jeweils an die Prüfbleche - während der gesamten Tauchbehandlung derselben in den jeweiligen Phosphatierbädern - ein kathodischer Gleichstrom mit unterschiedlichen Stromdichten angelegt; die jeweiligen Stromdichten sind in Tabelle 2 angegeben. Als Gegenelektrode diente in allen Fällen eine Elektrode aus Platin.In Examples 1 to 3 according to the invention, a cathodic direct current with different current densities was applied to the test sheets - during the entire immersion treatment of the same in the respective phosphating baths; the respective current densities are given in Table 2. In all cases, a platinum electrode served as the counter electrode.

Demgegenüber wurde bei den Vergleichsbeispielen 1 bis 3 die Phosphatierung ohne eine derartige Gleichstrombehandlung durchgeführt. Die zu den Vergleichsbeispielen 1 bis 3 eingesetzten Phosphatierbäder entsprechend im übrigen denjenigen der erfindungsgemäßen Beispiele 1 bis 3.In contrast, in Comparative Examples 1 to 3, the phosphating was carried out without such a direct current treatment. The phosphating baths used for comparative examples 1 to 3 correspond, moreover, to those of examples 1 to 3 according to the invention.

Als Prüfbleche wurden - für alle Beispiele und Vergleichsbeispiele - elektrolytisch verzinkte Stahlbleche (Abmessungen: 10 cm x 20 cm x 0,7 cm; beidseitige Zinkauflage in einer Stärke von 7,5 µm) der Fa. Thyssen AG, Duisburg, eingesetzt. Die zu den jeweiligen Beispielen und Vergleichsbeispielen eingesetzten Prüfbleche wurden-bis auf die vorstehend erörterte Behandlung mit Gleichstrom - ansonsten in gleicher Weise gemäß den nachfolgend beschriebenen Verfahrensschritten behandelt:

  • 1) Chemisches Reinigen und Entfetten unter Verwendung eines tensid- und phosphathaltigen alkalischen Reinigungsmittels (RidolineR C 1250 E, Fa. Henkel KGaA) in einer Konzentration von 2 Gew.-% in wäßriger Lösung, im Spritzverfahren bei ca. 60 °C im Verlauf von 3 Minuten.
  • 2) Spülen mit vollentsalztem Wasser bei Raumtemperatur im Verlauf von 30 Sekunden.
  • 3) Aktivieren unter Verwendung eines titansalzhaltigen, wäßrigen Aktivierungsmittels (FixodineR 6, Fa. Henkel KGaA) in einer Konzentration von 0,2 Gew.-%, im Tauchverfahren bei Raumtemperatur im Verlauf von 5 Sekunden.
  • 4) Phosphatieren im Tauchverfahren in den jeweiligen Phosphatierbädern gemäß Tabelle 1 bei 60 °C, die jeweilige Dauer der Phosphatierung ist in Tabelle 2 angegeben.
  • 5) Spülen mit vollentsalztem Wasser bei Raumtemperatur im Verlauf von 30 Sekunden.
  • 6) Trocknen bei 80 °C Objekttemperatur im Verlauf von 10 Minuten.
For all examples and comparative examples, electrolytically galvanized steel sheets (dimensions: 10 cm x 20 cm x 0.7 cm; zinc coating on both sides in a thickness of 7.5 µm) from Thyssen AG, Duisburg, were used as test sheets. The test sheets used for the respective examples and comparative examples were - apart from the treatment with direct current discussed above - otherwise treated in the same way according to the process steps described below:
  • 1) Chemical cleaning and degreasing using an alkaline cleaning agent containing tenside and phosphate (Ridoline R C 1250 E, from Henkel KGaA) in a concentration of 2% by weight in aqueous solution, by spraying at about 60 ° C. for 3 minutes.
  • 2) Rinse with deionized water at room temperature for 30 seconds.
  • 3) Activation using an aqueous activating agent containing titanium salt (Fixodine R 6, Henkel KGaA) in a concentration of 0.2% by weight, in the immersion process at room temperature for 5 seconds.
  • 4) Phosphating in the immersion process in the respective phosphating baths according to Table 1 at 60 ° C, the respective duration of the phosphating is given in Table 2.
  • 5) Rinse with deionized water at room temperature for 30 seconds.
  • 6) Drying at 80 ° C object temperature in the course of 10 minutes.

Nach dem Trocknen wurden die jeweiligen Prüfbleche mit einem kathodischen Elektrotauchlack auf Epoxidbasis (AqualuxR K, Fa. ICI, Hilden) beschichtet. Die Trockenfilmdichte betrug 18 ± 2 µm.After drying, the respective test sheets were coated with an epoxy-based cathodic electrocoat material (Aqualux R K, ICI, Hilden). The dry film density was 18 ± 2 µm.

Anschließend erfolgte die Ermittlung des Korrosionsschutzes der jeweiligen Phosphatierschichten durch Bestimmung der Lackunterwanderung gemäß einem kathodischen Polarisationstest. Dazu wurden die jeweiligen Prüfbleche mit einem Einzelschnitt gemäß DIN 53 167 versehen und anschließend in eine 10 gew.-%ige wäßrige Na₂SO₄-Lösung bei einem Stromfluß von 0,75 A und einer Polarisationszeit von 40 Stunden eingetaucht. Die Auswertung der Lackunterwanderung erfolgte gemäß DIN 53 167 (siehe Tabelle 2).The corrosion protection of the respective phosphating layers was then determined by determining the infiltration of paint according to a cathodic polarization test. For this purpose, the respective test sheets were provided with a single cut in accordance with DIN 53 167 and then immersed in a 10% by weight aqueous Na 2 SO 4 solution at a current flow of 0.75 A and a polarization time of 40 hours. The paint infiltration was evaluated in accordance with DIN 53 167 (see Table 2).

Die Schichtgewichte der Phosphatierschichten wurden durch Differenzwägung ermittelt (Gewicht des Testbleche: mit Phosphatschicht ./. Gewicht des Testbleches nach Ablösung der Phosphatschicht mittels Chromsäure). Ferner wurden die Phosphatierschichten auf den jeweiligen Testblechen zur Bestimmung ihrer Zusammensetzung mit Chromsäure abgelöst und durch AAS-Spektroskopie analysiert.The layer weights of the phosphating layers were determined by differential weighing (weight of the test plate: with phosphate layer. /. Weight of the test plate after the phosphate layer had been detached using chromic acid). Furthermore, the phosphating layers on the respective test sheets were detached with chromic acid to determine their composition and analyzed by AAS spectroscopy.

Die bei den vorstehenden Untersuchungen erhaltenen Ergebnisse sind in der nachfolgenden Tabelle 2 zusammengestellt. Tabelle 1 : Zusammensetzung der Phosphatierbäder Beispiel Nr. Zn⁺ Cu⁺ Mn⁺ NO3- PO43- pH f. S. Punkte G. S. Punkte jeweils in [g/l] 1 1,6 0,01 1,0 2,3 12,3 2,7 1,5 20 2 1,6 0,1 1,0 2,5 12,3 2,7 1,5 21 3 1,6 0,2 1,0 2,7 12,3 2,7 1,5 23 Vgl. 1 1,6 0,01 1,0 2,3 12,3 2,7 1,5 20 Vgl. 2 1,6 0,1 1,0 2,5 12,3 2,7 1,5 21 Vgl. 3 1,6 0,2 1,0 2,7 12,3 2,7 1,5 23 Vgl. = Vergleichsbeispiel; f. S. = freie Säure; G. S. = Gesamtsäure Tabelle 2 : Stromdichte, Dauer der Phosphatierung, Gehalt an Cu und Mn in den Phosphatierschichten, Schichtgewichte und Korrosionstestergebnisse Beisp. Nr. Stromdichte [mA/cm] Zeit [s] Cu Gew.-% Mn Gew.-% Schicht gewicht [g/m] Lackunterwanderung [mm] 1 5 5 Spuren 4,9 1,4 13 2 5 5 0,5 5,1 1,5 9 3 2 5 0,7 5,1 1,8 9 3 5 5 0,7 6,1 1,8 7,5 3 5 30 0,6 7,1 2,7 6,0 3 10 5 0,8 7,8 2,0 7,0 Vgl. 1 0 5 Spuren 3,8 0,7 >20 Vgl. 2 0 5 0,5 4,2 1,2 >20 Vgl. 3 0 5 0,7 4,8 1,8 17 Vgl. 3 0 30 0,9 4,6 2,0 10 The results obtained in the above tests are summarized in Table 2 below. Table 1 : Composition of the phosphating baths Example No. Zn⁺ Cu⁺ Mn⁺ NO 3 - PO 4 3- pH f. S. points GS points each in [g / l] 1 1.6 0.01 1.0 2.3 12.3 2.7 1.5 20th 2nd 1.6 0.1 1.0 2.5 12.3 2.7 1.5 21 3rd 1.6 0.2 1.0 2.7 12.3 2.7 1.5 23 See 1 1.6 0.01 1.0 2.3 12.3 2.7 1.5 20th See 2 1.6 0.1 1.0 2.5 12.3 2.7 1.5 21 See 3 1.6 0.2 1.0 2.7 12.3 2.7 1.5 23 See = comparative example; f. S. = free acid; GS = total acid Current density, duration of phosphating, content of Cu and Mn in the phosphating layers, layer weights and corrosion test results Example No. Current density [mA / cm] Time [s] Cu% by weight Mn% by weight Layer weight [g / m] Paint infiltration [mm] 1 5 5 traces 4.9 1.4 13 2nd 5 5 0.5 5.1 1.5 9 3rd 2nd 5 0.7 5.1 1.8 9 3rd 5 5 0.7 6.1 1.8 7.5 3rd 5 30th 0.6 7.1 2.7 6.0 3rd 10th 5 0.8 7.8 2.0 7.0 See 1 0 5 traces 3.8 0.7 > 20 See 2 0 5 0.5 4.2 1.2 > 20 See 3 0 5 0.7 4.8 1.8 17th See 3 0 30th 0.9 4.6 2.0 10th

Ein Vergleich der Werte in Tabelle 1 - bezüglich der Zusammensetzung der jeweiligen Phosphatierbäder - mit denen der Werte in Tabelle 2 - bezüglich des Gehaltes an Mangan in den Phosphatierschichten - zeigt, daß aufgrund der erfindungsgemäßen Verfahrensweise mit geringeren Mangan-Konzentrationen in den Phosphatierbädern vergleichsweise hohe Gehalte dieser Kationen in den gebildeten Phosphatierschichten erzielt werden können. Dies führt - in vergleichbaren Fällen der erfindungsgemäßen Beispiele mit den Vergleichsbeispielen - zu einem deutlich verbesserten Korrosionsschutz.A comparison of the values in Table 1 - with regard to the composition of the respective phosphating baths - with those of the values in Table 2 - with regard to the content of manganese in the phosphating layers - shows that due to the procedure according to the invention with lower manganese concentrations in the phosphating baths, comparatively high contents of these cations can be achieved in the phosphating layers formed. In comparable cases of the examples according to the invention with the comparative examples, this leads to significantly improved corrosion protection.

Claims (8)

  1. A process for phosphating galvanized steel surfaces, preferably electrolytically galvanized or hot-dip-galvanized steel strip surfaces, by immersion or spray/immersion treatment thereof with acidic aqueous solutions which, in addition to zinc, phosphate and nitrate ions, also contain ions of at least two other divalent metals, characterized in that
    a) phosphating solutions containing the following components are used:
    Zn⁺ cations in quantities of 0.1 to 5 g/l,
    PO43- anions in quantities of 5 to 50 g/l,
    NO₃₋ anions in quantities of 0.1 to 50 g/l and
    Mn⁺ cations in quantities of 0.1 to 5 g/l and
    Cu⁺ cations in quantities of 0.001 to 1 g/l,
    b) the following conditions are established:
    pH value of the phosphating solutions 1.5 to 4.5,
    temperature of the phosphating solutions 10 to 80°C,
    treatment time 1 to 300 seconds,
    c) the workpieces are cathodically treated during phosphating with a direct current having a density of 0.01 to 100 mA/cm.
  2. A process as claimed in claim 1, characterized in that phosphating solutions containing the following components are used:
    Zn⁺ cations in quantities of 0.5 to 2 g/l,
    PO43- anions in quantities of 10 to 20 g/l,
    NO₃₋ anions in quantities of 1 to 30 g/l and
    Mn⁺ cations in quantities of 0.5 to 2 g/l and
    Cu⁺ cations in quantities of 0.01 to 0.5 g/l.
  3. A process as claimed in claim 1 or 2, characterized in that the following conditions are maintained during the phosphating treatment of the workpieces:
    pH value of the phosphating solutions 2 to 3
    temperature of the phosphating solutions 40 to 70°C
    treatment time 2 to 30 seconds.
  4. A process as claimed in one or more of claims 1 to 3, characterized in that, during phosphating, the workpieces are cathodically treated with a direct current having a density of 1 to 50 mA/cm.
  5. A process as claimed in one or more of claims 1 to 4, characterized in that the phosphating solutions used additionally contain Mg⁺ cations in quantities of 0.01 to 2 g/l and preferably in quantities of 0.1 to 1 g/l.
  6. A process as claimed in one or more of claims 1 to 5, characterized in that the phosphating solutions used additionally contain simple or complex fluoride anions in quantities of 0.1 to 50 g/l and preferably in quantities of 0.2 to 2 g/l.
  7. A process as claimed one or more of claims 1 to 6, characterized in that the workpieces to be phosphated are subjected beforehand to an activating pretreatment known per se, more particularly with titanium-containing activating solutions.
  8. A process as claimed in one or more of claims 1 to 7 as a pretreatment for subsequent painting or coating.
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