DK159102B - Fremgangsmaade til befugtning og efterfoelgende toerring af et finkornet materiale - Google Patents

Description

DK 159102 B

Opfindelsen angår en fremgangsmåde af den i krav l's indledning angivne art. Denne fremgangsmåde er kendt fra DE-offentliggørelsesskrift nr. 26 02 454. Ved den herfra kendte metode indføres materialet sammen med en 5 varm luftstrøm fra oven i en sprøjteblander, i hvilken det besprøjtes frit faldende, og hvori materialet, efter at det i en overgangstid er passeret gennem en hvilezone, opsamles af hvirvellaget i sprøjteblanderens nedre del. Hvirvellaget opretholdes ligeledes ved hjælp 10 af varm gas. Da ikke blot hvirvellagets medium, men også den sammen med materialet i sprøjteblanderens øvre del indførte gas er varm, begynder befugtningsvæ-skens tørrelse allerede i sprøjteblanderens øvre del under selve materialets befugtning eller umiddelbart 15 efter denne. Gassen, der indføres foroven i sprøjte- blanderen, optager i sprøjte- og hvilezonen væske, hvorved væskedampens partialtryk i gassen øges. Da den indførte gas imidlertid har en høj temperatur, er dette partialtryk ikke så højt, at tørringshastigheden i over-20 gangstiden derved påvirkes væsentligt.

Opfindelsen er derimod baseret på den erkendelse, at det er fordelagtigt at reducere tørringshastigheden i overgangstiden kraftigt eller endog at forhindre tørring i dette område, for at væsken des bedre kan trænes ge ind i det befugtede materiales porer og jævnt kan gennemvæde materialet, henholdsvis at den i tilsvarende længere tid på materialets overflade forblivende væske kan lette agglomerationsprocessen. Dette opnås ifølge opfindelsen ved, at man i overgangstiden lader 30 materialet efter dets befugtning med væsken forblive i en atmosfære med et højt væskedamp-partialtryk svarende til en relativ fugtighed i nærheden af 100¾. I praksis kan dette opnås ved, at der ved sprøjteblanderens hoved i sprøjteblanderen indføres lavt tempereret gas 35 og/eller gas, i hvilken befugtningsvæskedampens partial tryk er højt, og/eller at gassen i sprøjteområdet eller 2

DK 159102 B

før dette beriges med fordampet befugtningsuæske til forøgelse af dennes partialtryk.

Under højt partialtryk skal forstås et partialtryk i nærheden af den fordampede væskes mætningstryk. Opfin-5 delsen kan derfor også udtrykkes på den måde, at gas sen i den pågældende zone skal have en relativ fugtighed fra befugtningsvæsken i nærheden af 100%.

En sådan atmosfære med næsten 100% relativ fugtighed tilvejebringes hensigtsmæssigt ikke først i den efter 10 befugtningszonen følgende overgangszone, men allerede i selve befugtningszonen, for at den tid, i hvilken befugtningsvæsken forbliver utørret, kan være så lang som muligt, eller for, at sprøjteblanderens højde kan mindskes ved hjælp af en tilsvarende reduktion af 15 længden af den op til befugtningszonen stødende over gangszone .

Til forhindring af en afgysning af materialet ved dets pludselige passage fra overgangszonens mættede atmosfære ind i hvirvellagets tørrende atmosfære kan der 20 mellem disse to zoner hensigtsmæssigt være indskudt en mellemzone, i hvilken befugtningsvæskens partialtryk langsomt aftager.

I det følgende forklares opfindelsen nærmere ved hjælp af tegningen, der i et skematisk lodret snit viser et 25 apparat til udøvelse af fremgangsmåden ifølge opfindel sen .

På tegningen ses en sprøjteblander med en hovedsageligt cylindrisk beholder 1 med lodret akse. Beholderen har en nedadtil indsnævrende nedre del 2 og i tilslut-30 ning til denne en snæver bunddel 3. Bunddelen afslut tes forneden ved en hullet bund 4, neden for hvilken 3

DK 159102 B

der findes et rum 5, i hvilket der ved 6 indføres et fluidiseringsmedium, som oven for den hullede bund 4 danner et fluidiseringslag 7, fra hvilken materialet kan trækkes bort ved 8. Materialet indføres gennem et 5 rør 9 i beholderens lukkede topdel. Røret 9 er forsynet med en i beholderen beliggende indretning 10, ved hjælp af hvilken materialet spredes i form af et materiale-slør 11. Spredeindretningen 10 er omgivet af en hulplade 12, gennem hvilken en ved 13 tilført gas strømmer 10 ind i beholderen i retning af pilen 14. I beholderen findes mod materialesløret 11 rettede sprøjtedyser 15. Inden i beholderen 1 findes en cylindrisk væg 16, der omslutter et indre rum 17, i hvilket spredeindretningen 10 udmunder, og som opadtil er afgrænset ved 15 hulpladen 12. Sprøjtedyserne 15 er placeret i rummet 17, i hvilket der under dyserne og spredeindretningen 10 findes en vis faidstrækning for materialesløret 11.

Mellem beholderen l's ydervæg og den indre væg 16 findes der i beholderen et i tværsnit ringformet ydre rum 20 18, fra hvilket den ved 13 og 6 i beholderen indførte gas fjernes gennem en udstrømningsåbning 19.

I beholderen findes forskellige behandlingszoner, nemlig en sprøjte- og befugtningszone, hvis grænser er antydet ved klammen 20, en efter denne følgende over-25 gangs- eller hvilezone, hvis grænser er antydet ved klammen 21, en ved klammen 22 antydet mellemzone, i hvilken hvilezonen 21 går over, samt i tilslutning til mellemzonen en zone 23 med fluidiseringslaget 7. Zonerne 20, 21 og 22 er ikke afgrænset skarpt mod hinanden, 30 hvilket heller ikke er nødvendigt, fordi det ifølge opfindelsen blot gælder om, at der i tilslutning til sprøjtezonen 20, d.v.s. i zonen 21 og fortrinsvis tillige i selve sprøjtezonen 20 tilvejebringes et område med stor relativ fugtighed, på grund af hvilket den 35 i sprøjtezonen 20 på materialet påførte væske ikke tør- 4

DK 159102 B

res eller kun tørres i så lille udstrækning, at væsken kan trænge bedre ind i materialet, henholdsvis at agglo-mereringen af op til hinanden stødende materialepartikler lettes mere, end hvis væskens tørring påbegyndtes 5 umiddelbart efter befugtningen.

Apparatet drives på følgende måde. Den ved 13 i beholderen indførte gas har en sådan temperatur og relativ fugtighed, at varme- og materialebalancen i zonen 21, hensigtsmæssigt allerede i zonen 20, hovedsageligt sikrer 10 gassens fugtighedsmætning. Dette kan opnås ved påvirkning af forskellige parametre. Man kan dels reducere mængden af den ved 13 indførte gas så meget, at den væskemængde, der afgives til gassen fra sprøjtestrålerne henholdsvis fra det i sprøjteområdet værende befugtede materia-15 le, er tilstrækkelig til mætning af gassen med væske.

Den tilførte gasmængde kan reduceres til nul, d.v.s. at man i nogle tilfælde helt kan undvære gastilførsel ved 12 og 13. I rummet 17 fås da på grund af materialesløret ll's bevægelse en gascirkulation, der er anty-20 det ved pilene 24, 25, og ved hvilken der til stadig hed bringes fugtig gas fra det område, i hvilket materialet bevæges, ind i sprøjteområdet. Denne cirkulation tilvejebringes selvfølgelig også i de tilfælde, hvor der gennem hulpladen 12 indføres små gasmængder. I så 25 tilfælde overlejres cirkulationen af den tilførte gas.

Den ved 13 tilførte gas kan i forvejen have en forholdsvis høj relativ fugtighed, idet den f.eks. kan recirkuleres fra gasudløbet 19. Såfremt den ved 19 udstrømmende gas er for tør, kan den mellemkøles, så at dens 30 relative fugtighed ved uændret væskeindhold stiger.

Også temperaturen af det ved 9 tilførte mateiale er af betydning. Er materialet koldere end den ved 13 tilførte gas, vil denne blive afkølet i varmeudveksling med materialet, hvorved gassens relative fugtighed sti-35 ger. Den fra dyserne 15 indsprøjtede væskes temperatur 5

DK 159102 B

kan øges, så at væsken fordamper hurtigere i sprøjte-området, og gassens relative fugtighed stiger. Denne fordampning er ikke i modstrid med opfindelsens idé, fordi det ifølge opfindelsen kun gælder om, at væsken 5 så længe som muligt forbliver utørret på materialepar tiklerne, medens en eventuel tørring af strålerne fra dyserne eller under materialets befugtning ikke spiller nogen rolle, forudsat, at væsken indsprøjtes i en sådan mængde henholdsvis fortyndet på en sådan måde, at 10 der også efter væskefordampningen i selve sprøjteområ det i overgangstiden på partiklerne endnu findes en tilstrækkelig stor væskemængde med en tilstrækkelig viskositet. Endelig kan gassens relative fugtighed i eller før sprøjteområdet øges ved særskilt gasbefugt-15 ning inden for beholderen, f.eks. ved tilførsel af damp til béfugtningsvæsken.

I zonen 22 findes såvel fugtig gas fra rummet 17 som tør eller mindre fugtig gas fra zonen 23. I midterzonen 22 vil derfor den relative fugtighed tiltage jævnt 20 fra væggen 16's bundkant i retning mod fluidiserings- laget 7. Den ved 6 indførte tørreatmosfære rammer derfor ikke materialet pludseligt, men med en vis forsinkelse. Overskudsatmosfæren fra rummet 17 og fra zonen 22 føres i retning af pilene 26, 27 ind i det ydre rum 25 18 og til slut ud gennem udstrømningsåbningen 19. Det tørrede materiale fjernes ved 8 fra fluidiseringslaget 7.

Claims (2)

1. Fremgangsmåde til befugtning og efterfølgende tørring af et finkornet materiale i en sprøjteblander eller et lignende apparat, i hvilket materialet i frit svævende tilstand befugtes med en væske og efter en 5 overgangstid opsamles i et hvirvellag, der opretholdes ved hjælp af et tørremedium med et lavt væskedamp-par-tialtryk, kendetegnet ved, at materialet i overgangstiden holdes i en atmosfære med et højt væ-skedamp-partialtryk svarende til en relativ fugtighed 10 i nærheden af 100¾.

2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at man lader materialet passere fra atmosfæren med et højt partialtryk gennem en mellemzone med aftagende partialtryk ind i tørremediets område med det 15 lave væskedamp-partialtryk.