DE69909195D1 - Fotoempfindliches Harz auf Basis von verseiftem Polyvinylacetat, dieses Harz enthaltende fotoempfindliche Zusammensetzung, und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung - Google Patents

Fotoempfindliches Harz auf Basis von verseiftem Polyvinylacetat, dieses Harz enthaltende fotoempfindliche Zusammensetzung, und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1058154A1 (de) * 1999-06-04 2000-12-06 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Lichtempfindliches verseiftes Polyvinylacetat enthaltende Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung
US6797452B2 (en) 1999-06-04 2004-09-28 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Photosensitive composition comprising photosensitive saponified poly(vinyl acetate) and pattern formation method making use of the composition
KR20010107288A (ko) * 2000-05-26 2001-12-07 박이순 감광성 수지의 제조 방법
JP4238003B2 (ja) * 2001-10-31 2009-03-11 三菱製紙株式会社 感光性組成物及び平版印刷版
JP4278083B2 (ja) * 2002-12-10 2009-06-10 東洋合成工業株式会社 新規なポリ酢酸ビニル鹸化物系感光性樹脂、感光性樹脂組成物及びそれを用いた含水ゲルの形成方法並びに化合物
JP6217711B2 (ja) * 2015-08-21 2017-10-25 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法
JP7405488B2 (ja) * 2020-10-13 2023-12-26 昭和化工株式会社 ポリ酢酸ビニルをベースとした感光性ポリマー

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5562905A (en) * 1978-11-06 1980-05-12 Agency Of Ind Science & Technol Photo-insolubilized resin and its preparation
JPS5523163A (en) * 1978-08-09 1980-02-19 Agency Of Ind Science & Technol Polyvinyl alcohol type photosensitive resin and its preparation
JPS5611906A (en) * 1979-07-11 1981-02-05 Agency Of Ind Science & Technol Photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative and its preparation
US4564580A (en) * 1983-06-30 1986-01-14 Kogyo Gijutsuin Photosensitive resin composition
JPH0642077B2 (ja) * 1984-07-04 1994-06-01 工業技術院長 スクリ−ン製版用感光性材料
EP0313221B1 (de) * 1987-10-17 1994-05-04 Autotype International Limited Photoschablone für Siebdruck
JPH0713099B2 (ja) * 1988-12-14 1995-02-15 工業技術院長 感光性ポリビニルアルコール誘導体
GB2226564B (en) * 1988-12-16 1993-03-17 Sericol Group Ltd Photopolymerisable polyvinyl alcohols and compositions containing them
JP3561061B2 (ja) * 1995-12-11 2004-09-02 東洋合成工業株式会社 ポリビニルアルコール系感光性樹脂および感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン形成方法

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