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TECHNISCHES
GEBIET DER ERFINDUNG
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Die
Erfindung bezieht sich auf eine optische Kopplung eines stark leitenden
Wellenleiters und eines schwach leitenden Wellenleiters, und insbesondere
bezieht sich die Erfindung auf Verbesserungen bei integrierten Mach-Zehnder-Modulatoren.
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HINTERGRUND
DER ERFINDUNG
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Bei
hohen Bit-Übertragungsgeschwindigkeiten
und faseroptischen Langstrecken-Kommunikationen
kann eine größere Relaisentfernung
dadurch erreicht werden, dass eine bestimmte Betriebswellenlänge gewählt wird,
um die Faserverluste zu vermindern und indem die spektrale Ausbreitung
infolge von Chirp oder Wellenlängenverschiebungen
vermindert wird, die durch Hochfrequenzmodulation einer Laserquelle
verursacht wird.
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Eine
minimale Absorption herkömmlicher Einmodenfasern
erfolgt bei 1,55 μm
und eine minimale Dispersion erfolgt bei 1,3 μm. Da die Absorptionsverluste
eine wichtigere Beschränkung
für eine Langstreckenübertragung
sind, werden 1,55 μm-Laserquellen bevorzugt.
Nichtsdestoweniger ist die chromatische Dispersion von herkömmlichen
Einmodenfasern bei 1,55 μm
größer als
bei 1,3 μm,
und dies wird verursacht durch eine frequenzabhängige Gruppengeschwindigkeit.
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Die
direkte Modulation von Lasern bei hohen Frequenzen führt im Allgemeinen
zu einem relativ großen
Frequenzchirp. Die spektrale Ausbreitung erfolgt zum Teil infolge
einer Wellenlängenverschiebung
oder eines Chirps, was eine Impulsausbreitung von einer Wellenlängenverschiebung
nach kürzeren Wellenlängen (Blauverschiebung)
an der ansteigenden Kante eines Modulationsimpulses und einer Wellenlängenverschiebung
nach längeren
Wellenlängen (Rotverschiebung)
an der abfallenden Kante des Impulses verursacht. Der letztgenannte
Effekt wird als positiver Frequenzchirp bezeichnet. Durch Benutzung
eines niedrigen Chirps sind MQW-Laser (multiple quantum well) mit
1,55 μm
und 2,5 Gb/s-Übertragungssysteme
mit einer Relaisentfernung von 80 km kommerziell verfügbar. Jedoch
ist der Nachteil der Dispersion direkt modulierter Laser für praktische Langstreckenübertragungen
bei 10 Gb/s zu groß.
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Eine
andere Möglichkeit
ist die Benutzung eines elektro-optischen Modulators in Verbindung
mit einem Schmalband-Dauerstrich-Laser (cw-Laser), um ein moduliertes
Signal mit einem verminderten oder einstellbaren Chirp zu erhalten.
Bei elektro-optischen Modulatoren wird die Phasenverzögerung,
die durch ein Modulationssignal erzeugt wird, gewöhnlich in
eine Intensitätsmodulation
durch ein Mach-Zehnder-Interferometer oder einen Richtungskoppler übertragen.
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Mach-Zehnder(MZ)-Modulatoren
sind bei dieser Anwendung von speziellem Interesse. Ein integrierter
MZ-Modulator oder ein Halbleiter-MZ-Modulator weist einen optischen
Wellenleiterteiler auf, der mit ersten und zweiten Wellenleiterkanälen oder Armen
gekoppelt ist, die elektro-optische Modulatorsektionen und einen
Wellenleiterkombinator bilden. Die Elektroden sind jedem der Wellenleiterarme
zugeordnet und liefern eine Modulationsspannung an eine oder beide
Elektroden, um den Index zu ändern, und
dadurch können
die relativen Phasen der beiden Lichtstrahlen geändert werden. So kann eine
differenzielle Phasenänderung
in beiden Strahlen auftreten, die in der Phase kombiniert sind,
um ein Signal maximaler Intensität
oder ein "Ein"-Signal zu liefern, wobei
eine λ2-Verschiebung
(oder eine n-Verschiebung) zu einer Strahlauslöschung oder einem "Aus"-Signal führt. Im
typischen Fall besitzt die Aufspaltvorrichtung und der Kombinator
die Form eines Y-Zweigwellenleiters, d. h. einer Aufspaltvorrichtung oder
eines Richtungskopplers, von dem ein Teil als eine "S-Biegung" bezeichnet werden
kann, und zwar wegen der typischen S-Form des Verbindungsteils des
Wellenleiters.
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Üblicherweise
wurde LiNbO3 für diese elektro-optischen Modulatoren
benutzt. Neuerdings wurden MQW-(multi-quantum well)III-V-Halbleitermodulatoren
entwickelt, die kompakt sind und eine niedrige Treiberleistung erfordern
und monolithisch mit einer Laserquelle integriert werden können. Bei
diesen MQW-Strukturen
zeigen Erregungen, die aus einem Elektrodenlochpaar herrühren, scharte
Absorptionsspitzen, sogar bei Raumtemperatur. Wenn ein elektrisches
Feld senkrecht zur Ebene der Schichten angelegt wird, die die MQW-Struktur
bilden, wird der Energiespalt vermindert und die Erregerspitzen
werden nach längeren
Wellenlängen
verschoben. Dies wird als "Quantum
Confined Stark effect" (QCSE-Effekt) bezeichnet.
Durch Benutzung des QCSE-Effektes können zwei Arten äußerer Modulatoren
hergestellt werden. Einer ist ein elektro-absorbierender Modulator
und der andere ist ein Phasenmodulator. Bei großen Halbleitermodulatoren ändert sich
die Phase linear mit dem äußeren Feld
infolge des Franz-Keldysh-Effektes. Bei MQW-Modulatoren wird ein
quadratischer Ausdruck der Phasenveränderung durch das QCSE hinzugefügt, so dass
relativ große
durch Felder induzierte Phasenverschiebungen bei kompakten und schnellen
Phasenmodulatoren eingesetzt werden können.
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Die
Möglichkeit
der Steuerung der Chirpfrequenz durch Wahl der Treiberspannung oder
des Leistungsaufteilverhältnisses
in den beiden Armen bedeutet, dass MZ-Modulatoren gut geeignet sind für lange
Entfernungen optischer Faserübertragungen im
Mehrfach-Gigabit-Bereich.
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Es
sind verschiedene Verfahren bekannt, um das Chirp in optischen Modulatoren
zu vermindern oder einzustellen. Beispielsweise ist eine Verbesserung
der Halbleitermodulatoren der Mach-Zehnder-Bauart in der laufenden
US-Patentanmeldung Ser.
Nr. 08/188.000 vom 28. Januar 1994 für Rolland et al. beschrieben,
und dies ist einer der Erfinder der vorliegenden Anmeldung. Die Überschrift
dieser Patentanmeldung lautet: "Chirp
control of a Mach Zehnder optical modulator using non-equal power
splitting". Bei
dieser Ausbildung sind Mittel vorgesehen, um das Verhältnis der
optischen Leistung zwischen den ersten und den zweiten Armen des
Modulators einzustellen.
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Ein
weiteres Beispiel eines verbesserten Halbleitermodulators der Mach-Zehnder-Bauart ist in der
laufenden britischen Patentanmeldung Nr. 9513146.2 vom 28. Juni
1995 beschrieben, deren Anmelder Jun Yu et al. einer der Erfinder
der vorliegenden Anmeldung ist. Diese Veröffentlichung trägt den Titel: "Semiconductor modulator
with a ½ shift". Dabei besitzt eine
Modulatorkonstruktion Arme ungleicher Länge, d. h. eine asymmetrische
Konfiguration, wobei die Pfadlänge
der beiden Arme sich um die Hälfte
oder ein ungerades Vielfaches der Wellenlänge einer III-V-MQW-Einrichtung unterscheidet, und
dies führt
zu einem negativen Chirp und einem hohen Auslöschverhältnis für eine gleiche Gegentakt-Konfiguration.
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Die
US-A-5363456 beschreibt unter dem Titel "Optical phase modulating devices and
methods for their operation" die
Benutzung eines ersten und eines zweiten Paares von phasenstarren
Elektrodenauslegern und ein Paar von phasenmodulierten Elektroden,
um das Frequenzansprechen zu verbessern.
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Im
Idealfall sind diese Einrichtungen Einmoden-Einrichtungen und besitzen
Dimensionen, die mit jenen einer optischen Faser oder einer Laserquelle
kompatibel sind, um den Kopplungswirkungsgrad zu verbessern. Das
Strahlausbreitungsverfahren (BPM) wurde zur Simulation und Konstruktion
von MQW-Modulatoren benutzt. Beispiele finden sich in IEEE Photonics
Technology Letters, Vol. 2, Nr. 6, Juni 1990 unter dem Titel "Optimization of Strongly
Guiding Semiconductor Rib Waveguide Y-junctions" und in "Coherent Coupling of Radiation Modes
in Mach-Zehnder Electrooptic Modulators", IEEE Journal of Quantum Electronics,
Vol. 28, Nr. 5, Mai 1992. BPM wird benutzt, um die Verluste des
Interferometers als Funktion der Länge der Vorrichtung zu berechnen.
Am Eingang und Ausgang der Vorrichtung sind optische Übergänge in die
leitende Wellenstruktur erforderlich, die den Modulator bildet.
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Bei
einer leitenden Wellenleiterstruktur führen alle kleinen axialen Veränderungen
in der Struktur zu einer Kopplung einer Energiemenge in den Strahlungsmodus.
Beispielsweise kann bei Mach-Zehnder-Modulatoren das Strahlungsfeld
entweder durch Modenfehlanpassung oder Faserfehlausrichtung erregt
werden.
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Modulatoren,
die mit stark leitenden Wellenleiterstrukturen ausgestattet sind,
haben Vorteile im Hinblick auf kurze Abmessungen, geringe Verluste und
eine größere Überlappung
zwischen elektrischen und optischen Feldern. Stark leitende Strukturen
werden hergestellt durch Ätzen
durch eine Leiterschicht oder MQW-Schicht in dem Stegwellenleiter. Die
Koppelverluste werden durch das Profil der Eingangsquelle bestimmt,
z. B. durch das Feldprofil der sich verjüngenden Faser am Eingang und
die seitliche Struktur des Wellenleiters. Obgleich der Kopplungsgrad
im Allgemeinen mit der Breite eines Stegwellenleiters ansteigt,
zeigte eine BPM-Analyse, dass
die Breite des MQW auf 2,1 μm
beschränkt
werden muss, um zu verhindern, dass der Wellenleiter ein Multimode-Wellenleiter
wird (vergleiche Kapitel 5 von Ph. D. Thesis von Jun Yu, einem der
Erfinder der vorliegenden Anmeldung, in Queen's University, Kingston, Kanada, 1994).
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Andererseits
tendiert jedes Strahlungsfeld dazu, in die stark leitende Struktur
eingeführt
zu werden, und dies kann den fundamentalen Modus stören, so
dass die Arbeitsweise der Vorrichtung ungünstig beeinträchtigt wird.
Es kann eine sehr viel längere
Distanz für
die Strahlungsenergie in Anspruch nehmen, aus einer schwach leitenden
Struktur als Leckstrom auszutreten. Die stark leitende Struktur
benutzt vorteilhafterweise eine kurze S-Biegung ~100 μm und besitzt
eine große Überlappung zwischen
den E/O-Moden. Jedoch ist die stark leitende Struktur sehr empfindlich
gegenüber
einer Faserkopplung, d. h. einer Fehlausrichtung des Einfallswinkels
und dergleichen, und daher besteht eine weniger wirksame Kopplung
zwischen dem Wellenleiter und der Faser, verglichen mit einer schwach
leitenden Struktur.
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Wenn
die Schichten nur kurz über
dem MQW geätzt
werden, dann nähert
sich die Wellenleiterstruktur jener eines Stegwellenleiters, der
eine schwach leitende Struktur bildet.
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Bei
einer schwach leitenden Struktur ist das Auslöschverhältnis und das Frequenzchirp
virtuell unempfindlich gegenüber
einer Sub-Mikro-Fehlausrichtung des Faserausgangs. Die Herstellung
ist komplexer insofern, als ein spezieller Ätzanschlag erforderlich ist
und eine gute Kontrolle der Neigung der Stegseitenwände in der
Nähe des
Bodens des Steges für
einen betriebssicheren Einmoden-Wellenleiter erforderlich ist.
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Es
ist zu erwarten, dass Strahlungsfelder, die in schwach leitenden
Strukturen erregt werden, weniger gut geleitet werden und deshalb
geringere Einflüsse
auf die Modulationscharakteristiken haben. Jedoch ist ein sehr viel
längerer
S-förmig
gebogener Abschnitt erforderlich, um die gleiche Apertur am Ausgang
zu erhalten ohne Leistungsverlust gegenüber einer stark leitenden Struktur
(BPM-Analysen und Messungen bestätigten,
dass der Abstand von 0,1 μm
und 0,2 μm
zwischen der Oberseite des MQW und dem Ätzanschlag eine schwach leitende
Struktur liefert.) Die S-Biegelänge
wurde von 100 μm
in dem stark leitenden Bereich auf ungefähr 700 bis 1000 μm vergrößert, um
geringe S-Biegeverluste zu erhalten.
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In
einer stark leitenden Struktur zeigen Simulationen, dass der Bit-0-Ausgang
des Modulators nahe Null sein sollte, wenn der Modulator abgeschaltet
wird. Experimentell wird eine beträchtliche Restenergiemenge festgestellt.
Das antisymmetrische Feld des Bit-0 ist ein Strahlungsmodus bei
einem Einmoden-Wellenleiter
an der Ausgangssektion des Modulators, das sich über einen langen Weg ausbreitet, weil
der Stegwellenleiter stark leitend ist.
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Gundolf
Wenger und andere (8217 Journal of Lightwave Technology 12 (1994)
Oktober, Nr. 10, S. 1782–1790)
beschreiben einen monolithischen Transformator der Größe eines
Punktes oder Fleckens, realisiert in einem InP/InGaAsP-Material.
Die punktförmige
Transformation wird durch zwei Wellenleitersektionen bewirkt, die
in vertikaler Richtung bzw. in seitlicher Richtung verjüngt sind.
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ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung bezweckt die Schaffung einer verbesserten
optischen Kopplung zwischen einem schwach leitenden und einem stark leitenden
Wellenleiter, wie diese in einem elektro-optischen Modulator benutzt
werden, und insbesondere bezweckt die Erfindung die Schaffung einer
verbesserten Kopplung für
Mach-Zehnder-Modulatoren, um hierbei die Wirkungen einer Faserfehlausrichtung
zu vermindern.
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Gemäß einem
Aspekt der Erfindung betrifft diese eine optische Rippenwellenleiterstruktur
(= Steghohlleiterstruktur) gemäß dem Anspruch
1.
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Beispielsweise
wird eine verjüngte
Wellenleitersektion als Puffer zwischen den schwach und stark leitenden
Wellenleitersektionen benutzt, um die Verluste der Modenfehlanpassung
zu verringern und dadurch Reflexionsverluste zu unterdrücken. Demgemäß werden
bei einem integralen Wellenleiter die Vorteile von den schwach leitenden
und den stark leitenden Sektionen beibehalten, und zwar mit einer verbesserten
Kopplungswirksamkeit.
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Die
sich graduell ändernde
Modenbeschränkung
zwischen den schwach und den stark leitenden Wellenleitersektionen
können
durch eine Zwischensektion vorgesehen werden, bei der die Breite
oder Tiefe des Wellenleiters verjüngt ausgebildet ist, z. B. indem
die Breite zwischen den schwach leitenden und stark leitenden Sektionen
abnimmt.
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Die
dazwischenliegende verjüngte
Sektion, die die stark leitende Sektion und die schwach leitende
Sektion koppelt, wird durch eine Stegstruktur gebildet, die einen oberen
Abschnitt gleichförmiger Breite
und einen unteren Abschnitt aufweist, dessen Breite von der schwach
leitenden Sektion nach der stark leitenden Sektion abnimmt, wobei
der untere Abschnitt des Steges sich durch die leitende Schicht erstreckt.
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Die
leitende Schicht kann wenigstens einen Quantentopf-Elektronenkanal
aufweisen.
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Gemäß einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung betrifft diese einen
Mach-Zehnder-Halbleitermodulator gemäß Anspruch 4.
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Eine
stumpfe Kopplung zwischen den schwach leitenden und den stark leitenden
Sektionen bewirkt in der Praxis eine Verminderung der Effekte einer
Fehlausrichtung auf die Kopplungswirksamkeit. Diese Struktur kann
jedoch eine Modenfehlanpassung an den abrupten Grenzen zwischen
den schwach leitenden und den stark leitenden Sektionen verursachen,
wodurch Reflexionen zustandekommen, die schädlich für den integrierten Laser und
die Modulatorkonstruktion sind.
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Zweckmäßigerweise
ist die schwach leitende Sektion mit der stark leitenden Sektion über eine dazwischenliegende
verjüngte
Sektion gekoppelt und die dazwischenliegende verjüngte Sektion
bewirkt eine graduell sich vergrößernde Modenbeschränkung zwischen
den schwach leitenden und den stark leitenden Sektionen.
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Vorzugsweise
wird die sich graduell vergrößernde Modenbeschränkung des
sich verjüngenden Abschnitts
vorzugsweise durch Verjüngung
der Breite der Zwischensektion bewirkt, d. h. es wird eine Zwischensektion
des Wellenleiters geschaffen, die sich in der Breite von einer ersten
Breite benachbart zur schwach leitenden Sektion nach einer geringeren Breite
benachbart zu der stark leitenden Sektion verjüngt.
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Die
sich verjüngende
Sektion bewirkt eine Verminderung der Verluste, wodurch eine Reflexion unterdrückt wird
und wodurch Verluste der Modenfehlanpassung vermindert werden. Experimentelle Daten
von etwa 40 Geräten
zeigen eine etwa um 0,59 dB erhöhte Übertragung
an jeder Verjüngung.
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Stattdessen
kann die graduell ansteigende Modenbeschränkung der sich verjüngenden
Sektion durch Veränderung
eines anderen Parameters der dazwischenliegenden Sektion des Wellenleiters,
beispielsweise durch Änderung
der Tiefe, bewirkt werden.
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Wenn
die Stegwellenleiterstruktur auf einem Halbleitersubstrat hergestellt
wird und eine mehrschichtige Halbleiterstruktur einschließlich einer
leitfähigen
Schicht zwischen einer darunterliegenden Schicht und einer darüberliegenden
Schicht aufweist, dann wird jede stark leitende Sektion durch einen
Teil der Stegstruktur definiert, die sich durch die leitfähige Schicht
nach der darunterliegenden Schicht erstreckt und jede schwach leitende
Sektion wird durch einen Teil der Stegstruktur definiert, die auf
der darüberliegenden
Schicht über
der leitfähigen
Schicht endet. Die dazwischenliegende sich verjüngende Sektion erstreckt sich
zwischen der schwach leitenden Sektion und der stark leitenden Sektion.
Die sich verjüngende
Sektion besitzt einen oberen Abschnitt mit einer gleichförmigen Breite
und einen unteren Abschnitt, dessen Breite sich von der schwach
leitenden Sektion nach der stark leitenden Sektion erstreckt.
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Beispielsweise
verjüngt
sich die Breite der dazwischenliegenden Sektion von 6 μm auf 2 μm über eine
Länge von
30 μm, und
es wird eine Schreibauflösung
von 0,1 μm
erzeugt. Die sich verjüngende
Sektion kann in einem zweistufigen Ätzverfahren hergestellt werden,
wobei eine Kombination von Trockenätzen und Nassätzen benutzt
wird. Um die Herstellung zu unterstützen, wird eine Nassätz-Stoppschicht etwa
0,15 ± 0,05 μm über der
leitfähigen
Schicht angeordnet.
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Diese
Strukturen sind gut geeignet zum Betrieb in Verbindung mit Kommunikationslasern,
die mit standardisierten Wellenlängen
arbeiten.
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Auf
diese Weise wird ein Mach-Zehnder(MZ)-Modulator mit einer verbesserten
Kopplung zwischen Eingangs- und Ausgangsfasern vorgesehen. Der Mach-Zehnder-Modulator
kombiniert die Vorteile von schwach leitenden Eingangssektionen mit
stark leitenden Sektionen, um den Kopplungsgrad und die Empfindlichkeit
der Vorrichtung zu optimieren.
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Eine
verbesserte Kopplung zwischen den schwach leitenden und stark leitenden
Sektionen des Wellenleiters wird durch einen dazwischenliegenden verjüngten Wellenleiterabschnitt
gebildet, der eine sich graduell ändernde Modenbeschränkung bewirkt, wodurch
die Modenfehlanpassverluste vermindert und dadurch Reflexionen an
der Verbindung zwischen den schwach leitenden Sektionen und den stark
leitenden Sektionen des Wellenleiters unterdrückt werden.
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KURZBESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNGEN
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Nachstehend
werden Ausführungsbeispiele der
Erfindung in Verbindung mit der Zeichnung beschrieben. In der Zeichnung
zeigen:
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1 zeigt
ein schematisches Diagramm eines herkömmlichen MQW-Halbleiter-Mach-Zehnder(MZ)-Modulators;
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2 ist
in größerem Maßstab gezeichnet ein
Schnitt durch einen Teil des bekannten MQW-Halbleiter-Mach-Zehnder-Modulators
gemäß 1;
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3 zeigt
eine Draufsicht eines Teils des bekannten Mach-Zehnder-Modulators gemäß 1;
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4 zeigt
eine Draufsicht eines Teils eines Mach-Zehnder-Modulators gemäß einem
ersten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung;
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5 zeigt
einen vereinfachten Querschnitt nach der Linie V-V gemäß 4,
der eine Sektion des stark leitenden Wellenleiters repräsentiert;
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6 zeigt
einen vereinfachten Schnitt nach der Linie VI-VI gemäß 4,
der eine Sektion des schwach leitenden Wellenleiters repräsentiert;
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7 zeigt
eine Draufsicht eines Teils eines Mach-Zehnder-Modulators gemäß einem
zweiten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung;
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8 ist
eine Schnittansicht nach der Linie VIII-VIII der Struktur gemäß 7;
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9 ist
eine Schnittansicht nach der Linie IX-IX der Struktur gemäß 6;
und
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9A zeigt
die optische Modenstruktur, die in diesen Abschnitt des Wellenleiters
einläuft;
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10 ist
eine Schnittansicht nach der Linie X-X der Struktur gemäß 6;
und
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10A zeigt die optische Feldstruktur am Ende des
verjüngten
Abschnitts des Wellenleiters, die dem Modus in der stark leitenden
Sektion des Wellenleiters gut angepasst ist;
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11 ist
eine perspektivische Ansicht eines Teils der Struktur des Mach-Zehnder-Modulators
gemäß 7,
die den dazwischenliegenden verjüngten Abschnitt
zeigt, der mit dem stark leitenden Abschnitt der Eingangskopplersektion
des Modulators gekoppelt ist;
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12 zeigt
in einem Diagramm die Kopplungsverluste als Funktion der Dicke zwischen
der Ätz-Stoppschicht
und der Oberseite der leitfähigen Schicht
für die
stumpf gekoppelten Abschnitte des schwach leitenden Wellenleiters
und des stark leitenden Wellenleiters, um die Fehlanpassung des
Modulators bei dem ersten Ausführungsbeispiel
zu veranschaulichen;
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13 zeigt
in einem Diagramm die Eingangsleistung relativ zur Lage der Eingangsfaser
und das Löschverhältnis relativ
zur Lage der Ausgangsfaser bei einem Mach-Zehnder-Modulator des
ersten Ausführungsbeispiels,
hergestellt mit stumpf gekoppelten Sektionen von schwach leitendem
Wellenleiter und stark leitendem Wellenleiter;
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14 zeigt
die simulierte Modenausbreitung im "Aus"-Zustand
in der schwach leitenden Ausgangssektion des Wellenleiters bei dem
ersten Ausführungsbeispiel;
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15 zeigt
den überlappten
Leistungsverlust als Funktion der Länge der Verjüngung in
dem Modulator des zweiten Ausführungsbeispiels
mit einer dazwischenliegenden Sektion, die eine Verjüngungsbreite
zwischen 6 μm
und 2 μm
aufweist;
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16 zeigt
den überlappten
Leistungsverlust als Funktion der Länge der Verjüngung für einen Modulator
des zweiten Ausführungsbeispiels
mit einer dazwischenliegenden Sektion, die eine Verjüngungsbreite
zwischen 8 μm
und 2 μm
aufweist;
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17 zeigt
die Eingangsleistung relativ zur Eingangsfaserposition bei einem
Mach-Zehner-Modulator gemäß dem zweiten
Ausführungsbeispiel;
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18 zeigt
das Löschverhältnis relativ
zur Ausgangsfaserposition für
einen Mach-Zehnder-Modulator gemäß dem zweiten
Ausführungsbeispiel;
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19 zeigt
eine perspektivische Ansicht eines Teils der Struktur eines Mach-Zehnder-Modulators
gemäß einem
weiteren Ausführungsbeispiel,
wobei der verjüngte
dazwischenliegende Abschnitt mit dem stark leitenden Abschnitt der
Eingangskopplersektion des Modulators gekoppelt ist.
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BESCHREIBUNG
DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
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1 zeigt
einen Halbleiter-Mach-Zehnder-Modulator gemäß dem Stande der Technik, der eine
Microel-Struktur aufweist. Der Modulator 10 weist eine
Y-Eingangsverbindung 12 mit
einem Eingangswellenleiter 14 auf, dem Licht von einer
geeigneten Laserquelle zugeführt
wird. Der Eingangswellenleiter 14 ist etwa 2 μm breit und
ein Einmoden-Wellenleiter. Die optische Eingangsleistung von einem
Laser wird dem Wellenleiter 14 über eine nicht dargestellte
Anschlussfaser zugeführt
oder stattdessen ist der Laser monolithisch auf einem gemeinsamen
Substrat integriert. Der Y-Eingangszweig (Teiler) 12 weist
eine Einmoden-Wellenleitersektion 14,
gefolgt von einer Dreifachmoden-Stegsektion 16 auf, die
~40 μm lang
und ~4 μm
breit ist, und außerdem besitzt
er zwei S-förmig
gebogene Sektionen 20, die etwa 100 μm lang sind. Die Sektion 16 führt drei
Moden, und zwar zwei symmetrische Moden und einen antisymmetrischen
Modus. Die Zweigarme 22 und 24 des Modulators
sind mit den zwei S-förmigen
Krümmungsabschnitten 20 gekoppelt
und zentriert, und jeder ist etwa 2 μm breit, um nur einen einzigen
Modus zu führen.
Im typischen Fall sind bekannte Modulatoren derart ausgebildet,
dass die Zweigarme 22 und 24 im gleichen Abstand
auf beiden Seiten der Längsachse 26 liegen.
Die Zweigarme 22 und 24 sind um ~20 μm getrennt.
Der Y-Ausgangszweig (Kombinator) 28 hat gleiche Abmessungen
wie der Y-Eingangszweig und besitzt zwei S-förmige Biegeabschnitte 30,
die Licht in einen Dreifachmoden-Wellenleiterabschnitt 32 zurück kombinieren,
der mit einem Einmoden-Wellenleiterabschnitt 34 gekoppelt
ist, der gleich der Y-Eingangsverbindung ist. Eine Draufsicht eines
Teils des Modulators zeigt den Y-Eingangszweig 12 in größerem Maßstab in 3.
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Jeder
Arm 22 und 24 ist mit einer metallisierten Schicht 36 und 38 überzogen,
die an den Elektrodenanschlüssen 40 und 42 enden.
Diese Elektroden bilden eine unabhängige Spannungszuführung nach jedem
Wellenleiterarm 22 und 24, um den Brechungsindex
zu ändern,
der seinerseits die Phase der Lichtausbreitung durch den Wellenleiter
modifiziert. Diese Monomode-Wellenleitersektionen 22 und 24 sind
nominell 2 μm
breit und 3 μm
tief und beispielsweise 600 μm
lang und sie sind in einem Abstand von 20 μm angeordnet.
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Die
in größerem Maßstab dargestellte Schnittansicht
in 2 verläuft
durch einen Teil des Eingangswellenleiters gemäß 1, um die
Schichtenstruktur des Wellenleiters erkennen zu lassen, und dies
ist eine typische stark leitende Struktur. Die Schichten bestehen
aus Materialien, die nicht lineare elektro-optische Charakteristiken
haben. III-V-Legierungen in InGaSaP/InP oder AlGaAs/GaAs sowie gewisse
II-VI-Legierungen sind Beispiele. Diese Art des Schichtenaufbaus
wird durch bekannte epitaxiale Verfahren, beispielsweise Metall-organische
chemische Dampfablagerung (MOCVD) oder molekulare Strahlepitaxie
(MBE), gezogen. Wie in dem vergrößerten Schnittdiagramm
gemäß 2 ersichtlich, weist
die Struktur ein N+InP-Substrat 50 auf, auf dem eine dünne InGaAs-Absorptionsschicht 52 wächst. Eine
n-Typ-InP-Abdeckschicht 54 wächst darauf, gefolgt von einer
MQW-Struktur 56, die die leitfähige Schicht bildet. Die MQW-Struktur 56 kann
ein eigenleitender Bereich sein, der aus mehreren quaternären InGaAsP-Schichten
besteht, die durch InP-Sperrschichten getrennt sind. Im typischen
Fall ist ein MQW-Quantentopf zu bevorzugen, aber stattdessen kann
auch ein einziger Quantentopf benutzt werden. Eine p-Typ-InP-Überzugsschicht 58 wächst über der MQW 56,
und schließlich
dient eine stark dotierte p+ InGaAs-Schicht 60 als
eine den Kontakt verbessernde Schicht und bildet eine Absorptionsschicht.
Die p-Typ-Kontakte werden selektiv auf der Oberseite der Schicht 60 ausgebildet
und n-Typ-Kontakte 62 werden auf dem Substrat ausgebildet.
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Die
Schichtstruktur des stark leitenden Wellenleiters, der den Modulator
gemäß 1 bis 3 bildet,
ist gleich über
die Modulatorstruktur. Bei der Herstellung der üblichen Struktur gemäß 1 und 2 wird
die Einrichtung bemustert und Verbindungsanschlüsse, Verbindungen und Wellenleiterstege
oder Arme werden gleichzeitig durch die MQW-Schicht geätzt, wie
dies dargestellt ist. Wie in 2 dargestellt,
sind die Stegseitenwände
in das Substrat unter dem Pegel von MQW eingeätzt, um eine stark leitende
Struktur zu bilden. Eine solche Struktur ist beispielsweise im Einzelnen
in einem Artikel von Rolland et al beschrieben, der den Titel trägt "10 Gbit/s 1.56 μm multiquantum
well InP/GaAs Mach Zehnder Optical Modulator" (Electronics Letters, Vol. 29, Seiten
471–472,
1993). Jedoch ist, wie oben erwähnt,
der stark leitende Wellenleiter sehr viel mehr empfindlich bezüglich der
Faserkopplung, d. h. der Fehlausrichtung des Einfallswinkels usw., obgleich
der stark leitende Wellenleiter eine sehr viel kompaktere und kürzere Längenstruktur
aufweist, und es ergibt sich daraus eine weniger wirksame Kopplung
zwischen Wellenleiter und Faser, verglichen mit einer schwach leitenden
Struktur.
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Ein
Teil eines Mach-Zehnder-Modulators gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung ist schematisch in den 4, 5 und 6 dargestellt. 4 zeigt
eine Draufsicht auf die Eingangskopplersektion des Modulators, 5 zeigt
eine Querschnittsansicht entlang der Linie V-V und 6 zeigt
einen Schnitt nach der Linie VI-VI gemäß 4. Die 5A und 6A zeigen
die entsprechende BPM-Ausbreitungssimulation
für das
Strahlprofil in den Sektionen V und VI.
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Die
Struktur des Modulators des ersten Ausführungsbeispiels umfasst die
Hauptteile der zwei Y-Zweige, die den Eingangsteiler 112 (4)
und den Ausgangskombinator bilden sowie Zweigarme 118 und 120 des
Modulators, die den Teilen 16, 18 und 20 des
bekannten Modulators gemäß 1 entsprechen.
All diese Wellenleitersektionen werden als stark leitende Stegwellenleiter
erzeugt, wobei der Steg durch die Leitschicht in herkömmlicher
Weise geätzt
wurde, wie dies aus 5 ersichtlich ist.
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Die
Eingangs- und Ausgangs-Kopplersektionen des MZ-Modulators bei dem
ersten Ausführungsbeispiel
gemäß 4 unterscheiden
sich von dem herkömmlichen
MZ-Modulator nach 3.
Die Ausgangssektion ist gleich der Eingangssektion gemäß 4 und
jede weist eine schwach leitende Wellenleitersektion 180 auf,
die stumpf mit einer stark leitenden Eingangssektion 116 des
Modulators gekoppelt ist. Eine entsprechende schwach leitende Sektion
ist stumpf mit der Ausgangssektion (nicht dargestellt) gekoppelt.
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Die
Schichtstruktur des MZ-Modulators des ersten Ausführungsbeispiels
wird auf einem Halbleitersubstrat hergestellt und besteht aus einer
Mehrschichtenstruktur, wie sie vereinfacht im Querschnitt V-V und
VI-VI der Struktur gemäß 4 dargestellt ist.
Die in 5 und 6 dargestellten Schichten bestehen
aus einer leitfähigen
Schicht 156 mit einer Microel-Struktur zwischen der darunterliegenden n-Typ-Schicht 154 und
einer darüberliegenden p-Typ-Schicht 158,
wie dies üblich
ist. Diese Zusammensetzung der Schichten ist gleich der Mehrschichtenstruktur
des bekannten Modulators gemäß 2.
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Im
Querschnitt ist eine schwach leitende Eingangssektion 180 schematisch
in 6 dargestellt, und sie weist einen Abschnitt aus
einem Wellenleiter auf, bei dem der Steg in der darüberliegenden Schicht 158 bis
herunter zu einer Ätzanschlagschicht 172 in
einer vorbestimmten Dicke t über
der leitfähigen
Schicht 154 ausgeformt ist. Bei der Herstellung einer Stegwellenleiterstruktur
wird im typischen Fall eine Kombination einer Trockenätzung und
einer Nassätzung
benutzt, und es wird eine Ätz-Stoppschicht
an einer Stelle kurz über
den MQW-Schichten angeordnet, wie dies oben erwähnt wurde, um schwach leitende
Sektionen zu erzeugen. Ein ideales Profil ist eine gerade vertikale
Wand, und die Struktur wird im typischen Fall durch ein zweistufiges Ätzverfahren
gebildet mit einem anisotropen Trockenätzprozess und einem Nassätzschritt.
Der Trockenätzschritt ätzt anisotrop
und bildet einen Steg mit steilen Seitenwänden. In der Praxis ist ein
Nassätzschritt
bis herunter zu der Ätz-Stoppschicht
erforderlich, um die Ätztiefe
zu steuern, und dies führt
zu einer geneigten Seitenwand des Steges an der Unterseite der Stegseitenwand,
d. h. es erfolgt eine Abschrägung
in der Struktur, wo ein Winkel q abhängig ist vom Ätzprozess
(6). Es können
andere Moden erregt werden in Abhängigkeit von den Dimensionen
der Struktur. Nichtsdestoweniger werden die Wirkungen der Faserfehlausrichtung
weitgehend in der schwach leitenden Sektion vermindert, selbst wenn
der Ätzvorgang
zu einer Struktur führt,
wie diese in 6 dargestellt ist.
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Die
theoretischen Modenstrukturen in jeder Sektion sind, wie in den 5A und 6A dargestellt,
charakterisiert. Demgemäß ist ein
Eingang von einer Laserquelle, die entweder direkt oder über eine optische
Faser gekoppelt ist, wirksamer mit einer schwach leitenden Eintrittssektion
gekoppelt.
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Der
Koppelverlust zwischen stumpf gekoppelten Sektionen der schwach
leitenden Wellenleitersektion 180 und der stark leitenden
Wellenleitersektion 115 in dem MZ-Modulator gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel
als Funktion der Dicke t der Schicht zwischen der Ätz-Stoppschicht
und der Oberseite der leitfähigen
Schicht ist in 11 dargestellt. Indem die Dicke
t geändert
wird, wird die Modenstruktur geändert,
um die Modenbeschränkung
zu ändern
und die Kopplung mit der stark leitenden Sektion des Wellenleiters
zu verbessern. Die Breite des Steges beträgt w, und die Breite der schwach
leitenden Sektion 160 beträgt w2,
wie in 5 und 6 dargestellt. Eine bevorzugte
Dicke t liegt zwischen 0,1 μm
und 0,2 μm der
schwach leitenden Sektion, um Kopplungsverluste für die stumpf
gekoppelten schwach bzw. stark leitenden Eingangskopplersektionen
zu vermindern. Die Länge
der schwach gekoppelten Sektion beträgt vorzugsweise ≤ 150 μm. Die eingekoppelte
Eingangsleistung relativ zur Eingangsfaserposition (d. h. die Fehlausrichtung)
und das Erregerverhältnis
relativ zur Ausgangsfaserposition für einen MZ-Modulator des ersten
Ausführungsbeispiels,
der mit stumpf gekoppelten Sektionen von schwach leitendem Wellenleiter
und stark leitendem Wellenleiter gekoppelt ist, ist in 13 dargestellt. 14 zeigt
die simulierte Modenausbreitung im "Aus"-Zustand
in der schwach leitenden Ausgangssektion des Wellenleiters des ersten
Ausführungsbeispiels.
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Bei
einem MZ-Modulator eines zweiten Ausführungsbeispiels ist die Struktur
des Modulators gleich wie bei dem ersten Ausführungsbeispiel mit dem Unterschied,
dass, wie in 7 dargestellt, der Eingangskoppler
eine schwach leitende Wellenleiter-Eingangssektion 280 und
eine stark leitende Wellenleitersektion 214 aufweist, die
durch eine dazwischenliegende Sektion 290 gekoppelt sind,
die eine graduell ändernde
Modenbeschränkung
zwischen der schwach leitenden Sektion und der stark leitenden Sektion
bewirkt. Die entsprechenden Elemente der Struktur des zweiten Ausführungsbeispiels
werden mit den gleichen Bezugszeichen versehen wie beim ersten Ausführungsbeispiel,
erhöht
um 100.
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Die
Struktur der dazwischenliegenden Sektion 290 bietet einen Übergang
zwischen den schwach leitenden und den stark leitenden Wellenleiterabschnitten,
wie in 11 dargestellt. Die 11 zeigt eine
perspektivische Ansicht eines Teils des Eingangskopplers. Wie in 11 dargestellt,
ist die dazwischenliegende Sektion 290 charakterisiert
durch eine sich verjüngende
Breite, die die Breite der Leitschicht im Wellenleiter definiert,
wie dies in 7 und in den Querschnittsdarstellungen
gemäß 8, 9 und 10 dargestellt
ist. Die Änderung
in der Modenbeschränkung
in der Breitenverjüngung
der Zwischensektion bewirkt ein Quetschen des Modus, um die Modenfehlanpassung
in der Kopplung der schwach leitenden Wellenleitersektion 280 und
der stark leitenden Wellenleitersektion 214 zu vermindern.
Der sich verjüngende
Zwischenabschnitt ist durch einen oberen Abschnitt charakterisiert,
der einen Steg gleichförmiger
Breite w definiert und ein unterer Abschnitt ist durch die leitfähige Schicht
definiert, in der die Breite des Wellenleiters sich von einer ersten
Breite w1 benachbart zu der schwach leitenden
Sektion nach einer geringeren Breite w2 benachbart
zu der stark leitenden Sektion verjüngt, wie dies in den 8, 9 bzw. 10 dargestellt
ist. Der verjüngte
Abschnitt 290 bildet daher einen Übergangsbereich zwischen den
schwach leitenden und den stark leitenden Wellenleiterabschnitten,
wie dies in 11 dargestellt ist.
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Die
sich verjüngende
Sektion verbessert die Kopplungswirksamkeit zwischen der schwach
leitenden Wellenleitersektion und der stark leitenden Wellenleitersektion des
Modulators, indem eine sich ändernde
Modenbeschränkung
längs der
sich verjüngenden
Sektion stattfindet.
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Praktisch
wird die graduell ansteigende Modenbeschränkung der verjüngten Sektion
vorzugsweise durch Verjüngung
der Breite der Zwischensektion erhalten, d. h. es wird eine Zwischensektion
des Wellenleiters vorgesehen, die sich in der Breite von einer ersten
Breite benachbart zu der schwach leitenden Sektion nach einer geringeren
Breite benachbart zu der stark leitenden Sektion verjüngt.
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Die
verjüngte
Sektion bewirkt eine Verminderung von Verlusten, und dadurch wird
eine Reflexion unterdrückt
und Modenfehlanpassverluste verringert. Experimentelle Daten aus
etwa 40 Einrichtungen zeigen eine etwa um 0,59 dB erhöhte Übertragung
an jeder Verjüngung.
Ein theoretisches Ansteigen der Übertragung
von 1 dB wurde berechnet.
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Die
in den 12 und 13 dargestellten Daten
liefern die Simultationsergebnisse durch BPM und Messung an der
MZ-Modulatorstruktur des zweiten Ausführungsbeispiels, um die Verbesserung
zu demonstrieren, die durch die schwach leitenden Sektionen der
Wellenleiterstruktur an beiden Enden des Modulators erzeugt werden.
Insbesondere zeigt 12 den Leistungsverlust für eine Breitenverjüngung von
6 μm auf
2 μm als
Funktion der Verjüngungslänge Ltaper von 30 μm und 13 zeigt ähnliche
Ergebnisse für
eine Breitenverjüngung
von 8 μm auf
2 μm als
Funktion der Verjüngungslänge Ltaper.
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Die
Länge der
schwach leitenden Eingangssektion beträgt ≤ 150 μm. Der überlappte Leistungsverlust
als Funktion der Länge
der Verjüngung
im Modulator des zweiten Ausführungsbeispiels,
bei dem eine Zwischensektion mit einer Verjüngungsbreite von 6 μm auf 2 μm vorhanden
ist, zeigt 12, und der überlappte Leistungsverlust
als Funktion der Länge
der Verjüngung
für einen
weiteren Modulator des zweiten Ausführungsbeispiels mit unterschiedlichen Dimensionen,
d. h. mit einer Zwischensektion, die eine Verjüngung zwischen 8 μm auf 2 μm aufweist,
ist in 14 dargestellt. Die Eingangsleistung
relativ zur Eingangsfaserposition für einen MZ-Modulator gemäß dem zweiten
Ausführungsbeispiel
ist in 17 dargestellt, und 18 zeigt
das Auslöschverhältnis relativ
zur Ausgangsfaserposition für
einen MZ-Modulator gemäß dem zweiten
Ausführungsbeispiel.
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Das
Auslöschverhältnis und
der Frequenzchirp sind abhängig
von der Ausgangsfaserfehlausrichtung. Bei herkömmlichen MZ-Modulatoren kann das
Auslöschverhältnis sich
um mehrere dB für
eine Fehlausrichtung im Sub-Mikrometerbereich
der Ausgangsfaser ändern.
Das Frequenzchirp ist abhängig von
der Ausgangsfaserfehlausrichtung, und daher besteht ein Kompromiss
zwischen dem Auslöschverhältnis und
dem Negativ-Chirp für
bekannte Modulatormoden. Im Betrieb des MZ-Modulators des zweiten
Ausführungsbeispiels
führt eine
Fehlausrichtung der Eingangsfaser um 0,4 μm zu einem Strahlungsfeld, das
schnell fast unsichtbar nach einer Ausbreitungsdistanz von 150 μm entweicht.
Das Leistungsteilverhältnis
ist auch weniger empfindlich gegenüber einer Fehlausrichtung der
Eingangsfaser und der Länge
des Eingangswellenleiters.
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Im
Vergleich mit der MZ-Modulatorstruktur des zweiten Ausführungsbeispiels
wurden die Simultationen und Messungen mit Ergebnissen herkömmlicher
MZ-Modulatoren verglichen,
die mit sämtlichen schwach
leitenden Sektionen durchgeführt
wurden. Im letzteren Fall wurde eine periodische Änderung der
Leistung zwischen Leitmoden und Strahlungsmoden beobachtet. Die
typischen Schwebungslängen betrugen
nahezu 1 mm für
die schwach leitenden MZ-Wellenleiter.
Andererseits liefert eine schwach leitende Struktur vorteilhafterweise
eine verbesserte Kopplung zwischen dem Wellenleiter und der Faser, wobei
diese Kopplung weniger empfindlich in Bezug auf die Faserkopplung,
eine Fehlausrichtung oder bezüglich
des Einfallswinkels ist. Nichtsdestoweniger erfordert die Struktur
eine sehr lange S-Biegung von z. B. 1000 μm, verglichen mit ~100 μm bei einer
stark leitenden Struktur, und dies führt zu einer kleineren Überlappung
zwischen E/O-Moden.
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Bei
einer anderen herkömmlichen
Struktur, die mit stark leitenden Sektionen hergestellt wurde, beobachtete
man eine Schwebungslänge
von etwa 20 μm,
was eine noch vorherrschende Strahlungsfeldstörung anzeigt. Symmetrische
Moden tragen in gleicher Weise zu den beiden Armen der Y-Verzweigung
bei. Jedoch kann ein antisymmetrisches Strahlungsfeld erzeugt werden,
wenn die Eingangsfaser fehlausgerichtet ist. Ein gewisses Ausmaß einer Fehlausrichtung
ist in der Praxis unvermeidbar, insbesondere während der Verpackung der Vorrichtung. Das
Leistungsteilverhältnis
zwischen den beiden Zweigen der ersten Y-Verbindung beeinflusst
das Auslöschverhältnis und
das Frequenzchirp. Beispielsweise spalten einige der bekannten oben
erwähnten
Einrichtungen freiwillig das Leistungsverhältnis auf. Jedoch bewirkt eine
Faserfehlausrichtung auch die Erregung antisymmetrischer Moden,
die nicht voll abgeleitet werden und so am Ausgang teilhaben und
eine Störung
längs der
Arme bewirken.
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Bei
der Herstellung der MZ-Modulatorstruktur gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel
verjüngte
sich z. B. die Breite der Zwischensektion von einer Breite w1 von 6 μm
auf w2 von 2 μm über eine Verjüngungslänge von
30 μm mit
einer Schreibauflösung
von 0,1 μm.
Die Struktur der Einrichtung kann in einem Dreistufen-Ätzverfahren
hergestellt werden, und zwar unter Benutzung einer Kombination von Trockenätzstufen
und Nassätzstufen.
Um die Herstellung zu unterstützen,
wird eine Nassätz-Stoppschicht
in einer Höhe
von 0,15 ± 0,05 μm über der leitfähigen Schicht
angebracht. So wird die Dicke t (3) des Steges über der
leitfähigen
Schicht zwischen 0,1 bis 0,2 μm
dick. Bei anderen Beispielen wurden Verjüngungen überprüft von einer Breite w1 mit 8 μm
auf eine Breite w2 von 2 μm über eine
Länge von
30 μm.
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Das
Dreistufen-Ätzverfahren
erfordert zwei Maskierungsschichten, um die Zwischensektion zu definieren,
bestehend aus einem Steg gleichförmiger Breite
und der verjüngten
Sektion, bei der die Breite über
die Länge
der verjüngten
Sektion variiert. Eine erste Maskierungsschicht, im typischen Fall
aus SiO2, definiert die gleichförmige Stegbreite
der schwach leitenden Sektion und die stark leitenden Sektionen
des Wellenleiters. Dann definiert eine zweite Maskierungsschicht
aus SiNx den verjüngten Abschnitt. Dann werden
die unmaskierten Bereiche teilweise geätzt, z. B. auf etwa 0,5 μm. Die SiNx Schicht wird entfernt und ein zweites Trockenätzverfahren
definiert unter Benutzung der SiO2-Maskierungsschicht
den Steg, der über
dem verjüngten
unteren Abschnitt des Mittelabschnitts liegt, und es wird das Ätzen der
stark leitenden Sektionen des Wellenleiters vollendet. In dem verjüngten Bereich
schreitet das Ätzen
nach unten in die Nähe
der Ätz-Stoppschicht
fort, und es wird vollendet durch ein Nassätzen bis zum Ätzstopp,
um den Steg zu definieren, der über
dem verjüngten
unteren Abschnitt und über
anderen schwach leitenden Sektionen liegt. Um betriebssichere Vorrichtungen
zu schaffen, ist eine sorgfältige
Ausrichtung der beiden Masken über
die Länge
des Steges und die Achse des verjüngten Abschnitts erforderlich.
Bei der Entwicklung von Prototypen, die unter Benutzung von Kontaktmasken durchgeführt wurde,
wobei die Richtmaskenauflösung
etwa 0,1 μm
betrug, ergab sich eine Versetzungsmasken-Annäherung,
während
die Gesamtdurchbiegung vermindert wurde, und dies kann benutzt werden,
um in einem Abschnitt der Vorrichtungen die Mitte der Verjüngung genau
auf die Achse des Wellenleiters auszurichten. Stattdessen können bekannte
Maskierungsschemen und Ätzverfahren benutzt
werden, um die Ausrichtung zu verbessern und die Wirksamkeit der
Vorrichtung zu verbessern.
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Bei
einem MZ-Modulator gemäß einem
weiteren Ausführungsbeispiel
in 19, bei dem eine verjüngte Zwischensektion in einer
alternativen Struktur vorgesehen ist, wird die sich ändernde
Modenbeschränkung
in der Zwischensektion durch die Tiefe des Wellenleiters erreicht,
die über
die Länge der
verjüngten
Sektion geändert
wird. Diese Struktur erfordert ein selektives epitaxiales Wachstum
zur Erzeugung, und dies ist komplex zu steuern. In der Praxis ist
die Struktur des zweiten Ausführungsbeispiels zu
bevorzugen, weil die Verjüngung
der Breite leichter erreicht werden kann.
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Demgemäß ist eine
integrale Wellenleiterstruktur vorgesehen, die eine schwach leitende
Wellenleitersektion und eine stark leitende Wellenleitersektion
aufweist, die durch eine Zwischensektion gekoppelt sind, die eine
graduell sich ändernde
Modenbeschränkung
zwischen den schwach und den stark leitenden Sektionen bewirkt.
Die Zwischensektion wird vorzugsweise dadurch hergestellt, dass
die seitlichen Abmessungen oder andere Parameter der Wellenleiterstruktur
verjüngt
werden, und zwar beispielsweise in der Breite eines Teils der Zwischensektion
des Wellenleiters, die die leitfähige
Schicht umfasst. So führt
die Änderung
in der Modenstruktur zu einem größeren Anteil
der Leistung, die in die stark leitende Sektion eingepasst wird,
indem das Feld gequetscht wird und die Modenfehlanpassung und die
Reflexionsverluste vermindert werden.