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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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Gebiet der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung betrifft eine Kathodenstrahlröhre bzw.
CRT (cathode-ray-tube), eine in der CRT verwendete Elektronenkanone,
eine in der Elektronenkanone enthaltene Strahlsteuerelektrode und
ein Verfahren zur Herstellung der Strahlsteuerelektrode. Insbesondere
betrifft die vorliegende Erfindung eine Elektrodenplatte mit dünnen Abschnitten, die
mit Strahldurchtrittslöchern
und Überschussmetall-Entlastungsschlitzen
zum Befreien bzw. Entlasten von überschüssigem Metall
versehen sind, so dass überschüssiges Metall
während
der Bildung der dünnen
Abschnitte keine Vorsprünge
bildet, welche Platte als eine Strahlsteuerelektrode verwendet ist und
die genaue Anordnung einer benachbarten Elektrode in einem vorbestimmten
Abstand davon zum Bilden von Strahlen einer gewünschten Form erlaubt. Die Form
des Strahls in der Peripherie eines Schirms kann durch die Strahlsteuerelektrode
automatisch korrigiert werden.
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Beschreibung der verwandten
Technik
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Ein
von einer Elektronenkanone emittierter Elektronenstrahl wird zur
zweidimensionalen Abtastung eines fluoreszierenden Körpers zum
Bilden eines gewünschten
Bildes auf einem Schirm abgelenkt. Der von der Elektronenkanone
emittierte Elektronenstrahl weist einen kreisförmigen Querschnitt auf und
bildet einen wie in 5A gezeigten
im Wesentlichen kreisförmigen
Fleck im Zentrum des Schirms. Jedoch wird der Elektronenstrahl durch elektromagnetische
Ablenkung deformiert und bildet wie in 5A gezeigte horizontal langgestreckte
Flecke in den Ecken des Schirms, das heißt der Peripherie des Schirms.
Ein durch solche verzerrte Flecke des Elektronenstrahls gebildetes
Bild ist verzerrt.
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Ein
zum Korrigieren der Verzerrung eines Bildes vorgeschlagenes Verfahren
verwendet einen Elektronenstrahl, der beispielsweise einen wie in 5B gezeigten vertikal langgestreckten
Fleck im Zentrum des Schirms bildet. Dieser Elektronenstrahl, der
einen vertikal langgestreckten Fleck, das heißt, einen verzerrten Fleck
bildet, bildet bei Unterwerfung einer elektromagnetischen Ablenkung
wie in 5C gezeigte im
wesentlichen kreisförmige
Flecke in den Ecken des Schirms.
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6 zeigt eine konventionelle
Farbelektronenkanone für
eine Dreikanonen-Dreistrahl-Typ-Elektronenkanone (Farbröhre). Diese
Elektronenkanone emittiert Elektronenstrahlen eines intentional
deformierten Querschnitts. Die Elektronenkanone ist mit drei in
einer Linie angeordneten Kathoden KR, KG und KB versehen.
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Mehrere
plattenförmige
oder zylindrische Gitter G1 bis G6, das heißt Strahlsteuerelektroden, sind
in vorbestimmten Intervallen in Richtung der Strahlfortbewegung
für die
Kathoden KR, KG und KB angeordnet. Das fünfte Gitter G5 und das sechste Gitter
G6 bilden eine Hauptelektronenlinse (Konvexlinse).
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7 zeigt die Elektronenkanone
in Schnittsdarstellung. In 7 ist
die Kathode KR im Zentrum angeordnet, und ein von der Hauptelektronenlinse
ML abgelenkter Elektronenstrahl EB erreicht einen Schirm 12.
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Die
von einem Elektronenstrahl in den Ecken des Schirms gebildeten Formen
von Flecken können durch
Formen des Querschnitts des Strahls in eine vertikal langgestreckte
Form, das heißt
eine in der vertikalen Abtastrichtung langgestreckte Form, durch Steuerung
des Strahldivergenzwinkels θ korrigiert werden.
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Der
Strahldivergenzwinkels θ kann
hauptsächlich
durch die Form des zweiten Gitters G2 gesteuert werden. Das zweite
Gitter G2 ist zum Steuern des Strahldivergenzwinkels θ in einer
in 8 gezeigten Struktur
ausgebildet.
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Generell
sind Strahldurchtrittslöcher 22R, 22G und 22B in
dünnen
Abschnitten 20R, 20G bzw. 20B des zweiten
Gitters G2 ausgebildet, um eine notwendige Stärke bzw. Festigkeit des zweiten
Gitters G2 sicherzustellen und einen gewünschten Divergenzwinkels θ sicherzustellen.
Die Bildung solcher dünnen
Abschnitt in einer Elektrode wird als Prägen (coining) bezeichnet. Wie
in 9 gezeigt weisen
die durch Prägen
gebildeten dünnen
Abschnitte 20R, 20G und 20B eine horizontale
Länge,
das heißt
eine Länge
entlang einer Achse X-X',
auf, die größer als eine
vertikale Länge,
das heißt
eine Länge
entlang einer Achse Z-Z',
ist. Die Strahldurchtrittslöcher 22R, 22G und 22B sind
in den Zentren der dünnen
Abschnitte 20R, 20G bzw. 20B ausgebildet. 10 ist eine längs der
Achse X-X' in 9 genommene Schnittdarstellung.
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Da
die dünnen
Abschnitte eine asymmetrische Form (astigmatisches Prägen, astigmatic
coining) aufweisen, sind Abschnitte des zweiten Gitters G2 auf der
Seite der vertikalen Abtastrichtung dick, und es ist eine konvergierende
Linse, die eine hohe Konvergenzfähigkeit
aufweist, ausgebildet, da in den Strahldurchgangslöchern ein
elektrisches Feld erzeugt wird. Die eine hohe Konvergenzfähigkeit
aufweisende konvergierende Linse reduziert den Divergenzwinkel des
Strahls.
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Da
Abschnitte des zweiten Gitters G2 auf der Seite der horizontalen
Abtastrichtung dünn
sind, ist eine konvergierende Linse, die eine niedrige Konvergenzfähigkeit
aufweist, ausgebildet, und folglich ist der Divergenzwinkel des
Strahls groß.
Deshalb bewegt sich der Strahl EB durch den eine kleine Krümmung und
eine niedrige Konvergenzfähigkeit
in Bezug auf die vertikale Abtastrichtung aufweisenden zentralen
Abschnitt der Hauptelektronenlinse ML, und der Strahl EB bewegt
sich durch einen eine große
Krümmung
und eine hohe Konvergenzfähigkeit
in Bezug auf horizontale Abtastrichtung aufweisenden äußeren Abschnitt
der Hauptelektronenlinse ML. Folglich wird der Strahl in Bezug auf
die horizontale Abtastrichtung stark konvergiert, und der Strahl
bildet einen vertikal langgestreckten Fleck.
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Üblicherweise
wird das zweite Gitter G2, das die durch Prägen gebildeten dünnen Abschnitte
aufweist, durch den nachstehend beschriebenen Prozess hergestellt.
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11 zeigt nur einen Abschnitt
eines R-Strahls einer als das zweite Gitter verwendeten Metallplatte.
Durch Stanzen wird wie in 11A gezeigt
in einer vorbestimmten Position in einer Metallplatte 18 ein
präpariertes
Loch 26R gebildet. Das präparierte Loch 26R wird
gebildet, um von überschlüssigem Metall
während
der Pressformerei bzw. Pressbearbeitung zu befreien oder entlasten.
Die Metallplatte 18 wird wie in 11B gezeigt einer Pressbearbeitung zum
Prägen
unter Verwendung eines Stempels 28 unterworfen, um einen
wie in 11C gezeigten
rechteckigen dünnen
Abschnitt 20R zu bilden.
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Das
präparierte
Loch 26R dient als ein Überschussmetall-Beseitigungsschlitz
bzw. -Entlastungsschlitz während
der Pressbearbeitung, und wie in 11D gezeigt
ist sein Durchmesser reduziert. Ein das präparierte Loch 2GR aufweisender
Abschnitt der Metallplatte 18 wird wieder mit einer Stanze 30 gestanzt,
um das wie in den 11D und 11E gezeigte Strahldurchtrittsloch 22R eines
vorbestimmten Durchmessers zu bilden. So wird das zweite Gitter G2,
das wie in 11E gezeigt
den dünnen
Abschnitt 20R vorbestimmter Dimensionen aufweist, vollendet.
Andere dünne
Abschnitte 20G und 20B werden durch den gleichen
Prozess gebildet und folglich ist die Beschreibung von Prozessen
zur Bildung der dünnen
Abschnitte 20G und 20B fortgelassen.
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Es
ist möglich,
dass sich überschüssiges Metall
in Teilen des dicken Abschnitts der Metallplatte 18 während der
Bildung des dünnen
Abschnitts 20R durch Pressbearbeitung unter Verwendung
des Stempels bei der Bildung des zweiten Gitters G2 durch die in 11 gezeigten Schritte in
einer Aufbauchung sammelt. Von diesem überschüssigen Metall kann nur durch
das präparierte
Loch 26R nicht befreit bzw. entlastet werden, und es wird,
wie in 11F gezeigt,
ein Vorsprung 24 an Stellen des dicken Abschnitts um den
dünnen
Abschnitt 20R herum gebildet. Die Bildung des Vorsprungs 24 ist besonders
beachtlich, wenn der dünne
Abschnitt 20R in einer sehr kleinen Dicke gebildet werden
muss.
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Wenn
der Vorsprung 24 um den dünnen Abschnitt 20R herum
gebildet wird, ist es möglich,
dass das zweite Gitter G2 und das dritte Gitter G3 nicht an Leisten
bzw. Stäben 14 und 16 (7) angebracht werden kann
und das zweite Gitter G2 und das dritte Gitter G3 einen vorbestimmten
Abstand räumlich auseinander
sind. Die mehreren Gitter G1 bis G6 sind so gestaltet, dass sie
an den Stäben
(Glas) 14 und 16 in vorbestimmten Intervallen
gehalten sind.
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Da
der Raum zwischen dem zweiten Gitter G2 und dem dritten Gitter G3
sehr schmal ist, sind das zweite Gitter G2 und das dritte Gitter
G3 wie in 10 gezeigt
durch einen Abstandhalter 34 für einen Verstäbungsprozess
räumlich
getrennt.
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Wenn
während
des Prägeprozesses
ein Vorsprung 24 undefinierter Höhe gebildet wird, wird das Einsetzen
des Abstandshalters 34 zwischen das zweite Gitter G2 und
das dritten Gitter G3 durch den Vorsprung 24 gestört, und
das zweite Gitter G2 und das dritte Gitter G3 können nicht mit dem korrekten Intervall
dazwischen gehalten werden. Folglich kann eine Elektronenkanone,
welche die gewünschten Charakteristiken
aufweist, nicht konstruiert werden.
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Eine
wie vorstehend beschriebene Strahlsteuerelektrode ist beispielsweise
aus dem Dokument US-A-4919634 bekannt.
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AUFGABE UND ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung zielt darauf ab, ein solches Problem bei der
konventionellen Strahlsteuerelektrode zu lösen, und es ist deshalb eine
Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Strahlsteuerelektrode,
bei welcher der ungewollte Vorsprung während eines Prägeprozesses
nicht ausgebildet wird, eine mit einer solchen Strahlsteuerelektrode
versehene Elektronenkanone, eine mit einer solchen Elektronenkanone
versehene CRT und ein Verfahren zur Herstellung der Elektrode bereitzustellen.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung weist eine Strahlsteuerelektrode eine Elektrodenplatte,
die mit Strahldurchtritts löchern
zum Bilden von Strahlflecken einer Form anders als eine Kreisform
versehen ist, auf. Die Strahldurchtrittslöcher sind in dünnen Abschnitten
der Elektrodenplatte, die eine Dicke kleiner als die anderer Abschnitte
der Elektrodenplatte aufweisen, ausgebildet, und die dünnen Abschnitte
sind mit Überschussmetall-Befreiungsschlitzen
bzw. -Entlastungsschlitzen zum Befreien oder Entlasten von überschüssigem Metall
während
der Bildung der dünnen
Abschnitte versehen.
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Die
in den dünnen
Abschnitten ausgebildeten Überschussmetall-Entlastungsschlitze
befreien bzw. entlasten von überschüssigem Metall
bei der Bildung der dünnen
Abschnitte, und folglich werden ungewollte Vorsprünge um die
dünnen
Abschnitte herum während
der Pressformerei bzw. Pressbearbeitung nicht ausgebildet. Deshalb
können
Räume bzw.
Abstände
zwischen Elektroden, die in einer Elektronenkanone enthalten sind,
durch Abstandshalter bestimmt werden, so dass die Elektroden beim Zusammenbau
der Elektronenkanone in akkuraten Intervallen gehalten sind. Infolgedessen
kann die Elektronenkanone Strahlflecke einer gewünschten Form bilden. Eine diese
Elektronenkanone enthaltende CRT kann die Verzerrung von Strahlflecken
in der Peripherie ihres Schirms automatisch korrigieren, so dass
Bilder mit einer verbesserten Bildqualität angezeigt werden.
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KURZE BESCHREIBUNG DER
ZEICHNUNGEN
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1A und 1B sind eine Draufsicht bzw. eine Schnittansicht
eines Beispiels einer Strahlsteuerelektrode gemäß der vorliegenden Erfindung;
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2A bis 2E sind fragmentarische Schnittansichten
einer Elektrodenplatte bei verschiedenen Stufen eines Verfahrens
zur Herstellung einer Strahlsteuerelektrode gemäß der vorliegenden Erfindung;
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3A bis 3C sind Draufsichten der Elektrodenplatte
bei den in 2 gezeigten
Stufen;
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4A bis 4D sind fragmentarische Draufsichten,
die verschiedene Formen von Überschussmetall-Entlastungsschlitzen
zeigen;
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5A bis 5C sind schematische Darstellungen, die
zur Erläuterung
der Verzerrung eines Strahls nützlich
sind;
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6 ist eine typische Seitenansicht
einer Elektronenkanone;
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7 ist eine fragmentarische
Schnittansicht der Elektronenkanone nach 6;
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8 ist eine vergrößerte Schnittansicht
eines Abschnitts der Elektronenkanone nach 6;
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9 ist eine Draufsicht einer
konventionellen Strahlsteuerelektrode;
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10 ist eine Schnittansicht
der Strahlsteuerelektrode nach 9;
und
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11A bis 11F sind Schnittansichten, die zur Erläuterung
eines Verfahrens zur Herstellung einer Strahlsteuerelektrode nützlich sind.
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BESCHREIBUNG
DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM
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Eine
Elektronenkanone in einer bevorzugten Ausführungsform gemäß der vorliegenden
Erfindung für
eine wie in 6 gezeigte
Dreikanonen-Dreistrahl-Typ-Elektronenkanone wird unter Bezugnahme auf
die beigefügten
Zeichnungen beschrieben.
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Bezugnehmend
auf die 6 hängt in einer Dreikanonen-Dreistrahl-Typ-Elektronenkanone
die Querschnittsform eines Elektronenstrahls hauptsächlich von
der Konfiguration eines zweiten Gitters G2 ab. Deshalb bildet die
vorliegende Erfindung das zweite Gitter G2, das heißt eine
Strahlsteuerelektrode, in einer Konfiguration aus, die nachstehend
beschrieben wird.
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1 ist eine Draufsicht eines
zweiten Gitters G2, das heißt
einer Strahlsteuerelektrode, gemäß der vorliegenden
Erfindung, wie sie von der Seite des Anzeigeschirms zu sehen ist.
Ein Strahl wird entlang einer horizontalen Achse X, X' zur horizontalen
Abtastung bewegt. Strahldurchtrittslöcher 22R, 22G und 22B eines
vorbestimmten Durchmessers für drei
Strahlen sind im zweiten Gitter G2 bei vorbestimmten Intervallen
auf einer horizontalen Linie ausgebildet.
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Ein
Paar Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R und 41R,
ein Paar Überschussmetall-Entlastungsschlitze 42G und 43G und
ein Paar Überschussmetall-Entlastungsschlitze 44B und 45B sind
auf den entgegengesetzten transversalen Enden der Strahldurchtrittslöcher 22R, 22G bzw. 22B ausgebildet.
Die Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R bis 45B sind
von den Strahldurchtrittslöchern
getrennt, um den Einfluss der Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R bis 45B auf
an die Strahlen anzulegenden elektrischen Felder zu vermeiden. Bei
dieser Ausführungsform
ist der horizontale Mittenabstand Wb (3)
zwischen jedem der Strahldurchtrittslöcher und jedem der korrespondierenden vertikal
langgestreckten Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R bis 45B etwa
zweimal der Durchmesser der Strahldurchtrittslöcher 22R, 22G und 22B.
Obgleich es keine Einschränkung
bei der Breite bzw. Weite der Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R bis 45B gibt,
ist bei dieser Ausführungsform die
Weite etwas kleiner als der Durchmesser der Strahldurchtrittslöcher. Die
Länge Wc
(3) der Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R bis 45B ist
etwa zweimal der Durchmesser der Strahldurchtrittslöcher.
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Die
Zahl, die Positionen und die Größen der Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R bis 45B werden
wahlweise durch Berücksichtigung
des Durchmessers des Strahls, des Verhältnisses des Bereichs dünner Abschnitte
zu dem dicker Abschnitte und der Dicke der Elektrodenplatte bestimmt.
Die Ausführungsform
nach 1 ist nur ein Beispiel.
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Rechteckige
dünne Abschnitte 20R, 20G und 20B sind
in der Elektrodenplatte so ausgebildet, dass sie die Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R bis 45B teilweise
enthalten. Die rechteckigen dünnen
Abschnitte 20R, 20G und 20B sind horizontal langgestreckte
Abschnitte, die ihre langen Seiten parallel zur Achse X-X' haben. Wie in der 1B gezeigt sind die dünnen Abschnitte 20R, 20G und 20B durch
Pressbearbeitung in einer Dicke von etwa 3/4 bis 1/5 der Dicke der
Elektrodenplatte 18 ausgebildet. Bei dieser Ausführungsform
ist die Dicke der dünnen Abschnitte 20R, 20G und 20B gleich
1/2 zu jener der Elektrodenplatte 18.
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Wenn
die Elektrodenplatte 18 einer Pressbearbeitung unterworfen
wird, wird überschüssiges Metall
der Elektroden platte 18 gezwungen, auf der Außenseite
eines Pressstempels hervorzutreten bzw. sich aufzubauchen. Obgleich
die horizontale Länge der
dünnen
Abschnitte leicht zunimmt, wird das überschüssige Metall durch das präparierte
Loch 26R und die Paare aus Überschussmetall-Entlastungsschlitzen 40R bis 45B perfekt
befreit bzw. entlastet. Obgleich die Weiten der Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R bis 45B durch
die Pressbearbeitung leicht vermindert werden, baucht sich das überschüssige Metall
nicht im dicken Abschnitt auf und bildet keinerlei Vorsprung wie
den Vorsprung 24. Infolgedessen wird kein Abschnitt der
Elektrodenplatte 18 veranlasst, sich durch überschüssiges Metall
sich in Vorsprüngen
aufzubauchen, wenn die Elektrodenplatte 18 einer Pressbearbeitung
zur Bildung der dünnen
Abschnitte unterworfen wird.
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Da
kein solcher Vorsprung in der Elektrodenplatte 18 ausgebildet
ist, können
das zweite Gitter G2 und das dritte Gitter G3 in einem vom Abstandshalter in
einem vorbestimmten Intervall zum Aufziehen bzw. Verstäben akkurat
gehalten werden. Deshalb kann eine Elektronenkanone 10 die
gewünschte
Charakteristiken aufweist, aufgebaut werden.
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Infolgedessen
werden die horizontal langgestreckten dünnen Abschnitte 20R, 20G und 20B,
die jeweils die Strahldurchtrittslöcher 20R, 22G bzw. 22B aufweisen,
durch Pressbearbeitung gebildet werden, um das wie in 1A gezeigte zweite Gitter
G2 zu erhalten.
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Die
horizontal langgestreckten Strahldurchtrittslöcher 22R, 22G und 22B erhöhen den
Divergenzwinkel θ der
Strahlen in Bezug auf die horizontale Abtastrichtung, und die Strahlen
gehen durch den peripheren Abschnitt der Hauptelektronenlinse ML,
so dass die Strahlen die stärkste
Konvergenzwirkung erfahren. Folglich wird der Strahl so verzerrt,
dass er wie in 5B gezeigt
einen vertikal langgestreckten Fleck im Zentrum des Schirms bildet.
Ursprünglich
ist der Strahl so verzerrt, dass er wie in 5A gezeigt einen horizontalen Fleck in
den Ecken des Schirms bildet und der Strahl wird so korrigiert,
dass er in den Ecken des Schirms einen kreisför migen Fleck bildet, da der
Strahl durch ein Ablenkungsmagnetfeld in der Peripherie des Schirms
verzerrt wird.
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Wenn
der Strahl in einer mit dem vorstehenden zweiten Gitter G2 versehenen
Elektronenkanone zur Abtastung abgelenkt wird, werden Flecke von
im Wesentlichen dergleichen Form an verschiedenen Positionen auf
dem Schirm gebildet. Deshalb realisiert eine mit dieser Elektronenkanone
versehene CRT eine stabile Form eines Strahls für die Peripherie des Schirms,
und folglich können
Bilder mit einer verbesserten Bildqualität bei jeder Position auf dem Schirm
angezeigt werden.
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2 ist eine Darstellung zur
Unterstützung bei
der Erläuterung
eines Verfahrens zur Herstellung des vorstehenden zweiten Gitters
G2. Ein präpariertes
Loch 26R und die Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R und 41R werden
in vorbestimmten Intervallen auf einer Linie in einer wie in den 2A und 2B gezeigten Elektrodenplatte 18 gebildet. 3A ist eine Draufsicht auf
die Elektrodenplatte 18 beim Schritt des in 2B gezeigten Verfahrens.
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Die
Elektrodenplatte 18 wird unter Verwendung eines wie in 2C gezeigten rechteckigen Stempels 28 einer
Pressbearbeitung unterworfen, um einen dünnen Abschnitt 20R zu
bilden, der die wie in 2D gezeigten Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R und 41R aufweist.
Die horizontale Länge
Wd des dünnen
Abschnitts 20R wird durch die Pressbearbeitung leicht vergrößert. Jedoch
wird kein überschüssiges Metall
veranlasst, durch die horizontale Expansion des dünnen Abschnitts 20R sich
in einem dicken Abschnitt zu erheben, das heißt es wird kein mit dem beim
konventionellen zweiten Gitter ausgebildeten Vorsprung 24 korrespondierender
Vorsprung gebildet (3B).
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Das
präparierte
Loch 20R für
das Strahldurchtrittsloch 20R wird durch die Pressbearbeitung leicht
gequetscht. Ein mit dem zu präparierenden Loch 20R korrespondierender
Abschnitt der Elektrodenplatte 18 wird mit einer Stanze 30 gestanzt,
um das Strahldurchtrittsloch 22R zu bilden (2E und 3C). So wird das die gewünschten
dünnen
Abschnitte aufweisende zweite Gitter G2 vollendet.
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Dünne Abschnitte 20G und 20B,
die jeweils die Strahldurchtrittslöcher 22G bzw. 22B enthalten, werden
durch den gleichen Prozess gebildet, und folglich ist die Beschreibung
der Prozesse zur Bildung der dünnen
Abschnitte 20G und 20B fortgelassen.
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Das
in Bezug auf die 2 beschriebene Verfahren
bildet das wie in 2B gezeigte
präparierte
Loch 26R. Wenn das zweite Gitter G2 insbesondere zur Steuerung
feiner Strahlen verwendet wird, kann im letzten Schritt ein Strahldurchtrittsloch ohne
Bildung irgendeines präparierten
Loches gebildet werden, da es möglich
ist, dass ein kleines präpariertes
Loch für
ein kleines Strahldurchtrittsloch während der Pressbearbeitung
vollständig
zerquetscht würde
und es keine Notwendigkeit zur Bildung des präparierten Lochs gibt.
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Obgleich
die Überschussmetall-Entlastungsschlitze
des zweiten Gitters bei dieser Ausführungsform wie in 4A gezeigte Schlitze sind,
können
die Überschussmetall-Entlastungsschlitze
rechteckige Schlitze wie in 4B gezeigt,
elliptische Schlitze wie in 4C gezeigt
oder Schlitze jeder geeigneten Form sein, vorausgesetzt, dass die Überschussmetall-Entlastungsschlitze
während
der Metallbearbeitung von überschüssigem Metall
befreien bzw. entlasten können.
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Die
vertikale Länge
der dünnen
Abschnitte kann wie in 4D gezeigt
gleich dem Durchmesser der Strahldurchtrittslöcher sein. Wie vorstehend erwähnt sind
die Überschussmetall-Entlastungsschlitze
vom korrespondierenden Strahldurchtrittsloch getrennt, damit das
elektrische Feld nicht durch die Überschussmetall-Entlastungsschlitze
beeinflusst wird. Es geht ohne zu sagen, dass etwas Kniff wie beispielsweise
Vergrößerung der Überschussmetall-Entlastungsschlitze 40R bis 45B mit
der Erfindung verbunden werden muss, wenn die dünnen Abschnitte 20R, 20G und 20B in
einer Dicke von etwa 1/5 der Dicke der Elektrodenplatte 18 gebildet
werden.
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Obgleich
die Erfindung in Form einer Ausführungsform
beschrieben worden ist, die ausgebildet ist, Strahlen in einem vertikal
langgestreckten Querschnitt zu formen, gibt es keinerlei besondere
Beschränkung
bei der Form von Strahlen. Außerdem
ist die vorliegende Erfindung auf eine Elektronenkanone anders als
die für
eine Dreikanonen-Dreistrahl-Typ-Elektronenkanone anwendbar.
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Wie
der vorstehenden Beschreibung zu entnehmen ist, werden gemäß der vorliegenden
Erfindung ungewollte Vorsprünge
im dicken Abschnitt der Strahlsteuerelektrode bei der Bildung der
dünnen
Abschnitte durch Pressbearbeitung nicht ausgebildet, da die Strahlsteuerelektrode
mit den Überschussmetall-Entlastungsschlitzen
in Kombination mit den Strahldurchtrittslöchern vorgesehen ist. Deshalb kann
die Strahlsteuerelektrode mit hoher Genauigkeit gebildet werden.
Die Strahlsteuerelektrode ist zur intentionalen Deformierung der
Querschnittsform von Strahlen geeignet.
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Die
Elektronenkanone, welche die Strahlsteuerelektrode der vorliegenden
Erfindung verwendet, kann Strahlen leicht in eine gewünschte Querschnittsform
steuern, so dass die Verzerrung der Querschnittsform von Strahlen
in der Peripherie des Schirms einer die Elektronenkanone verwendenden CRT
leicht korrigiert werden kann, was Bildqualität verbessert. Da die Querschnittsform
von Strahlen durch die Elektronenkanone ohne Erfordernis irgendeiner
speziellen Korrektureinrichtung korrigiert werden kann, kann der
Aufbau der CRT entsprechend vereinfacht werden: Infolgedessen ist
die Elektronenkanone der vorliegenden Erfindung zur Verwendung bei
einer Dreikanonen-CRT sehr geeignet.