DE69627608T2 - Anordnung zum Messen eines elektrischen Feldes - Google Patents

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    • G01R29/00Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
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    • G01R29/0864Measuring electromagnetic field characteristics characterised by constructional or functional features
    • G01R29/0878Sensors; antennas; probes; detectors
    • G01R29/0885Sensors; antennas; probes; detectors using optical probes, e.g. electro-optical, luminescent, glow discharge, or optical interferometers

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Messen des elektrischen Feldes, die insbesondere für die Prüfung von Radarantennen verwendet werden kann. Allgemein wird sie für Messungen elektrischer Felder verwendet, die von der gesamten Oberfläche abgestrahlt werden, wobei diese Messungen während der Prüfzeit oder während der Betriebszeit so ausgeführt werden, daß sie keine Störungen der abgestrahlten Felder mit sich bringen.
  • Auf dem Gebiet der Radarantennen mit elektronischer Abtastung werden derzeit mehrere elektrische Systeme verwendet. Es kann sich insbesondere um kleine Ultrahochfrequenz-Empfangstrichter handeln, die dazu bestimmt sind, das auf der Höhe der Antennen abgestrahlte elektrische Feld zu erfassen, wobei das auf diese Weise erfaßte elektrische Signal über Anschlußkabel bis zu dem Meßgerät transportiert wird. Das Problem, das sich durch diesen Typ von Vorrichtung stellt, besteht in der Schwierigkeit, Meßelemente vorzusehen, die so klein wie möglich sind, und darin, die Störungen der Messung durch die Gegenwart der Anschlußkabel zu vermeiden.
  • Das Dokument US 5 434 698 beschreibt eine elektrooptische Vorrichtung, die elektrooptische Schichten und eine reflektierende Schicht umfaßt.
  • Um insbesondere das Problem der Störung durch die Vorrichtungen zur Messung des elekrischen Feldes, die in die Nähe einer Antenne gebracht werden, zu lösen, hat die Erfindung eine elektrooptische Vorrichtung zum Messen des elektrischen Feldes zum Gegenstand, die eine Lichtwelle und ein elektrooptisches Material verwendet, dessen Brechungsindex sich unter dem Einfluß eines elektrischen Feldes ändern kann.
  • Genauer hat die Erfindung eine Vorrichtung zum Messen des elektrischen Feldes in der Umgebung einer Oberfläche S zum Gegenstand, dadurch gekennzeichnet, daß sie umfaßt:
    • – ein erstes Element E1, das auf die Oberfläche S aufgebracht ist und die Zusammenlagerung einer Schicht C1 aus einem elektrooptischen Material und einer katadioptrischen Schicht C2 umfaßt;
    • – ein zweites Element E2, das unabhängig von der Oberfläche S ist und Mittel zum Senden einer Lichtwelle sowie Mittel zum Erfassen der Lichtwelle, die von der katadioptrischen Schicht des ersten Elements E1 reflektiert wird, umfaßt.
  • Die Schicht aus elektrooptischem Material kann vorteilhaft ein polarisierter Film aus einem elektrooptischen Polymer sein.
  • Einer der Vorteile der Vorrichtung der Erfindung besteht in ihrer Einfachheit, die insbesondere durch das Element E2 sichergestellt wird, das die Mittel zum Ausstrahlen der Lichtwelle mit den Mitteln zum Erfassen der reflektierten Lichtwelle kombiniert, wodurch es leicht möglich ist, die Gesamtheit der Oberfläche S, von deren abgestrahltem elektrischem Feld Kenntnis erlangt werden soll, abzutasten, da in dem Element E1 eine katadioptrische Schicht vorliegt, die so beschaffen ist, daß sie einen einfallenden Lichtstrahl in einer Richtung parallel zur Einfallsrichtung zurückstrahlt.
  • Die Erfindung hat außerdem eine Vorrichtung zum Messen des elektrischen Feldes einer Oberfläche S zum Gegenstand, die eine Schicht aus einem elektrooptischen Material mit schräger Polarisation verwendet, wobei die Polarisationsachse einen von null verschiedenen Winkel mit der Normalen auf die Ebene der Schicht bildet. Dieser Konfigurationstyp ermöglicht die Erfassung eines elektrischen Feldes parallel zur Ebene der Schichten, was bei elektrischen Feldern, die von Antennen abgestrahlt werden und deren Ausbreitungsrichtung häufig senkrecht zur Ebene der Antennen ist, einen wesentlichen Vorteil darstellt.
  • Die katadioptrische Schicht C2 kann vorteilhaft eine Kontaktoberfläche mit der Schicht C1 haben, die ein Relief aus kubischen Mikrokeilen aufweist, um die Reflexion der einfallenden Welle I0 in eben dieser Richtung der einfallenden Welle sicherzustellen. Die katadioptrische Schicht C2 kann außerdem vorteilhaft aus einem polymeren Bindemittel gebildet sein, in dem kleine Glaskugeln dispergiert sind.
  • Vorteilhaft kann die katadioptrische Oberfläche eine Haftbeschichtung auf der Seite umfassen, die an der Ebene der Oberfläche S angeklebt werden soll.
  • Die Erfindung wird besser verstanden und weitere Vorteile werden deutlich beim Lesen der folgenden Beschreibung, die nicht einschränkend und mit Bezug auf die beigefügten Figuren gegeben ist, wovon
  • 1 die zwei Elemente E1 und E2, welche die Vorrichtung gemäß der Erfindung bilden, in schematischer Weise darstellt;
  • 2 ein Beispiel der Schicht C2 veranschaulicht, die einen elektrooptischen Polymerfilm verwendet;
  • 3 die Änderung der von dem Photoempfänger empfangenen Lichtintensität in Abhängigkeit von der Phasenverschiebung, die in der Ebene der Schicht C2 erzeugt wird, veranschaulicht;
  • 4 ein Verfahren zur Polarisation eines Polymerfilms mit schräger Polarisation veranschaulicht, der ein Erfassen elektrischer Felder ermöglicht, die parallel zu einer Oberfläche S sind.
  • Gemäß einer Variante der Erfindung umfaßt die Vorrichtung zum Messen des elektrischen Feldes, wie 1 veranschaulicht, ein Element E1, das in Höhe der Oberfläche S abgelagert ist, von welcher das abgestrahlte elektrische Feld ermittelt werden soll.
  • Dieses Element E1 umfaßt eine Schicht C1 aus einem elektrooptischen Material und eine katadioptrische Schicht C2, d. h. sie weist ein sehr gutes Reflexionsvermögen in Einstrahlrichtung auf. Die Vorrichtung zum Messen des elektrischen Feldes umfaßt außerdem ein zweites Element E2, das mit einer Lichtquelle L, die vorteilhaft vom Typ Laser sein kann, und mit einem Polarisator P, der ermöglicht, eine polarisierte Lichtwelle Io auf die Gesamtheit des Elements E1 zu schicken, ausgestattet ist. Diese Lichtwelle wird von der katadioptrischen Oberfläche als eine Lichtwelle IR mit einer Richtung parallel zur einfallenden Welle I0 zum Element E2 reflektiert. Das Element E2 ist ebenfalls mit einem Photoempfänger D und einem Analysator A ausgestattet, die das Erfassen der reflektierten Welle ermöglichen, die zwischen gekreuzten Polarisatoren analysiert wird, da die Polarisationsrichtungen der beiden Polarisatoren senkrecht zueinander sind.
  • Gemäß einer weiteren Variante der Erfindung kann das Element E1 einen einzigen Polarisator umfassen, der von der einfallenden Welle und der reflektierten Welle durchlaufen wird, wobei die Messung zwischen parallelen Polarisatoren erfolgt.
  • Es wird ein halbdurchlässiges Plättchen SR verwendet, um die reflektierte Lichtwelle in Richtung des Photodetektors D zu lenken.
  • Wenn die Baueinheit E1 einem elektrischen Feld ausgesetzt ist, verändert sich der Brechungsindex der Schicht aus elektrooptischem Material, was eine Drehung der Polarisation der einfallenden Welle und dadurch nach dem Durchgang durch den Analysator A, dessen Position in bezug auf diejenige des Polarisators P fest ist, eine Änderung der Amplitude des am Ausgang des Photoempfängers D erhaltenen Signals nach sich zieht.
  • Die Schicht aus elektrooptischem Material kann vorteilhaft ein polarisierter Film aus einem elektrooptischen Polymer sein.
  • Die elektrooptischen Polymere sind nämlich Polymere, die optisch nicht-linear aktive Gruppen einschließen und die, wenn sie zuvor polarisiert worden sind, makroskopische Eigenschaften aufweisen können, die elektrooptische Effekte begründen. Genauer gesagt ist es erforderlich, um einem Polymerfilm eine elektrooptische Aktivität zu verleihen, ihn zu polarisieren, d. h. die aktiven Gruppen auszurichten. Typisch wird bei einer Temperatur, die höher als die Glasübergangstemperatur des Films ist, auf diesen mittels eines stetigen elektrischen Feldes ein gewirkt. Die aktiven Gruppen, die einen Dipol tragen, richten sich dann nach der Achse des elektrischen Feldes aus. Das Material wird anschließend unter Einwirkung des elektrischen Feldes abgekühlt, wobei die Ausrichtung im Inneren des Materials fixiert wird. Das elektrische Feld kann abgeschaltet werden; das Material ist elektrooptisch.
  • Dieser Materialtyp weist den großen Vorteil auf, daß er leicht auf jeder Oberfläche abgelagert werden kann. Außerdem besitzen derartige organische Verbindungen eine niedrige Dielektrizitätskonstante in der Nähe von 3, die kleiner als diejenige anorganischer Verbindungen ist, wodurch es möglich ist, ein Prüfelement zu bilden, das die Messung des elektrischen Feldes, das in die Umgebung der Oberfläche S abgestrahlt wird, wenig stört.
  • Der Polymerfilm weist dann eine Doppelbrechung auf, die in einem ordentlichen Brechungsindex n0 parallel zur Ebene des Films und einem außerordentlichen Brechungsindex ne senkrecht zur Ebene des Films zum Ausdruck kommt, wie 2 veranschaulicht.
  • Wenn polarisiertes Licht, dessen Polarisation eine Komponente ps in der Ebene senkrecht zur Brechungsindexebene und eine Komponente pp in der Brechungsindexebene besitzt, in die Schicht aus elektrooptischem Material eindringt, erfährt es eine Phasenverschiebung, die in einer Veränderung der Komponenten p'S und p'p zum Ausdruck kommt und zu einer Drehung der Polarisation führt, wie in 2 veranschaulicht ist, und dies sogar bevor ein elektrisches Feld an dieses elektrooptische Material angelegt worden ist.
  • Es ist anzumerken, daß die Ausbreitungsrichtung der einfallenden Welle in Bezug auf die Polarisationsachse des elektrooptischen Materials geneigt ist, so daß die angestrebte Polarisationsänderung erfaßt werden kann.
  • In der Vorrichtung gemäß der Erfindung verändert in Gegenwart des Feldes, das von der Oberfläche S abgestrahlt wird, eine zusätzliche Phasenverschiebung, die durch den elektrooptischen Effekt erzeugt ist, die Komponenten p'S und p'p zu den Komponenten p'' s und p''p, wobei die Resultierende aus diesen Komponenten, wenn sie in der Ebene des Elements E2 durch einen Analysator analysiert wird, ermöglicht, die zusätzliche Phasenverschiebung, die durch den elektrooptischen Effekt bedingt ist, zu bestimmen und auf diese Weise das abgestrahlte elektrische Feld zu berechnen.
  • In einem elektrischen Ultrahochfrequenzfeld, das von einer Antenne abgestrahlt wird, werden die Komponenten p''s und p''p mit der Ultrahochfrequenz des elektrischen Feldes moduliert.
  • Es ist anzumerken, daß die durch den elektrooptischen Effekt eingeführte Phasenverschiebung im allgemeinen gering bleibt; es kann folglich vorteilhaft sein, in die Vorrichtung einen Phasenschieber vom Typ Babinet-Kompensator einzuführen, der ermöglicht, Bedingungen einzustellen, die besonders empfindlich gegenüber jeder Änderung der Phasenverschiebung sind. Genauer, wie in 3 veranschaulicht ist, wo die Veränderung der in der Ebene des Photoempfängers erhaltenen Lichtintensität in Abhängigkeit von der erzeugten Phasenverschiebung gezeigt ist, wird deutlich, daß es besonders geschickt sein kann, sich in einem Bereich der Kurve zu befinden, in dem der Anstieg sehr steil ist, wie durch die Punkte (A, B, C) auf der Kurve definiert ist. Der Phasenschieber, der verwendet wird, um diese Funktion der Anpassung an die Kurve von 3 zu erfüllen, ist in dem Element E2 in der Empfangsebene der reflektierten Lichtwelle angeordnet.
  • Im Rahmen der Anwendungen, die die Erfassung von Ultrahochfrequenzfeldern betreffen, kann der in dem Element E2 eingeschlossene Photoempfänger eine schnelle Photodiode sein, deren Durchlaßband in Übereinstimmung mit den zu messenden Feldern ist, die folglich in der Lage ist, mit Taktraten, die typisch höher als 10 GHz sind, betrieben zu werden. Das von der Photodiode stammende elektrische Signal ist dann direkt proportional zum Momentanwert des zu messenden ultrahochfrequenten elektrischen Feldes.
  • Gemäß einer Variante der Erfindung ist die Vorrichtung zum Messen des elektrischen Feldes besonders für die Erfassung elektrischer Felder parallel zur Oberfläche S geeignet. Dazu umfaßt die Vorrichtung eine Materialschicht, die eine schräge Polarisation aufweist. Das Material kann vorteilhaft ein elektrooptischer Polymerfilm sein, der gemäß einem Verfahren polarisiert ist, das im Zusammenhang mit einem elektrooptischen Polymer des Typs Copolymer aus Methylmethacrylat und 4(M-Methacryloylox-ethyl-N-ethyl-amin)4'-Nitroazobenzen (beschrieben in der Veröffentlichung von J.C. Dubois, P. Le Barny, P. Robin, V.. Lemoine und H. Rajbenbach: Liquid Crystals, 1993, Bd. 14, S. 197–213) dargestellt ist.
  • Das gewählte Substrat ist die katadioptrische Schicht C2, die an der Unterseite mit einer Haftbeschichtung versehen ist.
  • Das elektrooptische Polymer wird mit Hilfe eines Schleuderapparats unter Verwendung von 1.1.2-Trichlorethan mit einer Konzentration von 100 g/l auf der Oberseite des Substrats abgelagert. Typisch ermöglicht ein Drehen mit 3000 Umdrehungen/min, Schichtdicken in der Größenordnung von einem Mikrometer zu erhalten. Stärker konzentrierte Lösungen und geringere Drehgeschwindigkeiten führen zu größeren Dicken.
  • Nach einem Trocknungsschritt, gegebenenfalls unter Vakuum, kann der Polymerfilm polarisiert werden.
  • Auf zwei isolierenden Trägern sind Elektroden F1 und F2 angeordnet (beispielsweise Aluminium auf Glas). Wie in 4 gezeigt ist, sind diese Träger so in einer Entfernung e voneinander angeordnet, daß ein elektrisches Feld mit schräger Polarisation erzeugt wird. Einer der Träger ist auf Masse gelegt, und die aus dem Polymerfilm auf der katadioptrischen Oberfläche bestehende Gesamtheit wird in dem so gebildeten Behälter plaziert. Der Film wird erwärmt, bis eine Temperatur erreicht ist, die höher als die Glasübergangstemperatur des Polymers ist (typisch 110°C für PMMA-Copolymere). Das elektrische Feld wird angelegt, indem die Elektrode, die nicht auf Masse ist, auf ein Potential +Vo gebracht wird (wobei Vo/e in der Größenordnung von 100 V/Mikrometer ist). Nach einigen Minuten wird die Temperatur auf Raumtemperatur zurückgefahren, und die Ausrichtung des Materials ist fixiert. Das elektrische Feld kann abgeschaltet und der Polymerfilm aus dem Behälter, der aus den beiden mit Elektroden versehenen Trägern gebildet ist, entfernt werden.
  • Die Gesamtheit aus Polymerfilm mit schräger Polarisation, katadioptrischer Oberfläche und Haftbeschichtung kann dann auf der vorgesehenen Oberfläche S aufgeklebt werden.

Claims (9)

  1. Vorrichtung zum Messen des elektrischen Feldes in der Umgebung einer Oberfläche (S), dadurch gekennzeichnet, daß sie umfaßt: – ein erstes Element (E1) das die Zuordnung einer ersten Schicht (C1) aus einem elektrooptischen Material und aus einer katadioptrischen Schicht (C2) umfaßt, wobei das erste Element auf der Oberfläche (S) abgelagert werden soll; – ein zweites Element (E2), das von der Oberfläche (S) unabhängig sein soll und Mittel zum Senden einer Lichtwelle sowie Mittel zum Erfassen der Lichtwelle, die von der katadioptrischen Schicht des ersten Elements (E1) reflektiert wird, umfaßt.
  2. Vorrichtung zum Messen eines elektrischen Feldes nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrooptische Material eine Polarisationsachse aufweist, die in bezug auf die Normale der Oberfläche (S) geneigt sein soll, so daß die Erfassung des zu der Oberfläche (S) parallelen elektrischen Feldes ermöglicht wird.
  3. Vorrichtung zum Messen eines elektrischen Feldes nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus elektrooptischem Material ein polarisierter Film aus einem elektrooptischem Polymer ist.
  4. Vorrichtung zum Messen eines elektrischen Feldes nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausbreitungsrichtung der Lichtwelle in bezug auf die Normale der Oberfläche (S) geneigt sein soll.
  5. Vorrichtung zum Messen eines elektrischen Feldes nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die katadioptrische Schicht (C2) eine Kontaktoberfläche mit der Schicht (C1) aus einem elektrooptischen Material besitzt, die ein Relief aus kubischen Mikrokeilen aufweist.
  6. Vorrichtung zum Messen eines elektrischen Feldes nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die katadioptrische Schicht (C2) aus einem polymeren Bindungsmittel gebildet ist, in dem kleine Glaskugeln dispergiert sind.
  7. Vorrichtung zum Messen eines elektrischen Feldes nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Element (E2) einen Polarisator und einen Analysator umfaßt, um ein von der Oberfläche (S) ausgesendetes elektrisches Feld durch Messen der Polarisationsdrehung zwischen der ausgesendeten Lichtquelle (I0) und der reflektierten Lichtwelle (IR) zu messen.
  8. Vorrichtung zum Messen eines elektrischen Feldes nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Element (E2) einen Babinet-Konpensator enthält.
  9. Vorrichtung zum Messen eines elektrischen Feldes nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die katadioptrische Schicht (C2) auf der der Kontaktoberfläche mit der Schicht (C1) aus elektrooptischem Material gegenüberliegenden Oberfläche eine Haftbeschichtung aufweist.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005011624B4 (de) * 2005-03-14 2010-06-02 Palm, Inc. (n.d.Ges. d. Staates Delaware), Sunnyvale Verfahren zum Prüfen einer elektrischen Feldstärke in einer elektrischen Leitungsstruktur und zur Durchführung des Verfahrens ausgestattete Schaltkreisanordnung
CN113063995B (zh) * 2021-03-16 2022-12-16 中国海洋大学 一种碳基导电聚合物膜水下电场传感器

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5434698A (en) * 1989-11-13 1995-07-18 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Potential sensor employing electrooptic crystal and potential measuring method
US5255428A (en) * 1991-04-03 1993-10-26 California Institute Of Technology Electrooptic polymer voltage sensor and method of manufacture thereof
JPH06265574A (ja) * 1993-03-15 1994-09-22 Hamamatsu Photonics Kk E−oプローブ

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EP0772047A1 (de) 1997-05-07

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