DE69625615T2 - Verfahren und vorrichtung zur ablagerung von parylen af4 auf halbleiterwafern - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur ablagerung von parylen af4 auf halbleiterwafernInfo
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Cited By (2)
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DE102007008291A1 (de) * | 2007-02-16 | 2008-08-21 | Siemens Ag | Luftmassenmesser |
DE102008026974A1 (de) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | Aixtron Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden dünner Schichten aus polymeren Para-Xylylene oder substituiertem Para-Xylylene |
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1996
- 1996-10-25 DE DE69625615T patent/DE69625615T2/de not_active Expired - Fee Related
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